KR101014776B1 - 진공장치용 구분 밸브 - Google Patents

진공장치용 구분 밸브 Download PDF

Info

Publication number
KR101014776B1
KR101014776B1 KR1020087011463A KR20087011463A KR101014776B1 KR 101014776 B1 KR101014776 B1 KR 101014776B1 KR 1020087011463 A KR1020087011463 A KR 1020087011463A KR 20087011463 A KR20087011463 A KR 20087011463A KR 101014776 B1 KR101014776 B1 KR 101014776B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
valve
opening
mgo
movable shield
chamber
Prior art date
Application number
KR1020087011463A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20080059303A (ko
Inventor
에이이치 이이지마
Original Assignee
가부시키가이샤 알박
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 가부시키가이샤 알박 filed Critical 가부시키가이샤 알박
Publication of KR20080059303A publication Critical patent/KR20080059303A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR101014776B1 publication Critical patent/KR101014776B1/ko

Links

Images

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24—Vacuum evaporation
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
    • F16K—VALVES; TAPS; COCKS; ACTUATING-FLOATS; DEVICES FOR VENTING OR AERATING
    • F16K51/00—Other details not peculiar to particular types of valves or cut-off apparatus
    • F16K51/02—Other details not peculiar to particular types of valves or cut-off apparatus specially adapted for high-vacuum installations
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/08—Oxides
    • C23C14/081—Oxides of aluminium, magnesium or beryllium
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24—Vacuum evaporation
    • C23C14/246—Replenishment of source material
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24—Vacuum evaporation
    • C23C14/28—Vacuum evaporation by wave energy or particle radiation
    • C23C14/30—Vacuum evaporation by wave energy or particle radiation by electron bombardment
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
    • F16K—VALVES; TAPS; COCKS; ACTUATING-FLOATS; DEVICES FOR VENTING OR AERATING
    • F16K3/00—Gate valves or sliding valves, i.e. cut-off apparatus with closing members having a sliding movement along the seat for opening and closing
    • F16K3/02—Gate valves or sliding valves, i.e. cut-off apparatus with closing members having a sliding movement along the seat for opening and closing with flat sealing faces; Packings therefor
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
    • F16K—VALVES; TAPS; COCKS; ACTUATING-FLOATS; DEVICES FOR VENTING OR AERATING
    • F16K3/00—Gate valves or sliding valves, i.e. cut-off apparatus with closing members having a sliding movement along the seat for opening and closing
    • F16K3/02—Gate valves or sliding valves, i.e. cut-off apparatus with closing members having a sliding movement along the seat for opening and closing with flat sealing faces; Packings therefor
    • F16K3/04—Gate valves or sliding valves, i.e. cut-off apparatus with closing members having a sliding movement along the seat for opening and closing with flat sealing faces; Packings therefor with pivoted closure members
    • F16K3/06—Gate valves or sliding valves, i.e. cut-off apparatus with closing members having a sliding movement along the seat for opening and closing with flat sealing faces; Packings therefor with pivoted closure members in the form of closure plates arranged between supply and discharge passages

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Details Of Valves (AREA)
  • Sliding Valves (AREA)

Abstract

증착장치에 사용되는 진공장치용 구분 밸브가 개방위치에 있을 때도, 증착재료의 증기로부터 밸브박스 내벽면 및 밸브본체의 씰부재를 보호하는 것에 의해 증착실의 진공보호 유지의 신뢰성을 향상시킨다. 전자총용 구분 밸브(1)로써, 진공장치용 구분 밸브를 사용하고, 밸브폐쇄시는 종래와 같이 밸브본체(3)가 전자총부를 증착실에서 격리한다. 밸브개방시는 통상의 가동 쉴드(22)를 밸브의 밸브실(15)내에 삽입하는 것으로써 밸브실(15)을 증착실에서 격리해 밸브박스(2) 내벽면 및 밸브본체(3)의 씰부재가 증착실내의 증기에 노출되지 않게하여, 증착물(MgO) 부착으로부터 보호한다.

