WO2007066537A1 - 真空装置用仕切りバルブ - Google Patents

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Definitions

  • 000 4 5 and 6 show examples of pendulums.
  • this conventional baby 2 has an opening 24b formed in 22b of 22 (6).
  • this 2 is formed between the side walls 2 2a 2 2b of the 2 2 5 and the child-shaped 2 3 provided in that part, and the ring 2 5 Is equipped with. Openings 2 4a 2 4b are formed in the side walls 2 2a 2 2b.
  • the ring 2 5 has the ring-shaped 2 6 2 7 attached (5)
  • evacuation of an electron beam is performed in the vacuum evaporation device 7
  • the in-line O-coating equipment which is an example of the 09000 unit, is continuously operated for two or more minutes. Also, with the O structure, it is possible to rotate the moon. However, it is necessary to replace every two to three items such as e-Lament and soda.
  • e-Lament and soda In some cases, when a spontaneous tiger is born, only electrons are kept at atmospheric pressure for maintenance.
  • a partition is prepared between the electronic chambers and exchange is performed by closing this partition and only the electrons can be maintained at atmospheric pressure for maintenance, the vacuum state can be maintained, so that the time required for opening and closing the operation can be increased. A wide range of contractions can be expected.
  • Cut 2 was used.
  • a device 254 is provided with a device 254 for accommodating the (O) 28 at a position facing the object 28 013.
  • An electron 252, which is a heat source for irradiation, is arranged.
  • a vacuum cutoff 2 is arranged as a partition between the electron 25 and the electron 25. By closing this cut 2, it becomes possible to maintain the electron 252 while keeping the empty space of 25.
  • 26 is composed of the following items. (Stock O in vacuum) 26 O ida (mechanism that supplies O to the evaporation in a fixed quantity) 2 63 O 264.
  • O 26 is stocked with O 282 above 5 to 2, and O 2 263 is intermittently supplied with the required amount of O 2 ⁇ . Move O 267 by using the Anda 26 6. O is transported by Ida 263 and slips off Ota 264 into 254.
  • 2 2 part 2 5 remains as deposition 25.
  • the wall of 2 2 and the valve 23 are exposed to the vapor (O) 28.
  • the kimono (O) adhered to the wall of 2 2 and the area of 2 6 7 with 2 3 5 2 5 and the reliability of vacuum holding was extremely low. 25 had to be maintained at atmospheric pressure for maintenance.
  • the valve is separated from the electronic room as in the conventional case.
  • Downtime can be reduced when the in-line type O-coating device is rotated. Also, it is possible to reduce the number of times the room has to be opened to atmospheric pressure. 0020 is an explanation (from some aspects) showing the clear cut state.
  • 2 2 is the explanation of the cut of light (from the side of the part. 2 indicates the open state, and 2 indicates the closed state.
  • FIG. 4 4 shows an example of an in-line type attachment device using a clear cut.
  • 5 5 is an explanation (from some aspects) showing an example of conventional cutting.
  • 6 6 is an explanation (side view) showing an example of conventional cutting.
  • FIG 7 7 shows an example of an in-line type attachment device that uses conventional cutting.
  • 002 3 4 shows an example of an in-line type O attachment device 5 that has been used as a bright cut.
  • a device 54 is arranged at a position facing the object 8 of the equipment to accommodate (O) 8.
  • 002 shows that 54 is an electron as a heating source that irradiates 8 with electrons.
  • an electron is arranged as a partition between the electron 5 and the electron 5. By closing this cut, it becomes possible to maintain the electron 52 while keeping the empty space of 5. Further, it has 6 of 82 so that continuous rolling is possible.
  • O stock O in a vacuum
  • O ida a mechanism that supplies O to the evaporation in a quantitative manner
  • O 6 is stocked with O 82 above 52, and the required amount of O 3 ⁇ . 5 is intermittently supplied to the O 63. Move O 67 by using Under 6 6. O is transported by Ida 63, slips off Ota 64 and enters S 54.
  • Fig. 3 shows the electron cutting in the state of 003 Ming. In the implementation, it is the same as that of the conventional cutout, as shown in.
