JPH02108632A - 柔軟性が増大したフレキソ印刷版の製法 - Google Patents
柔軟性が増大したフレキソ印刷版の製法Info
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- 238000007639 printing Methods 0.000 title claims abstract description 28
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title description 4
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims abstract description 156
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 65
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 claims abstract description 63
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims abstract description 31
- 229920001169 thermoplastic Polymers 0.000 claims abstract description 22
- 239000004416 thermosoftening plastic Substances 0.000 claims abstract description 22
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 17
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 14
- 239000003999 initiator Substances 0.000 claims abstract description 13
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 claims abstract description 7
- 229920000468 styrene butadiene styrene block copolymer Polymers 0.000 claims abstract description 3
- QCSQKWYXKHKCHW-UHFFFAOYSA-N 3-prop-2-enoyloxyhexyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC(CCC)CCOC(=O)C=C QCSQKWYXKHKCHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 2
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 25
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 claims description 13
- 239000000806 elastomer Substances 0.000 claims description 12
- 238000011161 development Methods 0.000 claims description 9
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 6
- 125000003011 styrenyl group Chemical group [H]\C(*)=C(/[H])C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 claims description 2
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 3
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 abstract description 3
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 33
- -1 methacrylateryl Chemical compound 0.000 description 26
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 17
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N Terephthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 12
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 11
- 239000010408 film Substances 0.000 description 10
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 10
- 125000004386 diacrylate group Chemical group 0.000 description 9
- 239000011258 core-shell material Substances 0.000 description 8
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 8
- NAQMVNRVTILPCV-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diamine Chemical compound NCCCCCCN NAQMVNRVTILPCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 7
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 6
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 6
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229920001400 block copolymer Polymers 0.000 description 6
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 6
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 6
- QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N isophthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(C(O)=O)=C1 QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 6
- CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-N sebacic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCCCC(O)=O CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000005062 Polybutadiene Substances 0.000 description 5
- 229920002857 polybutadiene Polymers 0.000 description 5
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 5
- 229920002689 polyvinyl acetate Polymers 0.000 description 5
- 239000011118 polyvinyl acetate Substances 0.000 description 5
- PUGOMSLRUSTQGV-UHFFFAOYSA-N 2,3-di(prop-2-enoyloxy)propyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(OC(=O)C=C)COC(=O)C=C PUGOMSLRUSTQGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 4
- 238000012644 addition polymerization Methods 0.000 description 4
- 229920002301 cellulose acetate Polymers 0.000 description 4
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 4
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 4
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 4
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 4
- 239000003995 emulsifying agent Substances 0.000 description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 4
- URAYPUMNDPQOKB-UHFFFAOYSA-N triacetin Chemical compound CC(=O)OCC(OC(C)=O)COC(C)=O URAYPUMNDPQOKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 1,4-benzoquinone Chemical compound O=C1C=CC(=O)C=C1 AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 2-(3-phenylmethoxyphenyl)-1,3-thiazole-4-carbaldehyde Chemical compound O=CC1=CSC(C=2C=C(OCC=3C=CC=CC=3)C=CC=2)=N1 OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- FIHBHSQYSYVZQE-UHFFFAOYSA-N 6-prop-2-enoyloxyhexyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCCCCCOC(=O)C=C FIHBHSQYSYVZQE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920002799 BoPET Polymers 0.000 description 3
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 3
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920002633 Kraton (polymer) Polymers 0.000 description 3
- 239000005041 Mylar™ Substances 0.000 description 3
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 3
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 3
- 238000000149 argon plasma sintering Methods 0.000 description 3
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 3
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol Natural products OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 3
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 3
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 3
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 3
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 description 3
- 229920006132 styrene block copolymer Polymers 0.000 description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 3
- 229920000428 triblock copolymer Polymers 0.000 description 3
- MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 1,2-Divinylbenzene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1C=C MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 2-Ethylhexyl acrylate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C=C GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NJWGQARXZDRHCD-UHFFFAOYSA-N 2-methylanthraquinone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(C)=CC=C3C(=O)C2=C1 NJWGQARXZDRHCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JWAZRIHNYRIHIV-UHFFFAOYSA-N 2-naphthol Chemical compound C1=CC=CC2=CC(O)=CC=C21 JWAZRIHNYRIHIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KUDUQBURMYMBIJ-UHFFFAOYSA-N 2-prop-2-enoyloxyethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOC(=O)C=C KUDUQBURMYMBIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DBCAQXHNJOFNGC-UHFFFAOYSA-N 4-bromo-1,1,1-trifluorobutane Chemical compound FC(F)(F)CCCBr DBCAQXHNJOFNGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229930185605 Bisphenol Natural products 0.000 description 2
- SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N Butylmethacrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C(C)=C SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001634 Copolyester Polymers 0.000 description 2
- 241000238557 Decapoda Species 0.000 description 2
- ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N Diisopropyl ether Chemical compound CC(C)OC(C)C ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004594 Masterbatch (MB) Substances 0.000 description 2
- MJVAVZPDRWSRRC-UHFFFAOYSA-N Menadione Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C(C)=CC(=O)C2=C1 MJVAVZPDRWSRRC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004677 Nylon Substances 0.000 description 2
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 2
- WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N adipic acid Chemical compound OC(=O)CCCCC(O)=O WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 2
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- ROOXNKNUYICQNP-UHFFFAOYSA-N ammonium persulfate Chemical compound [NH4+].[NH4+].[O-]S(=O)(=O)OOS([O-])(=O)=O ROOXNKNUYICQNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 2
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 2
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 2
- ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N benzoin Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229960002130 benzoin Drugs 0.000 description 2
- 239000004841 bisphenol A epoxy resin Substances 0.000 description 2
- 230000001680 brushing effect Effects 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 2
- NEHMKBQYUWJMIP-UHFFFAOYSA-N chloromethane Chemical compound ClC NEHMKBQYUWJMIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920003193 cis-1,4-polybutadiene polymer Polymers 0.000 description 2
- 150000001993 dienes Chemical class 0.000 description 2
- 108010037444 diisopropylglutathione ester Proteins 0.000 description 2
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 2
- 238000007720 emulsion polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- STVZJERGLQHEKB-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol dimethacrylate Substances CC(=C)C(=O)OCCOC(=O)C(C)=C STVZJERGLQHEKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000013773 glyceryl triacetate Nutrition 0.000 description 2
- XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diol Chemical compound OCCCCCCO XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 2
- 238000010348 incorporation Methods 0.000 description 2
- LQNUZADURLCDLV-UHFFFAOYSA-N nitrobenzene Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=CC=C1 LQNUZADURLCDLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- 150000002924 oxiranes Chemical class 0.000 description 2
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 2
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 2
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 2
- 229920006324 polyoxymethylene Polymers 0.000 description 2
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 2
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N pyrogallol Chemical group OC1=CC=CC(O)=C1O WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000004053 quinones Chemical class 0.000 description 2
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 2
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 2
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 2
- 238000012719 thermal polymerization Methods 0.000 description 2
- 229920002725 thermoplastic elastomer Polymers 0.000 description 2
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 2
- 229960002622 triacetin Drugs 0.000 description 2
- UIYCHXAGWOYNNA-UHFFFAOYSA-N vinyl sulfide Chemical compound C=CSC=C UIYCHXAGWOYNNA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LNAZSHAWQACDHT-XIYTZBAFSA-N (2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-dimethoxy-2-(methoxymethyl)-3-[(2s,3r,4s,5r,6r)-3,4,5-trimethoxy-6-(methoxymethyl)oxan-2-yl]oxy-6-[(2r,3r,4s,5r,6r)-4,5,6-trimethoxy-2-(methoxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxane Chemical compound CO[C@@H]1[C@@H](OC)[C@H](OC)[C@@H](COC)O[C@H]1O[C@H]1[C@H](OC)[C@@H](OC)[C@H](O[C@H]2[C@@H]([C@@H](OC)[C@H](OC)O[C@@H]2COC)OC)O[C@@H]1COC LNAZSHAWQACDHT-XIYTZBAFSA-N 0.000 description 1
- MRIKSZXJKCQQFT-UHFFFAOYSA-N (3-hydroxy-2,2-dimethylpropyl) prop-2-enoate Chemical compound OCC(C)(C)COC(=O)C=C MRIKSZXJKCQQFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LGPAKRMZNPYPMG-UHFFFAOYSA-N (3-hydroxy-2-prop-2-enoyloxypropyl) prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC(CO)COC(=O)C=C LGPAKRMZNPYPMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AFVDZBIIBXWASR-AATRIKPKSA-N (E)-1,3,5-hexatriene Chemical compound C=C\C=C\C=C AFVDZBIIBXWASR-AATRIKPKSA-N 0.000 description 1
- XHXSXTIIDBZEKB-UHFFFAOYSA-N 1,2,3,4,5,6,7,8-octamethylanthracene-9,10-dione Chemical group CC1=C(C)C(C)=C2C(=O)C3=C(C)C(C)=C(C)C(C)=C3C(=O)C2=C1C XHXSXTIIDBZEKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CGXVUIBINWTLNT-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-tris(ethenoxy)propane Chemical compound C=COCC(OC=C)COC=C CGXVUIBINWTLNT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WVAFEFUPWRPQSY-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-tris(ethenyl)benzene Chemical compound C=CC1=CC=CC(C=C)=C1C=C WVAFEFUPWRPQSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 1,2,6-trimethylphenanthrene Chemical compound CC1=CC=C2C3=CC(C)=CC=C3C=CC2=C1C MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZXHDVRATSGZISC-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(ethenoxy)ethane Chemical compound C=COCCOC=C ZXHDVRATSGZISC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WDCYWAQPCXBPJA-UHFFFAOYSA-N 1,3-dinitrobenzene Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=CC([N+]([O-])=O)=C1 WDCYWAQPCXBPJA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PXGZQGDTEZPERC-UHFFFAOYSA-N 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1CCC(C(O)=O)CC1 PXGZQGDTEZPERC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BOCJQSFSGAZAPQ-UHFFFAOYSA-N 1-chloroanthracene-9,10-dione Chemical compound O=C1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=CC=C2Cl BOCJQSFSGAZAPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HSKPJQYAHCKJQC-UHFFFAOYSA-N 1-ethylanthracene-9,10-dione Chemical group O=C1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=CC=C2CC HSKPJQYAHCKJQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RUFPHBVGCFYCNW-UHFFFAOYSA-N 1-naphthylamine Chemical compound C1=CC=C2C(N)=CC=CC2=C1 RUFPHBVGCFYCNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WAXMTENYNOYEBU-UHFFFAOYSA-N 1-phenylanthracene-9,10-dione Chemical compound O=C1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=CC=C2C1=CC=CC=C1 WAXMTENYNOYEBU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VOBUAPTXJKMNCT-UHFFFAOYSA-N 1-prop-2-enoyloxyhexyl prop-2-enoate Chemical compound CCCCCC(OC(=O)C=C)OC(=O)C=C VOBUAPTXJKMNCT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NEBBLNDVSSWJLL-UHFFFAOYSA-N 2,3-bis(2-methylprop-2-enoyloxy)propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(OC(=O)C(C)=C)COC(=O)C(C)=C NEBBLNDVSSWJLL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KIJPZYXCIHZVGP-UHFFFAOYSA-N 2,3-dimethylanthracene-9,10-dione Chemical compound O=C1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=C(C)C(C)=C2 KIJPZYXCIHZVGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RKYJPYDJNQXILT-UHFFFAOYSA-N 2-(2-prop-2-enoyloxyethoxycarbonyl)benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCOC(=O)C=C RKYJPYDJNQXILT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJIXRGNQPBQWMK-UHFFFAOYSA-N 2-(diethylamino)ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCN(CC)CCOC(=O)C(C)=C SJIXRGNQPBQWMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DPBJAVGHACCNRL-UHFFFAOYSA-N 2-(dimethylamino)ethyl prop-2-enoate Chemical compound CN(C)CCOC(=O)C=C DPBJAVGHACCNRL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HWSSEYVMGDIFMH-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-(2-methylprop-2-enoyloxy)ethoxy]ethoxy]ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOCCOCCOC(=O)C(C)=C HWSSEYVMGDIFMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LTHJXDSHSVNJKG-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-[2-(2-methylprop-2-enoyloxy)ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOCCOCCOCCOC(=O)C(C)=C LTHJXDSHSVNJKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YQZHOBBQNFBTJE-UHFFFAOYSA-N 2-chloro-3-methylanthracene-9,10-dione Chemical compound O=C1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=C(C)C(Cl)=C2 YQZHOBBQNFBTJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FPKCTSIVDAWGFA-UHFFFAOYSA-N 2-chloroanthracene-9,10-dione Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(Cl)=CC=C3C(=O)C2=C1 FPKCTSIVDAWGFA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HGPNKTHAVDVUNT-UHFFFAOYSA-N 2-dodecylpyridine;hydrochloride Chemical compound [Cl-].CCCCCCCCCCCCC1=CC=CC=[NH+]1 HGPNKTHAVDVUNT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJEBAWHUJDUKQK-UHFFFAOYSA-N 2-ethylanthraquinone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(CC)=CC=C3C(=O)C2=C1 SJEBAWHUJDUKQK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CKKQLOUBFINSIB-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-1,2,2-triphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(C=1C=CC=CC=1)(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 CKKQLOUBFINSIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DIVXVZXROTWKIH-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-1,2-diphenylpropan-1-one Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(O)(C)C(=O)C1=CC=CC=C1 DIVXVZXROTWKIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TURITJIWSQEMDB-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-n-[(2-methylprop-2-enoylamino)methyl]prop-2-enamide Chemical compound CC(=C)C(=O)NCNC(=O)C(C)=C TURITJIWSQEMDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VSKJLJHPAFKHBX-UHFFFAOYSA-N 2-methylbuta-1,3-diene;styrene Chemical compound CC(=C)C=C.C=CC1=CC=CC=C1.C=CC1=CC=CC=C1 VSKJLJHPAFKHBX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NTZCFGZBDDCNHI-UHFFFAOYSA-N 2-phenylanthracene-9,10-dione Chemical compound C=1C=C2C(=O)C3=CC=CC=C3C(=O)C2=CC=1C1=CC=CC=C1 NTZCFGZBDDCNHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BCHZICNRHXRCHY-UHFFFAOYSA-N 2h-oxazine Chemical compound N1OC=CC=C1 BCHZICNRHXRCHY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BJEMXPVDXFSROA-UHFFFAOYSA-N 3-butylbenzene-1,2-diol Chemical group CCCCC1=CC=CC(O)=C1O BJEMXPVDXFSROA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MWKAGZWJHCTVJY-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxyoctadecan-2-one Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC(O)C(C)=O MWKAGZWJHCTVJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IKQUUYYDRTYXAP-UHFFFAOYSA-N 3-methylpenta-1,4-diene Chemical compound C=CC(C)C=C IKQUUYYDRTYXAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 4,4'-sulfonyldiphenol Chemical class C1=CC(O)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(O)C=C1 VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JHWGFJBTMHEZME-UHFFFAOYSA-N 4-prop-2-enoyloxybutyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCCCOC(=O)C=C JHWGFJBTMHEZME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LVGFPWDANALGOY-UHFFFAOYSA-N 8-methylnonyl prop-2-enoate Chemical compound CC(C)CCCCCCCOC(=O)C=C LVGFPWDANALGOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 101100493647 Arabidopsis thaliana HPGT2 gene Proteins 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N Butylhydroxytoluene Chemical compound CC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 1
