JPS60211451A - 感光性エラストマ−組成物 - Google Patents
感光性エラストマ−組成物Info
- Publication number
- JPS60211451A JPS60211451A JP6676484A JP6676484A JPS60211451A JP S60211451 A JPS60211451 A JP S60211451A JP 6676484 A JP6676484 A JP 6676484A JP 6676484 A JP6676484 A JP 6676484A JP S60211451 A JPS60211451 A JP S60211451A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- copolymer
- photosensitive
- weight
- parts
- polymer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/032—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
- G03F7/033—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders the binders being polymers obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. vinyl polymers
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(技術分野)
1一
本発明はアルカリ水溶液又はアルカリ水−有機溶媒系の
ような水系の現像液により現像可能なフレキソ印刷版用
感光性エラストマー組成物に関するものである。
ような水系の現像液により現像可能なフレキソ印刷版用
感光性エラストマー組成物に関するものである。
(従来技術とその問題点)
従来、フレキソ印刷用のゴム版は、金属板の腐食により
原版を製造し、プラスチックス等によって母型版を製造
し、さらにこの母型版にゴムを流し込んで加圧すること
によって製造されてきた。
原版を製造し、プラスチックス等によって母型版を製造
し、さらにこの母型版にゴムを流し込んで加圧すること
によって製造されてきた。
しかし、この方法は、多くの工程から々るため、経費や
時間が多くかかる上に、得られたゴム版自体の精度が低
いため、使用に際しては裏削りを必要とするなどの欠点
を有[7ていた。
時間が多くかかる上に、得られたゴム版自体の精度が低
いため、使用に際しては裏削りを必要とするなどの欠点
を有[7ていた。
そのため、これに代わるものとして近年に至シ、感光性
エラストマー組成物を用いる方法が開発され、実用化さ
れるようになった。
エラストマー組成物を用いる方法が開発され、実用化さ
れるようになった。
そして、このような方法としては、25℃以上のガラス
転移温度をもつ少くとも2個の熱可塑性非ニジストマー
状重合体ブロック及びそれらの非ニジストマー状重合体
ブロック間を、1(1’c以下のガラス転移温度をもつ
ニジストマー状ブロックで結合した構造の、溶媒可溶性
熱可塑性エラストマー状ブロック共重合体とエチレン性
不飽和化合物、光重合開始剤とを主要成分とした感光層
を用いてフレキソ印刷用印刷版を製造する方法(特公昭
51−4337号公報、特公昭56−29260号公報
)が知られている。しかし、これらの印刷版は現像液に
有機溶剤を使用しなければならないが、人体に対する有
害性、大気汚染、使用する溶剤によっては火災の危険と
いう問題を有しており、これらを克服する為に、多額の
設備投資を必要としたり、近年ますますきびしさを増す
公害規制のためにその実際使用が難しくなりつつある。
転移温度をもつ少くとも2個の熱可塑性非ニジストマー
状重合体ブロック及びそれらの非ニジストマー状重合体
ブロック間を、1(1’c以下のガラス転移温度をもつ
ニジストマー状ブロックで結合した構造の、溶媒可溶性
熱可塑性エラストマー状ブロック共重合体とエチレン性
不飽和化合物、光重合開始剤とを主要成分とした感光層
を用いてフレキソ印刷用印刷版を製造する方法(特公昭
51−4337号公報、特公昭56−29260号公報
)が知られている。しかし、これらの印刷版は現像液に
有機溶剤を使用しなければならないが、人体に対する有
害性、大気汚染、使用する溶剤によっては火災の危険と
いう問題を有しており、これらを克服する為に、多額の
設備投資を必要としたり、近年ますますきびしさを増す
公害規制のためにその実際使用が難しくなりつつある。
このような問題を解決するために、水系の現像液で現像
可能な感光性エラストマー組成物の研究が行われており
、いくつかの提案がなされている。
可能な感光性エラストマー組成物の研究が行われており
、いくつかの提案がなされている。
例えば、共役ジエン系炭化水素(A)とα、β−エチレ
ン性不飽和カルボン酸(ト))を必須成分とし、これに
モノオレフィン系不飽和化合物(C)とをA:10・〜
95mo1%、B : 5〜90 mol−%、c:。
ン性不飽和カルボン酸(ト))を必須成分とし、これに
モノオレフィン系不飽和化合物(C)とをA:10・〜
95mo1%、B : 5〜90 mol−%、c:。
〜85mo1%の割合で含む共重合体と光重合性不飽和
単量体、光増感剤を含有する感光性樹脂組成物を用いる
方法(特開昭52−134655号公報)や、全組成物
基準で、(a、) 20,000〜75,000の数平
均分子量、10・〜50重量重量子クリロニトリル含量
および1〜15重量係重量用ボキシル含量ヲ有する高分
子量ブタジェン/アクリロニトリル共重合体55〜85
重量子と、(b) 750〜10,000の数平均分子
量、0〜50重量係の量子リロニトリル含量および0〜
15重量係の量子ボキシル含量を有する低分子量ブタジ
ェン重合体5〜40fi量係(ただし重合体(a)と重
合体(b)との組合せで少なくとも2重量幅のカルボキ
シル基を含有するものとする)と、(C) 少くとも1
個の末端エチレン基を有しそして遊離ラジカル開始され
た連鎖生長付加重合により高分子重合体を形成できしか
も前記重合体は)および(b)と相溶性である非気体状
エチレン注下飽和化合物2〜40重量子と、(d)不飽
和化合物の重合を開始させる活性線照射により活性化さ
れうる有機照射感受性遊離ラジカル生成系0.001〜
IO重量係を含有することを特徴とする、光感受性弾性
体状組成物(特公昭58−33884号公報)が提案さ
れている。
単量体、光増感剤を含有する感光性樹脂組成物を用いる
方法(特開昭52−134655号公報)や、全組成物
基準で、(a、) 20,000〜75,000の数平
均分子量、10・〜50重量重量子クリロニトリル含量
および1〜15重量係重量用ボキシル含量ヲ有する高分
子量ブタジェン/アクリロニトリル共重合体55〜85
重量子と、(b) 750〜10,000の数平均分子
量、0〜50重量係の量子リロニトリル含量および0〜
15重量係の量子ボキシル含量を有する低分子量ブタジ
ェン重合体5〜40fi量係(ただし重合体(a)と重
合体(b)との組合せで少なくとも2重量幅のカルボキ
シル基を含有するものとする)と、(C) 少くとも1
個の末端エチレン基を有しそして遊離ラジカル開始され
た連鎖生長付加重合により高分子重合体を形成できしか
も前記重合体は)および(b)と相溶性である非気体状
エチレン注下飽和化合物2〜40重量子と、(d)不飽
和化合物の重合を開始させる活性線照射により活性化さ
れうる有機照射感受性遊離ラジカル生成系0.001〜
IO重量係を含有することを特徴とする、光感受性弾性
体状組成物(特公昭58−33884号公報)が提案さ
れている。
これらの技術は、骨格ポリマーにカルボキシル基等の極
性基を導入することにより、アルカリ水溶液又はアルカ
リ水−有機溶媒系で現像でき、かつゴム弾性を有する感
光性樹脂を用いる点に特徴を有するものである。
性基を導入することにより、アルカリ水溶液又はアルカ
リ水−有機溶媒系で現像でき、かつゴム弾性を有する感
光性樹脂を用いる点に特徴を有するものである。
しかし、これらの感光性エンストマー組成物は、骨格ポ
リマーにカルボキシル基等の極性基を導入したため、ア
ルコールベースインクに対し、溶媒耐性が々く通常のフ
レキソ印刷に使用できないという問題点を有している。
リマーにカルボキシル基等の極性基を導入したため、ア
ルコールベースインクに対し、溶媒耐性が々く通常のフ