Description

진공장치용 구분 밸브{GATE VALVE FOR VACUUM APPARATUS}
본 발명은 진공장치에 이용되는 구분 밸브에 관한 것으로, 자세하게는 증착장치의 전자총용 구분 밸브에 관한 발명이다.
반도체, 박막, 액정 등의 제조에 사용되는 진공장치에서는, 각 진공실간을 개방, 폐지하는 구분 밸브가 이용되고 있다.
종래, 각종의 진공장치용 구분 밸브가 알려져 있다. 예를 들면, 밸브를 닫을시에 인프라트 시트를 이용해 밀봉성을 높이는 것이나(예컨대, 특허문헌 1, 2를 참조), 진자식 밸브 등이 있다.
도 5, 도 6에 진자식(振子式) 밸브의 일예를 나타낸다. 이 종래의 진자식 밸브(200)는 정면에서 보면 밸브박스(弁箱; 202) 측벽(202b)에 개구(204b)가 형성되어 있다(도 6). 또, 이 밸브(200)는 밸브박스(202) 내부를 측면에서 보면, 그 대향하는 측벽(202a, 202b) 사이에 형성된 밸브실(215)과, 그 내부에 설치된 진자형의 밸브본체(203)와, 실링 링(205)을 구비하고 있다. 그 대향하는 측벽(202a, 202b)에는 개구(204a, 204b)가 형성되어 있다. 실링 링(205)에는 링상(狀)의 씰재(206, 207)가 취부되어 있다(도 5).
개방상태의 밸브(200)를 닫을 시에는, 밸브박스(202) 측방의 에어 액츄에이 터(209)를 공기압에 의해 구동하여, 액츄에이터 샤프트(208)를 회전(r)시켜 진자형의 밸브본체(203)를 밸브 폐쇄위치인 개구(204a) 앞까지 이동시킨다. 그리고 공기압에 의해 에어 실린더(211)를 구동해 샤프트(210)를 움직이고, 실링 링(205)을 밸브본체(203)로 밀어붙여, 이에 의해 밸브박스(202) 내부에 있어, 개구(204b) 주위의 내벽면과 실링 링(205) 사이를 씰재(207)로 밀봉 유지하고, 밸브본체(203) 표면과 실링 링(205) 사이를 씰재(206)로 밀봉 유지하고 있다. 그 결과 개구(204a)와 개구(204b) 사이가 차단되게 되어 있다.
여기서, 진공장치의 하나인 진공증착장치에 있어서, 장치의 진공조내에서 금속, 금속산화물, 금속화합물 등의 증착재료를 가열 증발시키고 있다(도 7 참조). 이 경우, 증발원으로부터 발생하는 증착재료의 증기가 전자총(252)내에 침입하여, 장시간 안정된 빔의 발생을 지속하는 것이 곤란하다는 문제가 있어, 여러 가지의 대책이 시도되어 왔지만 해결에 이르지 않았다.
예컨대, 도 7의 진공증착장치와 같이 전자빔의 출구공 근방을 배기하는 배기수단을 구비하거나, 또는 도시하지 않지만 전자빔의 출구공 전방에 증착재료의 증기를 파악하는 트랩을 설치하거나 했다(특허문헌 3 참조).
그렇지만, MgO의 경우는 선회유입이 격렬하고 충분한 효과를 얻을 수 없었다. 또, 만일 증착재료 증기의 전자총으로의 침입을 막아도, 필라멘트(filament) 교환 등의 정기적인 메인터넌스(maintenance)는 필요하다.
특허문헌 1: 일본 특개 2000-145980호 공보(제3페이지, 도 1)
특허문헌 2: 일본 특개 2004-360754호 공보(제4페이지, 도 1)
특허문헌 3: 일본 특개평 7-58832호 공보(제4페이지, 도 1)
상기 진공장치의 일예인 인라인식 MgO 증착장치에서는, 2주간 이상의 연속운전을 실시하고 있다. 또, MgO 자동공급기구를 가지는 장치에서는, 1개월의 연속 운전도 가능하게 되었다. 그러나 전자총의 필라멘트(filament), 캐소드 등의 소모부품은 약 2∼3주간마다 교환할 필요가 있다. 혹은 우발적인 문제 발생시, 전자총부만을 대기압으로 하여 메인터넌스하는 일이 있다. 여기서, 전자총부와 증착실 사이에 구분 밸브를 준비해, 교환시는 이 구분 밸브를 닫는 것에 의해 전자총부만을 대기압으로 해 메인터넌스할 수가 있으면, 증착실을 진공상태로 유지할 수가 있기 때문에, 운전 재개를 위한 최상시간까지의 대폭적인 단축을 기대할 수 있다.
그래서, 도 7에 나타낸 인라인식 MgO 증착장치(250)의 예에서는, 종래의 진공장치용 구분 밸브(200)를 사용했다.
도 7에 있어서, 인라인식 MgO 증착장치(250)에서는, 증착실(251)은 그 내부 전체를 배기구(253)에 접속된 도시하지 않는 배기장치(진공펌프)에 의해, 진공으로 보호 유지하게 되어 있다.
도면 중의 피증착물(280)에 대해서 증착처리를 실시하기 위해, 장치 본체 하부에서 피증착물(280)에 대향하는 위치에, 증착재료(MgO; 281)를 수용하는 증발원(254)이 배치되어 있다
또, 증발원(254) 측방에는 증착재료(281)에 전자선을 조사하는 가열원인 전자총(252)이 배치되어 있다.