- 229920003043 Cellulose fiber Polymers 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical group [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021591 Copper(I) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920000742 Cotton Polymers 0.000 description 1
- XZMCDFZZKTWFGF-UHFFFAOYSA-N Cyanamide Chemical compound NC#N XZMCDFZZKTWFGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004641 Diallyl-phthalate Substances 0.000 description 1
- BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N Epichlorohydrin Chemical compound ClCC1CO1 BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001856 Ethyl cellulose Substances 0.000 description 1
- ZZSNKZQZMQGXPY-UHFFFAOYSA-N Ethyl cellulose Chemical compound CCOCC1OC(OC)C(OCC)C(OCC)C1OC1C(O)C(O)C(OC)C(CO)O1 ZZSNKZQZMQGXPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000287227 Fringillidae Species 0.000 description 1
- 239000004705 High-molecular-weight polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000004831 Hot glue Substances 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930192627 Naphthoquinone Natural products 0.000 description 1
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000297 Rayon Polymers 0.000 description 1
- DBMJMQXJHONAFJ-UHFFFAOYSA-M Sodium laurylsulphate Chemical compound [Na+].CCCCCCCCCCCCOS([O-])(=O)=O DBMJMQXJHONAFJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 244000028419 Styrax benzoin Species 0.000 description 1
- 235000000126 Styrax benzoin Nutrition 0.000 description 1
- 235000008411 Sumatra benzointree Nutrition 0.000 description 1
- QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N Vinyl ether Chemical class C=COC=C QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CO)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 150000001241 acetals Chemical class 0.000 description 1
- IYKJEILNJZQJPU-UHFFFAOYSA-N acetic acid;butanedioic acid Chemical compound CC(O)=O.OC(=O)CCC(O)=O IYKJEILNJZQJPU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 235000011037 adipic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000001361 adipic acid Substances 0.000 description 1
- 238000007605 air drying Methods 0.000 description 1
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- HQPCSDADVLFHHO-LTKCOYKYSA-N all-cis-8,11,14,17-icosatetraenoic acid Chemical compound CC\C=C/C\C=C/C\C=C/C\C=C/CCCCCCC(O)=O HQPCSDADVLFHHO-LTKCOYKYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001870 ammonium persulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N anthraquinone Natural products CCC(=O)c1c(O)c2C(=O)C3C(C=CC=C3O)C(=O)c2cc1CC(=O)OC PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004056 anthraquinones Chemical class 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 239000008346 aqueous phase Substances 0.000 description 1
- 239000003125 aqueous solvent Substances 0.000 description 1
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical class C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012965 benzophenone Chemical class 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229950011260 betanaphthol Drugs 0.000 description 1
- QRHCILLLMDEFSD-UHFFFAOYSA-N bis(ethenyl)-dimethylsilane Chemical compound C=C[Si](C)(C)C=C QRHCILLLMDEFSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QUDWYFHPNIMBFC-UHFFFAOYSA-N bis(prop-2-enyl) benzene-1,2-dicarboxylate Chemical compound C=CCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC=C QUDWYFHPNIMBFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001273 butane Substances 0.000 description 1
- CDQSJQSWAWPGKG-UHFFFAOYSA-N butane-1,1-diol Chemical group CCCC(O)O CDQSJQSWAWPGKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N butane-1,4-diol Chemical compound OCCCCO WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WFYPICNXBKQZGB-UHFFFAOYSA-N butenyne Chemical group C=CC#C WFYPICNXBKQZGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000010354 butylated hydroxytoluene Nutrition 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 1
- 229920006217 cellulose acetate butyrate Polymers 0.000 description 1
- 229920003086 cellulose ether Polymers 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- XENVCRGQTABGKY-ZHACJKMWSA-N chlorohydrin Chemical compound CC#CC#CC#CC#C\C=C\C(Cl)CO XENVCRGQTABGKY-ZHACJKMWSA-N 0.000 description 1
- 238000005345 coagulation Methods 0.000 description 1
- 230000015271 coagulation Effects 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Chemical group 0.000 description 1
- OXBLHERUFWYNTN-UHFFFAOYSA-M copper(I) chloride Chemical compound [Cu]Cl OXBLHERUFWYNTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229940045803 cuprous chloride Drugs 0.000 description 1
- WQPDQJCBHQPNCZ-UHFFFAOYSA-N cyclohexa-2,4-dien-1-one Chemical class O=C1CC=CC=C1 WQPDQJCBHQPNCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000000113 differential scanning calorimetry Methods 0.000 description 1
- 239000000539 dimer Substances 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- AFOSIXZFDONLBT-UHFFFAOYSA-N divinyl sulfone Chemical compound C=CS(=O)(=O)C=C AFOSIXZFDONLBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- IYNRVIKPUTZSOR-HWKANZROSA-N ethenyl (e)-but-2-enoate Chemical compound C\C=C\C(=O)OC=C IYNRVIKPUTZSOR-HWKANZROSA-N 0.000 description 1
- FFYWKOUKJFCBAM-UHFFFAOYSA-N ethenyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC=C FFYWKOUKJFCBAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BLCTWBJQROOONQ-UHFFFAOYSA-N ethenyl prop-2-enoate Chemical compound C=COC(=O)C=C BLCTWBJQROOONQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)=C SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000010944 ethyl methyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 239000005038 ethylene vinyl acetate Substances 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 235000003891 ferrous sulphate Nutrition 0.000 description 1
- 239000011790 ferrous sulphate Substances 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 238000004108 freeze drying Methods 0.000 description 1
- 239000011491 glass wool Substances 0.000 description 1
- VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N glycidyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1CO1 VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019382 gum benzoic Nutrition 0.000 description 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AUBDSFLQOBEOPX-UHFFFAOYSA-N hexa-1,5-dien-3-yne Chemical group C=CC#CC=C AUBDSFLQOBEOPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- BAUYGSIQEAFULO-UHFFFAOYSA-L iron(2+) sulfate (anhydrous) Chemical compound [Fe+2].[O-]S([O-])(=O)=O BAUYGSIQEAFULO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910000359 iron(II) sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- CDOSHBSSFJOMGT-UHFFFAOYSA-N linalool Chemical compound CC(C)=CCCC(C)(O)C=C CDOSHBSSFJOMGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N methacrylamide Chemical class CC(=C)C(N)=O FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005395 methacrylic acid group Chemical class 0.000 description 1
- YDKNBNOOCSNPNS-UHFFFAOYSA-N methyl 1,3-benzoxazole-2-carboxylate Chemical compound C1=CC=C2OC(C(=O)OC)=NC2=C1 YDKNBNOOCSNPNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000609 methyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 229940050176 methyl chloride Drugs 0.000 description 1
- 239000001923 methylcellulose Substances 0.000 description 1
- 235000010981 methylcellulose Nutrition 0.000 description 1
- 229920003087 methylethyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- ZIUHHBKFKCYYJD-UHFFFAOYSA-N n,n'-methylenebisacrylamide Chemical compound C=CC(=O)NCNC(=O)C=C ZIUHHBKFKCYYJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000740 n-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 1
- 125000000018 nitroso group Chemical group N(=O)* 0.000 description 1
- 231100000989 no adverse effect Toxicity 0.000 description 1
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N p-methoxyphenol Chemical group COC1=CC=C(O)C=C1 NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004806 packaging method and process Methods 0.000 description 1
- 238000010422 painting Methods 0.000 description 1
- 239000000123 paper Substances 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WRAQQYDMVSCOTE-UHFFFAOYSA-N phenyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC1=CC=CC=C1 WRAQQYDMVSCOTE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 1
- 230000003300 photodamaging effect Effects 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 229920001483 poly(ethyl methacrylate) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920001200 poly(ethylene-vinyl acetate) Polymers 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 description 1
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 1
- 229920000151 polyglycol Polymers 0.000 description 1
- 239000010695 polyglycol Substances 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 229920001195 polyisoprene Polymers 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920005996 polystyrene-poly(ethylene-butylene)-polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 229920001290 polyvinyl ester Polymers 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- FBCQUCJYYPMKRO-UHFFFAOYSA-N prop-2-enyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC=C FBCQUCJYYPMKRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940079877 pyrogallol Drugs 0.000 description 1
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 1
- 239000001044 red dye Substances 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 239000012744 reinforcing agent Substances 0.000 description 1
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 1
- 239000005060 rubber Substances 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 230000001235 sensitizing effect Effects 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 235000019333 sodium laurylsulphate Nutrition 0.000 description 1
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 229920002994 synthetic fiber Polymers 0.000 description 1
- 229920001059 synthetic polymer Polymers 0.000 description 1
- ISXSCDLOGDJUNJ-UHFFFAOYSA-N tert-butyl prop-2-enoate Chemical compound CC(C)(C)OC(=O)C=C ISXSCDLOGDJUNJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000930 thermomechanical effect Effects 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
- 229920001567 vinyl ester resin Polymers 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61P—SPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
- A61P13/00—Drugs for disorders of the urinary system
- A61P13/02—Drugs for disorders of the urinary system of urine or of the urinary tract, e.g. urine acidifiers
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61P—SPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
- A61P15/00—Drugs for genital or sexual disorders; Contraceptives
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61P—SPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
- A61P35/00—Antineoplastic agents
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61P—SPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
- A61P35/00—Antineoplastic agents
- A61P35/02—Antineoplastic agents specific for leukemia
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61P—SPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
- A61P37/00—Drugs for immunological or allergic disorders
- A61P37/08—Antiallergic agents
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61P—SPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
- A61P43/00—Drugs for specific purposes, not provided for in groups A61P1/00-A61P41/00
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の分野〕
本発明はフレキソ印刷版の製法、更に詳細には、写真速
度及び接着性のような他の性質に悪影響を与えずKこの
版が増大した柔軟性を有するようなこれらの版の製法に
関する。
度及び接着性のような他の性質に悪影響を与えずKこの
版が増大した柔軟性を有するようなこれらの版の製法に
関する。
フレキソ印刷は、感光性重合体を用いて次の方式で実施
される。フレキソ印刷構成要素の感光性層を紫外線を使
用して像様露光する。適当な溶媒を使用して非露光区域
を洗い落す。蒸発によって溶媒を除去し、所要の場合に
は、タックを除去するために表面を処理する。感圧性二
重被覆接着剤チーf(版シリンダーを回って包み、それ
忙固着されている)を使用して版をプレスにのせる。次
にこの版を接着剤と密に接触させてテープの外面を回っ
て包み、それに固着させる。版が十分柔軟性でない場合
には、版は接着剤から分離、即ち脱層(delamin
ate) して不良印刷を生じる傾向があり、版シリン
ダ〜・から完全に分離して印刷されない可能性がある。
される。フレキソ印刷構成要素の感光性層を紫外線を使
用して像様露光する。適当な溶媒を使用して非露光区域
を洗い落す。蒸発によって溶媒を除去し、所要の場合に
は、タックを除去するために表面を処理する。感圧性二
重被覆接着剤チーf(版シリンダーを回って包み、それ
忙固着されている)を使用して版をプレスにのせる。次
にこの版を接着剤と密に接触させてテープの外面を回っ
て包み、それに固着させる。版が十分柔軟性でない場合
には、版は接着剤から分離、即ち脱層(delamin
ate) して不良印刷を生じる傾向があり、版シリン
ダ〜・から完全に分離して印刷されない可能性がある。
かくして、版は、周りを包んで固着されたままであるよ
うに十分柔軟性であることが重要である。
うに十分柔軟性であることが重要である。
種々の靭性度を有する種々の光重合性組成物がフレキソ
印刷版をつくるのに使用されている。
印刷版をつくるのに使用されている。
これらの組成物は、それらが現像される溶媒の型に従っ
て、即ち有機溶媒可溶性であるか又は水溶性であるかK
よって分類され、それらは通常1)付加重合性非ガス状
エチレン系不飽和単量体、2)化学放射!によって活性
化される光開始剤又は光開始系及び3)重合された共役
ジエン単量体よりなる熱可塑性エラストマーの重合体結
合剤よりなる。光重合性層は、Plambeckの米国
特許2,760,863.Chenらの米国特許4.3
23.636、Todaらの米国特許4,045.23
1 、He1nzらの米国特許4,520.188に教
示されている。これらの組成物はすべて同じ欠陥を有す
る、即ちそれらはこれらの組成物からつくられる版に十
分な柔軟度を与えない。これらの感光性組成物からつく
られる版は、それらが固着されているシリンダーから外
れる傾向を有する。
て、即ち有機溶媒可溶性であるか又は水溶性であるかK
よって分類され、それらは通常1)付加重合性非ガス状
エチレン系不飽和単量体、2)化学放射!によって活性
化される光開始剤又は光開始系及び3)重合された共役
ジエン単量体よりなる熱可塑性エラストマーの重合体結
合剤よりなる。光重合性層は、Plambeckの米国
特許2,760,863.Chenらの米国特許4.3
23.636、Todaらの米国特許4,045.23
1 、He1nzらの米国特許4,520.188に教
示されている。これらの組成物はすべて同じ欠陥を有す
る、即ちそれらはこれらの組成物からつくられる版に十
分な柔軟度を与えない。これらの感光性組成物からつく
られる版は、それらが固着されているシリンダーから外
れる傾向を有する。
米国特許4.523.636は、感光性の溶媒可溶性構
成要素を与える、溶媒可溶性熱可塑性エラストマーのブ
ロック共重合体を教示し、これは文字プレス印刷用フレ
キソ印刷レリーフをつくるのに有用である。それらのブ
ロック共重合体は、25℃を超えるガラス転移温度を有
する少なくとも2つの熱可塑性非エラストマー重合体ブ
ロック及び該熱可塑性非エラストマーブロックの間に、
10℃未満のガラス転移温度を有するエラストマー重合
体ブロックを有している。本質的に非光散乱性の混合物
を確保するためにこの単量体は、共重合体のいずれか一
方のブロック、好適にはエラストマーブロックと配合性
であるべきであることも教示されている。フレキソ印刷
レリーフ印刷版用に有用である。エラストマーブロック
共重合体を含有する他の光重合性組成物が米国特許4,
41,417及び4,045,231に教示されている
。
成要素を与える、溶媒可溶性熱可塑性エラストマーのブ
ロック共重合体を教示し、これは文字プレス印刷用フレ
キソ印刷レリーフをつくるのに有用である。それらのブ
ロック共重合体は、25℃を超えるガラス転移温度を有
する少なくとも2つの熱可塑性非エラストマー重合体ブ
ロック及び該熱可塑性非エラストマーブロックの間に、
10℃未満のガラス転移温度を有するエラストマー重合
体ブロックを有している。本質的に非光散乱性の混合物
を確保するためにこの単量体は、共重合体のいずれか一
方のブロック、好適にはエラストマーブロックと配合性
であるべきであることも教示されている。フレキソ印刷
レリーフ印刷版用に有用である。エラストマーブロック
共重合体を含有する他の光重合性組成物が米国特許4,
41,417及び4,045,231に教示されている
。
光重合性構成要素及びレリーフ印刷版を製造する際のそ
れらの使用法は当該技術、米国特許−2,760,86
5、米国特許5,556,791.米国特許へ798.