レキソ印刷に使用できないという問題点を有している。
このような事情の下で、本発明者らは種々研究を重ねた
結果、スチレン−ブタジェンゴム、スチレン−イソプレ
ンゴム、ニドニル−ブタジェンゴム、ブタジェンゴムな
どを骨格ポリマーとする感光性ニジストマー組成物に、
所定量の親水性高分子化合物を含有させることによシフ
レキソ印刷版用として優れた性質を示すものが得られる
ことを見出し、この知見に基づいて本発明をなすに至っ
た。
結果、スチレン−ブタジェンゴム、スチレン−イソプレ
ンゴム、ニドニル−ブタジェンゴム、ブタジェンゴムな
どを骨格ポリマーとする感光性ニジストマー組成物に、
所定量の親水性高分子化合物を含有させることによシフ
レキソ印刷版用として優れた性質を示すものが得られる
ことを見出し、この知見に基づいて本発明をなすに至っ
た。
(本発明の構成)
す彦わち、本発明は、組成物全重量に基づき、(イ)数
平均分子量20,000〜200 、000をもつ共役
ジエン系炭化水素重合体又は数平均分子量20.000
〜200,000をもつ共役ジエン系炭化水素とモノオ
レフィン系不飽和化合物との共重合体25〜85重量係
、 (量子親水性高分子化合物10〜70重量係、(量子非
気体状エチレン性不飽和化合物1〜40M量子及び に)光重合開始剤 を必須成分として含有してなる感光性ニジストマー組成
物 全提供するものである。
平均分子量20,000〜200 、000をもつ共役
ジエン系炭化水素重合体又は数平均分子量20.000
〜200,000をもつ共役ジエン系炭化水素とモノオ
レフィン系不飽和化合物との共重合体25〜85重量係
、 (量子親水性高分子化合物10〜70重量係、(量子非
気体状エチレン性不飽和化合物1〜40M量子及び に)光重合開始剤 を必須成分として含有してなる感光性ニジストマー組成
物 全提供するものである。
本発明に用いられる(イ)成分は、共役ジエン系炭化水
素を重合させて得られる数平均分子量20,000〜2
00 、000の重合体、または共役ジエン系炭化水素
とモノオレフィン系不飽和化合物を重合させて得られる
数平均分子量20 、000〜200,000の共重合
体である。
素を重合させて得られる数平均分子量20,000〜2
00 、000の重合体、または共役ジエン系炭化水素
とモノオレフィン系不飽和化合物を重合させて得られる
数平均分子量20 、000〜200,000の共重合
体である。
共役ジエン系炭化水素としては、1,3−ブタジェン、
インプレン、クロロプレン等が使用される。
インプレン、クロロプレン等が使用される。
共役ジエン系炭化水素は単独で用いてもよいし、2種類
以上混合使用してもよい。これらの共役ジエン系炭化水
素よりなる重合体は、フレキン印刷版として具備しなけ
ればならない柔軟性すなわちゴム弾性を付与することが
できる。
以上混合使用してもよい。これらの共役ジエン系炭化水
素よりなる重合体は、フレキン印刷版として具備しなけ
ればならない柔軟性すなわちゴム弾性を付与することが
できる。
モノオレフィン系不飽和化合物としては、スチレン、α
−メチルスチレン、0−メチルスチレン、m−メチルス
チレン、p−メチルスチレン、アクリロニトリル、メタ
クリロニトリル、塩化ビニル、塩化ビニリデン、アクリ
ルアミド、メタクリルアミド、酢酸ビニル、アクリル酸
エステル、メタクリル酸エステル等が使用される。
−メチルスチレン、0−メチルスチレン、m−メチルス
チレン、p−メチルスチレン、アクリロニトリル、メタ
クリロニトリル、塩化ビニル、塩化ビニリデン、アクリ
ルアミド、メタクリルアミド、酢酸ビニル、アクリル酸
エステル、メタクリル酸エステル等が使用される。
共役ジエン系炭化水素を重合させて得られる重合体、又
は共役ジエン系炭化水素とモノオレフィン系不飽和化合
物を重合されて得られる共重合体としては、ブタジェン
重合体、イソプレン重合体、クロロプレン重合体、スチ
レン−ブタジェン共重合体、スチレン−イソプレン共重
合体、スチレン−クロロプレン共重合体、アクリロニト
リル−ブタジェン共重合体、アクリロニトリル−イソプ
レン共重合体、アクリロニトリル−クロロプレン共重合
体、メタクリル酸メチル−ブタジェン共重合体、メタク
リル酸メチル−イソプレン共重合体、メタクリル酸メチ
ル−クロロプレン共重合体、アクリル酸メチル−ブタジ
ェン共重合体、アクリル酸メチル−イソプレン共重合体
、アクリル酸メチル−クロロプレン共重合体、アクリロ
ニトリル−ブタジェン−スチレン共重合体、アクリロニ
トリル−イソプレン−スチレン共重合体、アクリロニト
リル−クロロプレン−スチレン共重合体等があげられる
。
は共役ジエン系炭化水素とモノオレフィン系不飽和化合
物を重合されて得られる共重合体としては、ブタジェン
重合体、イソプレン重合体、クロロプレン重合体、スチ
レン−ブタジェン共重合体、スチレン−イソプレン共重
合体、スチレン−クロロプレン共重合体、アクリロニト
リル−ブタジェン共重合体、アクリロニトリル−イソプ
レン共重合体、アクリロニトリル−クロロプレン共重合
体、メタクリル酸メチル−ブタジェン共重合体、メタク
リル酸メチル−イソプレン共重合体、メタクリル酸メチ
ル−クロロプレン共重合体、アクリル酸メチル−ブタジ
ェン共重合体、アクリル酸メチル−イソプレン共重合体
、アクリル酸メチル−クロロプレン共重合体、アクリロ
ニトリル−ブタジェン−スチレン共重合体、アクリロニ
トリル−イソプレン−スチレン共重合体、アクリロニト
リル−クロロプレン−スチレン共重合体等があげられる
。
本発明で使用する重合体として好ましいものは、スチレ
ン−ブタジェン共重合体、スチL/7−(7プレン共重
合体、アクリロニトリル−ブタジェン共重合体等ランダ
ムポリマー及びスチレン−ブタジェン−スチレンブロッ
ク共重合体、スチレン−7− イソプレン−スチレンブロック共重合体、結晶性1.2
−ポリブタジェン等熱可塑性エラストマーであるが、フ
レキソ印刷用感光性ニジストマー組成物は通常シートが
製造されてから印刷版に加工されるまでの間比較的長期
間貯蔵されるので、スチレン−ブタジェン共重合体、ア
クリロニトリル−ブタジェン共重合体等ランダムポリマ
ーでは、コールドクローを起し、厚み精度の悪化を起す
。このため熱可塑性ニジストマー状ブロック共重合体ヤ
結晶性1,2−ポリブタジェンのような熱可塑性ニジス
トマーを用いるのが好ましい。熱可塑性ニジストマー状
ブロック共重合体は、下記の一般式%式% ) ) ) ただし、Aは25℃以上のガラス転移温度をも 8 一 つ熱可塑性非エラストマー状重合体ブロックで、例、t
ハポリスチレン、ポリ(α−メチルスチレン)などを
示し、Bは10℃以下のガラス転移温度をもつニジスト
マー状ブロックで、例えばポリブタジェン、ポリイソプ
レンなどを示し、Xはm個の結合手をもつ多官能性残基
で、例えばSlやSnなどを示す。また、nは1〜10
、mは2〜7の数である。エラストマー成分の含量は、
水系現像液に対しての現像性よシ85重量重量下、また
アルコールベースインク耐性より25重量量子上必要で
ある。好ましくは50〜75重量係、最量子ましくは6
5〜75重量係の範量子ある。
ン−ブタジェン共重合体、スチL/7−(7プレン共重
合体、アクリロニトリル−ブタジェン共重合体等ランダ
ムポリマー及びスチレン−ブタジェン−スチレンブロッ
ク共重合体、スチレン−7− イソプレン−スチレンブロック共重合体、結晶性1.2
−ポリブタジェン等熱可塑性エラストマーであるが、フ
レキソ印刷用感光性ニジストマー組成物は通常シートが
製造されてから印刷版に加工されるまでの間比較的長期
間貯蔵されるので、スチレン−ブタジェン共重合体、ア
クリロニトリル−ブタジェン共重合体等ランダムポリマ
ーでは、コールドクローを起し、厚み精度の悪化を起す
。このため熱可塑性ニジストマー状ブロック共重合体ヤ
結晶性1,2−ポリブタジェンのような熱可塑性ニジス
トマーを用いるのが好ましい。熱可塑性ニジストマー状
ブロック共重合体は、下記の一般式%式% ) ) ) ただし、Aは25℃以上のガラス転移温度をも 8 一 つ熱可塑性非エラストマー状重合体ブロックで、例、t
ハポリスチレン、ポリ(α−メチルスチレン)などを
示し、Bは10℃以下のガラス転移温度をもつニジスト
マー状ブロックで、例えばポリブタジェン、ポリイソプ
レンなどを示し、Xはm個の結合手をもつ多官能性残基
で、例えばSlやSnなどを示す。また、nは1〜10
、mは2〜7の数である。エラストマー成分の含量は、
水系現像液に対しての現像性よシ85重量重量下、また
アルコールベースインク耐性より25重量量子上必要で
