JPS61147871A - 真空蒸着装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野」 本発明は真空蒸着装置に関する。

〔従来の技術〕

混成集積回路に用いられるセラミック基板等に金属配線
等を形成する場合、金属薄膜は真空蒸着により主に形成
される。

この時用いられる真空蒸着装置には、例えば第２図に示
されるように、試料室１と蒸着源室２とに分れた真空室
を有する構造のものがある。

第２図において、試料室１には、例えば回転可能な試料
ホルダー３が固定されており、複数個の試料４が取付け
られるように構成されている。試料室１と蒸着源室２と
は、分離バルブ５と、これを上下及び水平方向に移動さ
せる駆動機構６とにより気密に分離可能となっている。

そして、メインバルブ７は上下機構８によシ蒸着源室２
と拡散ポンプ９とを分離している。

次にこのように構成された真空蒸着装置の操作について
簡単に説明する。

試料室１内に試料４をセットしたのち、真空室内はメイ
ンバルブ７を閉じ、分離バルブ５を開いた状態にしてお
く。そして、ロータリーポンプ１０を作動させたのち補
助バルブ１１を開き拡散ポンプ９を作動させる。

次に、荒引バルブ１２を開さ試料室１及び蒸着源室２内
を１０−”　Ｔｏｒｒ程度にまで引いたのち、荒引バル
ブ１２を閉じメインバルブ７を開く。試料室ｌと蒸着源
室２内が所定の高真空（〜１σ６Ｔｏｒｒ）に達した時
点でシャッタ１３を開き、蒸着源１４から蒸発した金属
蒸気を試料４にあてその表面に金属薄膜を形成する。

蒸着終了後はメインバルブ７及び分離バルブ５を閉じた
のち、リークバルブ１５を開いて試料室１を常圧にし、
試料室１中の蒸着の完了した試料４を取り出す。そして
、新たに未蒸着の試料をセットし次の蒸着操作に移る。

このように、真空室が試料室１と蒸着源室２とに分れて
いる場合は、蒸着源室２の真空をやぶらずに試料４の交
換ができるため、作業能率は向上したものとなる。

〔発明が解決しようとする問題点〕

しかしながら、蒸着途中で蒸着源１４に異常が発生した
場合、例えば電子銃加熱手段を用いた場合のフィラメン
トの断線や蒸発材料不良の場合等では、フィラメントや
蒸発材料を交換するために蒸着源室２のリークは分離バ
ルブ５を開は試料室１を経由して行なわれた。この九め
、蒸着途中の試料４の表面が酸化したり、他の不純物に
より汚染されたりするため、再蒸着して規定厚の蒸着膜
を形成しても、再蒸着した蒸着膜の密着性が悪く、試料
は不良となる欠点があった。

本発明の目的は、上記欠点を除去し、試料室の真空をや
ぶらずく蒸着源の異常を処理でき、試料の製造歩留りを
向上させることのできる真空蒸着装置を提供する仁とに
ある。

〔問題を解決するための手段〕

本発明の真空蒸着装置は、試料室と蒸着源室とが分離バ
ルブにより気密に分離される構造を有する真空蒸着装置
であって、試料室と蒸着源室とがそれぞれ独立にリーク
バルブ及び荒引きバルブを備え九構成となっている。

本発明によれば、蒸着源室にリークバルブと荒引バルブ
とが備えられているため試料室とは無関係に蒸着源室だ
けの真空をやぶることができるため、蒸着途中の試料を
大気にさらすことはない０〔実施例〕 次に本発明の実施例を図面を参照して説明する０第１図
は本発明の一実施例の概略構成を示す断面図であり、第
２図と異る所は試料室１と蒸着源室２にそれぞれ独立し
てリークバルブ１５Ａ、１５Ｂ及び荒引バルブ１２Ａ、
１２Ｂとが備えられていることである。

すなわち、第１図において、試料室１と蒸着源室２とは
分離バルブ５により、また蒸着源室２と拡散ポンプ９と
はメインパルグアによりそれぞれ気密に分離可能に構成
されている。