035.米国特許へ825,430及び米国特許5.9
5L657において周知である。
れらの使用法は当該技術、米国特許−2,760,86
5、米国特許5,556,791.米国特許へ798.
035.米国特許へ825,430及び米国特許5.9
5L657において周知である。
本発明は、
a)熱可塑性及びエラストマー領域を有する結合剤、結
合剤の両領域と若干の配合性を有する第1の付加重合性
エチレン系不飽和単量体。
合剤の両領域と若干の配合性を有する第1の付加重合性
エチレン系不飽和単量体。
並びに付加重合開始剤又は開始系よりなる感光性組成物
の層を化学放射線に像様露光し、b)非露光部分を除去
し、そして C)後現像処理を施こす ことよりなるフレキソ印刷感光性構成要素であって、改
良点として少なくとも1つの追加のエチレン系不飽和単
量体を、単量体の全重量を基にして第1の単量体対追加
の単量体の比が1:4〜4:1の範囲になるよ5に添加
し、該追加の単量体が結合剤のエラストマー領域と実質
的に非配合性である場合には1層を画像露光する前に該
追加の単量体が感光性組成物に添加されることによりフ
レキソ印刷用レリーフの柔軟性を増大させることよりな
る構成要素(element)からフレキソ印刷用レリ
ーフの製法に関する。他の1面においては、本発明はな
かんずく結合剤のエラストマー領域と実質的に非配合性
である追加のエチレン系不飽和単量体よりなるフレキソ
印刷感光性構成要素にも関する。
の層を化学放射線に像様露光し、b)非露光部分を除去
し、そして C)後現像処理を施こす ことよりなるフレキソ印刷感光性構成要素であって、改
良点として少なくとも1つの追加のエチレン系不飽和単
量体を、単量体の全重量を基にして第1の単量体対追加
の単量体の比が1:4〜4:1の範囲になるよ5に添加
し、該追加の単量体が結合剤のエラストマー領域と実質
的に非配合性である場合には1層を画像露光する前に該
追加の単量体が感光性組成物に添加されることによりフ
レキソ印刷用レリーフの柔軟性を増大させることよりな
る構成要素(element)からフレキソ印刷用レリ
ーフの製法に関する。他の1面においては、本発明はな
かんずく結合剤のエラストマー領域と実質的に非配合性
である追加のエチレン系不飽和単量体よりなるフレキソ
印刷感光性構成要素にも関する。
本発明において使用するのに適している結合剤は2つの
領域−エラストマー領域及び熱可塑性領域を有する。こ
れらは溶媒可溶性又は水性又は半水性処理可能であるこ
とができる。ブロック共重合体が所要の領域構造を有す
るかぎり。
領域−エラストマー領域及び熱可塑性領域を有する。こ
れらは溶媒可溶性又は水性又は半水性処理可能であるこ
とができる。ブロック共重合体が所要の領域構造を有す
るかぎり。
いずれも本発明を実施するに当って適当である。
これらのブロック共重合体は、米国特許4.32′5.
636、米国特許4,430.417及び米国特許4,
045,231において論ぜられており(これらはすべ
て参照例として提示される)、使用することができる。
636、米国特許4,430.417及び米国特許4,
045,231において論ぜられており(これらはすべ
て参照例として提示される)、使用することができる。
5hall Chemical Company VC
よって製造されているKrabon@族のトリブロック
共重合体も本発明を実施するのに適している。Krat
on’ )リブロック共重合体は中心にエラストマーブ
ロック及び各末端に熱可塑性ブロックを有している。こ
れらのトリブロック共重合体は、3つの基本的な型の重
合体、ポリスチレン−ポリブタ、ジェンーポリスチレン
(8−B−8)、yt”リスチレンーボリイソプレンー
ポリスチレン(S−X−S)、或いはポリスチレン−ポ
リ(エチレンブチレン)−ポリスチレン(P−EB−8
)K分けることができる。好適なトリブロック共重合体
は5−B−3)リブロックである。
よって製造されているKrabon@族のトリブロック
共重合体も本発明を実施するのに適している。Krat
on’ )リブロック共重合体は中心にエラストマーブ
ロック及び各末端に熱可塑性ブロックを有している。こ
れらのトリブロック共重合体は、3つの基本的な型の重
合体、ポリスチレン−ポリブタ、ジェンーポリスチレン
(8−B−8)、yt”リスチレンーボリイソプレンー
ポリスチレン(S−X−S)、或いはポリスチレン−ポ
リ(エチレンブチレン)−ポリスチレン(P−EB−8
)K分けることができる。好適なトリブロック共重合体
は5−B−3)リブロックである。
ここで使用される用語の結合剤は、エラストマーの交さ
結合型コア及び熱可塑性の非交さ結合型シェルを有する
コアシェルミクロゲルな包含する。かくして、予め形成
された高分子の重合体及びエラストマーのコア及び熱可
塑性のシェルを有するコアシェルミクロゲルから全体が
構成されるコアシェルミクロゲル又は結合剤のブレンr
を含む結合剤を使用することができる。
結合型コア及び熱可塑性の非交さ結合型シェルを有する
コアシェルミクロゲルな包含する。かくして、予め形成
された高分子の重合体及びエラストマーのコア及び熱可
塑性のシェルを有するコアシェルミクロゲルから全体が
構成されるコアシェルミクロゲル又は結合剤のブレンr
を含む結合剤を使用することができる。
例えば、米国特許4.724877に開示されているミ
クロゲルは、エラストマーのコア及び熱可塑性の非交さ
結合型シェルを有していない故K、それらのミクロゲル
は本発明を実施するのに適していない。用語ミクロゲル
は、乳化重合によって製造される。α01〜tOミクロ
ンの粒子径をもつ、109〜10100程度のような高
い分子量の交さ結合型球形重合体分子を含む。好適には
。
クロゲルは、エラストマーのコア及び熱可塑性の非交さ
結合型シェルを有していない故K、それらのミクロゲル
は本発明を実施するのに適していない。用語ミクロゲル
は、乳化重合によって製造される。α01〜tOミクロ
ンの粒子径をもつ、109〜10100程度のような高
い分子量の交さ結合型球形重合体分子を含む。好適には
。
使用されるコアシェルミクロゲルは、10%未満の交さ
結合をコア中に有し、シェルは交さ結合されていない。
結合をコア中に有し、シェルは交さ結合されていない。
コアシェルミクロゲルは広く種々の出発物質からつくる
ことができる。便利には、ミクロゲルの大部分を製造す
る際モノエチレン系不飽和単量体が使用されるが、一方
丈さ結合剤は少なくとも2つの2重結合を有する。
ことができる。便利には、ミクロゲルの大部分を製造す
る際モノエチレン系不飽和単量体が使用されるが、一方
丈さ結合剤は少なくとも2つの2重結合を有する。
適当な単量体は、 01〜C1Bアルコールとのアクリ
ル酸及びメタクリル酸のエステルである。メチルメタク
リレート、エチルアクリレート、メタクリル酸、ブチル
メタクリレート、エチルメタクリレート、グリシジルメ
タクリレート、スチレン及びアリルメタクリレートを挙
げることができ、一方他の有用な単量体は、アクリロニ
トリル、メタクリレートリル、アクリル酸、ブタジェン
及び2−エチル−ヘキシルアクリレートを包含する。コ
アをつくるのに好適な単量体は2−エチル−ヘキシルア
クリレートである。
ル酸及びメタクリル酸のエステルである。メチルメタク
リレート、エチルアクリレート、メタクリル酸、ブチル
メタクリレート、エチルメタクリレート、グリシジルメ
タクリレート、スチレン及びアリルメタクリレートを挙
げることができ、一方他の有用な単量体は、アクリロニ
トリル、メタクリレートリル、アクリル酸、ブタジェン
及び2−エチル−ヘキシルアクリレートを包含する。コ
アをつくるのに好適な単量体は2−エチル−ヘキシルア
クリレートである。
他の適当な単量体は、ビニルエーテル及びビニルエステ
ル、アクリル酸及びメタクリル酸のニトリル及びアミr
を包含する。
ル、アクリル酸及びメタクリル酸のニトリル及びアミr
を包含する。
好適な交さ結合剤はブタン・ジオールシアクリv −)
(BDDA)であるが、他忙エチレングリコールジメ
タクリレート、テトラメチレングリコールジアクリレー
ト、トリメチロールプロノントリアクリレート、テトラ
エチレングリコールジメタクリレート、メチレンビスア
クリルアミP、メチレンビスメタクリルアミP、ジビニ
ルベンゼン、ビニルメタクリレート、ビニルクロトネー
ト、ビニルアクリレート、ビニルアセチレン。
(BDDA)であるが、他忙エチレングリコールジメ
タクリレート、テトラメチレングリコールジアクリレー
ト、トリメチロールプロノントリアクリレート、テトラ
エチレングリコールジメタクリレート、メチレンビスア
クリルアミP、メチレンビスメタクリルアミP、ジビニ
ルベンゼン、ビニルメタクリレート、ビニルクロトネー
ト、ビニルアクリレート、ビニルアセチレン。
トリビニルベンゼン、グリセリントリメタクリレート、
ペンタエリスリトールテトラメタクリレ−)、)+7ア
リルシアヌレート、ジビニルアセチレン、ジビニルエタ
ン、ジビニルサルファイP、ジビニルスルホン、ブタ・
ジエンのようなジエン、ヘキサトリエン、トリエチレン
クリコールジメタクリレート、リアリルシアナミド、グ
リコールジアクリレート、エチレングリコールジビニル
エーテル、・ジアリルフタレート、ジビニルジメチルシ
ラン、グリセロールトリビニルエーテル等が包含される
。
ペンタエリスリトールテトラメタクリレ−)、)+7ア
リルシアヌレート、ジビニルアセチレン、ジビニルエタ
ン、ジビニルサルファイP、ジビニルスルホン、ブタ・
ジエンのようなジエン、ヘキサトリエン、トリエチレン
クリコールジメタクリレート、リアリルシアナミド、グ
リコールジアクリレート、エチレングリコールジビニル
エーテル、・ジアリルフタレート、ジビニルジメチルシ
ラン、グリセロールトリビニルエーテル等が包含される
。
交さ結合は製造の間にコントロールされる。
かくして、10%未満の交さ結合をもつコアを有するコ
アシェルミクロゲルは、コアを交さ結合させるために1
0%又はそれ以下の交さ結合剤を使用することKよって
製造される。即ち、シェルをつくるために交さ結合剤は
使用されない。
アシェルミクロゲルは、コアを交さ結合させるために1
0%又はそれ以下の交さ結合剤を使用することKよって
製造される。即ち、シェルをつくるために交さ結合剤は
使用されない。
便利には、ミクロゲルの製造の際適している乳化剤及び
開始剤と共に1つ又はそれ以上の単量体及び交さ結合剤
を水に分散させる。常用のアニオン、カチオン又は非イ
オン系乳化剤及び水溶性開始剤を用いることができる。
開始剤と共に1つ又はそれ以上の単量体及び交さ結合剤
を水に分散させる。常用のアニオン、カチオン又は非イ
オン系乳化剤及び水溶性開始剤を用いることができる。
乳化剤の例は、ナトリウムラウリルサルフェート、ラウ
リルピリジンクロライP、ポリオキシエチレン、ポリオ
キシプロピレン、コロイP状シリカ、アニ−に7系有機
ホスフェート、マグネシウムモントリロナイト、1モル
のオクチルフェノールとの12〜13モルのエチレンオ
キサイPの反応生成物、二級ナトリウムアルキルサルフ
ェート及びこれらの混合物である。通常反応剤の全重量
を基にして125〜4%の乳化剤が使用される。
リルピリジンクロライP、ポリオキシエチレン、ポリオ
キシプロピレン、コロイP状シリカ、アニ−に7系有機
ホスフェート、マグネシウムモントリロナイト、1モル
のオクチルフェノールとの12〜13モルのエチレンオ
キサイPの反応生成物、二級ナトリウムアルキルサルフ
ェート及びこれらの混合物である。通常反応剤の全重量
を基にして125〜4%の乳化剤が使用される。
開始剤の例は、カリウムノーサルフェート、ナトリウム
パーサル7エート、アンモニウムパーサルフェート、三
級デチルハイPロノぐ−オキサイP、過酸化水素、アゾ
ビス(イソブチロニトリル)、アゾビス(イソブチロイ
ミジンハイドロクロライP)、過酸化水素及び硫酸第一
鉄及び周知のパーサルフエートービサルフエートの組合
せのようなレドックス(還元−酸化)系である。通常共
重合可能な単量体の重量を基にして(105〜5重量%
の開始剤が使用される。
パーサル7エート、アンモニウムパーサルフェート、三
級デチルハイPロノぐ−オキサイP、過酸化水素、アゾ
ビス(イソブチロニトリル)、アゾビス(イソブチロイ
ミジンハイドロクロライP)、過酸化水素及び硫酸第一
鉄及び周知のパーサルフエートービサルフエートの組合
せのようなレドックス(還元−酸化)系である。通常共
重合可能な単量体の重量を基にして(105〜5重量%
の開始剤が使用される。
本発明の実施に適しているミクロゲルは、米国特許3,
895,082に記載されているような乳化重合の技術
によって得ることができる(又、英国特許96ス051
が適当な方法を教示する)。この技術は、1セツトの単
量体を用いて反応を開始し、重合体のこの部分、即ちコ
アが重合体の他の部分、即ちシェルと異なった単量体組
成物である球形ミクロゲルを得るために反応の最終部分
について比を変えることKよって改質することもできる
。有機溶媒処理性が望ましくない場合には、水性処理性
用にシェルを設計することも可能である。このことはシ
ェルが酸改質された共重合体を含有するよ5にシェルを
構成することによってなされる。本発明の場合には、シ
ェルのガラス転移温度は10℃を超え、コアのガラス転
移温度は25℃未満であることが望ましい。かくして、
コアはエラストマーであると特性化することができ、一
方シエルは熱可塑性であると特性化することができる。
895,082に記載されているような乳化重合の技術
によって得ることができる(又、英国特許96ス051
が適当な方法を教示する)。この技術は、1セツトの単
量体を用いて反応を開始し、重合体のこの部分、即ちコ
アが重合体の他の部分、即ちシェルと異なった単量体組
成物である球形ミクロゲルを得るために反応の最終部分
について比を変えることKよって改質することもできる
。有機溶媒処理性が望ましくない場合には、水性処理性
用にシェルを設計することも可能である。このことはシ
