JPH0735575B2 - 帯状物連続真空蒸着処理装置 - Google Patents

帯状物連続真空蒸着処理装置

Info

Publication number
JPH0735575B2
JPH0735575B2 JP16470086A JP16470086A JPH0735575B2 JP H0735575 B2 JPH0735575 B2 JP H0735575B2 JP 16470086 A JP16470086 A JP 16470086A JP 16470086 A JP16470086 A JP 16470086A JP H0735575 B2 JPH0735575 B2 JP H0735575B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
vacuum
chamber
vapor deposition
strip
vacuum chamber
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP16470086A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS6320474A (ja
Inventor
久直 中原
憲男 ▲高▼橋
文仁 鈴木
Original Assignee
川崎製鉄株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 川崎製鉄株式会社 filed Critical 川崎製鉄株式会社
Priority to JP16470086A priority Critical patent/JPH0735575B2/ja
Publication of JPS6320474A publication Critical patent/JPS6320474A/ja
Publication of JPH0735575B2 publication Critical patent/JPH0735575B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、金属ストリップ等の帯状物の表面に高真空室
中でイオンプレーティング等の物理的蒸着法によって金
属、セラミックスその他の薄い被膜を連続的にコーテイ
ングするための帯状物連続真空蒸着処理装置に関するも
のである。
(従来の技術) 従来、金属ストリップ等の帯状物の片面または両面にA
l,Ti等を連続的に蒸着するための連続真空蒸着装置とし
て、第4図に示すような形式のものが既知である。この
図示の形式の連続真空蒸着処理装置は、真空蒸着処理を
行なうための高真空に維持される真空室1と、この真空
室1の入口1aおよび出口1bにそれぞれ通じる入側および
出側シール用差圧室2および3とを具え、これら両シー
ル用差圧室2,3は真空室1に近い程高真空度に調圧され
た複数個の区分室によりそれぞれ構成され、金属ストリ
ップ等の帯状物4を入口1aから出口1bを経て連続的に真
空室1内に通過させて蒸着処理を行っている際に、真空
室1内を高真空室に維持するための真空封止を確保する
よう構成されている。
真空室1内には、蒸着すべき金属等を溶融状態に保持す
る蒸着ポットのような蒸発源5がコーテイングユニット
として設けられている。
入側差圧室2の入口側および出側差圧室3の出口側に
は、それぞれコイル巻戻機6および巻取機7が設けら
れ、これにより、巻戻機6によってコイルから巻戻した
帯状物4を入側差圧室2の入口開口8から真空室1を経
て出側差圧室3の出口開口9に連続的に通し、真空室1
で蒸発源5から蒸発した金属蒸気を帯状物の表面に蒸着
させ、出側差圧室3の出口開口9から出た帯状物4を巻
取機7によってコイル状に巻き取るよう構成されてい
る。
入側差圧室2の複数個の区分室の内部圧力は、真空室1
内の真空度を所定値に維持するように、大気圧に近い入
側端の区分室から順次の区分室の内部の真空度を高め、
他方、出側差圧室3の複数個の区分室の内部圧力は真空
室1内の所定の真空度から順次出側端に向けて低めてい
って出側端の区分室では大気圧近くになっている。
(発明が解決しようとする問題点) このような連続真空蒸着処理装置では、真空室1内に設
置されている蒸発源の取替、蒸発物の補充を頻繁に行な
う必要があり、また、真空室内に設置されているコーテ
イングユニットその他の蒸着用機器等に蒸発源5から蒸
発した金属等の蒸気が付着し、この結果としてこれらの
機器が正常に作動しなくなるために真空室内に入って清
掃する必要があり、さらに、真空室内の上述した機器の
メンテナンスも必要である。
しかしながら、上述したような構成の従来の連続真空蒸
着処理装置では、上記の各作業を行なうため、高真空の
真空室を解放して大気雰囲気にしており、この結果、真
空室内の帯状物は製品にならず、製品歩留りが低下する
問題や、各種作業終了後に室内をもとの真空度にするた
めに長時間を要し、これがため設備の稼動率が低下する
という問題があった。
本発明は上述した問題を解決し、上述した各種作業を行
なうことによって生じる製品歩留りおよび設備の稼動率
の低下を少なくするよう改善した連続真空蒸着処理装置