  • the conventional door stopper 2 is different from the conventional door 22, the movable door holder 23 is provided, and the movable door holder 24 is provided.
  • the electron cutting has an opening 4b formed in 2b of 2 when 2 is viewed from the front.
  • a movable stopper 2 is attached to the surrounding of 4b.
  • the dog 22 is attached to the end of the door 24, is free to pass through the opening 4b, and is driven by the under 23 as a drive stage.
  • An inward lunge is formed at the tip of the opening 22a of the door 22 on the side of the opening 4a, and an external force lunge is formed at the tip of the opening 4b, which is also used for the deviation 5.
  • this cut 5 was formed between the side walls 2a and 2b of the part 2, and the 3 of the child-like shape provided in the 2nd part and the 2nd part. It is equipped with Ningung 5.
  • the openings 4a 4b are formed in the side walls 2a 2b.
  • the ring 5 has the ring-shaped 6 and 7 attached ()
  • the actuator 9 of 2 is driven by atmospheric pressure and the actuator 8 is rotated to move the child-shaped 3 to the position 4a. Then, drive the underdrain by air pressure to move, and press ring 5 to 3. As a result, in the section 2, the distance between the wall surface surrounding the opening 4b and the ring 5 is 7 and the distance between the surface 3 and the ring 5 is 6. As a result, the opening 4a and the opening 4b are disconnected.
  • valve 3 and valve 5 are provided in the same way as the conventional switch. Move the 3 to the position and press the 5 to the 3.
  • the downtime can be reduced when the in-line O-coating equipment is rotated.
  • a mechanism for cooling the movable plate 22 may be provided.
  • the stainless steel was used for the anti-adhesion 56, which also functions as a movable anti-lock, but it may be made of high quality metal to enhance the adhesion.

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Abstract

　蒸着装置に使用される真空装置用仕切りバルブが開弁位置にあるときでも、蒸着材料の蒸気から弁箱の内壁面及び弁体のシール部材を保護することにより蒸着室の真空保持の信頼性を向上させる。 　電子銃用仕切りバルブ（１）として、真空装置用仕切りバルブを使用し、バルブ閉時は、従来と同様に弁体（３）が電子銃部を蒸着室から切り離す。バルブ開時は、筒状の可動シ－ルド（２２）をバルブの弁室（１５）内に挿入することにより弁室（１５）を蒸着室から切り離し弁箱（２）の内壁面及び弁体（３）のシール部材が蒸着室内の蒸気に晒されないようにして、蒸着物（ＭｇＯ）の付着から保護する。

