JP2018537586A - フレキシブル基板用のキャリア - Google Patents
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Abstract
本開示は、真空処理チャンバ内でフレキシブル基板(10)を支持するための装置(100)を提供する。本装置(100)は、回転軸(105)を中心にして回転可能な被覆ドラムであって、フレキシブル基板(10)を支持するように構成された支持面(110)を有し、支持面(110)は回転軸(105)に対して対称であり、回転軸(105)と支持面(110)の中央部(112)との間の、回転軸(105)に垂直な方向の第1の距離(120)が、回転軸(105)と支持面(110)の縁部(114、116)との間の第2の距離(122)よりも小さい、被覆ドラムを含む。
【選択図】図1
【選択図】図1
Description
本開示の実施形態は、真空の処理チャンバ内でフレキシブル基板を支持する装置と、フレキシブル基板上に層を堆積するように構成された処理装置と、被覆ドラム上でフレキシブル基板を支持するための方法に関する。本開示の実施形態は、具体的には薄膜処理装置、例えばフレキシブル基板を処理するための装置に関し、さらに具体的にはロールツーロール(R2R)システムに関する。
プラスチック膜またはフォイルといったフレキシブル基板の処理は、パッケージング業界、半導体業界及びその他の業界で用いられ得る。この処理は、金属、半導体材料、及び誘電体材料といった1つ以上の被覆材料で、フレキシブル基板を被覆することを含み得る。この処理は、エッチングといった他の処理の態様もまたさらに含み得る。この処理の態様を実施する処理装置は、フレキシブル基板搬送用システムに連結された、被覆ドラムを含み得る。こうしたロールツーロールシステムは、高いスループットを提供することができる。
スパッタ堆積処理、熱蒸発処理、または化学気相成長(CVD)処理といった被覆処理は、被覆材料の薄い層をフレキシブル基板上に堆積させるために使用され得る。被覆処理中に、フレキシブル基板の温度が上昇し得る。フレキシブル基板は、温度上昇によって損傷され得る。具体的には、フレキシブル基板のエッジが熱損傷を受け得る。例えば、フレキシブル基板のエッジにしわが発生し得る。
上記の観点から、新たに、当該技術分野の問題のうちの少なくともいくつかを克服するための、真空処理チャンバ内でフレキシブル基板を支持するための装置、フレキシブル基板上に層を堆積するように構成された処理装置、及び被覆ドラム上でフレキシブル基板を支持するための方法が、有益である。具体的には、フレキシブル基板の熱損傷、例えばフレキシブル基板のエッジの熱損傷を回避し得る、装置、処理装置、及び方法が有益である。
上記の観点から、真空処理チャンバ内でフレキシブル基板を支持するための装置と、フレキシブル基板上に層を堆積するように構成された処理装置と、被覆ドラム上でフレキシブル基板を支持するための方法が提供される。本開示のさらなる態様、利点、及び特徴は、特許請求の範囲、明細書、及び添付の図面から明らかにされている。
本開示の一態様によって、真空処理チャンバ内でフレキシブル基板を支持するための装置が提供される。本装置は、回転軸を中心にして回転可能な被覆ドラムであって、フレキシブル基板を支持するように構成された支持面を有し、支持面は回転軸に対して対称であり、回転軸と支持面の中央部との間の、回転軸に垂直な方向の第1の距離が、回転軸と支持面の縁部との間の第2の距離よりも小さい、被覆ドラムを含む。
本開示の別の態様によれば、フレキシブル基板上に層を堆積するように構成された、処理装置が提供される。処理装置は、真空処理チャンバと、真空処理チャンバ内で本開示に従ってフレキシブル基板を支持するための装置と、堆積源及びエッチングツールからなる群から選択された1つ以上の処理ツールであって、この装置の被覆ドラムに隣接して位置する1つ以上の処理ツールとを含む。
本開示のさらに別の態様によって、被覆ドラム上でフレキシブル基板を支持するための方法が提供される。本方法は、被覆ドラムの支持面上でフレキシブル基板を支持することであって、支持面は被覆ドラムの回転軸に対して対称であり、回転軸と支持面との間の回転軸に垂直な方向の距離が回転軸に沿って変化する、支持することと、支持面によって、フレキシブル基板のエッジ部分に張力をかけることとを含む。