を提供しようとするものである。
(問題点を解決するための手段) 本発明によれば、第1図に示すように、高真空に排気さ
れる真空室1と、この真空室内に高真空を維持しながら
真空蒸着処理すべき帯状物4を入側大気雰囲気中から真
空室に導入するとともに出側大気雰囲気中に真空室から
導出し得るよう真空室1の入側および出側に連続して設
けられたシール用差圧室2,3とを具える連続真空蒸着処
理装置において、少なくともコーテイングユニットであ
る蒸発源5およびその真上に位置する帯状物部分4aを包
囲する蒸着室10が設けられ、この蒸着室10への帯状物4
の入口11および出口12に開閉可能の密閉装置13,14がそ
れぞれ設けられ、外部から蒸着室10内に直接に出入し得
る密閉扉付点検口15が設けられていることを特徴とす
る。
(作用) 上述の構成を具える本発明による帯状物連続真空蒸着処
理装置は、帯状物4の送りを停止した状態において、蒸
着室10の入口11および出口12の密閉装置13,14を閉止
し、点検口15を開放して蒸着室10内を大気に通じさせる
ことにより、装置の他の部分、例えば、真空室1、入側
および出側シール用差圧室内の真空度を低下させること
なく、蒸発源5の蒸発物の補充、蒸発源5その他のコー
テイングユニットの清掃、補修または交換を行なうこと
ができ、それらの作業完了時、点検口15を密閉し、蒸着
室10の入口11および出口12の密閉装置13,14を開放し
て、例えば、高真空度に維持されている真空室1に通じ
させ図示せざる真空装置により急速に所定の真空度に回
復させることができる。
これがため、本発明によれば、蒸着室10の大気開放後に
おける再スタートまでの真空度の回復が極めて容易で短
時間で行なうことができるので、定期的蒸発物の補充お
よびコーテイングユニットの点検、補修等のメンテナン
スばかりでなく、操業途中でのコーテイングユニットの
トラブル時においてこれに直ちに対応して補修または交
換が可能である。したがって、設備の稼動率を著しく向
上させることができる。
また、蒸着室の大気開放によって影響を受ける帯状物の
長さが著しく短くなることによって、製品の歩留りをも
著しく向上させることができる。
(実施例) 第2図および第3図は本発明の一実施例を示す。図面に
示す例では、真空室1内にコーテイングユニットである
蒸発源5およびその真上に位置する帯状物部分4aを包囲
する小容積の蒸着室10が上下に分割された外匣部分10a,
10bで構成されて真空室1の下部を横切って設けられ、
この蒸着室10への帯状物4の入口11および出口12に開閉
可能の密閉装置13,14がそれぞれ設けられ、蒸着室10の
一方の側壁、すなわち真空室1の一方の側壁下部に点検
口15が設けられ、この点検口15は密閉扉16によって開閉
可能に密閉されている。
入口11および出口12にそれぞれ設けられてる開閉可能の
密閉装置13,14は同じ構造とすることができ、したがっ
て一方の密閉装置13の構造につき詳細に説明する。
図示の例では、水平方向に細長く開口する入口11を上下
から開閉する昇降扉17,18が蒸着室10(10aまたは10b)
の外壁に固着された案内部材19によって蒸着室外壁に沿
ってそれぞれ上下に摺動自在に設けられ、蒸着室外壁に
固着された上下シリンダー装置20,21が上下昇降扉17,18
をそれぞれ作動し得るよう連結されている。上下昇降扉
17,18の先端部には弾性シール材22,23がそれぞれ設けら
れ、これにより、蒸着室10に大気開放時に、上下昇降扉
17,18をシリンダー装置20,21によってそれぞれ下降およ
び上昇させて入口11を閉止する際に上下シリンダー装置
20,21によって弾性シール材22,23を帯状物4の上下面に
押しつけ、シール材22,23の弾性変形によって、帯状物
4の両側に間隙を残すことなく、完全に密閉することが
できるよう構成されている。
(発明の効果) 本発明によれば、蒸着室10の大気開放後における再スタ
ートまでの真空度の回復が極めて容易で短時間で行なう
ことができるので、定期的蒸発物の補充およびコーテイ
ングユニットの点検、補修等のメンテナンスばかりでな
く、操業途中でのコーテイングユニットのトラブル時に
おいてこれに直ちに対応して補修または交換が可能であ
る。したがって、設備の稼動率を著しく向上させること
ができる。
また、蒸着室の大気開放によって影響を受ける帯状物の
長さが著しく短くなることによって、製品の歩留りをも
著しく向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明による処理装置の全体の概略線図、 第2図は第1図のII−II線上で断面とした蒸着室の部分
の詳細を示す縦断面図、 第3図は第2図のIII−III線上の縦断面図、 第4図は従来の処理装置の全体の概略線図である。 1…真空室 2…入側シール用差圧室 3…出側シール用差圧室、4…帯状物 4a…帯状物部分 5…コーテイングユニットの蒸発源 10…蒸着室、11…入口 12…出口、13,14…密閉装置 15…点検口、16…密閉扉 17,18…昇降扉、19…案内部材 20,21…シリンダー装置 22,23…弾性シール材