ある。好ましくは50〜75重量係、最量子ましくは6
5〜75重量係の範量子ある。
本発明の1篇)成分として用いる親水性高分子化合物と
は、その物理的性質として水又は水を70%以上含有す
る液体に少くとも1重量子以上溶解又は分散可能な性質
を有するもの、例えば−OH。
は、その物理的性質として水又は水を70%以上含有す
る液体に少くとも1重量子以上溶解又は分散可能な性質
を有するもの、例えば−OH。
−coon、 −NH2,−Coo−、−803−など
の親水基を有しかつ鎖状で、架橋の娠い高分子化合物で
、一般的には水溶性高分子又は水分散型樹脂と呼ばれて
いるものである。
の親水基を有しかつ鎖状で、架橋の娠い高分子化合物で
、一般的には水溶性高分子又は水分散型樹脂と呼ばれて
いるものである。
このような親水性化合物の例としては、ポリビニルアル
コール(PVA ) 、カルボキシメチルセルロース(
CMC)などの汎用樹脂のほかに、無水マレイン酸等で
変性した液状ポリブタジェン、又はメタクリル酸とジエ
ン化合物を共重合させたジエン系ゴム等があげられる。
コール(PVA ) 、カルボキシメチルセルロース(
CMC)などの汎用樹脂のほかに、無水マレイン酸等で
変性した液状ポリブタジェン、又はメタクリル酸とジエ
ン化合物を共重合させたジエン系ゴム等があげられる。
その具体的な例を示すと、ポリビニルアルコール(PV
A )、カルボキシメチルセルロース(CMC)、ヒド
ロキシエチルセルロース(HECり、メチルセルロース
(MO)、ポリアクリル酸ソーダ、ポリアクリルアミド
、ポリエチレンオキザイド、水性ウレタン樹脂、水溶性
エポキシ化合物、水溶性ポリエステル、変性液状ポリブ
タジェン、カルボキシル基含有アクリロニトリル−ブタ
ジェン共’M合体、カルボキシル基含有スチレン−ブタ
ジェン共重合体、カルボキシル基含有ブタジェン重合体
などがある。
A )、カルボキシメチルセルロース(CMC)、ヒド
ロキシエチルセルロース(HECり、メチルセルロース
(MO)、ポリアクリル酸ソーダ、ポリアクリルアミド
、ポリエチレンオキザイド、水性ウレタン樹脂、水溶性
エポキシ化合物、水溶性ポリエステル、変性液状ポリブ
タジェン、カルボキシル基含有アクリロニトリル−ブタ
ジェン共’M合体、カルボキシル基含有スチレン−ブタ
ジェン共重合体、カルボキシル基含有ブタジェン重合体
などがある。
この←)成分としては、また、水又は水を70係以上含
有する液体に20℃で24時間浸せきした時の重量増加
率が500%以上である高分子化合物、いわゆる水膨潤
性樹脂を用いることもできる。このものは、本来水可溶
性の親水性ポリマーを種々の方法によって架橋を行い水
に不溶化させるか、さらにそれを金属等でキレ−1・化
することにより得られる。
有する液体に20℃で24時間浸せきした時の重量増加
率が500%以上である高分子化合物、いわゆる水膨潤
性樹脂を用いることもできる。このものは、本来水可溶
性の親水性ポリマーを種々の方法によって架橋を行い水
に不溶化させるか、さらにそれを金属等でキレ−1・化
することにより得られる。
その具体的な例を示すと特公昭56−50886号公報
記載の平均分子量が約1,000以上の・・−ドセグメ
ントと、平均分子量が約1..000以上でちゃ、かつ
エチレン系不飽和基を含むセグメント(以下、不飽和セ
グメントという)の組合せにおいて、分子中に少くとも
1つの()・−ドセグメント+不飽和セグメント←→ノ
・−ドセグメンl−)の結合形式を有するブロックコポ
リマーやグラフトコポリマーの不飽和基に、少くとも1
個のカルボキシル基、アミン基または水酸基を有するチ
オアルコール基含有親水性化合物を付加させ、次いで、
上記のカルボキシル基、アミノ基又は水酸基をエステル
化、アミド化、アルキル化あるいは硫酸エステル化した
親水性ブロックコポリマーやグラフトコポリマー、ポリ
エチレングリコール(ポリエチ11− レンオギンド)を変性して水に不溶化したもの、デンプ
ン等にアクリロニトリル等をグラフトしてさらに加水分
解した高分子物、架橋型アクリル酸重合体などがある。
記載の平均分子量が約1,000以上の・・−ドセグメ
ントと、平均分子量が約1..000以上でちゃ、かつ
エチレン系不飽和基を含むセグメント(以下、不飽和セ
グメントという)の組合せにおいて、分子中に少くとも
1つの()・−ドセグメント+不飽和セグメント←→ノ
・−ドセグメンl−)の結合形式を有するブロックコポ
リマーやグラフトコポリマーの不飽和基に、少くとも1
個のカルボキシル基、アミン基または水酸基を有するチ
オアルコール基含有親水性化合物を付加させ、次いで、
上記のカルボキシル基、アミノ基又は水酸基をエステル
化、アミド化、アルキル化あるいは硫酸エステル化した
親水性ブロックコポリマーやグラフトコポリマー、ポリ
エチレングリコール(ポリエチ11− レンオギンド)を変性して水に不溶化したもの、デンプ
ン等にアクリロニトリル等をグラフトしてさらに加水分
解した高分子物、架橋型アクリル酸重合体などがある。
以上の親水性高分子及び水膨潤性樹脂中では、カルボキ
シメチルセルロース、変性液状ポリブタジェン、カルボ
キシル含有NBR,カルボキシル含有BBR,カルボキ
シル含有BR,%公昭56−50886号公報記載の水
膨潤性高分子が好ましく、最も好ましいのは、カルボキ
シル含’NNBR,カルボキシル含有SBR、カルボキ
シル含有BR,%公昭56−50886号公報記載の水
膨潤性高分子である。
シメチルセルロース、変性液状ポリブタジェン、カルボ
キシル含有NBR,カルボキシル含有BBR,カルボキ
シル含有BR,%公昭56−50886号公報記載の水
膨潤性高分子が好ましく、最も好ましいのは、カルボキ
シル含’NNBR,カルボキシル含有SBR、カルボキ
シル含有BR,%公昭56−50886号公報記載の水
膨潤性高分子である。
そしてその含量は、水系現像液に対しての現像性とアル
コールベースインク耐性を考慮すれば、全組成基準で1
0〜70重量係、好量子くは20〜50重量係、最量子
ましくは親水性高分子で40〜50重量係、水量子性樹
脂で20〜30重量係であ量子 次に本発明で使用される(ハ)成分の非気体状エチ12
−− レン性不飽和化合物としてはアクリル酸、メタクリル酸
、フマル酸、マレイン酸などのエステル類、アクリルア
ミドやメタクリルアミドの誘導体、アリルエステル、ス
チレン及びその誘導体、N置換マレイミド化合物などを
あげることができる。その具体的な例としては、エチレ
ングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリ
コール、ジプロピレングリコール、ポリエチレングリコ
ール、ポリプロピレングリコール、ブチレングリコール
のジアクリレート及びジメタクリレート、あるいはトリ
メチロールプロパントリアクリレート及びトリメタクリ
レート、ペンタエリトリットテトラアクリレート N,N’−へキサメチレンビスアクリルアミド及びメタ
クリルアミド、ジアセトンアクリルアミド及びメタクリ
ルアミド、スチレン、ビニルトルエン、ジビニルベンゼ
ン、ジアリルフタレート、トリアリルシアヌレート、フ
マル酸ジエチルエステル、フマル酸シブチルエステノペ
フマル酸ジオクチルエステル、フマル酸ジステアリルエ
ステル、フマル酸ブチルオクチルエステル、フマル酸ジ
フェニルエステル、フマル酸ジベンジルエステル、マレ
イン酸ジブチルエステノペマレイン酸ジオクチルエステ
ル、フマル酸ビス(3−フェニルプロピル)エステル、
フマル酸ジラウリルエステル、フマル酸ジベヘニルエス
テノペ N−メチルマレイミド、N−エチルマレイミド
、N −プロピルマレイミド、N−ブチルマレイミド、
N−ペンチルマレイミド、N−n−へキシルマレイミド
、N−シクロヘキシルマレイミド、N −n−オクチル
マ1/イミド、N−2−エチルへキシルマレイミド、N
−n−7’シルマレイミド、N−ラウリルマレイミドな
どをあげることができるが、これらに限定されるもので
はない。これらは単独で用いてもよいし2種以上を組み
合わせて用いてもよい。
コールベースインク耐性を考慮すれば、全組成基準で1
0〜70重量係、好量子くは20〜50重量係、最量子
ましくは親水性高分子で40〜50重量係、水量子性樹
脂で20〜30重量係であ量子 次に本発明で使用される(ハ)成分の非気体状エチ12
−− レン性不飽和化合物としてはアクリル酸、メタクリル酸
、フマル酸、マレイン酸などのエステル類、アクリルア
ミドやメタクリルアミドの誘導体、アリルエステル、ス
チレン及びその誘導体、N置換マレイミド化合物などを