実施形態は、開示の方法を実行するための装置も対象としており、記載される各方法態様を実施するための装置部品を含む。これらの方法の諸態様は、ハードウェア構成要素によって、適切なソフトウェアでプログラミングされたコンピュータによって、この2つの任意の組合せによって、または任意の他の態様で、実施され得る。さらに、本開示による実施形態は、記載の装置を操作する方法も対象とする。記載の装置を操作する方法は、この装置のあらゆる機能を実行するための方法の諸態様を含む。
本開示の上記の特徴が詳細に理解され得るように、上記で簡単に概説した本開示のより具体的な説明が、実施形態を参照して行われ得る。添付の図面は本発明の実施形態に関連し、以下の記述において説明される。
ここで、本開示の様々な実施形態が詳細に参照され、その1つ以上の例が図面中で説明される。図面に関する以下の説明の中で、同じ参照番号は同じ構成要素を指している。概して、個々の実施形態に関する相違点のみが記載される。本開示の説明用に各実施例が与えられているが、これは本開示を限定することを意図しているわけではない。さらに、1つの実施形態の一部として説明または記載されている特徴は、他の実施形態で用いることもできるし、他の実施形態と組み合わせて用いることで、さらに別の実施形態を生み出すこともできる。本明細書の記載は、こうした修正例及び変形例を含むことが意図されている。
基板処理中、例えば被覆処理中に、フレキシブル基板の温度が上昇し得る。フレキシブル基板は、温度上昇によって損傷され得る。具体的には、基板のエッジが、熱損傷を受け得る。例えば、基板のエッジに起伏やしわができ得る。本開示によると、フレキシブル基板の張力を局所的に増大させるため、被覆ドラムは直径が変化している。一例として、直径が変化していることによって、基板の張力を、基板のエッジに向かって、及び/または基板のエッジにおいて、増大させることができる。フレキシブル基板の張力が局所的に増大していることによって、フレキシブル基板の熱損傷を低減することが可能になり、さらには回避することさえも可能になる。具体的には、基板のエッジにおける張力が増大していることによって、基板のエッジに起伏やしわができることを防止できる。
「張力」という用語は、本開示で使用される場合を通じて、湾曲した支持面によりフレキシブル基板に作用する、「引張力」という意味に理解することができる。具体的には、「張力」とは、「圧縮力」の反対である。
「フレキシブル基板」という用語は、本明細書で使用される場合、ウェブまたはフォイルといったフレキシブル基板を包含するものとする。ここで、本明細書に記載の実施形態で用いられるフレキシブル基板は、屈曲可能であるという点で特徴付けられ得ることが、留意される。
図1は、本明細書に記載の実施形態による、回転軸105を中心にして回転可能な被覆ドラムを有する、真空処理チャンバ内でフレキシブル基板を支持するための装置100の概略断面図である。具体的には、図1は、回転軸105と平行な平面で切った、装置100の断面図を示す。図2は、回転軸105と垂直な平面で切った、図1の装置の断面図を示す。
装置100は、回転軸105を中心にして回転可能な被覆ドラムを含むか、またはその被覆ドラムである。被覆ドラムは、フレキシブル基板を支持するように構成された支持面110であって、回転軸105に対して対称な、支持面110を有する。一例として、支持面110は、回転軸105を中心にしてほぼ回転対称である。「ほぼ」という用語は、被覆ドラムの製作公差、具体的には支持面110の製作公差を考慮に入れるものである。回転軸105と支持面110の中央部112との間の、回転軸105に垂直な方向の第1の距離120は、回転軸105と支持面110の縁部との間の第2の距離122よりも小さい。
被覆ドラムはまた、「基板支持体」とも呼ばれ得る。具体的には、被覆ドラムは、基板処理中、例えば被覆処理中に、真空処理チャンバ内でフレキシブル基板を支持するように構成され得る。具体的には、フレキシブル基板は、被覆ドラムに設けられ、1つ以上の堆積源の位置に対応する真空処理チャンバの被覆エリアを通って移動され得る。操作中、被覆ドラムは、フレキシブル基板が前方または後方に移動するようにして、回転軸105を中心に回転する。一例として、被覆ドラムは、フレキシブル基板の搬送のため、回転軸105を中心にして時計回りまたは反時計回りに回転するように構成されている。