ェルが酸改質された共重合体を含有するよ5にシェルを
構成することによってなされる。本発明の場合には、シ
ェルのガラス転移温度は10℃を超え、コアのガラス転
移温度は25℃未満であることが望ましい。かくして、
コアはエラストマーであると特性化することができ、一
方シエルは熱可塑性であると特性化することができる。
乳化重合の技術は、水相中分散された球形ミクロゲルな
得る反応条件に関して周知である。
得る反応条件に関して周知である。
この分散液をその11使用することができず、好ましく
ない不純物又は副生物を含有する場合には、ミクロゲル
な感光性組成物として使用する前に固体に変換すること
が通常必要である。
ない不純物又は副生物を含有する場合には、ミクロゲル
な感光性組成物として使用する前に固体に変換すること
が通常必要である。
この目的のために周知の凝固、p通、洗浄及び乾燥の技
術を用いてよい。凍結乾燥が本発明の場合特に有用な方
法である。一般にミクロゲル中文さ結合剤の量は、きク
ロゲルの全重量の20重量%、好適には10重量%未満
である。
術を用いてよい。凍結乾燥が本発明の場合特に有用な方
法である。一般にミクロゲル中文さ結合剤の量は、きク
ロゲルの全重量の20重量%、好適には10重量%未満
である。
コア対シェルの重量比は通常的4:1〜約1=4の範囲
である。
である。
適当な予め形成された高分子の重合体は次のものを包含
する。ポリアクリレート及びアルファーアルキルポリア
クリレートエステル、例えば、ポリメチルメタクリレー
ト及びポリエチルメタクリレート、ポリビニルエステル
、例エバ、ポリビニルアセテート、ポリビニルアセテー
ト/アクリレート、ポリビニルアセテート/メタクリレ
ート及び加水分解されたポリビニルアセテート、エチレ
ン/ビニルアセテート共重合体、ポリスチレン1合体及
び1例えば無水マレイン酸及びエステルとの共重合体、
ビニリデンクロライド共重合体1例えばビニリデンクロ
ライP/アセトニトリル、ビニリデンクロライP/メタ
クリレート及びビニリデンクロライド/ビニルアセテー
ト共重合体、ポリビニルクロライド及び共重合体、例え
ば、ポリビニルクロライP/アセテート、飽和及び不飽
和ポリウレタン、合成がム5例えば、ブタジェン/アク
リロニトリル、アクリロニトリル/ブタ・ジエン/スチ
レン、メタクリレート/アクリロニトリル/ブタジェン
/スチレン共重合体、2−クロロブタジェン−1,3−
重合体、塩素化ゴム、並びにスチレン/フタジエン/ス
チレン、スチレン/イソプレン/スチレンブロック共重
合体、約4,000〜1.0[]0.000の平均分子
量を有するポリグリコールの高分子量ポリエチレンオキ
サイP、エポキサイド、例えばアクリレート又はメタク
リレート基を有するエポキサイド、コポリエステル。
する。ポリアクリレート及びアルファーアルキルポリア
クリレートエステル、例えば、ポリメチルメタクリレー
ト及びポリエチルメタクリレート、ポリビニルエステル
、例エバ、ポリビニルアセテート、ポリビニルアセテー
ト/アクリレート、ポリビニルアセテート/メタクリレ
ート及び加水分解されたポリビニルアセテート、エチレ
ン/ビニルアセテート共重合体、ポリスチレン1合体及
び1例えば無水マレイン酸及びエステルとの共重合体、
ビニリデンクロライド共重合体1例えばビニリデンクロ
ライP/アセトニトリル、ビニリデンクロライP/メタ
クリレート及びビニリデンクロライド/ビニルアセテー
ト共重合体、ポリビニルクロライド及び共重合体、例え
ば、ポリビニルクロライP/アセテート、飽和及び不飽
和ポリウレタン、合成がム5例えば、ブタジェン/アク
リロニトリル、アクリロニトリル/ブタ・ジエン/スチ
レン、メタクリレート/アクリロニトリル/ブタジェン
/スチレン共重合体、2−クロロブタジェン−1,3−
重合体、塩素化ゴム、並びにスチレン/フタジエン/ス
チレン、スチレン/イソプレン/スチレンブロック共重
合体、約4,000〜1.0[]0.000の平均分子
量を有するポリグリコールの高分子量ポリエチレンオキ
サイP、エポキサイド、例えばアクリレート又はメタク
リレート基を有するエポキサイド、コポリエステル。
例えば式HO(cH2)nOH(式中nは2〜10の整
数である)のポリメチレングリコール、並びIc(1)
へキサヒドロテレフタル酸、セバシン酸及びテレフタル
酸、(2)テレフタル酸、イソフタル酸及びセパシン酸
、 (3)テレフタル酸及びセバシン酸。
数である)のポリメチレングリコール、並びIc(1)
へキサヒドロテレフタル酸、セバシン酸及びテレフタル
酸、(2)テレフタル酸、イソフタル酸及びセパシン酸
、 (3)テレフタル酸及びセバシン酸。
(4)テレフタル酸及びイソフタル酸及び(5)該グリ
コール及び(1)テレフタル酸、イソフタル酸及びセパ
シン酸及ヒ(II)テレフタル酸、セバシン酸及びアジ
ピン酸から製造されるコポリエステルの混合物の反応生
成物から製造されるもの、ナイロン又はポリアミP、例
えばN−メトキシメチルホリヘキサメチレンアシノタミ
P、セルロースエステル、例えハ、セルロースアセテー
ト、セルロースアセテートサクシネート及びセルロース
アセテートブチレート、セルロースエーテル、例えハ、
メチルセルロース、エチルセルロース及びベンジルセル
ロース、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール、例
えばポリビニルブチラール、ポリヒニルホルマール、ポ
リホルムアルデヒド。
コール及び(1)テレフタル酸、イソフタル酸及びセパ
シン酸及ヒ(II)テレフタル酸、セバシン酸及びアジ
ピン酸から製造されるコポリエステルの混合物の反応生
成物から製造されるもの、ナイロン又はポリアミP、例
えばN−メトキシメチルホリヘキサメチレンアシノタミ
P、セルロースエステル、例えハ、セルロースアセテー
ト、セルロースアセテートサクシネート及びセルロース
アセテートブチレート、セルロースエーテル、例えハ、
メチルセルロース、エチルセルロース及びベンジルセル
ロース、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール、例
えばポリビニルブチラール、ポリヒニルホルマール、ポ
リホルムアルデヒド。
感光性組成物の水性現像が望ましい場合には、結合剤は
水性現像液中組成物を処理可能にするのに十分な酸性そ
の他の基を含有するべきである。有用な水性処理可能な
結合剤は、米国特許3.45 B、511及び米国特許
4,273,857に開示されているものを含む。有用
な両性重合体は、N−アルキルアクリルアミド又はメタ
クリルアミド、酸性フィルム形成性共重合体及び米国特
許4.293,635に開示されているもののようなア
ルキル又はヒドロキシアルキルアクリレートを包含する
。
水性現像液中組成物を処理可能にするのに十分な酸性そ
の他の基を含有するべきである。有用な水性処理可能な
結合剤は、米国特許3.45 B、511及び米国特許
4,273,857に開示されているものを含む。有用
な両性重合体は、N−アルキルアクリルアミド又はメタ
クリルアミド、酸性フィルム形成性共重合体及び米国特
許4.293,635に開示されているもののようなア
ルキル又はヒドロキシアルキルアクリレートを包含する
。
結合剤は、感光性組成物の少なくとも35重量%で存在
する。
する。
配合性(compatibili ty)とは認められ
る化学放射1Is(actinic radiatio
n)の散乱をおこすことなしVC2つ又はそれ以上の成
分が互に分散状態に保たれる能力を意味する。
る化学放射1Is(actinic radiatio
n)の散乱をおこすことなしVC2つ又はそれ以上の成
分が互に分散状態に保たれる能力を意味する。
第1の単量体又は追加の単量体として適当な単量体の選
択は実施例1に記載される配合性試験を使用することに
よって決定される。同様な試験がHandbook o
f Adhesives、 2版、307頁I ll5
keist編、 Van No5trand Re1n
hold Co、 (1977)(参照用として提示さ
れる)に記載されている。
択は実施例1に記載される配合性試験を使用することに
よって決定される。同様な試験がHandbook o
f Adhesives、 2版、307頁I ll5
keist編、 Van No5trand Re1n
hold Co、 (1977)(参照用として提示さ
れる)に記載されている。
実施例1及び&ndbook of Adhesive
sの配合性試験に記載されている試験は共に、どの領域
とある単量体が配合性であるかを定性的に決定する。
sの配合性試験に記載されている試験は共に、どの領域
とある単量体が配合性であるかを定性的に決定する。
乾燥されたフィルムの透明性は相互の可溶性を示す。ヘ
イズは若干の配合性を示す。不透明なフィルムは実質的
な非配合性を示す。
イズは若干の配合性を示す。不透明なフィルムは実質的
な非配合性を示す。
上に論じられた米国特許4,525,636は、エチレ
ン系不飽和単量体が結合剤中使用されるブロック共重合
体のいずれかのブロックと配合性である時、本質的に非
光散乱性の混合物を確保することができることを教示し
ている。それは、包装工業における印刷に使用されるこ
とが多い小型シリンダーに固着状態に保たれるのに十分
な程度の柔軟性を有する更に柔軟性の印刷構成要素を得
る方法を教示していない。
ン系不飽和単量体が結合剤中使用されるブロック共重合
体のいずれかのブロックと配合性である時、本質的に非
光散乱性の混合物を確保することができることを教示し
ている。それは、包装工業における印刷に使用されるこ
とが多い小型シリンダーに固着状態に保たれるのに十分
な程度の柔軟性を有する更に柔軟性の印刷構成要素を得
る方法を教示していない。
驚くべきことに又予期に反して結合剤の画構成要素と配
合性である第1の単量体及び結合剤のエラストマー領域
と実質的に非配合性である少なくとも1つの追加の単量
体の混合物を使用することにより、写真速度、低温流れ
に対する抵抗性等のよ5な他の性質に悪影響を及ぼすこ
となしに、更に柔軟性のフレキソ印刷板を得ることがで
きることが発見された。第1の単量体対追加の単量体の
比は通常1:4〜4:1の範囲である。
合性である第1の単量体及び結合剤のエラストマー領域
と実質的に非配合性である少なくとも1つの追加の単量
体の混合物を使用することにより、写真速度、低温流れ
に対する抵抗性等のよ5な他の性質に悪影響を及ぼすこ
となしに、更に柔軟性のフレキソ印刷板を得ることがで
きることが発見された。第1の単量体対追加の単量体の
比は通常1:4〜4:1の範囲である。
ここに挙げられる追加の単量体は硬質重合体を生じるこ
とが知られ、かくして印刷版の柔軟性を低下させること
が予期されたのでこの発見は驚くべきでありかつ予期に
反している。
とが知られ、かくして印刷版の柔軟性を低下させること
が予期されたのでこの発見は驚くべきでありかつ予期に
反している。
上述し、又実施例1中の配合試験の外K、3つの技術、
熱機械分析(TMA) 、動的機械分析(DMA)及び
示差走査カロリメトリー(Dec)のいずれか1つを使
用することにより、どの領域中に単量体が主に分布した
かを評価することによって配合性を決定することが可能
である。これらの技術はガラス転移温度によって別個の
領域を同定するために異なった重合体の性質を調べる。
熱機械分析(TMA) 、動的機械分析(DMA)及び
示差走査カロリメトリー(Dec)のいずれか1つを使
用することにより、どの領域中に単量体が主に分布した
かを評価することによって配合性を決定することが可能
である。これらの技術はガラス転移温度によって別個の
領域を同定するために異なった重合体の性質を調べる。
DECは重合体の熱容量を調べる。TMAはガラス転移
温度より上の重合体の自由容積を調べる。DMAは重合
体のモジュールの変化を調べる。
温度より上の重合体の自由容積を調べる。DMAは重合
体のモジュールの変化を調べる。
単量体がある領域に実質的に分布した時には、ガラス転
移温度の低下が観察されるべきである。
移温度の低下が観察されるべきである。
第1の単量体の場合には、結合の両領域が影響されるべ
きであると考えられる。かくして、両領域のガラス転移
温度の低下が観察されるべきである。追加の単量体の場
1合には追加の単量体はエラストマー領域の外に分布し
ていると考えられる。追加の単量体は熱可塑性の領域に
主に分布しているか又はそれ自身の領域を形成している
。追加の単量体が評価される時には転移温度の低下がエ
ラストマーの領域につい【観察されるべきでない。
きであると考えられる。かくして、両領域のガラス転移
温度の低下が観察されるべきである。追加の単量体の場
1合には追加の単量体はエラストマー領域の外に分布し
ていると考えられる。追加の単量体は熱可塑性の領域に
主に分布しているか又はそれ自身の領域を形成している
。追加の単量体が評価される時には転移温度の低下がエ
ラストマーの領域につい【観察されるべきでない。
結合剤の領域の溶解性・々ラメーターに比して単量体の
溶解性ノ々ラメ−ターを評価することにより、単量体が
結合剤の特定の領域の方と配合性であるか否かを見積る
ことも可能である。重合体の溶解性パラメーター(sp
)は、重合体が(a)すべての割合で、(b)熱の効果
なしに、(c)容積の変化なしK、そして(d)反応又
はいずれの特別な随伴するものなしに混合される溶媒の
溶解性パラメーターと同じであると定義される。そこで
溶解性パラメーターは、固体又は液体の分子を結合させ
る全体の力の尺度である。一般的なアプローチは同じ溶
解性パラメーターを有する材料が混和性である傾向を有
することである。異なる溶解性パラメーターをもつもの
は互に不溶性である傾向を有する。例えば、Krato
−ポリブタジェン中間ブロック、即ちエラストマー領域
は約8.4の溶解性ノ9ラメ−ターを有し、ポリスチレ
ン領域は約91の溶解性・ぐラメ−ターを有する。熱可
塑性領域と配合性である単量体は91又はそれ以上の溶
