JPH0746224B2 - 感光性フレキソ印刷版 - Google Patents
感光性フレキソ印刷版Info
- Publication number
- JPH0746224B2 JPH0746224B2 JP61152009A JP15200986A JPH0746224B2 JP H0746224 B2 JPH0746224 B2 JP H0746224B2 JP 61152009 A JP61152009 A JP 61152009A JP 15200986 A JP15200986 A JP 15200986A JP H0746224 B2 JPH0746224 B2 JP H0746224B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- printing plate
- acrylate
- flexographic printing
- resin
- meth
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/032—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
- G03F7/033—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders the binders being polymers obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. vinyl polymers
Description
【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明はレリーフ画像の再現性を損なうことなく機械的
強度が改良された感光性フレキソ印刷版に関する。
強度が改良された感光性フレキソ印刷版に関する。
従来の技術 および 発明が解決しようとする問題点 ゴム弾性を有する樹脂、付加重合性不飽和モノマーおよ
び光重合開始剤から成る感光性フレキソ印刷版には印刷
品質の観点から適度の硬度（JIS A硬度:30°〜80°）と
反撥弾性（反撥弾性:20％以上）が要求される。
び光重合開始剤から成る感光性フレキソ印刷版には印刷
品質の観点から適度の硬度（JIS A硬度:30°〜80°）と
反撥弾性（反撥弾性:20％以上）が要求される。
通常はこのような要件を満たすために軟化剤や可塑剤が
適宜配合されているが、機械的強度が不十分となるため
に印刷版の亀裂やレリーフ画像の欠損等の難点があり、
実用性に乏しく、限定された印刷にしか適さないという
問題がある。
適宜配合されているが、機械的強度が不十分となるため
に印刷版の亀裂やレリーフ画像の欠損等の難点があり、
実用性に乏しく、限定された印刷にしか適さないという
問題がある。
このような問題の解決策として充填材、例えばシリカ、
体質顔料、ガラス樹脂等を配合して機械的強度を向上さ
れる提案がなされている。しかしながら、これらの充填
材は基材樹脂とは屈折率、粒子分布、元素組成等を異に
するために硬化時の照射光を散乱させてレリーフ画像の
再現性を損なわせる等の欠点を有する。
体質顔料、ガラス樹脂等を配合して機械的強度を向上さ
れる提案がなされている。しかしながら、これらの充填
材は基材樹脂とは屈折率、粒子分布、元素組成等を異に
するために硬化時の照射光を散乱させてレリーフ画像の
再現性を損なわせる等の欠点を有する。
本発明はこのような問題を解決するためになされたもの
である。
である。
問題点を解決するための手段 即ち本発明は、重合性エチレン性不飽和基含有モノマー
の内部架橋したホモポリマーもしくはコポリマーである
平均粒径が約0.01〜６μの樹脂微粒子、ゴム弾性を有す
る樹脂、光重合性エチレン性不飽和モノマーおよび光重
合開始剤を含有し、光照射硬化後にJIS A硬度が30°〜8
0°となりかつ反撥弾性率が少なくとも20％となる感光
性樹脂層を有する感光性フレキソ印刷版に関する。
の内部架橋したホモポリマーもしくはコポリマーである
平均粒径が約0.01〜６μの樹脂微粒子、ゴム弾性を有す
る樹脂、光重合性エチレン性不飽和モノマーおよび光重
合開始剤を含有し、光照射硬化後にJIS A硬度が30°〜8
0°となりかつ反撥弾性率が少なくとも20％となる感光
性樹脂層を有する感光性フレキソ印刷版に関する。
本発明による感光性フレキソ印刷版に使用する樹脂微粒
子の製造方法は特に限定的ではないが、例えばエチレン
性不飽和単重体を架橋性の共重合単量体と水性媒体中で
サスペンジョン重合または乳化重合させて樹脂微粒子分
散液をつくり、溶媒置換、共沸、遠心分離、乾燥などに
より水を除去して微小樹脂粒子を得る方法、脂肪族炭化
水素等の低SP有機溶媒あるいはエステル、ケトン、アル
コール等の内の高SP有機溶媒のようにモノマーは溶かす
が重合体は溶解しない非水性有機溶媒中でエチレン性不
飽和単量体と架橋性共重合体とを共重合させ、得られる
共重合体微粒子を分散するNAD法あるいは沈澱折出法と
称せされる方法、特開昭58-129066号公報に記載された
両イオン性基を有する水溶性樹脂を使用する方法等が挙
げられる。
子の製造方法は特に限定的ではないが、例えばエチレン
性不飽和単重体を架橋性の共重合単量体と水性媒体中で
サスペンジョン重合または乳化重合させて樹脂微粒子分
散液をつくり、溶媒置換、共沸、遠心分離、乾燥などに
より水を除去して微小樹脂粒子を得る方法、脂肪族炭化
水素等の低SP有機溶媒あるいはエステル、ケトン、アル
コール等の内の高SP有機溶媒のようにモノマーは溶かす
が重合体は溶解しない非水性有機溶媒中でエチレン性不
飽和単量体と架橋性共重合体とを共重合させ、得られる
共重合体微粒子を分散するNAD法あるいは沈澱折出法と
称せされる方法、特開昭58-129066号公報に記載された
両イオン性基を有する水溶性樹脂を使用する方法等が挙
げられる。
樹脂微粒子の平均粒径は混和性、反応および貯蔵安定性
等の見地から約0.01〜６μ、好ましくは0.05〜0.50μで
ある。即ち、平均粒径が0.01μ以下になると、耐摩耗性
の改良に顕著な効果がみられず、また粒子が飛散しやす
く衛生的（呼吸器）に不利となる。また、６μ以上にな
ると鮮明な画像品質が得られないという不利が生ずる。
等の見地から約0.01〜６μ、好ましくは0.05〜0.50μで
