JPS62173455A - マイクロゲルを含有する感光性組成物 - Google Patents

マイクロゲルを含有する感光性組成物

Info

Publication number
JPS62173455A
JPS62173455A JP62010147A JP1014787A JPS62173455A JP S62173455 A JPS62173455 A JP S62173455A JP 62010147 A JP62010147 A JP 62010147A JP 1014787 A JP1014787 A JP 1014787A JP S62173455 A JPS62173455 A JP S62173455A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
microgel
composition
weight
methylene chloride
article
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP62010147A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH0711700B2 (ja
Inventor
マイクル・フライド
テリー・ロウランド・スース
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
EIDP Inc
Original Assignee
EI Du Pont de Nemours and Co
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by EI Du Pont de Nemours and Co filed Critical EI Du Pont de Nemours and Co
Publication of JPS62173455A publication Critical patent/JPS62173455A/ja
Publication of JPH0711700B2 publication Critical patent/JPH0711700B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03CPHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
    • G03C1/00Photosensitive materials
    • G03C1/72Photosensitive compositions not covered by the groups G03C1/005 - G03C1/705
    • G03C1/725Photosensitive compositions not covered by the groups G03C1/005 - G03C1/705 containing inorganic compounds
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/032Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
    • G03F7/033Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders the binders being polymers obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. vinyl polymers
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/1053Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
    • Y10S430/1055Radiation sensitive composition or product or process of making
    • Y10S430/106Binder containing
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/1053Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
    • Y10S430/1055Radiation sensitive composition or product or process of making
    • Y10S430/106Binder containing
    • Y10S430/107Polyamide or polyurethane
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/1053Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
    • Y10S430/1055Radiation sensitive composition or product or process of making
    • Y10S430/106Binder containing
    • Y10S430/111Polymer of unsaturated acid or ester