여기서, 전자총(252) 앞(前)에는 전자총부와 증착실(251) 사이를 구분 밸브로서 진공장치용 구분 밸브(200)가 배치되어 있다. 이 구분 밸브(200)를 닫는 것에 의해, 증착실(251)의 진공을 보호 유지한 채로, 전자총(252)을 메인터넌스하는 것이 가능해진다.
게다가, 연속운전이 가능하게 증착재료의 자동공급기구(260)를 가진다. 자동공급기구(260)는 다음의 유닛으로 구성된다. MgO 공급실{MgO를 진공중에서 스톡(stock)하는 챔버; 261}, MgO 피더(MgO를 정량 연속으로 증발원에 공급하는 기구; 263) 및 MgO 슈터(264)이다.
MgO 공급실(261)에 약 5∼200Kg 이상의 MgO(282)를 스톡하고, 간헐적으로 MgO 피더(263)에 필요량의 MgO 약 1∼1.5Kg을 공급한다. 간헐 동작은 에어 실린더(266)에 의해 MgO 공급밸브(267)를 움직여 행한다. MgO는 피더(263)에 의해 이송되고, MgO 슈터(264)를 미끄러 떨어져 증발원(254) 내에 접어든다.
그런데 , 종래의 진공장치용 구분 밸브(200)에서는 밸브가 개변(開弁)위치에 있을 때, 밸브박스(202) 내부의 밸브실(251)은 증착실(251)로 연결된 채로 있다. 이때의 밸브박스(202) 내벽면과 밸브본체(203)는 증착물(MgO; 281)의 증기에 노출되게 된다. 그 때문에 밸브박스(202) 내벽면 및 밸브본체(203)와 실링 링(205)과 씰재(206, 207) 주위에도 증착물(MgO)이 부착하고, 진공 보호 유지의 신뢰성이 심하게 낮았다. 따라서, 증착실(251)도 대기압으로 해 메인터넌스 해야 했다.
밸브폐쇄시는 종래와 같이 밸브본체가 전자총부를 증착실에서 격리한다. 밸브개방시는 통상의 가동 쉴드(shield)를 밸브의 증착실측 개구에서 밸브박스 내에 삽입함에 의해 밸브박스 내를 증착실에서 격리하고, 밸브박스 내벽면 및 밸브본체를 증착물(MgO) 부착으로부터 보호한다. 이상의 수단에 의해 밸브착지면으로의 증착물(MgO) 부착을 방지하고, 진공이 보호 유지될 수 없다고 하는 문제를 해결할 수 있다. 또, 밸브박스 내벽면 및 밸브본체는 씰, 0링 등의 씰부재를 가지고, 가동 쉴드(shield)는 이들 부재로의 증착물(Mgo)의 부착을 더욱 방지하고 있다.
도 1은 본 발명의 전자총용 구분 밸브의 실시형태를 나타낸 설명도(밸브박스 내부의 본체측면에서의 설명도)이다.
도 2는 본 발명의 전자총용 구분 밸브의 동작을 나타낸 설명도(밸브박스 내부의 본체측면에서의 설명도)이다. 도 2A는 밸브를 연 상태를 나타내고, 도 2B는 밸브를 닫은 상태를 나타낸다.
도 3은 본 발명의 전자총용 구분 밸브의 실시형태를 나타낸 설명도(전자총용 구분 밸브 본체의 외관을 증착실측에서 본 정면도)이다.
도 4는 본 발명의 전자총용 구분 밸브를 사용한 인라인식 MgO 증착장치의 일예를 나타내는 설명도이다.
도 5는 종래의 진공장치용 구분 밸브의 일례를 나타낸 설명도(밸브박스 내부의 본체측면에서의 설명도)이다.
도 6은 종래의 진공장치용 구분 밸브의 일례를 나타낸 설명도(증착실측에서의 정면도)이다.
도 7은 종래의 진공장치용 구분 밸브를 사용한 인라인식 MgO 증착장치의 일 예를 나타내는 설명도이다.
*부호의 설명*
1: 진공장치용 구분 밸브 2: 밸브박스
3: 밸브본체 4a: 개구(전자총측)
4b: 개구(증착실측) 5: 실링 링
6: 씰재 7: 씰재
8: 액츄에이터 샤프트 9: 에어 액츄에이터
10: 샤프트 11: 에어 실린더
15: 밸브실 21: 가동 쉴드(shield) 멈춤부재
22: 가동 쉴드(shield) 23: 에어 실린더
24: 샤프트 50: 인라인식 MgO 증착장치
51: 증착실 52: 전자총
53: 배기구 54: 증발원
56: 방착판(가동 쉴드 멈춤부재) 60: 자동공급기구
61: MgO 공급실 63: MgO 피더
64: MgO 슈터 66: 공급밸브 구동용 에어 실린더
67: MgO 공급밸브 68: MgO 보급구
69: MgO 보급구의 뚜껑 80: 피증착물
81: 증착재료(MgO) 82: MgO
200: 진공장치용 구분 밸브 202: 밸브박스
203: 밸브본체 204a, 204b: 개구
205: 실링 링 206, 207: 씰재
208: 액츄에이터 샤프트 209: 에어 액츄에이터
210: 샤프트 211: 에어 실린더
215: 밸브실 231: 에어 실린더
232: 실린더 롯드 233: 에어 통로
250: 인라인식 MgO 증착장치 251: 증착실
252: 전자총 253: 배기구
254: 증발원 260: 자동공급기구
261: MgO 공급실 263: MgO 피더