ある。即ち、平均粒径が0.01μ以下になると、耐摩耗性
の改良に顕著な効果がみられず、また粒子が飛散しやす
く衛生的（呼吸器）に不利となる。また、６μ以上にな
ると鮮明な画像品質が得られないという不利が生ずる。
エチレン性不飽和単量体としては、（メタ）アクリル酸
メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル
酸ｎ−ブチル、（メタ）アクリル酸イソブチル、（メ
タ）アクリル酸２−エチルヘキシル等のアクリル酸また
はメタクリル酸のアルキルエステルや、これと共重合し
得るエチレン性不飽和結合を有する他の単量体、例えば
スチレン、α−メチルスチレン、ビニルトルエン、ｔ−
ブチルスチレン、エチレン、プロピレン、酢酸ビニル、
プロピオン酸ビニル、アクリロニトリル、メタクリロニ
トリル、（メタ）アクリル酸ジメチルアミノエチルなど
がある。これら単量体は２種類以上用いてもよい。
メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル
酸ｎ−ブチル、（メタ）アクリル酸イソブチル、（メ
タ）アクリル酸２−エチルヘキシル等のアクリル酸また
はメタクリル酸のアルキルエステルや、これと共重合し
得るエチレン性不飽和結合を有する他の単量体、例えば
スチレン、α−メチルスチレン、ビニルトルエン、ｔ−
ブチルスチレン、エチレン、プロピレン、酢酸ビニル、
プロピオン酸ビニル、アクリロニトリル、メタクリロニ
トリル、（メタ）アクリル酸ジメチルアミノエチルなど
がある。これら単量体は２種類以上用いてもよい。
架橋性共重合単量体は、分子内に２個以上のラジカル重
合可能なエチレン性不飽和結合を有する単量体および／
または相互に反応し得る基をそれぞれ保有する２種のエ
チレン性不飽和基含有単量体を含む。
合可能なエチレン性不飽和結合を有する単量体および／
または相互に反応し得る基をそれぞれ保有する２種のエ
チレン性不飽和基含有単量体を含む。
分子内に２個以上のラジカル重合可能なエチレン性不飽
和基を有する単量体としては、多価アルコールの重合性
不飽和モノカルボン酸エステル、多塩基酸の重合性不飽
和アルコールエステル、および２個以上のビニル基で置
換された芳香族化合物などがあり、それらの例としては
以下のような化合物がある。
和基を有する単量体としては、多価アルコールの重合性
不飽和モノカルボン酸エステル、多塩基酸の重合性不飽
和アルコールエステル、および２個以上のビニル基で置
換された芳香族化合物などがあり、それらの例としては
以下のような化合物がある。
エチレングリコールジアクリレート、エチレングリコー
ルジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタク
リレート、テトラエチレングリコールジメタクリレー
ト、1,3−ブチレングリコールジメタクリレート、トリ
メチロールプロパントリアクリレート、トリメチロール
プロパントリメタクリレート、1,4−ブタンジオールジ
アクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレー
ト、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、ペンタエ
リスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールト
リアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレ
ート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタ
エリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリト
ールテトラメタクリレート、グリセロールジメタクリレ
ート、グリセロールジアクリレート、グリセロールアリ
ロキシジメタクリレート、１、1,1−トリスヒドロキシ
メチルエタンジアクリレート、1,1,1−トリスヒドロキ
シメチルエタントリアクリレート、1,1,1−トリスヒド
ロキシメチルエタンジメタクリレート、1,1,1−トリス
ヒドロキシメチルエタントリメタクリレート、1,1,1−
トリスヒドロキシメチルプロパンジアクリレート、1,1,
1−トリスヒドロキシメチルプロパントリアクリレー
ト、1,1,1−トリスヒドロキシメチルプロパンジメタク
リレート、1,1,1−トリスヒドロキシメチルプロパント
リメタクリレート、トリアリルシアヌレート、トリアリ
ルイソシアヌレート、トリアリルトリメリテート、ジア
リルテレフタレート、ジアリルフタレートおよびジビニ
ルベンゼン。
ルジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタク
リレート、テトラエチレングリコールジメタクリレー
ト、1,3−ブチレングリコールジメタクリレート、トリ
メチロールプロパントリアクリレート、トリメチロール
プロパントリメタクリレート、1,4−ブタンジオールジ
アクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレー
ト、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、ペンタエ
リスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールト
リアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレ
ート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタ
エリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリト
ールテトラメタクリレート、グリセロールジメタクリレ
ート、グリセロールジアクリレート、グリセロールアリ
ロキシジメタクリレート、１、1,1−トリスヒドロキシ
メチルエタンジアクリレート、1,1,1−トリスヒドロキ
シメチルエタントリアクリレート、1,1,1−トリスヒド
ロキシメチルエタンジメタクリレート、1,1,1−トリス
ヒドロキシメチルエタントリメタクリレート、1,1,1−
