KR101924739B1 - 진공 코팅 설비에서 에너지를 절감하는 동시에 이송 속도를 증가시키기 위한 방법 및 장치 - Google Patents

진공 코팅 설비에서 에너지를 절감하는 동시에 이송 속도를 증가시키기 위한 방법 및 장치 Download PDF

Info

Publication number
KR101924739B1
KR101924739B1 KR1020177002297A KR20177002297A KR101924739B1 KR 101924739 B1 KR101924739 B1 KR 101924739B1 KR 1020177002297 A KR1020177002297 A KR 1020177002297A KR 20177002297 A KR20177002297 A KR 20177002297A KR 101924739 B1 KR101924739 B1 KR 101924739B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
substrate
segment
gas separation
sputtering
segments
Prior art date
Application number
KR1020177002297A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20170024035A (ko
Inventor
게르트 클레이데이터
토마스 키르슈
외르크 피우코비스키
올라프 가우어
Original Assignee
그렌체바흐 마쉬넨바우 게엠베하
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 그렌체바흐 마쉬넨바우 게엠베하 filed Critical 그렌체바흐 마쉬넨바우 게엠베하
Publication of KR20170024035A publication Critical patent/KR20170024035A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR101924739B1 publication Critical patent/KR101924739B1/ko

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/56Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
    • C23C14/568Transferring the substrates through a series of coating stations
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34Sputtering
    • C23C14/35Sputtering by application of a magnetic field, e.g. magnetron sputtering
    • C23C14/352Sputtering by application of a magnetic field, e.g. magnetron sputtering using more than one target
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/52Means for observation of the coating process
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/56Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
    • C23C14/562Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks for coating elongated substrates
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/56Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
    • C23C14/564Means for minimising impurities in the coating chamber such as dust, moisture, residual gases
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/32431Constructional details of the reactor
    • H01J37/32458Vessel
    • H01J37/32513Sealing means, e.g. sealing between different parts of the vessel
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/32431Constructional details of the reactor
    • H01J37/32733Means for moving the material to be treated
    • H01J37/32752Means for moving the material to be treated for moving the material across the discharge
    • H01J37/32761Continuous moving
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/32431Constructional details of the reactor
    • H01J37/32733Means for moving the material to be treated
    • H01J37/32752Means for moving the material to be treated for moving the material across the discharge
    • H01J37/32761Continuous moving
    • H01J37/32779Continuous moving of batches of workpieces
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/32431Constructional details of the reactor
    • H01J37/32733Means for moving the material to be treated
    • H01J37/32788Means for moving the material to be treated for extracting the material from the process chamber
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/32431Constructional details of the reactor
    • H01J37/32798Further details of plasma apparatus not provided for in groups H01J37/3244 - H01J37/32788; special provisions for cleaning or maintenance of the apparatus
    • H01J37/32816Pressure
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/32431Constructional details of the reactor
    • H01J37/32798Further details of plasma apparatus not provided for in groups H01J37/3244 - H01J37/32788; special provisions for cleaning or maintenance of the apparatus
    • H01J37/32816Pressure
    • H01J37/32834Exhausting
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/32431Constructional details of the reactor
    • H01J37/32798Further details of plasma apparatus not provided for in groups H01J37/3244 - H01J37/32788; special provisions for cleaning or maintenance of the apparatus
    • H01J37/32889Connection or combination with other apparatus
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/32431Constructional details of the reactor
    • H01J37/32798Further details of plasma apparatus not provided for in groups H01J37/3244 - H01J37/32788; special provisions for cleaning or maintenance of the apparatus
    • H01J37/32899Multiple chambers, e.g. cluster tools
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/34Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering
    • H01J37/3402Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering using supplementary magnetic fields
    • H01J37/3405Magnetron sputtering
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/34Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering
    • H01J37/3402Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering using supplementary magnetic fields
    • H01J37/3405Magnetron sputtering
    • H01J37/3408Planar magnetron sputtering

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Details Or Accessories Of Spraying Plant Or Apparatus (AREA)

Abstract

일련의 스퍼터링 세그먼트(3)와 가스 분리 세그먼트(2)로 구성되고 연속 기판 평면(1)을 갖는 진공 코팅 설비에서 에너지를 절감하는 동시에 이송 속도를 증가시키기 위한 장치 및 방법이 제공된다. 상기 장치는 하기 특징을 갖는다: (a) 스퍼터링 세그먼트(3)의 각각은 그 내부에 이송 장치(11)가 설치되는 탱크 통(12)으로 구성되고, 탱크의 플랜지(6)는 기판 평면(1) 위의 바로 근처에 배치되며, 타겟(8) 및 가스 유입 덕트(10)를 갖는 캐소드 베어링 블록(5)은 탱크 커버(4)에서 스플래시 가드(9)를 갖는 기판의 바로 근처에 배치되고; (b) 기판 평면(1)의 구역에서, 상기 가스 분리 세그먼트(2)에는 가스 분리 세그먼트(2)의 전체 길이를 따라서 연장되는 터널 커버(14)가 제공되며; (c) 스퍼터링 세그먼트(3) 및/또는 가스 분리 세그먼트(2)는 하나 이상의 진공 펌프(15)에 의해 소개되고, 상기 공정에서 펌핑되는 공기는 조절 가능한 체적을 갖는 공기 저장조(25)에 수집된다.