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Circuit Boards (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Graft Or Block Polymers (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、組成物の物理的および/または化学的諸性質
のいくつかに影響するような、添加成分を含んだ感光性
組成物に関する。かかる諸性質には貯蔵安定性、感光度
、基体に対しラミネートおよび接着する能力および基体
中の割れ目や孔を覆う能力などが含まれるが、これらに
限定されるものではない。この添加成分は組成物成分の
一部を置換するh度に加えることができ、ときには結合
剤の置換のようにある成分全部をとシかえるさ度に加え
ることもできる。
フォトレジストとして特に有用な感光性組成物は従来か
ら周知である。慣例的にこれらの組成物はロール状の形
態で保存されている。この組成物は、米国特許第4,2
93,655号公報に示されたごとく、2層材料を形成
するように支持体フィルムに接着されるが、あるいはさ
らに一般的には米国特許第3.469.982号公報の
ように、支持体フィルムとカバーシートとの間に接着さ
れた構成の3層材料とされている。この材料は、例えば
印刷回路板を作るときなどのように、基体にラミネート
して使用するのに先立ってロールから巻き戻され、また
もしカバーシートがあるときは感光性組成物との接触か
ら離される。
この材料の貯蔵に際しての潜在的な障害は、冷間流動(
cold flow)の存在である。冷間流動が著しい
と縁溶着(edgθfusion)のような具合のわる
いことが材料中に起き、光重合性組成物の連続性を損わ
ずにロールから巻き戻すことを不可能とする。
一般的に冷間流動を最小とした貯蔵性は、光重合性材料
の各成分の適切な選択と処方とによって達成される。組
成物の貯蔵安定性を処方することの必要性の例外が、米
国特許第3,867.153号中に開示された。この公
報は活性放射線に対する露光によってロールの両級を硬
化することを教示し、これによりロールの中に効果的に
閉じ込められた光重合性組成物により冷間流動は防止さ
れる。
組成物の物理的性質を変えるために添加成分を用いるこ
とも周知である。1つの例は有機ポリマー組成物中に充
填物としてのビーズの利用であり、これは米国特許第4
.414.278号中に開示されているように、必要に
応じて重合し得るものであってもよい。このポリマー性
のビーズは0.7〜20μmの範囲の平均直径をもつ、
別個の実質的に非膨潤性のそして架橋結合をされたもの
である。
組成物中に高度に架橋結合された非膨潤性のビーズを用
いるのと対照的なのは、膨潤性のマイクロゲルであシこ
れは分離した別個の成分である。マイクロゲルなる用語
は塗料工業で使われたもので、乳化重合によって作られ
た直径0.05〜1ミクロンの粒子ナイズをもち、10
9〜1010程度のような高分子量の架橋された球形ポ
リマー分子を含むものである。架橋化はこれらマイクロ
ゲルを不溶性とするが、この架橋化された構造を破壊す
ることなく強い溶剤中での膨潤が可能である。このよう
なマイクロゲルの作製と利用については、例えは英国特
許第967051号および米国特許第3.895.08
2号公報中に説明されている。
あるタイプの感光性組成物の中にマイクロゲルを成分の
1つとして用いることは、特開昭52−116301号
公報中で開示されている。この組成物はメタアクリル酸
エステルとマイクロゲル、重合可能なモノマー、光開始
剤および熱1合抑制剤などの主成分を含んでいる。この
マイクロゲルは0.01〜10ミクロンの粒子径をもつ
いわゆるゴム型のベース材料と、ビニルモノマーとのグ
ラフト重合によって得られたゴム型の物質である。この
感光性組成物はオフセット印刷法に用いられるものであ
る。
微細な粒子を含むつや消し塗布剤組成物が米国特許第4
,518,472号公報において開示されている。この
組成物は、高い摩擦抵抗あるいはスクラッチ抵抗性を付
与するため罠成型物に適用されるものである。塗布用の
この組成物は液体であって、本発明の固体フィルムとは
異なるものである。
本発明は a、付加重合し得るエチレン性不飽和モノマー、b、活
性放射線により活性化される開始剤系、c、前もって形
成された巨大分子重合体結合剤、および d、マイクロゲル からなる感光性組成物であって、この組成物は固体であ
り、かつ以下の性質 (1)  重合体結合剤とマイクロゲルとは、肉眼で見
たとき実質的に1つの相を形成しており、あるいは 2)重合体結合剤とマイクロゲルとは、25℃よシ高い
ガラス転位点をもつマイクロゲルに対し、50℃以上と
は異らないガラス転位点を有する、 の少なくとも1つをもっことからなる、感光性組成物を
対象とするものである。
あまシ好ましくはないが、重合体結合剤なしの感光性組
成物を処方することも可能である。
可撓性の裏打ち相料上にフィルムとして普通存在する本
発明の固体感光性ホ目成物のための出発材料は、ここで
述べられる型のマイクロゲルを除いて、公知技術におい
て周知である。このマイクロゲルは、印刷回路板を作る
際の7オトレジストとして、特に好ましく用いられてい
るものと同等の処理特性または同等の物理的性質を得る
ためK、簡単に異なる成分濃度とできるよう感光性組成
物の処方変更を可能とするのである。感光性組成物中の
マイクロゲルの利用は、例えば感光度の増加、基体から
の組成物の剥離性の向上、または処理中に基体にある孔
をカバーする能力の改良などのようなすぐれた感光体処
方を得ることの助けとなる。
感光性組成物は1以上の付加重合し得るエチレン性不飽
和モノマー、活性放射線によって活性化される開始剤系
および前もって形成されている巨大分子重合体結合剤と
ともKこのマイクロゲルを含んでいる。マイクロゲルは
フォトレジストとして有用な組成物について、結合剤成
分のすべてに代って用いることができるのが認められて
いる。しかしながらある方式において、結合剤または結
合剤の組合せが存在はするが、その量は市場で受は入れ
られるレジストに必要なすべての性質を得るのKは不充
分なのである。
実証的に、マイクロゲル成分の添加がなければ貯蔵安定
性のない適尚な組成物を組成することができる。マイク
ロゲルは、感光性組成物の処方変更を可能とするために
種々の方法で利用することができる。
貯蔵安定性については、真の貯蔵安定性(組合せ物をシ
ート状の形とし、裏打ちシート上にロールに巻き付けた
ような形で)はかなシの期間、即ち数ケ月とか1年位を
必要とするので、短縮期間試験で測定される。貯蔵安定
性、%に縁溶着を生じさせる感光性組成物の冷間流動が
実質的にないことと短縮期間試験との関連性は、クリー
プ粘度試験によって測定することができる。貯蔵に安定
な組成物は少なくとも20メガポイズのクリープ粘度を
有し、好ましくは少なくとも30メガポイズ、さらに好
ましくは少なくとも40メガポイズの粘度をもっている
。貯蔵安定性のためのいま1つの試験法は、ロール状の
組成物f:25℃で6ケ月間または40℃で1ケ月間保
存することである。
マイクロゲルの添加は感光度に影響を与え、そしてマイ
クロゲルを加えることKよって、これを加えない同じ組
成のものに比べてよシ高い感光度が得られる。そこで本
発明の好ましい方法の1つは、感光度を高めるためにマ
イクロゲルを加えることである。
結合剤の1部または全部を置換するよう、マイクロゲル
を固体感光性組成物中に混入するとチクソトロピー的性
質が得られ、貯蔵中のロールで経験されるような低い剪
断条件の下でフィルムは高い粘度を有するが、ラミネー
ションの場合のような高い剪断条件の下で、乾燥フィル
ムとして存在する感光性組成物は容易に流動し、そして
基体の銅表面によくなじむことが発見された。この性質
は感光性組成物を表面に適用するときの助けとなる。実
例でいえば、ドリルであけられた穴をもつ銅のノぞネル
などの表面にフォトレジストをラミネートするとき、こ
の穴の上をラミネートする組成物の能力が不可欠である
。マイクロゲルは、破裂に耐える力が強化された組成物
を作ることを可能とする。この能力は普通テンティング
といわれ、マイクロゲルの添加で好都合にできるもので
ある。
結合剤を用いた組成物例おいて、結合剤とマイクロゲル
との関係は、例えはフォトレジストにおいては本発明の
有利な性質の得られる処方化を可能と−する。この成分
の組合せを定義する1つの状態は、重合体結合剤とマイ
クロゲルとが単一の均一の相を作ることである。この均
一な相は肉眼によって見ることができる。しかしながら
、好ましくはこの単−相の存在は10倍に拡大した下で
も存在しかつ認められるものであり、さらに1Eましく
は100倍に拡大しても認められるものである。
前もって形成された巨大分子結合剤とマイクロゲルとの
組合せを説明するいま1つの状態はガラス転位点を通じ
てである。一般的にガラス転位力は50℃以上とは異ら
ないし、さらに好ましくは25℃以上とは異らない。組
成物中にマイクロゲルを含ませることの1つの目的は、
粘度を増加させることであるから、ガラス転位点は呈温
(25℃)以上でなければならない。結合剤とマイクロ
ゲルとは、時に同一のモノマーから作られ両者の適合性
を良くするが、この方式の製法は必須のものではない。
マイクロゲルの定義は一般の定義が採用されていると理
解さるべきである。かかるマイクロゲルの定義から、米
国特許第4.414.278号公報で述べられている実
質的に非膨潤性のビーズである高度に架橋化された材料
は除外される。膨潤性試験法はこの特許の第4s第30
〜45行に、「膨潤は如何なる程度でも好ましくない」
旨の説明を付して述べられている。本発明において用い
られるマイクロゲルの代表的な試料は、この特許の試験
用液中で浮かぶが、この特許のポリマービーズは試験液
中に沈んでしまう。従ってこの試険法は適切なものとは
考えられない。
架橋化の程度はマイクロゲルの製造中KMA節できるか
ら、実質的に非膨潤性に架橋化したポリマービーズは(
適当な粒子サイズであっても〕マイクロゲルではない。
一般的にマイクロゲルは、0.1から1ミクロンまでの
範囲の平均粒子径をもち、さらに好ましくは0.05〜
0.15ミクロンである。
本発明のマイクロゲルは以下の溶剤、即ちn−ヘプタン
、四塩化炭素、トルエン、塩化メチレン、酢酸エチル、
アセトン、アセトニトリル、酢酸、ジメチルスルフオキ
シド、ジメチルホルムアミド、ホルムアミド、水、1o
zz%までのアンモニアを含む水性水酸化アンモニウム
溶液、10重量%までの水酸化カリウムを含む水性水酸
化カリウム溶液、塩化メチレン92重量%とメタノール
8重量%とからなる塩化メチレン−メタノール溶液、お
よび1重量%の炭酸ナトリウムを含む水性炭酸ナトリウ
ム溶液の少なくとも1つのものの中で膨潤する。
以上の溶剤のリストは、マイクロゲルの膨潤を起させる
溶剤をもれなく示したものではない。
しかしこのリストは適当な程度の架橋化をもつマイクロ
ゲルを限定するに役立つものと思われる。
膨潤性の試験としては、材料っ″1シマイクロゲルの試
料10tが溶剤100 PIC加えられる。
このマイクロゲルは少なくとも10%は膨潤し、シロち
マイクロゲルの容積が少くとも10%増加するであろう
。通常膨潤はもつと大きく、つまり少くとも50%は増
加するであろう。少なくとも100%の膨潤増加が多く
のマイクロゲルについて認められよう。
感光性組成物に加えるマイクロゲルは、溶剤の吸収を通
じて膨潤することKより溶剤の粘度を著しく増加させる
から、いま1つの試験は溶剤の粘度増加の測定を通じて
である。溶剤の溶液粘度は、溶剤の粘度に適したスピン
ドル分備えたブルックフィールド粘度計を用いてまず測
定される。試験をされる材料、つまりマイクロゲルの1
02を試験をする溶液の10C1中に添加する。試験す
る材料と溶剤とは室温(っまシ約25℃)で24時間攪
拌される。この時間が終った所で1102の重量、即ち
溶剤100?と試験する材料101となるまで追加の試
験液体が加えられる。混合物の粘度に適したスピンドル
とブルックフィールド粘度計を片いて再度粘度が測定さ
れる。
この方法においてマイクロゲルの条件は、材料の添加に
よる溶剤のfI!li度増加は少なくとも100センチ
ボイスである。好ましくはこの増加は1. OOOセン
チボイズであり、さらに好ましくは3,000七ンチボ
イズである。
ここで用いられたマイクロゲルは、公知の感光性組成物
中に添加剤として加えられたものとは相違する。実例と
して、このマイクロゲルは日本国特許特開昭52−11
6301号中に述べられているものとは相違し、この日
本特許公報に示されたものは、マイクロゲルを混入する
ことによりゴムを強化する原理を用いたものと思われる