解性・ぐラメ−ターを有すべきである。単量体がエラス
トマー領域の溶解性パラメーターより実質的に高い溶解
性パラメーターを有する場合には、それはエラストマー
領域と実質的に非配合性であることがありそうである。
溶解性ノ々ラメ−ターを評価することにより、単量体が
結合剤の特定の領域の方と配合性であるか否かを見積る
ことも可能である。重合体の溶解性パラメーター(sp
)は、重合体が(a)すべての割合で、(b)熱の効果
なしに、(c)容積の変化なしK、そして(d)反応又
はいずれの特別な随伴するものなしに混合される溶媒の
溶解性パラメーターと同じであると定義される。そこで
溶解性パラメーターは、固体又は液体の分子を結合させ
る全体の力の尺度である。一般的なアプローチは同じ溶
解性パラメーターを有する材料が混和性である傾向を有
することである。異なる溶解性パラメーターをもつもの
は互に不溶性である傾向を有する。例えば、Krato
−ポリブタジェン中間ブロック、即ちエラストマー領域
は約8.4の溶解性ノ9ラメ−ターを有し、ポリスチレ
ン領域は約91の溶解性・ぐラメ−ターを有する。熱可
塑性領域と配合性である単量体は91又はそれ以上の溶
解性・ぐラメ−ターを有すべきである。単量体がエラス
トマー領域の溶解性パラメーターより実質的に高い溶解
性パラメーターを有する場合には、それはエラストマー
領域と実質的に非配合性であることがありそうである。
第1の付加重合性エチレン系不飽和単量体として有用な
単量体は、遊離ラジカル開始型連鎖生長性付加重合によ
って高重合体を形成することができるべきであり、結合
剤の両領域と若干の配合性を有することができる。第1
の付加重合性重合体としてアルコールの不飽和エステル
、特にアルファーメチレンカルボン酸及び置換アルファ
ーメチレンカルボン酸の前記エステル、更に特にアルキ
レンポリオールの前記エステル、そして最も!VC2〜
15の炭素原子のアルキレンポリオールから製造される
アルキレンポリオールジー及びトリーアクリレート、エ
チレングリコールジアクリレート、グリセロールジアク
リレート、グリセロールトリアクリレート、エチレング
リコール・ジメタクリレート、1.3−プロノぐンジオ
ールジメタクリレート、 1.2.4− fタントリオ
ールトリメタクリレート、1.4−シクロヘキサンジオ
ールジアクリレート、1.4−ベンゼンジオールジメタ
クリレー)、1.2−ベンゼンジメタツールジアクリレ
ート、1.3− fロパンジオールジアクリレー)、
1.5−ヘキサンジオールジアクリレート、p−アルフ
ァ、アル7アージメチルベンジルフエニルアクリレート
、t−ブチルアクリレート、N、N−ジメチルアミノエ
チルアクリレート、N、N−ジエチルアミノエチルメタ
クリレート、1.4−ブタン・ジオールジアクリレート
、1.6−ヘキサンジオールジアクリレート、 1.1
0−デカンジオールジアクリレート、2.2−ジンチロ
ールデロノセンジアクリレート、1.4−ブタンジオー
ルジメタクリレート、1.6−ヘキサン・ジオールジメ
タクリレート、2.2.4− )ジメチル−1,5−ベ
ンタンジオールジメタクリレート、1−フェニルエチレ
ン−1,2−−7メタクリレート、エチレングリコール
アクリレートフタレート等が挙げられる。
単量体は、遊離ラジカル開始型連鎖生長性付加重合によ
って高重合体を形成することができるべきであり、結合
剤の両領域と若干の配合性を有することができる。第1
の付加重合性重合体としてアルコールの不飽和エステル
、特にアルファーメチレンカルボン酸及び置換アルファ
ーメチレンカルボン酸の前記エステル、更に特にアルキ
レンポリオールの前記エステル、そして最も!VC2〜
15の炭素原子のアルキレンポリオールから製造される
アルキレンポリオールジー及びトリーアクリレート、エ
チレングリコールジアクリレート、グリセロールジアク
リレート、グリセロールトリアクリレート、エチレング
リコール・ジメタクリレート、1.3−プロノぐンジオ
ールジメタクリレート、 1.2.4− fタントリオ
ールトリメタクリレート、1.4−シクロヘキサンジオ
ールジアクリレート、1.4−ベンゼンジオールジメタ
クリレー)、1.2−ベンゼンジメタツールジアクリレ
ート、1.3− fロパンジオールジアクリレー)、
1.5−ヘキサンジオールジアクリレート、p−アルフ
ァ、アル7アージメチルベンジルフエニルアクリレート
、t−ブチルアクリレート、N、N−ジメチルアミノエ
チルアクリレート、N、N−ジエチルアミノエチルメタ
クリレート、1.4−ブタン・ジオールジアクリレート
、1.6−ヘキサンジオールジアクリレート、 1.1
0−デカンジオールジアクリレート、2.2−ジンチロ
ールデロノセンジアクリレート、1.4−ブタンジオー
ルジメタクリレート、1.6−ヘキサン・ジオールジメ
タクリレート、2.2.4− )ジメチル−1,5−ベ
ンタンジオールジメタクリレート、1−フェニルエチレ
ン−1,2−−7メタクリレート、エチレングリコール
アクリレートフタレート等が挙げられる。
1.6−ヘキサンジオールジアクリレートが本発明の方
法を実施するのに好適な第1の付加単量体である。
法を実施するのに好適な第1の付加単量体である。
追加のエチレン系不飽和単量体として適している単量体
は、結合剤のエラストマー領域と実質的に非配合性であ
るべきである。このことは第1の単量体を選択するため
の上述した技術のいずれかを使用することによって決定
することができる。単量体がエラストマー領域と実質的
に非配合性である場合には、それは結合剤のエラストマ
ー領域の溶解性ノミラメ−ターを大きく超える溶解性パ
ラメーターを有すべきである。
は、結合剤のエラストマー領域と実質的に非配合性であ
るべきである。このことは第1の単量体を選択するため
の上述した技術のいずれかを使用することによって決定
することができる。単量体がエラストマー領域と実質的
に非配合性である場合には、それは結合剤のエラストマ
ー領域の溶解性ノミラメ−ターを大きく超える溶解性パ
ラメーターを有すべきである。
溶解性・ぞラメ−ターは多相系中成分の最終の配置につ
いて決定的ではないと理解されるべきである。これらは
成分が見出される場所の見込みKついて指針を与えるだ
けである。
いて決定的ではないと理解されるべきである。これらは
成分が見出される場所の見込みKついて指針を与えるだ
けである。
実施例1に詳述される配合性試験を使用して追加の単量
体として有用な単量体を選択した。
体として有用な単量体を選択した。
この試験において実質的に不透明なフィルムを生じるこ
とによってエラストマー結合剤溶液と反応するような単
量体は、結合剤のエラストマーのポリブタジェン領域と
実質的に非配合性である。上にノートされたようK、若
干の非配合性を有する成分は光を散乱するくもった混合
物を形成する。最光度の光散乱を有する不透明な混合物
は成分の実質的な非配合性を示す。
とによってエラストマー結合剤溶液と反応するような単
量体は、結合剤のエラストマーのポリブタジェン領域と
実質的に非配合性である。上にノートされたようK、若
干の非配合性を有する成分は光を散乱するくもった混合
物を形成する。最光度の光散乱を有する不透明な混合物
は成分の実質的な非配合性を示す。
次のものは、配合性試験によって決定された追加の単量
体として適していることが見出された単量体の例示であ
る。ペンタエリスリトールテトラアクリレ−) (PE
TA) 、 ・ジペンタエリスリトールモノヒPロキシ
ペンタアクリレート(DIPETA)%高デ四ポキシ化
グリセロールトリアクリレート、ビスフェノールのよう
な芳香族ボリヒPロキシ化合物から誘導されるジェポキ
シポリエーテルのジアクリレート及びジメタクリレート
エステル、米国特許3,6151,576中Crary
らによって記載されているもののようなノボラック及び
類似の化合物。DIPlli:TAは追加の単量体とし
て使用するのに好適な単量体である。実施例1中記載さ
れる配合性試験は、研究されている成分によって多数の
異なった単量体及び結合剤溶液について実施することが
できると理解されるべきである。例えば、ポリイソプレ
ン及びポリ(エチレンブチレン)を含有するエラストマ
ーの結合剤溶液を使用することができる。選択は感光性
組成物を処方する際興味がある結合剤によってきまる。
体として適していることが見出された単量体の例示であ
る。ペンタエリスリトールテトラアクリレ−) (PE
TA) 、 ・ジペンタエリスリトールモノヒPロキシ
ペンタアクリレート(DIPETA)%高デ四ポキシ化
グリセロールトリアクリレート、ビスフェノールのよう
な芳香族ボリヒPロキシ化合物から誘導されるジェポキ
シポリエーテルのジアクリレート及びジメタクリレート
エステル、米国特許3,6151,576中Crary
らによって記載されているもののようなノボラック及び
類似の化合物。DIPlli:TAは追加の単量体とし
て使用するのに好適な単量体である。実施例1中記載さ
れる配合性試験は、研究されている成分によって多数の
異なった単量体及び結合剤溶液について実施することが
できると理解されるべきである。例えば、ポリイソプレ
ン及びポリ(エチレンブチレン)を含有するエラストマ
ーの結合剤溶液を使用することができる。選択は感光性
組成物を処方する際興味がある結合剤によってきまる。
第1の単量体対追加の単量体の比は単量体の全重量を基
にして約1:4〜約4:1の範囲であることができるこ
とが見出されている。好適には、単量体の比は約1:1
又は最も好適には1:6である。それより望ましくない
が第1の単量体封筒2の単量体の比的3:1を有する処
方を用い【実施することが可能である。他の性質が悪影
響を受ける可能性があるので、追加の単量体を全部有し
そして第1の単量体を有さない組成物は避けるべきであ
る。
にして約1:4〜約4:1の範囲であることができるこ
とが見出されている。好適には、単量体の比は約1:1
又は最も好適には1:6である。それより望ましくない
が第1の単量体封筒2の単量体の比的3:1を有する処
方を用い【実施することが可能である。他の性質が悪影
響を受ける可能性があるので、追加の単量体を全部有し
そして第1の単量体を有さない組成物は避けるべきであ
る。
一般に、感光性組成物の重量を基にして少なくとも5%
の全単量体、即ち第1の単量体及び追加の単量体が存在
する。
の全単量体、即ち第1の単量体及び追加の単量体が存在
する。
エラストマー領域の外側の追加の単量体の分布はエラス
トマー領域の交さ結合を抑え、結合剤の熱可塑性領域か
らエラストマー領域中へ可塑剤(組成物中存在する場合
には)を追い出すと考えられる。少なくとも1つのエラ
ストマー領域と非配合性である単量体及び結合剤の両領
域と若干の配合性を有する単量体を選択することKよっ
て得られる驚くべきかつ予期に反した効果は、DIPE
TA、 PETA及び高プロキシ化グリセロールトリア
クリレート、ジアクリレート等のような単量体は光重合
させる時硬質重合体を生じるので、これらの重合体はこ
れらの重合体を含有する組成物からつくられる版の柔軟
性を著しく低下させることが期待されることである。
トマー領域の交さ結合を抑え、結合剤の熱可塑性領域か
らエラストマー領域中へ可塑剤(組成物中存在する場合
には)を追い出すと考えられる。少なくとも1つのエラ
ストマー領域と非配合性である単量体及び結合剤の両領
域と若干の配合性を有する単量体を選択することKよっ
て得られる驚くべきかつ予期に反した効果は、DIPE
TA、 PETA及び高プロキシ化グリセロールトリア
クリレート、ジアクリレート等のような単量体は光重合
させる時硬質重合体を生じるので、これらの重合体はこ
れらの重合体を含有する組成物からつくられる版の柔軟
性を著しく低下させることが期待されることである。
得られた版が増大した柔軟性を有するだけではなく、低
温流れに対する抵抗性、写真速度、接着等のような印刷
版の他の性質が悪影響を受けない。
温流れに対する抵抗性、写真速度、接着等のような印刷
版の他の性質が悪影響を受けない。
可塑剤を使用する場合には、それは結合剤のエラストマ
ー領域と配合性であるべきである。
ー領域と配合性であるべきである。
適当な可塑剤の例は、液状低分子量(MW<5000
)ポリブタジェン及び脂肪族炭化水素油である。
)ポリブタジェン及び脂肪族炭化水素油である。
可塑剤は使用される場合には感光性組成物の少なくとも
5重量%が通常存在する。
5重量%が通常存在する。
化学放射線によって活性化可能でありそして185℃以
下において熱的に不活性である好適な遊離ラジカル発生
性付加重合開始剤は、共役炭素環系中2つの環内炭素原
子を有する化合物である置換又は非置換多核キノン、例
えば9.10−アンスラキノン、1−クロロアンスラキ
ノン、2−クロロアンスラキノン、2−メチルアンスラ
キノン、2−エチルアンスラキノン、2−三級エチルア
ンスラキノン、オクタメチルアンス2キノン、1.4−
ナフトキノン、9.10−7エナンスレンキノン、1.
2−ベンズアンスラキノン、2.3−べ7ズアンスラキ
ノン、2−メチル−1,4−ナフトキノン、2.6−シ
クロロナフトキノン、i、4− ジメチルアンスラキノ
ン、2.3−ジメチルアンスラキノン、2−フェニルア
ンスラキノン、2.5−−/フェニルアンスラキノン、
アンスラキノンアルファースルホン酸のナトリウム塩、
3−クロロ−2−メチルアンスラキノン、レチンキノン
、7.8,9.10−テトラヒPローナフタセンキノン
、並びに1.2,3.4−テトラヒPロペンズ(a)ア
ンスラセン−7,12−・クオンを包含スる。
下において熱的に不活性である好適な遊離ラジカル発生
性付加重合開始剤は、共役炭素環系中2つの環内炭素原
子を有する化合物である置換又は非置換多核キノン、例
えば9.10−アンスラキノン、1−クロロアンスラキ
ノン、2−クロロアンスラキノン、2−メチルアンスラ
キノン、2−エチルアンスラキノン、2−三級エチルア
ンスラキノン、オクタメチルアンス2キノン、1.4−
ナフトキノン、9.10−7エナンスレンキノン、1.