Description

진공 코팅 설비에서 에너지를 절감하는 동시에 이송 속도를 증가시키기 위한 방법 및 장치{METHOD AND APPARATUS FOR SAVING ENERGY WHILE INCREASING THE CONVEYING SPEED IN VACUUM COATING PLANTS}
본 발명은 진공 코팅 설비에서 에너지를 절감하는 동시에 이송 속도를 증가시키기 위한 방법 및 장치에 관한 것이다.
자기장 보조식 마그네트론 스퍼터링은 많은 분야의 현대 표면 기술로 확장될 수 있다. 마이크로 전자장치에서의 적용에서 시작하여, 자기장 보조식 마그네트론 스퍼터링은 이제 건축용 유리, 평탄 스크린, 안경 렌즈, 테이프 재료, 공구, 장식 물품, 및 기능성 부품을 위한 산업용 코팅 방법으로서 확립되었다. 이 경우에, 기능성 부품에는 보통 단일층 또는 다층 기술을 사용하여 TiN, TaN, VN, ZrN과 같은 질화물 또는 TiCN과 같은 탄질화물로 조성된 부식 방지 또는 경질 재료 코팅이 제공된다. 50 GPa 이하의 경도 값을 갖는 나노-다층 코팅에 기초한 초경질 코팅도 점점 더 사용되고 있다. 자동차 산업에서는, 마찰 및 마모 감소성 금속/탄소 코팅이 매우 성공적인 것으로 판명되었다.
최대 진공-코팅 설비는 또한 그로 인해 종종 최고 에너지 요건을 갖는 설비는 건축용 유리 코팅을 위한 통상적인 수평 인라인 설비이다.
종래 기술의 하기 문서를 참조한다:
DE 10 2012 110 334 B3호는 종래 기술의 단점을 갖지 않고 특히 보다 균일한 자기장을 달성하는 평면 마그네트론을 생성하는 목적에 기초한 평면 마그네트론을 개시하고 있다. 열거된 단점들은 이 경우에 US 5 407 551 A호에 개시된 종래 기술에 관한 것이다.
그 경우에 청구항 1은 유리판 또는 기타 평탄 기판을 코팅하기 위한 진공 코팅 설비용 평면 마그네트론으로서, 종방향 연장되는 자극편이 그 위에 일체로 형성된 자화성 요크 판 및 관련 영구 자석으로 구성되는 자석 조립체를 갖고, 상기 자석 조립체 상의 하나 이상의 타겟을 가지며, 또한 평면 마그네트론을 통해서 냉매 유체를 통과시키기 위한 냉각 덕트를 갖는 평면 마그네트론에 관한 것이다.
상기 평면 마그네트론은 상기 요크 판이 그 전체 길이를 따라서 일정한 단면을 가지며 또한 상기 요크 판에는 공급 라인 및 복귀 라인을 갖는 하나 이상의 냉각 덕트와 같은 부착 부분을 체결하기 위해 상기 요크 판에서 종방향으로 연장되는 리셉터클 및 하나 이상의 타겟을 체결하기 위한 클로(claw) 스트립이 제공되는 것을 특징으로 한다.
또한, DE 101 22 310 A1호는 정비를 보다 쉽고 보다 비용-효과적으로 만들기 위해 세장형 진공 코팅 설비에서의 유리 운송 평면에 대한 접근성을 개선시키는 목적에 기초한 세장형 진공 코팅 설비를 기재하고 있다.
운송 방향으로 이동되는 평탄 기판을 코팅하기 위한 세장형 진공 코팅 설비에서, 이 목적은 운송 방향으로 연달아 배치되는 두 개 이상의 코팅 섹션을 갖는 하나 이상의 코팅 모듈, 및 기판을 위한 운송 공간이 그 위에 존재하는 운송 시스템에 의해 달성된다. 그 경우에, 운송 공간은 코팅 섹션의 벽에 있는 기판 안내 슬롯을 거쳐서 코팅 섹션을 통해서 연장되고, 코팅 섹션 각각은 커버 개구를 폐쇄하고 하나 이상의 마그네트론이 운송 공간 위에 배치되도록 체결되는 커버를 가지며, 코팅 섹션은 진공 펌프에 의해 진공 안내 덕트를 거쳐서 소개될 수 있다.
상기 진공 코팅 설비는, 진공 코팅 설비가 운송 공간 위에서 코팅 모듈의 모든 코팅 섹션에 공통적인 챔버 하측 부분 및 코팅 모듈의 모든 코팅 섹션에 공통적인 챔버 상측 부분으로 분할되고, 양 챔버 부분은 작업 위치에서 상호 간에 진공-기밀한 방식으로 폐쇄될 수 있으며 정비 위치에서 서로에 대해 이동 가능한 것을 특징으로 한다.
안정적이고 효과적인 공정 제어에 결정적인 것은 기판에 대한 캐소드의 배치이다. 이 배치의 전체 기하구조는 코팅의 품질 및 생산성에 영향을 미친다. 그 경우에, 캐소드 및 애노드의 배치, 개구 격막, 운송 롤러, 가스 분배 및 자기장 배치가 우선 언급되어야 한다. 에너지 절감성 코팅 설비에 대한 공지된 해결책은 상기 특징부 중 하나 이상에 대해 기술적으로 최선의 해법을 제공하지 못한다는 단점을 갖는 것이 보통이다. 구체적으로, 가스 경로는 보통 기판의 바로 위에 배치되지 않는데 그 이유는 상기 가스 안내 시스템에 대한 접근성 및 가스 안내 시스템의 정비가 기판 및 운송 시스템에 대한 폐쇄로 인해 매우 제한되기 때문이다.
본 발명의 목적은 진공 코팅 설비에서 에너지를 절감하는 동시에 이송 속도를 증가시키기 위한 방법 및 장치를 제공하는 것이다. 이런 식으로, 이러한 설비의 생산성 및 수명은 개선되도록 의도된다.
이 목적은 청구항 1에 기재된 하기 장치에 의해 달성된다:
일련의 스퍼터링 세그먼트(3)와 가스 분리 세그먼트(2)로 구성되고 연속 기판 평면(1)을 갖는 진공 코팅 설비에서 에너지를 절감하는 동시에 이송 속도를 증가시키기 위한 장치에 있어서,