トリスヒドロキシメチルプロパンジアクリレート、1,1,
1−トリスヒドロキシメチルプロパントリアクリレー
ト、1,1,1−トリスヒドロキシメチルプロパンジメタク
リレート、1,1,1−トリスヒドロキシメチルプロパント
リメタクリレート、トリアリルシアヌレート、トリアリ
ルイソシアヌレート、トリアリルトリメリテート、ジア
リルテレフタレート、ジアリルフタレートおよびジビニ
ルベンゼン。
また相互に反応し得る基をそれぞれ保有する２種のエチ
レン性不飽和基を有する単量体としては例えばグリシジ
ルアクリレート、グリシジルメタクリレートなどのエポ
キシ基含有エチレン性不飽和単量体と、アクリル酸、メ
タクリル酸、クロトン酸などのカルボキシル基含有エチ
レン性不飽和単量体が最も代表的なものであるが、相互
に反応性の基としてはこれらに限定されるものではな
く、例えばアミンとカルボニル、エポキシドとカルボン
酸無水物、アミンとカルボン酸塩化物、アルキレンイミ
ンとカルボニル、オルガノアルコキシシランとカルボキ
シル、ヒドロキシルとイソシアナト等種々のものが提案
されており、本発明はこれらを広く包含するものであ
る。
レン性不飽和基を有する単量体としては例えばグリシジ
ルアクリレート、グリシジルメタクリレートなどのエポ
キシ基含有エチレン性不飽和単量体と、アクリル酸、メ
タクリル酸、クロトン酸などのカルボキシル基含有エチ
レン性不飽和単量体が最も代表的なものであるが、相互
に反応性の基としてはこれらに限定されるものではな
く、例えばアミンとカルボニル、エポキシドとカルボン
酸無水物、アミンとカルボン酸塩化物、アルキレンイミ
ンとカルボニル、オルガノアルコキシシランとカルボキ
シル、ヒドロキシルとイソシアナト等種々のものが提案
されており、本発明はこれらを広く包含するものであ
る。
水性媒体または非水性有機媒体中で製造した樹脂微粒子
は、濾過、スプレー乾燥、凍結乾燥などの方法で樹脂微
粒子を単離し、そのままもしくはミルなどを用いて適当
な粒径に粉砕して用いることもできるし、さらに合成し
た分散液を溶媒置換により媒体を置換して用いることが
できる。
は、濾過、スプレー乾燥、凍結乾燥などの方法で樹脂微
粒子を単離し、そのままもしくはミルなどを用いて適当
な粒径に粉砕して用いることもできるし、さらに合成し
た分散液を溶媒置換により媒体を置換して用いることが
できる。
一般的にいって得られる粒子の粒径はその重合法によっ
てコントロールするのが望ましい。0.01〜0.6μの粒子
に対しては乳化重合法、NAD法が、0.2〜２μの粒子に対
しては沈澱析出法、１〜６μの粒子に対しては懸濁重合
法が最も適している。樹脂微粒子はマトリックス樹脂と
の関係において、粒子自体のガラス転移点、溶解性パラ
メーター、屈折率を構成成分によって制御し得る。また
その構造において樹脂粒子表面に相互にまたはマトリッ
クス樹脂と反応し得る官能基や不飽和基を配列させるこ
とにより樹脂粒子間、樹脂粒子マトリックス樹脂間の相
互作用をより高めることができる。さらに樹脂粒子の表
面や内部に高エネルギー線による硬化時に有効な増感剤
やその反応を促進させるプロモーター物質、硬化後にお
いて当該組成物が高機能性を発揮させ得るような機能性
物質を担持包含させることも可能である。
てコントロールするのが望ましい。0.01〜0.6μの粒子
に対しては乳化重合法、NAD法が、0.2〜２μの粒子に対
しては沈澱析出法、１〜６μの粒子に対しては懸濁重合
法が最も適している。樹脂微粒子はマトリックス樹脂と
の関係において、粒子自体のガラス転移点、溶解性パラ
メーター、屈折率を構成成分によって制御し得る。また
その構造において樹脂粒子表面に相互にまたはマトリッ
クス樹脂と反応し得る官能基や不飽和基を配列させるこ
とにより樹脂粒子間、樹脂粒子マトリックス樹脂間の相
互作用をより高めることができる。さらに樹脂粒子の表
面や内部に高エネルギー線による硬化時に有効な増感剤
やその反応を促進させるプロモーター物質、硬化後にお
いて当該組成物が高機能性を発揮させ得るような機能性
物質を担持包含させることも可能である。
樹脂微粒子の含有量は感光性フレキソ印刷版用組成物の
全固形分の約0.1〜50重量％、好ましくは0.5〜20重量％
であり、0.1重量％以下では耐摩耗性の改良は見出され
ず、また50重量％以上になるとフレキソ版特有の反撥弾
性、硬度等の緒特性を低下させる。
全固形分の約0.1〜50重量％、好ましくは0.5〜20重量％
であり、0.1重量％以下では耐摩耗性の改良は見出され
ず、また50重量％以上になるとフレキソ版特有の反撥弾
性、硬度等の緒特性を低下させる。
本発明に係わる感光性フレキソ印刷版用組成物には前記
の樹脂微粒子の他に常套の成分、即ちゴム弾性を有する
樹脂、光重合性エチレン性不飽和モノマー、光重合開始
剤、重合禁止剤、光増感剤、可塑剤等を適宜配合する。
の樹脂微粒子の他に常套の成分、即ちゴム弾性を有する
樹脂、光重合性エチレン性不飽和モノマー、光重合開始
剤、重合禁止剤、光増感剤、可塑剤等を適宜配合する。
ゴム弾性を有する樹脂としてはガラス転移点が−10℃以
下の常温で固体のポリマー、例えば1,4−ポリブタジエ
ン、1,2−ポリブタジエン、アクリルニトリルゴム、ブ
タジエンアクリルニトリルゴム、クロロプレンゴム、ポ
リウレタンゴムブタジエン−スチレンコポリマー、スチ
レン−ブタジエン−スチレンブロックコポリマー、スチ
レン−イソプレン−スチレンブロックコポリマー、ポリ
アミド樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ブタジエン−
（メタ）アクリル酸コポリマー、ブタジエン−（メタ）
アクリル酸−アクリルエステルポリマー等が挙げられ
る。
下の常温で固体のポリマー、例えば1,4−ポリブタジエ
ン、1,2−ポリブタジエン、アクリルニトリルゴム、ブ
タジエンアクリルニトリルゴム、クロロプレンゴム、ポ
リウレタンゴムブタジエン−スチレンコポリマー、スチ
レン−ブタジエン−スチレンブロックコポリマー、スチ
レン−イソプレン−スチレンブロックコポリマー、ポリ
アミド樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ブタジエン−
（メタ）アクリル酸コポリマー、ブタジエン−（メタ）
アクリル酸−アクリルエステルポリマー等が挙げられ
る。