2−ベンズアンスラキノン、2.3−べ7ズアンスラキ
ノン、2−メチル−1,4−ナフトキノン、2.6−シ
クロロナフトキノン、i、4− ジメチルアンスラキノ
ン、2.3−ジメチルアンスラキノン、2−フェニルア
ンスラキノン、2.5−−/フェニルアンスラキノン、
アンスラキノンアルファースルホン酸のナトリウム塩、
3−クロロ−2−メチルアンスラキノン、レチンキノン
、7.8,9.10−テトラヒPローナフタセンキノン
、並びに1.2,3.4−テトラヒPロペンズ(a)ア
ンスラセン−7,12−・クオンを包含スる。
同じく有用である他の光開始剤が、85℃の低温におい
て熱的に活性であるものもあるが、米国特許2,760
.863に記載され、ベンゾイン、ピパロインのような
隣位ケトアルPニルアルコール、アシロインエーテル、
例、t[ペンツインメチル及ヒエチルエーテル、アルフ
ァーメチルベンゾイン、アルファーベンゾイン及びアル
ファーフェニルベンゾインを含むアルファー炭化水素置
換芳香族アシロインを包含する。米国特許2.85α4
45 ; 2,875,047 : 3,09
ス096 ;3.074,974:並びに3,145,
104 K開示されている光還元性染料及び還元剤、並
びにツェナ・ジン、オキサジン、並びにキノン類の染料
、米国特許へ427.161 ; 3,479,185
:並びに3.549,367に記載されているMic
hlerのケトン、ベンゾフェノン、水素Pナーによる
2、4.5−トリフェニル−イミダゾリル2量体、並び
にそれらの混合物を開始剤として使用することができる
。同様に米国特許4,541,860のシクロヘキサジ
エノン化合物が開始剤として有用である。光開始剤及び
光障害剤と共に米国特許4,162.i 62に開示さ
れている増感剤も有用である。開始剤は感光性組成物の
重量を基にしてO,OO1%〜10.0%又はそれ以上
の量で存在する。
て熱的に活性であるものもあるが、米国特許2,760
.863に記載され、ベンゾイン、ピパロインのような
隣位ケトアルPニルアルコール、アシロインエーテル、
例、t[ペンツインメチル及ヒエチルエーテル、アルフ
ァーメチルベンゾイン、アルファーベンゾイン及びアル
ファーフェニルベンゾインを含むアルファー炭化水素置
換芳香族アシロインを包含する。米国特許2.85α4
45 ; 2,875,047 : 3,09
ス096 ;3.074,974:並びに3,145,
104 K開示されている光還元性染料及び還元剤、並
びにツェナ・ジン、オキサジン、並びにキノン類の染料
、米国特許へ427.161 ; 3,479,185
:並びに3.549,367に記載されているMic
hlerのケトン、ベンゾフェノン、水素Pナーによる
2、4.5−トリフェニル−イミダゾリル2量体、並び
にそれらの混合物を開始剤として使用することができる
。同様に米国特許4,541,860のシクロヘキサジ
エノン化合物が開始剤として有用である。光開始剤及び
光障害剤と共に米国特許4,162.i 62に開示さ
れている増感剤も有用である。開始剤は感光性組成物の
重量を基にしてO,OO1%〜10.0%又はそれ以上
の量で存在する。
光重合性組成物中使用することができる熱重合阻害剤は
次のものである。p−メトキシフェノール、ハイドロキ
ノン、並びにアルキル及びアリール置換)・イPロキノ
ン及びキノン、三級ブチルカテコール、ピロガロール、
銅レジネート、ナフチルアミン、ベーターナフトール、
塩化第一銅、2,6−ジー三級ブチル−p−クレゾール
、フェノチア・シン、ピリジン、ニトロベンゼン及びジ
ニトロベンゼン、p−)ルキノン及びフロラニール。米
国特許4,168,982に開示されているニトロソ組
成物も熱重合阻害剤のために有用である。阻害剤は通常
感光性組成物の少なくとも0.001重量%で存在する
。
次のものである。p−メトキシフェノール、ハイドロキ
ノン、並びにアルキル及びアリール置換)・イPロキノ
ン及びキノン、三級ブチルカテコール、ピロガロール、
銅レジネート、ナフチルアミン、ベーターナフトール、
塩化第一銅、2,6−ジー三級ブチル−p−クレゾール
、フェノチア・シン、ピリジン、ニトロベンゼン及びジ
ニトロベンゼン、p−)ルキノン及びフロラニール。米
国特許4,168,982に開示されているニトロソ組
成物も熱重合阻害剤のために有用である。阻害剤は通常
感光性組成物の少なくとも0.001重量%で存在する
。
適当な基材又は支持材料は次のものを包含する。金属、
例えばスチール及びアルミニウム板。
例えばスチール及びアルミニウム板。
付加重合体、特にビニルクロライド、ビニルアセテート
、スチレン、インブチレン及びアクリロニトリルとのビ
ニリデンクロライr共重合体。
、スチレン、インブチレン及びアクリロニトリルとのビ
ニリデンクロライr共重合体。
ビニルクロライP単独重合体及びビニルアセテート、ス
チレン、インブチレン及びアクリロニトリルとの共重合
体、ポリエステル、例えばポリエチレンテレフタレート
、ポリアミP、例えばポリへキサメチレンセパシアミP
のような線状縮合重合体、ボリイミ)+1、例えばFd
wardsに譲渡された米国特許ろ、179.t534
に開示されているフィルム及びポリニスデルアミド、例
えばボリヘキサメチレンジパミPア・ジイートのような
種々のフィルム形成性合成樹脂又は高重合体。
チレン、インブチレン及びアクリロニトリルとの共重合
体、ポリエステル、例えばポリエチレンテレフタレート
、ポリアミP、例えばポリへキサメチレンセパシアミP
のような線状縮合重合体、ボリイミ)+1、例えばFd
wardsに譲渡された米国特許ろ、179.t534
に開示されているフィルム及びポリニスデルアミド、例
えばボリヘキサメチレンジパミPア・ジイートのような
種々のフィルム形成性合成樹脂又は高重合体。
種々の繊維(合成、改質、或いは天然)、例えハセルロ
ース$1維1例えば綿、セルロースアセテート、ビスコ
ースレーヨン、紙、ガラスウール、ナイロン及びポリエ
チレンテレフタレートのような充填剤又は強化剤が合成
樹脂又は重合体基材中に存在することができる。これら
の強化型基材は積層形態で使用されてよい。米国特許2
,760.863に、開示されている種々のアンカー層
を使用して支持体と感光性層との間に強い接着を得るこ
とができ、或いは透明な支持体の場合には、支持体を通
して化学放射に予犀出することが有用なことがある。B
ur gに譲渡された米国特許3,036,915tI
C開示されている接着剤組成物も有効である。
ース$1維1例えば綿、セルロースアセテート、ビスコ
ースレーヨン、紙、ガラスウール、ナイロン及びポリエ
チレンテレフタレートのような充填剤又は強化剤が合成
樹脂又は重合体基材中に存在することができる。これら
の強化型基材は積層形態で使用されてよい。米国特許2
,760.863に、開示されている種々のアンカー層
を使用して支持体と感光性層との間に強い接着を得るこ
とができ、或いは透明な支持体の場合には、支持体を通
して化学放射に予犀出することが有用なことがある。B
ur gに譲渡された米国特許3,036,915tI
C開示されている接着剤組成物も有効である。
ポリスチレン、ポリエチレン、ポリデロピレンその他の
剥離可能な材料の薄いフィルムのような透明カバーシー
トが貯蔵又は操作の量感光性層の汚染又は傷害を防止す
るために使用される。溶媒現像可能な光重合性組成物の
場合には。
剥離可能な材料の薄いフィルムのような透明カバーシー
トが貯蔵又は操作の量感光性層の汚染又は傷害を防止す
るために使用される。溶媒現像可能な光重合性組成物の
場合には。
薄い硬質、柔軟性の溶媒可溶性層、例えばポリアミP、
ポリエチレン及びポリビニルアセテートの共重合体の層
が感光性層の上面に使用されて画像を持つネガ又はその
上に重層されたトランスバレンシーを再使用のために保
護するか又は感光性面との接触又は並びを改善する。
ポリエチレン及びポリビニルアセテートの共重合体の層
が感光性層の上面に使用されて画像を持つネガ又はその
上に重層されたトランスバレンシーを再使用のために保
護するか又は感光性面との接触又は並びを改善する。
一般に、感光性重合体構成要素からフレキソ印刷版の製
法は、主画像露光、現像又は洗い出し、乾燥を含む後現
像処理、並びに後露光の工程を含む。
法は、主画像露光、現像又は洗い出し、乾燥を含む後現
像処理、並びに後露光の工程を含む。
脱粘着(detackification)は表面が尚
粘着性である場合に施こすことができる随意の後現像処
理である。
粘着性である場合に施こすことができる随意の後現像処
理である。
透明支持体を有する構成要素の場合パックフラッシュを
使用してよい。パックフラッシュは一般に360 nm
付近の主波長を発する放射源を使用する。それは版を増
感する役割を有し、版レリーフの深さを確立する。パッ
クフラッシュ操作は、感光性重合体層に支持体を通して
均一かつ比較的短かい露光を与え、それKより支持体の
区分中給合剤及び単量体を交さ結合させる。
使用してよい。パックフラッシュは一般に360 nm
付近の主波長を発する放射源を使用する。それは版を増
感する役割を有し、版レリーフの深さを確立する。パッ
クフラッシュ操作は、感光性重合体層に支持体を通して
均一かつ比較的短かい露光を与え、それKより支持体の
区分中給合剤及び単量体を交さ結合させる。
印刷用レリーフは、画像を持つトランスフ9レンジ−を
通して感光性層の選択された部分を化学放射線に露光す
ることKよって本発明の感光性組成物からつくることが
できる。付加重合又は交さ結合の間に層の放射線に露光
された部分においてエチレン系不飽和化合物組成物は不
溶性の状態に変換され1層の非露光部分又は区域におい
ては有意な重合又は交さ結合がおこらない。層の非露光
部分は有機又は水性又は半水性溶媒を用いて除去される
。このグロセストランスパレンシーは、セルロースアセ
テートフィルム及び配向型ポリエステルフィルムを含む
いずれらの適当な材料で構成されていてよい。
通して感光性層の選択された部分を化学放射線に露光す
ることKよって本発明の感光性組成物からつくることが
できる。付加重合又は交さ結合の間に層の放射線に露光
された部分においてエチレン系不飽和化合物組成物は不
溶性の状態に変換され1層の非露光部分又は区域におい
ては有意な重合又は交さ結合がおこらない。層の非露光
部分は有機又は水性又は半水性溶媒を用いて除去される
。このグロセストランスパレンシーは、セルロースアセ
テートフィルム及び配向型ポリエステルフィルムを含む
いずれらの適当な材料で構成されていてよい。
この光重合過糧においては任意の光源からの任意の型の
化学放射線を使用することができる。
化学放射線を使用することができる。
放射は点光源から放射されても平行光線又は発散光束の
形態であってもよい。画像を持つトランスバレンシーに
比較的近い広い放射源を使用することにより、トランス
バレンシーの透明な区域を通過する放射は発散光束とし
て入り、かくしてトランスバレンシーの透明な部分の真
下の光重合性層中連続的に発散する区域を照射する。こ
の結果光重合性層の底部において最大の幅を有する重合
体レリーフ、即ちフラストラムを生じ、レリーフの最上
面は透明な区域の寸法である。
形態であってもよい。画像を持つトランスバレンシーに
比較的近い広い放射源を使用することにより、トランス
バレンシーの透明な区域を通過する放射は発散光束とし
て入り、かくしてトランスバレンシーの透明な部分の真
下の光重合性層中連続的に発散する区域を照射する。こ
の結果光重合性層の底部において最大の幅を有する重合
体レリーフ、即ちフラストラムを生じ、レリーフの最上
面は透明な区域の寸法である。
化学放射線によって活性化可能な遊離ラジカル発生系は
紫外の範囲においてその最大感度を示すので、好適には
約2500X〜5000Xの波長範囲を有する、この放
射の有効量を放射源が与えるべきである。適当な前記放
射源は、太陽光線の外K、炭素アーク、水銀蒸気アーク
、紫外放射発生けい光体をもつげい光ランプ、アルゴン
グローランプ、レーデ−1電子フラツシユユニツト及び
写真用投光器を含む。電子加速器及び適当なマスクを通
す電子光束も有用であることがある。勿論、水銀蒸気ラ
ンプ、特に太陽光線ラングが最も適している。
紫外の範囲においてその最大感度を示すので、好適には
約2500X〜5000Xの波長範囲を有する、この放
射の有効量を放射源が与えるべきである。適当な前記放
射源は、太陽光線の外K、炭素アーク、水銀蒸気アーク
、紫外放射発生けい光体をもつげい光ランプ、アルゴン
グローランプ、レーデ−1電子フラツシユユニツト及び
写真用投光器を含む。電子加速器及び適当なマスクを通
す電子光束も有用であることがある。勿論、水銀蒸気ラ
ンプ、特に太陽光線ラングが最も適している。
放射露出時間は、放射の強度及びスペクトルエネルーー
分布、組成物からのその距離及び利用できる組成物の種
類及び量によって、1秒の何分の−から何分かまで変動
してよい、慣習的には水銀蒸気アーク又は太陽光線ラン
プが感光性組成物から約15〜約60インチ(五8〜1
53.)の距離で使用される。露光温度は好適にはほぼ
環境温度又はそれよりわずかに高(、即ち約20°〜約
35℃において操作される。
分布、組成物からのその距離及び利用できる組成物の種
類及び量によって、1秒の何分の−から何分かまで変動
してよい、慣習的には水銀蒸気アーク又は太陽光線ラン
プが感光性組成物から約15〜約60インチ(五8〜1
53.)の距離で使用される。露光温度は好適にはほぼ
環境温度又はそれよりわずかに高(、即ち約20°〜約
35℃において操作される。
溶媒現像は約25℃においズ実施されてよいが、溶媒が
温かい、即ち30°〜60℃である時最良の結果が時に
得られる。露光時間は変えることができるが、約5〜2
5分の範囲であることが好適である。現偉液は、浸漬、
噴霧及びブラシ又はロールかけを含む任意の便利な方式
で実施してよい。ブラシかけは組成物の非重合又は非交
さ結合部分の除去を助ける。洗い出しは、溶媒及び機械
的ブラシかげ作用を使用し【版の非露光部分を除去し、
露光された画儂及び床面な構成するレリーフを残す自動
処理ユニット中で実施されることが多い。
温かい、即ち30°〜60℃である時最良の結果が時に
得られる。露光時間は変えることができるが、約5〜2
5分の範囲であることが好適である。現偉液は、浸漬、
噴霧及びブラシ又はロールかけを含む任意の便利な方式
で実施してよい。ブラシかけは組成物の非重合又は非交
さ結合部分の除去を助ける。洗い出しは、溶媒及び機械
的ブラシかげ作用を使用し【版の非露光部分を除去し、
露光された画儂及び床面な構成するレリーフを残す自動
処理ユニット中で実施されることが多い。
溶媒現像に続いて、レリーフ印刷版は一般に乾式プロッ
ト又はふき取りされ、次に強制空気又は赤外炉中乾燥さ
れる。乾燥時間及び温度は変動するが、60℃(140
?)において60〜120分間の乾燥が典型的である。
ト又はふき取りされ、次に強制空気又は赤外炉中乾燥さ
れる。乾燥時間及び温度は変動するが、60℃(140
?)において60〜120分間の乾燥が典型的である。
支持体の収縮が整合の問題をおこすことがあるので高温
はすすめられない。−夜(16時間又はそれ以上)の追
加の空気乾燥が普通である。溶媒は環境条件における乾
燥の間印刷用レリーフから蒸発し続ける。
はすすめられない。−夜(16時間又はそれ以上)の追
加の空気乾燥が普通である。溶媒は環境条件における乾
燥の間印刷用レリーフから蒸発し続ける。
大部分のフレキソ印刷版は、充交さ結合過程が完了して
いることそして版が印刷及び貯蔵の間安定に保たれるこ
とを確実にするために均一に後露光される。この「後露
光」は主露光と同じ紫外放射源(通常300〜420
nmの波長)を利用する。後露光は重合を完了させそし
て版の硬度及び持続性を最大にするために使用されるが
、粘着性を除かない。粘着性は臭素溶液による処理、3
00 nmより小さい波長の光による処理等のような当
該技術において周知の方法によって除くことができる。
いることそして版が印刷及び貯蔵の間安定に保たれるこ
とを確実にするために均一に後露光される。この「後露
光」は主露光と同じ紫外放射源(通常300〜420
nmの波長)を利用する。後露光は重合を完了させそし
て版の硬度及び持続性を最大にするために使用されるが
、粘着性を除かない。粘着性は臭素溶液による処理、3
00 nmより小さい波長の光による処理等のような当
該技術において周知の方法によって除くことができる。
各露光工程の主な目的は重合に作用することであり、市
販の紫外−けい光管、中、高及び低圧水銀蒸気ランプ、
アルゴングローランデ、電子フラッシュユニット、写真
用投光器、パルス型キセノンラング、炭素アークランプ
等を含む種々の光源を使用することができる。放射源は