(a) 상기 스퍼터링 세그먼트(3) 각각은 기판(1)을 운송하기 위한 내부 운송 장치(11)를 갖는 탱크 통(12) 및 탱크 플랜지(6)에 의해 상기 탱크 통(12)에 연결되는 하나 이상의 탱크 커버(4)로 구성되고, 상기 탱크 플랜지(6)는 기판 평면(1) 위의 바로 근처에 배치되며, 타겟(8)과 가스 유입 덕트(10)를 갖는 캐소드 베어링 블록(5)이 탱크 커버(4)에서 스플래시 가드(9)를 갖는 기판의 바로 근처에 배치되고,
(b) 상기 가스 분리 세그먼트(2)는 기판 평면(1)의 구역에 터널 커버(14)를 가지며, 터널 커버는 가스 분리 세그먼트(2)의 전체 길이를 따라서 연장되고 기판(1)과 터널 커버(14) 사이에 수직하게 작은 간극(18)만 남도록 복수의 승강 요소(17)에 의해 각각의 기판(1)의 두께에 적응될 수 있으며,
(c) 스퍼터링 세그먼트(3) 및/또는 가스 분리 세그먼트(2)는 하나 이상의 진공 펌프(15)에 의해 소개되고, 공정에서 이송되는 공기는 가변-체적 공기 저장조(25)에 수집되며, 관련 세그먼트(3, 2)가 이후 다시 통기될 때 이 세그먼트(3, 2) 내로 복귀 송달되는 것을 특징으로 하는 장치.
또한, 탱크 커버(4)의 상부 구역에서, 코팅 공정을 모니터링하기 위해, 복수의 검출 요소(32)가 설치 장치 상에서 변위될 수 있으며 위치에 관계없이 그 검출 범위에 관하여 회전될 수 있다.
상기 베어링 블록(5)은 상하로 배치된 두 개의 더블 타겟 형태의 다중 캐소드를 가지며, 이들 타겟은 그 스플래시 가드(9)와 함께 공통 회전축(37) 주위로 회전 가능하도록 장착되고, 네 가지의 다른 코팅 구조가 가능하다.
각각의 경우에 상호 이웃하여 배치된 두 개의 챔버(41, 42)는 전체 둘레 주위에서 연장되는 밀봉 링(40)에 의해 외부로부터 밀봉되며, 이 구역에는 외부 밀봉 스트립(39)이 추가로 제공되고, 밀봉 링(40)과 밀봉 스트립(39) 사이의 공간은 진공 센서(38)에 의해 모니터링된다.
상기 목적은 청구항 5에 기재된 하기 방법에 의해서도 달성된다:
일련의 스퍼터링 세그먼트(3)와 가스 분리 세그먼트(2)로 구성되고 연속 기판 평면(1)을 갖는 진공 코팅 설비에서 에너지를 절감하는 동시에 이송 속도를 증가시키기 위한 방법에 있어서,
(a) 상기 방법을 수행하기 위해, 공정 변경 및 정비 작업의 경우에 모든 부품이 그 안에 배치된 전체 탱크 커버(4)가 시간-절약적으로 및 비용-효과적으로 신속히 교체될 수 있도록 탱크 통(12)과 탱크 커버(4)를 연결하기 위한 탱크 플랜지(6)가 기판 평면 위의 바로 근처에 배치되는 스퍼터링 세그먼트(3)가 사용되고,
(b) 상기 가스 분리 세그먼트(2)에는 그 전체 길이를 따라서 각각의 기판을 가스 분리 세그먼트(2)의 인접한 구역에 대해 획정하기 위한 터널이 구비되며, 터널의 높이는 기판과 터널 커버(14) 사이에 최소 간극이 유지되도록 터널 커버(14)의 위치가 복수의 승강 요소(17)에 의해 변경되는 식으로 각각의 기판의 두께에 적응될 수 있고,
(c) 스퍼터링 요소(3) 및/또는 가스 분리 세그먼트(2)는 하나 이상의 진공 펌프(15)에 의해 소개되고, 공정에서 이송되는 공기는 가변-체적 공기 저장조(25)에 수집되며, 관련 세그먼트(3, 2)가 이후 다시 통기될 때는 이미 상태조절된 공기가 시간-절약적이고 비용-효과적으로 다시 사용될 수 있도록 이 세그먼트(3, 2) 내로 복귀 송달되는 것을 특징으로 하는 방법.
코팅 공정을 실시간으로 모니터링하기 위해, 탱크 커버(4)의 상부 구역에서, 코팅 공정을 모니터링하기 위해, 복수의 검출 요소(32)가 설치 장치 상에서 변위될 수 있으며 위치에 관계없이 그 검출 범위에 관하여 회전될 수 있다.
또한, 코팅 공정을 최적화하기 위해, 베어링 블록(5)은 상하로 배치된 두 개의 더블 타겟 형태의 다중 캐소드를 가지며, 이들 타겟은 그 스플래시 가드(9)와 함께 공통 회전축(37) 주위로 회전 가능하도록 장착된다.
프로그램이 컴퓨터에서 실행될 때 상기 방법의 단계를 수행하기 위한 프로그램 코드를 갖는 컴퓨터 프로그램이 청구된다. 프로그램이 컴퓨터에서 실행될 때 제 5 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 기재된 방법을 수행하기 위한 컴퓨터 프로그램의 프로그램 코드를 갖는 기계-판독 가능한 캐리어가 추가로 청구된다.
본 발명에 따른 장치는 이하에서 보다 상세히 설명된다.
도 1은 진공 코팅 설비의 기본 구조를 도시한다.
도 2는 두 개의 탱크 조립체의 비교도이다.
도 3은 도 1에서의 통상적인 세그먼트의 상세도이다.
도 4는 진공 저장조(25)의 기본 구조를 도시한다.
도 5는 공기 저장조(25) 및 스퍼터링 세그먼트의 도시도이다.
도 6은 타겟 구역의 횡단면도이다.
도 7은 다중 캐소드의 도시도이다.
도 8은 개별 탱크 통(12)의 밀봉을 도시한다.
도 1은 진공 코팅 설비의 기본 구조를 도시한다.
진공 코팅 설비는 실질적으로 일련의 스퍼터링 세그먼트(3)와 가스 분리 세그먼트(2)로 구성된다. 코팅될 기판은 이 경우에 도시된 기판 평면(1) 상의 하나의 세그먼트에서 다음 세그먼트로 이송된다.
도 2는 두 개의 탱크 조립체의 비교도이다.
도 2a에는 스퍼터링 탱크의 종래 구조가 단면 도시되어 있으며 도 2b에는 본 발명에 따른 구조가 단면 도시되어 있다.