このような樹脂の配合量は特に限定的ではないが、通常
は約20〜95重量％、特に50〜80重量％である。
は約20〜95重量％、特に50〜80重量％である。
光重合性エチレン性不飽和モノマーとしては、スチレ
ン、ビニルトルエン、クロロスチレン、ｔ−ブチルスチ
レン、α−メチルスチレン、ジビニルベンゼン、アクリ
ル酸、メタアクリル酸、メチル（メタ）アクリレート、
エチル（メタ）アクリレート、ｎ−プロピル（メタ）ア
クリレート、iso−プロピル（メタ）アクリレート、ｎ
−ブチル（メタ）アクリレート、iso−ブチル（メタ）
アクリレート、sec−ブチル（メタ）アクリレート、ｔ
−ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル
（メタ）アクリレート、ｎ−ノニル（メタ）アクリレー
ト、ｎ−デシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メ
タ）アクリレート、ｎ−トリデシル（メタ）アクリレー
ト、ステアリル（メタ）アクリレート、エチレングリコ
ールモノ（メタ）アクリレート、プロピレングリコール
モノ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールモノ
（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコ−ルモノ
（メタ）アクリレート、分子量200〜1000のポリエチレ
ングリコールモノ（メタ）アクリレート、分子量200〜1
000のポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレ
ート、分子量200〜1000のポリエチレングリコールモノ
メチルエーテルモノ（メタ）アクリレート、分子量200
〜1000のポリプロピレングリコールモノメチルエーテル
モノ（メタ）アクリレート、分子量200〜1000のポリエ
チレングリコールモノエチルエーテルモノ（メタ）アク
リレート、分子量200〜1000のポリプロピレングリコー
ルモノエチルエーテルモノ（メタ）アクリレート、ｎ−
ブトキシエチル（メタ）アクリレート、フェノキシエチ
ル（メタ）アクリレート、２−フェノキシプロピル（メ
タ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレー
ト、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、グ
リジシル（メタ）アクリレート、アリル（メタ）アクリ
レート、ベンジル（メタ）アクリレート、トリブロモフ
ェニル（メタ）アクリレート、2,3−ジクロロプロピル
（メタ）アクリレート、３−クロロ−２−ヒドロキシプ
ロピル（メタ）アクリレート、N,N−ジエチルアミノエ
チル（メタ）アクリレート、N,N−ジメチルアミノエチ
ル（メタ）アクリレート、Ｎ−ｔ−ブチルアミノエチル
（メタ）アクリレート、アクリルアミド、N,N−ジメチ
ルアクリルアミド、N,N−ジエチルアクリルアミド、エ
チレングリコール（メタ）アクリレート、プロピレング
リコールジ（メタ）アクリレート、1,3−プロパンジオ
ールジ（メタ）アクリレート、1,4−ブタンジオールジ
（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メ
タ）アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ（メタ）
アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アク
リレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリ
レート、グリセリンジ（メタ）アクリレート、グリセリ
ントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパン
トリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ
（メタ）アクリレート、エチレンビスアクリルアミド、
ジアリルフタレート、トリアリルシアヌレート、ジエチ
ルフマレート、ジブチルフマレート、酢酸ビニル等が例
示される。
ン、ビニルトルエン、クロロスチレン、ｔ−ブチルスチ
レン、α−メチルスチレン、ジビニルベンゼン、アクリ
ル酸、メタアクリル酸、メチル（メタ）アクリレート、
エチル（メタ）アクリレート、ｎ−プロピル（メタ）ア
クリレート、iso−プロピル（メタ）アクリレート、ｎ
−ブチル（メタ）アクリレート、iso−ブチル（メタ）
アクリレート、sec−ブチル（メタ）アクリレート、ｔ
−ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル
（メタ）アクリレート、ｎ−ノニル（メタ）アクリレー
ト、ｎ−デシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メ
タ）アクリレート、ｎ−トリデシル（メタ）アクリレー
ト、ステアリル（メタ）アクリレート、エチレングリコ
ールモノ（メタ）アクリレート、プロピレングリコール
モノ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールモノ
（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコ−ルモノ
（メタ）アクリレート、分子量200〜1000のポリエチレ
ングリコールモノ（メタ）アクリレート、分子量200〜1
000のポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレ
ート、分子量200〜1000のポリエチレングリコールモノ
メチルエーテルモノ（メタ）アクリレート、分子量200
〜1000のポリプロピレングリコールモノメチルエーテル
モノ（メタ）アクリレート、分子量200〜1000のポリエ
チレングリコールモノエチルエーテルモノ（メタ）アク
リレート、分子量200〜1000のポリプロピレングリコー
ルモノエチルエーテルモノ（メタ）アクリレート、ｎ−
ブトキシエチル（メタ）アクリレート、フェノキシエチ
ル（メタ）アクリレート、２−フェノキシプロピル（メ
