JP2016191126A - 成膜装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】チャンバ2に固定され、成膜ローラ3の幅方向の両側において当該成膜ローラ3との間に隙間をあけた位置に配置された一対の隔壁21を備え、隔壁21は、成膜ローラ3の半径方向外側を向く外側面21aと、成膜ローラ3の半径方向内側を向く内側面21bとを有しており、マスク5は、隔壁21の外側面21aに取り付けられ、隔壁21の内側面21bは、成膜ローラ3の外周面3aよりも成膜ローラ3の半径方向内側に位置している成膜装置1。
【選択図】図13
Description
差動排気カバー25と、仕切板26(図2および図6参照)とを有する。
差動排気ゾーン27は、ゾーン間排気板24の開口24aおよび周方向流路37(図12参照)を介して、各成膜ゾーン11に連通している。差動排気ゾーン27は、ゾーン間排気板24とチャンバ2の側壁との隙間28(図2参照)を介して、搬送ゾーン12に連通している。これらの隙間および開口24aの寸法は、差動排気ゾーン27の圧力が、搬送ゾーン12の圧力とそれよりも高い成膜ゾーン11の圧力との間になるように、設定される。これらの圧力差によって、排気ガスEは、図12に示されるように、成膜ゾーン11、差動排気ゾーン27、および搬送ゾーン12の順に流れることが可能である。
マスク5および周方向制限部22の位置決めは不要になる。
(1)
本実施形態の成膜装置1では、リング隔壁21における成膜ローラ3の半径方向内側R2を向く内側面21bは、成膜ローラ3の外周面3aよりも成膜ローラ3の半径方向内側R2に位置している。すなわち、成膜ローラ3の外周面3aとリング隔壁21の内側面21bとが成膜ローラ3の半径方向においてオーバーラップしている。さらに、チャンバ2内部に形成された成膜ゾーン11の内部に配置されたマスク5は、リング隔壁21における成膜ローラ3の半径方向外側R1を向く外側面21aに取り付けられている。そのため、マスク5と成膜ローラ3の外周面3aとの距離は、リング隔壁21の厚さよりも小さい距離まで近づけることが可能になる。その結果、成膜時に基材Bの幅方向D1両端部において成膜の膜厚が薄い領域を小さくすることが可能になり、薄膜の厚さの分布を改善し、膜厚均一性が向上する。
また、本実施形態の成膜装置1では、成膜ローラ3における外周面3aの幅方向D1の両端部よりも当該成膜ローラ3の幅方向D1外側の部分には、当該成膜ローラ3の周方向D2に沿って延びる円環状の溝3bが形成されている。リング隔壁21は、溝3bに挿入されるとともに当該溝3bの内壁との間に隙間36をあけた位置に配置されている。この構成では、形状が簡単な環状のリング隔壁21によって、リング隔壁21と成膜ローラ3との間にガスの幅方向D1への流通を許容する隙間36を形成しながら、マスク5と成膜ローラ3の外周面3aとを互いに近づけて、形成される薄膜の厚さの分布を改善することが可能である。また、環状のリング隔壁21は、形状が簡単であるので、精度よく製造することが容易である。さらに、環状のリング隔壁21は、成膜ローラ3における外周面3aの幅方向D1端部よりも幅方向D1外側に形成された円環状の溝3bに挿入されることにより、環状のリング隔壁21の内側面21bは、成膜ローラ3の外周面3aよりも成膜ローラ3の半径方向内側R2に位置することが可能である。そのため、リング隔壁21の厚さを確保し、それによってリング隔壁21の剛性を向上することが可能である。しかも、当該環状のリング隔壁21と溝3bの内壁との間には、円環状の隙間36が均一に形成されるので、当該隙間36を通るガスの量を成膜ローラ3の全周において均一にすることが可能である。
さらに、本実施形態の成膜装置1では、環状のリング隔壁21は、互いに分離された複数の円弧状の部分21A,21Bによって構成されている。そのため、成膜ローラ3をチャンバ2内に組み付けた後に、環状のリング隔壁21を構成する円弧状の部分21A,21Bをチャンバ2にそれぞれ固定することにより、環状のリング隔壁21を容易にチャンバ2に組み付けることが可能である。なお、リング隔壁21は、全周が連続する環状であってもよい。
さらに、本実施形態の成膜装置1では、周方向制限部22は、リング隔壁21の外側面21aに取り付けられている。したがって、リング隔壁21がチャンバ2に固定されることによりチャンバ2内部で高い精度で位置決めされ、さらに、周方向制限部22がそのリング隔壁21の外側面21aに取り付けられることにより、周方向制限部22は、成膜ローラ3の外周面3aに対向する位置に高精度でかつ容易に配置することが可能である。