Description

真空装置用仕切りバルブ
技術分野
[0001] 本発明は真空装置に用いられる仕切りバルブに関し、詳しくは蒸着装置の電子銃 用仕切りバルブに関する。
背景技術
[0002] 半導体、薄膜、液晶などの製造に使用される真空装置では、各真空室間を開放、 閉止する仕切りバルブが用いられて 、る。
[0003] 従来、各種の真空装置用仕切りバルブが知られている。例えば、閉弁時にインフラ ートシールを用いて密封性を高めるもの（例えば、特許文献 1、 2を参照）や、振り子 式バルブ等がある。
[0004] 図 5、図 6に振り子式バルブの一例を示す。この従来の振り子式バルブ 200は、正 面から見ると弁箱 202の側壁 202bに開口 204bが形成されている（図 6)。
また、このバルブ 200は、弁箱 202内部を側面から見ると、その対向する側壁 202a、 202bの間に形成された弁室 215と、その内部に設けられた振り子形の弁体 203と、 シーリングリング 205を備えている。その対向する側壁 202a、 202bには開口 204a、 204b力形成されて!/、る。シーリングリング 205に ίまリング状のシーノレ材 206、 207力 S 取り付けられている（図 5)。
[0005] 開弁状態のバルブ 200を閉弁する際には、弁箱 202の側方のエアァクチユエータ 2 09を空気圧によって駆動して、ァクチユエータシャフト 208を回転 rさせて振り子形の 弁体 203を閉弁位置である開口 204aの前まで移動させる。そして、空気圧によって エアシリンダ 211を駆動してシャフト 210を動かし、シーリングリング 205を弁体 203に 押し付け、これによつて弁箱 202の内部において、開口 204bの周囲の内壁面とシー リングリング 205との間をシール材 207で封止し、弁体 203の表面とシーリングリング 2 05との間をシール材 206で封止している。その結果開口 204aと開口 204b間が遮断 されるようになつている。
[0006] ここで、真空装置の一つである真空蒸着装置において、装置の真空槽内で金属、 金属酸化物、金属化合物等の蒸着材料を加熱蒸発させている（図 7参照)。この場合 、蒸発源から発生する蒸着材料の蒸気が電子銃 252内に侵入して、長時間安定した ビームの発生を持続することが困難という問題があり、種々の対策が試みられてきた が解決に至らな力 た。
[0007] 例えば、図 7の真空蒸着装置のように電子ビームの出口孔近傍を排気する排気手 段を備えたり、または図示しないが電子ビームの出口孔の前方に蒸着材料の蒸気を とらえるトラップを設けたりした (特許文献 3参照)。
[0008] し力しながら、 MgOの場合は回りこみが激しく十分な効果を得られな力つた。また、 仮に蒸着材料の蒸気の電子銃への侵入を防げても、フィラメントの交換などの定期 的なメンテナンスは必要である。
特許文献 1 :特開 2000— 145980号公報 (第 3頁、図 1)
特許文献 2：特開 2004 - 360754号公報 (第 4頁、図 1)
特許文献 3 :特開平 7— 58832号公報 (第 4頁、図 1)
発明の開示
発明が解決しょうとする課題
[0009] 上記真空装置の一例であるインライン式 MgO蒸着装置では、 2週間以上の連続運 転を実施している。また、 MgO自動供給機構を持つ装置では、 1ヶ月の連続運転も 可能となっている。しかし、電子銃のフィラメント、力ソード等の消耗部品は約 2〜3週 間ごとに交換する必要がある。あるいは偶発的なトラブルの発生時、電子銃部のみを 大気圧にしてメンテナンスすることがある。ここで、電子銃部と蒸着室の間に仕切りバ ルブを用意し、交換時はこの仕切りバルブを閉じることによって電子銃部のみを大気 圧にしてメンテナンスすることができれば、蒸着室を真空状態に保つことができるため 、運転再開の立上げ時間の大幅な短縮が期待できる。
[0010] そこで、図 7に示したインライン式 MgO蒸着装置 250の例では、従来の真空装置 用仕切りバルブ 200を使用した。
[0011] 図 7において、インライン式 MgO蒸着装置 250では、蒸着室 251はその内部全体 を、排気口 253に接続された図示しない排気装置 (真空ポンプ）により、真空に保持 するようになっている。 [0012] 図中の被蒸着物 280に対して蒸着処理を行うため、装置本体下部で被蒸着物 280 に対向する位置に、蒸着材料 (MgO) 281を収容する蒸発源 254が配置されている
[0013] また、蒸発源 254の側方には、蒸着材料 281に電子線を照射する加熱源である電 子銃 252が配置されて!、る。
[0014] ここで、電子銃 252の前には、電子銃部と蒸着室 251との間を仕切るバルブとして