試料室１には、従来と同様にリークバルブ１５Ａと荒引
バルブ１２Ａとが設けられているが、一方、蒸着室２に
もリークバルブ１５Ｂと荒引バルブ１２Ｂとが設けられ
ており、それぞれ独立に１７−り及び荒引が可能な構造
となっている。

このように構成された本発明の実施例により、試料のセ
ラミック基板に紅等の蒸着膜を形成する場合の操作につ
いて次に説明する。

まず試料室１内の試料ホルダー３にセラミック基板の試
料４をセットし、メインバルブ７を閉じ分離バルブ５ｔ
−開いた状態にしておく。そして、ロータリーポンプ１
０を作動させたのち補助バルブ１１を開き拡散ポンプ９
を作動させる。

次に、荒引バルブ（１２人又は１２Ｂ）を開き試料室１
及び蒸着源室２内を１０−”　Ｔａｒｔ程度にまで荒引
きしたのち、荒引バルブ（１２Ａ又は１２Ｂ）を閉じメ
インバルブ７を開く。こうして試料室１と蒸着源室２内
が所定の高真空（〜１０−’Ｔｏｒｒ　）に達した時点
でシャッタ１３を開き、蒸着源１４からのＭ等の金属蒸
気を試料４にあてその表面に金属薄膜を形成する。

蒸着終了後はシャッタ１３．メインバルブ７及び分離バ
ルブ５を閉じたのち、リークバルブ１５Ａを開いて試料
室１を常圧として試料４の交換を行う。そしてリークバ
ルブ１５Ａを閉じ、荒引バルブ１２Ａを開いて次の蒸着
操作に移る。

蒸着の途中で蒸着源１４に異常が発生し次場合は、分離
バルブ５及びメインバルブ７を閉じたのチ、リークバル
ブ１５Ｂを開いて蒸着源室２を常圧にして異常対策を行
なう。すなわち、試料室１の真空をやぶる仁となくフィ
ラメントの交換、蒸着材料の補給等の異常処理を行なっ
たのち、リー。

クパルブ１５Ｂを閉じ、荒引バルブ１２Ｂを開けて蒸着
源室２内を荒引きする。その後メインバルブ７ｔ−開け
、蒸着源室２内を高真空にしたのち、分離バルブ５を開
けて蒸着を続行する。

このように本実施例によれば、蒸着源１４の異常処理を
試料室１内を高真空に保ったまま行うことができるので
、蒸着途中の試料表面は酸化された９不純物で汚染され
ることがないため、再蒸着しても再蒸着膜の密着強度は
強く、再蒸着膜がはがれたりすることはない。従って、
作業能率及び製造歩留シ共に向上したものとなる。

上記実施例においては試料としてセラミック基板を用い
た場合について説明したが、これに限定されるものでは
なく、半導体基板１石英板、ガラス板等にも応用可能で
あり、また蒸着材料としても紅の他Ｔｉ　、　Ｃｕ　、
　Ａｕ等薄膜形成に用いられる全ての金属材料を用いる
ことができる。

〔発明の効果〕

以上詳細に説明したように、本発明によれば、蒸着途中
においても試料室の真空をやふることなく蒸着源の異常
処理を行うことのできる真空蒸着装置が得られるので、
作業能率及び製造歩留りの向上に大きな効果がある０

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例の概略構成を示す断面図、第
２図は従来の真空蒸着装置の一例の概略構成を示す断面
図である。 １・・・・・・試料室、２・・・・・・蒸着源室、３・
・・・・・試料ホルダー、４・・・・・・試料、５・・
・・・・分離ノ（ルブ、６・・・・・・駆動機構、７・
・・・・・メインノ（ルプ、８・・・・・・上下機構、
９・・・・・・拡散ボンダ、１０・・・・・・ロータリ
ーポンプ、１１・・・・・・補助バルブ、１２・・・・
・・荒引〕（ルフ、１３・・・・・・シャッタ、１４・
・・・・・蒸着源、１５・・・・・・１ノークバルプ。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 試料室と蒸着源室とが分離バルブにより気密に分離され
   る構造を有する真空蒸着装置において、前記試料室と蒸
   着源室とはそれぞれ独立にリークバルブ及び荒引きバル
   ブを備えていることを特徴とする真空蒸着装置。