각각의 커버 플랜지(6)의 평면에 대한 두 개의 구조 사이의 차이는 여기에서 명백하다. 좌측의 종래 구조에서는 커버 플랜지(6)가 비교적 높게 위치하지만, 우측의 구조에서는 그렇지 않다. 그 이유는 종래 구조에서는 탱크 커버(4)가 교체될 때 스퍼터링 구역 스크린의 좌측과 우측에 도시된 스플래시 가드(9)가 두 개의 캐소드 베어링 블록(5)과 함께 두 개의 베어링 플랜지(6)로부터 제거되지만 코팅 탱크의 본체의 좌우에 도시된 가스 유입 덕트(10)는 남아있기 때문이다. 탱크 커버(4)가 교체될 때마다 막대한 시간 소모적인 세정 작업이 발생하기 때문에, 도 2a에 따른 종래의 설계에서는 고비용 인자가 허용되어야 한다. 도 2b에 따른 본 발명의 구조에서는, 탱크 커버(4)가 훨씬 더 신속하게 교체될 수 있는데, 그 이유는 탱크 커버(4)의 통합 구성요소로서의 가스 유입 덕트가 선행 또는 후속 스퍼터링 공정 중에 탱크 커버의 다른 구성요소와 함께 신중하게, 조용히 비용-효과적으로 세정될 수 있기 때문이다. 또한, 각각의 탱크 통(12) 및 기판(1)을 운송하기 위한 운송 장치(11)가 도 2에 도시되어 있다. 더욱이, 관련 플라즈마 구역(7)을 갖는 타겟 유닛(8) 및 각각의 마그네틱 바(13)가 종래 구조에 표시되어 있다.
도 3은 도 1로부터의 통상적인 세그먼트의 상세도이다.
여기에 도시된 세그먼트 각각은 스퍼터링 세그먼트의 좌우에 구성되며, 이들 두 개의 스퍼터링 세그먼트는 가스 분리 세그먼트에 의해 분리된다. 모든 세그먼트에 공통적인 기판 평면(1)에서, 이들 세그먼트는 각각의 코팅될 기판에 의해 통과된다. 다른 타겟과 다른 가스 혼합물을 갖는 다른 코팅 공정이 일반적으로 각각의 스퍼터링 세그먼트에서 발생하기 때문에, 도시된 예에서는 하나의 스퍼터링 세그먼트로부터의 가스 혼합물이 다른 스퍼터링 세그먼트로부터의 가스 혼합물과 접촉하는 것을 방지하기 위해 두 개의 스퍼터링 세그먼트 사이에 가스 분리 세그먼트가 개재된다.
도 3에서 좌측 스퍼터링 세그먼트에는 두 개의 타겟(8)과 두 개의 가스 유입 덕트(10)가 도시되어 있다. 우측 스퍼터링 세그먼트에서는, 스퍼터링 구역 스크린(9)의 두 개의 스플래시 가드 및 관련 기판을 운송하기 위한 운송 장치(11)의 두 개의 런닝 롤러가 특히 확인되고 있다. 중앙 가스 분리 세그먼트에서는, 피드 덕트를 통한 분할 판에 의해 각각의 인접한 스퍼터링 세그먼트에 할당되는 두 개의 진공 펌프(15)가 탱크 커버에 도시되어 있다. 여기에서 기판 평면(1)의 구역에 특정 특징부로서 도시된 것은 터널 커버(14)로서 지칭되는 두 개의 승강 요소(17)이다. 이것은 기판의 전체 길이와 폭에 걸쳐서 기판이 통과하는 터널 커버(14)를 가스 분리 세그먼트의 잔여 공간으로부터 보호하고 이것을 각각의 경우에 통과하는 기판의 상이한 두께에 따라서 소위 간극이 최소이도록 상승 또는 하강시킬 수 있는 구조이다. 간극(18)은 따라서 기판과 기판을 커버하는 터널 커버(14) 사이의 공간이며, 이는 각각의 기판의 중단없는 통과를 위해서 절대적으로 필요하다. 이 경우에, 각각의 경우에 통과하는 기판의 두께는 추가로 지칭되지 않는 센서에 의해 즉시 결정되며, 이렇게 얻어진 제어 신호는 승강 요소(17)를 제어하기 위해 사용된다. 도시된 가스 분리 세그먼트의 구획 벽의 구역에서는, 혼합된 가스가 각각의 인접한 세그먼트로부터 유출되는 것을 방지하기 위해 체크 밸브로서 작용하는 각각의 터널-커버 플랩이 기판 평면의 레벨에 배치된다.
도 4는 진공 저장조(25)의 기본 구조를 도시한다.
도 4a는 이 경우에 예를 들어 도 4b에 도시된 기본 기능적 원리의 기술적 실시예를 도시한다.
각각의 진공 챔버(27)는 하나 이상의 진공 펌프(15)에 의해 소개된다. 공정에서 진공 펌프(15)를 통해서 이송되는 공기는 가변-체적 공기 저장조(25)에 수집된다. 일반적으로, 가변-체적 공기 저장조(25)는 진공 펌프(15)에 의해 발생된 압력에 의해 팽창되도록 설계된다.
진공 챔버(27)의 후속 통기 시에, 가변-체적 공기 저장조(25)에 저장된 공기는 부압에 의해 진공 챔버(27) 내로 복귀된다. 도 4b에 도시된 솔루션의 장점은 특정한 건조 정도를 갖는 이미 상태조절된 공기가 재사용되고 따라서 새로운 공기를 건조시키기 위한 설비가 필요치 않을 수 있다는 점이다. 도시된 셧오프 밸브(28)는 공기 유동을 제어하는 역할을 한다.
진공 챔버(27)의 통기 중에 가변-체적 공기 저장조(25)에 저장된 공기의 유입 동작은 공기 저장조(25)에 작용하여 그 체적 감소를 뒷받침하는 힘에 의해 촉진될 수 있다. 이것은 예를 들어 공기 저장조(25)의 상부 영역에서 저장조 커버(20)에 부착된 커버 크로스(22)에 의해 달성되며, 이 커버 크로스(22)는 공기 저장조(25)의 베이스에 있는 인장-케이블 밀봉 요소(29)를 통해서 연장되는 인장 케이블(23) 및 추가 편향 롤러(더 자세히 도시되지 않음)에 의해 견인되고, 인장-케이블 구동 요소(24)로 되돌아간다.
이 경우에, 공기 저장조(25)는 저장조 갠트리(19)에 체결된 편향 롤러(21)에 의해 그 위치가 고정될 수 있다.