。プラスチックのゴム強化の機構は、S、ニューマンと
O,B、バックカルによ#)”PolymerBlen
ds”、D、B、Paul、ed、、New York
 1978+vol−21pp、 63〜127中で述
べられている。よシもろいポリマーマトリックス中に分
散された小さなゴム状粒子の存在は、衝撃によるマトリ
ックスポリマーにおけるクレージングを促進し、クラン
ク生成の開始をおくらせる。この分散された相が別個の
相として留まるためには、マトリックスポリマーと不溶
性のものでなければならないし、また使用温度はその強
化剤として作用するためにも、ゴム状物のガラス転移点
以上でなければならない。日本国特許特開昭52−11
6301号におり・ては、これら要件のいずれも満たし
ている。引用されているマイクロゲル材lll+(例え
ば、ポリブチルアクリレート、ポリブタジェン、スチレ
ン/ブタジェン共重合体コム、エチレン/プロピレン共
重合体エラストマー、ポリイソプロピレン〕は室温以下
のガラス転移涜を有しているという定RKよシェラスト
マーであるとされる。ゴム状物質の粒子サイズに関する
論議は、このゴムが完成物品中に別個の粒子として存在
することを示している。
以前に述べたように、米国特許第4.414.278号
公報に開示されている充填添加剤は、充填剤がマイクロ
ゲルではないので本発明のマイクロゲルとは相違する。
米国特許第4.518,472号の組成物は、この特許
の組成物は塗布用の液体であるが本発明のものは用途の
異る固体であるから、本発明の組成物とは相違している
本発明のマイクロゲルは乳化重合によって通常製造され
る。一般的にマイクロゲルは、ポリマー成分99〜99
5重i%と架橋化剤10〜0.5重量係とから形成され
る。ポリマー成分は、内側と外側とで組成の異なる芯部
および外殻部マイクロゲルを作るために、重合の過程に
おいて成分を変えることができる。重合体結合剤が用い
られる場合、マイクロゲル対結合剤の重量比は1:20
から1:1の範囲で広く変更できる。
マイクロゲルは種々の出発材料から作ることかできる。
普通、1個のエチレン性不飽和結合をもつ七ツマ−が大
部分のマイクロゲルを構成するのに用いられるが、架橋
化剤は少なくとも2個の二重結合を有している。
好ましいモノマーは、メチルメタアクリレート、工tル
アクリレート、メタアクリル酸、ブチルメタアクリレー
ト、エチルメタアクリレート、グリシジルメタアクリレ
ート、スチレンおよびアリルメタアクリレートであり、
その他の有用な七ツマ−にはアクリロニトリル、メタア
クリロニトリル、アクリル酸、メタアクリル酸および2
−メチル−ヘキシルアクリレートなどが含まれる。
好ましい架橋化剤は、ブタンジオールジアクリレートで
あるが、その他のものとじてにエチレングリコールジメ
タアクリレート、テトラメチレングリコールジアクリレ
ート、トリメチロールプロパントリアクリレート、テト
ラエチレングリコールジメタアクリV−ト、メチレンビ
スアクリルアミド、メチン/ビスメタアクリルアミド、
ジビニルベンセン、ビニルメタアクリレート、ビニルク
ロトネート、ビニルアクリレート、ビニルアセチレン、
トリビニルベンゼン、グリセリントリメタアクリレート
、ベンタエリスリトールテトラメタアクリレート、トリ
アリルシアヌレート、ジビニルアセチレン、ジビニルエ
タン、ジビニルサルファイド、ジビニルスルホン、ヘキ
サトリエン、トリエチレングリコールジメタアクリレー
ト、ジアリルシアナミド、グリコールジアクリレート、
エチレングリコールジビニルエーテル、ジアリルフタレ
ート、ジビニルジメチルシラン、グリセロールトリビニ
ルエーテルおよび類似のものなどが含まれる。
普通マイクロゲルの製造に際しては、1a[または数種
のモノマーと架橋化剤とが適当な乳化剤および開始剤と
ともに水の中に分散される。
通常アニオン性、カチオン性または非イオン性乳化剤と
水溶性の開始剤とが用いられる。乳化剤の例はラウリル
硫酸ナトリウム、ラウリルピリジンクロライド、ポリオ
キシエチレン、ポリオキシプロピレン、コロイド状シリ
カ、陰イオン性有機リン酸塩、マグネシウムモンモリロ
ナイト、オクチルフェノール1モルと酸化工tレン12
〜13モルとの反応生成物、第二アルキル硫酸ナトリウ
ムおよびそれらの混合物などである。開始剤の例は過硫
酸カリウム、過硫酸ナトリウム、過硫酸アンモニウム、
t−ブチルヒドロ過酸化物、過酸化水素、アゾビス(イ
ンブチロニトリル)、アゾビス(インブチロイミジン塩
酸)、過酸化水素−硫酸第一鉄および周知の過硫酸−重
亜硫酸の組合せのような各穐レドックス(酸化−還元)
系などである。通常共重合される七ツマ−の重量を基準
として0.05〜5重量%の開始剤が使用される。
本発明の実施に適したマイクロゲルは、米国特許第3.
895,082号中に述べられた乳化重合技術によって
作ることかできる(英国特許第96乙051号公報もま
た適切な方法を教示している)。この技術は、重合体の
第1の部分、即ち芯部がその外側の部分即ち外殻部と異
るモノマー組成である球状マイクロゲルを作るために、
ある組合せのモノマーで反応を始め、反応の終りの部分
でその割合を変えるというように変更することもできる
。ホモポリマーマイクロゲルおよび芯部−外殻部マイク
ロゲルの両方の広い範囲のものが、重合体組成と架橋化
を変更することによって作ることができる。本発明のた
めには、外殻部のガラス転位膚は、重合体結合剤と50
℃以上相違せず、かつ両者のガラス転位点は25℃以上
でありまたあるべきであることが望ましい。
乳化1合の技術は、水相に分散した球形のマイクロゲル
を作るための反応条件に関しても周知である。もし分散
物か作られた甘\で使用でき、かつまた不都合な不純物
や副産物を含んでいないのでなければ、感光性組成物中
の使用に先立って、マイクロゲルを乾燥した粉末に変え
ることが通常必要である。凝集、沢過、洗浄および乾燥
という公知技術を、この目的のため用いることができる
。噴繕乾燥が本発明にとっては特に有効な方法である。
一般的にマイクロゲル中の架橋化剤の藍は、マイクロゲ
ルの全体重量の20重祉%以下であり、一般的には10
M景%以下である。架橋化剤のすべてが架橋化に際して
の作用に必要ないものと理解される。
バインダの溶解性またはマイクロゲルの不溶解性は、実
地の試験によってml+定される。固体材料の試料を秤
量し、重量で100倍量の溶剤(前に表記した溶剤参照
〕中に入れる。試料は15分間攪拌する。残留した固体
をとυ出し、乾燥し秤量して、もとの試料のllと比較
して未溶解の固体を測定する。ポリマー性材料は絶体重
に均一なものではなく、種の不純物を含んでいるので、
試騙の麦でもとの試料の10%までのものが未溶解で残
っている場合には、この材料は溶解性であると見做すこ
とができる。反対にもとの試料の90%以上のものがあ
れば、この材料は不溶性であると見做すことができる。
一般にマイクロゲルはモノマー、開始剤系、結合剤およ
びマイクロゲルの成分の重量の1%から90%、好まし
くは5〜40%の量で存在する。さらに限定された例に
おいて、この範囲は8〜15%である。
感光性組成物中これら各成分の重量による適皇な濃度の
例は、 i) 付加重合し得るエチレン性不飽和モノマーの5〜
50% (bl  活性放射線により活性化される島始剤糸の0
.01〜15% (c)  巨大分子重合体結合剤の0〜90%、そして
釦 マイクロゲルの1〜90重量% である。さらに限定的な例として(a)成分が20〜3
5Fii−%(b)成分が2〜10重量%、そして(c
)成分が40〜60%がある。
調製され、試験されそして本発明の実施に有効であると
認められたマイクロゲルのいくつかのものの組成が第1
表に詳しく示されている。
すべての数値は重量部である。
第  1  表 A  512920−−−−0.52 B  512920−−−一−2 C512920−−−−−0,5 D  512920−−−−−5 E  512920−−−−−10 F  452329−−−−−2 G  512920−−−−−1.O H512920−−−−−1,5 工 512920−−−−−0.75 J5129−−−20−0.75 K  45.2−−31−−202.92.9L  4
9.5−−−49.5−−0.50.5M  5129
20−−−−0.50.5N  393526−− −
−2 0芯部  541714  − − − −−  20
外殻部 482326  −  −  −  − − 
 2B芯部  672211  − − − − − 
 2P外殻部 214138  −  −  −  −
 −  2Q63.2 − − 31−− − 2.9
 2.9R9,835,323,5−−−29,4−1
,984,940,223,5−−−,29,4−1,
9T     39 39 20  − − − − 
−  2.OU  48.1−−−48.1−−1.9
1.9MMA  メチルメタアクリレート mA   アクリル酸エチル MAA  メタアクリル酸 BMA  ブチルメタアクリレート EMA   エチルメタアクリレート GMA  グリシジルメタアクリレートSTY  スチ
レン AMA  アリルメタアクリレート BDDA  ブタンジオールジアクリレート以前に述べ
たように、マイクロゲルをもつ感光性組成物は、前もっ
て形成された重合体結合剤を含み、通常モノマー、開始
剤系、マイクロゲルおよび結合剤の組合せを基準にして
、重量で40%より小さくない濃度で存在する前もって
形成された重合体結合剤を含■する。単独で使用でき、
または他のものと組合せても用いられる適轟な結合剤は
、ポリメチルメタアクリレートおよびポリエチルメタア
クリレートのようなポリアクリレートおよびアルファー
アルキルポリアクリレートエステル;ポリビニルアセテ
ート、ポリビニルアセテート/アクリレート、ポリビニ
ルアセテート/メタアクリレートおよび水和したポリビ
ニルアセテートのようなポリビニルエステル;エチレン
/ビニルアセテート共重合体;ポリスチレン重合体およ
び無水マレイン酸とエステルの共重合体;塩化ビニリデ
ン/アクリロニトリル、塩化ビニリデン/メタアクリル
酸および塩化ビニリデン/酢散ビニル共重合体のような
塩化ビニリデン共重合体;ポリ塩化ビニルおよびポリ塩
化ビニル/アセテートのような共重合体;飽和および不
飽和のポリウレタン;ブタジェン/アクリロニトリル、
アクリロニトリル/ブタジェン/スチレン、メタアクリ
レート/アクリロニトリル/ブタジェン/スチレン共重
合体、2−クロロブタジェン−1,6重合体、塩化ゴム
、スチレン/ブタジェン/スチレン、スチレン/イソプ
レン/スチレンブロック共重合体のような合成ゴム;ア
クリレートまたはメタアクリレート基を含むエポキサイ
ドのような約4,000からi、ooo、oooまでの
平均分子量を有するポリグリコールの高分子ボリエテレ
ンオキチイド;式HO(OH2)nOH(nは2〜10
の数を含む整数である)のポリメチレングリコ−ルト(
1)ヘキサヒドロテレフタル、セバシンおよびテレフタ
ル酸、(2)テレフタル、イソフタルおよびセバシン酸
、(3)テレフタルおよびセノqシン酸、(4)テレフ
タルおよびインフタル酸との反応生成物から作られるよ
うな共λ合ポリエステル韮ひに(5)前記グリコールと
中テレフタル、イソフタルおよびセバシン酸、および(
It)テレフタル、イソフタル、セバシンおよびアジピ
ン酸とから作られた共N4nポリエステルの混合物;N
−メトキシメテルボリヘキサメテレンアジパアミドのよ
うなナイロンまたはポリアミド;セルロースアセテート
、セルロースアセテートスクシネートおよびセルロース
アセテートブチレートのようなセルロースエステル;メ
チルセルロース、エチルセルロースおよびベンジルセル
ロースのようなセルロースエーテル;ポリカーボネート
;ボリビニルブtラール、ポリビニルアセテートのよう
なポリビニルアセタール;ポリホルムアルデヒドなどが
含まれる。
感光性組成物の水性現像を所望する場合には、結合剤は
酸性基または組成物を水性現像液中で処理し得るように
するその他の基を充分に含有しなければならない。水で
処理し得る結合剤として有用なものは、米国特許第3,
458,311号および同第4.273,857号公報
中に1示されている。
有用な両性ポリマーはN−アルキルアクリルアミドまた
はメタアクリルアミドから導かれた中間ポリマー、米国
特許第4.295,635号中に開示されているものの
ような、酸性の皮膜形成性コモノマーとアルキルまたは
ヒドロキシアルキルアクリレートから導かれる中間ポリ
マーなどが含まれる。水性の現像忙対して、感光性組成
物層は放射線に露光されなかった部分は除去されるが、
2重量%の炭酸ナトリウムを含む水溶液のような液体に
よる現像では、実質的に影響を受けないであろう。
単独のモノマーとしてまたは他のものと組合せて用いる
ことのできる適当なモノマー類には、t−ブチルアクリ