タ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレー
ト、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、グ
リジシル（メタ）アクリレート、アリル（メタ）アクリ
レート、ベンジル（メタ）アクリレート、トリブロモフ
ェニル（メタ）アクリレート、2,3−ジクロロプロピル
（メタ）アクリレート、３−クロロ−２−ヒドロキシプ
ロピル（メタ）アクリレート、N,N−ジエチルアミノエ
チル（メタ）アクリレート、N,N−ジメチルアミノエチ
ル（メタ）アクリレート、Ｎ−ｔ−ブチルアミノエチル
（メタ）アクリレート、アクリルアミド、N,N−ジメチ
ルアクリルアミド、N,N−ジエチルアクリルアミド、エ
チレングリコール（メタ）アクリレート、プロピレング
リコールジ（メタ）アクリレート、1,3−プロパンジオ
ールジ（メタ）アクリレート、1,4−ブタンジオールジ
（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メ
タ）アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ（メタ）
アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アク
リレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリ
レート、グリセリンジ（メタ）アクリレート、グリセリ
ントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパン
トリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ
（メタ）アクリレート、エチレンビスアクリルアミド、
ジアリルフタレート、トリアリルシアヌレート、ジエチ
ルフマレート、ジブチルフマレート、酢酸ビニル等が例
示される。
この種の不飽和モノマーの配合量も特に限定的ではない
が、通常は約１〜80重量％、特に３〜60重量％である。
が、通常は約１〜80重量％、特に３〜60重量％である。
光重合開始剤としてはアセトフェノン、ベンゾフェノン
およびその誘導体、ベンゾイン、アセトイン等のα−カ
ルボニルアルコール類、ベンゾインエチルエーテル、ベ
ンゾインイソプロピルエーテル等のアシロインエーテル
類、ベンゾインジメチルケタール等のα−カルボニルケ
タール類、ベンジル等のポリケトン類、9,10−アントラ
キノン等の多核キノン類、さらにメルカプタン類、ジス
ルフイド類等の化合物を例示することができる。
およびその誘導体、ベンゾイン、アセトイン等のα−カ
ルボニルアルコール類、ベンゾインエチルエーテル、ベ
ンゾインイソプロピルエーテル等のアシロインエーテル
類、ベンゾインジメチルケタール等のα−カルボニルケ
タール類、ベンジル等のポリケトン類、9,10−アントラ
キノン等の多核キノン類、さらにメルカプタン類、ジス
ルフイド類等の化合物を例示することができる。
光重合開始剤の使用量は通常約0.01〜10重量％である。
重合禁止剤としてはハイドロキノン、メチルハイドロキ
ノン、メトキシフェノール、Ｎ−ニトロソジフェニルア
ミン等が例示される。
ノン、メトキシフェノール、Ｎ−ニトロソジフェニルア
ミン等が例示される。
重合禁止剤の使用量は通常約0.001〜1.00重量％であ
る。
る。
可塑剤としては、ジアルキルフタレート類（例えばジブ
チルフタレート、ジヘキシルフタレート、ジ−２−エチ
ルヘキシルフタレート、ジヘプチルフタレート、ジオク
チルフタレート、ジノニルフタレート、ジイソデシルフ
タレート等）、ジアルキルアジペート類（例えばジ−２
−エチルヘキシルアジペート、ジオクチルアジペート、
ジイソデシルアジペート等）、トリアルキルトリメリテ
ート類（例えばトリオクチルトリメリテート、トリイソ
デシルトリメリテート等）、アルキルビニルエーテル類
（例えばアクチルビニルエーテル、ラウリルビニルエー
テル、ステアリルビニルエーテル等）、ポリエチレング
リコールフェニルエーテル、ポリプピレングリコールフ
ェニルエーテル等が例示される。
チルフタレート、ジヘキシルフタレート、ジ−２−エチ
ルヘキシルフタレート、ジヘプチルフタレート、ジオク
チルフタレート、ジノニルフタレート、ジイソデシルフ
タレート等）、ジアルキルアジペート類（例えばジ−２
−エチルヘキシルアジペート、ジオクチルアジペート、
ジイソデシルアジペート等）、トリアルキルトリメリテ
ート類（例えばトリオクチルトリメリテート、トリイソ
デシルトリメリテート等）、アルキルビニルエーテル類
（例えばアクチルビニルエーテル、ラウリルビニルエー
テル、ステアリルビニルエーテル等）、ポリエチレング
リコールフェニルエーテル、ポリプピレングリコールフ
ェニルエーテル等が例示される。
可塑剤の配合量も特に限定的ではないが、通常は約１〜
70重量％、特に３〜50重量％である。
70重量％、特に３〜50重量％である。
以上の配合成分を常法によって混練機、例えば加圧ニー
ダー、プラネタリーミキサー、２本ロール、３本ロー
ル、ホットロール等を用いて混練し、該混練物を基体、
例えば鉄板、アルミ板、ポリエチレンテレフタレートフ
ィルム等の表面上に例えばカレンダー成型することによ
って感光性フレキソ印刷版を得ることができる。
ダー、プラネタリーミキサー、２本ロール、３本ロー
ル、ホットロール等を用いて混練し、該混練物を基体、
例えば鉄板、アルミ板、ポリエチレンテレフタレートフ
ィルム等の表面上に例えばカレンダー成型することによ
って感光性フレキソ印刷版を得ることができる。
このような感光性フレキソ印刷版表面上にネガフィルム
を密着させた後、紫外線等の光を照射することによって
再現性の優れた対摩耗性レリーフ画像を有するフレキソ
印刷版を調製することができる。
を密着させた後、紫外線等の光を照射することによって
再現性の優れた対摩耗性レリーフ画像を有するフレキソ
印刷版を調製することができる。
以下、本発明を実施例によって説明する。実施例中の
「部」および「％」は重量に基づく。
「部」および「％」は重量に基づく。
実施例１ （１）両イオン性基を有する乳化剤の調製 攪拌機、窒素導入管、温度制御装置、コンデンサーおよ
びデカンターを備えたコルベンフラスコ（2l）内にビス