、真空装置用仕切りバルブ 200が配置されている。この仕切りバルブ 200を閉じるこ とによって、蒸着室 251の真空を保持したままで、電子銃 252をメンテナンスすること が可能となる。
[0015] さらに、連続運転が可能なように、蒸着材料の自動供給機構 260を有する。 自動供 給機構 260は次のユニットから構成される。 MgO供給室 (MgOを真空中でストックす るチャンバ一） 261、 MgOフィーダ一（MgOを定量連続で蒸発源に供給する機構） 2 63及び MgOシユーター 264である。
[0016] MgO供給室 261に約 5〜200Kg以上の Mg0282をストックし、間欠的に MgOフィ ーダー 263に必要量の MgO約 1〜1. 5Kgを供給する。間欠動作はエアシリンダ 26 6により MgO供給弁 267を動力して行なう。 MgOはフィーダ一 263によって移送され 、 MgOシユーター 264を滑り落ちて蒸発源 254内に入る。
[0017] ところが、従来の真空装置用仕切りバルブ 200ではノ レブが開弁位置にあるとき、 弁箱 202内部の弁室 215は蒸着室 251とつながったままになる。このときの弁箱 202 の内壁面と弁体 203は蒸着物（MgO) 281の蒸気にさらされることになる。そのため 弁箱 202の内壁面及び弁体 203とシーリングリング 205とのシーノレ材 206、 207の周 隨こも蒸着物 (MgO)が付着し、真空保持の信頼性が甚だしく低力つた。従って、蒸 着室 251も大気圧にしてメンテナンスしなければならな力つた。
課題を解決するための手段
[0018] バルブ閉時は、従来と同様に弁体が電子銃部を蒸着室から切り離す。バルブ開時 は、筒状の可動シールドをバルブの蒸着室側開口力 弁箱内に挿入することにより 弁箱内を蒸着室から切り離し、弁箱の内壁面及び弁体を蒸着物 (MgO)の付着から 保護する。以上の手段によって弁座面への蒸着物 (MgO)の付着を防止し、真空が 保持できないという問題を解決できる。また、弁箱の内壁面及び弁体はシール、 Oリ ング等のシール部材を有し、可動シールドはこれら部材への蒸着物（MgO)の付着 をも防止している。
発明の効果
[0019] インライン式 MgO蒸着装置の連続運転においてダウンタイムの低減ができる。また 、蒸着室を大気圧に開放しなければならない頻度を削減することが出来る。
図面の簡単な説明
[0020] [図 1]図 1は、本発明の電子銃用仕切りバルブの実施形態を示した説明図（弁箱内部 の本体側面力もの説明図）である。
[図 2]図 2は、本発明の電子銃用仕切りバルブの動作を示した説明図（弁箱内部の本 体側面からの説明図）である。図 2Aはバルブを開いた状態を示し、図 2Bはバルブを 閉じた状態を示す。
[図 3]本発明の電子銃用仕切りバルブの実施形態を示した説明図 (電子銃用仕切り バルブ本体の外観を蒸着室側力も見た正面図）である。
[図 4]図 4は、本発明の電子銃用仕切りバルブを使用したインライン式 MgO蒸着装置 の一例を示す説明図である。
[図 5]図 5は、従来の真空装置用仕切りバルブの一例を示した説明図 (弁箱内部の本 体側面からの説明図）である。
[図 6]図 6は、従来の真空装置用仕切りバルブの一例を示した説明図 (蒸着室側から の正面図）である。
[図 7]図 7は、従来の真空装置用仕切りバルブを使用したインライン式 MgO蒸着装置 の一例を示す説明図である。
符号の説明
[0021] 1 真空装置用仕切りバルブ
2 弁箱
3 弁体
4a 開口（電子銃側）
4b 開口（蒸着室側） シーリングリング
シ—ル材
シール材
ァクチユエータシャフト
エアァクチユエータ
シャフト
エアシリンダ
弁室
可動シールド受け止め部材 可動シールド
エアシリンダ
シャフト
インライン式 MgO蒸着装置 蒸着室
電子銃
排気口
蒸発源
防着板 (可動シールド受け止め部材) 自動供給機構
MgO供給室
MgOフィーダ
MgOシ ター
供給弁駆動用エアシリンダ
MgO供給弁
MgO補給口
MgO補給口の蓋
被蒸着物
蒸着材料 (MgO) 82 MgO
200 真空装置用仕切りバルブ
202 弁箱
203 弁体
204a, 204b 開口
205 シーリングリング
206、 207 シール材
208 ァクチユエータシャフト
209 エアァクチユエータ
210 シャフト
211 エアシリンダ
215 弁室
231 エアシリンダ
232 シリンダロッド
233 エア通路
250 インライン式 MgO蒸着装置
251 蒸着室
252 電子銃
253 排気口
254 蒸発源
260 自動供給機構
261 MgO供給室
263 MgOフィーダ一
264 MgOシュ一ター
266 供給弁駆動用エアシリンダ
267 MgO供給弁
268 MgO補給口
269 MgO補給口の蓋 280 被蒸着物
281 蒸着材料 (MgO：溶融状態）
282 MgO
発明を実施するための最良の形態
[0022] 以下、本発明を適用した具体的な実施の形態について図面を参照しながら詳細に 説明する。