レ−)、1,5−−e/タンジオールジアクリレー)、
N、N−ジエチルアミノエチルアクリレート、エチレン
グリコールジアクリレー)、1.4−ブタンジオールジ
アクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、
へキサメチレングリコールジアクリレート、1,3−プ
ロパンジオールジアクリレート、デカメチレングリコー
ルジアクリレート、デカメチレングリコールジメタアク
リレート、1,4−シクロヘキサンジオールジアクリレ
ート、2,2−ジメチロールプロパンジアクリレート、
クリセロールジアクリレート、トリプロピレングリコー
ルジアクリレート、グリセロールトリアクリレート、ト
リメチロールプロパ/トリアクリレート、ペンタエリス
リトールトリアクリレート、ポリオキシエチル化された
トリメチロールプロパ/トリアクリレートおよびトリメ
タアクリレートおよび米国特許第3,380,831号
公報中に開示されているような類似の化合物、2.2−
ジ(p−ヒドロキシフェニル)−プロパンジアクリレー
ト、べ7タエリスリトールテトラアクリレート、2.2
−ジー(p−ヒドロキシフェニル)−−7’ロパンジメ
タアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレー
ト、ポリオキシエチル−2,2−ジー<p−ヒドロキシ
フェニル)−フロノξンジメタアクリレート、ビスフェ
ノールAのジー(6−メタアクリルオキシ−2−ヒドロ
キシプロピル)エーテル、ビスフェノールAのジー(2
−メタアクリルオキシエチル)エーテル、ビスフェノー
ルAのジー(3−アクリルオキシ−2−ヒドロキシブロ
ビル)エーテル、ビスフェノールAのジー(2−アクリ
ルオキシエチル)エーテル、テトラクロロ−ビスフェノ
ールAのジー(6−メタアクリルオキシ−2−ヒドロキ
シプロピル)エーテル、テトラクロロ−ビスフェノール
Aのジー(2−メタアクリルオキシエチル)エーテル、
テトラブロモ−ビスフェノールAのジー(6−メタアク
リルオキシ−2−ヒドロキシプロピル)エーテル、テト
ラブロモ−ビスフェノールAのジー(2−メタアクリル
オキシエチル)エーテル、1,4−ブタンジオールのジ
ー(3−メタアクリルオキシ−2−ヒドロキシプロピル
)エーテル、ジフェノール酸のシー(3−メタアクリル
オキシ−2−ヒドロキシプロピル)エーテル、トリエチ
レングリコールジメタアクリレート、ポリオキシプロピ
ルトリメチロールプロパントリアクリレ−) (432
) 、エチレングリコールジメタアクリレート、ブチレ
ンゲリコールジメタアクリレート、1,3−ブロノξン
ジオールジメタアクリレート、1,2.4−ブタントリ
オールトリメタアクリレート、2,2.4−トリメチル
−1,6−ベンゼンジオールジメタアクリレート、ペン
タエリスリトールトリメタアクリレート、1−フェニル
エチレン−1,2−シ)タアクリレート、ペンタエリス
リトールトリメタアクリレート、トリメテロールブロノ
セントリメタアクリレート%115”−””’ンタンジ
オールジメタアクリレート、ジアリル7マレート、メチ
レン、1,4−ベンゼンジオールジメタアクリv−)、
1.4−ジイソプロペニルベンゼンおよび1,3.5−
トリイソプロRニルベンゼンなどが含まれる。
モノマーのあるクラスには、2〜15個の炭素原子をも
つアルキレングリコールまたは1〜10個のエーテル結
合をもつポリアルキレンエーテルグリコールから作られ
たアルキレ/またはポリアルキレングリコールジアクリ
レート、および米国特許第2.927.022号公報に
開示された複数の付加重合し得るエチレン性結合を特に
末端結合として有するものなどがある。%に好ましいも
のは、このような結合の少なくとも1個また好ましくは
すべてか二重結合炭素と共役しているものであυ、二重
結合は炭素との結合および窒素、酸素、硫黄のようなヘ
テロ原子との結合を含むものである。このような材料で
顕著なものは、エチレン性不飽和基特にビニリデン基が
エステルまたはアミド構造と共役されているものである
活性放射線によって活性化され、そして185℃末端で
熱的に不活性な、フリーラジカルを発生する付加重合開
始剤の好ましいものKは、共役炭素環状リング系中で2
個の環間炭素原子を有する化合物類である飽和または不
飽和多環状キノンがあυ、例えば9.10−アントラキ
ノン、1−クロロアントラキノン、2−クロロアントラ
キノ/、2−メチルアントラキノン、2−エチルアント
ラキノン、2−t−ブチルアントラキノン、オクタメチ
ルアントラキノン、1.4−ナフトキノン、  9.1
0−フ二す/スレキノン、1,2−ベンズアントラキノ
ン、2.3−ベンズアントラキノン、2−メチル−1,
4−ナフトキノン、2.3−ジクロロナフトキノン、1
.4−ジメチルアントラキノン、2.6−ジメチルアン
トラキノン、2−フェニルアントラキノン、2,6−ジ
フェニルアントラキノン、アントラキノ/アルファース
ルホ/酸のナトリウム塩、6−クロロ−2−メチルアン
トラキノン、レチンキノン、7.8,9.10−テトラ
ハイドロナフタセンキノ/および1,2,3.4−テト
ラノ\イドロベンズ(a)アントラセン−7,12−ジ
オンなどである。その他の有用な光開始剤は、なかKは
85℃の低温度で熱的に活性となるものもあるが、米国
特許第2.760,866号公報中に開示されておシ、
ベンゾイン、ビバロイン、例えばベンゾインメチルおよ
びエチルエーテルのごときアシロインエーテル類、α−
メチルベ/ゾイン、α−アリルベンゾインおよびα−フ
ェニルベンゾインを含むα−炭化水素置換芳香族アシロ
イン類などのようなビシナルケトアルドニルアルコール
類が含まれる。米国特許第2,850,445号、同第
2,875,047号、同第3.09ス096号、同第
3,074,974号、同第3.097.097号およ
び同第3.145.104号公報中で開示されている光
還元性染料および還元剤、同様に米国特許第3.42ス
161号同第3,479,185号および同第3.54
9.367号公報中で開示されているフェナジン、オキ
サジンおよびキノン型の染料、ミヒラーケトン、ベンゾ
フェノン、水素供与体を有する2、4.5−)リフェニ
ルーイミダゾリルダイマーおよびそれらの混合物なども
開始剤として用いることかできる。同様に米国特許m4
.341,860号公報中のシクロヘキサジエン化合物
も開示剤として有用である。光開始剤および元押制剤と
して上動なものは米国特許第4.132,132号公報
中に開示された増感剤である。
光重合性組成物中で用いることのできる熱重合抑止剤は
p−メトキシフェノール、ノhイドロキノン、アルキル
およびアリール置換されたノ1イドロキノンおよびキノ
ン類、t−ブチルカテコール、ピロガロール、樹脂酸銀
、ナフチルアミン、β−ナフトール、塩化第1銅、2,
6−ジーt−ブチル−p−クレゾール、フェノチアジン
、ヒリシン、ニトロベンゼンとジニトロベンゼア、p−
)ルキノンおよびクロラニルなどである。熱重合抑止剤
として有用なものに、米国特許第4.138,982号
公報中に開示されたニトロソ組成物がある。
各穐の染料および顔料を、レジスト像を見易くするため
に加えることができる。しかしながら用いる着色剤は、
望ましくは使用する活性放射線に対して透明でなければ
ならない。
使用に際して、感光性組成物は、印桐回路板を作るとき
のように基体に適用するためにフィルムによって慣用的
に付与されるが、これは当業者に周知の方法である。
温度変化に対する寸度安定性の高い適当な支持体は、例
えばポリアミド、ポリオレフィン、ポリエステル、ビニ
ルポリマーおよびセルロースエステルのような高分子化
合物から構成される広範囲のフィルムから選ぶことがで
きる。本発明のために好ましい支持体はポリエチレンテ
レフタレートである。また一般にフィルムの形で存在し
ている感光性組成物の適当な面にカバーシートを存在さ
せる。この保護カバーシートは基体に感光性組成物をラ
ミネートする直前に取シ除かれる。このカバーシートは
、支持体として前記したポリマーフィルムと同じ群から
選ぶことができる。ポリエチレンおよびポリエチレンテ
レフタレートが特に有用である。
以上に述べた感光性組成物は重合体結合体を含むものと
して説明されたが、例えばフォトレジストとして作用し
得る適当な組成物は結合剤を含む必要はないと理解され
る。このような場合、感光性組成物は、単に(1)付加
重合し得るエチレン性不飽和七ツマ−1(2活性放射線
により活性化される開始剤系、および(3)マイクロゲ
ルを含んでいればよい。一般的に、これらの3つの成分
をもとにした各成分の11に%は、成分(1)Kついて
は10〜60%好ましくは15〜65%、成分θ)につ
いては0.01〜15%好ましくは2〜10%、そして
成分(3) Kついては25〜90%好ましくは30〜
65%である。かかる組成物において、前もって形成さ
れた重合体結合剤は存在しないが、普通の添加成分は前
述の通シ加えることができると理解される。
ここで記述された組成物の好ましい用途は、フォトレジ
ストとしてであり、または印刷回路板の製造におけるよ
うなソルダーマスクとしてである。かかる技術は、例え
ば米国特許第5、469.982号のように、固体材料
を用いる技術において慣用的なことである。この方法は
基体上に感光性層をラミネートするのに使用され次の工
程、jlLIち (al  担持されている固体の感光性フィルムを基体
にラミネートし、 (bl  活性放射線に対しこの増を像的麹光し、(c
)  レジスト部を形成するためにこのj−の未露光部
を除去し、 (al  レジスト部によって保挿されていない基体部
の基体をエツチングするが、あるいは基体上に物質を沈
着させるかによって基体部を永久的に変性させることか
らなる。
支持体は普通露光工程のMIJまたは後で除去される。
ソルダーマスクの用途の場合には、物質の沈着工程は、
ハンダを付与することによって行うことができる。(銅
が好ましく伝導性で、中に回路要素を有する〕基体に対
する初期の付与にソルダーマスクとしての直接的利用を
含んでいない用途の場合、レジスト部は工程(d)の後
で除去されこれが普通なのである。
本発明の実例を示すため以下に実施例を述べる。パーセ
ント、割合および部は特記しない限シすべてl−量で示
す。
実施例 1 前記第1表のマイクロゲルAの調製、組成二メチルメタ
アクリレート51、エチルアクリレート29、メタアク
リル酸20.アリルメタアクリレート2および架橋化剤
ブタンジオールジアク リ レー ト 2 乳化重合装置は5tの4つ首フラスコKfffスタラー
、1tの添加ロート、温度計、窒素ガス注入管、水冷凝
縮器をとシ付け、そして加熱マントル中に入れて構成さ
れている。このフラスコに脱イオン水5560Fとラウ
リルスルホ/酸ナトリウム30%水溶液201を加え、
この活性剤系を窒素雰囲気の下[80℃に加熱した。
この温度でメチルメタアクリレート420 F、エチル
アクリレート240 ?、メタアクリル酸1652、ア
リルメタアクリレート16Fおよび1,4−ブタンジオ
ールジアクリレート16tを含むモノマー混合物の25
%を1度に加えた。これに、過硫酸カリウムの5%水性
溶液10−と、リン酸カリウムの7%水性溶液10−と
を直ちに添加した。反応混合物は乳濁し85℃に発熱し
た。温度を80〜88℃の間に保ちなから、モノマー混
合物の残部を90分の期間にわたって添加した。添加が
終了したら、反応混合物を8゜〜85℃でさらに2時間
加熱した。青味を帯びた乳濁液を室温まで冷却し、メタ
ノールを添加して凝固させた。得られたスラリーをe過
し、水で2回水洗し、吸引して乾かしそして得られた微
細な粉末を100℃の炉の中で4時間乾燥させた。粉末
粒子の球状の形が顕微fiKよって確認された。
実施例 2 第1表中のマイクロゲルB−NおよびQ−[7モノマ一
混合物をそれぞれ示された組成とするよう変えたこと以
外は、冥施例1と同じにしてマイクロゲルが調製された
第1表の芯−外殻マイクロゲルQおよびP実施例1の装
置と基本的な製法を用いたが、まず芯部を作るために第
1のモノマー混合物ヲ反応させ、そして異った組成をも
つ外殻部を作るために第2のモノマー混合物で乳化1合
の残りを完了させるように変更した。マイクロゲル0は
メチルメタアクリレ−)315F、エチルアクリレート
180F、メタアクリル酸55fおよび1.4−ブタン
ジオールジアクリレー)10.7Pからなる第1のモノ
マー混合物を、50分間にわたって加えることによって
調製した。ついでメチルメタアクリレート10!M、エ
チルアクリレート601、メタアクリル酸11C1およ
び1.4−ブタンジオールジアクリレー) 5.55’
からなる第2のモノマー混付物を、40分間にわたって
添加した。
マイクロゲルPを、モノマー混合物を変更することによ
υ同じようにして調製した。
実施例 6 比較のフォトレジスト用コーティング組成物・を以下の