あげることができる。その具体的な例としては、エチレ
ングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリ
コール、ジプロピレングリコール、ポリエチレングリコ
ール、ポリプロピレングリコール、ブチレングリコール
のジアクリレート及びジメタクリレート、あるいはトリ
メチロールプロパントリアクリレート及びトリメタクリ
レート、ペンタエリトリットテトラアクリレート N,N’−へキサメチレンビスアクリルアミド及びメタ
クリルアミド、ジアセトンアクリルアミド及びメタクリ
ルアミド、スチレン、ビニルトルエン、ジビニルベンゼ
ン、ジアリルフタレート、トリアリルシアヌレート、フ
マル酸ジエチルエステル、フマル酸シブチルエステノペ
フマル酸ジオクチルエステル、フマル酸ジステアリルエ
ステル、フマル酸ブチルオクチルエステル、フマル酸ジ
フェニルエステル、フマル酸ジベンジルエステル、マレ
イン酸ジブチルエステノペマレイン酸ジオクチルエステ
ル、フマル酸ビス(3−フェニルプロピル)エステル、
フマル酸ジラウリルエステル、フマル酸ジベヘニルエス
テノペ N−メチルマレイミド、N−エチルマレイミド
、N −プロピルマレイミド、N−ブチルマレイミド、
N−ペンチルマレイミド、N−n−へキシルマレイミド
、N−シクロヘキシルマレイミド、N −n−オクチル
マ1/イミド、N−2−エチルへキシルマレイミド、N
−n−7’シルマレイミド、N−ラウリルマレイミドな
どをあげることができるが、これらに限定されるもので
はない。これらは単独で用いてもよいし2種以上を組み
合わせて用いてもよい。
こね7らのエチレン性不飽和化合物の中で、加熱成型工
程や未露光シートの保存中における安定性の点でフマレ
ート及びマレートがアクリル酸誘導体、メタクリル酸誘
導体などよりも優れている。
程や未露光シートの保存中における安定性の点でフマレ
ート及びマレートがアクリル酸誘導体、メタクリル酸誘
導体などよりも優れている。
また反応性の点でフマレートの方がマレートよりも優れ
てお9、フマレートを用いるのが好ましい。
てお9、フマレートを用いるのが好ましい。
添加量はその種類や得ようとするフレキソ版の特性によ
って異なるが、1重量%以上にする必要がある。これよ
り少いと光照射によっても現像液に対し不溶化が充分に
起らないため画像焼付後の現像液による洗出し工程で、
レリーフとなるべき個所の一部が洗い取られてしまい、
満足な版を得ることができない。反対に添加量が多くな
りすぎると、得られる版は硬くもろくな9、ゴム弾性が
少なくなるので、フレキソ印刷に使用することができな
くなることがある。好ま1〜い添加量は、5〜30重量
係で量子。
って異なるが、1重量%以上にする必要がある。これよ
り少いと光照射によっても現像液に対し不溶化が充分に
起らないため画像焼付後の現像液による洗出し工程で、
レリーフとなるべき個所の一部が洗い取られてしまい、
満足な版を得ることができない。反対に添加量が多くな
りすぎると、得られる版は硬くもろくな9、ゴム弾性が
少なくなるので、フレキソ印刷に使用することができな
くなることがある。好ま1〜い添加量は、5〜30重量
係で量子。
次に、本発明のに)成分である感光性ニジストマー組成
物に有効な光重合開始剤としては、ベンゾフェノン、ミ
ヒラーケトン、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル
、ベンゾインメチルエーテルへベンゾインイソプロピル
エーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、α−メチロ
ールベンゾイン、α−メチロールベンゾインメチルエー
テル、α−メトキシベンゾインメチルエーテノへベンゾ
インフェニルエーテル、α−t−ブチルベンツイン、ベ
ンジル、ビバロイン、アンスラキノン、ベンズアンスラ
キノン、2−エチルアンスラキノン、2−クロルアンス
ラキノンなどを例としてあげることができる。このよう
な光重合開始剤は重合有効量すなわち少くとも0.01
重重量板上添加される。
物に有効な光重合開始剤としては、ベンゾフェノン、ミ
ヒラーケトン、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル
、ベンゾインメチルエーテルへベンゾインイソプロピル
エーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、α−メチロ
ールベンゾイン、α−メチロールベンゾインメチルエー
テル、α−メトキシベンゾインメチルエーテノへベンゾ
インフェニルエーテル、α−t−ブチルベンツイン、ベ
ンジル、ビバロイン、アンスラキノン、ベンズアンスラ
キノン、2−エチルアンスラキノン、2−クロルアンス
ラキノンなどを例としてあげることができる。このよう
な光重合開始剤は重合有効量すなわち少くとも0.01
重重量板上添加される。
一般には0.1〜2重量重量範囲で添加さね、るのが好
ましい。
ましい。
本発明の感光性ニジストマー組成物には前記した必須成
分のほかに、0.001〜2重量係の熱量予防止剤を含
ませることができる。この熱重合防止剤としては、例え
ば、2,6−ジーt−ブチル−p−クレゾール、p−メ
トキシフエノーノヘ ペンタエリスリトールテトラキス
[3−(3’、5’−ジ−t−ブチル−4′−ヒドロキ
シ)フェニルプロピオネート〕、ヒドロキノン、t−ブ
チルカテコール、t−ブチルヒドロキシアニソール、4
,4′−ブチリデンビス(3−メチル−6−t−ブチル
)フェノールなどをあげることができる。
分のほかに、0.001〜2重量係の熱量予防止剤を含
ませることができる。この熱重合防止剤としては、例え
ば、2,6−ジーt−ブチル−p−クレゾール、p−メ
トキシフエノーノヘ ペンタエリスリトールテトラキス
[3−(3’、5’−ジ−t−ブチル−4′−ヒドロキ
シ)フェニルプロピオネート〕、ヒドロキノン、t−ブ
チルカテコール、t−ブチルヒドロキシアニソール、4
,4′−ブチリデンビス(3−メチル−6−t−ブチル
)フェノールなどをあげることができる。
また、本発明の感光性ニジストマー組成物は所望により
可塑剤金言むことができる。この可塑剤は感光性ニジス
トマー組成物の未露光部分の除去を促進し、また、硬化
部分の物性等を改良し、さらに、感光性エラストマー組
成物層の製造、特に成型を助成するもので、目標とする
特性に応じて2〜40重量係重量間が添加される。この
ようなものとしては、ナフテン油やパラフィン油のよう
々炭化水素油、ポリエチレングリコール、ポリエチレン
グリコールエステル、数平均分子量5500以下の液状
ゴム類例えば、液状1,2及び1,4ポリブタジエン、
液状アクリロニトリルブタジェンコポリマー、液状スチ
レンブタジェンコポリマー、ステアリン酸、ポリペンタ
ジェン、ポリウレタン、エチレンプロピレンジエンゴム
などがあげられる。
可塑剤金言むことができる。この可塑剤は感光性ニジス
トマー組成物の未露光部分の除去を促進し、また、硬化
部分の物性等を改良し、さらに、感光性エラストマー組
成物層の製造、特に成型を助成するもので、目標とする
特性に応じて2〜40重量係重量間が添加される。この
ようなものとしては、ナフテン油やパラフィン油のよう
々炭化水素油、ポリエチレングリコール、ポリエチレン
グリコールエステル、数平均分子量5500以下の液状
ゴム類例えば、液状1,2及び1,4ポリブタジエン、
液状アクリロニトリルブタジェンコポリマー、液状スチ
レンブタジェンコポリマー、ステアリン酸、ポリペンタ
ジェン、ポリウレタン、エチレンプロピレンジエンゴム
などがあげられる。
上記可塑剤は、透明性を高める相溶剤としても用いるこ
とができる。そのほかにトリフェニルホスペード、ジオ
クチルフタレート、ジオクチルアジペート、ジエチルフ
タレート、リン酸、オクチルジフェニルホスペード、ト
リブトキシエチルホスペード等の可塑剤が相溶剤となる
。
とができる。そのほかにトリフェニルホスペード、ジオ
クチルフタレート、ジオクチルアジペート、ジエチルフ
タレート、リン酸、オクチルジフェニルホスペード、ト
リブトキシエチルホスペード等の可塑剤が相溶剤となる
。
本発明の感光性エラストマー組成物は、その組成によっ
ては粘着性を生じるので、その上に重ねられる透明画像
担体との接触性を良くするため、及びその透明画像担体
の再使用を可能にするために、その表面にポリエチレン
、ポリプロピレン、ポリエステル、ポリスチレンなどの
薄いフィルムのラミネート層を設けることができる。こ