264: MgO 슈터 266: 공급밸브 구동용 에어 실린더
267: MgO 공급밸브 268: MgO 보급구
269: MgO 보급구의 뚜껑 280: 피증착물
281: 증착재료(MgO: 용융상태) 282: MgO
이하, 본 발명을 적용한 구체적인 실시형태에 대해 도면을 참조하면서 상세하게 설명한다.
도 4에 본 발명의 전자총용 구분 밸브(1)를 사용한 인라인식 MgO 증착장치(50)의 예를 나타낸다.
도 4에 있어서, 인라인식 MgO 증착장치(50)에서는 증착실(51)은 그 내부 전 체를, 배기구(53)에 접속된 도시하지 않는 배기장치(진공펌프)에 의해 진공으로 유지하도록 되어 있다.
도면 중의 피증착물(80)에 대해서 증착처리를 실시하기 위해, 장치 본체 하부에서 피증착물(80)에 대향하는 위치에, 증착재료(MgO; 81)를 수용하는 증발원(54)이 배치되어 있다.
또, 증발원(54) 측방에는 증착재료(81)에 전자선을 조사하는 가열원인 전자총(52)이 배치되어 있다.
여기서, 전자총(52) 앞(前)에는 전자총부와 증착실(51) 사이를 구분 밸브로서 진공장치용 구분 밸브(1)가 배치되어 있다. 이 구분 밸브(1)를 닫는 것에 의해, 증착실(51)의 진공을 보호 유지한 채로, 전자총(52)을 메인터넌스하는 것이 가능해진다.
게다가, 연속운전이 가능하도록 증착재료(82)의 자동공급기구(60)를 가진다. 자동공급기구(60)는 다음의 유닛으로 구성된다. MgO 공급실(MgO를 진공중에서 스톡하는 챔버; 61), MgO 피더(MgO를 정량 연속으로 증발원에 공급하는 기구; 63) 및 MgO 슈터(64)이다.
MgO 공급실(61)에 약 5∼200Kg 이상의 MgO(82)를 스톡하고, 간헐적으로 MgO 피더(63)에 필요량의 MgO 약 1∼1.5Kg을 공급한다. 간헐 공급동작은 에어 실린더(66)에 의해 MgO 공급밸브(67)를 움직여 행한다. MgO는 피더(63)에 의해 이송되고, MgO 슈터(64)를 미끄러 떨어져서 증발원(54) 내에 접어든다.
본 발명의 실시형태에 있어 전자총용 구분 밸브(1)의 실시예를 도 1 및 도 3 에 나타낸다.
본 실시형태에서는, 도 1에 나타내듯이 밸브박스(2) 내부는 종래의 진공장치용 구분 밸브의 진자식 밸브와 같다. 통상의 가동 쉴드(shield) 멈춤부재(21)와, 통상의 가동 쉴드(22)와 가동 쉴드 구동용 에어 실린더(23)와 가동 쉴드를 취부하는 샤프트(24)가 종래의 진자식 밸브와 다르다.
도 3에 나타내듯이 전자총용 구분 밸브(1)는 밸브박스(2)를 정면에서 보면 밸브박스(2)의 증착실측 측벽(2b)에 개구(4b)가 형성되어 있다. 개구(4b) 주위에는 가동 쉴드 멈춤부재(21)가 취부되어 있다. 통상의 가동 쉴드(22)는 샤프트(24) 선단에 취부되어 개구(4b)를 관통하도록 왕복운동자재하게 되어 있고, 구동수단으로서의 에어 실린더(23)로 구동되게 되어 있다. 가동 쉴드(22)의 전자총측 측벽(2a)에 형성된 개구(4a)측 선단부에는 안쪽측에 플랜지가 형성되고 있고, 개구(4b)측 선단부에는 바깥쪽측에 플랜지가 형성되고 있고, 모두 밸브실(15)의 밀봉에 사용된다.
또, 이 전자총용 구분 밸브(1)는 밸브박스(2) 내부를 측면에서 보면, 그 대향하는 측벽(2a, 2b) 사이에 형성된 밸브실(15)과, 밸브박스(2) 내부에 설치된 진자형의 밸브본체(3)와, 밸브박스(2) 내부에 설치된 실링 링(5)을 구비하고 있다. 밸브박스(2)에는 그 대향하는 측벽(2a, 2b)에 개구(4a, 4b)가 형성되어 있다. 실링 링(5)에는 링상의 씰재(6, 7)가 취부되어 있다(도 1).
개방상태의 밸브(1)를 폐쇄할 시에는, 밸브박스(2) 측방의 에어 액츄에이터(9)를 공기압에 의해 구동하여, 액츄에이터 샤프트(8)를 회전(r)시켜 진자형의 밸브본체(3)를 폐쇄위치인 개구(4a) 앞까지 이동시킨다. 그리고 공기압에 의해 에어 실린더(11)를 구동하여 샤프트(10)를 움직이고, 실링 링(5)을 밸브본체(3)로 압부한다. 이에 의해 밸브박스(2) 내부에 있어서, 개구(4b) 주위의 내벽면과 실링 링(5) 사이를 씰재(7)로 밀봉하고, 밸브본체(3) 표면과 실링 링(5) 사이를 씰재(6)로 밀봉한다. 그 결과 개구(4a)와 개구(4b) 사이가 차단되게 되어 있다.
본 발명의 실시형태에 있어 가동 쉴드의 기능을 도 2를 이용해 설명한다.
도 2A, 도 2B에 본 실시예의 전자총용 구분 밸브의 열림 및 닫힘 상태를 나타낸다.