[0023] 図 4に本発明の電子銃用仕切りバルブ 1を使用したインライン式 MgO蒸着装置 50 の例を示す。
[0024] 図 4において、インライン式 MgO蒸着装置 50では、蒸着室 51はその内部全体を、 排気口 53に接続された図示しない排気装置 (真空ポンプ）により、真空に保持するよ うになつている。
[0025] 図中の被蒸着物 80に対して蒸着処理を行うため、装置本体下部で被蒸着物 80に 対向する位置に、蒸着材料 (MgO) 81を収容する蒸発源 54が配置されている。
[0026] また、蒸発源 54の側方には、蒸着材料 81に電子線を照射する加熱源である電子 銃 52が配置されている。
[0027] ここで、電子銃 52の前には、電子銃部と蒸着室 51との間を仕切るバルブとして、電 子銃用仕切りバルブ 1が配置されている。この仕切りバルブ 1を閉じることによって、蒸 着室 51の真空を保持したままで、電子銃 52をメンテナンスすることが可能となる。
[0028] さらに、連続運転が可能なように、蒸着材料 82の自動供給機構 60を有する。自動 供給機構 60は次のユニットから構成される。 MgO供給室 (MgOを真空中でストック するチャンバ一） 61、 MgOフィーダ一（MgOを定量連続で蒸発源に供給する機構） 63及び MgOシユーター 64である。
[0029] MgO供給室 61に約 5〜200Kg以上の Mg082をストックし、間欠的に MgOフィー ダー 63に必要量の MgO約 1〜1. 5Kgを供給する。間欠供給動作はエアシリンダ 6 6により MgO供給弁 67を動力して行なう。 MgOはフィーダ一 63によって移送され、 MgOシユーター 64を滑り落ちてハース 54内に入る。
[0030] 本発明の実施の形態における電子銃用仕切りバルブ 1の実施例を図 1及び 3に示 す。 本実施の形態では、図 1に示すように弁箱 2の内部は、従来の真空装置用仕切りバ ルブの振り子式バルブと同じである。筒状の可動シールド受け止め部材 21と、筒状 の可動シールド 22と、可動シールド駆動用のエアシリンダ 23と、可動シールドを取り 付けるシャフト 24とが従来の振り子式バルブと異なっている。
図 3に示すように電子銃用仕切りバルブ 1は、弁箱 2を正面から見ると弁箱 2の蒸着 室側の側壁 2bに開口 4bが形成されている。開口 4bの周囲には可動シ—ルド受け止 め部材 21が取り付けられている。筒状の可動シ—ルド 22は、シャフト 24の先端に取 り付けられ、開口 4bを貫通するように往復動自在になっており、駆動手段としてのェ ァシリンダ 23で駆動されるようになって 、る。可動シ—ルド 22の電子銃側の側壁 2a に形成された開口 4a側の先端部には内方側にフランジが形成されており、開口 4b 側の先端部には外方側にフランジが形成されており、いずれも弁室 15の封止に使用 される。
[0031] また、この電子銃用仕切りバルブ 1は、弁箱 2内部を側面から見ると、その対向する 側壁 2a、 2bの間に形成された弁室 15と、弁箱 2の内部に設けられた振り子形の弁体 3と、弁箱 2の内部に設けられたシーリングリング 5を備えている。弁箱 2には、その対 向する側壁 2a、 2bに開口 4a、 4bが形成されている。シーリングリング 5にはリング状 のシール材 6、 7が取り付けられている（図 1)。
[0032] 開弁状態のバルブ 1を閉弁する際には、弁箱 2の側方のエアァクチユエータ 9を空 気圧によって駆動して、ァクチユエータシャフト 8を回転 rさせて振り子形の弁体 3を閉 弁位置である開口 4aの前まで移動させる。そして、空気圧によってエアシリンダ 11を 駆動してシャフト 10を動かし、シーリングリング 5を弁体 3に押し付ける。これによつて 弁箱 2の内部において、開口 4bの周囲の内壁面とシーリングリング 5との間をシール 材 7で封止し、弁体 3の表面とシーリングリング 5との間をシール材 6で封止する。その 結果、開口 4aと開口 4b間が遮断されるようになっている。
[0033] 本発明の実施の形態における可動シールドの機能を図 2を用いて説明する。
図 2A、図 2Bに本実施例の電子銃用仕切りバルブの開及び閉状態を示す。
[0034] 図 2Aはバルブの開時を示す。バルブ開時は筒状の可動シールド 22で弁室 15を 保護する。すなわち、バルブ開時は可動シールド 22が蒸着室側の開口部 4bから挿 入され、弁室 15を貫通し、電子銃側の開口 4aを通して可動シールド受け止め部材を 兼ねた防着板 56に突き当てられる。可動シールド 22の開口 4a側の先端部は内方側 にフランジとなっており、防着板 56 (SUS304製)のフランジに密着する。その結果、 弁室 15の可動シールド 22の内方側と可動シールド 22の外方側の弁室 15とが雰囲 気分離されることになる。