のフ・1ルムは、この上に重ねて椋いた透明画像担体全
通しての露光が終了してからはぎとられる。
ては粘着性を生じるので、その上に重ねられる透明画像
担体との接触性を良くするため、及びその透明画像担体
の再使用を可能にするために、その表面にポリエチレン
、ポリプロピレン、ポリエステル、ポリスチレンなどの
薄いフィルムのラミネート層を設けることができる。こ
のフ・1ルムは、この上に重ねて椋いた透明画像担体全
通しての露光が終了してからはぎとられる。
同様の目的のためにフィルムの代わりに水系現像液に可
溶な薄いたわみ性の層を設けてもよい。
溶な薄いたわみ性の層を設けてもよい。
この場合は、透明画像担体を通じての露光が終了してか
ら未露光部を溶出する際にその層も同時に溶解等により
除去される。
ら未露光部を溶出する際にその層も同時に溶解等により
除去される。
本発明の感光性ニジストマー組成物は各成分を混合する
ことによシ製造することができる。
ことによシ製造することができる。
その混合手段としては、ニーダ−、ロールミル等が用い
ることができ、熱プレス成形、カレンダー処理又は押出
成形により所望の厚さの層を製造することが可能である
。 ゛ 保護フィルムや支持体フィルムはシート成形後ロールラ
ミネートにより感光層に密着させることができる。ラミ
ネート後加熱プレスしていっそう精度の良い感光層を得
ることができる。
ることができ、熱プレス成形、カレンダー処理又は押出
成形により所望の厚さの層を製造することが可能である
。 ゛ 保護フィルムや支持体フィルムはシート成形後ロールラ
ミネートにより感光層に密着させることができる。ラミ
ネート後加熱プレスしていっそう精度の良い感光層を得
ることができる。
薄1.qたわみ性の層、例えばポリビニルアルコール、
アラビアゴム、ポリアクリルアミド、セルロースアセテ
ートフタレート、ヒドロキシプロピルセルロース等の層
を感光層の表面に設けようとする場合には、これを適当
な溶剤に溶かしてその溶液を直接感光層表面にコーティ
ングしても良いし、一度ポリエステル、ポリプロピレン
等のフィルムにコーティングし、その後これをフィルム
ごと感光層にラミネートして転写させてもよい。
アラビアゴム、ポリアクリルアミド、セルロースアセテ
ートフタレート、ヒドロキシプロピルセルロース等の層
を感光層の表面に設けようとする場合には、これを適当
な溶剤に溶かしてその溶液を直接感光層表面にコーティ
ングしても良いし、一度ポリエステル、ポリプロピレン
等のフィルムにコーティングし、その後これをフィルム
ごと感光層にラミネートして転写させてもよい。
本発明の感光性エラストマー組成物を溶剤不溶化するの
に用いられる活性光線源としては、低圧水銀灯、高圧水
銀灯、紫外線用けい光灯、カーボンアーク灯、キセノン
ランプ、ジルコニウムランプ、太陽光などがある。
に用いられる活性光線源としては、低圧水銀灯、高圧水
銀灯、紫外線用けい光灯、カーボンアーク灯、キセノン
ランプ、ジルコニウムランプ、太陽光などがある。
本発明の感光性ニジストマー組成物に透明画像担体を通
して光照射して画像を形成させたあと、未露光部を溶出
するのに用いられる現像液は、未露光部を除去1−1露
光されてできた画像部にはほとんど影響を与えないもの
であることが必要である。
して光照射して画像を形成させたあと、未露光部を溶出
するのに用いられる現像液は、未露光部を除去1−1露
光されてできた画像部にはほとんど影響を与えないもの
であることが必要である。
現像液の組成は、感光性エラストマー組成物に含有して
いる親水性高分子の性質及び量に依存するが、水または
水を70%以上含有する溶剤で、水酸化ナトリウム、炭
酸ナトリウム、硅酸ナトリウム、硼酸ナトリウム等のア
ルカリ、界面活性剤、水溶性有機溶剤を含有していても
よい。
いる親水性高分子の性質及び量に依存するが、水または
水を70%以上含有する溶剤で、水酸化ナトリウム、炭
酸ナトリウム、硅酸ナトリウム、硼酸ナトリウム等のア
ルカリ、界面活性剤、水溶性有機溶剤を含有していても
よい。
現像液の液温は25℃前後でもよいが、現像性を高める
ためには50〜70℃がよい。
ためには50〜70℃がよい。
また現像時間は必要とするレリーフの深さが得られる時
間に設定する。
間に設定する。
本発明の感光性エンストマー組成物はフレキソ印刷用印
刷版として優れた特性を有しているがこの他に、フォト
レジスト用やスクリーン印刷のスクリーン用としても用
いることができる。
刷版として優れた特性を有しているがこの他に、フォト
レジスト用やスクリーン印刷のスクリーン用としても用
いることができる。
(効果)
本発明の感光性工2ストマー組成物は親水性高分子゛ま
たは水膨潤性樹脂を含有しているという点で従来技術の
感光性ニジストマー組成物とは異なっている。このよう
な組成物は、容易に製造することができ、かつ画像露光
後水系現像液で現像され画像を生成することができる。
たは水膨潤性樹脂を含有しているという点で従来技術の
感光性ニジストマー組成物とは異なっている。このよう
な組成物は、容易に製造することができ、かつ画像露光
後水系現像液で現像され画像を生成することができる。
また、骨格ポリマーにカルボキシル基等の極性基を導入
した従来技術の感光性ニジストマー組成物は、アルコー
ルベースインクに対し耐性がないが、本発明感光性エラ
ストマー組成物は驚くべきことにアルコールベースイン
クに対し、溶媒耐性があるという長所を有している。
した従来技術の感光性ニジストマー組成物は、アルコー
ルベースインクに対し耐性がないが、本発明感光性エラ
ストマー組成物は驚くべきことにアルコールベースイン
クに対し、溶媒耐性があるという長所を有している。
(実施例)
次に実施例により本発明の詳細な説明する。各実施例中
の部は重量部である。
の部は重量部である。
実施例1
スチレン−ブタジェン−スチレンブロック共重合体(シ
ェル石油化学社製クラトン1101 (商品名))40
部、水膨潤性樹脂(犬日精化社徊ダイスウェル(商品名
))20部、液状ポリブタジェン(日本石油jt学社M
jB−2000(商品名))3゜部、フマル酸ジ−n−
オクチル8部、ラウリルマレイミド2部、2,2−ジメ
トキシ−2−フェニールアセトフェノ72部、2.6−
t−ブチル−p −クレゾール0.2部をニーダで混練
した。
ェル石油化学社製クラトン1101 (商品名))40
部、水膨潤性樹脂(犬日精化社徊ダイスウェル(商品名
))20部、液状ポリブタジェン(日本石油jt学社M
jB−2000(商品名))3゜部、フマル酸ジ−n−
オクチル8部、ラウリルマレイミド2部、2,2−ジメ
トキシ−2−フェニールアセトフェノ72部、2.6−
t−ブチル−p −クレゾール0.2部をニーダで混練
した。
これ’1lOOμポリエステルフィルムではさみ、3藺
の厚さのスペーサーの内側に置き140℃でプレスして
感光性ニジストマー組成物シートを得た。
の厚さのスペーサーの内側に置き140℃でプレスして
感光性ニジストマー組成物シートを得た。
次に片側のポリエステルフィルムをはぎとり、その面に
透明画像担体を密着させ、紫外線けい光灯を用いて2
、5 mW /crAの強度の光で30分間露光した。
透明画像担体を密着させ、紫外線けい光灯を用いて2
、5 mW /crAの強度の光で30分間露光した。
透明画像担体を取り除いて水酸化ナトリウム72−(2
−ブトキシエトキシ)エタノール/水溶液(水酸化ナト
リウム0.3部、2−(2−ブトキシエトキシ)エタノ
ール7部、水93部、液温60〜65℃)で20分間ブ
ラシを使用して未露光部の溶出を行ったところ、原画像
を忠実に再現したレリーフが得られた。
−ブトキシエトキシ)エタノール/水溶液(水酸化ナト
リウム0.3部、2−(2−ブトキシエトキシ)エタノ
ール7部、水93部、液温60〜65℃)で20分間ブ
ラシを使用して未露光部の溶出を行ったところ、原画像
を忠実に再現したレリーフが得られた。
° 実施例2
実施例1に用いたのと同じスチレン−ブタジェン−スチ
レンブロック共重合体30部、メタクリル酸−スチレン
−ブタジェン共重合体(数平均分子量20000、メタ
クリル酸20重量子、メチレフ量子重量係、ブタジェン
70重量%)30部、ジステアリルフマレート15部、
フェニルマレイミ)”2部、2.2−ジメトキシ−2−
フェニールアセトフェノン2部、2.6−t−ブチル−
p−クレゾール0.2部とをニーダで混練した。
レンブロック共重合体30部、メタクリル酸−スチレン
−ブタジェン共重合体(数平均分子量20000、メタ
クリル酸20重量子、メチレフ量子重量係、ブタジェン
70重量%)30部、ジステアリルフマレート15部、