ようにして調製した、即ち 添 加 剤        対照 本発明酸価130、
’rg 87℃ マイクロゲルB         −10,0PO17
o4’ WsRN−3000ボリエヂレン   0.5
   0.5オキサイド 分子量400,000 エトキシ化されたトリメチロール1口A   23.0
  23.0ントリアクリレートモノマー イタコン酸           1.0  1.0マ
レイン酸           1.0  1.0ウレ
タンジアクリレートモノマー      4.0   
4.0エチルp−ジメチルアミノベンゾニー)    
2.0   2.0ミヒラーケトン         
0.15  0.15ベンゾフエノン        
 5.2  5.24−メチル−4−トリクロロメチル
ーシ   0.1   0.1クロヘキザジエノン ロイコクリスタルバイオレット       0・60
・3ジエチルヒドロキシルアミン        0.
2   0.2ビクトリアグリ−yc、L #4200
0   0.04  0.04ビクトリアブルーc、1
.#−42575    0.04  0.04組成物
をコーティングするために塩化メチレン96%およびメ
タノール7%からなる溶剤中に、重量で67%に溶解し
た。支持体上にコーティングし溶剤を除くために乾燥し
た後、厚み約0.003;’P(1,5ミル)゛のフィ
ルムが作られた。
このフィルムを銅仄ラミネートし、感光度、解像度、1
%炭酸力) 9ウム水溶液中での現像および1,5%水
酸化カリウム水溶液でのストリッピング等の、標準的フ
ォトレジスト特性を試験した。試料はさらに、ジエンス
とクレムとKより[Journal of Appll
ed Physicsj IL458〜471 (19
46)に発表された方法を用い、1090コンソールに
とり付けたDu Font社の熱力学鱗析装置でクリー
プ粘度i度が測定された。対照と比ベルト、本発明のは
同等の解像度においてい< ラか長い現像とストリッピ
ング時間をもつが、感光度は十分にV]一段高かった。
対照のクリープ粘度は34メガポイズであったが、マイ
クロゲルの添加によりこの値は46メガポイズに増加し
た。
銅に対するフォトレジスト組成物の接着性と柔軟性とを
、ラミネート直後とラミネート後時間をおいた試料との
両方について試験した。銅を種々の角度Kkシ曲げたと
き、またはナイフでフォトレジスト中に十字形の切れ目
を入れ、透明な粘着テープで覆ってひきはがしたとき、
対照と本発明とはいずれも同等であった。両フィルムの
試料とも表面の割目を現わす前に同じ量の曲げKitえ
ることかでき、また同じ童の十字形切れ目によって同じ
くらいの量の7オトレジストがテープにより取シ除かれ
た。
両フィルムのテンティング、即ち孔の上に塗ったときく
フィルムかもとのま\の形を保つt能力についても試験
した。清浄な銅を@覆した板に、6rran、4闘およ
び6酊の直径を有する孔をそれぞれ100個ドリルであ
けた。フォトレジストフィルムをついでリストン■HR
L−24型熱ロールラミネーターを用いて、105Cで
これらの孔の上例ラミネートした。ラミネートされた板
の孔の上の層を光重合させるため、扁圧水銀蒸気灯を用
いて慣用方法により照射した。カバーシートを取り除き
、フィルムを1%炭酸力トリウム水溶液をかるく吹付け
ることにより現像し、そして破れたテントの数を測定し
た。この板をついで酸エッチし、また2、1/1.9 
kycm2 (3G/28psi )の圧力で約1Nの
HClで処理し、そして破しタテントの数を魯び測定し
た。結果はマイクロゲルの濃度が増すと共にテントの能
力が一般に改善されるのが示された。
「本発明」と同じ成分の組合せであるが、エトキシ化さ
れたトリメヂロールブロ・セントリアクリレートモノマ
ーが24.5(23,0でなく〕、イタコン酸がα5(
1,0でなく)、マレイン酸が0(1,0でなく〕そし
てビクトリアブルーが0.02(0,04でなく〕とし
た、別のフォトレジストコーティング組成物をy4製し
た。対照に比べて改良された結果が得られ、この組成も
「本発明」とした。
実施例 4 可溶性の結合剤のすべてか不溶性のマイクロゲルで置換
される結合剤の置換率またはそれ以下の徨々の置換率を
用いること以外は、実施例6と同様に複数のフォトレジ
スト組成物を作った。対照とマイクロゲルフィルムとの
相対的性質を以下に示す。
マイクロゲル含有量の変化 マイクロゲル%   0 10  12.4 15.6
 19   31.2325(フィルム中の 固体として〕 として) 現像速度   875805788 735 709 
 551 116感光度   22 2324 242
4〜2523〜2423ストリツピング  28 35
  35  36  38   45  75の時間 柔軟性1澹性  ======  劣るクリープ粘度 
 54 45 58  53  65  163 54
2ストリツピングの時間は秒で示す。
クリープ粘度はメガポイズで示す。
=印は前の実施例に類似であることを示す。
結合剤としてマイクロゲルだけを含むフィルムは、解像
度と柔軟性/接着性とにおいて著しい劣化を示したが、
これはなお印刷回路板を作るのに適したフィルムとして
作用し、クリープ粘度が隔いことが重要なファクターと
なる時にはもつとも好都合に用いられるであろう。
結合剤のわずか25%またはそれ以下をマイクロゲルで
置換した時、現像速度ストリップの時間の低下の見返シ
として、感光度とクリープ粘度とに利点かあり、しかも
解像度と柔軟性/接着性のような重要な性lxをいささ
かも損はないことか前記のデータから明らかである。
実施例 5 結合剤の10%を置換するために用いら才りるマイクロ
ゲル粒子が糧々の架橋化レベルをもつものを用いること
以外は実施例3のようにしてフォトレジスト組成物11
i−調製した。以下の結果は、2%、5%および10%
架橋化マイクロゲルとマイクロゲルを添加しない対照と
の効果を比べたものである。架橋化の係は合成の際に添
加した架橋化されたモノマーの部を表わしている。調製
したフィルムは、テンティング能力のより厳密な試験を
するために、実施例1の0.0037rm (1,5ミ
ル)でなく 0.0033mm(t3ミル)とされた。
現像速度       814 781 790858
感光度     222!r−242h2423ストリ
ッピング時間    24  28  50 34クリ
一プ粘度       52  61  63112テ
づインク(6rrrrnの孔の割れない串)2%  7
%  9% 15%なお、各単位は前記の通りである。
これらの厚み0.0033mm(1,3ミル)のフィル
ムについての試験により、マイクロゲルの混入に対しテ
ンティング、クリープ粘度および感光度について一致し
た改善が示された。
実施例 6 対照と10%のマイクロゲルを含むものとの塗膜が、溶
剤を加えることな〈実施例乙のようにして作られた。有
機溶剤が無い場合の相対的性質を試験するためKmm動
物支持体上に溶融押出した。試料を銅にラミネートし化
学的および物理的の試験を行ったとき、対照と本発明の
両方についてス)IJツビング時間が長かったことを除
けば、マイクロゲルの添加は、現像速度が犬きくストリ
ップ時間が長いことの見返シとして感光度とクリープ粘
度とに利点を生ずることが確められた。実施例5のよう
に厚みC10033m(1,5ミル)のフィルム試料で
試験したとき、テンティングにおいて著しい優れた効果
が対照に比べて本発明品について認められた。このよう
に、マイクロゲルの効果はフィルム調製に用いる塗布方
法には関係しないと結論することができる。
実施例 7 種々のマイクロゲルを使用すること以外は実施例3と同
じようにフォトポリマー組成物を調製した。フォトレジ
ストフィルムを作るためにこれら組成物中に混入したマ
イクロゲルの組成は、v、1表に概要が示しである。酸
性群を含むマイクロゲルはこれらの塗布用組成物中に混
入するのが容易である、つまり分散時間が短かくてすむ
ことが認められた。
実施例 8 糎々の主要な結合剤と七ツマ−をマイクロゲルと共に用
いたこと以外は実施例3と同様にして各種の7オトボリ
マ一組成物を調製した。使用した結合剤はメチルメタア
クリレート/エテルアクリレート/アクリル酸/シクロ
ヘキシルメタアクリレートの15/40/25/20の
ポリマー ; n−1;ertオクチルアクリルアミド
40%、メチルメタアクリレート34%、アクリルrl
Ii。
係、ヒドロキシプロピルメタアクリレート6%およびt
−ブデルアミノエチルメタアクリレート4%からの両性
中間ポリマー;スチレンブチルマレエートのボリマー:
メチルメタアクリレート/2−エチル−へキシルアクリ
レート/メタアクリル酸の65/31/2のポリマーお
よびスチレンメタアクリル酸のポリマーなどである。
使用したその他の七ツマ−は、トリメチロールプロパン
トリアクリレートおよびペンタエリスリトールトリアク
リレートである。フィルム試料は、前の実施例のように
、粘度の相違に応じて0.0032關(129ミル)か
ら0.0045調(t79ミル)までの膜厚に調製した
。マイクロゲルを加えない対照と比べて、マイクロゲル
が加えられたときクリープ粘度および感光度に改善のあ
ることが認められた。
実施例 9 第1辰のマイクロゲルBとJを、実施例3の重合体結合
剤中に2重ロール混合機を用いて分散させた。マイクロ
ゲル/N合体の50750のもの各1001を、塩化メ
チレン/メタノール93/7の混合液100−とそれぞ
れ混合し、約1時間放置した。2重ロール混合機を3=
1の重合体/トリエチレンーダリコールジアセテートに
よって清掃した。この材料を175℃で10分間混合し
た。混曾と溶融は、良好であると先受けられ、材料を切
り取9、操作中に何回もくり返し装置の中に入れた。1
0分の終シに、溶融した混合物を混合機から切り取り冷
却した。
使用に先立って、フォトポリマー組成物中にこの材料を
手作業で混ぜた。この混合材料によって作られたフィル
ムは、攪拌によって作られた組成物と同じの良好なりリ
ープ粘度特性を示した。
実施例 10 実施例1のようにして作られたマイクロゲルを含み実施
例5の組成を有しており、そして実施例6のように溶融
押出しされたフィルム試料を、印刷回路板製造に対して
試験した。フィルムは銅級覆板にラミネートされ、回路
板テストパターンを通じリストン■PC24型露光装置
でg光した。フィルムのカバーシート’を取り除き、露
光済みの板を1%の炭酸ナトリウム水溶液を用いリスト
ン■の水性現像装置ADS −24型中で、上部スプレ
ー圧2.1 k)/二2(30psi)下部スプレー圧
2.0 Q/α2(29psi)、コンベア送り150
.30℃の条件で処理した。試料をレジストのない部分
の銅を除去するためにエツチングし、ついでレジスト’
re 1. s%水性水酸化カリウム溶液によるストリ
ッピングで除去した。得られた印刷回路板を詳細に検査
した所、市販のフォトレジストフィルムによって作られ
た回路板と同等の品質をもつことが示された。
実施例 11 結合剤の相対的溶解性とマイクロゲルの不溶解性とを実
際の試験で測定した。2%の炭酸ナトリウム水溶液10
0mt中に試料1f金入れ29℃で10分間攪拌した。
試料は40〜45分間遠心分離を行い上澄液を除去した
。残留した固体を最小量の水で洗い、遠心分離し、乾燥
しそして秤量した。上澄液もまた乾燥し、秤量した。以
下は実施例1の重合体結合剤および第1表のマイクロゲ
ルCとGの実験結果である。
試 料      残留固体(1) 重合体結合剤    0.0150 マイクロケ°ルOO,9736 マイクロゲルG    O,9674 実施例 12 マイクロゲルBと米国特許第4.414,278号の実
施例1により公知のポリトリメチロールプロパントリア
クリレートのビーズとの相対的膨潤性を実際の試駆で測
定した。メタノール8重量%と塩化メチレン92m−t
%とからなる試験液の粘度が、2号のスピンドルを有す
るブルックフィールド粘度計を用いて測定され265セ
ンチボイズの値であった。マイクロゲルBとポリトリメ
チロールプロパンドリアクリレートの谷102の固体試
料を試験/&10C1中にそれぞれ加え、24時間攪拌
した。この期間の終りに、蒸発を補正するためにxiを
1102とした。2号スピンドルを有する同じプルツク
フィール粘度計を用いて、マイクロゲルB液の粘反は3
800センチボイスであったが、ポリトリメゾロールプ
ロパントリアクリレートビーズの液は5.0七ンテボイ
ズであった。24時間の終りの外観は、試験液中でマイ
クロゲルBは目で誌めることかできず、試験液と同じ屈
折率をもつと仮定され(明白に膨潤により)るが、試験
液中で対照のビーズはkb液液中初めに加えたときと同
じの乳濁した外観を有していた。
特許出願人  イー・アイ・デュポン・ド・ネモアース
・アンド・コンパニー 外2名