[0035] また、同時に可動シールド 22の開口 4b側の先端は外方側にフランジになっており 、シールド受け止め部材 21の開口 4b側端面及び内方側面に密着する。以上により 弁室 15を完全に封止する。従って、可動シ—ルド 22の内方側を除く弁室 15は蒸着 室から完全に分離されるので、弁箱 2の内壁面と弁体 3、及びシーリングリング 5のシ ール材 6、 7が確実に保護されているため異物の付着を防止できる。
[0036] 図 2Bはバルブ閉時を示す。バルブ閉時は従来の仕切りバルブと同様に弁体 3及 びシーリングリング 5をもってシールする。弁体 3を閉弁位置に移動させ、シーリングリ ング 5を弁体 3に押し付けることにより閉弁する。
尚、弁体 3を移動し、シーリングリング 5を弁体 3に押し付けることにより閉弁する機 構は図 5、 6の従来例と同じものを用いた。
[0037] 以上により、インライン式 MgO蒸着装置の連続運転においてダウンタイムの低減が できる。
ノ レブが正常に動作した場合の電子銃のメンテナンス時間は、冷却 30分、ベント 5 分、電子銃メンテナンス 10分、真空排気 10分の合計 55分である。
ノ レブが正常に動作しない場合は、冷却 30分、電子銃室及び蒸着室ベント 10分 、電子銃メンテナンス 10分、真空排気 360分の合計 410分であった。
従って、 355分のダウンタイム低減ができた。
[0038] 以上、本発明の実施の形態について説明した力 勿論、本発明はこれらに限定さ れることなぐ本発明の技術的思想に基づいて種々の変形が可能である。
[0039] 本発明の電子銃用仕切りバルブの実施例では、弁箱 2と弁体 3の構造は図 5、 6に 示した従来の振り子式弁体を用いた真空装置用仕切りバルブと同じ構造を用いたが 、他の構造の真空装置用仕切りバルブでもよい。例えば、インフラ一トシール式ゲー トバルブ、扇型弁体式ゲートバルブ、ボールバルブでも良い。対向する壁面を貫通 する開口が形成された弁箱を有し、開弁位置にある弁体が前記開口より完全に退避 できる弁室を備えた真空装置用仕切りバルブの構造であれば使用可能である。実施 例では、バルブの開口は円形であつたが、勿論他の形状でも対応可能である。例え ば、バルブの開口が正方形であれば、筒体の横断面形状を正方形にすれば良い。
[0040] また、バルブ開時に可動シールド 22が可動シールド受け止め部材を兼ねた防着板 56に突き当てられているが、必ずしも突き当てる必要はなぐ真空的に雰囲気分離 可能なコンダクタンスを有する隙間、例えば 5mm以下の隙間をもって可動シールド 2 2を可動シールド受け止め部材を兼ねた防着板 56に接近して停止させるようにしても 良い。
[0041] また、本発明の変形例として、可動シールド 22を冷却する機構を設けても良い。電 子銃用仕切りバルブが開弁位置にあるとき、弁室 15を封止している可動シールド 22 を冷却することによって弁箱 2内を冷却し、シール材 6、 7の熱による劣化を防止する ことが可能である。例えば、可動シールド 22は開弁位置にあるときは、受け止め部材 21と密接するので、受け止め部材 21の可動シールド 22と接する面に冷却水を循環 した金属ノイブを設けることにより可能である。
[0042] また、本発明の実施例では、可動シールド受け止め部材を兼ねた防着板 56にステ ンレス材を使用したが、密着性を高めるために軟質金属にしてもょ 、。
例えば、極軟鋼、軟鋼、純鉄、銅、アルミニウム、亜鉛、鉛、錫である。
さらに、本発明の変形例として、可動シールド 22の両端部のフランジまたは可動シ ルド受け止め部材 21、 56の可動シールドと当接する面に、例えば極軟鋼、軟鋼、 純鉄、銅、アルミニウム、亜鉛、鉛、錫のシール材を取り付けても良い。
いずれも、可動シールド 22と可動シード受け止め部材 21、 56が当接する部分の密 着性を高め遮蔽効果の向上を可能とする。

Claims

請求の範囲
[1] 真空装置の処理室と電子銃部との間を仕切るバルブであって、相対向する側壁部 にそれぞれ開口を備えた弁箱と、前記開口を開閉する弁体と、開弁時に前記開口の 処理室側から前記弁箱内へ挿入される往復動自在な筒状の可動シールドと、前記 可動シールドの先端部と当接可能で、前記開口の電子銃部側に設けられた受け止 め部材と、前記可動シールドを往復動させる駆動手段とから成り、前記可動シールド の先端部と前記受け止め部材とを前記駆動手段により近接させることにより、前記可 動シールドの内方側と前記弁箱内とが雰囲気分離されることを特徴とする真空装置 用仕切りバルブ。
[2] 前記可動シールドは、冷却する機構を有すことを特徴とする請求の範囲第 1項に記 載の真空装置用仕切りバルブ。