フェニルマレイミ)”2部、2.2−ジメトキシ−2−
フェニールアセトフェノン2部、2.6−t−ブチル−
p−クレゾール0.2部とをニーダで混練した。
これを実施例1と同様にシート成形し、露光後、液温6
0℃の水酸化ナトリウム/2−(2−ブトキシエトキシ
)エタノール/水溶液(水酸化ナトリウム0.3部、2
−(2−ブトキシエトキシ)エタノール7部、水93部
)で20分間ブラシを使用して未露光部の溶出を行った
ところ、原画像を忠実に再現したレリーフが得られた。
0℃の水酸化ナトリウム/2−(2−ブトキシエトキシ
)エタノール/水溶液(水酸化ナトリウム0.3部、2
−(2−ブトキシエトキシ)エタノール7部、水93部
)で20分間ブラシを使用して未露光部の溶出を行った
ところ、原画像を忠実に再現したレリーフが得られた。
実施例3
実施例1に用いたのと同じスチレン−ブタジェン−スチ
レンブロック共重合体30部、メタクリル酸−ブタジェ
ン共重合体(数平均分子量20000、メタクリル酸2
0重量子、ブタジェン80重量%)30部、ジステアリ
ルフマレート10部、ラウリルマレイミド4部、ベンゾ
インイソプロピルエーテル2部、2.6−t−ブチル−
p−クレゾール0.2部とをニーダで混練した。
レンブロック共重合体30部、メタクリル酸−ブタジェ
ン共重合体(数平均分子量20000、メタクリル酸2
0重量子、ブタジェン80重量%)30部、ジステアリ
ルフマレート10部、ラウリルマレイミド4部、ベンゾ
インイソプロピルエーテル2部、2.6−t−ブチル−
p−クレゾール0.2部とをニーダで混練した。
これを実施例】と同様にシート成形し、露光後、現像を
行ったところ、原画像を忠実に再現したレリーフが得ら
れた。
行ったところ、原画像を忠実に再現したレリーフが得ら
れた。
実施例4
実施例1に用いたのと同じスチレン−ブタジェン−スチ
レンブロック共重合体30部、メタクリル酸−アクリロ
ニトリル−ブタジェン共重合体(日本ゼオン社製ニポー
ル1072(商品名))30部、ジブチルフマレー)1
0部、ステアリルマレイミド3部、ベンゾインイソブチ
ルエーテル2部、2.6−t−ブチル−p−クレゾール
0.2部、と金ニーダで混練した。
レンブロック共重合体30部、メタクリル酸−アクリロ
ニトリル−ブタジェン共重合体(日本ゼオン社製ニポー
ル1072(商品名))30部、ジブチルフマレー)1
0部、ステアリルマレイミド3部、ベンゾインイソブチ
ルエーテル2部、2.6−t−ブチル−p−クレゾール
0.2部、と金ニーダで混練した。
これを実施例工と同様にシート成形し、露光後、現像を
行ったところ、原画像を忠実に再現し7たレリーフが得
られた。
行ったところ、原画像を忠実に再現し7たレリーフが得
られた。
実施例5
実施例1に用いたのと同じスチレン−ブタジェン−スチ
レンブロック共重合体30部、カルボキシメチルセルロ
ース(タイセル化学社M lz 5゜(商品名))30
部、液状ポリブタジェン(日本石油化学社製B−200
0(商品名))30部、ジフェニルフマレート10部、
シクロヘキシルマレイミド2部、2,2−ジメトキシ−
2−7工ニールアセトフエノン2部、2.6−t−ブチ
ル−p−クレゾール0.2部とをニーダで混練した。
レンブロック共重合体30部、カルボキシメチルセルロ
ース(タイセル化学社M lz 5゜(商品名))30
部、液状ポリブタジェン(日本石油化学社製B−200
0(商品名))30部、ジフェニルフマレート10部、
シクロヘキシルマレイミド2部、2,2−ジメトキシ−
2−7工ニールアセトフエノン2部、2.6−t−ブチ
ル−p−クレゾール0.2部とをニーダで混練した。
これを実施例1と同様にシート成形し、露光後、現像を
行ったところ、原画像を忠実に再現したレリーフが得ら
れた。
行ったところ、原画像を忠実に再現したレリーフが得ら
れた。
実施例6
第1表の感光性エラストマー組成物をニーダで混練し、
プレスにてシート化した。
プレスにてシート化した。
第 1 表
以上の各シートラ光源強度2.2〜2.3mW/c!の
紫外線けい光灯で両面40分間(片面20分間)光照射
した後、イソプロピルアルコール/酢酸エチル/n−ヘ
キサン(75/2015)中に浸せきした。各プレート
の4時間後の膨潤率を第2表に示した。
紫外線けい光灯で両面40分間(片面20分間)光照射
した後、イソプロピルアルコール/酢酸エチル/n−ヘ
キサン(75/2015)中に浸せきした。各プレート
の4時間後の膨潤率を第2表に示した。
−28〜
第 2 表
第2表よシ、水系現像液で現像が可能な組成物(B)
、 (C)は溶剤現像タイプの組成物(D) 、 (E
)に比べて膨潤率が高く、耐溶剤性の面で問題がある。
、 (C)は溶剤現像タイプの組成物(D) 、 (E
)に比べて膨潤率が高く、耐溶剤性の面で問題がある。
しかし本発明の実施例1の組成物(A)は、溶剤現像タ
イプの組成物と同様の膨潤率であることから、溶剤現像
タイプの組成物と同様の耐溶剤性を有していることが明
らかになった。
イプの組成物と同様の膨潤率であることから、溶剤現像
タイプの組成物と同様の耐溶剤性を有していることが明
らかになった。
特許出願人 旭化成工業株式会社
代理人 阿 形 明
29−
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 m酸物全重量に基づき、 (イ)数平均分子量20,000〜200 、000を
もつ共役ジエン系炭化水素重合体又は数平均分子量20
、000〜200 、000をもつ共役ジエン系炭化
水素とモノオレフィン系不飽和化合物との共重合体25
〜85重量係、 ←)親水性高分子化合物jO〜70重量係、(ハ)非気
体状エチレン性不飽和化合物1〜40重量係及び に)光重合開始剤 を必須成分として含有してなる感光性ニジストマー組成
物。・
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6676484A JPS60211451A (ja) | 1984-04-05 | 1984-04-05 | 感光性エラストマ−組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6676484A JPS60211451A (ja) | 1984-04-05 | 1984-04-05 | 感光性エラストマ−組成物 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP31174893A Division JPH06214389A (ja) | 1993-11-01 | 1993-12-13 | 感光性エラストマー組成物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60211451A true JPS60211451A (ja) | 1985-10-23 |
JPH055106B2 JPH055106B2 (ja) | 1993-01-21 |
Family
ID=13325269
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6676484A Granted JPS60211451A (ja) | 1984-04-05 | 1984-04-05 | 感光性エラストマ−組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS60211451A (ja) |
Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0273393A2 (en) * | 1986-12-27 | 1988-07-06 | Toyo Boseki Kabushiki Kaisha | Photosensitive resin composition |
JPH01108542A (ja) * | 1987-10-22 | 1989-04-25 | Toyobo Co Ltd | 感光性樹脂組成物 |
JPH01219833A (ja) * | 1988-02-29 | 1989-09-01 | Toyobo Co Ltd | 感光性樹脂組成物 |
JPH02108632A (ja) * | 1988-08-30 | 1990-04-20 | E I Du Pont De Nemours & Co | 柔軟性が増大したフレキソ印刷版の製法 |
EP0398325A2 (en) * | 1989-05-18 | 1990-11-22 | Toyo Boseki Kabushiki Kaisha | Photosensitive resin composition |