ヒドロキシエチルタウリン134部、ネオペンチルグリコ
ール130部、アゼライン酸236部、無水フタル酸186部お
よびキシレン27部を仕込み、該反応混合物を96℃に加熱
し、生成水とキシレンを共沸留去させた。
びデカンターを備えたコルベンフラスコ（2l）内にビス
ヒドロキシエチルタウリン134部、ネオペンチルグリコ
ール130部、アゼライン酸236部、無水フタル酸186部お
よびキシレン27部を仕込み、該反応混合物を96℃に加熱
し、生成水とキシレンを共沸留去させた。
還流開始から約２時間かけて反応系の温度を190℃に
し、カルボン酸相当の酸価が145になるまで攪拌と脱水
を続行した後、140℃まで冷却し、カージュラE10（シェ
ル社市販品、バーサチック酸グリシジルエステル）314
部を30分間かけて滴下し、さらに攪拌を２時間続行して
反応を終了させてポリエステル樹脂（酸価59、ヒドロキ
シル価90、n1054）を得た。
し、カルボン酸相当の酸価が145になるまで攪拌と脱水
を続行した後、140℃まで冷却し、カージュラE10（シェ
ル社市販品、バーサチック酸グリシジルエステル）314
部を30分間かけて滴下し、さらに攪拌を２時間続行して
反応を終了させてポリエステル樹脂（酸価59、ヒドロキ
シル価90、n1054）を得た。
（２）樹脂微粒子の調製 攪拌機、冷却器および温度制御装置を備えた反応器（１
）内に脱イオン水490.4部、前記（１）で調製した乳
化剤30部およびジメチルエタノールアミン３部を仕込
み、該混合物を攪拌下80℃で溶液とし、これにアゾビス
シアノ吉草酸２部、脱イオン水40部およびジメチルエタ
ノールアミン1.28部から成る溶液、並びにメチルエタク
リレート120部、エチレングリコールジメタクリレート4
0部およびｎ−ブチルアクリレート40部から成る混合液
を60分間かけて滴下した後、さらに攪拌を60分間続行し
て樹脂微粒子の水性分散液を得た（不揮発分31％、平均
粒径0.1μ）。
）内に脱イオン水490.4部、前記（１）で調製した乳
化剤30部およびジメチルエタノールアミン３部を仕込
み、該混合物を攪拌下80℃で溶液とし、これにアゾビス
シアノ吉草酸２部、脱イオン水40部およびジメチルエタ
ノールアミン1.28部から成る溶液、並びにメチルエタク
リレート120部、エチレングリコールジメタクリレート4
0部およびｎ−ブチルアクリレート40部から成る混合液
を60分間かけて滴下した後、さらに攪拌を60分間続行し
て樹脂微粒子の水性分散液を得た（不揮発分31％、平均
粒径0.1μ）。
該水性分散液を凍結乾燥することによって樹脂微粒子粉
末を得た。
末を得た。
（３）感光性フレキソ印刷版の調製 エチルアクリレート42％、メタクリル酸９％、ブタジエ
ン35％、ジシクロペンチニルアクリレート10％およびエ
チレングリコールジメタクリレート４％から成る共重合
体樹脂（w50000）60部、ジメチルアミノプロピルアク
リルアミド4.9部、フェノキシエタノール５部、ジプロ
ピレングリコールモノメチルモノアクリレート10.55
部、トリメチロールプロパントリメタクリレート５部、
カヤラッドHX−620（日本化薬社市販品）12.1部。ステ
アリン酸１部、2,2−ジメトキシ−２−フェニルアセト
フェノン1.1部2,6−ジ−tert−ブチルカテコール0.32
部、メトキノン0.03部および前記（２）で調製した樹脂
微粒子３部を加圧ニーダーを用いて常温で混練し、該混
練物を約80℃で鉄板（厚さ0.18mm）上に約0.5mmの厚さ
にカレンダー成型して透明な感光性樹脂板を得た。
ン35％、ジシクロペンチニルアクリレート10％およびエ
チレングリコールジメタクリレート４％から成る共重合
体樹脂（w50000）60部、ジメチルアミノプロピルアク
リルアミド4.9部、フェノキシエタノール５部、ジプロ
ピレングリコールモノメチルモノアクリレート10.55
部、トリメチロールプロパントリメタクリレート５部、
カヤラッドHX−620（日本化薬社市販品）12.1部。ステ
アリン酸１部、2,2−ジメトキシ−２−フェニルアセト
フェノン1.1部2,6−ジ−tert−ブチルカテコール0.32
部、メトキノン0.03部および前記（２）で調製した樹脂
微粒子３部を加圧ニーダーを用いて常温で混練し、該混
練物を約80℃で鉄板（厚さ0.18mm）上に約0.5mmの厚さ
にカレンダー成型して透明な感光性樹脂板を得た。
この感光性樹脂板の表面にネガフィルムを真空密着さ
せ、ケミカルランプ（350W）を6cmの距離から１分間照
射した後、ネガフィルムを剥離し、照射面に温水（40
℃）中でナイロンブラシをかけたところ、ネガフィルム
に忠実なレリーフ画像を有したフレキソ印刷版が得られ
た。
せ、ケミカルランプ（350W）を6cmの距離から１分間照
射した後、ネガフィルムを剥離し、照射面に温水（40
℃）中でナイロンブラシをかけたところ、ネガフィルム
に忠実なレリーフ画像を有したフレキソ印刷版が得られ
た。
得られたフレキソ印刷版の特性を表−１に示す。
実施例２ （１）樹脂微粒子の調製 攪拌機、冷却器および温度制御装置を備えた反応器（１
）内に脱イオン水490.4部、実施例１（１）で調製し
た乳化剤30部およびジメチルエタノールアミン３部を仕
込み、該混合物を攪拌下80℃で溶液とし、これにアゾビ
スシアノ吉草酸２部、脱イオン水40部およびジメチルエ
タノールアミン1.28部から成る溶液、並びにメチルメタ
クリレート120部、エチレングリコールジメタクリレー
ト40部、ｎ−ブチルアクリレート37.4部およびジメチル
アミノプロピルメタクリルアミド2.0部から成る混合液
を60分間かけて滴下した後、攪拌をさらに60分間続行し
て樹脂微粒子の水性分散液（不揮発分31％、平均粒径0.
13μ）を調製した。
）内に脱イオン水490.4部、実施例１（１）で調製し
た乳化剤30部およびジメチルエタノールアミン３部を仕
込み、該混合物を攪拌下80℃で溶液とし、これにアゾビ
スシアノ吉草酸２部、脱イオン水40部およびジメチルエ
タノールアミン1.28部から成る溶液、並びにメチルメタ
クリレート120部、エチレングリコールジメタクリレー
ト40部、ｎ−ブチルアクリレート37.4部およびジメチル
アミノプロピルメタクリルアミド2.0部から成る混合液
を60分間かけて滴下した後、攪拌をさらに60分間続行し
て樹脂微粒子の水性分散液（不揮発分31％、平均粒径0.