도 2A는 밸브 개방시를 나타낸다. 밸브 개방시는 통상의 가동 쉴드(22)로 밸브실(15)을 보호한다. 즉, 밸브 개방시는 가동 쉴드(22)가 증착실측 개구부(4b)로부터 삽입되어 밸브실(15)을 관통하고, 전자총측 개구(4a)를 통해 가동 쉴드 멈춤부재를 겸한 방착판(56)에 부딪히게 된다. 가동 쉴드(22)의 개구(4a)측 선단부는 안쪽측에 플랜지로 되고 있어 방착판{56(SUS 304제)}의 플랜지에 밀착한다. 그 결과, 밸브실(15)의 가동 쉴드(22) 안쪽측과 가동 쉴드(22) 바깥쪽측의 밸브실(15)이 분위기 분리되게 된다.
또, 동시에 가동 쉴드(22)의 개구(4b)측 선단은 바깥쪽측에 플랜지로 되어 있어, 쉴드 멈춤부재(21)의 개구(4b)측 선단 및 안쪽측면에 밀착한다. 이상에 의해 밸브실(15)을 완전히 밀봉한다. 따라서, 가동 쉴드(22) 안쪽측을 제외한 밸브실(15)은 증착실로부터 완전하게 분리되므로, 밸브박스(2) 내벽면과 밸브본체(3), 및 실링 링(5)의 씰재(6, 7)가 확실히 보호되고 있기 때문에 이물의 부착을 방지할 수 있다.
도 2B는 밸브 폐쇄시를 나타낸다. 밸브 폐쇄시는 종래의 구분 밸브와 같이 밸브본체(3) 및 실링 링(5)을 가지고 씰한다. 밸브본체(3)를 폐쇄 위치로 이동시켜, 실링 링(5)을 밸브본체(3)에 압부하는 것으로 폐쇄한다.
통상, 밸브본체(3)를 이동하고, 실링 링(5)을 밸브본체(3)에 압부하는 것으로 폐쇄하는 기구는 도 5, 6의 종래예와 같은 것을 이용했다.
이상에 의해, 인라인식 MgO 증착장치의 연속 운전에 있어서 다운 타임(down time)을 저감할 수 있다.
밸브가 정상적으로 동작했을 경우의 전자총 메인터넌스 시간은, 냉각 30분, 밴트(Vent) 5분, 전자총 메인터넌스 10분, 진공배기 10분의 합계 55분이다.
밸브가 정상적으로 동작하지 않는 경우는, 냉각 30분, 전자총실 및 증착실 밴트 10분, 전자총 메인터넌스 10분, 진공배기 360분의 합계 410분이었다.
따라서, 335분의 다운 타임을 저감할 수 있었다.
이상, 본 발명의 실시형태에 대해 설명했지만, 물론, 본 발명은 이들에 한정되는 것은 아니고, 본 발명의 기술적 사상에 근거하여 여러 가지의 변형이 가능하다.
본 발명의 전자총용 구분 밸브의 실시예에서는 밸브박스(2)와 밸브본체(3)의 구조는 도 5, 6에 나타낸 종래의 진자형 밸브본체를 이용한 진공장치용 구분 밸브와 같은 구조를 이용했지만, 다른 구조의 진공장치용 구분 밸브라도 좋다. 예를 들면, 인프라트 씰식 게이트 밸브, 부채형 밸브본체식 게이트 밸브, 볼 밸브라도 좋다. 대향하는 벽면을 관통하는 개구가 형성된 밸브박스를 가지고, 밸브 개방위치에 있는 밸브본체가 상기 개구보다 완전히 퇴피(退避)할 수 있는 밸브실을 구비한 진공장치용 구분 밸브의 구조이라면 사용 가능하다. 실시예에서는 밸브 개구는 원형이었지만, 물론 다른 형상에서도 대응 가능하다. 예컨대, 밸브 개구가 정방형이면, 통체의 횡단면 형상을 정방형으로 하면 좋다.
또, 밸브 개방시에 가동 쉴드(22)가 가동 쉴드 멈춤부재를 겸한 방착판(56)에 부딪히게 할 수 있지만, 반드시 부딪히게 할 필요는 없고, 진공적으로 분위기 분리가능한 컨덕턴스를 가지는 틈새, 예를 들면 5㎜ 이하의 틈새를 가지고 가동 쉴드(22)를 가동 쉴드 멈춤부재를 겸한 방착판(56)에 접근해 정지시키도록 해도 좋다.
또, 본 발명의 변형예로써, 가동 쉴드(22)를 냉각하는 기구를 설치해도 좋다. 전자총용 구분 밸브가 개방위치에 있을 때, 밸브실(15)을 밀봉하고 있는 가동 쉴드(22)를 냉각하는 것에 의해 밸브박스(2) 내를 냉각하여, 씰재(6, 7)의 열에 의한 열화를 방지하는 것이 가능하다. 예를 들면, 가동 쉴드(22)는 밸브 개방위치에 있을 때는, 멈춤부재(21)와 긴밀히 접하므로, 멈춤부재(21)의 가동 쉴드(22)와 접하는 면에 냉각수를 순환시키는 금속 파이프를 설치하는 것으로 가능하게 된다.
또, 본 발명의 실시예에서는 가동 쉴드 멈춤부재를 겸한 방착판(56)에 스텐레스재를 사용했지만, 밀착성을 높이기 위해서 연질 금속으로 해도 괜찮다.
예를 들면, 극연강, 연강, 순철, 동, 알루미늄, 아연, 납, 주석이다.
게다가, 본 발명의 변형예로써, 가동 쉴드(22)의 양단부 플랜지 또는 가동 쉴드 멈춤부재(21, 56)의 가동 쉴드와 당접하는 면에, 예를 들면 극연강, 연강, 순철, 동, 알루미늄, 아연, 납, 주석의 씰재를 설치해도 좋다.
모두다, 가동 쉴드(22)와 가동 쉴드 멈춤부재(21, 56)가 당접하는 부분의 밀착성을 높여 차단효과의 향상을 가능하게 한다.
인라인식 MgO 증착장치의 연속 운전에 대해 다운 타임의 저감을 할 수 있다. 또, 증착실을 대기압으로 개방해야 하는 빈도를 삭감할 수가 있다.