[3] 前記可動シ—ルドと前記受け止め部材とが当接する箇所にシ—ル材が使用され、 そのシール材が極軟鋼、軟鋼、純鉄、銅、アルミニウム、亜鉛、鉛、錫、であることを 特徴とする請求の範囲第 1項に記載の真空装置用仕切りバルブ。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2009057513A1 (ja) * 2007-11-02 2009-05-07 V-Tex Corporation 真空ゲートバルブおよびこれを使用したゲート開閉方法

Families Citing this family (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5224363B2 (ja) * 2007-11-30 2013-07-03 古河電気工業株式会社 連続鋳造中の溶融金属の成分調製方法及びその装置
JP5490435B2 (ja) * 2009-03-31 2014-05-14 東京エレクトロン株式会社 ゲートバルブ装置
US8877001B2 (en) * 2009-05-07 2014-11-04 Applied Materials, Inc. Shuttered gate valve
US9593794B2 (en) 2010-04-05 2017-03-14 Power Associates International, Inc. Pig receiver assembly
US8689384B2 (en) 2010-04-05 2014-04-08 Power Associates International, Inc. Pig receiver assembly
US9310016B2 (en) 2010-04-05 2016-04-12 Power Associates International, Inc. Pig receiver assembly
US20120168662A1 (en) * 2010-12-30 2012-07-05 Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc. Vacuum valve with protected sealing surface
KR101528458B1 (ko) * 2013-01-18 2015-06-18 (주) 유앤아이솔루션 슬라이딩 역압 차단 밸브
DE102013005868A1 (de) 2013-04-05 2014-10-09 Leybold Optics Gmbh Vorrichtung zur Vakuumbehandlung von Substraten
CN110557960B (zh) * 2018-04-02 2020-11-27 株式会社爱发科 闸阀
ES2746360B2 (es) * 2018-09-05 2021-06-11 Mecanizados Esferimec S L Valvula pivotante para regular el flujo de un fluido y procedimiento para regular el flujo de un fluido
JP6861760B2 (ja) * 2019-06-20 2021-04-21 株式会社アルバック 仕切りバルブ
CN110712338B (zh) * 2019-10-18 2021-08-13 河源联达真空镀膜有限责任公司 一种镀膜塑料餐具生产工艺

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS55109169U (ja) * 1979-01-26 1980-07-31
JPS61272375A (ja) * 1985-05-29 1986-12-02 Hitachi Ltd 薄膜形成装置
JPS6293467U (ja) * 1985-12-03 1987-06-15
JPH0274671U (ja) * 1988-11-28 1990-06-07
JPH05202467A (ja) * 1992-01-28 1993-08-10 Stanley Electric Co Ltd 真空蒸着装置
JP2005146382A (ja) * 2003-11-18 2005-06-09 Stanley Electric Co Ltd アーク放電型真空成膜装置および成膜方法

Family Cites Families (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2109042A (en) * 1935-06-17 1938-02-22 Clifford W Bennett Gate valve
US2134324A (en) * 1937-12-14 1938-10-25 Brackett Newell Dry graphite lubricated fabric packing
US3557822A (en) * 1969-05-08 1971-01-26 Clyde H Chronister Gate valve
US3665953A (en) * 1971-01-22 1972-05-30 Chronister Valve Co Inc Gate valve
