JPS6320474A - 帯状物連続真空蒸着処理装置 - Google Patents
帯状物連続真空蒸着処理装置Info
- Publication number
- JPS6320474A JPS6320474A JP16470086A JP16470086A JPS6320474A JP S6320474 A JPS6320474 A JP S6320474A JP 16470086 A JP16470086 A JP 16470086A JP 16470086 A JP16470086 A JP 16470086A JP S6320474 A JPS6320474 A JP S6320474A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- vacuum
- strip
- chamber
- vapor deposition
- outlet
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 title claims abstract description 6
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 claims abstract description 18
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract description 14
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 14
- 238000007689 inspection Methods 0.000 claims abstract description 12
- 238000007789 sealing Methods 0.000 claims abstract description 11
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 7
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 10
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims description 9
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 claims description 7
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 abstract description 12
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 abstract description 2
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 abstract 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 11
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- 239000003566 sealing material Substances 0.000 description 4
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 3
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000005422 blasting Methods 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 230000001276 controlling effect Effects 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000005489 elastic deformation Effects 0.000 description 1
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 238000009834 vaporization Methods 0.000 description 1
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 description 1
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は、金属ストリップ等の帯状物の表面に高真空室
中でイオンブレーティング等の物理的蒸着法によって金
属、セラミックスその他の薄い被膜を連続的にコーティ
ングするための帯状物連続真空蒸着処理装置に関するも
のである。
中でイオンブレーティング等の物理的蒸着法によって金
属、セラミックスその他の薄い被膜を連続的にコーティ
ングするための帯状物連続真空蒸着処理装置に関するも