진공 챔버(27)의 추가 후속 소개의 작업 중에 추가적인 힘 지지를 위해서, 네 개의 스프링 요소(26)가 공기 저장조(25)의 하부 구역에 제공될 수 있으며, 이들 스프링 요소는 인장 케이블(23)에 의해 압축되어 에너지 저장부로서 작용하도록 그 위치에서 커버 크로스(22)와 협력한다. 이런 식으로 스프링 요소(26)에 저장된 에너지는 따라서 하기 소개 과정에서 진공 펌프(15)의 작업을 지지할 수 있다.
도 5는 공기 저장조(25) 및 스퍼터링 세그먼트를 도시한다.
이 경우에, 가변-체적 공기 저장조(25)가 통합되는 스퍼터링 세그먼트가 도시되어 있다. 여기에서 새로운 참조 부호로 도시된 것은 탱크의 좌측 및 우측에서의 각각의 흡입 개구(30)이며, 상기 흡입 개구(30)는 각각의 진공 펌프(15)로 이어진다. 나머지 참조 부호는 이미 설명되었다.
또한, 특정 스플래시 가드(9)의 위치의 정밀한 조절을 위한 변위 장치(31)가 탱크의 우측에 특정 구조로 배치될 수 있다. 이 장치(31)는 또한 탱크의 좌측에 배치된다.
이러한 공기 저장조는 바람직하게 유입 챔버 또는 전달 챔버에 배치될 수도 있다.
도 6은 타겟 구역의 횡단면도이다.
이 도 6에서는, 횡단면에서 본 발명에 따른 탱크의 평탄한 설계를 특히 명확히 볼 수 있다. 탱크 커버(4)와 탱크 통(12)뿐 아니라, 커버 플랜지(6) 및 기판 평면(1)도 도시되어 있다. 기판을 송달하기 위해, 운송 장치(11)의 단면 도시된 롤러는 그 운송 롤러 드라이브(36)와 함께 사용된다. 원통형 타겟(8)은 우측에서 캐소드 베어링 블록(5)에 의해 장착되고 좌측에서 탱크 내의 대응 마운트에 의해 장착된다. 타겟 드라이브(33)는 냉각수 회로(34)에 의해 냉각된다. 전원(35)도 이 구역에 배치된다. 여기에서는 100 볼트 이하의 직류 전압이 인가되며, 양극은 하우징 상에 지지되며 음극은 타겟(8) 상에 지지된다.
코팅 공정의 결과를 모니터링하기 위해, 검출 요소(32)가 사용된다. 이 경우에, 검출 요소(32)는 그 설치 장치 상에서 변위될 수 있으며 위치에 관계없이 그 검출 범위에 관하여 회전될 수 있다. 대응 장치는 복잡한 도시로 인해 도시되지 않았다.
도 7은 다중 캐소드의 도시도이다.
여기에서는, 기판(1), 운송 장치(11) 및 진공 펌프(15)를 갖는 탱크 통(12)이 단면 도시되어 있으며, 탱크 커버(4)에는 특정 구조의 캐소드 베어링 블록(5)이 구비된다. 여기에 도시된 탱크의 중간에 배치된 것은 상하로 배치된 두 개의 정상 더블 타겟 형태의 다중 캐소드를 갖는 베어링 블록(5)이며, 이들 타겟은 그 스플래시 가드(9)와 함께 공통 회전축(37) 주위로 회전 가능하도록 장착된다. 이것은 부식된 두 개의 타겟을 각각의 탱크를 개방할 필요 없이 교체할 수 있게 한다. 그러나, 코팅 공정 중에 일체의 부식을 고려하지 않고 다양한 종류의 타겟을 가져오는 것도 가능하다. 가스 유입 덕트(10)는 그것에 영향받지 않는다.
이 구조는 서로에 대해 각각 90°오프셋되고 스플래시 가드와 코팅 캐소드가 함께 결합되지 않는 네 개의 결합 위치와 따라서 네 개의 다른 코팅 구조를 가능하게 한다.
도 8은 개별 탱크 통(12)의 밀봉을 도시한다.
코팅 공정 중에 진공 상태를 유지하기 위해서는, 개별 스퍼터링 세그먼트(3) 및/또는 가스 분리 세그먼트(2) 사이에 확실한 밀봉을 생성할 필요가 있으며, 이는 코팅될 세그먼트의 처리 중에 기판 평면의 개별 포트 개구(43)의 중단없는 연결을 보장한다.
예로서, 두 개의 탱크 형태의 두 개의 챔버(41, 42) 사이의 연결이 도 8에 도시되어 있으며, 그 운송 장치(11)의 개별 연장 축을 갖는 3차원으로 도시된 탱크 통(12)은 외측에서 전체 둘레 주위로 연장되고 포트 개구(43)를 밀봉하는 밀봉 링(40)을 갖는다.
마찬가지로 도 8에 도시된 상세도에서, 상호 이웃하여 배치된 두 개의 챔버(41, 42)의 코너 구역을 볼 수 있으며, 이들은 밀봉 링(40)에 의해 정상 공기압이 지배하는 외부로부터 밀봉된다.
여기에서 추가로 제공되는 것은 외부 밀봉 스트립(39)이며, 여기에서 양식화된 방식으로 도시되어 있는 밀봉 링(40)과 밀봉 스트립(39) 사이의 공간은 진공 센서(38)에 의해 모니터링된다.
1: 기판, 기판 평면
2: 가스 분리 세그먼트
3: 스퍼터링 세그먼트
4: 탱크 커버
5: 캐소드 베어링 블록
6: 커버 플랜지
7: 플라즈마 구역
8: 타겟
9: 스플래시 가드, 스퍼터링 구역 스크린
10: 가스 유입 덕트
11: 운송 장치
12: 탱크 통
13: 마그네틱 바
14: 터널 커버
15: 진공 펌프
16: 터널-커버 플랩
17: 터널 커버용 승강 요소
18: 간극
19: 저장조 갠트리
20: 저장조 커버
21: 편향 롤러
22: 커버 크로스, 스프링 요소(26)용 정지부
23: 인장 케이블
24: 인장-케이블 구동 요소
25: 가변-체적 공기 저장조
26: 스프링 요소, 진공 작업 시의 힘 보강재
27: 진공 챔버(탱크)
28: 셧-오프 밸브
29: 인장-케이블 밀봉 요소
30: 흡입 개구
31: 스플래시 가드(9)용 변위 장치
32: 코팅을 모니터링하기 위한 검출 요소
33: 타겟 드라이브
34: 냉각수 회로
35: 전원의 연결
36: 운송-롤러 드라이브