13μ）を調製した。
該水性分散液を凍結乾燥することによって樹脂微粒子粉
末を得た。
末を得た。
（２）感光性フレキソ印刷版の調製 実施例１（２）で調製された樹脂微粒子のかわりに上記
（１）で調製された樹脂微粒子を使用する以外は実施例
１（３）と同様にして、ネガフィルムに忠実なレリーフ
画像を有するフレキソ印刷版を得た。
（１）で調製された樹脂微粒子を使用する以外は実施例
１（３）と同様にして、ネガフィルムに忠実なレリーフ
画像を有するフレキソ印刷版を得た。
得られたフレキソ印刷版の物性を表−１に示す。
実施例３ （１）樹脂微粒子の調製 攪拌機、冷却器および温度制御装置を備えた反応器（１
）内に脱イオン水490.4部、実施例１（１）で調製し
た乳化剤30部およびジメチルエタノールアミン３部を仕
込み、この混合物を攪拌下80℃で溶液とし、これにアゾ
ビスシアノ吉草酸２部、脱イオン水40部およびジメチル
エタノールアミン1.28部から成る溶液、並びにメチルメ
タクリレート120部、エチレングリコールジメタクリレ
ート140部、ｎ−ブチルアクリレート38.6部、メタクリ
ル酸1.4部およびジメチルエタノールアミン1.4部から成
る混合液を60分間かけて滴下した後、さらに攪拌を60分
間続行して樹脂微粒子の水性分散液（不揮発分31％、平
均粒子径0.15μ）を調製した。
）内に脱イオン水490.4部、実施例１（１）で調製し
た乳化剤30部およびジメチルエタノールアミン３部を仕
込み、この混合物を攪拌下80℃で溶液とし、これにアゾ
ビスシアノ吉草酸２部、脱イオン水40部およびジメチル
エタノールアミン1.28部から成る溶液、並びにメチルメ
タクリレート120部、エチレングリコールジメタクリレ
ート140部、ｎ−ブチルアクリレート38.6部、メタクリ
ル酸1.4部およびジメチルエタノールアミン1.4部から成
る混合液を60分間かけて滴下した後、さらに攪拌を60分
間続行して樹脂微粒子の水性分散液（不揮発分31％、平
均粒子径0.15μ）を調製した。
該水性分散液を凍結乾燥することによって樹脂微粒子粉
末を得た。
末を得た。
（２）感光性フレキソ印刷版の調製 実施例１（２）で調製された樹脂微粒子のかわりに上記
（１）で調製された樹脂微粒子を使用する以外は実施例
１（３）と同様にして、ネガフィルムに忠実なレリーフ
画像を有するフレキソ印刷版を得た。
（１）で調製された樹脂微粒子を使用する以外は実施例
１（３）と同様にして、ネガフィルムに忠実なレリーフ
画像を有するフレキソ印刷版を得た。
得られたフレキソ印刷版の物性を表−１に示す。
実施例４ （１）樹脂微粒子の調製 攪拌機、冷却器および温度制御装置を備えた反応容器
（１）内に入れたイソプロピルアルコール900部を、
窒素ガスを導入しながら50℃まで加温し、これにスチレ
ン７部、メチルメタクリレート９部、ｎ−ブチルアクリ
レート９部、２−ヒドロキシエチルメタクリレート３
部、アクリルアミド２部およびエチレングリコールジメ
タクリレート20部から成る混合液を滴下した後、攪拌を
さらに10分間続行し、アゾビスイソブチロニトリル1gを
反応系に添加し、系の温度を70℃まで徐々に高めて４時
間反応を行なった。
（１）内に入れたイソプロピルアルコール900部を、
窒素ガスを導入しながら50℃まで加温し、これにスチレ
ン７部、メチルメタクリレート９部、ｎ−ブチルアクリ
レート９部、２−ヒドロキシエチルメタクリレート３
部、アクリルアミド２部およびエチレングリコールジメ
タクリレート20部から成る混合液を滴下した後、攪拌を
さらに10分間続行し、アゾビスイソブチロニトリル1gを
反応系に添加し、系の温度を70℃まで徐々に高めて４時
間反応を行なった。
析出した白色樹脂を濾取し、イソプロピルアルコールを
用いる洗浄処理に３回付した後、真空乾燥処理に付して
樹脂微粒子粉末を得た。SEM観察による一次粒子の粒径
は1.3μであった。
用いる洗浄処理に３回付した後、真空乾燥処理に付して
樹脂微粒子粉末を得た。SEM観察による一次粒子の粒径
は1.3μであった。
得られた樹脂微粒子粉末50部をキシロール500部に分散
させた分散液およびイソホロンジイソシアネート10.8部
を、攪拌機、冷却器および温度制御装置を備えた反応容
器（１）内に入れて充分攪拌した後、ジブチル錫ジラ
ウレート0.1部を添加し、反応系を80℃で３時間保持
し、次いでプラクセルFA−４（ダイセル化学工業社市販
品、ε−カプロラクトン４分子によって変性された２−
ヒドロキシエチルアクリレート）28.9部およびハイドロ
キノン0.1部を80℃で１時間かけて滴下した後、さらに
３時間反応を行なって反応性樹脂微粒子の分散液を調製
した（反応の完結は−NCO基に起因するIR2260cm-1の消
失によって確認した。） 該分散液を真空乾燥処理に付すことによって反応性樹脂
微粒子粉末を得た。
させた分散液およびイソホロンジイソシアネート10.8部
を、攪拌機、冷却器および温度制御装置を備えた反応容
器（１）内に入れて充分攪拌した後、ジブチル錫ジラ
ウレート0.1部を添加し、反応系を80℃で３時間保持
し、次いでプラクセルFA−４（ダイセル化学工業社市販
品、ε−カプロラクトン４分子によって変性された２−
ヒドロキシエチルアクリレート）28.9部およびハイドロ
キノン0.1部を80℃で１時間かけて滴下した後、さらに
３時間反応を行なって反応性樹脂微粒子の分散液を調製
した（反応の完結は−NCO基に起因するIR2260cm-1の消
失によって確認した。） 該分散液を真空乾燥処理に付すことによって反応性樹脂
微粒子粉末を得た。
（２）感光性フレキソ印刷版の調製 実施例１（２）で調製された樹脂微粒子のかわりに上記
（１）で調製された樹脂微粒子を使用する以外は実施例
１（３）と同様にして、ネガフィルムに忠実なレリーフ
画像を有するフレキソ印刷版を得た。
（１）で調製された樹脂微粒子を使用する以外は実施例
１（３）と同様にして、ネガフィルムに忠実なレリーフ
画像を有するフレキソ印刷版を得た。
得られたフレキソ印刷版の物性を表−１に示す。
比較例１ 樹脂微粒子を使用しない以外は実施例１（３）と同様に
して調製されたフレキソ印刷版の物性を表−１に示す。
して調製されたフレキソ印刷版の物性を表−１に示す。
比較例２ 実施例１（２）で調製された樹脂微粒子のかわりにグラ
スファイバーRev−１（日本硝子繊維社市販品）を使用
する以外は実施例１（３）と同様にして調製されたフレ
キソ印刷版の物性を表−１に示す。
スファイバーRev−１（日本硝子繊維社市販品）を使用
する以外は実施例１（３）と同様にして調製されたフレ
キソ印刷版の物性を表−１に示す。
発明の効果 本発明による感光性フレキソ印刷版はマトリックス樹脂
と化学的および光学的に近似した組成を有する樹脂微粒
子を含有するので、該印刷版を用いることによって光に
よる硬化効率およびレリーフ画像の再現性を損なうこと
なく、基質との密着性およびレリーフ画像の対摩耗性等
の機械的強度を向上させることができる。
と化学的および光学的に近似した組成を有する樹脂微粒