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1)a、付加重合し得るエチレン性不飽和モノマ b、活性放射線により活性化される開始剤系、 c、前もつて形成された巨大分子重合体結合剤、および d、マイクロゲル からなる感光性組成物であつて、この組成物は固体であ
    り、かつ以下の性質 (1)重合体結合剤とマイクロゲルとは、肉眼で見たと
    き実質的に1つの相を形成しており、あるいは (2)重合体結合剤とマイクロゲルとは、25℃より高
    いガラス転位点をもつマイクロゲルに対し、50℃以上
    とは異らないガラス転位点を有する、 の少なくとも1つを有することを特徴とする感光性組成
    物。 2)前記(1)と(2)の両方の性質を有するものであ
    る特許請求の範囲第1項記載の組成物。 3)前記実質的に1つの相が、10倍に拡大した後でも
    認められかつ存在するものである、特許請求の範囲第1
    項記載の組成物。 4)前記実質的に1つの相が、100倍に拡大した後で
    も認められかつ存在するものである、特許請求の範囲第
    2項記載の組成物。 5)前記重合体結合剤とマイクロゲルとのガラス転位点
    が、25℃以上とは異らないものである特許請求の範囲
    第1項記載の組成物。 6)前記マイクロゲルが、以下の各溶剤、即ちn−ヘプ
    タン、四塩化炭素、トルエン、塩化メチレン、酢酸エチ
    ル、アセトン、アセトニトリル、酢酸、ジメチルスルフ
    オキシド、ジメチルホルムアミド、ホルムアミド、水、
    10重量%までのアンモニアを含む水性水酸化アンモニ
    ウム溶液、10重量%までの水酸化カリウムを含む水性
    水酸化カリウム溶液、塩化メチレン92重量%とメタノ
    ール8重量%とからなる塩化メチレン−メタノール溶液
    、および1重量%の炭酸ナトリウムを含む水性炭酸ナト
    リウム溶液の少なくとも1つのものの中で少なくとも1
    0%は膨潤するものである、特許請求の範囲第1項記載
    の組成物。 7)前記マイクロゲルが少なくとも1つの前記溶剤中で
    少なくとも50%は膨潤するものである、特許請求の範
    囲第6項記載の組成物。 8)前記組成物は、少なくとも20メガポイズのクリー
    プ粘度を有するものである、特許請求の範囲第1項記載
    の組成物。 9)前記組成物は、少なくとも40メガポイズのクリー
    プ粘度を有するものである、特許請求の範囲第8項記載
    の組成物。 10)a、付加重合し得るエチレン性不飽和モノマ b、活性放射線により活性化される開始剤系、 c、前もつて形成された巨大分子重合体結合剤、および d、マイクロゲル からなる感光性組成物であつて、この組成物は固体であ
    り、かつ以下の性質 (1)重合体結合剤とマイクロゲルとは、肉眼で見たと
    き実質的に1つの相を形成しており、あるいは (2)重合体結合剤とマイクロゲルとは、25℃より高
    いガラス転位点をもつマイクロゲルに対し、50℃以上
    とは異らないガラス転位点を有する、 の少なくとも1つをもつことからなる感光性組成物が、
    ロール状に巻かれた可撓性フィルムに担持された貯蔵安
    定性の感光性組成物を構成している物品。 11)前記(1)と(2)の両方の性質を有するもので
    ある特許請求の範囲第10項記載の物品。 12)前記実質的に1つの相が、10倍に拡大した後で
    も認められかつ存在するものである、特許請求の範囲第
    10項記載の物品。 13)前記実質的に1つの相が、100倍に拡大した後
    でも認められかつ存在するものである、特許請求の範囲
    第12項記載の物品。 14)前記重合体結合剤とマイクロゲルとのガラス転位
    点が、25℃以上とは異らないものである、特許請求の
    範囲第10項記載の物品。 15)前記マイクロゲルが、以下の各溶剤、即ちn−ヘ
    プタン、四塩化炭素、トルエン、塩化メチレン、酢酸エ
    チル、アセトン、アセトニトリル、酢酸、ジメチルスル
    フオキシド、ジメチルホルムアミド、ホルムアミド、水
    、10重量%までのアンモニアを含む水性水酸化アンモ
    ニウム溶液、10重量%までの水酸化カリウムを含む水
    性水酸化カリウム溶液、塩化メチレン92重量%とメタ
    ノール8重量%とからなる塩化メチレン−メタノール溶
    液、および1重量%の炭酸ナトリウムを含む水性炭酸ナ
    トリウム溶液の少なくとも1つのものの中で少なくとも
    10%は膨潤するものである、特許請求の範囲第10項
    記載の物品。 16)前記マイクロゲルが、少なくとも1つの溶剤中で
    少なくとも50%は膨潤するものである、特許請求の範
    囲第15項記載の物品。 17)少なくとも20メガポイズのクリープ粘度を有す
    るものである、特許請求の範囲第10項記載の物品。 18)少なくとも40メガポイズのクリープ粘度を有す
    るものである、特許請求の範囲第17項記載の物品。 19)a、付加重合し得るエチレン性不飽和モノマ b、活性放射線によつて活性化される開始剤系、および c、マイクロゲル からなる感光性組成物であつて、この組成物は前もつて
    形成された巨大分子重合体結合剤を実質的に含まないと
    いう条件の下に固体であることからなるものが、ロール
    状に巻かれた可撓性フィルムに担持された貯蔵安定性の
    感光性組成物を構成している物品。 20)前記マイクロゲルが、以下の溶剤、即ちn−ヘプ
    タン、四塩化炭素、トルエン、塩化メチレン、酢酸エチ
    ル、アセトン、アセトニトリル、酢酸、ジメチルスルフ
    オキシド、ジメチルホルムアミド、ホルムアミド、水、
    10重量%までのアンモニアを含む水性水酸化アンモニ
    ウム溶液、10重量%までの水酸化カリウムを含む水性
    水酸化カリウム溶液、塩化メチレン92重量%とメタノ
    ール8重量%とからなる塩化メチレン−メタノール溶液
    、および1重量%の炭酸ナトリウムを含む水性炭酸ナト
    リウム溶液の少なくとも1つのものの中で少なくとも1
    0%は膨潤するものである、特許請求の範囲第19項記
    載の物品。 21)前記マイクロゲルが少なくとも1つの溶剤中で少
    なくとも50%は膨潤するものである、特許請求の範囲
    第20項記載の物品。 22)少なくとも20メガポイズのクリープ粘度を有す
    るものである、特許請求の範囲第19項記載の物品。 23)少なくとも40メガポイズのクリープ粘度を有す
    るものである、特許請求の範囲第22項記載の物品。 24)次の工程 A 担持されている固体の感光性フィルムを基体にラミ
    ネートし、 B 活性放射線に対しこの層を像様露光し、 C レジスト部を形成するためこの層の未露光部を除去
    し、 D レジスト部によつて保護されていない基体部の基体
    をエツチングするか、あるいは この基体上に物質を沈着させるかによつて 基体部を永久的に変性させる ことからなる、基体に感光性フィルムをラミネートする
    方法において、感光性フィルムはa、付加重合し得るエ
    チレン性不飽和モノマ b、活性放射線により活性化される開始剤系、 c、前もつて形成された巨大分子重合体結合剤、および d、マイクロゲル を含み、この感光性組成物は固体であり、かつ以下の性
    質 (1)重合体結合剤とマイクロゲルとは、肉眼で見たと
    き実質的に1つの相を形成しており、あるいは (2)重合体結合剤とマイクロゲルとは、25℃より高
    いガラス転位点をもつマイクロゲルに対し、50℃以上
    とは異らないガラス転位点を有する、 の少なくとも1つを有する、改良された感光性組成物を
    用いる方法。 25)前記の工程Dの後でレジスト部が基体から除去さ
    れる、特許請求の範囲第24項記載の方法。 26)前記(1)と(2)の両方の性質をもつものであ
    る、特許請求の範囲第24項記載の方法。 27)前記実質的に1つの相が、10倍に拡大した後で
    も認められかつ存在するものである、特許請求の範囲第
    26項記載の方法。 28)前記実質的に1つの相が、100倍に拡大した後
    でも認められかつ存在するものである、特許請求の範囲
    第27項記載の方法。 29)前記重合体結合剤とマイクロゲルとのガラス転位
    点が、25℃とは異らないものである、特許請求の範囲
    第26項記載の方法。 30)前記マイクロゲルが以下の各溶剤、即ちn−ヘプ
    タン、四塩化炭素、トルエン、塩化メチレン、酢酸エチ
    ル、アセトン、アセトニトリル、酢酸、ジメチルスルフ
    オキシド、ジメチルホルムアミド、ホルムアミド、水、
    10重量%までのアンモニアを含む水性水酸化アンモニ
    ア溶液、10重量%までの水酸化カリウムを含む水性水
    酸化カリウム溶液、塩化メチレン92重量%とメタノー
    ル8重量%とからなる塩化メチレン−メタノール溶液、
    および1重量%の炭酸ナトリウムを含む水性炭酸ナトリ
    ウム溶液の少なくとも1つの溶剤中で少なくとも10%
    は膨潤するものである、特許請求の範囲第26項記載の
    方法。 31)前記マイクロゲルが少なくとも1つの溶剤中で少
    なくとも50%は膨潤するものである、特許請求の範囲
    第30項記載の方法。 32)前記組成物が、少なくとも20メガポイズのクリ
    ープ粘度を有するものである、特許請求の範囲第26項
    記載の方法。 33)前記組成物が、少なくとも40メガポイズのクリ
    ープ粘度を有するものである、特許請求の範囲第32項
    記載の方法。 34)次の工程 A 担持されている固体の感光性フィルムを基体にラミ
    ネートし、 B 活性放射線に対しこの層を像様露光し、 C レジスト部を形成するためにこの層の未露光部を除
    去し、 D レジスト部によつて保護されていない基体部の基体
    をエツチングするか、あるいは この基体上に物質を沈着させるかによつて、基体部を永
    久的に変性させる、 ことからなる、基体に感光性フィルムをラミネートする
    方法において、感光性フィルムはa、付加重合し得るエ
    チレン性不飽和モノマ b、活性放射線によつて活性化される開始剤系、および c、マイクロゲル からなる感光性組成物であつて、この組成物は前もつて
    形成された巨大分子重合体結合剤を実質的に含まないと
    いう条件の下に固体であるという、改良された感光性組
    成物を用いる方法。 35)前記工程Dの後でレジスト部が基体から除去され
    る特許請求の範囲第34項記載の方法。 36)前記マイクロゲルが、以下の溶剤、即ちn−ヘプ
    タン、四塩化炭素、トルエン、塩化メチレン、酢酸エチ
    ル、アセトン、アセトニトリル、酢酸、ジメチルスルフ
    オキシド、ジメチルホルムアミド、ホルムアミド、水、
    10重量%までのアンモニアを含む水性水酸化アンモニ
    ウム溶液、10重量%までの水酸化カリウムを含む水性
    水酸化カリウム溶液、塩化メチレン92重量%とメタノ
    ール8重量%とからなる塩化メチレン−メタノール溶液
    、および1重量%の炭酸ナトリウムを含む水性炭酸ナト
    リウム溶液、の少なくとも1つのものの中で少なくとも
    10%は膨潤するものである、特許請求の範囲第34項
    記載の方法。 37)前記マイクロゲルが少なくとも1つの溶剤中で少
    なくとも50%は膨潤するものである、特許請求の範囲
    第36項記載の方法。 38)前記組成物が、少なくとも20メガポイズのクリ
    ープ粘度を有するものである、特許請求の範囲第34項
    記載の方法。 39)前記組成物が、少なくとも40メガポイズのクリ
    ープ粘度を有するものである、特許請求の範囲第38項
    記載の方法。
JP62010147A 1986-01-22 1987-01-21 マイクロゲルを含有する感光性組成物 Expired - Lifetime JPH0711700B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US06/821,330 US4753865A (en) 1986-01-22 1986-01-22 Photosensitive compositions containing microgels
US821330 2007-06-22