250〜450 um、好適には300〜420 nm
、そして更に好適には340〜400 nmの範囲の
波長を有する放射の有効量を発生しなければならない。
販の紫外−けい光管、中、高及び低圧水銀蒸気ランプ、
アルゴングローランデ、電子フラッシュユニット、写真
用投光器、パルス型キセノンラング、炭素アークランプ
等を含む種々の光源を使用することができる。放射源は
250〜450 um、好適には300〜420 nm
、そして更に好適には340〜400 nmの範囲の
波長を有する放射の有効量を発生しなければならない。
効率のよい光重合のためには、光重合性層に存在する光
開始剤の吸収特性に波長をマツチさせる。
開始剤の吸収特性に波長をマツチさせる。
標準放射源は、8ylvania 350 Black
lightけい光うy 7’ (FR48T12/35
0VL4/’/’HO/180 、115 W)であり
。
lightけい光うy 7’ (FR48T12/35
0VL4/’/’HO/180 、115 W)であり
。
これは554 nm付近の中心波長を有する化学放射線
を発生する。露光時間は、ランプの出力、ランプからの
距離、所望のレリーフの深さ、並びに版の厚さKよって
数秒から数分まで変動する。
を発生する。露光時間は、ランプの出力、ランプからの
距離、所望のレリーフの深さ、並びに版の厚さKよって
数秒から数分まで変動する。
次の実施例は本発明の実施を例示する。
実施例 1
単量体の重合体との配合性の決定
1.6−ヘキサンシオールジアクリレー) (HMDA
)(1)、インデシルアクリレート(2)、C−14J
)アクリレート(5)、グロボキシ化ネオペンチルグリ
コールアクリレート(4)、高プロポキシ化グリセロー
ルトリアクリレート(1(PGT) (5)、ペンタエ
リスリトールモノヒドロキシペンタアクリレート(6)
及びビスフェノールA及びエビクロロヒPリンから誘導
されたビスフェノールAエポキシ樹脂のジアクリレート
エステル(DAB) (7)を異なった重合体中配合性
について次の操作に従って試験した。
)(1)、インデシルアクリレート(2)、C−14J
)アクリレート(5)、グロボキシ化ネオペンチルグリ
コールアクリレート(4)、高プロポキシ化グリセロー
ルトリアクリレート(1(PGT) (5)、ペンタエ
リスリトールモノヒドロキシペンタアクリレート(6)
及びビスフェノールA及びエビクロロヒPリンから誘導
されたビスフェノールAエポキシ樹脂のジアクリレート
エステル(DAB) (7)を異なった重合体中配合性
について次の操作に従って試験した。
塩化メチリ2200g中ポリスチレン(All1ria
hCh@m1aal Co、 ) 209を溶解するこ
とによって熱可塑性結合剤溶液(B2)をつくった。塩
化メチレン200g中シス−1,4−ポリブタジェン(
Fir@5tone Co、 )を溶解することによっ
てエラストマー結合剤溶液(B1)をつくった。塩化メ
チレン200g中Krato71102.20gを済解
することによって結合剤溶液(B3)をつくった。
hCh@m1aal Co、 ) 209を溶解するこ
とによって熱可塑性結合剤溶液(B2)をつくった。塩
化メチレン200g中シス−1,4−ポリブタジェン(
Fir@5tone Co、 )を溶解することによっ
てエラストマー結合剤溶液(B1)をつくった。塩化メ
チレン200g中Krato71102.20gを済解
することによって結合剤溶液(B3)をつくった。
Kr5Lton■1102は5hell Ch@m1o
al CompanylCよって製造される8−B−8
)リブロック重合体である。
al CompanylCよって製造される8−B−8
)リブロック重合体である。
各結合剤溶液20gK各単量体0,5りを添加した。各
溶液は透明であった。
溶液は透明であった。
各溶液の少ffi t Mylar■スクエアの約半分
を占めるようにMylar■スクエアに注いだ。各スク
エア上溶液を乾燥させた。表面にフィルムが形成された
。溶液の全系列を調べた。形成されたフィルムの型を透
明/トランスバレント、くもり/ヘイシイ又は実質的に
不透明と特性化した。
を占めるようにMylar■スクエアに注いだ。各スク
エア上溶液を乾燥させた。表面にフィルムが形成された
。溶液の全系列を調べた。形成されたフィルムの型を透
明/トランスバレント、くもり/ヘイシイ又は実質的に
不透明と特性化した。
重合体と配合性である単量体はMylar■表面に透明
なフィルムを生じた。若干の非配合性を有する単量体は
くもったフィルムを生じ、非配合性である単量体は本質
的に不透明なフィルムを生じた。下に示される結果によ
ればHM D A sイソデシルアクリレート、C−1
4ジアクリレート及びプロポキシ化ネオペンチルグリコ
ールジアクリレートは3つの結合剤溶液すべてと若干の
配合性を有していた。かくして、それらは第1の単量体
として有用である。
なフィルムを生じた。若干の非配合性を有する単量体は
くもったフィルムを生じ、非配合性である単量体は本質
的に不透明なフィルムを生じた。下に示される結果によ
ればHM D A sイソデシルアクリレート、C−1
4ジアクリレート及びプロポキシ化ネオペンチルグリコ
ールジアクリレートは3つの結合剤溶液すべてと若干の
配合性を有していた。かくして、それらは第1の単量体
として有用である。
追加の単量体として有用な単量体は、工2ストマー(B
1)結合酸溶液と組合わせた時MylarO表面に本質
的に不透明又はくもったー不透明なフィルムを形成した
。高プロポキシ化グリセロールトリアセテート、DIP
ETA及びビスフェノールA及びエピクロロヒドリンか
ら誘導されるビスフェノールAエポキシ樹脂のジアクリ
レートエステルはエラストマー(B1)結合剤溶液と実
質的に非配合性であった。結果をf!IK示す。
1)結合酸溶液と組合わせた時MylarO表面に本質
的に不透明又はくもったー不透明なフィルムを形成した
。高プロポキシ化グリセロールトリアセテート、DIP
ETA及びビスフェノールA及びエピクロロヒドリンか
ら誘導されるビスフェノールAエポキシ樹脂のジアクリ
レートエステルはエラストマー(B1)結合剤溶液と実
質的に非配合性であった。結果をf!IK示す。
表 1
ccp
CCC
B5 CCCC
C=透明/トランスバレント
P−(もり/ヘイシイ
X−本質的に不透明
−X C
実施例 2
塩化メチレン5809.1,1.1−ジメトキシフェニ
ルアセトフェノン5五2g、ブチル化ヒドロキシトルエ
ン26.69及び染料溶液6.4 Ft−室温において
混和してマスターバッチを得た。染料溶液はとドロキシ
エチルメタクリレート中2.56%の赤色染料C110
9よりなっていた。
ルアセトフェノン5五2g、ブチル化ヒドロキシトルエ
ン26.69及び染料溶液6.4 Ft−室温において
混和してマスターバッチを得た。染料溶液はとドロキシ
エチルメタクリレート中2.56%の赤色染料C110
9よりなっていた。
wスターバッチ259、Kraton■1102.58
.51、並びに表2VC列記された量のDIPE’rA
、 HMDA及び可塑剤を−しよに手で攪拌し、−夜装
置した。可塑剤は等重量の2つの液状可塑剤・・・シス
1.4−ポリブタジェン(Huls、西ドイツ)及び1
.2−ポリブタジェン(N1ppon 80(1+!L
Company %日本)の混合物であった。
.51、並びに表2VC列記された量のDIPE’rA
、 HMDA及び可塑剤を−しよに手で攪拌し、−夜装
置した。可塑剤は等重量の2つの液状可塑剤・・・シス
1.4−ポリブタジェン(Huls、西ドイツ)及び1
.2−ポリブタジェン(N1ppon 80(1+!L
Company %日本)の混合物であった。
別示しないかぎり量はすべてダラム単位である。
HMDAl (102,55,07,5io、
0可塑剤 28.5 28.5 28.5 28
.5 28.51=第1の単量体として使用 2−追加の重合体として使用 翌日この混合物を2つのロールミル上120〜130℃
において15分関粉細した。
0可塑剤 28.5 28.5 28.5 28
.5 28.51=第1の単量体として使用 2−追加の重合体として使用 翌日この混合物を2つのロールミル上120〜130℃
において15分関粉細した。
粉細された重合体95り會6#×9“Xo、117’の
がた中に入れた。次にこの重合体を、支持体及びカバー
シートを構成する2片のポリエステルの間にはさみこん
だ。カバーシートはその上に薄い(α0002’)の剥
離層(H@nkel Companyによって製造され
たポリアミドホットメルト接着剤化合物)が被Uされて
いた。このものを約140℃の加熱圧板の間で最小の接
触において3分間、5000paiにおいて2分間そし
て10,000p61において1分間プレスした。
がた中に入れた。次にこの重合体を、支持体及びカバー
シートを構成する2片のポリエステルの間にはさみこん
だ。カバーシートはその上に薄い(α0002’)の剥
離層(H@nkel Companyによって製造され
たポリアミドホットメルト接着剤化合物)が被Uされて
いた。このものを約140℃の加熱圧板の間で最小の接
触において3分間、5000paiにおいて2分間そし
て10,000p61において1分間プレスした。
実施例 6
マスターバッチ(例2に述べたとおりつくられた)25
り、Kraton■1102.5B、59、低分子量ポ
リブタジェン可製剤2B、59、並びに下にノートされ
た量の単量体を−しよに手で攪拌し、放置した。
り、Kraton■1102.5B、59、低分子量ポ
リブタジェン可製剤2B、59、並びに下にノートされ
た量の単量体を−しよに手で攪拌し、放置した。
C−14ジアクリレート15.0
HPGT2 5.01”@1の
単量体として使用 2−追加の単量体として使用 1Q、0 0.0 上の例2に概説された操作に従って感光性の板を製造し
た。
単量体として使用 2−追加の単量体として使用 1Q、0 0.0 上の例2に概説された操作に従って感光性の板を製造し
た。
実施例 4
印刷板(printing plate )の柔軟性試
験1−1/4’X9’の寸法を有する板(plate
) A−Gを、1列の8ylvania 550 Bl
aoklightけい光ランプ(FR48’l’12/
350’VL/VEO/180.115v)を使用して
背面を通して2分間そして前面を通して18分間露光し
た。この板を30分間平らで放置した。次に1この板を
1板のフインチが机の縁に@垂するように机の縁にのせ
られたホルダーに入れた。縁に懸垂する板の最下部から
机に垂線を引いた。板の柔軟性は机の最上部への垂線の
距離(単位11111)として表原された。−般に、机
の最上部への垂線の距離が高い程柔軟性は大きい。表3
に示されるデータは、追加の単量体が多い根板の柔軟性
が大きいことを示す。
験1−1/4’X9’の寸法を有する板(plate
) A−Gを、1列の8ylvania 550 Bl
aoklightけい光ランプ(FR48’l’12/
350’VL/VEO/180.115v)を使用して
背面を通して2分間そして前面を通して18分間露光し
た。この板を30分間平らで放置した。次に1この板を
1板のフインチが机の縁に@垂するように机の縁にのせ
られたホルダーに入れた。縁に懸垂する板の最下部から
机に垂線を引いた。板の柔軟性は机の最上部への垂線の
距離(単位11111)として表原された。−般に、机
の最上部への垂線の距離が高い程柔軟性は大きい。表3
に示されるデータは、追加の単量体が多い根板の柔軟性
が大きいことを示す。
しかし、板AはDIPETAのみを含有し、最大の柔軟
性を有したが、追加の単量体をすべて有する板は不良の
写真速度を有していた(例8中のデータ参照。)。
性を有したが、追加の単量体をすべて有する板は不良の
写真速度を有していた(例8中のデータ参照。)。
この柔軟性試験から得られたデータはシビアA(ill
!度の結果によって確められた。これt表3に示す。
!度の結果によって確められた。これt表3に示す。
表 3
八 0 10 95 5
3B 2.5 7.5 8
4 55C5,05,08758 D 7.5 2.5 83
58E 10 0
72 62F O503935
6 G 03 03 B6
601=第1の単量体 2=追加の単量体 3
=例6参照実施例 5 使用された単量体を変えたこと以外は例2に記載された
操作に従って板H〜0をつくった。
3B 2.5 7.5 8
4 55C5,05,08758 D 7.5 2.5 83
58E 10 0
72 62F O503935
6 G 03 03 B6
601=第1の単量体 2=追加の単量体 3
=例6参照実施例 5 使用された単量体を変えたこと以外は例2に記載された
操作に従って板H〜0をつくった。
使用された単量体を表4に示す。別示しないかぎり量は
すべてダラム単位である。
すべてダラム単位である。
板H〜0を実施例4に記載された操作に従って柔軟性に
ついて試験した。柔軟性のデータを表4に示す。
ついて試験した。柔軟性のデータを表4に示す。
表 4
単 量 体 (ダラム)
HO0100099
Io 5 50090J
O1000075 に10 0 00072L50050
B1 MOO010085 No O0010101 これらの結果は、第1の単量体な含有する板の柔軟性が
追加の単量体も存在する時に増大することを示す。板J
及びKは第1の単量体tすべて含有し、夫々柔軟性の読
み75及び72を有していた。板1、L及びOは1:1
の比の第1及び追加の単量体を含有していた。柔軟性の
認めるべき改善が観察された。結果は夫々90.81及
び85であった。きわめて驚くべきことは、追加の単量
体として使用された単量体が硬質の板を生じることが知
られ、尚、結果が単量体の混合物を含有する板の柔軟性
の増大を示すことである。
O1000075 に10 0 00072L50050
B1 MOO010085 No O0010101 これらの結果は、第1の単量体な含有する板の柔軟性が
追加の単量体も存在する時に増大することを示す。板J
及びKは第1の単量体tすべて含有し、夫々柔軟性の読
み75及び72を有していた。板1、L及びOは1:1
の比の第1及び追加の単量体を含有していた。柔軟性の
認めるべき改善が観察された。結果は夫々90.81及
び85であった。きわめて驚くべきことは、追加の単量
体として使用された単量体が硬質の板を生じることが知
られ、尚、結果が単量体の混合物を含有する板の柔軟性
の増大を示すことである。
実施例 6
他の系列の板をつくり、柔軟性、接着及び写真速度につ
いて試験した。
いて試験した。
実施例2に記載したとおりつくったマスターパッチ50
g、Kraton” 1102.1179及び同l、。
g、Kraton” 1102.1179及び同l、。
く例21C記載された可塑剤57g、並びに表5に示し
た置の単量体を−しよに手で攪拌し、放置した。量はす
べてグ2へ単位である。
た置の単量体を−しよに手で攪拌し、放置した。量はす
べてグ2へ単位である。
実施例2に記載した操作に従って板1〜8を製造した。
1−職“×9#の寸法を有するこれらの板を、1列の8
ylvania 350 Blaoklightけい光
ランプ(Fl”148T 12/350WL/VHO/
180.115v)を使用して背面を通して2分間そし
て前面を通して18分間露光した。
ylvania 350 Blaoklightけい光
ランプ(Fl”148T 12/350WL/VHO/
180.115v)を使用して背面を通して2分間そし
て前面を通して18分間露光した。
板1及び8は追加の単量体をすべて含有していた。板5
及び7は第1の単量体をすべて含有していた。板2.3
.4及び6は第1及び追加の単量体の混合物を含有して
いた。
及び7は第1の単量体をすべて含有していた。板2.3
.4及び6は第1及び追加の単量体の混合物を含有して
いた。
接着試験
接着が低過ぎる場合には感光性重合体がポリエステル支
持体から分離するので、ポリエステル支持体への感光性
重合体の接着は重要である。
持体から分離するので、ポリエステル支持体への感光性
重合体の接着は重要である。
印刷の間にこれがおこる場合には大きな問題が招来され
る。板1〜8中使用された感光性重合体の接着を、毎分
10インチの割合で1インチ幅の細片をはがすことによ
ってIn5tron引張り試験機で測定した。試料の形
状は“T−ビール”(T−pe・1)であった。結果は
試料インチあたりポンドの単位で表わされる。接着試験
の結果を表5に示す。板インチあたり5ポンド未満の接
着をもつ板はポリエステル支持体に正しく接着しなかっ
た。
る。板1〜8中使用された感光性重合体の接着を、毎分
10インチの割合で1インチ幅の細片をはがすことによ
ってIn5tron引張り試験機で測定した。試料の形
状は“T−ビール”(T−pe・1)であった。結果は