のである。
（従来の技術）
従来、金属ストリップ等の帯状物の片面または両面にＡ
ｊ！、Ｔｉ等を連続的に蒸着するための連続真空蒸着装
置として、第４図に示すような形式のものが既知である
。この図示の形式の連続真空蒸着処理装置は、真空蒸着
処理を行なうための高真空に維持される真空室１と、こ
の真空室１の入口１ａおよび出口１ｂにそれぞれ通じる
入側および出側シール用差圧室２および３とを具え、こ
れら両シール用差圧室２，３は真空室１に近い程高真空
度に調圧された複数個の区分室によりそれぞれ構成され
、金属ストリップ等の帯状物４を入口１ａから出口１ｂ
を経て連続的に真空室１内に通過させて蒸着処理を行っ
ている際に、真空室１内を高真空に維持するための真空
封止を確保するよう構成されている。
ｊ！、Ｔｉ等を連続的に蒸着するための連続真空蒸着装
置として、第４図に示すような形式のものが既知である
。この図示の形式の連続真空蒸着処理装置は、真空蒸着
処理を行なうための高真空に維持される真空室１と、こ
の真空室１の入口１ａおよび出口１ｂにそれぞれ通じる
入側および出側シール用差圧室２および３とを具え、こ
れら両シール用差圧室２，３は真空室１に近い程高真空
度に調圧された複数個の区分室によりそれぞれ構成され
、金属ストリップ等の帯状物４を入口１ａから出口１ｂ
を経て連続的に真空室１内に通過させて蒸着処理を行っ
ている際に、真空室１内を高真空に維持するための真空
封止を確保するよう構成されている。
真空室１内には、蒸着すべき金属等を溶融状態に保持す
る蒸着ポットのような蒸発源５がコーティングユニット
として設けられている。
る蒸着ポットのような蒸発源５がコーティングユニット
として設けられている。
入側差圧室２の入口側および出側差圧室３の出口側には
、それぞれコイル巻戻機６および巻取機７が設けられ、
これにより、巻戻機６によってコイルから巻戻した帯状
物４を入側差圧室２の入口開口８から真空室１を経て出
側差圧室３の出口間口９に連続的に通し、真空室１で蒸
発源５から蒸発した金属蒸気を帯状物の表面に蒸着させ
、出側差圧室３の出口開口９から出た帯状物４を巻取機
７によってコイル状に巻き取るよう構成されている。
、それぞれコイル巻戻機６および巻取機７が設けられ、
これにより、巻戻機６によってコイルから巻戻した帯状
物４を入側差圧室２の入口開口８から真空室１を経て出
側差圧室３の出口間口９に連続的に通し、真空室１で蒸
発源５から蒸発した金属蒸気を帯状物の表面に蒸着させ
、出側差圧室３の出口開口９から出た帯状物４を巻取機
７によってコイル状に巻き取るよう構成されている。
入側差圧室２の複数個の区分室の内部圧力は、真空室１
内の真空度を所定値に維持するように、大気圧に近い入
側端の区分室から順次の区分室の内部の真空度を高め、
他方、出側差圧室３の複数個の区分室の内部圧力は真空
室１内の所定の真空度から順次出側端に向けて低めてい
って出側端の区分室では大気圧近くになっている。
内の真空度を所定値に維持するように、大気圧に近い入
側端の区分室から順次の区分室の内部の真空度を高め、
他方、出側差圧室３の複数個の区分室の内部圧力は真空
室１内の所定の真空度から順次出側端に向けて低めてい
って出側端の区分室では大気圧近くになっている。
（発明が解決しようとする問題点）
このような連続真空蒸着処理装置では、真空室１内に設
置されている蒸発源の取替、蒸発物の補充を頻繁に行な
う必要があり、また、真空室内に設置されているコーテ
ィングユニットその他の蒸着用機器等に蒸発ａＩ５から
蒸発した金属等の蒸気が付着し、この結果としてこれら
の機器が正常に作動しな（なるために真空室内に入って
清掃する必要があり、さらに、真空室内の上述した機器
のメンテナンスも必要である。
置されている蒸発源の取替、蒸発物の補充を頻繁に行な
う必要があり、また、真空室内に設置されているコーテ
ィングユニットその他の蒸着用機器等に蒸発ａＩ５から
蒸発した金属等の蒸気が付着し、この結果としてこれら
の機器が正常に作動しな（なるために真空室内に入って
清掃する必要があり、さらに、真空室内の上述した機器
のメンテナンスも必要である。
しかしながら、上述したような構成の従来の連続真空蒸
着処理装置では、上記の各作業を行なうため、高真空の
真空室を解放して大気雰囲気にしており、この結果、真
空室内の帯状物は製品にならず、製品歩留りが低下する
問題や、各種作業終了後に室内をもとの真空度にするた
めに長時間を要し、これがため設備の稼動率が低下する
という問題があった。
着処理装置では、上記の各作業を行なうため、高真空の
真空室を解放して大気雰囲気にしており、この結果、真
空室内の帯状物は製品にならず、製品歩留りが低下する
問題や、各種作業終了後に室内をもとの真空度にするた
めに長時間を要し、これがため設備の稼動率が低下する
という問題があった。
本発明は上述した問題を解決し、上述した各種作業を行
なうことによって生じる製品歩留りおよび設備の稼動率
の低下を少なくするよう改善した連続真空蒸着処理装置
を提供しようとするものである。
なうことによって生じる製品歩留りおよび設備の稼動率
の低下を少なくするよう改善した連続真空蒸着処理装置