Claims (3)

  1. 진공장치의 처리실과 전자총부 사이를 구분하는 밸브에서,
    상기 전자총부 쪽의 제1측벽과, 상기 처리실 쪽의 제2측벽을 가지는 밸브박스와, 상기 밸브박스의 내부에 설치되고, 상기 제1측벽에 형성된 제1개구와 상기 제2측벽에 형성된 제2개구를 개폐하는 밸브 본체와,
    상기 제1개구 쪽에 설치된 제1멈춤부재와,
    상기 제2개구 쪽에 설치된 제2멈춤부재와,
    상기 제1멈춤부재와 접촉 가능한 상기 제1개구 쪽의 제1선단부와, 상기 제2멈춤부재와 접촉 가능한 상기 제2개구 쪽의 제2선단부를 가지는 통상의 가동 쉴드와,
    상기 제2개구를 관통하도록 상기 가동 쉴드를 왕복운동시키는 구동수단으로 이루어지고,
    밸브 개방시에 상기 가동 쉴드가 상기 구동수단에 의해 상기 제2개구에서 상기 밸브박스 안으로 삽입되고, 상기 제1선단부가 상기 제1멈춤부재에 밀착하고, 상기 제2선단부가 상기 제2멈춤부재에 밀착함에 의해, 상기 가동 쉴드 안쪽측과 상기 밸브박스 내가 분위기 분리되는 것을 특징으로 하는 진공장치용 구분 밸브.
  2. 제1항에 있어서, 상기 가동 쉴드는 냉각하는 기구를 가지는 것을 특징으로 하는 진공장치용 구분 밸브.
  3. 제 1항에 있어서, 상기 가동 쉴드와 상기 멈춤부재가 당접하는 개소에 씰재가 사용되고, 그 씰재가 극연강, 연강, 순철, 동, 알루미늄, 아연, 납, 주석 중 선택되는 어느 하나인 것을 특징으로 하는 진공장치용 구분 밸브.
KR1020087011463A 2005-12-05 2006-11-28 진공장치용 구분 밸브 KR101014776B1 (ko)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005351071 2005-12-05
JPJP-P-2005-00351071 2005-12-05