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS62173455A true JPS62173455A (ja) 1987-07-30
JPH0711700B2 JPH0711700B2 (ja) 1995-02-08

Family

ID=25233095

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP62010147A Expired - Lifetime JPH0711700B2 (ja) 1986-01-22 1987-01-21 マイクロゲルを含有する感光性組成物

Country Status (8)

Country Link
US (1) US4753865A (ja)
EP (1) EP0230936B1 (ja)
JP (1) JPH0711700B2 (ja)
KR (1) KR870007451A (ja)
CN (1) CN1016467B (ja)
BR (1) BR8700222A (ja)
CA (1) CA1288538C (ja)
DE (1) DE3765643D1 (ja)

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63229451A (ja) * 1987-02-28 1988-09-26 ビーエーエスエフ アクチェンゲゼルシャフト 高められた可撓性を有する感光性記録材料
JPS6480942A (en) * 1987-09-23 1989-03-27 Chiaki Azuma Photosensitive microgel particles
JPH02108632A (ja) * 1988-08-30 1990-04-20 E I Du Pont De Nemours & Co 柔軟性が増大したフレキソ印刷版の製法
JPH02175702A (ja) * 1988-08-30 1990-07-09 E I Du Pont De Nemours & Co コアシエルミクロゲルを含有する水系で処理しうる感光性組成物
JPH04342258A (ja) * 1990-09-05 1992-11-27 E I Du Pont De Nemours & Co 溶媒耐性が改善された感光性エラストマー部材
WO1993003423A1 (en) * 1991-08-09 1993-02-18 Toyo Ink Manufacturing Co., Ltd. Photosensitive resin composition, production thereof, and flexographic plate material
JPH05501457A (ja) * 1989-10-31 1993-03-18 イー・アイ・デュポン・ドゥ・ヌムール・アンド・カンパニー 低い熱履歴をもつ感光性材料の製造方法
JPH0651511A (ja) * 1991-08-09 1994-02-25 Toyo Ink Mfg Co Ltd 感光性樹脂組成物、その製造方法及びフレキソ印刷用原版
WO1994023341A1 (en) * 1993-03-31 1994-10-13 Toyo Ink Manufacturing Co., Ltd. Reactive microgel, photosensitive resin composition containing the same, and flexographic plate material

Families Citing this family (62)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5886101A (en) 1988-03-02 1999-03-23 E. I. Du Pont De Nemours And Company Solvent dispersible interpenetrating polymer networks
US5075192A (en) * 1988-08-30 1991-12-24 E. I. Du Pont De Nemours And Company Aqueous processible photosensitive compositions containing core shell microgels
US5229434A (en) * 1988-12-20 1993-07-20 Toyo Ink Manufacturing Co., Ltd. Process for the production of reactive microgel and resin composition containing the microgel
US5002854A (en) * 1989-04-21 1991-03-26 E. I. Du Pont De Nemours And Company Solid imaging method using compositions containing core-shell polymers
US5279689A (en) * 1989-06-30 1994-01-18 E. I. Du Pont De Nemours And Company Method for replicating holographic optical elements
CA2020180C (en) * 1989-06-30 2000-01-04 Stephen A. Zager Method for making optically readable media containing embossed information
US5171655A (en) * 1989-08-03 1992-12-15 Fuji Photo Film Co., Ltd. Photohardenable light-sensitive composition
US5292622A (en) * 1989-12-15 1994-03-08 E. I. Du Pont De Nemours And Company Process for preparation of images on tonable light-sensitive layers
US5210001A (en) * 1989-12-15 1993-05-11 E. I. Du Pont De Nemours And Company Process for the preparation of images on tonable, light-sensitive layers
DE3941446C1 (ja) * 1989-12-15 1990-12-20 Du Pont De Nemours (Deutschland) Gmbh, 6380 Bad Homburg, De
EP0501433B1 (en) * 1991-02-28 1997-05-07 E.I. Du Pont De Nemours And Company Photosensitive compositions using solvent dispersible interpenetrating polymer networks
JPH04274428A (ja) * 1991-03-01 1992-09-30 Nippon Paint Co Ltd オフセット印刷用感光性組成物
US6210854B1 (en) 1993-08-27 2001-04-03 E. I. Du Pont De Nemours And Company Aqueous developable flexographic printing plate
US5798019A (en) 1995-09-29 1998-08-25 E. I. Du Pont De Nemours And Company Methods and apparatus for forming cylindrical photosensitive elements
US5721088A (en) * 1995-12-20 1998-02-24 Ppg Industries, Inc. Electrodepositable photoimageable compositions with improved edge coverage
US5811220A (en) * 1996-10-10 1998-09-22 Polaroid Corporation On-press lithographic development methodology facilitated by the use of a disperse hydrophilic microgel
EP0970499A1 (en) * 1997-03-25 2000-01-12 E.I. Du Pont De Nemours And Company Field emitter cathode backplate structures for display panels
BR9911536B1 (pt) 1998-06-29 2009-01-13 composiÇço polimÉrica fotocurÁvel, composiÇço polimÉrica curada, precursor de prancha de impressço flexogrÁfica, prancha de impressço flexogrÁfica, e processo para impressço sobre substrato.
US20060208621A1 (en) * 1999-09-21 2006-09-21 Amey Daniel I Jr Field emitter cathode backplate structures for display panels
US7183450B2 (en) * 2002-07-22 2007-02-27 Exxonmobil Chemical Patents Inc. Olefin oligomerization
US7398812B2 (en) 2003-12-31 2008-07-15 E.I. Du Pont De Nemours And Company Apparatus for thermal development having a removable support member
US7682775B2 (en) * 2004-03-05 2010-03-23 E. I. Du Pont De Nemours And Company Process for preparing a flexographic printing plate
US8142987B2 (en) 2004-04-10 2012-03-27 Eastman Kodak Company Method of producing a relief image for printing
JP4342373B2 (ja) * 2004-04-30 2009-10-14 東京応化工業株式会社 凸版印刷用感光性印刷原版、凸版印刷版の製造方法、および該製造方法用遮光インク
JP2006003570A (ja) * 2004-06-16 2006-01-05 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd 印刷版製造用感光性組成物、並びに、これを用いた感光性印刷原版積層体および印刷版
US20060027113A1 (en) 2004-08-03 2006-02-09 Hackler Mark A Method and apparatus for thermal development with supporting surface for a development medium
US7503258B2 (en) 2004-08-03 2009-03-17 E. I. Du Pont De Nemours & Company Method and apparatus for thermal development with development medium remover
US20060154180A1 (en) 2005-01-07 2006-07-13 Kannurpatti Anandkumar R Imaging element for use as a recording element and process of using the imaging element
US20060234152A1 (en) 2005-04-19 2006-10-19 Hackler Mark A Method for thermal development of a photosensitive element using an oriented development medium
JP2007015147A (ja) * 2005-07-05 2007-01-25 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd 凸版印刷用感光性積層印刷原版の製造方法、凸版印刷用感光性積層印刷原版、および凸版印刷版の製造方法
US7358026B2 (en) * 2005-09-15 2008-04-15 E. I. Du Pont De Nemours And Company Method for thermal development of a photosensitive element using a development medium having a support
JP2007224093A (ja) * 2006-02-21 2007-09-06 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd 接着層形成用組成物、及びこれを用いた凸版印刷版、並びに凸版印刷版の製造方法
US7846639B2 (en) 2006-06-30 2010-12-07 E. I. Du Pont De Nemours And Company Imaging element having a photoluminescent tag and process of using the imaging element to form a recording element
EP2084012B1 (en) 2006-11-15 2011-03-09 3M Innovative Properties Company Flexographic printing with curing during transfer to substrate
BRPI0718764A2 (pt) * 2006-11-15 2014-01-21 3M Innovative Properties Co Material de transferência auxiliado por remoção de solvente para impressão flexográfica
US7691550B2 (en) 2007-06-20 2010-04-06 E.I. Du Pont De Nemours And Company Method for making a relief printing form
EP2026132B1 (en) 2007-08-16 2013-03-13 E. I. Du Pont de Nemours and Company Process for making a cylindrically-shaped photosensitive element for use as a printing form
US8470518B2 (en) 2007-09-14 2013-06-25 E I Du Pont De Nemours And Company Photosensitive element having reinforcing particles and method for preparing a printing form from the element
US8236479B2 (en) 2008-01-23 2012-08-07 E I Du Pont De Nemours And Company Method for printing a pattern on a substrate
EP2085820B1 (en) 2008-01-30 2015-02-25 E. I. du Pont de Nemours and Company Apparatus and method for preparing relief printing form
US8241835B2 (en) * 2008-01-30 2012-08-14 E I Du Pont De Nemours And Company Device and method for preparing relief printing form
US9057958B2 (en) 2008-03-31 2015-06-16 E I Du Pont De Nemours And Company Apparatus for thermal development with a conformable support
US8492073B2 (en) * 2008-03-31 2013-07-23 E I Du Pont De Nemours And Company Method for thermal development with a conformable support
EP2112556B1 (en) 2008-03-31 2015-04-29 E.I. Dupont De Nemours And Company Method and apparatus for thermal development with a conformable support
EP2154572B1 (en) 2008-08-15 2017-05-03 E. I. du Pont de Nemours and Company Process for making a cylindrically-shaped photosensitive element for use as a printing form
US8465904B2 (en) 2008-10-31 2013-06-18 E I Du Pont De Nemours And Company Method for preparing a printing form from a photopolymerizable element
EP2448764B1 (en) 2009-07-02 2016-03-02 E. I. du Pont de Nemours and Company Method for preparing a relief printing form and use thereof in a method for printing a material onto a substrate
US9069252B2 (en) 2011-08-26 2015-06-30 E I Du Pont De Nemours And Company Method for preparing a relief printing form
US8895228B2 (en) 2011-11-02 2014-11-25 E I Du Pont De Nemours And Company Method for thermal treatment of relief surface for a relief printing form
US8985020B2 (en) 2011-11-02 2015-03-24 E I Du Pont De Nemours And Company Method and apparatus for thermal treatment of printing surface in relief printing
US9032877B2 (en) 2011-11-02 2015-05-19 E I Du Pont De Nemours And Company Method and an apparatus having a compressible collar for thermally treating a photosensitive precursor
US20130139714A1 (en) 2011-12-02 2013-06-06 E.I. Du Pont De Nemours And Company Method for making flexographic printing forms by welding edges of photosensitive elements with microwave energy
US9134612B2 (en) 2012-03-27 2015-09-15 E I Du Pont De Nemours And Company Printing form precursor having elastomeric cap layer and a method of preparing a printing form from the precursor
US9097974B2 (en) 2012-08-23 2015-08-04 E I Du Pont De Nemours And Company Method for preparing a relief printing form
JP6651500B2 (ja) 2014-07-17 2020-02-19 ザ リージェンツ オブ ザ ユニバーシティ オブ カリフォルニア 生物医学的応用のための制御可能な自己アニーリング型ミクロゲル粒子
WO2016126801A1 (en) 2015-02-04 2016-08-11 E I Du Pont De Nemours And Company Conductive paste composition and semiconductor devices made therewith
CN107850838A (zh) 2015-06-17 2018-03-27 爱克发有限公司 柔性版印刷原版及其磁性显影
US11931480B2 (en) 2016-02-16 2024-03-19 The Regents Of The University Of California Microporous annealed particle gels and methods of use
EP3562523A4 (en) 2016-12-29 2020-09-30 Tempo Therapeutics, Inc. PROCESSES AND SYSTEMS FOR THE TREATMENT OF A MEDICAL IMPLANT SITE
EP3354477A1 (en) 2017-01-25 2018-08-01 Anheuser-Busch Inbev Sa/Nv Printing process for a beverage container
CN111512231B (zh) * 2017-10-10 2024-03-15 恩熙思德国有限公司 具有低程度的杯形挤压和槽纹的凸纹前体
CN115353849A (zh) * 2022-08-05 2022-11-18 Tcl华星光电技术有限公司 一种封装材料、显示面板及其封装方法