を提供しようとするものである。
（問題点を解決するための手段）
本発明によれば、第１図に示すように、高真空に排気さ
れる真空室１と、この真空室内に高真空を維持しながら
真空蒸着処理すべき帯状物４を入側大気雰囲気中から真
空室に導入するとともに出側大気雰囲気中に真空室から
導出し得るよう真空室１の入側および出側に連続して設
けられたシール用差圧室２，３とを具える連続真空蒸着
処理装置において、少なくともコーティングユニットで
ある蒸発源５およびその真上に位置する帯状物部分４ａ
を包囲する蒸着室１０が設けられ、この蒸着室１０への
帯状物４の入口１１および出口１２に開閉可能の密閉装
置１３．１４がそれぞれ設けられ、外部から蒸着室１０
内に直接に出入し得る密閉扉付点検口１５が設けられて
いることを特徴とする。
れる真空室１と、この真空室内に高真空を維持しながら
真空蒸着処理すべき帯状物４を入側大気雰囲気中から真
空室に導入するとともに出側大気雰囲気中に真空室から
導出し得るよう真空室１の入側および出側に連続して設
けられたシール用差圧室２，３とを具える連続真空蒸着
処理装置において、少なくともコーティングユニットで
ある蒸発源５およびその真上に位置する帯状物部分４ａ
を包囲する蒸着室１０が設けられ、この蒸着室１０への
帯状物４の入口１１および出口１２に開閉可能の密閉装
置１３．１４がそれぞれ設けられ、外部から蒸着室１０
内に直接に出入し得る密閉扉付点検口１５が設けられて
いることを特徴とする。
（作 用）
上述の構成を具える本発明による帯状物連続真空蒸着処
理装置は、帯状物４の送りを停止した状態において、蒸
着室１０の入口１１および出口１２の密閉装置１３．１
４を閉止し、点検口１５を開放して蒸着室１０内を大気
に通じさせることにより、装置の他の部分、例えば、真
空室１、入側および出側シール用差圧室内の真空度を低
下させることなく、蒸発源５の蒸発物の補充、蒸発源５
その他のコーティングユニットの清掃、補修または交換
を行なうことができ、それらの作業完了時、点検口１５
を密閉し、蒸着室１０の入口１１および出口１２の密閉
装置１３、１４を開放して、例えば、高真空度に維持さ
れている真空室１に通じさせ図示せざる真空装置により
急速に所定の真空度に回復させることができる。
理装置は、帯状物４の送りを停止した状態において、蒸
着室１０の入口１１および出口１２の密閉装置１３．１
４を閉止し、点検口１５を開放して蒸着室１０内を大気
に通じさせることにより、装置の他の部分、例えば、真
空室１、入側および出側シール用差圧室内の真空度を低
下させることなく、蒸発源５の蒸発物の補充、蒸発源５
その他のコーティングユニットの清掃、補修または交換
を行なうことができ、それらの作業完了時、点検口１５
を密閉し、蒸着室１０の入口１１および出口１２の密閉
装置１３、１４を開放して、例えば、高真空度に維持さ
れている真空室１に通じさせ図示せざる真空装置により
急速に所定の真空度に回復させることができる。
これがため、本発明によれば、蒸着室１０の大気開放後
における再スタートまでの真空度の回復が極めて容易で
短時間で行なうことができるので、定期的蒸発物の補充
およびコーティングユ二ットの点検、補修等のメンテナ
ンスばかりでなく、操業途中でのコーティングユニット
のトラブル時においてこれに直ちに対応して補修または
交換が可能である。したがって、設備の稼動率を著しく
向上させることができる。
における再スタートまでの真空度の回復が極めて容易で
短時間で行なうことができるので、定期的蒸発物の補充
およびコーティングユ二ットの点検、補修等のメンテナ
ンスばかりでなく、操業途中でのコーティングユニット
のトラブル時においてこれに直ちに対応して補修または
交換が可能である。したがって、設備の稼動率を著しく
向上させることができる。
また、蒸着室の大気開放によって影響を受ける帯状物の
長さが著しく短くなることによって、製品の歩留りをも
著しく向上させることができる。
長さが著しく短くなることによって、製品の歩留りをも
著しく向上させることができる。
（実施例）
第２図および第３図は本発明の一実施例を示す。
図面に示す例では、真空室１内にコーティングユニット
である蒸発源５およびその真上に位置する帯状物部分４
ａを包囲する小容積の蒸着室１０が上下に分割された外
匣部分１０ａ 、 １０ｂで構成されて真空室１の下部
を横切って設けられ、この蒸着室１０への帯状物４の入
口１１および出口１２に開閉可能の密閉装置１３．１４
がそれぞれ設けられ、蒸着室１０の一方の側壁、すなわ
ち真空室１の一方の側壁下部に点検口１５が設けられ、
この点検口１５は密閉扉１６によって開閉可能に密閉さ
れている。
である蒸発源５およびその真上に位置する帯状物部分４
ａを包囲する小容積の蒸着室１０が上下に分割された外
匣部分１０ａ 、 １０ｂで構成されて真空室１の下部
を横切って設けられ、この蒸着室１０への帯状物４の入
口１１および出口１２に開閉可能の密閉装置１３．１４
がそれぞれ設けられ、蒸着室１０の一方の側壁、すなわ
ち真空室１の一方の側壁下部に点検口１５が設けられ、
この点検口１５は密閉扉１６によって開閉可能に密閉さ
れている。