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20080059303A KR20080059303A (ko) 2008-06-26
KR101014776B1 true KR101014776B1 (ko) 2011-02-14

Family

ID=38122685

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020087011463A KR101014776B1 (ko) 2005-12-05 2006-11-28 진공장치용 구분 밸브

Country Status (8)

Country Link
US (1) US8028972B2 (ko)
JP (1) JP4824700B2 (ko)
KR (1) KR101014776B1 (ko)
CN (1) CN101321888B (ko)
DE (1) DE112006003294B4 (ko)
RU (1) RU2376399C1 (ko)
TW (1) TWI402369B (ko)
WO (1) WO2007066537A1 (ko)

Families Citing this family (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5044366B2 (ja) * 2007-11-02 2012-10-10 株式会社ブイテックス 真空ゲートバルブおよびこれを使用したゲート開閉方法
JP5224363B2 (ja) * 2007-11-30 2013-07-03 古河電気工業株式会社 連続鋳造中の溶融金属の成分調製方法及びその装置
JP5490435B2 (ja) * 2009-03-31 2014-05-14 東京エレクトロン株式会社 ゲートバルブ装置
US8877001B2 (en) * 2009-05-07 2014-11-04 Applied Materials, Inc. Shuttered gate valve
US9310016B2 (en) 2010-04-05 2016-04-12 Power Associates International, Inc. Pig receiver assembly
US8689384B2 (en) 2010-04-05 2014-04-08 Power Associates International, Inc. Pig receiver assembly
US9593794B2 (en) 2010-04-05 2017-03-14 Power Associates International, Inc. Pig receiver assembly
US20120168662A1 (en) * 2010-12-30 2012-07-05 Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc. Vacuum valve with protected sealing surface
KR101528458B1 (ko) * 2013-01-18 2015-06-18 (주) 유앤아이솔루션 슬라이딩 역압 차단 밸브
DE102013005868A1 (de) * 2013-04-05 2014-10-09 Leybold Optics Gmbh Vorrichtung zur Vakuumbehandlung von Substraten
WO2019194067A1 (ja) * 2018-04-02 2019-10-10 株式会社アルバック 仕切弁
ES2746360B2 (es) * 2018-09-05 2021-06-11 Mecanizados Esferimec S L Valvula pivotante para regular el flujo de un fluido y procedimiento para regular el flujo de un fluido
JP6861760B2 (ja) * 2019-06-20 2021-04-21 株式会社アルバック 仕切りバルブ
CN110712338B (zh) * 2019-10-18 2021-08-13 河源联达真空镀膜有限责任公司 一种镀膜塑料餐具生产工艺

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61272375A (ja) * 1985-05-29 1986-12-02 Hitachi Ltd 薄膜形成装置
JPH05202467A (ja) * 1992-01-28 1993-08-10 Stanley Electric Co Ltd 真空蒸着装置