「支持面」という用語は、本開示で使用される場合を通じて、フレキシブル基板を支持するため、フレキシブル基板に接触するように構成された表面を意味する。具体的には、支持面は、フレキシブル基板に接触するべくまたはフレキシブル基板を支持するべく意図されまたは設けられていない、被覆ドラムの他の表面部分とは異なる。
本明細書に記載の他の実施形態と組み合わされ得るある実施形態によると、支持面110は、円周面、例えば被覆ドラムの外周面によって設けられることができる。ある実施形態では、被覆ドラムはほぼ円筒形であり得、支持面110は、ほぼ円筒形の被覆ドラムの円周面によって設けられ得る。「ほぼ円筒形」という用語は、被覆ドラムの回転軸105と支持面110との間の、変化している距離を考慮に入れるものである。
本明細書に記載の他の実施形態と組み合わされ得るある実施形態によると、支持面110の縁部は、回転軸105と平行な方向の、支持面110の限界(例えば、エッジまたは端部)である。一例として、支持面110の縁部は、第1の限界114及び、第1の限界114とは反対側の第2の限界116を含む。支持面110は、第1の限界114と第2の限界116の間に延在し得る。図1の断面図では、第1の限界114は、支持面110の左側エッジまたは左端であり得る。第2の限界116は、支持面110の右側エッジまたは右端であり得る。
支持面110は、回転軸105と平行な方向に幅124を有する。幅124は、支持面110の縁部間、例えば、第1の限界114と第2の限界116に規定され得る。支持面110の幅124は、少なくとも300mm、具体的には少なくとも1m、より具体的には少なくとも3mであることができる。一例として、支持面110の幅は、300mmと5mの間の範囲であることができ、より具体的には、400mmと4.5mの間の範囲であることができる。
支持面110の中央部112は、回転軸105に平行な方向における、支持面110の縁部間の中央または中点であるか、その周辺であることができる。一例として、中央部112は、第1の限界114と第2の限界116の間の中央または中点であるか、その周辺であることができる。
第1の距離120及び第2の距離122は、回転軸105と支持面110を接続するラインに沿って、規定され得るかまたは測定され得る。このラインは、回転軸105と垂直であり得る。ある実施形態では、支持面が回転軸に平行な方向に湾曲しているため、このラインが支持面110に対して非垂直であり得るということは、理解するべきである。
本明細書に記載の他の実施形態と組み合わされ得るある実施形態によると、第1の距離120は第2の距離122の少なくとも90%、具体的には少なくとも約95%であり、より具体的には第2の距離122の少なくとも99%である。第1の距離120と第2の距離122との間の相違によって、フレキシブル基板内に局所的な張力の増大が生じる。
ある実施形態では、被覆ドラムまたは支持面110は、回転軸に対する直径を有することができる。この直径は、回転軸105と垂直な平面内で、測定または規定することができる。回転軸105の少なくとも一部に沿って直径が変化していることで、第1の距離120と第2の距離122が生じる。直径はまた、「局所直径」とも呼ばれ得る。局所直径は、回転軸105と支持面110との間の(局所的な)距離の2倍であり得る。一例として、被覆ドラム即ち支持面110の最大直径は、第2の距離122の2倍であり得る。被覆ドラム即ち支持面110の最小直径は、第1の距離120の2倍であり得る。
本明細書に記載の他の実施形態と組み合わされ得るある実施形態では、支持面110の縁部における被覆ドラムの直径または最大直径は、少なくとも300mm、具体的には少なくとも0.5m、より具体的には少なくとも1mである。具体的には、支持面の縁部における被覆ドラムの直径または最大直径は、少なくとも0.5mである。直径または最大直径は、300mmと3mの間の範囲、具体的には400mmと2mの間の範囲、より具体的には、400mmと1.8mの間の範囲であり得る。