Claims (9)

  1. 일련의 스퍼터링 세그먼트(3)와 가스 분리 세그먼트(2)를 포함하고 연속 기판 평면(1)을 갖는 진공 코팅 설비에 있어서,
    (a) 상기 스퍼터링 세그먼트(3) 각각은 기판(1)을 운송하기 위한 내부 운송 장치(11)를 갖는 탱크 통(12) 및 탱크 플랜지(6)에 의해 상기 탱크 통(12)에 연결되는 하나 이상의 탱크 커버(4)로 구성되고, 상기 탱크 플랜지(6)는 기판 평면(1) 위에 인접하여 배치되며, 캐소드 베어링 블록(5)이 타겟(8), 스플래시 가드(9) 및 가스 유입 덕트(10)와 함께 탱크 커버(4) 내에서 기판 평면(1)에 인접하여 배치되고,
    (b) 상기 가스 분리 세그먼트(2)는 기판 평면(1)의 구역에 터널 커버(14)를 가지며, 터널 커버는 가스 분리 세그먼트(2)의 전체 길이를 따라서 연장되고 기판(1)과 터널 커버(14) 사이에 수직하게 작은 간극(18)만 남도록 복수의 승강 요소(17)에 의해 각각의 기판(1)의 두께에 적응될 수 있으며,
    (c) 스퍼터링 세그먼트(3) 및 가스 분리 세그먼트(2) 중 적어도 하나는 하나 이상의 진공 펌프(15)에 의해 소개되고, 공정에서 이송되는 공기는 가변-체적 공기 저장조(25)에 수집되며, 관련 세그먼트(3, 2)가 이후 다시 통기될 때 이 세그먼트(3, 2) 내로 복귀 송달되는 것을 특징으로 하는
    진공 코팅 설비.
  2. 제 1 항에 있어서,
    탱크 커버(4)의 상부 구역에서, 코팅 공정을 모니터링하기 위해, 복수의 검출 요소(32)가 설치 장치 상에서 변위될 수 있으며 위치에 관계없이 그 검출 범위에 관하여 회전될 수 있는 것을 특징으로 하는
    진공 코팅 설비.
  3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    베어링 블록(5)은 상하로 배치된 두 개의 더블 타겟 형태의 다중 캐소드를 가지며, 이들 타겟은 그 스플래시 가드(9)와 함께 공통 회전축(37) 주위로 회전 가능하도록 장착되고, 네 가지의 다른 코팅 구조가 가능한 것을 특징으로 하는
    진공 코팅 설비.
  4. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    각각의 경우에 상호 이웃하여 배치된 두 개의 챔버(41, 42)는 전체 둘레 주위에서 연장되는 밀봉 링(40)에 의해 외부로부터 밀봉되며, 이 구역에는 외부 밀봉 스트립(39)이 추가로 제공되고, 밀봉 링(40)과 밀봉 스트립(39) 사이의 공간은 진공 센서(38)에 의해 모니터링되는 것을 특징으로 하는
    진공 코팅 설비.
  5. 일련의 스퍼터링 세그먼트(3)와 가스 분리 세그먼트(2)를 포함하고 연속 기판 평면(1)을 갖는 진공 코팅 설비를 사용하여 기판을 코팅하는 방법에 있어서,
    (a) 상기 방법을 수행하기 위해, 공정 변경 및 정비 작업의 경우에 모든 부품이 그 안에 배치된 전체 탱크 커버(4)가 시간-절약적으로 및 비용-효과적으로 신속히 교체될 수 있도록 탱크 통(12)과 탱크 커버(4)를 연결하기 위한 탱크 플랜지(6)가 기판 평면(1) 위에 인접하여 배치되는 스퍼터링 세그먼트(3)가 사용되고,
    (b) 상기 가스 분리 세그먼트(2)에는 그 전체 길이를 따라서 각각의 기판을 가스 분리 세그먼트(2)의 인접한 구역에 대해 획정하기 위한 터널이 구비되며, 터널의 높이는 기판과 터널 커버(14) 사이에 최소 간극이 유지되도록 터널 커버(14)의 위치가 복수의 승강 요소(17)에 의해 변경되는 식으로 각각의 기판의 두께에 적응될 수 있고,
    (c) 스퍼터링 요소(3) 및 가스 분리 세그먼트(2) 중 적어도 하나는 하나 이상의 진공 펌프(15)에 의해 소개되고, 공정에서 이송되는 공기는 가변-체적 공기 저장조(25)에 수집되며, 관련 세그먼트(3, 2)가 이후 다시 통기될 때는 이미 상태조절된 공기가 시간-절약적이고 비용-효과적으로 다시 사용될 수 있도록 이 세그먼트(3, 2) 내로 복귀 송달되는 것을 특징으로 하는
    기판 코팅 방법.
  6. 제 5 항에 있어서,
    코팅 공정을 실시간으로 모니터링하기 위해, 탱크 커버(4)의 상부 구역에서, 코팅 공정을 모니터링하기 위해, 복수의 검출 요소(32)가 설치 장치 상에서 변위될 수 있으며 위치에 관계없이 그 검출 범위에 관하여 회전될 수 있는 것을 특징으로 하는
    기판 코팅 방법.
  7. 제 5 항 또는 제 6 항에 있어서,
    베어링 블록(5)은 상하로 배치된 두 개의 더블 타겟 형태의 다중 캐소드를 가지며, 이들 타겟은 그 스플래시 가드(9)와 함께 공통 회전축(37) 주위로 회전 가능하도록 장착되는 것을 특징으로 하는
    기판 코팅 방법.
  8. 기계-판독가능한 매체에 저장된 컴퓨터 프로그램에 있어서,
    상기 컴퓨터 프로그램이 컴퓨터에서 실행될 때 제 5 항 또는 제 6 항에 기재된 기판 코팅 방법의 단계를 수행하기 위한 프로그램 코드를 갖는 컴퓨터 프로그램.
  9. 프로그램이 컴퓨터에서 실행될 때 제 5 항 또는 제 6 항에 기재된 기판 코팅 방법을 수행하기 위한 컴퓨터 프로그램의 프로그램 코드를 갖는
    기계-판독 가능한 캐리어.
KR1020177002297A 2014-08-11 2015-08-05 진공 코팅 설비에서 에너지를 절감하는 동시에 이송 속도를 증가시키기 위한 방법 및 장치 KR101924739B1 (ko)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102014011877.0A DE102014011877B4 (de) 2014-08-11 2014-08-11 Verfahren und Vorrichtung zur Energieeinsparung und gleichzeitigen Erhöhung der Durchlaufgeschwindigkeit bei Vakuum-Beschichtungsanlagen
DE102014011877.0 2014-08-11
PCT/DE2015/000397 WO2016023533A2 (de) 2014-08-11 2015-08-05 Verfahren und vorrichtung zur energieeinsparung und gleichzeitigen erhöhung der durchlaufgeschwindigkeit bei vakuum-beschichtungsanlagen