さらに、本実施形態の成膜装置1では、周方向制限部22は、成膜ローラ3の外周面3aに対向するゾーン間排気板24を有しており、ゾーン間排気板24は、成膜ローラ3の外周面3aに対して隙間を確保した状態で、リング隔壁21の外側面21aに固定されている。したがって、ゾーン間排気板24は、容易に成膜ローラ3の周面に対して均一の隙間を確保することが可能である。
また、本実施形態の成膜装置1では、隔壁構造体4が、環状の部材からなるリング隔壁21、板状のゾーン間排気板24、および湾曲した板などからなる差動排気カバー25等の比較的簡単な形状の部品を組み合わせることによって製造することが可能である。したがって、隔壁構造体4の製造コストを低減することが可能である。
(A)
上記の実施形態では、成膜ローラ3の幅方向両端部に溝3bが形成され、リング隔壁21が溝3bに挿入された例が示されているが、本発明はこれに限定されるものではない。
なお、本発明の隔壁は、上記のリング隔壁21のようにリング状でなくてもよい。隔壁は、成膜ローラ3の幅方向の両側において当該成膜ローラ3との間に隙間をあけた位置に配置され、当該隙間によって、成膜ローラ3の外周面3aから当該成膜ローラ3の幅方向の外方へのガスの流れを制限する幅方向流路を形成することが可能であれば、種々の形状を採用すること可能である。
上記の実施形態では、帯状の基材Bは、巻出部7から成膜ローラ3を経由して巻取部8へ搬送されるが、基材Bの搬送方向を逆にして、巻取部8側から基材Bを供給し、巻出部7に巻取ることも可能である。
マスク5の冷却のために、マスク5を支持するリング隔壁21が液冷媒で冷却される液冷構造を有していてもよい。
成膜ローラ3の溝3bを有する部分(段部)は、成膜ローラ3の他の部分と別に製造した後に、当該他の部分に合体してもよい。
2 チャンバ
3 成膜ローラ
3a 外周面
3b 溝
4 隔壁構造体
5 マスク
21 リング隔壁
21a 外側面
21b 内側面
22 周方向制限部
24 ゾーン間排気板
36 幅方向流路
Claims (7)
- ガスを用いて帯状の基材の表面に成膜を連続的に行う成膜装置であって、
チャンバと、
前記チャンバの内部に回転自在に取り付けられ、前記基材に接触可能な外周面を有する成膜ローラと、
前記チャンバに固定され、前記成膜ローラの幅方向の両側において当該成膜ローラとの間に隙間をあけた位置に配置された一対の隔壁と、
前記成膜ローラの前記外周面に面する少なくとも1つの成膜ゾーンを前記チャンバ内部に形成する周方向制限部と、
前記成膜ゾーンの内部において前記成膜ローラの外周面に対向して配置され、前記基材の表面における前記成膜によって形成される薄膜の幅を規定する開口を有するマスクと、
を備えており、
前記隔壁は、前記成膜ローラの半径方向外側を向く外側面と、前記成膜ローラの半径方向内側を向く内側面とを有しており、
前記マスクは、前記隔壁の前記外側面に取り付けられており、
前記隔壁の前記内側面は、前記成膜ローラの前記外周面よりも前記成膜ローラの半径方向内側に位置している、
成膜装置。 - 前記成膜ローラにおける前記外周面の幅方向の両端部よりも当該成膜ローラの幅方向外側の部分には、当該成膜ローラの周方向に沿って延びる円環状の溝が形成されており、
前記隔壁は、前記円環状の溝に挿入可能な環状の形状を有しており、
前記隔壁は、前記溝に挿入されるとともに当該溝の内壁との間に前記隙間をあけた位置に配置されている、
請求項1に記載の成膜装置。 - 前記環状の隔壁は、互いに分離された複数の円弧状の部分によって構成されている、
請求項1または2に記載の成膜装置。 - 前記隔壁は、前記チャンバに固定され、前記成膜ローラの幅方向の両端部から当該幅方向に離間した位置に配置され、前記外側面および前記内側面を有する本体部を有し、
前記マスクは、前記本体部の前記外側面に取り付けられている、
請求項1に記載の成膜装置。 - 前記隔壁は、前記本体部から前記外側面に沿って延び、前記成膜ローラの前記外周面との間に隙間を形成する延長部をさらに有している、
請求項4に記載の成膜装置。 - 前記周方向制限部は、前記隔壁の前記外側面に取り付けられている、
請求項1〜5のいずれか1項に記載の成膜装置。 - 前記周方向制限部は、前記成膜ローラの前記外周面に対向するゾーン間排気板を有しており、
前記ゾーン間排気板は、前記成膜ローラの前記外周面に対して隙間を確保した状態で、前記隔壁に固定されている、