JPS5134768B2 (ja) * 1971-12-08 1976-09-28
US3799188A (en) * 1973-01-26 1974-03-26 Chronister Dev Inc Valve
GB1529234A (en) * 1974-12-05 1978-10-18 Rappold & Co Gmbh Hermann Slide dampers
JPS55109169A (en) * 1979-02-09 1980-08-22 Citizen Watch Co Ltd Manufacture of yoke of pulse motor for watch
JPS6293467A (ja) * 1985-10-21 1987-04-28 Honda Motor Co Ltd 内燃エンジンの吸入空気量制御用電磁弁のソレノイド電流制御方法
JPH0274671A (ja) * 1988-09-08 1990-03-14 Kawasaki Steel Corp 耐酸化性炭素繊維強化炭素材料およびその製造方法
US5062445A (en) * 1990-08-24 1991-11-05 Triten Corporation Water cooled gate valve
JPH04106583A (ja) * 1990-08-27 1992-04-08 Tokyo Electric Co Ltd 電子機器用表示装置
JP2541116B2 (ja) * 1993-07-31 1996-10-09 日本電気株式会社 真空ゲ―トバルブ
JPH0758832A (ja) 1993-08-17 1995-03-03 Canon Inc 電話端末
JPH07258832A (ja) * 1994-03-25 1995-10-09 Toppan Printing Co Ltd 真空蒸着装置用電子銃およびそれを備えた真空蒸着装置
JP2000145980A (ja) 1998-11-12 2000-05-26 Shimadzu Corp ゲート弁
US6448567B1 (en) * 2000-04-25 2002-09-10 Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc. Method and apparatus for shielding a valve gate and other valve parts
US7064491B2 (en) * 2000-11-30 2006-06-20 Semequip, Inc. Ion implantation system and control method
JP4106583B2 (ja) * 2001-02-05 2008-06-25 株式会社ケンウッド 記録・再生システム及び方法
JP2003185035A (ja) * 2001-12-12 2003-07-03 Smc Corp ゲートバルブ
JP2004360754A (ja) 2003-06-03 2004-12-24 Nippon Valqua Ind Ltd 真空用ゲート弁
JP2005133865A (ja) * 2003-10-31 2005-05-26 Ulvac Japan Ltd 真空ゲートバルブ

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS55109169U (ja) * 1979-01-26 1980-07-31
JPS61272375A (ja) * 1985-05-29 1986-12-02 Hitachi Ltd 薄膜形成装置
JPS6293467U (ja) * 1985-12-03 1987-06-15
JPH0274671U (ja) * 1988-11-28 1990-06-07
JPH05202467A (ja) * 1992-01-28 1993-08-10 Stanley Electric Co Ltd 真空蒸着装置
JP2005146382A (ja) * 2003-11-18 2005-06-09 Stanley Electric Co Ltd アーク放電型真空成膜装置および成膜方法

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2009057513A1 (ja) * 2007-11-02 2009-05-07 V-Tex Corporation 真空ゲートバルブおよびこれを使用したゲート開閉方法
US8448917B2 (en) 2007-11-02 2013-05-28 V-Tex Corporation Vacuum gate valve and a method of opening and closing gate using the same

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