JPH05150451A (ja) * | 1991-04-24 | 1993-06-18 | Nippon Paint Co Ltd | 感光性樹脂組成物 |
JPH06289610A (ja) * | 1993-03-31 | 1994-10-18 | Nippon Zeon Co Ltd | 親水性共重合体の製造方法及び該共重合体を用いた水現像用感光性重合体組成物、感光性フレキソ版 |
JPH08234418A (ja) * | 1996-02-20 | 1996-09-13 | Nippon Paint Co Ltd | 感光性フレキソ印刷版用組成物 |
US5780202A (en) * | 1994-04-08 | 1998-07-14 | Toyo Boseki Kabushiki Kaisha | Antistatic photosensitive multilayered structure and method for producing the same |
EP0740214A3 (en) * | 1995-04-26 | 1998-07-15 | Nippon Zeon Co., Ltd. | Photosensitive composition and photosensitive rubber plate |
US8883399B2 (en) | 2008-12-18 | 2014-11-11 | Asahi Kasei E-Materials Corporation | Ablation layer, photosensitive resin structure, and method for producing relief printing plate using the photosensitive resin structure |
Families Citing this family (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
AU2002224117B2 (en) | 2000-11-28 | 2005-01-27 | Asahi Kasei Chemicals Corporation | Improved water-developable photosensitive resin for flexography |
US8298232B2 (en) | 2006-01-24 | 2012-10-30 | Tyco Healthcare Group Lp | Endoscopic vessel sealer and divider for large tissue structures |
US8469956B2 (en) | 2008-07-21 | 2013-06-25 | Covidien Lp | Variable resistor jaw |
US8016827B2 (en) | 2008-10-09 | 2011-09-13 | Tyco Healthcare Group Lp | Apparatus, system, and method for performing an electrosurgical procedure |
US9113924B2 (en) | 2008-10-17 | 2015-08-25 | Covidien Lp | Choked dielectric loaded tip dipole microwave antenna |
US8197473B2 (en) | 2009-02-20 | 2012-06-12 | Vivant Medical, Inc. | Leaky-wave antennas for medical applications |
US9031668B2 (en) | 2009-08-06 | 2015-05-12 | Covidien Lp | Vented positioner and spacer and method of use |
US9113925B2 (en) | 2009-09-09 | 2015-08-25 | Covidien Lp | System and method for performing an ablation procedure |
US9113940B2 (en) | 2011-01-14 | 2015-08-25 | Covidien Lp | Trigger lockout and kickback mechanism for surgical instruments |
US8968317B2 (en) | 2011-08-18 | 2015-03-03 | Covidien Lp | Surgical forceps |
US8961513B2 (en) | 2012-01-25 | 2015-02-24 | Covidien Lp | Surgical tissue sealer |
USD728786S1 (en) | 2013-05-03 | 2015-05-05 | Covidien Lp | Vessel sealer with mechanical cutter and pistol-grip-style trigger |
USD738499S1 (en) | 2013-08-07 | 2015-09-08 | Covidien Lp | Open vessel sealer with mechanical cutter |
USD726910S1 (en) | 2013-08-07 | 2015-04-14 | Covidien Lp | Reusable forceps for open vessel sealer with mechanical cutter |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5143374A (en) * | 1974-10-11 | 1976-04-14 | Showa Oil | Kihatsuseino tankasuisoo fukumu gasuno jokahoho |
JPS5337764A (en) * | 1976-09-20 | 1978-04-07 | Kyowa Gas Chem Ind Co Ltd | Extrusion molding method |
JPS53111718A (en) * | 1977-03-11 | 1978-09-29 | Japan Synthetic Rubber Co Ltd | Sensitive resin conposite |
JPS54110287A (en) * | 1978-01-25 | 1979-08-29 | Du Pont | Photosensitive elastic composition |
JPS5720732A (en) * | 1980-05-27 | 1982-02-03 | Du Pont | Photopolymerizable composition |
EP0104751A2 (en) * | 1982-08-31 | 1984-04-04 | W.R. Grace & Co.-Conn. | Photosensitive elastomeric polymer composition for flexographic printing plates |
JPS60173055A (ja) * | 1984-02-20 | 1985-09-06 | Dainichi Seika Kogyo Kk | 感光性樹脂組成物 |
-
1984
- 1984-04-05 JP JP6676484A patent/JPS60211451A/ja active Granted
Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5143374A (en) * | 1974-10-11 | 1976-04-14 | Showa Oil | Kihatsuseino tankasuisoo fukumu gasuno jokahoho |
JPS5337764A (en) * | 1976-09-20 | 1978-04-07 | Kyowa Gas Chem Ind Co Ltd | Extrusion molding method |
JPS53111718A (en) * | 1977-03-11 | 1978-09-29 | Japan Synthetic Rubber Co Ltd | Sensitive resin conposite |