請求項6に記載の成膜装置。
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Cited By (3)
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---|---|---|---|---|
WO2020183777A1 (ja) * | 2019-03-12 | 2020-09-17 | 株式会社アルバック | 真空蒸着装置 |
KR102241728B1 (ko) * | 2020-11-02 | 2021-04-19 | 주식회사 바코솔루션 | 막 형성 장치 및 그의 제어 방법 |
US11345992B2 (en) | 2019-03-12 | 2022-05-31 | Ulvac, Inc. | Vacuum deposition apparatus |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6018530U (ja) * | 1983-07-18 | 1985-02-07 | ソニー株式会社 | 磁気テ−プ製造用蒸着装置 |
JPH10121244A (ja) * | 1996-10-21 | 1998-05-12 | Kobe Steel Ltd | フィルム用真空蒸着装置 |
JP2004095677A (ja) * | 2002-08-29 | 2004-03-25 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 基板処理装置 |
JP2006077284A (ja) * | 2004-09-09 | 2006-03-23 | Kobe Steel Ltd | 連続成膜装置 |
JP2013151712A (ja) * | 2012-01-24 | 2013-08-08 | Kobe Steel Ltd | 真空成膜装置 |
JP2014065932A (ja) * | 2012-09-25 | 2014-04-17 | Toray Eng Co Ltd | 薄膜形成装置 |
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Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6018530U (ja) * | 1983-07-18 | 1985-02-07 | ソニー株式会社 | 磁気テ−プ製造用蒸着装置 |
JPH10121244A (ja) * | 1996-10-21 | 1998-05-12 | Kobe Steel Ltd | フィルム用真空蒸着装置 |
JP2004095677A (ja) * | 2002-08-29 | 2004-03-25 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 基板処理装置 |
JP2006077284A (ja) * | 2004-09-09 | 2006-03-23 | Kobe Steel Ltd | 連続成膜装置 |
JP2013151712A (ja) * | 2012-01-24 | 2013-08-08 | Kobe Steel Ltd | 真空成膜装置 |
JP2014065932A (ja) * | 2012-09-25 | 2014-04-17 | Toray Eng Co Ltd | 薄膜形成装置 |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2020183777A1 (ja) * | 2019-03-12 | 2020-09-17 | 株式会社アルバック | 真空蒸着装置 |
TWI717226B (zh) * | 2019-03-12 | 2021-01-21 | 日商愛發科股份有限公司 | 真空蒸鍍裝置 |
US11345992B2 (en) | 2019-03-12 | 2022-05-31 | Ulvac, Inc. | Vacuum deposition apparatus |
KR102241728B1 (ko) * | 2020-11-02 | 2021-04-19 | 주식회사 바코솔루션 | 막 형성 장치 및 그의 제어 방법 |
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