Family Cites Families (26)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2109042A (en) * 1935-06-17 1938-02-22 Clifford W Bennett Gate valve
US2134324A (en) * 1937-12-14 1938-10-25 Brackett Newell Dry graphite lubricated fabric packing
US3557822A (en) * 1969-05-08 1971-01-26 Clyde H Chronister Gate valve
US3665953A (en) * 1971-01-22 1972-05-30 Chronister Valve Co Inc Gate valve
JPS5134768B2 (ko) * 1971-12-08 1976-09-28
US3799188A (en) * 1973-01-26 1974-03-26 Chronister Dev Inc Valve
GB1529234A (en) * 1974-12-05 1978-10-18 Rappold & Co Gmbh Hermann Slide dampers
JPS5918210Y2 (ja) * 1979-01-26 1984-05-26 東京瓦斯株式会社 気密バルブ保護装置
JPS55109169A (en) * 1979-02-09 1980-08-22 Citizen Watch Co Ltd Manufacture of yoke of pulse motor for watch
JPS6293467A (ja) * 1985-10-21 1987-04-28 Honda Motor Co Ltd 内燃エンジンの吸入空気量制御用電磁弁のソレノイド電流制御方法
JPS6293467U (ko) * 1985-12-03 1987-06-15
JPH0274671A (ja) * 1988-09-08 1990-03-14 Kawasaki Steel Corp 耐酸化性炭素繊維強化炭素材料およびその製造方法
JPH0274671U (ko) * 1988-11-28 1990-06-07
US5062445A (en) * 1990-08-24 1991-11-05 Triten Corporation Water cooled gate valve
JPH04106583A (ja) * 1990-08-27 1992-04-08 Tokyo Electric Co Ltd 電子機器用表示装置
JP2541116B2 (ja) * 1993-07-31 1996-10-09 日本電気株式会社 真空ゲ―トバルブ
JPH0758832A (ja) 1993-08-17 1995-03-03 Canon Inc 電話端末
JPH07258832A (ja) * 1994-03-25 1995-10-09 Toppan Printing Co Ltd 真空蒸着装置用電子銃およびそれを備えた真空蒸着装置
JP2000145980A (ja) 1998-11-12 2000-05-26 Shimadzu Corp ゲート弁
US6448567B1 (en) * 2000-04-25 2002-09-10 Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc. Method and apparatus for shielding a valve gate and other valve parts
US7064491B2 (en) * 2000-11-30 2006-06-20 Semequip, Inc. Ion implantation system and control method
JP4106583B2 (ja) * 2001-02-05 2008-06-25 株式会社ケンウッド 記録・再生システム及び方法
JP2003185035A (ja) * 2001-12-12 2003-07-03 Smc Corp ゲートバルブ
JP2004360754A (ja) 2003-06-03 2004-12-24 Nippon Valqua Ind Ltd 真空用ゲート弁
JP2005133865A (ja) * 2003-10-31 2005-05-26 Ulvac Japan Ltd 真空ゲートバルブ
JP4038473B2 (ja) * 2003-11-18 2008-01-23 スタンレー電気株式会社 アーク放電型真空成膜装置および成膜方法

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61272375A (ja) * 1985-05-29 1986-12-02 Hitachi Ltd 薄膜形成装置
JPH05202467A (ja) * 1992-01-28 1993-08-10 Stanley Electric Co Ltd 真空蒸着装置

Also Published As

Publication number Publication date
US8028972B2 (en) 2011-10-04
DE112006003294T5 (de) 2008-10-23
DE112006003294B4 (de) 2019-02-21
JP4824700B2 (ja) 2011-11-30
CN101321888A (zh) 2008-12-10
WO2007066537A1 (ja) 2007-06-14
US20090250648A1 (en) 2009-10-08
CN101321888B (zh) 2015-01-21
TW200728486A (en) 2007-08-01
RU2376399C1 (ru) 2009-12-20
TWI402369B (zh) 2013-07-21
JPWO2007066537A1 (ja) 2009-05-14
KR20080059303A (ko) 2008-06-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101014776B1 (ko) 진공장치용 구분 밸브
US6365013B1 (en) Coating method and device
US8147664B2 (en) Sputtering apparatus
US6511585B1 (en) Enhanced macroparticle filter and cathode arc source
KR100659746B1 (ko) 진공 처리 장치
US9290838B2 (en) Anti-diffusion metal coated O-rings
UA71572C2 (uk) Електронно-променевий пристрій для нанесення покриття на вироби конденсацією із парової фази
EP2073243A1 (en) Linear electron source, evaporator using linear electron source, and applications of electron sources
EP2548992A1 (en) Vacuum deposition apparatus
EP2088612A1 (en) Method of heating or cleaning a web or foil
EP2073249A1 (en) Linear electron source, evaporator using linear electron source, and applications of electron sources
US7014738B2 (en) Enhanced macroparticle filter and cathode arc source
KR20130020607A (ko) 밸브체, 게이트 밸브 및 기판 처리 시스템
KR101924739B1 (ko) 진공 코팅 설비에서 에너지를 절감하는 동시에 이송 속도를 증가시키기 위한 방법 및 장치
JP2009038170A (ja) 光学鏡筒、電子照射方法、及びマスク描画パターンの製造方法
US20120145724A1 (en) Vacuum container
JP7284464B2 (ja) イオンビーム照射装置
US20110048563A1 (en) Switch valve
UA71573C2 (uk) Електронно-променевий пристрій для нанесення покриття конденсацією із парової фази
DE102017130943B4 (de) Vakuumkammeranordnung
UA83313U (uk) Газорозрядна електронно-променева гармата
KR102058244B1 (ko) 진공 코팅용 냉각장치
US20030019849A1 (en) Electron beam gun with water cooled interlocking crucible cover
JPS61272375A (ja) 薄膜形成装置
DE202021106180U1 (de) Durchsichtfenstervorrichtung und Vakuumanordnung

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20131212

Year of fee payment: 4

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20141202

Year of fee payment: 5

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20151201

Year of fee payment: 6

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20161222

Year of fee payment: 7

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20171227

Year of fee payment: 8

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20181231

Year of fee payment: 9