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20170024035A KR20170024035A (ko) 2017-03-06
KR101924739B1 true KR101924739B1 (ko) 2019-02-27

Family

ID=54356304

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020177002297A KR101924739B1 (ko) 2014-08-11 2015-08-05 진공 코팅 설비에서 에너지를 절감하는 동시에 이송 속도를 증가시키기 위한 방법 및 장치

Country Status (11)

Country Link
US (1) US9960020B2 (ko)
EP (1) EP3180456B1 (ko)
JP (1) JP6353602B2 (ko)
KR (1) KR101924739B1 (ko)
CN (1) CN106574364B (ko)
DE (1) DE102014011877B4 (ko)
EA (1) EA035334B1 (ko)
ES (1) ES2731237T3 (ko)
HU (1) HUE044236T2 (ko)
PL (1) PL3180456T3 (ko)
WO (1) WO2016023533A2 (ko)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102016012460A1 (de) * 2016-10-19 2018-04-19 Grenzebach Maschinenbau Gmbh Vorrichtung und Verfahren zur Herstellung definierter Eigenschaften von Gradientenschichten in einem System mehrlagiger Beschichtungen bei Sputter - Anlagen
DE102018102693B4 (de) 2018-02-07 2024-06-27 VON ARDENNE Asset GmbH & Co. KG Dehydratationsnetzwerk, Vakuumanordnung und Verfahren

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19736318C2 (de) 1997-08-21 2000-12-21 Leybold Systems Gmbh Vorrichtung zum Beschichten von plattenförmigen Substraten mit dünnen Schichten mittels Kathodenzerstäubung
JP2002081857A (ja) 2000-08-31 2002-03-22 Ulvac Kuraio Kk 希ガス回収方法及び希ガス回収装置
DE10322935A1 (de) 2003-05-21 2004-12-16 Unaxis Deutschland Holding Gmbh Mit einem Spalt versehene Trennwand zwischen zwei hintereinander angeordneten Prozesskammern
US20050199185A1 (en) 2004-03-15 2005-09-15 Holger Richert Convertible maintenance valve
DE102005001353A1 (de) 2005-01-11 2006-07-27 Von Ardenne Anlagentechnik Gmbh Pumpkanal einer längserstreckten Vakuumbeschichtunganlage
US20080283393A1 (en) 2003-11-04 2008-11-20 Wolfgang Erbkamm Elongate Vacuum System for Coating One or Both Sides of a Flat Substrate