試料インチあたりポンドの単位で表わされる。接着試験
の結果を表5に示す。板インチあたり5ポンド未満の接
着をもつ板はポリエステル支持体に正しく接着しなかっ
た。
異 5
a、柔軟性のデータは実施例4に記載した操作に従って
得られた。
得られた。
08ffiはダラム単位である。
表5中の結果は板1.2及び3が最良の接着を有したこ
とを示す。板2及び3は表5に示される量のDIPKT
A及びHMDAを含有していた。
とを示す。板2及び3は表5に示される量のDIPKT
A及びHMDAを含有していた。
板1〜3は又良好な柔軟性及びショアA&に度の読みを
有していた。
有していた。
実施例 7
板の相対写真速度を、(1)75ミルの床面深さを達成
するのに要した背面露光時間、(2) 7ミルのIVj
IVcよって表わされる画像の細部を保持するのに要し
た露光時間及び(3)2チのハイライトドツトを保持す
るのに要した粛光時間を調べることKよって決定した。
するのに要した背面露光時間、(2) 7ミルのIVj
IVcよって表わされる画像の細部を保持するのに要し
た露光時間及び(3)2チのハイライトドツトを保持す
るのに要した粛光時間を調べることKよって決定した。
使用された露光源は例4に記載したのと同じであった。
背面露光時間を決定するために、各板の異なったセグメ
ントが0.30.60.90.120及び150秒間露
光されるように透明支持体を通して板を露光した。次に
板を、cyrei■washout8o1v@ntで5
分間洗浄することKよって現像し、1時間乾燥した。各
露光時間において現像された板床面の探さを測定した。
ントが0.30.60.90.120及び150秒間露
光されるように透明支持体を通して板を露光した。次に
板を、cyrei■washout8o1v@ntで5
分間洗浄することKよって現像し、1時間乾燥した。各
露光時間において現像された板床面の探さを測定した。
75ずルの床面深さを達成するのに要した時間が背面露
光時間であった。
光時間であった。
主露光試験を使用して7ミルの線及び2%のハイライト
ドラFを保持する露光時間を決定した。原板を、最初上
に決定した時間全面に背面露光した。次にカバーシード
を除き、板の1つの区域がネガを通して5分間画像露光
され、第2の区域がネガを通して10分間露光され、そ
して第3の区域がネガを通して20分間露光されるよう
に試験ネガを通して板を露光した。上述したとおり板を
現像した。露光時間は、7ミルの線を直線に保持するの
に要した最小時間及びインチあたり120本の線のスク
リーン上2tsのハイライトドツトを脱落なしく保持す
るのに要した最小時間であった。
ドラFを保持する露光時間を決定した。原板を、最初上
に決定した時間全面に背面露光した。次にカバーシード
を除き、板の1つの区域がネガを通して5分間画像露光
され、第2の区域がネガを通して10分間露光され、そ
して第3の区域がネガを通して20分間露光されるよう
に試験ネガを通して板を露光した。上述したとおり板を
現像した。露光時間は、7ミルの線を直線に保持するの
に要した最小時間及びインチあたり120本の線のスク
リーン上2tsのハイライトドツトを脱落なしく保持す
るのに要した最小時間であった。
結果は表6に示され、写真速度が2つの単量体のブレン
ドを用いて第1の単量体単独を用いたのと同じであった
こと、即ち追加の単量体の存在が写真速度に悪影響を及
ぼさなかったことを示す。追加の単量体が唯一の単量体
であった場合(試料板1及び8)のみ写真速度は許容さ
れなかった。
ドを用いて第1の単量体単独を用いたのと同じであった
こと、即ち追加の単量体の存在が写真速度に悪影響を及
ぼさなかったことを示す。追加の単量体が唯一の単量体
であった場合(試料板1及び8)のみ写真速度は許容さ
れなかった。
表 6
以上、本発明の詳細な説明したが、本発明はさらに次の
実施態様によってこれに!約して示すことができる。
実施態様によってこれに!約して示すことができる。
1)a)熱可塑性及びエラストマー領域を有する結合剤
、結合剤の両領域と若干の配合性を有する第1の付加重
合性エチレン系不飽和単量体、並びに付加重合開始剤又
は開始系よりなる感光性組成物の層を化学放射線に像様
露光し、 b)非露光部分を除去し、そして O)後現像処理を施こす ことからなるフレキソ印刷感光性構成要素からの印刷用
レリーフの製法において少なくとも1つの追加のエチレ
ン系不飽和単量体を、単量体の全重量を基にして第1の
単量体対追加の単量体の比が1=4〜4:1の範囲にな
るように添加し、該追加の単量体が結合剤のエラされな
かった。
、結合剤の両領域と若干の配合性を有する第1の付加重
合性エチレン系不飽和単量体、並びに付加重合開始剤又
は開始系よりなる感光性組成物の層を化学放射線に像様
露光し、 b)非露光部分を除去し、そして O)後現像処理を施こす ことからなるフレキソ印刷感光性構成要素からの印刷用
レリーフの製法において少なくとも1つの追加のエチレ
ン系不飽和単量体を、単量体の全重量を基にして第1の
単量体対追加の単量体の比が1=4〜4:1の範囲にな
るように添加し、該追加の単量体が結合剤のエラされな
かった。
ストマー領域と実質的に非配合性である場合には、層を
像様露光する前VC該追加の単量体が感光性組成物忙添
加されることによりフレキソ印刷用レリーフの柔軟性を
増大させる改良法。
像様露光する前VC該追加の単量体が感光性組成物忙添
加されることによりフレキソ印刷用レリーフの柔軟性を
増大させる改良法。
2) t!!合剤カスチレンーブタジエンースチレン
ブロック共重合体であり、第1の単量体が1.6−ヘキ
サンジオールジアクリレートでありそして追加の単量体
がジペンタエリスリトールモノヒドロキシはンタアクリ
レートである前項1記載の方法。
ブロック共重合体であり、第1の単量体が1.6−ヘキ
サンジオールジアクリレートでありそして追加の単量体
がジペンタエリスリトールモノヒドロキシはンタアクリ
レートである前項1記載の方法。
3)結合剤が予め形成された高分子結合剤及び交さ結合
型コア及び非交さ結合型シェルを有するコアシェルミク
ロダルのブレンドである前項1記載の方法。
型コア及び非交さ結合型シェルを有するコアシェルミク
ロダルのブレンドである前項1記載の方法。
4)配合性試験を使用して工2ストマー領域との追加の
単量体の非配合性を決定する前項1記載の方法。
単量体の非配合性を決定する前項1記載の方法。
5)支持体、感光性組成物の層、並びに柔軟性のカバー
シートよりなるフレキソ即刷感光性構成要素であって、
該組成物が (a) 熱可塑性及びエラストマー@域を有する結合
剤、 申〕 化学放射線によって活性化される171始剤又は
開始系、 (0) 結合剤の両領域と若干の配合性を有する第1
の付加重合性エチレン系不飽和単量体、並びに (d) 少なくとも1種の追加の付加重合性エチレン
系不飽和単量体(ただし、第1の単量体封筒2の単m体
の比は、単量体の全重量を基にして1:4〜4!1の範
囲であり、該追加の単量体は、結合剤のエラストマー領
域と実質的1こ非配合性である) よりなるものである上記の構成要素。
シートよりなるフレキソ即刷感光性構成要素であって、
該組成物が (a) 熱可塑性及びエラストマー@域を有する結合
剤、 申〕 化学放射線によって活性化される171始剤又は
開始系、 (0) 結合剤の両領域と若干の配合性を有する第1
の付加重合性エチレン系不飽和単量体、並びに (d) 少なくとも1種の追加の付加重合性エチレン
系不飽和単量体(ただし、第1の単量体封筒2の単m体
の比は、単量体の全重量を基にして1:4〜4!1の範
囲であり、該追加の単量体は、結合剤のエラストマー領
域と実質的1こ非配合性である) よりなるものである上記の構成要素。
6) 結合剤カスチレンーブタジエンースチレンブロ
ック共重合体であり、第1の単量体が1.6−ヘキサン
ジオールジアクリレートでありそして追加の単量体がジ
はンタエリスリトールモノヒドロキシはンタアクリレー
トである前項5記載の構成要素。
ック共重合体であり、第1の単量体が1.6−ヘキサン
ジオールジアクリレートでありそして追加の単量体がジ
はンタエリスリトールモノヒドロキシはンタアクリレー
トである前項5記載の構成要素。
7)結合剤が予め形成された高分子結合剤及び交さ結合
型コア及び非交さ結合型シェルを有するコアシェルミク
ロダルのブレンドである前項5記載のエレメント。
型コア及び非交さ結合型シェルを有するコアシェルミク
ロダルのブレンドである前項5記載のエレメント。
8)追加の単量体が高プロポキシ化グリセロールトリア
セテート、ペンタエリスリトールモノヒドロキシはンタ
アクリレート及びビスフェノール人及びエビクロロヒド
リンから誘導されるビスフェノール人エポキシ樹脂のジ
アクリレートエステルよりなる群から選択される前項5
記載の構成要素。
セテート、ペンタエリスリトールモノヒドロキシはンタ
アクリレート及びビスフェノール人及びエビクロロヒド
リンから誘導されるビスフェノール人エポキシ樹脂のジ
アクリレートエステルよりなる群から選択される前項5
記載の構成要素。
9)感光性層が可塑剤をも有しているが1項5記載の構
成要素。
成要素。
10)配合性試験を使用して結合剤のエラストマー領域
との追加の単量体の非配合性を決定する前項5記載の構
成要素。
との追加の単量体の非配合性を決定する前項5記載の構
成要素。
11)支持体、感光性組成物の層、並びに柔は性のカバ
ー・シートよりなるフレキソ印刷感光性エレメントであ
って、該組成物が (〜 熱町型性スチレン領域及びエラストマー性ブタジ
ェン領域を有するスチレン−ブタジェン−スチレンブロ
ック共重合体、 (ロ) 化学放射線によって活性化される開始剤又は開
始用系、 ((+) 結合剤の両領域と若干の配合性を有する第
1の付加重合性エチレン系不飽和単遺体として1,3−
ヘキサンジオールジアクリレ−ト、並びに (イ)結合剤のエラストマー領域と実質的に非配合性で
ある追加の単量体(ただし、該単量体は、単量体の全重
量を基にして第1の単量体封筒2の単量体の比が1:4
〜4=1の範囲であるようなlが添加されるン よりなるものである上記の構成要素。
ー・シートよりなるフレキソ印刷感光性エレメントであ
って、該組成物が (〜 熱町型性スチレン領域及びエラストマー性ブタジ
ェン領域を有するスチレン−ブタジェン−スチレンブロ
ック共重合体、 (ロ) 化学放射線によって活性化される開始剤又は開
始用系、 ((+) 結合剤の両領域と若干の配合性を有する第
1の付加重合性エチレン系不飽和単遺体として1,3−
ヘキサンジオールジアクリレ−ト、並びに (イ)結合剤のエラストマー領域と実質的に非配合性で
ある追加の単量体(ただし、該単量体は、単量体の全重
量を基にして第1の単量体封筒2の単量体の比が1:4
〜4=1の範囲であるようなlが添加されるン よりなるものである上記の構成要素。
特許出願人 イー・アイ・デュポン・ド・ネモアース
・アンド・コン/そニー 外 名
・アンド・コン/そニー 外 名
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)(a)熱可塑性及びエラストマー領域を有する結合
剤、結合剤の両領域と若干の配合性を有する第1の付加
重合性エチレン系不飽和単量体、並びに付加重合開始剤
又は開始系よりなる感光性組成物の層を化学放射線に像
様露光し、 (b)非露光部分を除去し、そして (c)後現像処理を施こす ことからなるフレキソ印刷感光性構成要素からの印刷用
レリーフの製法において少なくとも1つの追加のエチレ
ン系不飽和単量体を、単量体の全重量を基にして第1の
単量体対追加の単量体の比が1:4〜4:1の範囲にな
るように添加し、該追加の単量体が結合剤のエラストマ
ー領域と実質的に非配合性である場合には、層を像様露
光する前に該追加の単量体が感光性組成物に添加される
ことによりフレキソ印刷用レリーフの柔軟性を増大させ
る改良法。 2)支持体、感光性組成物の層、並びに柔軟性のカバー
シートよりなるフレキソ印刷感光性構成要素であつて、
該組成物が (a)熱可塑性及びエラストマー領域を有する結合剤、 (b)化学放射線によつて活性化される開始剤又は開始
系、 (c)結合剤の両領域と若干の配合性を有する第1の付
加重合性エチレン系不飽和単量体、並びに (d)少なくとも1種の追加の付加重合性エチレン系不
飽和単量体(ただし、第1の単量体対第2の単量体の比
は、単量体の全重量を基にして1:4〜4:1の範囲で
あり、該追加の単量体は、結合剤のエラストマー領域と
実質的に非配合性である) よりなるものである上記の構成要素。 3)支持体、感光性組成物の層、並びに柔軟性のカバー
シートよりなるフレキソ印刷感光性構成要素であつて、
該組成物が (a)熱可塑性スチレン領域及びエラストマー性ブタジ
エン領域を有するスチレン−ブタジエン−スチレンブロ
ック共重合体、 (b)化学放射線によつて活性化される開始剤又は開始
系、 (c)結合剤の両領域と若干の配合性を有する第1の付
加重合性エチレン系不飽和単量体として1,3−ヘキサ
ンジオールジアクリレート、並びに (d)結合剤のエラストマー領域と実質的に非配合性で
ある追加の単量体(ただし、該単量体は、単量体の全重
量を基にして第1の単量体対第2の単量体の比が1:4
〜4:1の範囲であるような量が添加される) よりなるものである上記の構成要素。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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US07/238,105 US4894315A (en) | 1988-08-30 | 1988-08-30 | Process for making flexographic printing plates with increased flexibility |
US238,105 | 1988-08-30 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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JPH02108632A true JPH02108632A (ja) | 1990-04-20 |
JP2772055B2 JP2772055B2 (ja) | 1998-07-02 |
Family
ID=22896524
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1221872A Expired - Fee Related JP2772055B2 (ja) | 1988-08-30 | 1989-08-30 | 柔軟性が増大したフレキソ印刷版の製法 |
Country Status (9)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4894315A (ja) |
EP (1) | EP0356952B1 (ja) |
JP (1) | JP2772055B2 (ja) |
AR (1) | AR246364A1 (ja) |
AU (1) | AU609638B2 (ja) |
CA (1) | CA1336048C (ja) |
DE (1) | DE68929016D1 (ja) |
DK (1) | DK425389A (ja) |
NO (1) | NO893463L (ja) |
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- 1989-08-29 DK DK425389A patent/DK425389A/da not_active Application Discontinuation
- 1989-08-29 NO NO89893463A patent/NO893463L/no unknown
- 1989-08-29 AR AR89314788A patent/AR246364A1/es active
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AU609638B2 (en) | 1991-05-02 |
NO893463D0 (no) | 1989-08-29 |
EP0356952A3 (en) | 1991-03-27 |
AU4086289A (en) | 1990-03-08 |
DK425389A (da) | 1990-03-01 |
EP0356952A2 (en) | 1990-03-07 |
JP2772055B2 (ja) | 1998-07-02 |
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