JPS54110287A (en) * | 1978-01-25 | 1979-08-29 | Du Pont | Photosensitive elastic composition |
JPS5720732A (en) * | 1980-05-27 | 1982-02-03 | Du Pont | Photopolymerizable composition |
EP0104751A2 (en) * | 1982-08-31 | 1984-04-04 | W.R. Grace & Co.-Conn. | Photosensitive elastomeric polymer composition for flexographic printing plates |
JPS5960435A (ja) * | 1982-08-31 | 1984-04-06 | ダブリユ.アール.グレイス アンド カンパニー ― コネチカット | 均質なエラストマ−状感光性組成物 |
JPS60173055A (ja) * | 1984-02-20 | 1985-09-06 | Dainichi Seika Kogyo Kk | 感光性樹脂組成物 |
Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0273393A2 (en) * | 1986-12-27 | 1988-07-06 | Toyo Boseki Kabushiki Kaisha | Photosensitive resin composition |
JPH01108542A (ja) * | 1987-10-22 | 1989-04-25 | Toyobo Co Ltd | 感光性樹脂組成物 |
JPH01219833A (ja) * | 1988-02-29 | 1989-09-01 | Toyobo Co Ltd | 感光性樹脂組成物 |
JPH02108632A (ja) * | 1988-08-30 | 1990-04-20 | E I Du Pont De Nemours & Co | 柔軟性が増大したフレキソ印刷版の製法 |
EP0398325A2 (en) * | 1989-05-18 | 1990-11-22 | Toyo Boseki Kabushiki Kaisha | Photosensitive resin composition |
JPH05150451A (ja) * | 1991-04-24 | 1993-06-18 | Nippon Paint Co Ltd | 感光性樹脂組成物 |
JPH06289610A (ja) * | 1993-03-31 | 1994-10-18 | Nippon Zeon Co Ltd | 親水性共重合体の製造方法及び該共重合体を用いた水現像用感光性重合体組成物、感光性フレキソ版 |
US5780202A (en) * | 1994-04-08 | 1998-07-14 | Toyo Boseki Kabushiki Kaisha | Antistatic photosensitive multilayered structure and method for producing the same |
EP0740214A3 (en) * | 1995-04-26 | 1998-07-15 | Nippon Zeon Co., Ltd. | Photosensitive composition and photosensitive rubber plate |
JPH08234418A (ja) * | 1996-02-20 | 1996-09-13 | Nippon Paint Co Ltd | 感光性フレキソ印刷版用組成物 |
US8883399B2 (en) | 2008-12-18 | 2014-11-11 | Asahi Kasei E-Materials Corporation | Ablation layer, photosensitive resin structure, and method for producing relief printing plate using the photosensitive resin structure |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH055106B2 (ja) | 1993-01-21 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPS60211451A (ja) | 感光性エラストマ−組成物 | |
EP0017927B1 (en) | Process for preparing photopolymerized elastomeric printing plates not displaying surface stickiness | |
US4197130A (en) | Photosensitive elastomeric composition and element | |
US4400460A (en) | Process for surface treatment of flexographic printing plates containing butadiene/acrylonitrile copolymers | |
US5135837A (en) | Photosensitive elastomeric element having improved solvent resistance | |
US7645563B2 (en) | Photosensitive resin composition, photosensitive layer using the same and photosensitive resin printing original plate | |
EP0183552B2 (en) | A photopolymerizable composition | |
EP1881370B1 (en) | Photosensitive resin composition | |
US6197479B1 (en) | Photosensitive resin composition, method for producing photosensitive resin composition, and printing plate material | |
JP2985655B2 (ja) | 感光性組成物、感光性ゴム版およびその製法並びにフ レキソ印刷版およびその製法 | |
JP2000181060A (ja) | フレキソ印刷用感光性エラストマー組成物 | |
WO1995008136A1 (en) | Photosensitive compositions and elements for flexographic printing | |
JP7229332B2 (ja) | フレキソ印刷原版及びフレキソ印刷版の製造方法 | |
GB2179360A (en) | Aqueous developable photopolymer compositions | |
US6150076A (en) | Process for treating periphery of unexposed photosensitive resin plate | |
JP3080192B2 (ja) | 感光性樹脂印刷版用粘着防止層組成物 | |
JP2004246247A (ja) | フレキソ印刷用感光性樹脂組成物 | |
JP2900075B2 (ja) | 感光性樹脂組成物 | |
JP3123619B2 (ja) | 感光性樹脂印刷版用粘着防止層組成物 | |
JPH06214389A (ja) | 感光性エラストマー組成物 | |
JPH10123710A (ja) | 感光性樹脂マトリックスおよびその製造方法 | |
JP2705214B2 (ja) | 感光性樹脂組成物 | |
JP2940037B2 (ja) | 感光性樹脂印刷原版および印刷版 | |
JPH0541979B2 (ja) | ||
JP2002196479A (ja) | 感光性樹脂組成物およびフレキソ印刷版用原版 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
EXPY | Cancellation because of completion of term |