入口１１および出口１２にそれぞれ設けられる３閉可能
の密閉装置１３．１４は同じ構造とすることができ、し
たがって一方の密閉装置１３の構造につき詳細に説明す
る。
の密閉装置１３．１４は同じ構造とすることができ、し
たがって一方の密閉装置１３の構造につき詳細に説明す
る。
図示の例では、水平方向に細長く開口する入口１１を上
下から開閉する昇降扉１７．１８が蒸着室１０（１０ａ
または１０ｂ）の外壁に固着された案内部材１９によっ
て蒸着室外壁に沿ってそれぞれ上下に摺動自在に設けら
れ、蒸着室外壁に固着された上下シリンダー装置２０．
２１が上下昇降扉１７．１８をそれぞれ作動し得るよう
連結されている。上下昇降扉１７゜１８の先端部には弾
性シール材２２．２３がそれぞれ設けられ、これにより
、蒸着室１０の大気開放時に、上下昇降扉１７．１８を
シリンダー装置２０．２１によってそれぞれ下降および
上昇させて入口１１を閉止する際に上下シリンダー装置
２０．２１によって弾性シール材２２．２３を帯状物４
の上下面に押しつけ、シール材２２．２３の弾性変形に
よって、帯状物４の両側に間隙を残すことなく、完全に
密閉することができるよう構成されている。
下から開閉する昇降扉１７．１８が蒸着室１０（１０ａ
または１０ｂ）の外壁に固着された案内部材１９によっ
て蒸着室外壁に沿ってそれぞれ上下に摺動自在に設けら
れ、蒸着室外壁に固着された上下シリンダー装置２０．
２１が上下昇降扉１７．１８をそれぞれ作動し得るよう
連結されている。上下昇降扉１７゜１８の先端部には弾
性シール材２２．２３がそれぞれ設けられ、これにより
、蒸着室１０の大気開放時に、上下昇降扉１７．１８を
シリンダー装置２０．２１によってそれぞれ下降および
上昇させて入口１１を閉止する際に上下シリンダー装置
２０．２１によって弾性シール材２２．２３を帯状物４
の上下面に押しつけ、シール材２２．２３の弾性変形に
よって、帯状物４の両側に間隙を残すことなく、完全に
密閉することができるよう構成されている。
（発明の効果）
本発明によれば、蒸着室１０の大気開放後における再ス
タートまでの真空度の回復が極めて容易で短時間で行な
うことができるので、定期的蒸発物の補充およびコーテ
ィングユニットの点検、補修等のメンテナンスばかりで
なく、操業途中でのコーティングユニットのトラブル時
においてこれに直ちに対応して補修または交換が可能で
ある。したがって、設備の稼動率を著しく向上させるこ
とができる。
タートまでの真空度の回復が極めて容易で短時間で行な
うことができるので、定期的蒸発物の補充およびコーテ
ィングユニットの点検、補修等のメンテナンスばかりで
なく、操業途中でのコーティングユニットのトラブル時
においてこれに直ちに対応して補修または交換が可能で
ある。したがって、設備の稼動率を著しく向上させるこ
とができる。
また、蒸着室の大気開放によって影響を受ける帯状物の
長さが著しく短くなることによって、製品の歩留りをも
著しく向上させることができる。
長さが著しく短くなることによって、製品の歩留りをも
著しく向上させることができる。
第１図は本発明による処理装置の全体の概略線図、
第２図は第１図の■−■線上で断面とした蒸着室の部分
の詳細を示す縦断面図、 第３図は第２図のｍ−ｍ線上の縦断面図、第４図は従来
の処理装置の全体の概略線図である。 １・・・真空室 ２・・・入側シール用差圧室 ３・・・出側シール用差圧室 ４・・・帯状物４ａ・・
・帯状物部分 ５・・・コーティングユニットの蒸発源１０・・・蒸着
室 １１・・・入口１２・・・出口
１３．１４・・・密閉装置１５・・・点検口
１６・・・密閉扉１７、１８・・・昇降扉
１９・・・案内部材２０．２１・・・シリンダー装
置 ２２、２３・・・弾性シール材
の詳細を示す縦断面図、 第３図は第２図のｍ−ｍ線上の縦断面図、第４図は従来
の処理装置の全体の概略線図である。 １・・・真空室 ２・・・入側シール用差圧室 ３・・・出側シール用差圧室 ４・・・帯状物４ａ・・
・帯状物部分 ５・・・コーティングユニットの蒸発源１０・・・蒸着
室 １１・・・入口１２・・・出口
１３．１４・・・密閉装置１５・・・点検口
１６・・・密閉扉１７、１８・・・昇降扉
１９・・・案内部材２０．２１・・・シリンダー装
置 ２２、２３・・・弾性シール材
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、高真空に排気される真空室と、この真空室内の高真
空を維持しながら真空蒸着処理すべき帯状物を入側大気
雰囲気中から真空室に導入するとともに出側大気雰囲気
中に真空室から導出し得るよう真空室の入側および出側
に連続して設けられたシール用差圧室とを具える帯状物
連続真空蒸着処理装置において、 少なくともコーティングユニットおよびこれにより被膜
が形成される帯状物部分を包囲する蒸着室が設けられ、
この蒸着室への帯状物の入口および出口に開閉可能の密
閉装置がそれぞれ設けられ、外部から蒸着室内に直接に
出入し得る密閉扉付点検口が設けられていることを特徴