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】高真空に排気される真空室と、この真空室
    内の高真空を維持しながら真空蒸着処理すべき帯状物を
    入側大気雰囲気中から真空室に導入するとともに出側大
    気雰囲気中に真空室から導出し得るよう真空室の入側お
    よび出側に連続して設けられたシール用差圧室とを具え
    る帯状物連続真空蒸着処理装置において、 少なくともコーテイングユニットおよびこれにより被膜
    が形成される帯状物部分を包囲する蒸着室が設けられ、
    この蒸着室への帯状物の入口および出口に開閉可能の密
    閉装置がそれぞれ設けられ、外部から蒸着室内に直接に
    出入し得る密閉扉付点検口が設けられていることを特徴
    とする帯状物連続真空蒸着処理装置。
JP16470086A 1986-07-15 1986-07-15 帯状物連続真空蒸着処理装置 Expired - Lifetime JPH0735575B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP16470086A JPH0735575B2 (ja) 1986-07-15 1986-07-15 帯状物連続真空蒸着処理装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP16470086A JPH0735575B2 (ja) 1986-07-15 1986-07-15 帯状物連続真空蒸着処理装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS6320474A JPS6320474A (ja) 1988-01-28
JPH0735575B2 true JPH0735575B2 (ja) 1995-04-19

Family

ID=15798210

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP16470086A Expired - Lifetime JPH0735575B2 (ja) 1986-07-15 1986-07-15 帯状物連続真空蒸着処理装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0735575B2 (ja)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4809385B2 (ja) * 2008-02-22 2011-11-09 富士通テレコムネットワークス株式会社 プリント基板
CN114481081A (zh) * 2021-12-29 2022-05-13 上海子创镀膜技术有限公司 一种下沉式真空腔体

Also Published As

Publication number Publication date
JPS6320474A (ja) 1988-01-28

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4274936A (en) Vacuum deposition system and method
US2384500A (en) Apparatus and method of coating
US3925182A (en) Method for continuous production of sputter-coated glass products
US3086882A (en) Method and apparatus for filming articles by vacuum deposition
KR970072152A (ko) 반도체장치의 제조방법과 반도체제조장치 및 그 세정방법
US2890878A (en) Apparatus for annealing in a high vacuum
JP2005320622A (ja) 交換可能メンテナンス弁
US5773088A (en) Treatment system including vacuum isolated sources and method
IE33433B1 (en) Apparatus for coating by thermal evaporation
JPH0735575B2 (ja) 帯状物連続真空蒸着処理装置
GB1049922A (en) Improvements in or relating to the treatment of glass objects during the manufacturethereof
US20090084671A1 (en) Sputtering apparatus
JPH0784660B2 (ja) 真空処理装置のシ−ル装置
JPH0735577B2 (ja) 帯状物連続真空蒸着処理装置
JP4573272B2 (ja) 連続成膜装置
JP2000178717A (ja) 成膜装置
KR100432513B1 (ko) 광여기 공정 장치 및 방법
JPS6324062A (ja) 帯状物連続真空蒸着処理装置
JPS6227569A (ja) 薄膜製造装置
JPH0735579B2 (ja) 帯状物のエア−ロツク
JPH01208449A (ja) ダブルチャンバ真空成膜装置
JP3207889B2 (ja) インライン式スパツタ装置およびその運転方法
JP2902943B2 (ja) 薄膜光電変換素子の製造装置
JPH02118073A (ja) 連続真空蒸着装置
JP2002164408A (ja) 半導体製造装置および半導体装置の製造方法