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5626263A (en) * 1979-08-10 1981-03-13 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> Detecting system for extreme value of analog signal
JPS603170A (ja) * 1983-06-21 1985-01-09 Mitsubishi Electric Corp 無声放電式ガスレ−ザ装置

Family Cites Families (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3615448A (en) * 1969-01-14 1971-10-26 Grace W R & Co Lithographic printing plate and method of preparation
US3895082A (en) * 1971-05-27 1975-07-15 Du Pont Polymer composition
JPS603170B2 (ja) * 1976-03-24 1985-01-26 三井東圧化学株式会社 凸版用感光性樹脂組成物
GB1591924A (en) * 1976-10-25 1981-07-01 Berger Jenson & Nicholson Ltd Polymer aggregates
JPS6037455B2 (ja) * 1976-11-22 1985-08-26 三井東圧化学株式会社 感光性樹脂版材
US4125700A (en) * 1977-03-22 1978-11-14 E. I. Du Pont De Nemours And Company Preparation of methyl methacrylate polymer powders for use in plastisols
US4188223A (en) * 1977-12-30 1980-02-12 Monsanto Company Amino-functional photopolymer compositions and photo-oxidation imaging processes employing same
DE2849280A1 (de) * 1978-11-14 1980-05-29 Bayer Ag Polymerisate aus viskosen dimethacrylaten in form von perlen
US4294739A (en) * 1979-04-26 1981-10-13 Eastman Kodak Company Antistatic compositions comprising crosslinkable latex binders
IL64757A0 (en) * 1981-01-21 1982-03-31 Dentsply Int Inc Hardenable polymer compositions and production of shaped articles therefrom
US4542088A (en) * 1982-03-18 1985-09-17 Konishiroku Photo Industry Co., Ltd. Photopolymerizable compositions and image-forming materials using said compositions
US4551415A (en) * 1982-04-22 1985-11-05 E. I. Du Pont De Nemours And Company Photosensitive coatings containing crosslinked beads
DE3374450D1 (en) * 1982-04-22 1987-12-17 Du Pont Photosensitive coatings containing crosslinked beads
US4414278A (en) * 1982-04-22 1983-11-08 E. I. Du Pont De Nemours And Company Crosslinked triacrylate polymer beads
US4601970A (en) * 1982-04-22 1986-07-22 E. I. Du Pont De Nemours And Company Dry photosensitive film containing crosslinked beads
AU562579B2 (en) * 1982-09-10 1987-06-11 Mitsubishi Rayon Company Limited Abrasion resistant delustering coating composition

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5626263A (en) * 1979-08-10 1981-03-13 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> Detecting system for extreme value of analog signal
JPS603170A (ja) * 1983-06-21 1985-01-09 Mitsubishi Electric Corp 無声放電式ガスレ−ザ装置

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63229451A (ja) * 1987-02-28 1988-09-26 ビーエーエスエフ アクチェンゲゼルシャフト 高められた可撓性を有する感光性記録材料
JPS6480942A (en) * 1987-09-23 1989-03-27 Chiaki Azuma Photosensitive microgel particles
JPH02108632A (ja) * 1988-08-30 1990-04-20 E I Du Pont De Nemours & Co 柔軟性が増大したフレキソ印刷版の製法
JPH02175702A (ja) * 1988-08-30 1990-07-09 E I Du Pont De Nemours & Co コアシエルミクロゲルを含有する水系で処理しうる感光性組成物
JPH05501457A (ja) * 1989-10-31 1993-03-18 イー・アイ・デュポン・ドゥ・ヌムール・アンド・カンパニー 低い熱履歴をもつ感光性材料の製造方法
JPH04342258A (ja) * 1990-09-05 1992-11-27 E I Du Pont De Nemours & Co 溶媒耐性が改善された感光性エラストマー部材
WO1993003423A1 (en) * 1991-08-09 1993-02-18 Toyo Ink Manufacturing Co., Ltd. Photosensitive resin composition, production thereof, and flexographic plate material
JPH0651511A (ja) * 1991-08-09 1994-02-25 Toyo Ink Mfg Co Ltd 感光性樹脂組成物、その製造方法及びフレキソ印刷用原版
WO1994023341A1 (en) * 1993-03-31 1994-10-13 Toyo Ink Manufacturing Co., Ltd. Reactive microgel, photosensitive resin composition containing the same, and flexographic plate material

Also Published As

Publication number Publication date
DE3765643D1 (de) 1990-11-29
CA1288538C (en) 1991-09-03
JPH0711700B2 (ja) 1995-02-08
EP0230936A2 (en) 1987-08-05
EP0230936B1 (en) 1990-10-24
EP0230936A3 (en) 1988-02-03
CN87100720A (zh) 1987-08-26
KR870007451A (ko) 1987-08-19
BR8700222A (pt) 1987-12-01
CN1016467B (zh) 1992-04-29
US4753865A (en) 1988-06-28

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPS62173455A (ja) マイクロゲルを含有する感光性組成物
US4726877A (en) Methods of using photosensitive compositions containing microgels
CA1335543C (en) Aqueous processible photosensitive compositions containing core shell microgels
EP0356952A2 (en) Process for making flexographic plates with increased flexibility
JPH0219941B2 (ja)
JPS63229451A (ja) 高められた可撓性を有する感光性記録材料
US3718473A (en) Photopolymerizable elements containing hydro philic colloids and polymerizable monomers for making gravure printing plate resists
JPS6340141A (ja) 感光性記録素子
US4316951A (en) Multilayer photosensitive element with solvent-soluble layer
US5075192A (en) Aqueous processible photosensitive compositions containing core shell microgels
JPS58144824A (ja) フォトレジスト製品
US3879204A (en) Two-layer photopolymerizable gravure resist film
US3380825A (en) Process for producing images
JPS6253318A (ja) (メタ)アクリル共重合体含有光重合性組成物およびその製造方法
US3787213A (en) Process for modifying surfaces using photopolymerizable elements comprising hydrophilic colloids and polymerizable monomers
JP2592454B2 (ja) 感光性記録素子
JPH02213849A (ja) 溶解性中間層を備えたホトレジストフィルム
JPS61156116A (ja) 感光記録素子
JP2982398B2 (ja) 新規な感光性樹脂組成物
JPS58190945A (ja) 交叉結合ビ−ズ含有光感受性コ−テイング
EP0497819B1 (en) A release layer for an aqueous or semi-aqueous processible flexographic printing plate
US4601970A (en) Dry photosensitive film containing crosslinked beads
US3306745A (en) Photopolymerizable compositions, elements and processes
JPH02161442A (ja) 光重合性組成物
DE1471687B2 (de) Lichtempfindliches material zur herstellung thermographi scher diffusionsdruckformen

Legal Events

Date Code Title Description
EXPY Cancellation because of completion of term