子を含有するので、該印刷版を用いることによって光に
よる硬化効率およびレリーフ画像の再現性を損なうこと
なく、基質との密着性およびレリーフ画像の対摩耗性等
の機械的強度を向上させることができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 神田 和典 大阪府寝屋川市池田中町19番17号 日本ペ イント株式会社内 (56)参考文献 特開 昭52−116301（ＪＰ，Ａ) 特開 昭54−85803（ＪＰ，Ａ) 特開 昭54−133904（ＪＰ，Ａ) 特開 昭58−27140（ＪＰ，Ａ) 特開 昭57−26846（ＪＰ，Ａ) 特開 昭57−62046（ＪＰ，Ａ) 特開 昭52−12004（ＪＰ，Ａ)
Claims (5)
- 【請求項１】重合性エチレン性不飽和基含有モノマーの
内部架橋したホモポリマーもしくはコポリマーである平
均粒径が約0.01〜６μの樹脂微粒子、ゴム弾性を有する
樹脂、光重合性エチレン性不飽和モノマーおよび光重合
開始剤を含有し、光照射硬化後にJIS A硬度が30°〜80
°となりかつ反撥弾性率が少なくとも20％となる感光性
樹脂層を有する感光性フレキソ印刷版。 - 【請求項２】樹脂微粒子の平均粒径が0.05〜0.50μであ
る第１項記載の感光性フレキソ印刷版。 - 【請求項３】樹脂微粒子の含有量が約0.1〜50重量％で
ある第１項記載の感光性フレキソ印刷版。 - 【請求項４】樹脂微粒子の含有量が0.5〜20重量％であ
る第３項記載の感光性フレキソ印刷版。 - 【請求項５】樹脂微粒子が、１分子中に２以上のラジカ
ル重合性エチレン性不飽和結合を有するモノマー成分を
少なくとも１モル％含有するポリマーである第１項から
第４項いずれかに記載の感光性フレキソ印刷版。
Priority Applications (8)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61152009A JPH0746224B2 (ja) | 1986-06-27 | 1986-06-27 | 感光性フレキソ印刷版 |
| EP87109188A EP0251228B1 (en) | 1986-06-27 | 1987-06-26 | Photosensitive flexographic printing plate |
| DE3750971T DE3750971T2 (de) | 1986-06-27 | 1987-06-26 | Lichtempfindliche Flexodruckplatte. |
| ES87109188T ES2069525T3 (es) | 1986-06-27 | 1987-06-26 | Placa impresora flexografica fotosensible. |
| AT87109188T ATE117103T1 (de) | 1986-06-27 | 1987-06-26 | Lichtempfindliche flexodruckplatte. |
| AU74774/87A AU603589B2 (en) | 1986-06-27 | 1987-06-26 | Photosensitive flexographic printing plate |
| CA000540716A CA1298145C (en) | 1986-06-27 | 1987-06-26 | Photosensitive flexographic printing plate |
| US07/478,562 US4957850A (en) | 1986-06-27 | 1990-02-12 | Photosensitive flexographic resin plate |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61152009A JPH0746224B2 (ja) | 1986-06-27 | 1986-06-27 | 感光性フレキソ印刷版 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8032155A Division JP2656231B2 (ja) | 1996-02-20 | 1996-02-20 | 感光性フレキソ印刷版用組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS638648A JPS638648A (ja) | 1988-01-14 |
| JPH0746224B2 true JPH0746224B2 (ja) | 1995-05-17 |
Family
ID=15531068
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61152009A Expired - Lifetime JPH0746224B2 (ja) | 1986-06-27 | 1986-06-27 | 感光性フレキソ印刷版 |
Country Status (8)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4957850A (ja) |
| EP (1) | EP0251228B1 (ja) |
| JP (1) | JPH0746224B2 (ja) |
| AT (1) | ATE117103T1 (ja) |
| AU (1) | AU603589B2 (ja) |
| CA (1) | CA1298145C (ja) |
| DE (1) | DE3750971T2 (ja) |
| ES (1) | ES2069525T3 (ja) |
Families Citing this family (23)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| PT85756A (pt) * | 1986-09-22 | 1988-10-14 | Napp Systems Inc | Processo para a preparacao de chapas fotossensiveis e revelaveis com agua |
| JPH07113767B2 (ja) * | 1986-10-02 | 1995-12-06 | 旭化成工業株式会社 | 段ボ−ル印刷用感光性樹脂印刷版 |
| JPS63285551A (ja) * | 1987-05-18 | 1988-11-22 | Nippon Paint Co Ltd | 水現像性印刷用版材 |
| US4894315A (en) * | 1988-08-30 | 1990-01-16 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Process for making flexographic printing plates with increased flexibility |
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