とする帯状物連続真空蒸着処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16470086A JPH0735575B2 (ja) | 1986-07-15 | 1986-07-15 | 帯状物連続真空蒸着処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16470086A JPH0735575B2 (ja) | 1986-07-15 | 1986-07-15 | 帯状物連続真空蒸着処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6320474A true JPS6320474A (ja) | 1988-01-28 |
| JPH0735575B2 JPH0735575B2 (ja) | 1995-04-19 |
Family
ID=15798210
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16470086A Expired - Lifetime JPH0735575B2 (ja) | 1986-07-15 | 1986-07-15 | 帯状物連続真空蒸着処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0735575B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009200295A (ja) * | 2008-02-22 | 2009-09-03 | Fujitsu Telecom Networks Ltd | プリント基板 |
| CN114481081A (zh) * | 2021-12-29 | 2022-05-13 | 上海子创镀膜技术有限公司 | 一种下沉式真空腔体 |
-
1986
- 1986-07-15 JP JP16470086A patent/JPH0735575B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009200295A (ja) * | 2008-02-22 | 2009-09-03 | Fujitsu Telecom Networks Ltd | プリント基板 |
| CN114481081A (zh) * | 2021-12-29 | 2022-05-13 | 上海子创镀膜技术有限公司 | 一种下沉式真空腔体 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0735575B2 (ja) | 1995-04-19 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR20200004443A (ko) | 버퍼 챔버를 갖는 프로세싱 시스템에서 기판들을 핸들링하기 위한 방법 및 장치 | |
| US4294678A (en) | Apparatus and method for preventing contamination of sputtering targets | |
| JPS6320474A (ja) | 帯状物連続真空蒸着処理装置 | |
| US20090084671A1 (en) | Sputtering apparatus | |
| JPH02118064A (ja) | 真空蒸着装置 | |
| TW201737318A (zh) | 用於處理基板上薄膜之設備，以及用於提供氣密製程分離壁之方法 | |
| JPS61170568A (ja) | 連続真空処理装置 | |
| JPS6324065A (ja) | 帯状物連続真空蒸着処理装置 | |
| JP4766821B2 (ja) | 基板にコーティングを施すための真空モジュール（及びその変形）とモジュールシステム | |
| JPH06128746A (ja) | 巻取式真空処理装置 | |
| JPS6324062A (ja) | 帯状物連続真空蒸着処理装置 | |
| JPH0426760A (ja) | スパッタリング装置 | |
| JPH0735579B2 (ja) | 帯状物のエア−ロツク | |
| JP3207889B2 (ja) | インライン式スパツタ装置およびその運転方法 | |
| JPH04183863A (ja) | 基板処理装置 | |
| JPS63307273A (ja) | 基板に薄層をスパツタする装置 | |
| JP2778020B2 (ja) | 表面処理装置 | |
| JPS61147871A (ja) | 真空蒸着装置 | |
| JPS60165378A (ja) | 半連続巻取式蒸着装置 | |
| JPH03207860A (ja) | 連続成膜用の真空蒸着装置 | |
| JPH0364463A (ja) | 連続真空蒸着装置 | |
| EP1348777A2 (en) | Vacuum deposition apparatus | |
| JP2902943B2 (ja) | 薄膜光電変換素子の製造装置 | |
| JPS60115227A (ja) | プラズマ等の処理方法とその装置 | |
| JP2841581B2 (ja) | 化学蒸着装置 |