本明細書に記載の他の実施形態と組み合わされ得るある実施形態では、直径差は、支持面110の幅124の0.005%から5%の範囲内、具体的には支持面110の幅124の0.01%から2%の範囲内、より具体的には支持面110の幅124の0.01%から0.5%の範囲内である。直径差は、支持面110の、最大直径と最小直径の差として規定され得る。一例として、直径差は、支持面110の縁部における支持面110の直径(例えば最大直径)と、支持面110の中央部112における支持面110の直径(例えば最小直径)との差として規定され得る。
本明細書に記載の他の実施形態と組み合わされ得るある実施形態では、支持面110の幅1メートルあたりの直径差は、5mm未満、具体的には2mm未満、より具体的には1mm未満である。
本開示の他の実施形態と組み合わされ得るある実施形態によると、第1の距離120及び第2の距離122といった、回転軸105と支持面110との間の距離は、回転軸105に垂直な面内で、ほぼ一定である。具体的には、距離または直径は回転軸105に沿って変化し、回転軸105と垂直な面内では変化しない。
本明細書に記載の他の実施形態と組み合わされ得るある実施形態によると、支持面110は、1つ以上の凹形状部を含む。具体的には、支持面110は、回転軸105に平行な面内に断面を有することができ、その面内に回転軸105が延びている(例えば、図1)。支持面110のこの断面の外周は、1つ以上の凹形状部を有し得る。凹形の被覆ドラム(「凹形のローラ」とも呼ばれる)は、フレキシブル基板のエッジにおける張力を増大し得る。フレキシブル基板のエッジにおける熱損傷は、低減し得るか、または回避さえし得る。
「凹形状」及び「凹形の」という用語は、本開示で使用される場合を通じて、支持面が回転軸105に対して内側に湾曲しているという意味として理解されるべきである。例えば、支持面110と支持面110の回転軸105との間の距離(即ち直径)は、支持面110の縁部から中央部112に向かう方向に、連続的に、及び/または非直線的に、減少していることができる。支持面110との距離即ち直径は、中央部112から、第1の限界114と第2の限界116のといった支持面110の縁部に向かって、連続的に、及び/または非直線的に、増大していることができる。
図1に示すように、ある実施形態では、支持面110は凹形状部からなる。言い換えれば、支持面110全体が凹形状である。他の実施形態では、支持面110は、回転軸105と平行な方向に順に配列されていることができる、2つ以上の凹形状部を有する。
1つ以上の凹形状部が、支持面110の縁部と中央部112のうちの少なくとも1つを設け得る。例えば、1つ以上の凹形状部が、支持面110の第1の限界114、中央部112、及び第2の限界116を設け得る。
ある実施形態では、被覆ドラムは、例えば基板処理中に支持面110を冷却するように構成された、冷却デバイスを含む。支持面110の冷却によって、例えば被覆処理中の、フレキシブル基板の熱損傷をさらに低減することができる。ある実施形態によると、被覆ドラムは、2重壁の被覆ドラムであることができる。2重区画の被覆ドラムの2つの壁の間に、冷却液が供給され得る。2つの壁は内壁と外壁であることができ、外壁が、支持面110を提供することができる。
図3は、本明細書に記載の実施形態による、フレキシブル基板10を支持する装置100の概略図を示している。被覆ドラムは、基板処理中、例えば被覆処理中に、真空処理チャンバ内でフレキシブル基板10を支持するように構成されている。具体的には、フレキシブル基板10は、被覆ドラムに設けられ、1つ以上の堆積源(図示せず)の位置に対応する被覆エリアを通って移動され得る。操作中、被覆ドラムは、フレキシブル基板10が前方または後方に移動するようにして、例えば時計回りまたは反時計回りに、回転軸105を中心に回転する。
被覆ドラムの直径が変化していることによって、基板内の張力は局所的に増大していることができる。例えば、直径が変化していることによって、基板の張力が基板のエッジに向かって増大していることができる。フレキシブル基板の張力が局所的に増大していることによって、フレキシブル基板の熱損傷を低減することが可能になり、さらには回避することさえも可能になる。具体的には、基板のエッジにおける張力を増大することによって、基板のエッジに起伏やしわができることを防止できる。本開示が、基板のエッジにおける張力の増大に限定されないことは、留意される。被覆ドラムの直径は、フレキシブル基板の選択された箇所、例えば熱損傷が生じ得る箇所において(局所的に)張力が増大するようにして、変化していることができる。
図4は、本明細書に記載の実施形態による、真空処理チャンバ内でフレキシブル基板を支持するための装置400の概略図である。
本明細書に記載の他の実施形態と組み合わされ得るある実施形態によると、支持面は、回転軸105と平行な方向に直線的に傾斜した、1つ以上の直線傾斜部を有する。具体的には、支持面は、回転軸105に平行な面内に断面を有することができ、その面内に回転軸105が延びている(例えば、図4)。支持面のこの断面の外周は、1つ以上の直線傾斜部を有し得る。
ある実施形態では、1つ以上の直線傾斜部は、第1の直線傾斜部410と第2の直線傾斜部412を含み、第1の直線傾斜部410と第2の直線傾斜部412は、反対に傾斜している。例えば、支持面と回転軸105の間の距離は、中央部414から、第1の限界415及び第2の限界416といった支持面の各縁部に向かって、直線的に増大していることができる。具体的には、第1の直線傾斜部410と第2の直線傾斜部412は、互いに対してミラー反転していることができる。ある実施形態では、第1の直線傾斜部410と第2の直線傾斜部412は、併せてV字形を形成することができる。
ある実施形態によると、第1の直線傾斜部410と第2の直線傾斜部412は、支持面の中央部414で互いに接続されている。具体的には、第1の直線傾斜部410と第2の直線傾斜部412の間の接続部が、中央部414を設け得る。
ある実施形態では、第1の直線傾斜部410は第1の切頂円錐(円錐台)であることができ、第2の直線傾斜部412は第2の切頂円錐であることができる。第1の切頂円錐と第2の切頂円錐は、ほぼ同じ形状を有し得る。具体的には、第1の切頂円錐と第2の切頂円錐は、互いに対してミラー反転していることができる。
図5は、本明細書に記載のさらなる実施形態による、真空処理チャンバ内でフレキシブル基板を支持するための装置500の概略図である。
本明細書に記載の他の実施形態と組み合わされ得るある実施形態によれば、支持面は、回転軸105にほぼ平行な、1つ以上の直線部520を有する。具体的には、回転軸105と、支持面の1つ以上の直線部520とは、回転軸105に沿って距離がほぼ一定(または平行)であり得る。この距離は、回転軸105と垂直な方向に測定するものであり得る。「ほぼ平行」という用語は、例えば、回転軸105と支持面の1つ以上の直線部520との間のほぼ平行な配向に関するものであり、正確な平行配向からの数度(例えば5°まで、または10°までさえも)のずれは、依然として「ほぼ平行」と見なされる。
1つ以上の直線部520は、回転軸105と平行な方向に幅522を有する。1つ以上の直線部520の幅522は、支持面の幅全体(図1の参照番号124で示される)の、25%未満、10%未満、さらに具体的には5%未満であり得る。
ある実施形態では、1つ以上の直線部520が支持面の中央部を設けている。例えば、1つ以上の直線部520は、回転軸105に対する距離が変化している2つ以上の部分の間に、設けられていることができる。具体的には、1つ以上の直線部520は、第1の直線傾斜部410と第2の直線傾斜部412といった、2つ以上の直線傾斜部の間に設けられていることができる。
図6は、本明細書に記載のさらに別の実施形態による、真空処理チャンバ内でフレキシブル基板を支持するための装置600の概略図である。装置600は、図5に関連して上記された、1つ以上の直線部520を有する。図6の実施例では、1つ以上の直線部520は、第1の湾曲部610及と第2の湾曲部612といった、2つ以上の湾曲部の間に設けられている。1つ以上の湾曲部は、非直線部及び凹形状部のうちの、少なくとも1つであることができる。
ある実施形態では、支持面の1つ以上の湾曲部と回転軸105との間の距離は、(例えば、1つ以上の直線部520によって設けられる)中央部から、第1の限界615及び第2の限界616といった支持面の各縁部に向かって、非直線的に増大していることができる。具体的には、第1の湾曲部610と第2の湾曲部612は、互いに対してミラー反転していることができる。
図7は、本明細書に記載の実施形態による、真空処理チャンバ内でフレキシブル基板10上に層を堆積するように構成されたロールツーロールの堆積装置といった、処理装置700の概略図である。
処理装置700は、本明細書に記載の実施形態による、真空処理チャンバ内でフレキシブル基板を支持するための装置、並びに、堆積源及びエッチングツールからなる群から選択された、1つ以上の処理ツールを含む。1つ以上の処理ツールが、本装置の被覆ドラム710に隣接して位置している。被覆ドラム710は、破線711で表されるように、変化している直径を有する。
処理装置700は、第1チャンバ部分702、第2チャンバ部分704、及び第3チャンバ部分306といった、少なくとも3つのチャンバ部分を含んでいることができる。第3チャンバ部分706または、第2チャンバ部分704と第3チャンバ部分706の組み合わせを、本開示の真空処理チャンバとして構成することができる。第3チャンバ部分706内に、1つ以上の堆積源730及び1つ以上のエッチングツール732といった、1つ以上の処理ツールを設けることができる。
フレキシブル基板10は、例えば、巻軸を有する第1のロール764上に供給される。フレキシブル基板10は、矢印1で示される基板の移動方向によって示されるように、第1のロール764から巻き出される。第1チャンバ部分702と第2チャンバ部分704とを仕切るため、仕切り壁708が設けられている。仕切り壁708には、基板10を通過させるための間隙スルース709をさらに設けることができる。真空フランジ705が、第2処理チャンバ部704と第3処理チャンバ部706の間に、1つ以上の堆積源730及び1つ以上のエッチングツール732といった1つ以上の処理ツールを受け入れるための開口部付きで、設けられてよい。
フレキシブル基板10は、被覆ドラム710に設けられ、1つ以上の堆積源730の位置に対応する堆積エリア(即ち被覆エリア)を通って移動する。操作中、被覆ドラム710は、フレキシブル基板10が矢印1の方向に移動するようにして、回転軸105を中心に回転する。ある実施形態によれば、フレキシブル基板10は、1つ、2つまたはそれよりも多いローラを介して、第1のロール764から被覆ドラム710まで、及び被覆ドラム710から第2のロール765まで誘導される。第2のロール765は、例えば、フレキシブル基板10がその処理後に巻かれる、巻軸を有している。
ある実施態様では、第1チャンバ部分702は、インターリーフチャンバ部分ユニット701と基板チャンバ部分ユニット703に分離されている。処理装置700のモジュラー要素として、インターリーフロール766及びインターリーフローラ767を設けることができる。処理装置700は、フレキシブル基板10を加熱するための予熱ユニット740をさらに含むことができる。さらに、追加でまたは代わりに、フレキシブル基板10を第3チャンバ部分706に進入する前にプラズマで処理するため、前処理プラズマ源742、例えばRFプラズマ源を設けることができる。
本明細書に記載の他の実施形態と組み合わされ得るさらに別の実施形態によれば、オプションで、基板処理の結果を評価するための光学的測定ユニット744及び/または、電荷をフレキシブル基板上に適合させるための1つ以上のイオン化ユニット746を設けることができる。
図8は、本明細書に記載の実施形態による、被覆ドラム上でフレキシブル基板を支持するための方法800のフロー図である。本方法は、本明細書に記載の実施形態による、真空処理チャンバ内でフレキシブル基板を支持するための装置、及びフレキシブル基板上に層を堆積するように構成された処理装置を使って実施されてよい。
本方法は、ブロック810で、被覆ドラムの支持面上でフレキシブル基板を支持することであって、支持面は被覆ドラムの回転軸に対して対称であり、回転軸と支持面との間の回転軸に垂直な方向の距離が回転軸に沿って変化している、支持することを含む。方法は、ブロック820で、支持面によってフレキシブル基板のエッジ部分に張力をかけることを含む。
ある実施形態では、方法800は、被覆ドラムを回転軸を中心にして回転し、フレキシブル基板を、真空処理チャンバ内に設けられた処理エリアを通って移動させることをさらに含む。ある実施形態では、方法800は、処理エリア内でフレキシブル基板を処理することを含む。フレキシブル基板の処理は、フレキシブル基板上に材料層を堆積することと、エッチング処理を実施することのうちの、少なくとも1つを含み得る。
本明細書に記載の実施形態によると、被覆ドラム上でフレキシブル基板を支持するための方法は、コンピュータプログラムと、ソフトウェアと、コンピュータソフトウェア製品と、本開示による装置の対応する構成要素と通信可能なCPU、メモリ、ユーザインターフェース、及び入出力手段を有し得る相互関連コントローラとを用いて、実行され得る。
本開示によると、被覆ドラムの直径は変化しており、基板の張力が局所的に増大している。一例として、直径が変化していることによって、基板のエッジに向かって、基板の張力が増大していることができる。フレキシブル基板の張力が局所的に増大していることによって、フレキシブル基板の熱損傷を低減することが可能になり、さらには回避することさえも可能になる。具体的には、基板のエッジにおける張力を増大することによって、基板のエッジに起伏やしわができることを防止できる。
以上の説明は本開示の実施形態を対象としているが、本開示の基本的な範囲を逸脱することなく本開示の他の実施形態及びさらなる実施形態を考案することが可能であり、本開示の範囲は、以下の特許請求の範囲によって定められる。
Claims (15)
- 真空処理チャンバ内でフレキシブル基板を支持するための装置であって、
回転軸を中心にして回転可能な被覆ドラムであって、前記フレキシブル基板を支持するように構成された支持面を有し、
前記支持面は前記回転軸に対して対称であり、前記回転軸と前記支持面の中央部との間の、前記回転軸に垂直な方向の第1の距離が、前記回転軸と前記支持面の縁部との間の第2の距離よりも小さい、被覆ドラム
を備える、装置。 - 前記第1の距離は、前記第2の距離の少なくとも95%である、請求項1に記載の装置。
- 前記被覆ドラムは、前記支持面を冷却するように構成された冷却デバイスを含む、請求項1または2に記載の装置。
- 前記支持面の前記縁部が、前記支持面の第1の限界、及び前記第1の限界と反対側の前記支持面の前記第2の限界を含む、請求項1から3のいずれか一項に記載の装置。
- 前記支持面が1つ以上の凹形状部を有する、請求項1から4のいずれか一項に記載の装置。
- 前記支持面が凹形状部からなる、請求項5に記載の装置。
- 前記1つ以上の凹形状部が、前記支持面の前記縁部と前記中央部のうちの少なくとも1つを設けている、請求項5または6に記載の装置。
- 前記支持面は、前記回転軸と平行な方向に直線的に傾斜した、1つ以上の直線傾斜部を有する、請求項1から4のいずれか一項に記載の装置。
- 前記1つ以上の直線傾斜部は、第1の直線傾斜部と第2の直線傾斜部を含み、前記第1の直線傾斜部と前記第2の直線傾斜部は、反対に傾斜している、請求項8に記載の装置。
- 前記第1の直線傾斜部と前記第2の直線傾斜部は、前記支持面の前記中央部で互いに接続されている、請求項9に記載の装置。
- 前記支持面が、前記回転軸に平行な1つ以上の直線部を有する、請求項1から5及び7から9のいずれか一項に記載の装置。
- 前記1つ以上の直線部のうちの少なくとも1つの直線部が前記支持面の前記中央部を設けている、請求項11に記載の装置。
- 前記支持面の縁部における前記被覆ドラムの直径が少なくとも300mmである、請求項1から12のいずれか一項に記載の装置。
- フレキシブル基板上に層を堆積するように構成された処理装置であって、
真空処理チャンバと、
前記真空処理チャンバ内の請求項1から13のいずれか一項の装置と、
堆積源及びエッチングツールからなる群から選択された1つ以上の処理ツールであって、前記装置の前記被覆ドラムに隣接して配置されている1つ以上の処理ツールとを、備える装置。 - 被覆ドラム上でフレキシブル基板を支持するための方法であって、
前記被覆ドラムの支持面上で前記フレキシブル基板を支持することであって、前記支持面は前記被覆ドラムの回転軸に対して対称であり、前記回転軸と前記支持面との間の前記回転軸に垂直な方向の距離が前記回転軸に沿って変化している、支持することと、
前記支持面によって、前記フレキシブル基板のエッジ部分に張力をかけることとを含む、方法。
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