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05311403A (ja) * 1992-05-11 1993-11-22 Shin Meiwa Ind Co Ltd 成膜装置のガス再生装置
US5407551A (en) 1993-07-13 1995-04-18 The Boc Group, Inc. Planar magnetron sputtering apparatus
US5705044A (en) * 1995-08-07 1998-01-06 Akashic Memories Corporation Modular sputtering machine having batch processing and serial thin film sputtering
JP4187323B2 (ja) * 1998-10-13 2008-11-26 Tdk株式会社 真空成膜処理装置および方法
DE10122310B4 (de) 2001-05-08 2007-08-02 Von Ardenne Anlagentechnik Gmbh Längserstreckte Vakuumbeschichtungsanlage
TWI304241B (en) * 2005-02-04 2008-12-11 Advanced Display Proc Eng Co Vacuum processing apparatus
US20110308458A1 (en) * 2010-06-21 2011-12-22 Semes Co., Ltd. Thin Film Deposition Apparatus
DE102012110334B3 (de) 2012-10-29 2013-11-28 Von Ardenne Anlagentechnik Gmbh Planarmagnetron

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19736318C2 (de) 1997-08-21 2000-12-21 Leybold Systems Gmbh Vorrichtung zum Beschichten von plattenförmigen Substraten mit dünnen Schichten mittels Kathodenzerstäubung
JP2002081857A (ja) 2000-08-31 2002-03-22 Ulvac Kuraio Kk 希ガス回収方法及び希ガス回収装置
DE10322935A1 (de) 2003-05-21 2004-12-16 Unaxis Deutschland Holding Gmbh Mit einem Spalt versehene Trennwand zwischen zwei hintereinander angeordneten Prozesskammern
US20080283393A1 (en) 2003-11-04 2008-11-20 Wolfgang Erbkamm Elongate Vacuum System for Coating One or Both Sides of a Flat Substrate
US20050199185A1 (en) 2004-03-15 2005-09-15 Holger Richert Convertible maintenance valve
DE102005001353A1 (de) 2005-01-11 2006-07-27 Von Ardenne Anlagentechnik Gmbh Pumpkanal einer längserstreckten Vakuumbeschichtunganlage

Also Published As

Publication number Publication date
CN106574364A (zh) 2017-04-19
EP3180456B1 (de) 2019-05-01
WO2016023533A3 (de) 2016-04-07
DE102014011877B4 (de) 2021-08-05
US9960020B2 (en) 2018-05-01
JP2017524071A (ja) 2017-08-24
EP3180456A2 (de) 2017-06-21
JP6353602B2 (ja) 2018-07-04
WO2016023533A2 (de) 2016-02-18
PL3180456T3 (pl) 2019-10-31
EA035334B1 (ru) 2020-05-28
EA201790268A1 (ru) 2017-06-30
HUE044236T2 (hu) 2019-10-28
KR20170024035A (ko) 2017-03-06
ES2731237T3 (es) 2019-11-14
CN106574364B (zh) 2019-08-02
DE102014011877A1 (de) 2016-02-11
US20170213708A1 (en) 2017-07-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US8182662B2 (en) Rotary cathode for magnetron sputtering apparatus
KR100737970B1 (ko) 기판 코팅용 장치 및 삽입 엘리먼트
KR101924739B1 (ko) 진공 코팅 설비에서 에너지를 절감하는 동시에 이송 속도를 증가시키기 위한 방법 및 장치
JP2006249471A5 (ko)
US20160273102A1 (en) Tape-substrate coating line having a magnetron arrangement
US4911810A (en) Modular sputtering apparatus
DE202014006417U1 (de) Vorrichtung zur Energieeinsparung und gleichzeitigen Erhöhung der Durchlaufgeschwindigkeit bei Vakuum-Beschichtungsanlagen
JP4221324B2 (ja) 真空室及び被覆ローラを備えた帯材被覆装置
EP2516694B1 (en) Strip passing apparatus and apparatus for treating surface of strip with the same
US20100044222A1 (en) Sputtering target including magnetic field uniformity enhancing sputtering target backing tube
WO2016184487A1 (en) Load lock chamber, vacuum processing system with load lock chamber and method for evacuating a load lock chamber
JP6626977B2 (ja) 膜形成装置及び膜形成方法
US20180305808A1 (en) Device and method for coating extra-long sheet-type substrates, in particular glass panes, in a vacuum coating system
WO2014184997A1 (ja) 成膜装置及び成膜方法
JP5951532B2 (ja) 成膜装置
CN112017932B (zh) 等离子体处理装置中气体输送系统的耐腐蚀结构
JP2016191126A (ja) 成膜装置
KR101988336B1 (ko) 인라인 스퍼터 장치
WO2016095975A1 (en) Apparatus and method for coating a substrate with a movable sputter assembly and control over process gas parameters
KR102655778B1 (ko) 스퍼터 장치
JP6075814B2 (ja) 成膜装置及び成膜装置用チャンバー
CN109913830B (zh) 一种多功能真空镀膜机
KR20170005347A (ko) 스퍼터링 장치 및 이를 이용한 스퍼터링 방법
WO2011062943A2 (en) Planar magnetron sputtering source producing high target utilization and stable coating uniformity over lifetime
EP2916350A1 (en) Interleaf structure for a processing apparatus and processing apparatus with interleaf structure

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant