WO2006054684A1 - プリント配線板及びそのプリント配線板の製造方法 - Google Patents

プリント配線板及びそのプリント配線板の製造方法 Download PDF

Info

Publication number
WO2006054684A1
WO2006054684A1 PCT/JP2005/021218 JP2005021218W WO2006054684A1 WO 2006054684 A1 WO2006054684 A1 WO 2006054684A1 JP 2005021218 W JP2005021218 W JP 2005021218W WO 2006054684 A1 WO2006054684 A1 WO 2006054684A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
circuit
layer
copper
etching
wiring board
Prior art date
Application number
PCT/JP2005/021218
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
Mitsuhiro Watanabe
Kinji Saijo
Shinji Ohsawa
Kazuo Yoshida
Koji Nanbu
Original Assignee
Multi Inc.
Toyo Kohan Co., Ltd.
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Multi Inc., Toyo Kohan Co., Ltd. filed Critical Multi Inc.
Priority to US11/719,803 priority Critical patent/US8138423B2/en
Priority to EP05807092A priority patent/EP1830611A4/en
Publication of WO2006054684A1 publication Critical patent/WO2006054684A1/ja

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/40Forming printed elements for providing electric connections to or between printed circuits
    • H05K3/42Plated through-holes or plated via connections
    • H05K3/425Plated through-holes or plated via connections characterised by the sequence of steps for plating the through-holes or via connections in relation to the conductive pattern
    • H05K3/427Plated through-holes or plated via connections characterised by the sequence of steps for plating the through-holes or via connections in relation to the conductive pattern initial plating of through-holes in metal-clad substrates
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/0213Electrical arrangements not otherwise provided for
    • H05K1/0263High current adaptations, e.g. printed high current conductors or using auxiliary non-printed means; Fine and coarse circuit patterns on one circuit board
    • H05K1/0265High current adaptations, e.g. printed high current conductors or using auxiliary non-printed means; Fine and coarse circuit patterns on one circuit board characterized by the lay-out of or details of the printed conductors, e.g. reinforced conductors, redundant conductors, conductors having different cross-sections
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/11Printed elements for providing electric connections to or between printed circuits
    • H05K1/115Via connections; Lands around holes or via connections
    • H05K1/116Lands, clearance holes or other lay-out details concerning the surrounding of a via
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/02Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which the conductive material is applied to the surface of the insulating support and is thereafter removed from such areas of the surface which are not intended for current conducting or shielding
    • H05K3/06Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which the conductive material is applied to the surface of the insulating support and is thereafter removed from such areas of the surface which are not intended for current conducting or shielding the conductive material being removed chemically or electrolytically, e.g. by photo-etch process
    • H05K3/061Etching masks
    • H05K3/062Etching masks consisting of metals or alloys or metallic inorganic compounds
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/10Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern
    • H05K3/20Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern by affixing prefabricated conductor pattern
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/46Manufacturing multilayer circuits
    • H05K3/4644Manufacturing multilayer circuits by building the multilayer layer by layer, i.e. build-up multilayer circuits
    • H05K3/4652Adding a circuit layer by laminating a metal foil or a preformed metal foil pattern
    • H05K3/4658Adding a circuit layer by laminating a metal foil or a preformed metal foil pattern characterized by laminating a prefabricated metal foil pattern, e.g. by transfer
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2201/00Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
    • H05K2201/03Conductive materials
    • H05K2201/0332Structure of the conductor
    • H05K2201/0335Layered conductors or foils
    • H05K2201/0352Differences between the conductors of different layers of a multilayer
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2201/00Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
    • H05K2201/03Conductive materials
    • H05K2201/0332Structure of the conductor
    • H05K2201/0335Layered conductors or foils
    • H05K2201/0355Metal foils
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2201/00Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
    • H05K2201/03Conductive materials
    • H05K2201/0332Structure of the conductor
    • H05K2201/0335Layered conductors or foils
    • H05K2201/0361Etched tri-metal structure, i.e. metal layers or metal patterns on both sides of a different central metal layer which is later at least partly etched
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2201/00Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
    • H05K2201/03Conductive materials
    • H05K2201/0332Structure of the conductor
    • H05K2201/0364Conductor shape
    • H05K2201/0376Flush conductors, i.e. flush with the surface of the printed circuit
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2201/00Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
    • H05K2201/09Shape and layout
    • H05K2201/09209Shape and layout details of conductors
    • H05K2201/095Conductive through-holes or vias
    • H05K2201/09509Blind vias, i.e. vias having one side closed
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2201/00Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
    • H05K2201/09Shape and layout
    • H05K2201/09209Shape and layout details of conductors
    • H05K2201/09654Shape and layout details of conductors covering at least two types of conductors provided for in H05K2201/09218 - H05K2201/095
    • H05K2201/09736Varying thickness of a single conductor; Conductors in the same plane having different thicknesses
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2203/00Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
    • H05K2203/03Metal processing
    • H05K2203/0361Stripping a part of an upper metal layer to expose a lower metal layer, e.g. by etching or using a laser
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2203/00Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
    • H05K2203/03Metal processing
    • H05K2203/0384Etch stop layer, i.e. a buried barrier layer for preventing etching of layers under the etch stop layer
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2203/00Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
    • H05K2203/14Related to the order of processing steps
    • H05K2203/1476Same or similar kind of process performed in phases, e.g. coarse patterning followed by fine patterning
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T156/00Adhesive bonding and miscellaneous chemical manufacture
    • Y10T156/10Methods of surface bonding and/or assembly therefor

Definitions

  • the present invention relates to a printed wiring board and a method for manufacturing the printed wiring board.
  • the present invention relates to a printed wiring board in which a first circuit and a second circuit having different thicknesses coexist on the same reference plane, and a method for manufacturing the printed wiring board.
  • a printed wiring board has a conductor layer provided on the surface of an insulating substrate, and the conductor layer is etched to form a circuit shape, and an IC chip, a capacitor, etc. are formed in this circuit.
  • the conductor layer is etched to form a circuit shape, and an IC chip, a capacitor, etc. are formed in this circuit.
  • Such a printed wiring board is obtained by bonding a copper foil to the surface of an insulating base material as described in Patent Document 1 (Japanese Patent Application No. 07-007272) or Patent Document 2 (Japanese Patent Application).
  • a copper layer is formed by an additive method, or as described in Patent Document 3 (JP-A-2000-286530), sputtering deposition is used.
  • a laminated board is once manufactured, an etching resist layer is provided on the formed copper layer, an etching pattern is exposed and developed, and copper etching is performed to form a circuit shape.
  • the type of circuit includes a signal transmission circuit with a narrow circuit width for controlling the drive system and a circuit for obtaining a power supply or ground effect (hereinafter, including power supply and GND circuits).
  • the signal transmission circuit is a circuit that transmits a signal current that controls the ONZOFF operation, calculation speed, etc., and generally does not flow a large current.
  • a power supply circuit or the like functions as a ground to supply a power supply current to a chip component, a capacitor (capacitor), etc. mounted on a printed wiring board. When compared with current, It becomes a circuit through which a large amount of current flows.
  • Patent Document 1 Japanese Patent Application Laid-Open No. 07-007272
  • Patent Document 2 Japanese Patent Laid-Open No. 07-111386
  • Patent Document 3 Japanese Patent Laid-Open No. 2000-286530
  • the design philosophy for the signal transmission circuit and the power supply circuit etc. is changed, and the signal transmission circuit and the power supply circuit etc. are arranged in the same reference plane. If they were to be formed at the same time, it would be unavoidable to form a wider power supply circuit than the signal transmission circuit, which was an obstacle to the miniaturization of the printed wiring board.
  • the power supply circuit or the like is formed by etching a layer formed of thick copper, while the signal transmission circuit matches the circuit characteristics. Since it was formed with copper thickness, it was necessary to separate the layers, and this was an obstacle to miniaturization of the printed wiring board.
  • a printed wiring board capable of being substantially miniaturized by making the circuit widths of a signal transmission circuit and a power supply circuit, etc., that have conventionally required a design with greatly different circuit widths as close as possible, and There has been a demand for a manufacturing method thereof.
  • the inventors of the present invention as a result of intensive research, have found that the circuit height is not limited to widening the circuit width in order to secure the cross-sectional area of the circuit used as the electronic silver supply circuit of the printed wiring board. I came up with the idea of making it bigger. Hereinafter, the description will be divided into “printed wiring board” and “printed wiring board manufacturing method” according to the present invention.
  • the basic configuration of the printed wiring board according to the present invention is “a printed wiring board obtained by etching a metal-clad laminate including a conductive layer and an insulating layer, and having a thickness formed in the same reference plane.
  • FIG. 1 shows a part of these printed wiring boards as a schematic cross-sectional view.
  • the “first circuit” and the “second circuit” will be described.
  • the first circuit and the second circuit are terms used for convenience in explaining that the thickness (cross-sectional area) of the circuit is different.
  • the first circuit and the second circuit are classified and described, simply by looking at the circuit thickness, the thick circuit (circuit with a large cross-sectional area) and the thin circuit (circuit with a small cross-sectional area) It does not mean the width of the circuit width. Also, it does not mean that all of the first circuits have the same circuit width and that all of the second circuits have the same circuit width.
  • the "same reference plane” is a glass epoxy used for manufacturing a printed wiring board. It means the surface or interface of a flat insulating layer created by a base material such as xy-prepreda or glass-polyimide pre-preda. And there are “first circuit and second circuit formed in the same reference plane ", but when the printed wiring board is observed from the cross section, the same reference plane and the first circuit and the second circuit It means that it is placed in a state where it touches.
  • the other circuit thickness T is preferably TZlOO to Tm.
  • the thinner circuit will have a thickness in the range of 5111 to 500111.
  • the thicknesses of the first circuit and the second circuit are appropriately designed according to the amount of supplied current, and are not particularly limited. Therefore, the thickness of one circuit is described as a range. It is. In the present invention, if the thicknesses of the first circuit and the second circuit are different, it does not matter how much the thickness is different. However, as can be understood from the manufacturing method according to the present invention, which will be described later, the printed wiring board according to the present invention has a three-layer structure consisting of a first copper layer, a dissimilar metal layer, and a second copper layer. In consideration of the clad composite material that can be industrially produced, the difference in the circuit thickness as described above is provided.
  • the thicker of the first circuit and the second circuit is a clad shape in which three layers of the first copper layer, the Z dissimilar metal layer, and the Z second copper layer are sequentially laminated, and the dissimilar metal layer
  • nickel, tin, aluminum, titanium and alloys thereof are used.
  • the printed wiring board has a first copper layer, a Z dissimilar metal layer, and the manufacturing method described later is clear.
  • any of the circuit cross-sections is in a clad shape is a phenomenon that inevitably occurs, which can be a major feature of the printed wiring board according to the present invention.
  • the metal component used for this dissimilar metal layer can be selectively etched with copper. In other words, it can selectively remove only dissimilar metals (nickel, tin, aluminum, titanium, and their alloys) without dissolving copper. It will be referred to as an “etching solution”. It is also possible to dissolve only copper without dissolving different metals, and the etching solution at this time will be referred to as “copper selective etching solution”. These will be described in an actual embodiment to be described later.
  • the thicker circuit of the first circuit or the second circuit is a clad composite material in which three layers of a first copper layer, a dissimilar metal layer, and a second copper layer are sequentially laminated
  • aluminum-based component aluminum or an aluminum alloy (hereinafter simply referred to as “aluminum-based component”) having a thickness of 50% to 80% of the total thickness of the clad composite material for the dissimilar metal layer.
  • the printed wiring board can be made lighter. Therefore, it is possible to achieve light weight by simply replacing a part of the copper layer with an aluminum-based component.
  • the printed wiring board manufacturing method according to the present invention described below is a conventional printed wiring board laminating technique, etch, when trying to form circuits with different thicknesses within the same reference plane. Therefore, it is possible to produce a printed wiring board according to the present invention with high efficiency.
  • the manufacturing methods that can be employed in the present invention can be subdivided into several methods depending on whether a so-called single-sided printed wiring board, double-sided printed wiring board, or multilayer printed wiring board having three or more layers is manufactured. .
  • the so-called single-sided printed wiring board manufacturing method and double-sided printed wiring board manufacturing method consist of a metal-clad laminate having a two-layer structure of metal layer Z insulating layer. 1st metal layer Z insulating layer Z 2nd metal layer (Here, it is assumed that the first metal layer and the second metal layer are made of the same material. The thickness of the two metal layers does not have to be the same.) The difference is whether or not a three-layer metal-clad laminate is used.
  • Step 1a A clad composite material in which three layers of a first copper layer, a Z dissimilar metal layer, and a Z second copper layer are sequentially laminated is a dissimilar metal layer composed of a metal component that can be selectively etched with copper. There is a lamination process in which this clad composite material is laminated to the base material that constitutes the insulating layer to form a metal-clad laminate.
  • Step 1b An etching resist layer is formed on the first copper layer located on the outer layer of the metal-clad laminate, the etching circuit pattern is exposed, developed, and the first copper located on the outer layer using a copper selective etchant.
  • a first copper etching process that exposes the dissimilar metal layer at a site where the unnecessary first copper layer is removed by etching the layer into a desired circuit shape and removing the etching resist.
  • Step 1—c After the first copper etching process is completed, the dissimilar metal layer exposed between the circuits temporarily formed on the outer layer is removed by etching using a dissimilar metal selective etchant to form the first circuit shape. The first dissimilar metal etching process.
  • Step 1 d After the first dissimilar metal etching step is completed, an etching resist layer is formed again only on the portion to be the first circuit, and etching is performed using a copper selective etching solution. A second copper etching step that exposes the dissimilar metal layer of the second circuit by etching away the portion of the first copper layer without the etching resist layer to complete the shape of the first circuit and removing the etching resist.
  • step 1-a When the clad composite material is bonded to both surfaces of the insulating layer to obtain a double-sided printed wiring board, an interlayer conduction means forming step is performed between step 1-a and step 1-b. It is possible to provide.
  • the adhesion surface of the clad composite material used here is subjected to an adhesion improving treatment for improving the adhesion to the substrate.
  • Manufacturing method of single-sided or double-sided printed wiring board (2) Also, the manufacturing method of single-sided or double-sided printed wiring board includes the first circuit and the second circuit having different thicknesses on the same reference plane. One of the circuits obtains a single-sided or double-sided printed wiring board embedded in the insulating layer, and includes a resistance circuit characterized by comprising the following steps 2-a to 2-d. It is a manufacturing method of the obtained printed wiring board.
  • Step 2-a Clad composite material in which three layers of the first copper layer Z different metal layer Z second copper layer are sequentially laminated, the dissimilar metal layer is composed of metal components that can be selectively etched with copper Using this clad composite material, only the second copper layer is etched with a copper selective etchant to form an etched circuit pattern on one side to obtain a clad composite material with a circuit pattern. .
  • Step 2—b The etching circuit pattern surface of the clad composite material with circuit pattern obtained in the clad composite material etching step is brought into contact with the substrate surface and bonded to the substrate surface, and the etching pattern is embedded in the insulating layer. Lamination process to make a metal-clad laminate in a finished state.
  • Step 2—c The first resist layer is formed on the first copper layer on the outer surface of the metal-clad laminate, the etching circuit pattern is exposed, developed, and placed on the outer layer using a copper selective etchant. A first copper etching process that removes an unnecessary first copper layer and exposes a dissimilar metal layer by etching the copper layer into a desired circuit shape and stripping the etching resist.
  • Step 2-d When the first copper etching process is completed, the dissimilar metal etching that forms the first circuit and the second circuit by using the dissimilar metal selective etching solution to remove the dissimilar metal layer and forms the printed circuit board Process.
  • an interlayer conduction means forming step is performed between the step 2-b and the step 2-c. It is possible to provide.
  • the clad composite material with a circuit pattern may be obtained by removing the dissimilar metal layer exposed on the etching circuit pattern surface with the base material.
  • the clad composite material with a circuit pattern it is also preferable to use a material in which an etching circuit pattern surface with the base material is subjected to an adhesion improving treatment for improving the adhesiveness with the base material.
  • Manufacturing method of single-sided or double-sided printed wiring board (3) Furthermore, the manufacturing method of single-sided or double-sided printed wiring board includes the first circuit and the second circuit having different thicknesses on the same reference plane. One of the circuits obtains a single-sided or double-sided printed wiring board embedded in the insulating layer, and includes a resistance circuit characterized by comprising the following steps 3-a to 3-c. It is a manufacturing method of the obtained printed wiring board. From a manufacturing process point of view, the manufacturing method can be implemented only by using a clad composite material with a circuit pattern from which the dissimilar metal layer exposed on the etching circuit pattern surface is removed.
  • Step 3 Clad composite in which three layers of first copper layer Z different metal layer Z second copper layer are sequentially laminated, the different metal layer is composed of metal components that can be selectively etched with copper Using this clad composite material, only the second copper layer is etched with a copper selective etchant to form an etched circuit pattern on one side, and the dissimilar metal layer exposed on the etched circuit pattern surface. Etching process of clad composite material to obtain a clad composite material with a circuit pattern that has been removed.
  • Step 3—b The etching circuit pattern surface of the clad composite material with circuit pattern obtained in the clad composite material etching step is brought into contact with the substrate surface, and the etching pattern is embedded in the insulating layer. Lamination process to make a metal-clad laminate in a finished state.
  • Step 3-c An etching resist layer is formed on the first copper layer on the outer surface of the metal-clad laminate. Then, the etching circuit pattern is exposed, developed, the first copper layer positioned on the outer layer is etched into a desired circuit shape using a copper selective etching solution, and the etching resist is removed to remove the etching circuit pattern. A first copper etching process that forms a second circuit at the same time to form a printed wiring board.
  • an interlayer conduction means forming step is performed between the step 3-b and the step 3-c. It is possible to provide.
  • a clad composite material with a circuit pattern in which the etching circuit pattern surface is subjected to an adhesion improving treatment for improving the adhesion to the substrate is preferable to use.
  • Manufacturing method of double-sided printed wiring board (1) The manufacturing method of double-sided printed wiring board referred to here is a double-sided printing in which a first circuit and a second circuit having different thicknesses coexist on the same reference plane on one side.
  • a wiring board manufacturing method comprising the following steps 4a to 4e.
  • Step 4a A clad composite material in which three layers of a first copper layer, a Z dissimilar metal layer, and a Z second copper layer are sequentially laminated is a dissimilar metal layer composed of a metal component that can be selectively etched with copper. Yes, a laminating process in which the clad composite material and the copper foil are laminated to one side of each base material constituting the insulating layer to form a metal-clad laminate.
  • Step 4b An etching resist layer is formed on the first copper layer of the clad composite material located on one side of the insulating layer and the copper foil layer on the other side, the etching circuit pattern is exposed, developed, and a copper selective etching solution The first copper layer and copper foil located in the outer layer are etched into the desired circuit shape using, and the etching resist is removed to remove the unnecessary first copper layer and expose the dissimilar metal layer in the clad composite material. The first copper etching process to make the copper foil the desired circuit shape.
  • Step 4—c The first copper etching process is completed, and the dissimilar metal layer exposed between the circuits temporarily formed on the outer layer is removed by etching using a dissimilar metal selective etchant to form the first circuit shape.
  • the first dissimilar metal etching process is completed, and the dissimilar metal layer exposed between the circuits temporarily formed on the outer layer is removed by etching using a dissimilar metal selective etchant to form the first circuit shape.
  • the first dissimilar metal etching process is completed, and the dissimilar metal layer exposed between the circuits temporarily formed on the outer layer is removed by etching using a dissimilar metal selective etchant to form the first circuit shape.
  • Step 4d After the first dissimilar metal etching step is completed, an etching resist layer is formed again only at the site to be the first circuit, and etching is performed using a copper selective etchant. Then, etching away the portion of the first copper layer without the etching resist layer to form a second circuit leaving the dissimilar metal layer, and removing the etching resist to expose the dissimilar metal layer of the second circuit. Copper etching process.
  • Step 4 Furthermore, the dissimilar metal layer removing step that forms the final second circuit shape by removing only the dissimilar metal layer on the surface of the second circuit using the dissimilar metal selective etching solution to form the final second circuit shape. .
  • an interlayer conduction means forming step can be provided between the step 4-a and the step 4-b.
  • the adhesion surface of the clad composite material used here with the base material is subjected to an adhesion improving treatment for improving the adhesiveness with the base material.
  • Manufacturing method of double-sided printed wiring board (2) The manufacturing method of double-sided printed wiring board referred to here is also double-sided printing in which the first circuit and the second circuit having different thicknesses coexist on the same reference plane on one side.
  • Step 5 Clad composite in which three layers of first copper layer Z different metal layer Z second copper layer are sequentially laminated, the different metal layer is composed of metal components that can be selectively etched with copper A clad composite etching process using this clad composite material to etch only the second copper layer and form an etching circuit pattern on one side to obtain a clad composite material with a circuit pattern.
  • Step 5—b A laminating step in which the clad composite material with circuit pattern and the copper foil are laminated to each side of the base material constituting the insulating layer to form a metal-clad laminate.
  • Step 5 After the first copper etching step is completed, the exposure between the circuits temporarily formed on the outer layer A first dissimilar metal etching process in which the dissimilar metal layer is removed by etching using a dissimilar metal selective etchant to form a first circuit, a second circuit, and a copper foil circuit to form a printed wiring board.
  • an interlayer conduction means forming step can be provided between the step 5-b and the step 5-c.
  • the clad composite material with a circuit pattern it is also possible to use a material obtained by removing the dissimilar metal layer exposed on the etching circuit pattern surface with the base material.
  • the clad composite material with a circuit pattern it is also preferable to use an etching circuit pattern surface that has been subjected to an adhesion improving treatment for improving the adhesion to the substrate.
  • a so-called multilayer printed wiring board manufacturing method is one in which an inner layer core material is included in an insulating layer when a double-sided printed wiring board is manufactured. Therefore, a printed wiring board having a circuit layer in which the first circuit and the second circuit having different thicknesses coexist on the same reference plane of the insulating layer located on the surface of the inner layer core material provided with the inner layer circuit.
  • the method includes the following steps 6-a to 6-e.
  • Step 6-a A clad composite in which three layers of a first copper layer, a Z dissimilar metal layer, and a Z second copper layer are sequentially laminated is a dissimilar metal layer composed of a metal component that can be selectively etched with copper And laminating the clad composite material to the surface of the inner core material via an insulating layer to form a multilayer metal-clad laminate.
  • a first copper etching process that exposes the dissimilar metal layer at a portion where the unnecessary first copper layer is removed by etching the first copper layer into a desired circuit shape and performing etching resist peeling.
  • Step 6—c After the first copper etching process is completed, the dissimilar metal layer exposed between the circuits temporarily formed on the outer layer is removed by etching using a dissimilar metal selective etchant to form the first circuit shape. The first dissimilar metal etching process.
  • Step 6—d After the first dissimilar metal etching step is completed, an etching resist layer is formed again only at the site to be the first circuit, and etching is performed using a copper selective etching solution, so that there is no etching resist layer. A second copper etching step that exposes the dissimilar metal layer of the second circuit by etching away the portion of the first copper layer to form a second circuit that leaves the dissimilar metal layer, and removing the etching resist.
  • the adhesion surface of the clad composite material used here with the base material is subjected to an adhesion improving treatment for improving the adhesiveness with the base material.
  • Manufacturing method of multilayer printed wiring board (2) Another manufacturing method of multilayer printed wiring board is that the thickness of the insulating layer located on the surface of the inner layer core material having the inner layer circuit is different from that of the same reference plane.
  • Step 7-a Clad composite material in which three layers of the first copper layer Z different metal layer Z second copper layer are sequentially laminated, the different metal layer is composed of metal components that can be selectively etched with copper Using this clad composite material, only the second copper layer is etched with a copper selective etchant to form an etched circuit pattern on one side to obtain a clad composite material with a circuit pattern. .
  • Step 7-b Insulating layers are provided on both sides of the inner core material, and the etching circuit pattern surface of the clad composite material with a circuit pattern obtained in the clad composite material etching step is applied to both surfaces of the insulating layer on the substrate surface.
  • Step 7 After the first copper etching step is completed, the dissimilar metal layer exposed between the circuits temporarily formed on the outer layer is removed by etching using a dissimilar metal selective etchant, and the first circuit 8 and the second circuit The first dissimilar metal etching process that completes circuit 9 at the same time and forms a multilayer printed wiring board.
  • Step 7-b and Step 7-c electrical continuity is ensured between the clad composite material with a circuit pattern located on both surfaces of the insulating layer of the metal-clad laminate and the inner layer circuit. It is also possible to provide an interlayer conduction means forming step for forming through holes, via holes and the like for this purpose.
  • the clad composite material with a circuit pattern it is possible to use a material obtained by removing the dissimilar metal layer exposed on the etching circuit pattern surface with the base material.
  • the clad composite material with a circuit pattern it is also preferable to use a material in which an etching circuit pattern surface with the base material is subjected to an adhesion improving treatment for improving the adhesiveness with the base material.
  • the clad composite material used is nickel / tin / aluminum / titanium which can be selectively etched with copper in the dissimilar metal layer, and deviations of these alloys. I prefer to use or!
  • the thickness force ⁇ m to 2000 ⁇ m is obtained, and the thickness force of the dissimilar metal layer is 0. It is preferred to use one that is between 01 ⁇ m and 5 ⁇ m! /.
  • the total thickness of the three layers is 10 ⁇ m to 2000 ⁇ m, and the first copper layer
  • the total thickness of the copper layer and the second copper layer is 1 m to 1600 ⁇ m
  • the dissimilar metal layer is 50% to 80% of the total thickness of the clad composite material. It is also preferable to use materials made of wood.
  • an aluminum-based component that is lighter than copper for the dissimilar metal layer a lightweight printed wiring board can be manufactured.
  • the thickness of the aluminum-based component is 50% to 80% of the total thickness of the clad composite material.
  • the total thickness of the clad composite material is 10 ⁇ m to 2000 ⁇ m
  • the total thickness of the first copper layer and the second copper layer is 5 ⁇ m to 1600 ⁇ m. It is more preferable than force.
  • the portion where the circuit cross-sectional area must be secured can be dealt with by increasing the conductor thickness, and the substrate area can be substantially reduced. Then, by forming circuits with different circuit thicknesses in the same reference plane, a printed wiring board is formed in which circuits having different electrical characteristics and uses are formed on the same reference plane.
  • the protruding circuit portion of the printed wiring board can function in the same manner as a heat radiating fin, and can be used as a heat radiating circuit or heat radiating plate.
  • the method for manufacturing a printed wiring board according to the present invention uses a clad composite material including a dissimilar metal layer that can be selectively etched with copper as a dissimilar metal layer between two copper layers. Utilizing conventional printed wiring board laminating technology, etching methods and equipment, it enables efficient production of V and production of the printed wiring board according to the present invention.
  • a so-called single-sided printed wiring board or double-sided printed wiring board is manufactured using a clad composite material as a starting material.
  • the present specification describes a method for manufacturing a single-sided or double-sided printed wiring board having a circuit layer in which a first circuit and a second circuit having different thicknesses coexist in the same reference plane, and includes the following steps 1-a -The manufacturing method of the printed wiring board characterized by providing the process 1-e is employ
  • each step will be described.
  • Step 1 a This step uses a clad composite material in which three layers of a first copper layer, a Z dissimilar metal layer, and a second copper layer are sequentially laminated. And the metal component in which the dissimilar metal layer can be selectively etched with copper As shown in Fig. 2 (a), this clad composite material 2 (first copper layer 3, dissimilar metal layer 4, second copper layer 5) is made of a base material (glass This is a laminating process in which a metal-clad laminate 7 in FIG. 2 (b) is laminated to a prepreg, a polyimide resin film, or the like (6) obtained by impregnating and drying an epoxy resin or the like to a skeletal material such as a fiber polyamide fiber.
  • the adhesion surface of the clad composite material 2 to the base material 6 was previously subjected to an adhesion improvement treatment to improve the adhesion to the base material, and thus the printed wiring board was covered. Defects such as delamination and mesling due to subsequent heat shock can be efficiently prevented.
  • the adhesion improving treatment mentioned here is represented by so-called blackening treatment (including reduction blackening treatment considering pink ring resistance).
  • blackening treatment including reduction blackening treatment considering pink ring resistance
  • the surface of the copper surface is roughened using a sulfuric acid-peroxyhydrogen-based microetching agent (for example, MEC etch bond manufactured by MEC) instead of blackening treatment. It is possible to adopt a method such as depositing and attaching fine copper particles by a dry copper plating.
  • the term “adhesion improvement treatment” means these treatments.
  • the clad composite material 2 (first copper layer 3, dissimilar metal layer 4, second The copper layer 5) is bonded to both surfaces of the base material 6 constituting the insulating layer to form a double-sided metal-clad laminate 7 ′ shown in FIG. 5 (b).
  • the contact surface of the clad composite material 2 with the base material 6 can be subjected to an adhesion improving process in advance.
  • the clad composite material is (i) a copper foil, a dissimilar metal foil, and a copper foil laminated in order and integrated, and (ii) a dissimilar metal layer is provided on one side of one copper layer.
  • a different metal layer on which another copper foil is superposed and rolled together is used.
  • the clad composite material joined by activating the joint surfaces of the clad layers in a vacuum atmosphere and rolling at a low pressure rate is used. Most preferably, it is used.
  • interlayer conduction means may not be necessary depending on the substrate design, which is not necessarily a necessary process.
  • the expression such as providing the etching resist 10 on the first copper layer 3 is used as long as it can be understood by those skilled in the art. V, sometimes.
  • Step lb In this first copper etching step, as shown in FIG. 2 (c), an etching resist layer 10 is formed on the first copper layer 3 located on the outer layer of the metal-clad laminate, The etching circuit pattern is exposed and developed, and the first copper layer 3 located in the outer layer is etched into a desired circuit shape (temporary circuit 21) using a copper selective etchant, and the etching resist is removed. The unnecessary first copper layer is removed, the temporary circuit 21 is formed, the dissimilar metal layer 4 is exposed, and the state shown in FIG. If the circuit design is changed and only the circuit with the same thickness is formed, the selective etching of copper is performed without leaving the central etching resist layer in FIG.
  • the temporary circuit 21 at the center shown in d) is eliminated, and efficient printed wiring board production is possible.
  • the copper selective etching solution mentioned here is a solution used to dissolve only copper without dissolving different metals, and it is most simple and preferable to use an ammonia-based alkaline etching solution.
  • copper selective etchant Is the same. In the present specification, all intermediate circuit shapes before the final circuit shape are described as “temporary circuit 21”.
  • an etching resist layer 10 is formed on the first copper layer 3 after the formation of the interlayer conduction means, and an etching circuit pattern is formed.
  • the first copper layer 3 located on the outer layer is etched into a desired circuit shape using a copper selective etchant, and the unnecessary first copper layer is removed by removing the etching resist.
  • the temporary circuit 21 is formed, the dissimilar metal layer 4 is exposed, and the state shown in FIG. Even in the case of a double-sided printed wiring board, when the circuit design is changed and only a circuit having the same thickness is formed, the copper selection method without leaving the central etching resist layer in FIG. By performing the pinching, the central temporary circuit 21 shown in FIG. 6 (e) is eliminated, and an efficient printed wiring board can be manufactured.
  • Step 1-c In this first different metal etching step, when the first copper etching step is completed, the different metal layer exposed between the temporary circuits 21 formed on the outer layer is removed with a different metal selective etching solution. It is removed by etching as shown in Fig. 3 (e). This process is the same when a double-sided printed wiring board is manufactured. As shown in FIG. 6 (e), the dissimilar metal layer exposed between the circuits temporarily formed on the outer layer is removed from the dissimilar metal selective etching solution. Etching is removed using as shown in Fig. 7 (f).
  • the different metal selective etching solution used at this time is not particularly limited as long as it is a solution used only to dissolve different metals without dissolving copper. However, it is preferable to use different etching solutions that are appropriately adjusted according to the type of the different metal.
  • an acidic etching solution such as chlorine or sulfuric acid is used.
  • an acidic etching solution is used.
  • an aluminum-based metal component an alkaline solution is used. For example, an etching solution is used. Less than
  • Step l-d In this second copper etching step, after the first dissimilar metal etching step is finished, as shown in FIG. 3 (f), the etching resist layer 10 is again applied only to the portion to be the first circuit. Then, by etching using a copper selective etching solution, the portion of the first copper layer without the etching resist layer 10 is removed by etching, and the shape of the first circuit 8 is completed. The second circuit 9 with the metal layer remaining is formed, and the dissimilar metal layer 4 of the second circuit 9 is exposed by removing the etching resist. This process is the same when a double-sided printed wiring board is manufactured. After the first dissimilar metal etching process is completed, as shown in FIG.
  • the etching resist layer 10 is applied only to the part to be the first circuit.
  • the portion of the first copper layer without the etching resist layer 10 is removed by etching, and the shape of the first circuit 8 is completed.
  • Forming the second circuit 9 leaving 4 and stripping the etching resist exposes the dissimilar metal layer 4 of the second circuit 9.
  • Step 1—e Furthermore, in the second dissimilar metal etching step, the dissimilar metal selective etching solution is used to remove only the dissimilar metal layer on the surface of the second circuit, and the final shape of the second circuit 9 is obtained. And a printed wiring board la as shown in FIG. 4 (h) is obtained. This process is the same when manufacturing a double-sided printed wiring board, using a dissimilar metal selective etchant to remove only the dissimilar metal layer on the surface of the second circuit, so that the final shape of the second circuit 9 can be obtained. As a result, a printed wiring board lb as shown in FIG. 7 (h) is obtained.
  • a so-called single-sided printed wiring board or double-sided printed wiring board is manufactured using a clad composite material as a starting material.
  • a method for manufacturing a printed wiring board, comprising the following steps 1-a to 1-d, is adopted. Hereinafter, each step will be described. In the following description, refer to FIGS. 8 to 10 for single-sided printed wiring boards and FIGS. 13 to 15 for double-sided printed wiring boards.
  • Step 2-a In this manufacturing method, the clad composite material in which three layers of the first copper layer Z different metal layer Z second copper layer are sequentially laminated in the clad composite material etching step first is
  • the metal layer is composed of a metal component that can be selectively etched with copper.
  • this clad composite material 2 only the second copper layer is etched with a copper selective etchant, and an etching circuit pattern is formed on one side.
  • the etching resist layer 10 is formed, and the etching circuit pattern for forming the temporary circuit 21 is exposed and developed only on the etching resist layer of the second copper layer as shown in FIG. It is obtained by etching the second copper layer 5 located in the outer layer into a desired circuit shape using a liquid and stripping the etching resist.
  • the dissimilar metal layer exposed between the temporary circuits 21 of the clad composite material 11 with the first circuit pattern shown in FIG. 8 (c) is removed with a dissimilar metal selective etching solution, and FIG. It is also possible to use it as a clad composite material 11 ′ with a second circuit pattern shown in FIG.
  • the etching circuit pattern surface of the clad composite material 11 with the first circuit pattern and the clad composite material 11 'with the second circuit pattern is preliminarily subjected to an adhesion improving process so as to adhere to the substrate. It is preferable to efficiently prevent defects such as delamination and measling due to heat shock after processing into a printed wiring board by improving the properties.
  • Step 2-b The lamination step will be described.
  • the temporary circuit 21 of the clad composite material 11 with the first circuit pattern obtained in the clad composite material etching step is used as shown in FIG.
  • the formed etching circuit pattern surface is brought into contact with the surface of the base material 6 and bonded to the surface of the base material.
  • the metal-clad laminate with the etching pattern embedded in the insulating layer as shown in Fig. 9 (fI) 7 And
  • the clad composite material 2 with the second circuit pattern obtained in the clad composite material etching step 1 The surface of the etching circuit pattern on which the first temporary circuit 21 was formed was brought into contact with the surface of the base material 6 and bonded to the surface of the base material, and an etching pattern as shown in Fig. 9 (f-II) was embedded in the insulating layer.
  • the metal-clad laminate 7 is in the state.
  • the difference from the case of using the clad composite material 11 with the first circuit pattern is that the dissimilar metal layer 4 between the temporary circuit 21 and the first copper layer is also embedded inside the base material 6. Is a point.
  • the clad composite material 2 shown in FIG. 13 (a) is used as a starting material, and the first circuit pattern-attached class shown in FIG. 13 (b) is used.
  • the etching circuit pattern surface on which the temporary circuit 21 is formed is pasted on both surfaces of the base material 6 constituting the insulating layer, as shown in FIG.
  • the double-sided metal-clad laminate 7 ′ with the temporary circuit 21 embedded in the insulating layer 6 is used.
  • the manufacturing process of the double-sided printed wiring board will be exemplarily described by using the clad composite material 11 with the first circuit pattern.
  • the clad composite material 11 ′ with the second circuit pattern can be used instead of the clad composite material 11 with the first circuit pattern, and the first circuit pattern can be used if necessary.
  • the etching circuit pattern surface of the clad composite material 11 with the solder and the second clad composite material 11 with the second circuit pattern can be subjected to an adhesion improving treatment in advance.
  • the clad composite material referred to here is the same as described above.
  • through-holes or via holes are used to ensure electrical continuity between the clad composite materials 11 and 11 ′ with a circuit pattern, which are conductor layers on both sides. 22 is formed, and a plating process is performed in the hole to ensure electrical conduction between the layers as shown in FIG. 14 (e). Since the formation of the interlayer conduction means is the same as described above, the description is omitted to avoid redundant description.
  • Step 2-c In this first copper etching step, when the first circuit pattern-clad composite material 11 is used, as shown in FIG. 9 (g-I), the second circuit pattern-clad composite material When 11 ′ is used, as shown in FIG. 9 (g-II), an etching resist layer 10 is formed on the first copper layer 3 on the outer surface of the metal-clad laminate 7, and the etching circuit pattern is exposed. Development is performed, and the first copper layer 3 located in the outer layer is etched and etched into a desired circuit shape using a copper selective etching solution, and the etching resist is removed. As a result, when the clad composite material with the first circuit pattern 11 is used, the unnecessary first copper layer 3 is removed and the temporary circuit 21 is formed as shown in FIG.
  • an etching resist layer 10 is formed on the first copper layer 3 on the outer surface of the metal-clad laminate 7 as shown in FIG.
  • the circuit pattern is exposed, developed, and the first copper layer 3 located on the outer layer is removed using a copper selective etchant. Etching into the desired circuit shape and stripping the etching resist will eliminate unnecessary steps.
  • Step 2-d In this dissimilar metal etching step, the first copper etching step is completed, and the dissimilar metal layer is etched away using the dissimilar metal selective etching solution, and the first circuit, the second circuit, Form. Therefore, when the clad composite material 11 with the first circuit pattern is used, a printed wiring board lc as shown in FIG. 10 (i-I) is obtained. On the other hand, when the clad composite material 11 with the second circuit pattern is used, the printed wiring board lc is as shown in Fig. 10 (i- ⁇ ).
  • the first copper etching process is completed, and the different metal layer is etched away using the different metal selective etching solution, and the first circuit, the second circuit, To form a printed wiring board Id as shown in Fig. 15 (h).
  • a so-called single-sided printed wiring board or double-sided printed wiring board is manufactured using a clad composite material as a starting material.
  • a method for manufacturing a printed wiring board, comprising the following steps 3-a to 3-c, is adopted. Hereinafter, each step will be described. In the following description, the illustration of the double-sided printed wiring board will be omitted with respect to the single-sided printed wiring board with reference to FIGS.
  • Step 3-a In this manufacturing mode, the clad composite material in which three layers of the first copper layer, the Z different metal layer, and the second copper layer are sequentially laminated in the clad composite material etching step is first used.
  • the metal layer is composed of a metal component that can be selectively etched with copper.
  • this clad composite material 2 only the second copper layer is etched with a copper selective etchant, and an etching circuit pattern is formed on one side.
  • the second circuit pattern clad composite 11 was used before. It is a proposal.
  • the etching of the second copper layer here is performed mainly as an etching that matches the circuit formation pattern of the thick circuit (for explanation, it corresponds to the first circuit).
  • the etched circuit pattern surface of the clad composite material 11 with the second circuit pattern 11 is subjected to an adhesion improving process in advance to improve the adhesion to the substrate, thereby processing the printed circuit board. It is preferable to efficiently prevent the occurrence of defects such as delamination and mesling due to heat shock after the heat treatment.
  • Step 3-b The lamination step will be described.
  • the metal in a state where the etching circuit pattern surface on which the temporary circuit 21 is formed is brought into contact with the surface of the base material 6 and bonded to the surface of the base material, and the etching pattern as shown in FIG. 11 (c) is embedded in the insulating layer. It is called a tension laminate 7.
  • Step 3-c In this first copper etching step, as shown in FIG. 12 (d), an etching resist layer 10 is formed on the first copper layer 3 on the outer surface of the metal-clad laminate 7, The etching circuit pattern is exposed and developed, and the first copper layer 3 located on the outer layer is etched into a desired circuit shape using a copper selective etching solution, and the etching resist is removed. As a result, as shown in FIG. 12 (e), the remaining portion of the second copper layer that was previously etched in the clad composite material 11 ′ with the second circuit pattern formed the first circuit 8, and the first copper layer The part that was only etched is etched to form a thin second circuit 9 and a printed wiring board lc ′. Then, different metal etching of the different metal layer is unnecessary. [0090] ⁇ Production form of double-sided printed wiring board (1)>
  • the second circuit coexists and includes the following steps 4a to 4-e. In the following description, reference is made to FIGS.
  • Step 4-a In this lamination step, as shown in FIG. 16 (a), the clad composite material 2 and the ordinary copper foil 12 are formed on each side of the base material constituting the insulating layer. Are laminated and bonded to form a double-sided metal-clad laminate 7 'shown in Fig. 16 (b).
  • the adhesion surface of the clad composite material 2 with the base material 6 is subjected to an adhesion improvement treatment in advance to improve the adhesion to the base material, and then the printed wiring board is covered. It is possible to efficiently prevent the occurrence of defects such as delamination and measling due to heat shock.
  • the adhesion improving treatment referred to here is as described above.
  • Step 4 b In this first copper etching step, as shown in FIG. 17 (d), the first copper layer 3 of the clad composite material 2 located on one side of the insulating layer and the copper foil on the other side An etching resist layer 10 is formed on the layer 12, the etching circuit pattern is exposed and developed, and a copper selective etching solution is used to etch the first copper layer 3 and the copper foil 12 located in the outer layer into a desired circuit shape. In addition, by removing the etching resist, unnecessary copper layer 3 is removed, temporary circuit 21 is formed, and dissimilar metal layer 4 is formed between temporary circuits 21 as shown in FIG. The copper foil 12 is exposed to a desired circuit shape.
  • Step 4-c In this first dissimilar metal etching step, the first copper etching step is completed, and the dissimilar metal layer 4 exposed between the temporary circuits 21 formed on the outer layer is removed with a dissimilar metal selective etching solution. Then, etching is used to obtain the state shown in FIG.
  • Step 4e In this second dissimilar metal etching step, only the dissimilar metal layer on the surface of the second circuit is removed using a dissimilar metal selective etching solution, and as shown in FIG. A two-circuit shape is formed and a printed wiring board 1 e is obtained.
  • Step 5—a This cladding composite etching step is the same as described above, and the cladding composite 2 shown in FIG. 19 (a) is used as a starting material, and the process shown in FIG. Is a step of manufacturing the clad composite material 11 with the first circuit pattern shown in FIG. Further, even in this manufacturing mode, V can be used as the clad composite material 11 with the second circuit pattern shown in FIG. 8 (d).
  • the difference between the following steps is shown in Fig. 9 and Fig. 10 in comparison with the clad composite material 11 with the first circuit pattern or the clad composite material 11 'with the second circuit pattern. Since this is a difference and can be easily understood by those skilled in the art, only the description using the clad composite material 11 with the first circuit pattern will be given for the following steps. Therefore, it is simply referred to as “clad composite material with circuit pattern 11”.
  • Step 5—b In this lamination step, the clad composite material with circuit pattern 11 and the copper foil 12 are laminated as shown in FIG. 19 (c) and shown in FIG. 20 (d). Thus, a double-sided metal-clad laminate 7 ′ is bonded to each side of the base material constituting the insulating layer.
  • the first circuit 8, the second circuit 9, and the copper foil circuit 13 are formed as shown in FIG. 21 (h) to form a printed wiring board If.
  • the manufacturing mode of the multilayer printed wiring board will be described.
  • the manufacturing flow of the multilayer printed wiring board is basically the same as the manufacturing flow of the double-sided printed wiring board, and it is not necessary to clarify clearly. Think of things. This is because it is sufficient to use “inner layer core material” and “base material to be disposed on both sides of the inner layer core material” instead of the substrate 6 used in manufacturing the double-sided metal-clad laminate described above. .
  • the multilayer printed wiring board is included in the scope of the present invention, the following manufacturing form of the multilayer printed wiring board will be described.
  • a multilayer printed wiring board having a circuit layer in which the first circuit and the second circuit having different thicknesses coexist on the same reference plane of the insulating layer located on the surface of the inner layer core material provided with the inner layer circuit.
  • the manufacturing mode will be described.
  • the manufacturing method of the multilayer printed wiring board said here is Step 6-a to Step 6-e shown below are provided. In the following description, reference is made to FIGS.
  • Step 6—a In this lamination step, the clad composite material is laminated on one or both surfaces of the inner layer core material via an insulating layer constituent material such as a pre-preda to form a multilayer metal-clad laminate. is there. That is, FIG. 22 (a) shows a laminated image when the clad composite material 2 is bonded to the inner core material 14 via the base material 6 constituting the insulating layer on both surfaces. Then, hot pressing is performed to obtain a multilayer metal-clad laminate 7 ′′ shown in FIG. 22 (b).
  • the inner layer core material 14 includes the inner layer circuit 15 and is accompanied by a via hole.
  • the described force There is no particular limitation on the type of inner layer core material, so-called rigid substrates, flexible substrates, etc. can be widely used.
  • a through hole or a via hole 22 is formed in the hole.
  • a plating process is performed to ensure electrical continuity between the layers as shown in Fig. 23 (c).
  • This interlayer conduction means is formed by adopting the plating method as described above, and then applying the electroless copper plating to form the plating layer 23 by the electrolytic plating method.
  • a plating layer 23 is also formed on the surface of the layer.
  • this interlayer conduction means formation may not be necessary depending on the substrate design, which is not necessarily a necessary process.
  • Step 6—b In this first copper etching step, as shown in FIG. 23 (d), an etching resist layer 10 is formed on the first copper layer 3 located on the outer layer of the multilayer metal-clad laminate 7 ′ ′. After forming, exposing the etching circuit pattern, developing, etching the first copper layer located in the outer layer into a desired circuit shape using a copper selective etching solution, and removing the etching resist, as shown in FIG. As shown in e), the temporary circuit 21 is formed at the portion where the unnecessary first copper layer is removed, and the foreign metal layer 4 is exposed.
  • Step 6—c In this first different metal etching step, the first copper etching step is completed, and the different metal layer 4 exposed between the temporary circuits 21 formed in the outer layer is removed with a different metal selective etching solution. Then, etching is used to obtain the state shown in FIG.
  • Step 6-d In this second copper etching step, after the first dissimilar metal etching step is finished, as shown in FIG. 24 (g), the etching resist layer 10 is again applied only to the portion to be the first circuit. As shown in FIG. 24 (h), the portion of the first copper layer without the etching resist layer 10 is removed by etching and the etching resist is removed by etching using a copper selective etching solution. Then, a second circuit is formed in which the first circuit 8 and the dissimilar metal layer 4 are left.
  • Step 6—e In this second dissimilar metal etching step, the dissimilar metal selective etchant is used to remove only the dissimilar metal layer 4 on the surface of the second circuit, as shown in FIG. 25 (i). Then, the shape of the second circuit 9 is formed as a multilayer printed wiring board lg.
  • the first circuit and the second circuit having different thicknesses coexist on the same reference plane of the insulating layer located on the surface of the inner layer core material provided with the inner layer circuit, and one of the circuits is isolated.
  • a manufacturing mode of the multilayer printed wiring board embedded in the layer will be described.
  • the method for producing a multilayer printed wiring board referred to here is characterized by comprising the following steps 7-a to 7-d. In the following description, FIGS. 26 to 28 are referred to.
  • Step 7—a This cladding composite etching step is the same as described above, and the cladding composite 2 shown in FIG. 26 (a) is a circuit pattern including the temporary circuit 21 in the process shown in FIG. This is a process for manufacturing the clad composite material 11. Therefore, the description here is omitted.
  • the clad composite material 11 'with the second circuit pattern shown in Fig. 8 (d) can be used. Regardless of whether the first circuit pattern clad composite material 11 is used or the second circuit pattern clad composite material 11 ′ is used, the difference in the following processes is shown in FIGS. Therefore, the following steps are only described using the clad composite material 11 with the first circuit pattern. Therefore, it is simply referred to as “clad composite with circuit pattern 11”.
  • the adhesion surface with the substrate 6 of the clad composite materials 11 and 11 'with the circuit pattern is subjected to an adhesion improvement treatment in advance, thereby improving the adhesion with the substrate, so that a printed wiring board is obtained. It is possible to effectively prevent the occurrence of defects such as delamination and measling due to heat shock.
  • the adhesion improvement process said here is as above-mentioned.
  • Step 7-b In this lamination step, the etching circuit pattern surface of the clad composite material with circuit pattern 11 is formed on one side or both sides of the inner layer core material via an insulating layer constituent material such as a pre-preda.
  • the substrate is brought into contact with the surface of the substrate and laminated to form a multilayer metal-clad laminate. That is, FIG. 26 (a) shows a laminated image in the case where the clad composite material 11 with the circuit pattern on both sides is bonded to the inner layer core material 14 via the base material 6 constituting the insulating layer. Then, by performing a hot pressing force check, as shown in FIG.
  • the inner-layer core material 14 also includes the inner-layer circuit 15 and is described as being accompanied by via holes. There is no particular limitation on the type of inner-layer core material, so-called rigid substrates, flexible substrates, etc. are widely used. Is possible.
  • interlayer conduction means employs the plating method as described above, and is then subjected to electroless copper plating, and the plating layer 23 is formed by the electrolytic plating method. 1 A plating layer 23 is also formed on the surface of the copper layer.
  • the formation of the interlayer conduction means may not be necessary depending on the substrate design, which is not necessarily a necessary process.
  • Step 7—c In this first copper etching step, as shown in FIG. 27 (d), an etching resist layer 10 is formed on the first copper layer 3 located on the outer layer of the multilayer metal-clad laminate 7 ′ ′. Then, the etching circuit pattern is exposed, developed, the first copper layer located on the outer layer is etched into a desired circuit shape using a copper selective etchant, and the etching resist is removed, thereby removing the etching resist. As shown in e), the temporary circuit 21 is formed at the portion where the unnecessary first copper layer is removed, and the foreign metal layer 4 is exposed.
  • Step 7-d In this first dissimilar metal etching step, the first copper etching step is completed, and the dissimilar metal layer 4 exposed between the temporary circuits 21 formed on the outer layer is removed with a dissimilar metal selective etching solution. Then, the first circuit 8 and the second circuit 9 are completed at the same time to obtain a multilayer printed wiring board lh in the state of FIG. 28 (f).
  • the clad composite material used is nickel, tin capable of being selectively etched with copper in the dissimilar metal layer in order to manufacture the printed wiring board according to the present invention. It is preferable to use any of aluminum, titanium, and alloys thereof. These are as described above.
  • the thickness of the different metal layer is 10 111 to 2000 111. ⁇ ). It is preferable to use one having a ratio of 01 / ⁇ ⁇ to 5 ⁇ m. In this case, if the thickness force of the dissimilar metal layer is less than 0.01 ⁇ m, it cannot function as a barrier against the copper etching solution. On the other hand, if the thickness of the dissimilar metal layer exceeds 5 m, it cannot be easily removed by etching.
  • the total thickness of the three layers is 10 ⁇ m to 2000 ⁇ m, and the first copper layer
  • the total thickness of the copper layer and the second copper layer is 1 m to 1600 ⁇ m
  • the dissimilar metal layer is 50% to 80% of the total thickness of the clad composite material. It is also preferable to use materials made of wood.
  • an aluminum-based component thickness 50% to 80% of the total thickness of the clad composite material. Is 10 ⁇ m to 2000 ⁇ m, it is more preferable that the total thickness of the first copper layer and the second copper layer is 5 ⁇ m to 1600 ⁇ m.
  • the lower limit of the thickness of the dissimilar metal layer was set to 50% of the total thickness of the clad composite material. This is the force considered to be the minimum thickness for clearly recognizing the light weight effect due to the presence of the substrate weight in the case of printed wiring boards.
  • the thickness of the dissimilar metal layer exceeds 80% of the total thickness of the clad composite material, the thickness of the conductor through which the current actually flows becomes small, and unexpected resistance heating may occur.
  • Step l— a In this stacking step, three layers of the first copper layer (80 / ⁇ ⁇ ) ⁇ dissimilar metal layer (m nickel layer) and Z second copper layer (80 ⁇ m) are sequentially stacked.
  • the clad composite material 2 was used.
  • the laminated surface of the clad composite material 2 with the base material was blackened by a known method as an adhesion improving treatment. Then, as shown in FIG.
  • this clad composite material 2 (first copper layer 3, dissimilar metal layer 4, second copper layer 5) is bonded to the base material (210 m thick) constituting the insulating layer.
  • FR—4 galley glass epoxy pre-predder) 6 and bonded by hot pressing at 180 ° CX for about 60 minutes to form a metal-clad laminate 7 in Fig. 2 (b).
  • the clad composite material used here has a nickel layer formed on one side of one copper foil by a plating method, and another copper foil is superimposed on the nickel layer and rolled to form an integral sheet. It has been made.
  • Step 1 b In this first copper etching step, as shown in FIG. 2 (c), an etching resist using a dry film is formed on the first copper layer 3 located on the outer layer of the metal-clad laminate 7. Layer 10 is formed, the etching circuit pattern is exposed, developed, and positioned on the outer layer using a copper selective etching solution (ammonia-based alkaline copper etching solution: manufactured by Aprocess Z Meltex Co., Ltd.). The first copper layer 3 was etched to the desired circuit shape (temporary circuit 21). Then, by swollen with an alkaline solution and stripping the etching resist, the unnecessary first copper layer is removed, the temporary circuit 21 is formed, the dissimilar metal layer 4 is exposed, and the state of FIG. did.
  • a copper selective etching solution ammonia-based alkaline copper etching solution: manufactured by Aprocess Z Meltex Co., Ltd.
  • Step 1—c In this first dissimilar metal etching step, the dissimilar metal layer 4 exposed between the temporary circuits 21 formed in the outer layer is removed from the dissimilar metal selective etching solution after the completion of the first copper etching step. (Nickel remover manufactured by MEC Co., Ltd.) was used for etching and the state shown in FIG. 3 (e) was obtained.
  • Nickel remover manufactured by MEC Co., Ltd. was used for etching and the state shown in FIG. 3 (e) was obtained.
  • Step l—d In this second copper etching step, after the first dissimilar metal etching step is completed, as shown in FIG. 3 (f), etching is performed using the liquid resist only on the portion to be the first circuit.
  • the resist layer 10 is formed again, and etching is performed using a copper selective etching solution (ammonia-based alkaline copper etching solution), thereby removing portions of the etching resist layer 10 and the first copper layer by etching.
  • the shape of the first circuit 8 is completed, the second circuit 9 is formed, leaving the dissimilar metal layer, and the etching resist is removed to expose the dissimilar metal layer 4 of the second circuit 9.
  • a dissimilar metal selective etching solution nickel remover manufactured by MEC
  • the first circuit can be used as a power supply circuit, etc., to prevent heat accumulation in the insulating layer of the substrate even if heat generation is significant, Heat can be efficiently dissipated to the outside.
  • FIG. 7 (h) a double-sided printed wiring board lb shown in FIG. 7 (h) was manufactured.
  • FIGS. 5 to 7 will be referred to for the description.
  • Step l— a In this stacking step, the first copper layer (80 m) Z dissimilar metal layer (: nickel layer of m) and the Z second copper layer (80 ⁇ m) are sequentially stacked.
  • the clad composite material 2 was used.
  • the laminated surface of the clad composite material 2 with the base material was blackened by a known method as an adhesion improving treatment.
  • this clad composite material 2 (first copper layer 3, dissimilar metal layer 4, second copper layer 5) is formed on the base material (210 m thick) constituting the insulating layer.
  • FR-4 dull glass epoxy pre-predder 6
  • Both sides of 6 were bonded by hot pressing at 180 ° C for 60 minutes to form a metal-clad laminate 7 'in Fig. 5 (b).
  • the clad composite material used here was also provided with a nickel layer on one side of one copper foil by a plating method, and another copper foil was laminated on the nickel layer and rolled. It is the one that has been integrated by the care.
  • a through hole is formed by forming a through-hole, forming a plating layer 23 in the order of desmear treatment, charaterization with noradium catalyst, electroless copper plating, and electrolytic copper plating, as shown in Fig. 6 (c). In addition, electrical continuity between layers was ensured.
  • Step 1b In this first copper etching step, as shown in FIG. 6 (d), an etching resist layer 10 is formed using a dry film on the first copper layer 3 after the formation of the interlayer conduction means. , Etch The first copper layer 3 located in the outer layer was etched into a desired circuit shape using a copper selective etching solution (ammonia-based alkali etching solution). After that, it is swollen with an alkaline solution, and the etching resist is removed to remove the unnecessary first copper layer, to form a temporary circuit 21 and to expose the dissimilar metal layer 4 to obtain the state shown in FIG. 6 (e). . In addition, what was described here was used as the following copper selective etching liquids.
  • a copper selective etching solution ammonia-based alkali etching solution
  • Step 1—c In this first dissimilar metal etching step, after the completion of the first copper etching step, the dissimilar metal layer 4 exposed between the temporary circuits 21 formed in the outer layer is removed from the dissimilar metal selective etching solution. Etching was removed using a nickel remover (manufactured by Z-Mec Co., Ltd.) to obtain the state shown in FIG. 7 (f). The following nickel-based dissimilar metal selective etching solutions described here were used.
  • Step l—d In this second copper etching step, after the first dissimilar metal etching step is completed, as shown in FIG. 7 (g), etching is performed using a liquid resist only on the portion to be the first circuit. The resist layer 10 is formed again, and etching is performed using a copper selective etchant, thereby removing the portion of the first copper layer without the etching resist layer 10 to complete the shape of the first circuit 8. Then, the second circuit 9 having the different metal layer 4 left is formed, and the etching resist is removed to expose the different metal layer 4 of the second circuit 9.
  • the first circuit is used as a power supply circuit, etc., to prevent heat accumulation in the insulating layer of the substrate even if heat generation is significant.
  • Example 3 can efficiently dissipate heat to the outside.
  • FIGS. 8 to 10 are referred to for description.
  • Step 2 a In this cladding composite etching step, the first copper layer (300 ⁇ m) Z dissimilar metal layer (1 ⁇ m nickel layer) Z second copper layer (80 A clad composite material 2 in which three layers ( ⁇ m) were sequentially laminated was used. Then, here, a dry film is laminated on both surfaces of the clad composite material 2 to form an etching resist layer 10, and the temporary circuit 21 is formed only on the etching resist layer of the second copper layer as shown in FIG. 8 (b). The etching circuit pattern for forming the pattern is exposed, developed, and etched using a copper selective etching solution (ammonia-based alkaline copper etching solution) to etch the second copper layer 5 located in the outer layer into a desired circuit shape.
  • a copper selective etching solution ammonia-based alkaline copper etching solution
  • the clad composite material 11 with the first circuit pattern shown in FIG. 8 (c) was obtained. Then, a blackening process was performed on the bonding surface of the clad composite material 11 with the first circuit pattern 11 to the base material by a known method as an adhesion improving process.
  • Step 2-b In this lamination step, as shown in Fig. 9 (e-I), etching is performed in which the temporary circuit 21 of the clad composite material 11 with a circuit pattern obtained in the clad composite material etching step is formed.
  • the circuit pattern surface is brought into contact with the surface of the substrate 6 (210 ⁇ m thick FR—4 grade glass epoxy pre-preda), and a hot pressing force of about 180 ° CX for 60 minutes is applied to one side of the substrate. Then, the metal-clad laminate 7 in a state where the etching pattern of the temporary circuit 21 as shown in FIG. 9 (f-I) was embedded in the insulating layer 6 was obtained.
  • Step 2c In this first copper etching step, a dry film is applied to the first copper layer 3 on the outer surface of the metal-clad laminate 7 as shown in FIG.
  • the etching resist layer 10 is formed, the etching circuit pattern is exposed and developed, and the first copper layer 3 located on the outer layer is formed in a desired circuit shape (one Etch the time circuit 21), swell it with an alkaline solution, and remove the etching resist to remove the unnecessary first copper layer 3 to form the temporary circuit 21 and part of the dissimilar metal layer 4 Was exposed to the state shown in FIG. 10 (h—I).
  • Step 2—d In this dissimilar metal etching step, after the first copper etching step is completed, the dissimilar metal layer is etched away using a dissimilar metal selective etchant (nickel remover manufactured by MEC). A first circuit 8 and a second circuit 9 were formed to obtain a printed wiring board lc as shown in 010 (1-1). At this time, the second circuit 9 is embedded in the insulating layer, and one of the first circuits 8 is The insulation layer surface force also protrudes, the thickness of the first circuit is 381 ⁇ m, and the thickness of the second circuit is 80 m.
  • a dissimilar metal selective etchant nickel remover manufactured by MEC
  • the first circuit can be used as a power supply circuit, etc., to prevent heat accumulation in the insulating layer of the substrate even if heat generation is significant. , Efficiently dissipate heat to the outside.
  • a single-sided printed wiring board lc shown in Fig. 10 (i- ⁇ ) was manufactured.
  • This single-sided printed wiring board has a circuit layer in which the first circuit and the second circuit having different thicknesses coexist in the same reference plane, and one circuit is embedded in the insulating layer.
  • FIG. 8 ⁇ FIG. 10 is referred for description.
  • Step 2 a: In this cladding composite etching step, the first copper layer (300 ⁇ m) Z dissimilar metal layer (1 ⁇ m nickel layer) Z second copper layer ( A clad composite material 2 in which three layers of 80 ⁇ m) were sequentially laminated was used. Then, here, a dry film is laminated on both surfaces of the clad composite material 2 to form an etching resist layer 11, and the temporary circuit 21 is formed only on the etching resist layer of the second copper layer as shown in FIG. 8 (b).
  • the etching circuit pattern is formed by exposing and developing the etching circuit pattern, etching the second copper layer 5 located in the outer layer into a desired circuit shape using a copper selective etching solution, and removing the etching resist.
  • a clad composite material 11 with the first circuit pattern shown in FIG. 8 (c) was obtained. Further, the dissimilar metal layer exposed between the temporary circuits 21 was removed with a dissimilar metal selective etching solution to obtain a clad composite material 11 with a second circuit pattern shown in FIG. 8 (d). The laminated surface of the clad composite material 11 with the second circuit pattern 11 was blackened by a known method as an adhesion improving treatment.
  • Step 2-b In this stacking step, as shown in Fig. 9 (e- ⁇ ), the temporary circuit 21 of the clad composite material 11 'with the second circuit pattern obtained in the clad composite material etching step is formed.
  • the etched circuit pattern surface is brought into contact with the surface of the substrate 6 (210 ⁇ m thick FR—4 grade glass epoxy pre-preda), and a hot pressing force of about 180 ° C ⁇ 60 minutes is applied to one surface of the substrate.
  • the metal-clad laminate 7 in which the etching pattern of the temporary circuit 21 was embedded in the insulating layer 6 as shown in FIG. 9 (f-II) was obtained.
  • Step 2—c In this first copper etching step, as shown in FIG. 9 (g— ⁇ ), a metal-clad laminate Using the dry film V, the etching resist layer 10 is formed on the first copper layer 3 on the outer layer surface of 7, and the etching circuit pattern is exposed, developed, and a copper selective etching solution (ammonia-based alkaline copper etching solution). ) Is used to etch the first copper layer 3 located in the outer layer, swell it with an alkaline solution, and remove the etching resist to remove the unnecessary first copper layer 3, and the first circuit 8 The dissimilar metal layer 4 on the second circuit was exposed, and the state shown in FIG. 10 (h— ⁇ ) was obtained.
  • a copper selective etching solution ammonia-based alkaline copper etching solution
  • Step 2 d In this dissimilar metal etching step, after the first copper etching step is completed, the dissimilar metal layer is etched and removed using a dissimilar metal selective etching solution (nickel remover manufactured by MEC). A circuit 8 and a second circuit 9 were formed to obtain a printed wiring board lc as shown in FIG. 10 (i- ⁇ ). At this time, the second circuit 9 is buried in the insulating layer, and a part of the first circuit 8 is in a state where the surface force of the insulating layer also protrudes. The thickness of the first circuit is 381 ⁇ m, and the second circuit 9 The thickness is 80 m.
  • a dissimilar metal selective etching solution nickel remover manufactured by MEC
  • the first circuit can be used as a power supply circuit, etc., to prevent heat accumulation in the insulating layer of the substrate even if heat generation is significant. , Efficiently dissipate heat to the outside.
  • a double-sided printed wiring board Id shown in FIG. 15 (h) was manufactured.
  • This double-sided printed wiring board has a circuit layer in which the first circuit and the second circuit having different thicknesses coexist in the same reference plane, and one circuit is embedded in the insulating layer. is there.
  • FIGS. 13 to 15 will be referred to for the description.
  • Step 2-a In this clad composite material etching step, the clad composite material 11 with a circuit pattern shown in FIG. 13B was obtained in the same manner as in Step 2-a of Example 3.
  • Step 2—b In this lamination step, two clad composite materials 11 with a circuit pattern shown in FIG. 13 (b) obtained using the clad composite material 2 shown in FIG. 13 (a) were used. 13 As shown in (c), the etched circuit pattern surface on which the temporary circuit 21 of the clad composite material 11 with the circuit pattern is formed is applied to both sides of the substrate 6 (210 ⁇ m thick FR—4 grade glass epoxy pre-preda). A double-sided metal with a temporary circuit 21 embedded in the insulating layer 6 as shown in Fig. 14 (d). The tension laminate was 7. [0150] Then, in the case of the double-sided metal-clad laminate 7 'shown in Fig.
  • Through-holes are formed by forming a through-hole 22 and forming a plating layer 23 by performing desmear treatment, charaterization with a noradium catalyst, electroless copper plating, and electrolytic copper plating in sequence, as shown in Fig. 14 (e). Assured electrical continuity.
  • Step 2—c In this first copper etching step, as shown in FIG. 14 (f), the first copper layer 3 on the outer surface of the metal-clad laminate 7 is etched using a dry film V.
  • the resist layer 10 is formed, the etching circuit pattern is exposed and developed, and the first copper layer 3 located in the outer layer is etched into a desired circuit shape (temporary circuit 21) using a copper selective etching solution, and an alkaline solution
  • the unnecessary first copper layer 3 is removed by removing the etching resist, and the temporary circuit 21 is formed, and a part of the dissimilar metal layer 4 is exposed, and the state shown in FIG. did.
  • Step 2-d In this dissimilar metal etching step, after the first copper etching step is completed, the dissimilar metal selective etching solution is used to etch away the dissimilar metal layer, and the first circuit 8 and the second circuit. 9 to form a printed wiring board Id as shown in FIG. 15 (h). At this time, the second circuit 9 is embedded in the insulating layer, and a part of the first circuit 8 is in a state where the surface force of the insulating layer protrudes, the thickness of the first circuit is 381 ⁇ m, the thickness of the second circuit Is 80 ⁇ m.
  • the first circuit is used as a power supply circuit, etc., to prevent heat accumulation in the insulating layer of the substrate even if heat generation is significant. It is possible to efficiently dissipate heat to the outside.
  • a single-sided printed wiring board lc 'shown in Fig. 12 (e) was manufactured.
  • This single-sided printed wiring board has a circuit layer in which the first circuit and the second circuit having different thicknesses coexist in the same reference plane, and a part of one circuit is embedded in the insulating layer. It is a thing. In the following, each process will be described. Refer to FIGS. 11 and 12 for the description.
  • Step 3 a: In this cladding composite etching step, the first copper layer (300 ⁇ m), Z dissimilar metal layer (1 ⁇ m nickel layer), and Z second copper layer ( A clad composite material 2 in which three layers of 80 ⁇ m) were sequentially laminated was used. Then, here, a dry film is laminated on both surfaces of the clad composite material 2 to form an etching resist layer 11, and as shown in FIG. Only the etching resist layer of the copper layer is exposed to the etching circuit pattern for forming the temporary circuit 21, developed, and the second copper layer 5 located in the outer layer is formed into a desired circuit shape using a copper selective etching solution.
  • Step 3—b In this lamination step, as shown in FIG. 11 (b), the temporary circuit 21 of the clad composite material 11 ′ with the second circuit pattern obtained in the clad composite material etching step was formed.
  • the etching circuit pattern surface is brought into contact with the surface of the base material 6 (210 ⁇ m thick FR—4 grade glass epoxy pre-preda), and a hot pressing force of about 180 ° C ⁇ 60 minutes is applied to one side of the base material.
  • the metal-clad laminate 7 in a state where the etching pattern of the temporary circuit 21 is embedded in the insulating layer 6 as shown in FIG.
  • Step 3—c In this first copper etching step, as shown in FIG. 12 (d), the first copper layer 3 on the outer surface of the metal-clad laminate 7 is etched using a dry film V.
  • the resist layer 10 is formed, the etching circuit pattern is exposed, developed, and the first copper layer 3 located in the outer layer is etched using a copper selective etching solution (ammonia-based alkaline copper etching solution), and the Al
  • the first circuit 8 and the second circuit 9 were formed at the same time by swelling with a potassium solution and peeling off the etching resist, and a printed wiring board lc ′ as shown in FIG. 12 (e) was obtained.
  • the second circuit 9 protrudes from the insulating layer, and a part of the first circuit 8 is embedded in the insulating layer.
  • the thickness of the first circuit is 381 ⁇ m, and the thickness of the second circuit is 300. m.
  • the first circuit is used as a power supply circuit, etc., and even if heat generation is significant, heat storage in the insulating layer of the board is prevented, and heat is efficiently transferred to the outside. Can be distracted.
  • This double-sided printed wiring board has a circuit layer in which the first circuit and the second circuit having different thicknesses coexist in the same reference plane, and one circuit is embedded in the insulating layer. It is arranged.
  • FIGS. 13 to 15 will be referred to for the description.
  • a type in which the dissimilar metal layer 4 of the clad composite material 2 is thick is used, and the layer thickness of the dissimilar metal layer is different from the schematic cross-sectional views of FIGS. 13 to 15 and finally obtained.
  • the printed wiring board is as shown in Fig. 1 (Id).
  • Step 2-b In this lamination step, the clad composite material 11 with a circuit pattern shown in FIG. 13 (b) obtained from the clad composite material 2 shown in FIG. Using two sheets, as shown in Fig. 13 (c), the etched circuit pattern surface of the clad composite material 11 with the circuit pattern was formed on the base 6 (210 ⁇ m thick FR-4 grade glass epoxy pre-coated). A temporary circuit 21 of the insulating layer 6 as shown in Fig. 14 (d). A double-sided metal laminate 7 ′ embedded inside was used.
  • Step 2—c In this first copper etching step, as shown in FIG. 14 (f), the first copper layer 3 on the outer surface of the metal-clad laminate 7 is etched using a dry film V.
  • the resist layer 10 is formed, the etching circuit pattern is exposed, developed, and the first copper layer 3 located in the outer layer is formed in a desired circuit shape (temporary circuit 21) using a copper selective etching solution (acid-based copper etching solution). ), Swelled with an alkaline solution, and stripping the etching resist to remove the unnecessary first copper layer 3, to form a temporary circuit 21, and to expose a part of the dissimilar metal layer 4,
  • the state shown in Fig. 15 (g) is assumed.
  • Step 2 d In this dissimilar metal etching step, after the first copper etching step is completed Using a different metal selective etching solution (sodium hydroxide-based alkaline etching solution), the different metal layer is removed by etching to form the first circuit 8 and the second circuit 9, as shown in FIG. It was called printed wiring board Id. At this time, the second circuit 9 is embedded in the insulating layer, and a part of the first circuit 8 protrudes from the surface of the insulating layer. The thickness of the first circuit is 660; ⁇ ⁇ , The thickness is 80 m.
  • a different metal selective etching solution sodium hydroxide-based alkaline etching solution
  • the first circuit is used as a power supply circuit to prevent heat accumulation in the insulating layer of the substrate even if heat generation is significant. , Efficiently dissipate heat to the outside.
  • the printed wiring board obtained in this example was about 30% lighter than the case where the conductor layer was almost made of copper.
  • the double-sided printed wiring board le shown in FIG. 18 (i) is manufactured using the clad composite material 2 as a starting material.
  • the double-sided printed wiring board le has a first circuit and a second circuit having different thicknesses only on the same reference plane on one side.
  • Step 4—a In this stacking step, as shown in Fig. 16 (a), cladding composite 2 (first copper layer (300 ⁇ m) Z dissimilar metal layer (1 ⁇ m nickel layer) Z 2nd copper layer (80 m)) and normal copper foil 12 are brought into contact with both sides of the base material 6 (210 ⁇ m thick FR—4 grade glass epoxy pre-preda) that constitutes the insulating layer. Then, hot pressing at about 180 ° CX for about 60 minutes was performed on one side of each, and they were laminated to form a double-sided metal-clad laminate 7 'shown in Fig. 16 (b).
  • Step 4b In this first copper etching step, as shown in FIG. 17 (d), the first copper layer 3 of the clad composite material 2 located on one side of the insulating layer and the copper foil on the other side An etching resist layer 10 is formed on the layer 12 using a dry film, the etching circuit pattern is exposed, developed, and positioned on the outer layer using a copper selective etching solution (ammonia-based alkaline copper etching solution).
  • the first copper layer 3 and the copper foil 12 are etched into a desired circuit shape (temporary circuit 21) and the etching resist is removed to remove the unnecessary first copper layer as shown in FIG. 3 was removed, the temporary circuit 21 was formed, the dissimilar metal layer 4 was exposed between the temporary circuits 21, and the copper foil 12 was made into the desired circuit shape.
  • Step 4—c In this first dissimilar metal etching step, the first copper etching step is completed, and the dissimilar metal layer 4 exposed between the temporary circuits 21 formed on the outer layer is removed with a dissimilar metal selective etching solution. Then, etching was performed to obtain a state shown in FIG.
  • the etching resist layer 10 is formed again only on the formed circuit, and etching is performed using a copper selective etching solution (ammonia-based alkaline copper etching solution), thereby etching away the portion of the first copper layer without the etching resist layer. Then, by removing the etching resist, as shown in FIG. 18 (h), the first circuit 8 and the second circuit 9 leaving the dissimilar metal layer 4 are formed.
  • a copper selective etching solution ammonia-based alkaline copper etching solution
  • Step 4—e In this second dissimilar metal etching step, only the dissimilar metal layer 4 on the surface of the second circuit 9 is removed using a dissimilar metal selective etching solution (nickel remover manufactured by MEC). As shown in FIG. 18 (i), the shape of the second circuit 9 was formed to obtain a printed wiring board le. At this time, both the first circuit 8 and the second circuit 9 are in a state in which the surface force of the insulating layer protrudes. The thickness of the first circuit 8 is 381 ⁇ m, and the thickness of the second circuit 9 is 80 m.
  • the first circuit 8 can be used as a power supply circuit to prevent heat accumulation in the insulating layer of the substrate even if heat generation is significant. , Efficiently dissipate heat to the outside
  • the double-sided printed wiring board If shown in FIG. 21 (h) is manufactured using the clad composite material 2 as a starting material.
  • the first circuit and the second circuit having different thicknesses coexist only on the same reference plane on one side, and either the first circuit or the second circuit is insulated. It is embedded in the layer.
  • FIGS. 19 to 21 for explanation of the force explained for each process.
  • Step 5—a This cladding composite etching step is performed in the cladding composite shown in FIG. 19 (a). 2 (first copper layer (300 ⁇ m) Z dissimilar metal layer (1 ⁇ m nickel layer) Z second copper layer (80 m)) as the starting material, the process shown in FIG. This is a process of manufacturing the clad composite material 11 with a circuit pattern shown. Accordingly, this is the same as step 2-a in Example 3.
  • Step 5-b In this lamination step, the clad composite material with circuit pattern 11 and the copper foil 12 are used to laminate on both surfaces of the substrate 6 as shown in FIG. 19 (c). Then, contact with both sides of the base material 6 (210 ⁇ m thick FR-4 grade glass epoxy pre-predder) that constitutes the insulating layer, and hot press at 180 ° CX for about 60 minutes on each side. A double-sided metal-clad laminate 7 'as shown in Fig. 20 (d) was obtained by applying force.
  • the base material 6 210 ⁇ m thick FR-4 grade glass epoxy pre-predder
  • through-holes 22 were formed by forming through-holes with a diameter of 20 and sequentially forming desmear treatment, palladium catalyst catalysis, electroless copper plating, and electrolytic copper plating to form a plating layer 23. This forming method is as described above, and redundant description is omitted here.
  • the copper foil was etched into a desired circuit shape, and the etching resist was peeled off to expose the dissimilar metal layer as shown in FIG. 21 (g).
  • Step 5 d In this first dissimilar metal etching step, the first copper etching step is completed, and the dissimilar metal layer 4 exposed between the temporary circuits 21 formed on the outer layer is removed from the dissimilar metal selective etching solution (MEC).
  • the first circuit 8, the second circuit 9, and the copper foil circuit 13 were formed as shown in FIG. 21 (h) to form a printed wiring board If.
  • the second circuit 9 is embedded in the insulating layer, and a part of the first circuit 8 protrudes from the surface of the insulating layer.
  • the thickness of the first circuit is 381 / ⁇ , the second The circuit thickness is 80 / zm.
  • the first circuit can be used as a power supply circuit, etc., to prevent heat accumulation in the insulating layer of the substrate even if heat generation is significant, Heat can be efficiently dissipated to the outside.
  • FIGS. 22 to 25 are referred to.
  • Step 6—a In this lamination step, as shown in FIG. 22 (a), on the surface of the inner layer core material 14, the base material 6 (210 ⁇ m thick FR-4) is formed. Clad composite 2 (first copper layer (300 ⁇ m) Z dissimilar metal layer (1 ⁇ m nickel layer) Z second copper layer (80 ⁇ m)) through grade glass epoxy prepreg) By laminating and hot pressing, a multi-layer metal-clad laminate 7 ′ ′ shown in FIG. 22 (b) was obtained.
  • the inner layer core material 14 used here was a rigid substrate of FR-4 clade having a thickness of 150 m and having an inner layer circuit 15 and a via hole having a diameter of 100 / z m.
  • Step 6-b In this first copper etching step, a dry film is used for the first copper layer 3 located on the outer layer of the multilayer metal-clad laminate 7, as shown in FIG. 23 (d).
  • the etching resist layer 10 is formed, the etching circuit pattern is exposed, developed, and the first copper layer located in the outer layer is formed into a desired circuit shape using a copper selective etching solution (ammonia-based alkaline copper etching solution).
  • (Temporary circuit 21) is etched and the etching resist is removed to form temporary circuit 21 at the site where unnecessary first copper layer is removed as shown in Fig. 23 (e). Layer 4 was exposed.
  • Step 6—c In this first dissimilar metal etching step, the first copper etching step is completed, and the dissimilar metal layer 4 exposed between the temporary circuits 21 formed on the outer layer is removed from the dissimilar metal selective etching solution ( Etching was removed using a nickel remover manufactured by MEC, and the state shown in FIG. 24 (f) was obtained.
  • Step 6d In this second copper etching step, after the first dissimilar metal etching step is completed, as shown in FIG. 24 (g), etching is performed using the liquid resist only on the portion to be the first circuit. By forming the resist layer 10 again and performing etching using a copper selective etchant, the etching resist layer 10 and the first copper layer are removed by etching, and the etching resist is peeled off. As shown in FIG. 24 (h), the first circuit 8 and the second circuit leaving the dissimilar metal layer 4 were formed.
  • Step 6—e In this second dissimilar metal etching step, only the dissimilar metal layer 4 on the surface of the second circuit is removed using a dissimilar metal selective etching solution (nickel remover manufactured by MEC). As shown in FIG. 25 (i), the shape of the second circuit 9 was formed to form a multilayer printed wiring board lg. At this time, both the first circuit 8 and the second circuit 9 are in a state in which the surface force of the insulating layer protrudes. The thickness of the first circuit 8 is 381 ⁇ m, and the thickness of the second circuit 9 is 80 ⁇ m.
  • the first circuit 8 can be used as a power supply circuit to prevent heat accumulation in the insulating layer of the board even if heat generation is significant. Can efficiently dissipate heat to the outside.
  • the first circuit and the second circuit having different thicknesses coexist on the same reference plane of the insulating layer located on the surface of the inner layer core material provided with the inner layer circuit, and either A multilayer printed wiring board was fabricated with the circuit embedded in the insulating layer.
  • Process 7—a This cladding composite etching process is performed using the cladding composite 2 shown in Fig. 8 (a) (first copper layer (300 ⁇ m) Z dissimilar metal layer (1 ⁇ m nickel layer). This is a process for manufacturing the clad composite material 11 with a circuit pattern shown in FIG. 8 (c) by the process shown in FIG. 8 using the Z second copper layer (80 m)) as a starting material. Accordingly, this is the same as step 2-a in Example 3.
  • Step 7-b In this laminating step, as shown in Fig. 26 (a), on the both surfaces of the inner layer core material, on the surface of the inner layer core material 14, the base material 6 (210 m thick) Then, the etching circuit pattern surface of the clad composite material 11 with the circuit pattern is brought into contact with the substrate surface through the FR-4 grade glass-epoxy pre-preda). Then, by performing hot pressing, as shown in FIG. 26 (b), the multi-layer metal-stretched state in which the temporary circuit 21 on the etching circuit non-turn surface of the clad composite material 11 with circuit pattern is embedded in the insulating layer 6 is used.
  • Laminated plate 7 ′ The inner layer core material 14 used here includes an inner layer circuit 15 and 100 / zm. A FR-4 grade rigid substrate with a 150 ⁇ m thickness with a diameter via hole was used.
  • Step 7—c In this first copper etching step, a dry film is used for the first copper layer 3 located on the outer layer of the multilayer metal-clad laminate 7, as shown in FIG. 27 (d). Etching resist layer 10 is formed, the etching circuit pattern is exposed and developed, and the first copper layer located on the outer layer is etched into a desired circuit shape using a copper selective etching solution, and etching resist peeling is performed. Thus, as shown in FIG. 28 (e), the temporary circuit 21 and the dissimilar metal layer 4 were exposed at the portion where the unnecessary first copper layer was removed.
  • the first circuit 8 and the second circuit 9 were completed at the same time by using a nickel remover manufactured by MEC Co., to obtain a multilayer printed wiring board lh in the state of FIG. 28 (f).
  • the second circuit 9 is embedded in the insulating layer, and a part of the first circuit 8 is in a state in which the surface force of the insulating layer protrudes, and the thickness of the first circuit is 381 / ⁇ , the second circuit The thickness is 80 / zm.
  • the first circuit can be used as a power supply circuit, etc., to prevent heat accumulation in the insulating layer of the substrate even if heat generation is significant, Heat can be efficiently dissipated to the outside.
  • the printed wiring board according to the present invention can adjust the height of a part of circuits in the same reference plane and can greatly increase the circuit cross-sectional area. Therefore, even when used as a power supply circuit or the like, it is possible to increase the conductor thickness of the circuit rather than to increase the circuit width, and to substantially reduce the substrate area. Then, by forming circuits with different circuit thicknesses in the same reference plane, a printed wiring board in which circuits having different electrical characteristics and applications are formed on the same reference plane is obtained.
  • the protruding circuit part of the printed wiring board can function in the same way as a heat dissipation fin and can be used as a heat dissipation circuit or heat dissipation plate. Both are possible.
  • the printed wiring board according to the present invention is small in size and excellent in heat resistance characteristics, and contributes to the downsizing of device equipment incorporating the printed wiring board. Furthermore, by using a lightweight metal such as aluminum for the purpose of reducing the weight of the dissimilar metal layer, it is possible to reduce the weight of the printed wiring board, contributing to the weight of the device equipment incorporating the same. Is also possible.
  • the method for manufacturing a printed wiring board according to the present invention uses a clad composite material including a dissimilar metal layer that can be selectively etched with copper as a dissimilar metal layer between two copper layers. It is possible to use conventional printed wiring board laminating technology, etching method and apparatus, and does not require special capital investment, and is a simple and excellent production method. Enables stable supply of wiring boards.
  • FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing a cross-sectional layer configuration of a typical nomination of a printed wiring board according to the present invention.
  • FIG. 2 is a flowchart showing a procedure for manufacturing a printed wiring board according to the present invention.
  • FIG. 3 is a flowchart showing a procedure for manufacturing a printed wiring board according to the present invention.
  • FIG. 4 is a flowchart showing a procedure for manufacturing a printed wiring board according to the present invention.
  • FIG. 5 is a flowchart showing a procedure for manufacturing a printed wiring board according to the present invention.
  • FIG. 6 is a flowchart showing a procedure for manufacturing a printed wiring board according to the present invention.
  • FIG. 7 is a flowchart showing a procedure for manufacturing a printed wiring board according to the present invention.
  • FIG. 8 is a flowchart showing a procedure for manufacturing a printed wiring board according to the present invention.
  • FIG. 9 is a flowchart showing a procedure for manufacturing a printed wiring board according to the present invention.
  • FIG. 10 is a flowchart showing a procedure for manufacturing a printed wiring board according to the present invention.
  • FIG. 11 is a flowchart showing a procedure for manufacturing a printed wiring board according to the present invention.
  • FIG. 12 is a flowchart showing a procedure for manufacturing a printed wiring board according to the present invention.
  • FIG. 13 is a flowchart showing a procedure for manufacturing a printed wiring board according to the present invention.
  • FIG. 14 is a flowchart showing a procedure for manufacturing a printed wiring board according to the present invention.
  • FIG. 15 is a flowchart showing a procedure for manufacturing a printed wiring board according to the present invention.
  • 16] A flowchart showing a procedure for manufacturing a printed wiring board according to the present invention.
  • FIG. 17 A flowchart showing a procedure for manufacturing a printed wiring board according to the present invention.
  • FIG. 19 is a flowchart showing a procedure for manufacturing a printed wiring board according to the present invention.
  • FIG. 19 A flowchart showing a procedure for manufacturing a printed wiring board according to the present invention.
  • FIG. 21 is a flowchart showing a procedure for manufacturing a printed wiring board according to the present invention.
  • FIG. 21 A flowchart showing a procedure for manufacturing a printed wiring board according to the present invention. Provides procedures for manufacturing printed wiring boards.
  • FIG. 23 is a flowchart showing a procedure for manufacturing a printed wiring board according to the present invention.
  • FIG. 24 is a flowchart showing a procedure for manufacturing a printed wiring board according to the present invention.
  • FIG. 25 is a flowchart showing a procedure for manufacturing the printed wiring board according to the present invention.
  • FIG. 26 is a flowchart showing a procedure for manufacturing the printed wiring board according to the present invention.
  • FIG. 27 is a flowchart showing a procedure for manufacturing a printed wiring board according to the present invention.
  • FIG. 28 is a flowchart showing a procedure for manufacturing a printed wiring board according to the present invention.
  • Insulation layer (base material)

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Circuit Boards (AREA)
  • Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)
  • Parts Printed On Printed Circuit Boards (AREA)
  • Structure Of Printed Boards (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)

Abstract

 従来、回路幅が大きく異なる設計を必要とした信号伝達回路と電源供給用回路等との回路幅を極力近づけ、実質的な小型化の可能なプリント配線板及びその製造方法を提供する。ことを目的とする。この目的を達成するため、導電層と絶縁層とを含む金属張積層板をエッチング加工することにより得られるプリント配線板であって、同一基準平面に形成した厚さの異なる第1回路と第2回路とが併存したプリント配線板を採用する。そして、第1回路又は第2回路のいずれか厚い方の回路が、第1銅層/異種金属層/第2銅層の3層が順次積層したクラッド状であることを特徴とする。そして、当該プリント配線板の製造は、第1銅層/異種金属層/第2銅層の3層が順次積層した状態のクラッド複合材を出発材料として、異種金属層と銅層との選択エッチング特性を有効利用した点に特徴を有する。

Description

明 細 書
プリント配線板及びそのプリント配線板の製造方法
技術分野
[0001] 本件出願に係る発明は、プリント配線板及びそのプリント配線板の製造方法に関す る。特に、厚さの異なる第 1回路と第 2回路とが同一基準平面に併存するプリント配線 板及びプリント配線板の製造方法に関する。
背景技術
[0002] 従来から、プリント配線板は、絶縁基材の表面に導体層を設け、その導体層をエツ チング加工する等して回路形状を形成し、この回路内に ICチップ、コンデンサ一等 の部品を実装することにより、家電製品を始めとする民生電気製品、コンピュータ等 に代表される産業電子機器の中に用いられてきた。
[0003] 係るプリント配線板は、絶縁基材の表面に、特許文献 1 (日本国特許出願 特開平 07— 007272号公報)にあるように銅箔を張り合わせたり、特許文献 2 (日本国特許 出願 特開平 07— 111386号公報)にあるようにアディティブ法で銅層を形成したり、 特許文献 3 (特開 2000— 286530号公報)にあるようにスパッタリング蒸着を採用す る等して、銅張積層板を一旦製造し、形成した銅層にエッチングレジスト層を設け、 エッチングパターンを露光、現像し、銅エッチングを行うことにより、回路形状を形成し てきた。
[0004] このようにして製造される回路は、回路に対する微細化の要求から、ファインピッチ 化が進められてきた。ところが、回路の使用目的から、回路の種類は、駆動系を制御 する回路幅の狭い信号伝達回路と、電源供給若しくはアース効果を得るための回路 (以下、電源供給用及び GND回路を含む意味で、単に「電源供給用回路等」と称す る。)とに大別して考えることが可能である。信号伝達回路は、 ONZOFF動作、演算 速度等を制御するシグナル電流を伝達する回路であり、総じて大電流が流れること のない回路である。これに対し、電源供給用回路等は、プリント配線板に搭載された チップ部品、コンデンサー (キャパシタ)等に対する電源用電流を供給するため若しく はアースとしての機能を果たすものであり、上述のシグナル電流と比較したときには、 力なりの大電流が流れる回路となる。
[0005] そして、回路の電気抵抗 R ( Ω )は、物質の固有抵抗 p ( Ω · cm)、長さ L (cm)、断 面積 S (cm2)とすると、 R ( Q ) = p 'LZSの計算式で算出されるものである。更に、 消費電力量 W (ワット)は、電流を 1 (A)とすると、 W (ワット) =I2Rで計算される。これ らの式から分かるように、回路の抵抗値は面積が小さくなるほど、抵抗値が高くなり、 抵抗値が高くなるほど消費電力量も大きぐ結果として動作時の発熱量も多くなる。 従って、信号伝達回路の回路幅に比べ、電源供給用回路等の回路幅を広くし、動作 時のプリント配線板からの発生熱量を削減する設計が行われている。
[0006] 一方、近年の、プリント配線板を組み込む電子機器等のデバイス側に対し、軽量ィ匕 、小型化、薄型化の要求が止まるところを知らずに行われている。その結果、デバイ ス側の限られた収納空間に合わせ、プリント配線板の小型化、薄物化の要求も当然 に行われてきた。
[0007] 特許文献 1 :特開平 07— 007272号公報
特許文献 2:特開平 07 - 111386号公報
特許文献 3:特開 2000— 286530号公報
発明の開示
発明が解決しょうとする課題
[0008] し力しながら、従来のプリント配線板の製造方法では、信号伝達回路と電源供給用 回路等とに対する設計思想は変更しょうもなぐ同一基準平面内に信号伝達回路と 電源供給用回路等を同時に形成しょうとすると、信号伝達回路に比べて、幅広の電 源供給用回路等を形成することは避けられず、プリント配線板の小型化の障害にもな つていた。
[0009] また、大電流を流すことを想定した基板等の場合には、電源供給用回路等は厚銅 で形成した層をエッチング加工して形成し、一方、信号伝達回路は回路特性に見合 う銅厚で形成するため、層を分離して構成する必要があり、プリント配線板の小型化 の障害にもなつていた。
[0010] 確かに、プリント配線板力もの発熱量を増カロさせることなぐ電源供給用回路等の幅 を狭くしょうとすると、供給電圧を下げるか、回路を形成する銅以上に電気的導電性 に優れた材料を使用することが考えられる力 現実的ではな 、。
[0011] 以上のことから、従来、回路幅が大きく異なる設計を必要とした信号伝達回路と電 源供給用回路等との回路幅を極力近づけ、実質的な小型化の可能なプリント配線板 及びその製造方法が求められてきた。
課題を解決するための手段
[0012] そこで、本件発明者等は、鋭意研究の結果、プリント配線板の電銀供給用回路等と して使用する回路の断面積を確保するため、回路幅を広げるのではなぐ回路高さを 大きくすることに想到したのである。以下、本件発明に係る「プリント配線板」及び「プ リント配線板の製造方法」とに分けて述べることとする。
[0013] <本件発明に係るプリント配線板 >
本件発明に係るプリント配線板の基本的構成は、「導電層と絶縁層とを含む金属張 積層板をエッチング加工することにより得られるプリント配線板であって、同一基準平 面内に形成した厚さの異なる第 1回路と第 2回路とが併存したことを特徴としたプリン ト配線板。」として表すことができる。これらのプリント配線板の一部を例示的に断面模 式図として示したのが図 1である。このような構造を採用することにより、電源供給用 回路等の幅を広げることなぐ回路高さを調節することで電源供給用回路等と信号伝 達回路との回路幅を近づけ、その結果として、プリント配線板の小型化が可能となる のである。
[0014] ここで、「第 1回路」と「第 2回路」とに関して説明する。本件明細書に言う第 1回路と 第 2回路とは、その回路としての厚さ(断面積)が異なる事の説明上、便宜的に用い た用語である。例えば、第 1回路の断面積を、第 2回路の断面積より大きなものとして 、電源供給用回路等として用いて、断面積の小さな第 2回路を信号伝達回路として 使用することを可能とするのである。本件発明において第 1回路と第 2回路と分別して 述べているのは、単に回路厚さを見て、厚い回路(断面積の大きな回路)と薄い回路 (断面積の小さな回路)と 、う意で用いて 、るのであり、回路幅の広狭を意味するもの ではない。また、第 1回路の全てが同一の回路幅であること、第 2回路の全てが同一 の回路幅であることを意味するものでもない。
[0015] そして、「同一基準平面」とは、プリント配線板を製造するときに用いるガラス一ェポ キシプリプレダ、ガラス ポリイミドプリプレダ等の基材が作り出す平面的な絶縁層の 表面若しくは界面を意味している。そして、「同一基準平面内に形成した第 1回路と 第 2回路と · · · ·」とあるが、プリント配線板を断面から観察したときに、その同一基準 平面と第 1回路及び第 2回路が接する状態で配置されて ヽることを意味して ヽる。
[0016] 従って、(I)同一基準平面の片側に第 1回路及び第 2回路が配置される場合、 (II) 同一基準平面を境に片側に第 1回路、反対側に第 2回路が配される場合がある。本 件発明に係るプリント配線板において、後者の (Π)の場合には、第 1回路又は第 2回 路のいずれか一方の回路がプリント配線板表面力 突出配置し、他方の回路がプリ ント配線板表面に埋設配置された状態となる。このように、一方の回路がプリント配線 板表面力 突出配置され、他方の回路がプリント配線板の絶縁層内に埋設配置され ているものは、図 l (lc)にあるように突出した回路を厚くして電源供給用回路等とし て使用すれば、放熱フィンと構造上類似しており、放熱効果が高くなる。そして、薄い がために外力による損傷を受けやす!、信号伝達回路は絶縁層内に埋設されて ヽる ため予期せぬ回路断線等を防止出来るのである。
[0017] また、第 1回路又は第 2回路のいずれか厚い方の回路厚さを Τ μ mとしたとき、他 方の回路厚さ Tが T ZlOO〜T m)である事が好ましい。これを具体的に言えば
2 1 1
、厚い方の回路厚さが 500 mであると、薄ぃ方の回路は5 111〜500 111の範囲 の厚さをもつ事になるのである。この第 1回路及び第 2回路の厚さは、供給電流量に 応じて適宜最適な設計がなされるものであり、特に限定を要するものではないため、 一方の回路厚さを範囲として記載しているのである。本件発明において、第 1回路及 び第 2回路各々の厚さが異なれば、特にどの程度の厚さの差があるかは問題ではな い。しカゝしながら、後述する本件発明に係る製造方法から理解出来るように、本件発 明に係るプリント配線板の製造には、第 1銅層 Z異種金属層 Z第 2銅層の 3層構造 のクラッド複合材を用いることを予定しており、工業的に生産可能なクラッド複合材を 考慮すると、上述の如き回路厚の差が設けられるのである。
[0018] そして、第 1回路又は第 2回路のいずれか厚い方の回路は、第 1銅層 Z異種金属 層 Z第 2銅層の 3層が順次積層したクラッド状であり、当該異種金属層にニッケル、ス ズ、アルミニウム、チタン及びこれらの合金を用いたことを特徴とする。本件発明に係 るプリント配線板は、後述する製造方法力も明らかなように、第 1銅層 Z異種金属層
Z第 2銅層の 3層が順次積層した状態のクラッド複合材であって、異種金属層にニッ ケル、スズ、アルミニウム、チタン及びこれらの合金を用いたものを用いることで、効率 の良い生産が可能となるものである。従って、後述する製造方法を採用する限り、い ずれかの回路断面がクラッド状というのは不可避的に起こる現象で有るとも言える力 発本件明に係るプリント配線板の大きな特徴となり得るのである。この異種金属層に 用いる金属成分は、銅との選択エッチングが可能なものである。即ち、銅を溶解させ ることなく、選択的に異種金属(ニッケル、スズ、アルミニウム、チタン及びこれらの合 金)のみを溶解除去出来るもので、このときに使用するエッチング液を「異種金属選 択エッチング液」と称することとする。また、異種金属を溶解させることなぐ銅のみを 溶解させることも可能で、このときのエッチング液を「銅選択エッチング液」と称する事 とする。これらに関しては、後述する実実施形態で述べることとする。
[0019] 更に、第 1回路又は第 2回路のいずれか厚い方の回路は、第 1銅層 Z異種金属層 Z第 2銅層の 3層が順次積層した状態のクラッド複合材であって、異種金属層にクラ ッド複合材のトータル厚さの 50%〜80%厚さのアルミニウム又はアルミニウム合金( 以下、単に「アルミニウム系成分」と称する。)を用いることも好ましいのである。このよ うに、銅よりも軽量な金属であるアルミニウム系成分の厚さを厚くして、図 1 (Id)のよう にすることで、プリント配線板の軽量ィ匕を可能とするのである。従って、銅層の一部を アルミニウム系成分に置き換えるだけでも、軽量ィ匕を達成する事は可能である。しか し、実質的なプリント配線板の軽量ィ匕を図るためには、クラッド複合材のトータル厚さ の少なくとも 50%以上をアルミニウム系成分に置き換える必要がある。一方、クラッド 複合材のトータル厚さの少なくとも 80%以上アルミニウム系成分に置き換えることを 考えると、アルミニウム系成分の占める厚さにより、銅層の厚さが不十分で電源供給 用回路等を製造したときの抵抗上昇が著しぐ電源供給用回路等と信号伝達回路と を同一基準平面に併存させた製品として意義が没却することとなるのである。
[0020] <本件発明に係るプリント配線板の製造方法 >
以下に述べる本件発明に係るプリント配線板の製造方法は、同一基準平面内に異 なる厚みの回路を形成しょうとしたときに、従来のプリント配線板の積層技術、エッチ ング方法及び装置を利用出来るため、特段の設備投資も不必要であり、効率の良い 本件発明に係るプリント配線板の生産が可能となる。そして、本件発明において採用 可能な製造方法は、所謂片面プリント配線板、両面プリント配線板、 3層以上の多層 プリント配線板いずれを製造するかにより、いくつかの方法に細分ィ匕して考えられる。
[0021] 片面又は両面プリント配線板の製造方法(1): 所謂片面プリント配線板の製造方 法と両面プリント配線板の製造方法は、金属層 Z絶縁層の 2層構造の金属張積層板 を用いるか、第 1金属層 Z絶縁層 Z第 2金属層(ここで、第 1金属層と第 2金属層とは 、同一の素材を用いることを前提としている。但し、第 1金属層と第 2金属層との厚さ は同一である必要はない。)の 3層の金属張積層板を用いるかの違いであり、その基 本的プロセスの差異はな!/、。
[0022] そこで、本件明細書では、同一基準平面内に厚さの異なる第 1回路と第 2回路とが 併存する回路層を備えた片面若しくは両面プリント配線板の製造方法であって、以 下に示す工程 1— a〜工程 1 eを備えることを特徴とするプリント配線板の製造方法 を採用する。
[0023] 工程 1 a: 第 1銅層 Z異種金属層 Z第 2銅層の 3層が順次積層したクラッド複合材 は、異種金属層が銅との選択エッチング可能な金属成分で構成したものであり、この クラッド複合材を絶縁層を構成する基材に張り合わせ、金属張積層板とする積層ェ 程。
工程 1 b: 当該金属張積層板の外層に位置する第 1銅層にエッチングレジスト層 を形成し、エッチング回路パターンを露光し、現像し、銅選択エッチング液を用いて 外層に位置する第 1銅層を所望の回路形状にエッチング加工し、エッチングレジスト 剥離を行うことで、不要な第 1銅層を除去した部位にて、異種金属層を露出させる第 1銅エッチング工程。
工程 1— c : 第 1銅エッチング工程が終了し、外層に一時的に形成した回路間に露 出した異種金属層を異種金属選択エッチング液を用いてエッチング除去し、第 1回 路形状を形成する第 1異種金属エッチング工程。
工程 1 d: 第 1異種金属エッチング工程の終了後、第 1回路とする部位にのみエツ チングレジスト層を再度形成し、銅選択エッチング液を用いてエッチングを行うことで 、エッチングレジスト層の無い第 1銅層の部位をエッチング除去して、第 1回路の形状 を完成させ、エッチングレジスト剥離することで、第 2回路の異種金属層を露出させる 第 2銅エッチング工程。
工程 1— e : 更に、異種金属選択エッチング液を用いて第 2回路の表面にある異種 金属層のみを除去し、最終的な第 2回路形状を形成しプリント配線板とする異種金属 層除去工程。
[0024] そして、当該クラッド複合材を絶縁層の両面に張り合わせて両面プリント配線板を 得ようとする場合には、上記工程 1— aと工程 1—bとの間に層間導通手段形成工程 を設けることが可能である。
[0025] 更に、ここで用いるクラッド複合材の基材との張り合わせ面には、基材との密着性を 向上させるための密着性向上処理を施すことも好ま ヽ。
[0026] 片面又は両面プリント配線板の製造方法(2) : また、片面若しくは両面プリント配線 板の製造方法は、同一基準平面に厚さの異なる第 1回路と第 2回路とが併存し、いず れか一方の回路が絶縁層内に埋設配置された片面又は両面プリント配線板を得る 物であり、以下に示す工程 2— a〜工程 2— dを備えることを特徴とする抵抗回路を備 えたプリント配線板の製造方法である。
[0027] 工程 2— a : 第 1銅層 Z異種金属層 Z第 2銅層の 3層が順次積層したクラッド複合材 は、異種金属層が銅との選択エッチング可能な金属成分で構成したものであり、この クラッド複合材を用いて、銅選択エッチング液で第 2銅層のみをエッチング加工して、 片面にエッチング回路パターンを形成し、回路パターン付クラッド複合材を得るクラッ ド複合材エッチング工程。
工程 2— b : クラッド複合材エッチング工程で得られた回路パターン付クラッド複合材 のエッチング回路パターン面を基材表面に当接させ、基材表面に張り合わせ当該ェ ツチングパターンが絶縁層内に埋設した状態の金属張積層板とする積層工程。 工程 2— c : 金属張積層板の外層面にある第 1銅層にエッチングレジスト層を形成し 、エッチング回路パターンを露光し、現像し、銅選択エッチング液を用いて外層に位 置する第 1銅層を所望の回路形状にエッチング加工し、エッチングレジスト剥離を行 うことで、不要な第 1銅層を除去し、異種金属層を露出させる第 1銅エッチング工程。 工程 2— d : 第 1銅エッチング工程が終了すると、異種金属選択エッチング液を用い て異種金属層をエッチング除去して第 1回路と第 2回路とを形成しプリント配線板とす る異種金属エッチング工程。
[0028] そして、当該クラッド複合材を絶縁層の両面に張り合わせて両面プリント配線板を 得ようとする場合には、上記工程 2— bと工程 2— cとの間に層間導通手段形成工程 を設けることが可能である。
[0029] また、回路パターン付クラッド複合材は、その基材とのエッチング回路パターン面に 露出した異種金属層を除去したものを用いる事も可能である。
[0030] 更に、回路パターン付クラッド複合材は、その基材とのエッチング回路パターン面 に基材との密着性を向上させるための密着性向上処理を施したものを用いる事も好 ましい。
[0031] 片面又は両面プリント配線板の製造方法(3) : 更に、片面若しくは両面プリント配線 板の製造方法は、同一基準平面に厚さの異なる第 1回路と第 2回路とが併存し、いず れか一方の回路が絶縁層内に埋設配置された片面又は両面プリント配線板を得る 物であり、以下に示す工程 3— a〜工程 3— cを備えることを特徴とする抵抗回路を備 えたプリント配線板の製造方法である。製造工程的に見れば、エッチング回路パター ン面に露出した異種金属層を除去した回路パターン付クラッド複合材を用いることで のみ、実施可能な製造方法である。
[0032] 工程 3— a : 第 1銅層 Z異種金属層 Z第 2銅層の 3層が順次積層した状態のクラッド 複合材は、異種金属層が銅との選択エッチング可能な金属成分で構成したものであ り、このクラッド複合材を用いて、銅選択エッチング液で第 2銅層のみをエッチングカロ ェして、片面にエッチング回路パターンを形成し、エッチング回路パターン面に露出 した異種金属層を除去した回路パターン付クラッド複合材を得るクラッド複合材エツ チング工程。
工程 3— b : クラッド複合材エッチング工程で得られた回路パターン付クラッド複合材 のエッチング回路パターン面を基材表面に当接させ、基材表面に張り合わせ当該ェ ツチングパターンが絶縁層内に埋設した状態の金属張積層板とする積層工程。 工程 3— c : 金属張積層板の外層面にある第 1銅層にエッチングレジスト層を形成し 、エッチング回路パターンを露光し、現像し、銅選択エッチング液を用いて外層に位 置する第 1銅層を所望の回路形状にエッチング加工し、エッチングレジスト剥離を行 うことで、第 1回路と第 2回路とを同時に形成しプリント配線板とする第 1銅エッチング 工程。
[0033] そして、当該クラッド複合材を絶縁層の両面に張り合わせて両面プリント配線板を 得ようとする場合には、上記工程 3— bと工程 3— cとの間に層間導通手段形成工程 を設けることが可能である。
[0034] また、回路パターン付クラッド複合材は、エッチング回路パターン面に基材との密着 性を向上させるための密着性向上処理を施したものを用 、る事が好ま 、。
[0035] 両面プリント配線板の製造方法(1) : ここで言う両面プリント配線板の製造方法は 、片面側の同一基準平面に厚さの異なる第 1回路と第 2回路とが併存する両面プリン ト配線板の製造方法であって、以下に示す工程 4 a〜工程 4 eを備えることを特徴 とするちのである。
[0036] 工程 4 a : 第 1銅層 Z異種金属層 Z第 2銅層の 3層が順次積層したクラッド複合材 は、異種金属層が銅との選択エッチング可能な金属成分で構成したものであり、この クラッド複合材と、銅箔とを用いて、絶縁層を構成する基材の各々一面側に張り合わ せ、金属張積層板とする積層工程。
工程 4 b: 絶縁層の一面側に位置するクラッド複合材の第 1銅層及び他面側の銅 箔層にエッチングレジスト層を形成し、エッチング回路パターンを露光し、現像し、銅 選択エッチング液を用いて外層に位置する第 1銅層及び銅箔を所望の回路形状に エッチング加工し、エッチングレジスト剥離を行うことで、クラッド複合材は不要な第 1 銅層を除去し異種金属層を露出させ、銅箔は所望の回路形状とする第 1銅エツチン グ工程。
工程 4— c : 第 1銅エッチング工程が終了し、外層に一時的に形成した回路間に露 出した異種金属層を異種金属選択エッチング液を用いてエッチング除去し、第 1回 路形状を形成する第 1異種金属エッチング工程。
工程 4 d : 第 1異種金属エッチング工程の終了後、第 1回路とする部位にのみエツ チングレジスト層を再度形成し、銅選択エッチング液を用いてエッチングを行うことで 、エッチングレジスト層の無い第 1銅層の部位をエッチング除去して、異種金属層を 残した第 2回路を形成し、エッチングレジスト剥離することで、第 2回路の異種金属層 を露出させる第 2銅エッチング工程。
工程 4— e : 更に、異種金属選択エッチング液を用いて第 2回路の表面にある異種 金属層のみを除去し、最終的な第 2回路形状を形成しプリント配線板とする異種金属 層除去工程。
[0037] そして、当該両面プリント配線板を得ようとする場合には、上記工程 4— aと工程 4— bとの間に層間導通手段形成工程を設けることが可能である。
[0038] 更に、ここで用いるクラッド複合材の基材との張り合わせ面には、基材との密着性を 向上させるための密着性向上処理を施すことも好ま ヽ。
[0039] 両面プリント配線板の製造方法(2) : ここで言う両面プリント配線板の製造方法も、 片面側の同一基準平面に厚さの異なる第 1回路と第 2回路とが併存する両面プリント 配線板の製造方法であって、以下に示す以下に示す工程 5— a〜工程 5— dを備え ることを特徴とするちのである。
[0040] 工程 5— a: 第 1銅層 Z異種金属層 Z第 2銅層の 3層が順次積層したクラッド複合材 は、異種金属層が銅との選択エッチング可能な金属成分で構成したものであり、この クラッド複合材を用いて、第 2銅層のみをエッチング加工して、片面にエッチング回路 ノ ターンを形成し、回路パターン付クラッド複合材を得るクラッド複合材エッチングェ 程。
工程 5— b : 当該回路パターン付クラッド複合材と、銅箔とを用いて、絶縁層を構成 する基材の各々一面側に張り合わせ、金属張積層板とする積層工程。
工程 5— c: 絶縁層の一面側に位置するクラッド複合材の第 1銅層及び他面側の銅 箔層にエッチングレジスト層を形成し、エッチング回路パターンを露光し、現像し、銅 選択エッチング液を用いて外層に位置する第 1銅層及び銅箔を所望の回路形状に エッチング加工し、エッチングレジスト剥離を行うことで、クラッド複合材は不要な第 1 銅層を除去し異種金属層を露出させ、銅箔は所望の回路形状とする第 1銅エツチン グ工程。
工程 5— d : 第 1銅エッチング工程が終了し、外層に一時的に形成した回路間に露 出した異種金属層を異種金属選択エッチング液を用いてエッチング除去し、第 1回 路、第 2回路及び銅箔回路を形成しプリント配線板とする第 1異種金属エッチングェ 程。
[0041] そして、当該両面プリント配線板を得る場合には、上記工程 5— bと工程 5— cとの間 に層間導通手段形成工程を設けることが可能である。
[0042] また、回路パターン付クラッド複合材は、その基材とのエッチング回路パターン面に 露出した異種金属層を除去したものを用いる事も可能である。
[0043] 更に、回路パターン付クラッド複合材は、その基材とのエッチング回路パターン面 に基材との密着性を向上させるための密着性向上処理を施したものを用いる事も好 ましい。
[0044] 多層プリント配線板の製造方法(1) : 所謂多層プリント配線板の製造方法は、両 面プリント配線板を製造する場合の、絶縁層内部に内層コア材を含ませたものである 。従って、内層回路を備えた内層コア材の表面に位置する絶縁層の同一基準平面 に厚さの異なる第 1回路と第 2回路とが併存する回路層を備えたプリント配線板の製 造方法であって、以下に示す工程 6— a〜工程 6— eを備えることを特徴とするもので ある。
[0045] 工程 6— a : 第 1銅層 Z異種金属層 Z第 2銅層の 3層が順次積層したクラッド複合材 は、異種金属層が銅との選択エッチング可能な金属成分で構成したものであり、この クラッド複合材を、内層コア材の表面に絶縁層を介して張り合わせ、多層金属張積層 板とする積層工程。
工程 6— b : 当該多層金属張積層板の外層に位置する第 1銅層にエッチングレジス ト層を形成し、エッチング回路パターンを露光し、現像し、銅選択エッチング液を用い て外層に位置する第 1銅層を所望の回路形状にエッチング加工し、エッチングレジス ト剥離を行うことで、不要な第 1銅層を除去した部位にて、異種金属層を露出させる 第 1銅エッチング工程。
工程 6— c : 第 1銅エッチング工程が終了し、外層に一時的に形成した回路間に露 出した異種金属層を異種金属選択エッチング液を用いてエッチング除去し、第 1回 路形状を形成する第 1異種金属エッチング工程。 工程 6— d : 第 1異種金属エッチング工程の終了後、第 1回路とする部位にのみエツ チングレジスト層を再度形成し、銅選択エッチング液を用いてエッチングを行うことで 、エッチングレジスト層の無い第 1銅層の部位をエッチング除去して、異種金属層を 残した第 2回路を形成し、エッチングレジスト剥離することで、第 2回路の異種金属層 を露出させる第 2銅エッチング工程。
工程 6— e : 更に、異種金属選択エッチング液を用いて第 2回路の表面にある異種 金属層のみを除去し、最終的な第 2回路形状を形成しプリント配線板とする異種金属 層除去工程。
[0046] そして、前記工程 6— aと工程 6— bとの間に、当該金属張積層板の絶縁層の両面 に位置するクラッド複合材と内層回路との電気的導通を確保するためのスルーホー ル、ビアホール等を形成する層間導通手段形成工程を設ける事が可能である。
[0047] 更に、ここで用いるクラッド複合材の基材との張り合わせ面には、基材との密着性を 向上させるための密着性向上処理を施すことも好ま ヽ。
[0048] 多層プリント配線板の製造方法(2) : もう一つの多層プリント配線板の製造方法は 、内層回路を備えた内層コア材の表面に位置する絶縁層の同一基準平面に厚さの 異なる第 1回路と第 2回路とが併存する回路層を備えたプリント配線板の製造方法で あって、以下に示す工程 7— a〜工程 7— dを備えることを特徴とするものである。
[0049] 工程 7— a: 第 1銅層 Z異種金属層 Z第 2銅層の 3層が順次積層したクラッド複合材 は、異種金属層が銅との選択エッチング可能な金属成分で構成したものであり、この クラッド複合材を用いて、銅選択エッチング液で第 2銅層のみをエッチング加工して、 片面にエッチング回路パターンを形成し、回路パターン付クラッド複合材を得るクラッ ド複合材エッチング工程。
工程 7—b : 内層コア材の両面に絶縁層を設け、この絶縁層の両面に、クラッド複合 材エッチング工程で得られた回路パターン付クラッド複合材のエッチング回路パター ン面を基材表面に当接させ、張り合わせて当該エッチングパターンが絶縁層内に埋 設した状態の多層金属張積層板とする積層工程。
工程 7— c : 前記多層金属張積層板の外層面にある第 1銅層にエッチングレジスト 層を形成し、エッチング回路パターンを露光し、現像し、銅選択エッチング液を用い て外層に位置する第 1銅層を所望の回路形状にエッチング加工し、エッチングレジス ト剥離を行うことで、不要な第 1銅層を除去する第 1銅エッチング工程。
工程 7— d: 第 1銅エッチング工程が終了し、外層に一時的に形成した回路の間に 露出した異種金属層を異種金属選択エッチング液を用いてエッチング除去し、第 1 回路 8と第 2回路 9とを同時に完成させ、多層プリント配線板とする第 1異種金属エツ チング工程。
[0050] そして、前記工程 7— bと工程 7— cとの間に、当該金属張積層板の絶縁層の両面 に位置する回路パターン付クラッド複合材と内層回路との電気的導通を確保するた めのスルーホール、ビアホール等を形成する層間導通手段形成工程を設けることも できる。
[0051] また、回路パターン付クラッド複合材は、その基材とのエッチング回路パターン面に 露出した異種金属層を除去したものを用いる事も可能である。
[0052] 更に、回路パターン付クラッド複合材は、その基材とのエッチング回路パターン面 に基材との密着性を向上させるための密着性向上処理を施したものを用いる事も好 ましい。
[0053] そして、上記製造方法にお!、て用いる前記クラッド複合材は、当該異種金属層に 銅との選択エッチングの可能なニッケル、スズ、アルミニウム、チタン及びこれらの合 金の!/、ずれかを用いる事が好まし!/、。
[0054] また、前記クラッド複合材として、第 1銅層 Z異種金属層 Z第 2銅層の構成におい て、トータノレ厚さ力 μ m〜2000 μ mであり、異種金属層の厚さ力 0. 01 μ m〜5 μ mであるものを用いる事が好まし!/、。
[0055] 更に、前記クラッド複合材として、第 1銅層 Z異種金属層 Z第 2銅層の構成に於い て、 3層のトータル厚さが 10 μ m〜2000 μ m、第 1銅層と第 2銅層とのトータル厚さ 力 m〜1600 μ mであり、異種金属層がクラッド複合材のトータル厚さの 50%〜8 0%厚さであり、銅との選択エッチング可能な金属材で構成したものを用いることも好 ましい。また、異種金属層を銅よりも軽量なアルミニウム系成分を用いることで、軽量 化プリント配線板の製造が可能となる。特に、軽量ィ匕プリント配線板を製造する場合 には、クラッド複合材のトータル厚さの 50%〜80%厚さのアルミニウム系成分の厚さ とすることが好ましぐクラッド複合材のトータル厚さが 10 μ m〜2000 μ mとすると、 第 1銅層と第 2銅層とのトータル厚さが 5 μ m〜1600 μ mであること力 より好ましい のである。
発明の効果
[0056] 本件発明に係るプリント配線板は、回路断面積を確保しなければならない部分は 導体厚を厚くして対応でき、基板面積の実質的縮小化を可能とする事が出来る。そ して、回路厚の異なる回路を同一基準平面内に形成することで、電気的特性及び用 途の異なる回路を同一基準平面上形成したプリント配線板となる。また、プリント配線 板の突出した回路部を放熱フィンと同様に機能させ、放熱用回路又は放熱板として 利用できることも可能となる。
[0057] また、本件発明に係るプリント配線板の製造方法は、 2層の銅層の間に異種金属層 として、銅との選択エッチング可能な異種金属層を含むクラッド複合材を用いることで 、従来のプリント配線板の積層技術、エッチング方法及び装置を利用して、効率の良 V、本件発明に係るプリント配線板の生産を可能とする。
発明を実施するための最良の形態
[0058] 以下、本件発明に係るプリント配線板の製造形態に関して述べるが、これらの製造 においては、第 1銅層 Z異種金属層 Z第 2銅層の層構成を持つクラッド複合材を用 いることが共通している。
[0059] <片面又は両面プリント配線板の製造形態(1) >
この製造形態では、クラッド複合材を出発材料として、所謂片面プリント配線板又は 両面プリント配線板を製造するのである。本件明細書では、同一基準平面内に厚さ の異なる第 1回路と第 2回路とが併存する回路層を備えた片面若しくは両面プリント 配線板の製造方法であって、以下に示す工程 1— a〜工程 1—eを備えることを特徴 とするプリント配線板の製造方法を採用する。以下、各工程ごとに説明する。なお、 以下の説明に際して、片面プリント配線板については図 2〜図 4、両面プリント配線板 については図 5〜図 7を参照する。
[0060] 工程 1 a: この工程は、第 1銅層 Z異種金属層 Z第 2銅層の 3層が順次積層したク ラッド複合材を用いる。そして、異種金属層が銅との選択エッチング可能な金属成分 で構成したものであり、図 2 (a)に示すように、このクラッド複合材 2 (第 1銅層 3、異種 金属層 4、第 2銅層 5)を絶縁層を構成する基材 (ガラス繊維ゃァラミド繊維等の骨格 材にエポキシ榭脂等を含浸乾燥させたプリプレダ、ポリイミド榭脂フィルム等) 6に張り 合わせ、図 2 (b)の金属張積層板 7とする積層工程である。このときの積層条件には、 熱間プレス加工を採用するが、用いる基材の種類に応じて、適宜プレス条件を変更 すれば足りる。なお、誤解を招力ないために明示しておくが、説明の都合上、第 1銅 層と第 2銅層と区分して 、るが、 、ずれの銅層の方が厚 、銅層であるかの限定はな い。以下、同様である。
[0061] そして、クラッド複合材 2の基材 6とのに張り合わせ面には、予め密着性向上処理を 施して、基材との密着性を向上させることで、プリント配線板にカ卩ェした後のヒートショ ックによるデラミネーシヨン、ミーズリング等の不良発生を効率よく防止出来る。ここで 言う密着性向上処理は、所謂黒化処理 (耐ピンクリング性を考慮した還元黒ィ匕処理を 含む)に代表されるものである。し力しながら、黒ィ匕処理の代わりに硫酸-過酸ィ匕水素 系マイクロエッチング剤(例えば、メック社製のメックエッチボンド等)を用いて、銅表面 の粗ィ匕を行うなどの方法、ャケ銅メツキにより微細な銅粒子を析出付着させる等の手 法を採用する事が可能である。以上及び以下において、密着性向上処理と称した場 合には、これらの処理を意味するものとする。
[0062] そして、両面プリント配線板を製造するためには、この積層工程において、図 5 (a) に示すように、このクラッド複合材 2 (第 1銅層 3、異種金属層 4、第 2銅層 5)を絶縁層 を構成する基材 6の両面に張り合わせ、図 5 (b)の両面金属張積層板 7'とするのであ る。なお、両面プリント配線板を製造する場合においても、クラッド複合材 2の基材 6と の接触面には、予め密着性向上処理を施すことも可能である。
[0063] ここで、クラッド複合材は、(i)銅箔、異種金属箔、銅箔を順次積層して一体化させ たもの、(ii)一枚の銅層の片面に異種金属層を設け、その異種金属層の上に、他の 銅箔を重ね合わせて圧延加工することで一体ィ匕させたものを用いることが好まし 、。 しかしながら、クラッドする場合の層間密着性を良好に保っため、真空雰囲気中で、 クラッドする相互の層の接合面を活性ィ匕して、低圧下率で圧延することにより接合し たクラッド複合材を用いることが最も好ましい。確かに、このようなクラッド複合材は、 電解法で製造することも可能である力 異種金属層にアルミニウム又はアルミニウム 合金を用いた場合、そのアルミニウム又はアルミニウム合金表面に銅を直接電着する ことは不可能であり、圧延加工法を用いる方が容易に一体ィ匕でき、し力も異種金属層 の厚さ制御が容易となるのである。また、電解で銅層の上に、異種金属層を設けると 、析出欠陥等を生じやすくなるが、一度圧延加工することで、異種金属層の欠陥消 滅、膜厚の均一性が飛躍的に高まるのである。
[0064] そして、図 5 (b)に示す両面金属張積層板 7'の場合、両面にある導体層であるクラ ッド複合材間の電気的導通を確保するため、スルーホール若しくはビアホール 22を 形成し、この孔内にメツキ処理を施し、図 6 (c)に示すように層間の電気的導通を確保 するのである。これを本件明細書では、層間導通手段形成と称している。このとき、メ ツキ法を採用すると、キヤタラィズして、無電解銅メツキを施し、電解メツキ法でメツキ 層 23が形成されるため、一般的には外層の第 1銅層の表面にもメツキ層 23が形成さ れることとなる。但し、この層間導通手段形成は、必ずしも必要な工程ではなぐ基板 設計によっては不要な場合もありうる。以下、同様である。そして、例えば、厳密には メツキ層 23の表面にエッチングレジスト 10を設ける場合でも、説明の都合上、当業者 に理解出来る限り、第 1銅層 3上にエッチングレジスト 10を設ける等の表現を用 V、る 場合もある。
[0065] 工程 l—b : この第 1銅エッチング工程では、図 2 (c)に示すように、当該金属張積層 板の外層に位置する第 1銅層 3にエッチングレジスト層 10を形成し、エッチング回路 ノ ターンを露光し、現像し、銅選択エッチング液を用いて外層に位置する第 1銅層 3 を所望の回路形状 (一時回路 21)にエッチング加工し、エッチングレジスト剥離を行う ことで、不要な第 1銅層を除去し、一時回路 21を形成し、異種金属層 4を露出させ、 図 3 (d)の状態とする。そして、回路設計を変更し、同一厚さの回路のみを形成する 場合などは、図 2 (c)の中央のエッチングレジスト層を残留させずに銅の選択エッチ ングを行うことで、図 3 (d)に示した中央の一時回路 21が無くなり、効率的なプリント 配線板製造も可能となる。ここで言う銅選択エッチング液とは、異種金属を溶解させ ることなく、専ら銅のみを溶解させるために用いる溶液であって、アンモニア系アル力 リエッチング液を用いることが最も簡便で好ましい。以下、銅選択エッチング液に関し ては、同様である。なお、本件明細書では、最終的な回路形状となる前の、中間的な 回路形状を全て「一時回路 21」と称して、説明している。
[0066] そして、両面プリント配線板を製造する場合には、図 6 (d)に示すように層間導通手 段形成後の第 1銅層 3にエッチングレジスト層 10を形成し、エッチング回路パターン を露光し、現像し、銅選択エッチング液を用いて外層に位置する第 1銅層 3を所望の 回路形状にエッチング加工し、エッチングレジスト剥離を行うことで、不要な第 1銅層 を除去し、一時回路 21を形成し、異種金属層 4を露出させ、図 6 (e)の状態とする。ま た、両面プリント配線板の場合でも、回路設計を変更し、同一厚さの回路のみを形成 する場合などは、図 6 (d)の中央のエッチングレジスト層を残留させずに銅の選択ェ ツチングを行うことで、図 6 (e)に示した中央の一時回路 21が無くなり、効率的なプリ ント配線板製造も可能となる。
[0067] 工程 1— c : この第 1異種金属エッチング工程では、第 1銅エッチング工程が終了す ると、外層に形成した一時回路 21間に露出した異種金属層を異種金属選択エッチ ング液を用いてエッチング除去し、図 3 (e)に示すようになる。この工程は、両面プリン ト配線板を製造する場合も同様であり、図 6 (e)に示したように、外層に一時的に形成 した回路間に露出した異種金属層を異種金属選択エッチング液を用いてエッチング 除去し、図 7 (f)に示すようになる。
[0068] このときに用いる異種金属選択エッチング液は、銅を溶解させることなぐ専ら異種 金属のみを溶解させるために用いる溶液であれば、特に限定を要するものではな ヽ 。しカゝしながら、異種金属の種類に応じて適宜調整したエッチング液を使い分けるこ とが好ましい。異種金属がニッケル系金属成分の場合は塩素系、硫酸系等の酸性ェ ツチング液を、異種金属がスズ系金属成分の場合は酸性エッチング液を、異種金属 がアルミニウム系金属成分の場合はアルカリ系エッチング液を用いる等である。以下
、異種金属選択エッチング液に関しては、同様である。
[0069] 工程 l— d : この第 2銅エッチング工程では、第 1異種金属エッチング工程の終了後 、図 3 (f)に示すように、第 1回路とする部位にのみエッチングレジスト層 10を再度形 成し、銅選択エッチング液を用いてエッチングを行うことで、エッチングレジスト層 10 の無い第 1銅層の部位をエッチング除去して、第 1回路 8の形状を完成させ、異種金 属層を残した第 2回路 9を形成し、エッチングレジスト剥離することで、第 2回路 9の異 種金属層 4を露出させる。この工程は、両面プリント配線板を製造する場合も同様で あり、第 1異種金属エッチング工程の終了後、図 7 (g)に示すように、第 1回路とする 部位にのみエッチングレジスト層 10を再度形成し、銅選択エッチング液を用いてエツ チングを行うことで、エッチングレジスト層 10の無 、第 1銅層の部位をエッチング除去 して、第 1回路 8の形状を完成させ、異種金属層 4を残した第 2回路 9を形成し、エツ チングレジスト剥離することで、第 2回路 9の異種金属層 4を露出させる。
[0070] 工程 1— e : 更に、第 2異種金属エッチング工程では、異種金属選択エッチング液を 用いて第 2回路の表面にある異種金属層のみを除去し、最終的な第 2回路 9の形状 を形成し図 4 (h)に示す如きプリント配線板 laが得られる。この工程は、両面プリント 配線板を製造する場合も同様であり、異種金属選択エッチング液を用いて第 2回路 の表面にある異種金属層のみを除去し、最終的な第 2回路 9の形状を形成し図 7 (h) に示す如きプリント配線板 lbが得られる。
[0071] <片面又は両面プリント配線板の製造形態(2) >
この製造形態では、クラッド複合材を出発材料として、所謂片面プリント配線板又は 両面プリント配線板を製造するのである。本件明細書では、同一基準平面内に厚さ の異なる第 1回路と第 2回路とが併存する回路層を備え、且つ、一方の回路が絶縁 層内に埋設配置された片面若しくは両面プリント配線板の製造方法であって、以下 に示す工程 1— a〜工程 l—dを備えることを特徴とするプリント配線板の製造方法を 採用する。以下、各工程ごとに説明する。なお、以下の説明に際して、片面プリント配 線板については図 8〜図 10、両面プリント配線板については図 13〜図 15を参照す る。
[0072] 工程 2— a : この製造形態では、最初にクラッド複合材エッチング工程で、第 1銅層 Z異種金属層 Z第 2銅層の 3層が順次積層した状態のクラッド複合材は、異種金属 層が銅との選択エッチング可能な金属成分で構成したものであり、このクラッド複合 材 2を用いて、銅選択エッチング液で第 2銅層のみをエッチング加工して、片面にェ ツチング回路パターンを形成し、図 8 (c)に示す第 1回路パターン付クラッド複合材 11 を得る。この第 1回路パターン付クラッド複合材 11は、クラッド複合材 2の両面にエツ チングレジスト層 10を形成し、図 8 (b)に示すように第 2銅層のエッチングレジスト層の みに、一時回路 21を形成するためのエッチング回路パターンを露光し、現像し、銅 選択エッチング液を用いて外層に位置する第 2銅層 5を所望の回路形状にエツチン グカロェし、エッチングレジスト剥離を行うことで得られる。
[0073] また、図 8 (c)に示す第 1回路パターン付クラッド複合材 11の一時回路 21の間に露 出した異種金属層を、異種金属選択エッチング液により除去して、図 8 (d)に示す第 2回路パターン付クラッド複合材 11 'として使用することも可能である。
[0074] そして、第 1回路パターン付クラッド複合材 11と第 2回路パターン付クラッド複合材 1 1 'とのエッチング回路パターン面には、予め密着性向上処理を施して、基材との密 着性を向上させることで、プリント配線板に加工した後のヒートショックによるデラミネ ーシヨン、ミーズリング等の不良発生を効率よく防止ことが好ましい。
[0075] 従って、以下の工程の説明では、図 8 (c)に示す第 1回路パターン付クラッド複合材 11を用いる場合と、図 8 (d)に示す第 2回路パターン付クラッド複合材 11,を用いる場 合とを分別して説明する必要のある場合のみ、分けて説明する。
[0076] 工程 2— b : 積層工程に関して説明する。第 1回路パターン付クラッド複合材 11を用 いる場合は、図 9 (e— I)に示すように、クラッド複合材エッチング工程で得られた第 1 回路パターン付クラッド複合材 11の一時回路 21を形成したエッチング回路パターン 面を基材 6の表面に当接させ、基材表面に張り合わせ、図 9 (f I)に示すようなエツ チングパターンが絶縁層内に埋設した状態の金属張積層板 7とする。
[0077] そして、第 2回路パターン付クラッド複合材 11 'を用いる場合は、図 9 (e— Π)に示す ように、クラッド複合材エッチング工程で得られた第 2回路パターン付クラッド複合材 1 1,の一時回路 21を形成したエッチング回路パターン面を基材 6の表面に当接させ、 基材表面に張り合わせ、図 9 (f—II)に示すようなエッチングパターンが絶縁層内に 埋設した状態の金属張積層板 7とする。第 1回路パターン付クラッド複合材 11を用い た場合との違いは、一時回路 21と第 1銅層との間にある異種金属層 4も、基材 6の内 部に埋め込まれた状態になる点である。
[0078] そして、両面プリント配線板を製造するためには、この積層工程において、図 13 (a )に示すクラッド複合材 2を出発材料として、図 13 (b)に示す第 1回路パターン付クラ ッド複合材 11を 2枚用いて、図 13 (c)に示すように、その一時回路 21を形成したエツ チング回路パターン面を絶縁層を構成する基材 6の両面に張り合わせ、図 14 (d)の ように一時回路 21が絶縁層 6の内部に埋設した状態の両面金属張積層板 7'とする のである。なお、両面プリント配線板を製造プロセスに関しては、第 1回路パターン付 クラッド複合材 11を用いる場合をもって例示的に説明する。なお、両面プリント配線 板を製造する場合においても、第 1回路パターン付クラッド複合材 11に替えて、第 2 回路パターン付クラッド複合材 11 'を用いることができ、必要に応じて第 1回路パター ン付クラッド複合材 11と第 2回路パターン付クラッド複合材 11,とのエッチング回路パ ターン面には、予め密着性向上処理を施すことも可能である。
[0079] ここで言う、クラッド複合材は、上述したものと同様である。そして、図 14 (d)に示す 両面金属張積層板 7'の場合、両面にある導体層である回路パターン付クラッド複合 材 11、 11 '間の電気的導通を確保するため、スルーホール若しくはビアホール 22を 形成し、この孔内にメツキ処理を施し、図 14 (e)に示すように層間の電気的導通を確 保するのである。この層間導通手段形成に関しても、上述したと同様であるため、重 複した記載を避けるため、説明を省略する。
[0080] 工程 2— c : この第 1銅エッチング工程では、第 1回路パターン付クラッド複合材 11を 用いた場合は図 9 (g— I)に示すように、第 2回路パターン付クラッド複合材 11 'を用 いた場合は図 9 (g—II)に示すように、金属張積層板 7の外層面にある第 1銅層 3に エッチングレジスト層 10を形成し、エッチング回路パターンを露光し、現像し、銅選択 エッチング液を用いて外層に位置する第 1銅層 3を所望の回路形状にエッチングカロ ェし、エッチングレジスト剥離を行う。その結果、第 1回路パターン付クラッド複合材 1 1を用いた場合は、図 10 (h— I)に示すように、不要な第 1銅層 3を除去し、一時回路 21を形成し、異種金属層 4の一部を露出させる。一方、第 2回路パターン付クラッド 複合材 11 'を用いた場合は図 10 (h— Π)に示すように、第 1回路 8が完成し、第 2回 路の表面に異種金属層 4が残留した状態となる。
[0081] そして、両面プリント配線板を製造する場合にも、図 14 (f)に示すように金属張積層 板 7の外層面にある第 1銅層 3にエッチングレジスト層 10を形成し、エッチング回路パ ターンを露光し、現像し、銅選択エッチング液を用いて外層に位置する第 1銅層 3を 所望の回路形状にエッチング加工し、エッチングレジスト剥離を行うことで、不要な第
1銅層 3を除去し、一時回路 21を形成し、異種金属層 4の一部を露出させ、図 15 (g) の状態とする。
[0082] 工程 2— d : この異種金属エッチング工程では、第 1銅エッチング工程が終了し、異 種金属選択エッチング液を用いて、異種金属層をエッチング除去して第 1回路と第 2 回路とを形成する。従って、第 1回路パターン付クラッド複合材 11を用いた場合は、 図 10 (i— I)に示すごときプリント配線板 lcとなる。一方、第 2回路パターン付クラッド 複合材 11,を用いた場合は、図 10 (i— Π)に示すごときプリント配線板 lcとなる。
[0083] そして、両面プリント配線板を製造する場合にも、第 1銅エッチング工程が終了し、 異種金属選択エッチング液を用いて、異種金属層をエッチング除去して第 1回路と 第 2回路とを形成し、図 15 (h)に示すごときプリント配線板 Idとなる。
[0084] <片面又は両面プリント配線板の製造形態(3) >
この製造形態では、クラッド複合材を出発材料として、所謂片面プリント配線板又は 両面プリント配線板を製造するのである。本件明細書では、同一基準平面内に厚さ の異なる第 1回路と第 2回路とが併存する回路層を備え、且つ、一方の回路が絶縁 層内に埋設配置された片面若しくは両面プリント配線板の製造方法であって、以下 に示す工程 3— a〜工程 3— cを備えることを特徴とするプリント配線板の製造方法を 採用する。以下、各工程ごとに説明する。なお、以下の説明に際して、片面プリント配 線板について図 11〜図 12を参照して説明する力 両面プリント配線板についての 図示は省略する。
[0085] 工程 3— a : この製造形態では、最初にクラッド複合材エッチング工程で、第 1銅層 Z異種金属層 Z第 2銅層の 3層が順次積層した状態のクラッド複合材は、異種金属 層が銅との選択エッチング可能な金属成分で構成したものであり、このクラッド複合 材 2を用いて、銅選択エッチング液で第 2銅層のみをエッチング加工して、片面にェ ツチング回路パターンを形成し、図 8 (c)に示す第 1回路パターン付クラッド複合材 11 を得る。そして、更に、図 8 (c)に示す第 1回路パターン付クラッド複合材 11の一時回 路 21の間に露出した異種金属層を、異種金属選択エッチング液により除去して、図 8 (d) ( =図 11 (a) )に示す第 2回路パターン付クラッド複合材 11,を使用するのが前 提である。ここでの第 2銅層のエッチングは、主に厚い回路 (説明上は第 1回路に相 当)の回路形成パターンに合わせたエッチングとして行われる。
[0086] そして、第 2回路パターン付クラッド複合材 11,とのエッチング回路パターン面には 、予め密着性向上処理を施して、基材との密着性を向上させることで、プリント配線板 に加工した後のヒートショックによるデラミネーシヨン、ミーズリング等の不良発生を効 率よく防止ことが好ましい。
[0087] 工程 3— b : 積層工程に関して説明する。図 11 (a)に示す第 2回路パターン付クラッ ド複合材 11 'を用い、図 11 (b)に示すように、クラッド複合材エッチング工程で得られ た第 2回路パターン付クラッド複合材 11 'の一時回路 21を形成したエッチング回路パ ターン面を基材 6の表面に当接させ、基材表面に張り合わせ、図 11 (c)に示すような エッチングパターンが絶縁層内に埋設した状態の金属張積層板 7とする。
[0088] そして、両面プリント配線板を製造するためには、この積層工程において、図 11 (a )に示す第 2回路パターン付クラッド複合材 11,を 2枚用いて、図 11 (b)に示すように 、その一時回路 21を形成したエッチング回路パターン面を絶縁層を構成する基材 6 の両面に張り合わせ両面金属張積層板とすればよいのである。なお、両面プリント配 線板の製造プロセスの図示は省略する。そして、両面金属張積層板とした場合には 、この段階で両面にある回路パターン付クラッド複合材 11 '間の電気的導通を確保 するため、スルーホール若しくはビアホール等の層間の電気的導通を確保する層間 導通手段形成を行うことが出来る。これらに関しては、上述したと同様であるため、重 複した記載を避けるため、説明を省略する。
[0089] 工程 3— c : この第 1銅エッチング工程では、図 12 (d)に示すように、金属張積層板 7の外層面にある第 1銅層 3にエッチングレジスト層 10を形成し、エッチング回路パタ ーンを露光し、現像し、銅選択エッチング液を用いて外層に位置する第 1銅層 3を所 望の回路形状にエッチング加工し、エッチングレジスト剥離を行う。その結果、図 12 ( e)に示すように、第 2回路パターン付クラッド複合材 11 'の、予めエッチングしていた 第 2銅層の残留部分が第 1回路 8を形成し、第 1銅層のみであった部分がエッチング され薄い第 2回路 9となり、プリント配線板 lc 'となる。そして、その後の異種金属層の 異種金属エッチングが不要となるのである。 [0090] <両面プリント配線板の製造形態(1) >
この製造形態では、クラッド複合材を出発材料として、所謂両面プリント配線板を製 造する場合について述べるが、特に両面プリント配線板の片面側の同一基準平面に のみ、厚さの異なる第 1回路と第 2回路とが併存するものであり、以下に示す工程 4 a〜工程 4— eを備えることを特徴とするものである。なお、以下の説明に際して、図 1 6〜図 18を参照する。
[0091] 工程 4— a : この積層工程では、図 16 (a)に示すように、絶縁層を構成する基材の各 々一面側に、上述のクラッド複合材 2と、通常の銅箔 12とを積層し、張り合わせること で、図 16 (b)に示す両面金属張積層板 7 'とする。
[0092] そして、層間導通手段形成工程を設ける場合は、当該両面金属張積層板 7'の絶 縁層の両面に位置するクラッド複合材 2と銅箔 12との間の電気的導通を確保するた めのスルーホール若しくはビアホール 22を形成する。この形成方法は、上述のとおり であり、ここでの重複した説明は省略する。
[0093] なお、クラッド複合材 2の基材 6との張り合わせ面には、予め密着性向上処理を施し て、基材との密着性を向上させることで、プリント配線板にカ卩ェした後のヒートショック によるデラミネーシヨン、ミーズリング等の不良発生を効率よく防止出来る。ここで言う 密着性向上処理は、上述のとおりである。
[0094] 工程 4 b : この第 1銅エッチング工程では、図 17 (d)に示すように、絶縁層の一面 側に位置するクラッド複合材 2の第 1銅層 3及び他面側の銅箔層 12にエッチングレジ スト層 10を形成し、エッチング回路パターンを露光し、現像し、銅選択エッチング液を 用 ヽて外層に位置する第 1銅層 3及び銅箔 12を所望の回路形状にエッチング加ェ し、エッチングレジスト剥離を行うことで、図 17 (e)に示すように、不要な第 1銅層 3を 除去し、一時回路 21を形成し、一時回路 21間に異種金属層 4を露出させ、銅箔 12 は所望の回路形状とする。
[0095] 工程 4— c : この第 1異種金属エッチング工程では、第 1銅エッチング工程が終了し 、外層に形成した一時回路 21の間に露出した異種金属層 4を異種金属選択エッチ ング液を用いてエッチング除去し、図 17 (f)の状態とする。
[0096] 工程 4— d : この第 2銅エッチング工程では、第 1異種金属エッチング工程の終了後 、図 18 (g)に示すように、第 1回路とする部位及び銅箔層をエッチングして形成した 回路にのみエッチングレジスト層 10を再度形成し、銅選択エッチング液を用いてエツ チングを行うことで、エッチングレジスト層の無 、第 1銅層の部位をエッチング除去し て、エッチングレジスト剥離することで、図 18 (h)に示すように、第 1回路及び異種金 属層を残した第 2回路を形成する。
[0097] 工程 4 e : この第 2異種金属エッチング工程では、異種金属選択エッチング液を用 いて第 2回路の表面にある異種金属層のみを除去し、図 18 (i)に示すように、第 2回 路形状を形成しプリント配線板 1 eとする。
[0098] <両面プリント配線板の製造形態(2) >
この製造形態では、クラッド複合材を出発材料として、所謂両面プリント配線板を製 造する場合について述べるが、特に両面プリント配線板の片面側の同一基準平面に のみ、厚さの異なる第 1回路と第 2回路とが併存し、且つ、第 1回路若しくは第 2回路 の!、ずれか一方が絶縁層内に埋設配置されたものであり、以下に示す工程 5— a〜 工程 5 dを備えることを特徴とするものである。なお、以下の説明に際して、図 19〜 図 21を参照する。
[0099] 工程 5— a : このクラッド複合材エッチング工程は、上述したと同様であり、図 19 (a) に示したクラッド複合材 2を出発材料として、図 8に示すプロセスで図 19 (b)に示す第 1回路パターン付クラッド複合材 11を製造する工程である。また、この製造形態に於 V、ても、図 8 (d)に示す第 2回路パターン付クラッド複合材 11,として用いることも可能 である。しかしながら、第 1回路パターン付クラッド複合材 11を用いようが、第 2回路パ ターン付クラッド複合材 11 'を用いようが、以下の工程に関しての違いは、図 9及び図 10で対比して示した違いであり、当業者であれば容易に理解出来るため、以下のェ 程に関しては、第 1回路パターン付クラッド複合材 11を用いた説明のみとする。従つ て、単に「回路パターン付クラッド複合材 11」と称する。
[0100] なお、回路パターン付クラッド複合材 11、 11 'の基材 6との張り合わせ面には、予め 密着性向上処理を施して、基材との密着性を向上させることで、プリント配線板にカロ ェした後のヒートショックによるデラミネーシヨン、ミーズリング等の不良発生を効率よく 防止出来る。ここで言う密着性向上処理は、上述のとおりである。 [0101] 工程 5— b : この積層工程では、当該回路パターン付クラッド複合材 11と、銅箔 12と を用いて、図 19 (c)に示すように積層し、図 20 (d)に示すように絶縁層を構成する基 材の各々一面側に張り合わせ両面金属張積層板 7'とする。
[0102] そして、層間導通手段形成工程を設ける場合は、図 20 (e)に示すように、当該両面 金属張積層板 7'の絶縁層 6の両面に位置する回路パターン付クラッド複合材 11と銅 箔 12との間の電気的導通を確保するためのスルーホール若しくはビアホール 22を 形成する。この形成方法は、上述のとおりであり、ここでの重複した説明は省略する。
[0103] 工程 5— c : そして、第 1銅エッチング工程では、絶縁層の一面側に位置するクラッド 複合材の第 1銅層及び他面側の銅箔層にエッチングレジスト層 10を形成し、エッチ ング回路パターンを露光し、現像し、図 20 (f)に示す状態として、銅選択エッチング 液を用 、て外層に位置する第 1銅層及び銅箔を所望の回路形状にエッチング加ェ し、エッチングレジスト剥離を行うことで、図 21 (g)に示すように異種金属層 4を露出さ せる。
[0104] 工程 5— d : この第 1異種金属エッチング工程では、第 1銅エッチング工程が終了し 、外層に一時的に形成した回路間に露出した異種金属層 4を異種金属選択エツチン グ液を用いてエッチング除去し、図 21 (h)に示すように第 1回路 8、第 2回路 9及び銅 箔回路 13を形成しプリント配線板 Ifとする。
[0105] 以下、多層プリント配線板の製造形態に関して述べるが、多層プリント配線板の製 造フローは、基本的に両面プリント配線板の製造フローと同一であり、敢えて明示す る必要性は高くないものと考える。何故なら、上述した両面金属張積層板を製造する 際に用いる基材 6に替えて、「内層コア材」と「その内層コア材の両面に配置する基材 」とを用いれば良いからである。しかしながら、多層プリント配線板が本件発明の範疇 に含まれることを明確にするため、以下の多層プリント配線板の製造形態に関して述 ベる。
[0106] <多層プリント配線板の製造形態(1) >
この製造形態では、内層回路を備えた内層コア材の表面に位置する絶縁層の同一 基準平面に厚さの異なる第 1回路と第 2回路とが併存する回路層を備えた多層プリン ト配線板の製造形態に関して述べる。ここで言う多層プリント配線板の製造方法は、 以下に示す工程 6— a〜工程 6— eを備えることを特徴とするものである。なお、以下 の説明に際して、図 22〜図 25を参照する。
[0107] 工程 6— a : この積層工程では、内層コア材の片面又は両面に、プリプレダ等の絶 縁層構成材を介して、当該クラッド複合材を積層し、多層金属張積層板とするのであ る。即ち、図 22 (a)に両面にクラッド複合材 2を、絶縁層を構成する基材 6を介して、 内層コア材 14に張り合わせる場合の積層イメージを示している。そして、熱間プレス 加工を行うことで、図 22 (b)に示す多層金属張積層板 7 "とする。ここで内層コア材 1 4は、内層回路 15を備え、且つ、ビアホールを伴うものとして記載している力 内層コ ァ材の種類に関して特段の限定はなぐ所謂リジッド基板、フレキシブル基板等を広 く用いることが可能である。
[0108] そして、多層金属張積層板の両面にある導体層であるクラッド複合材 2と内層回路 15の間の電気的導通を確保するため、スルーホール若しくはビアホール 22を形成し 、この孔内にメツキ処理を施し、図 23 (c)に示すように層間の電気的導通を確保する のである。この層間導通手段形成は、上述のようにメツキ法を採用し、キヤタラィズし て、無電解銅メツキを施し、電解メツキ法でメツキ層 23が形成されるため、一般的には 外層の第 1銅層の表面にもメツキ層 23が形成されることとなる。但し、この層間導通手 段形成は、必ずしも必要な工程ではなぐ基板設計によっては不要な場合もありうる。
[0109] 工程 6— b : この第 1銅エッチング工程では、図 23 (d)に示すように当該多層金属張 積層板 7' 'の外層に位置する第 1銅層 3にエッチングレジスト層 10を形成し、エッチ ング回路パターンを露光し、現像し、銅選択エッチング液を用いて外層に位置する第 1銅層を所望の回路形状にエッチング加工し、エッチングレジスト剥離を行うことで、 図 23 (e)に示すように不要な第 1銅層を除去した部位にて一時回路 21を形成し、異 種金属層 4を露出させる。
[0110] 工程 6— c : この第 1異種金属エッチング工程では、第 1銅エッチング工程が終了し 、外層に形成した一時回路 21の間に露出した異種金属層 4を異種金属選択エッチ ング液を用いてエッチング除去し、図 23 (f)の状態とする。
[0111] 工程 6— d : この第 2銅エッチング工程では、第 1異種金属エッチング工程の終了後 、図 24 (g)に示すように、第 1回路とする部位にのみエッチングレジスト層 10を再度 形成し、銅選択エッチング液を用いてエッチングを行うことで、エッチングレジスト層 1 0の無い第 1銅層の部位をエッチング除去して、エッチングレジスト剥離することで、 図 24 (h)に示すように、第 1回路 8及び異種金属層 4を残した第 2回路を形成する。
[0112] 工程 6— e : この第 2異種金属エッチング工程では、異種金属選択エッチング液を用 いて第 2回路の表面にある異種金属層 4のみを除去し、図 25 (i)に示すように、第 2 回路 9の形状を形成し多層プリント配線板 lgとする。
[0113] く多層プリント配線板の製造形態(2) >
この製造形態では、内層回路を備えた内層コア材の表面に位置する絶縁層の同一 基準平面に厚さの異なる第 1回路と第 2回路とが併存し、且つ、いずれかの回路が絶 縁層内に埋設配置された多層プリント配線板の製造形態に関して述べる。ここで言う 多層プリント配線板の製造方法は、以下に示す工程 7— a〜工程 7— dを備えることを 特徴とするものである。なお、以下の説明に際して、図 26〜図 28を参照する。
[0114] 工程 7— a : このクラッド複合材エッチング工程は、上述したと同様であり、図 26 (a) に示すクラッド複合材 2は、図 8に示すプロセスで一時回路 21を備えた回路パターン 付クラッド複合材 11を製造する工程である。従って、ここでの説明は省略する。
[0115] また、この製造形態に於いても、図 8 (d)に示す第 2回路パターン付クラッド複合材 1 1 'として用いることも可能である。し力しながら、第 1回路パターン付クラッド複合材 11 を用いようが、第 2回路パターン付クラッド複合材 11 'を用いようが、以下の工程に関 しての違いは、図 9及び図 10で対比して示した違いであり、当業者であれば容易に 理解出来るため、以下の工程に関しては、第 1回路パターン付クラッド複合材 11を用 いた説明のみとする。従って、単に「回路パターン付クラッド複合材 11」と称する。
[0116] なお、回路パターン付クラッド複合材 11、 11 'の基材 6との張り合わせ面には、予め 密着性向上処理を施して、基材との密着性を向上させることで、プリント配線板にカロ ェした後のヒートショックによるデラミネーシヨン、ミーズリング等の不良発生を効率よく 防止出来る。ここで言う密着性向上処理は、上述のとおりである。
[0117] 工程 7—b : この積層工程では、内層コア材の片面又は両面に、プリプレダ等の絶 縁層構成材を介して、当該回路パターン付クラッド複合材 11のエッチング回路バタ ーン面を基材表面に当接させて積層し、多層金属張積層板とするのである。即ち、 図 26 (a)に両面に回路パターン付クラッド複合材 11を、絶縁層を構成する基材 6を 介して、内層コア材 14に張り合わせる場合の積層イメージを示している。そして、熱 間プレス力卩ェを行うことで、図 26 (b)に示すように、回路パターン付クラッド複合材 11 のエッチング回路パターン面にある一時回路 21が絶縁層 6に埋設した状態の多層 金属張積層板 7' 'とする。ここで言う内層コア材 14も、内層回路 15を備え、且つ、ビ ァホールを伴うものとして記載している力 内層コア材の種類に関して特段の限定は なぐ所謂リジッド基板、フレキシブル基板等を広く用いることが可能である。
[0118] そして、図 26 (b)から分力るように、両面にある導体層であるクラッド複合材 2と内層 回路 15の間の電気的導通を確保するため、スルーホール若しくはビアホール 22を 形成し、この孔内にメツキ処理を施し、図 27 (c)に示すように層間の電気的導通を確 保するのである。この層間導通手段形成は、上述のようにメツキ法を採用し、キヤタラ ィズして、無電解銅メツキを施し、電解メツキ法でメツキ層 23が形成されるため、一般 的には外層の第 1銅層の表面にもメツキ層 23が形成されることとなる。但し、この層間 導通手段形成は、必ずしも必要な工程ではなぐ基板設計によっては不要な場合も ありうる。
[0119] 工程 7— c : この第 1銅エッチング工程では、図 27 (d)に示すように当該多層金属張 積層板 7' 'の外層に位置する第 1銅層 3にエッチングレジスト層 10を形成し、エッチ ング回路パターンを露光し、現像し、銅選択エッチング液を用いて外層に位置する第 1銅層を所望の回路形状にエッチング加工し、エッチングレジスト剥離を行うことで、 図 28 (e)に示すように不要な第 1銅層を除去した部位にて一時回路 21を形成し、異 種金属層 4を露出させる。
[0120] 工程 7— d : この第 1異種金属エッチング工程では、第 1銅エッチング工程が終了し 、外層に形成した一時回路 21の間に露出した異種金属層 4を異種金属選択エッチ ング液を用いてエッチング除去し、第 1回路 8と第 2回路 9とを同時に完成させ、図 28 (f)の状態の多層プリント配線板 lhとする。
[0121] <製造におけるその他の態様 >
上記製造方法にぉ 、て用いる前記クラッド複合材は、本件発明に係るプリント配線 板を製造するため、当該異種金属層に銅との選択エッチングの可能なニッケル、スズ 、アルミニウム、チタン及びこれらの合金のいずれかを用いる事が好ましい。これらに 関しては上述したとおりである。
[0122] そして、前記クラッド複合材として、第 1銅層 Z異種金属層 Z第 2銅層の構成にお いて、トータノレ厚さカ 10 111〜2000 111でぁり、異種金属層の厚さ力^). 01 /ζ πι〜5 μ mであるものを用いる事が好ましい。このときの異種金属層の厚さ力 0. 01 μ m未 満の場合には、銅エッチング液に対するバリアとしての機能を果たし得えない。一方 、異種金属層の厚さが 5 mを超えると、エッチング法で容易に除去する事が出来な くなるのである。
[0123] 更に、前記クラッド複合材として、第 1銅層 Z異種金属層 Z第 2銅層の構成に於い て、 3層のトータル厚さが 10 μ m〜2000 μ m、第 1銅層と第 2銅層とのトータル厚さ 力 m〜1600 μ mであり、異種金属層がクラッド複合材のトータル厚さの 50%〜8 0%厚さであり、銅との選択エッチング可能な金属材で構成したものを用いることも好 ましい。特に、軽量ィ匕プリント配線板を製造する場合には、クラッド複合材のトータル 厚さの 50%〜80%厚さのアルミニウム系成分の厚さとすることが好ましぐクラッド複 合材のトータル厚さが 10 μ m〜2000 μ mとすると、第 1銅層と第 2銅層とのトータル 厚さが 5 μ m〜1600 μ mであることが、より好ましいのである。これは、導体層を構成 する金属成分として、銅よりも軽量な成分を多量に使用することにより、プリント配線 板としてのトータル重量を軽量ィ匕するのである。このときの異種金属層には、アルミ- ゥム又はジュラルミン等のアルミニウム系の合金を採用することを想定して 、る。但し 、銅よりも軽量の合金として、モリブデン系の合金も好ましい。そして、係る場合の異 種金属層の厚さの下限値をクラッド複合材のトータル厚さの 50%とした。これは、プリ ント配線板の場合、基材重量が存在するため軽量ィ匕効果を明確に認識するための 最低限の厚さと考えた力 である。一方、異種金属層の厚さがクラッド複合材のトータ ル厚さの 80%を超えると、現実に電流が流れる導体厚さが小さくなり、予期せぬ抵抗 発熱が起こりうるのである。
実施例 1
[0124] この実施例では、図 4 (h)に示す片面プリント配線板 laを製造した。以下、各工程 ごとに説明するが、説明に図 2〜図 4を参照する。 [0125] 工程 l— a : この積層工程では、第 1銅層(80 /ζ πι) Ζ異種金属層(: mのニッケル 層) Z第 2銅層(80 μ m)の 3層が順次積層した状態のクラッド複合材 2を用いた。こ のクラッド複合材 2の基材との張り合わせ面は、密着性向上処理として、公知の手法 で黒化処理を施した。そして、図 2 (a)に示すように、このクラッド複合材 2 (第 1銅層 3 、異種金属層 4、第 2銅層 5)を、絶縁層を構成する基材(210 m厚さの FR— 4ダレ ードのガラス エポキシプリプレダ) 6に、 180°C X 60分程度の熱間プレス加工を行 つて張り合わせ、図 2 (b)の金属張積層板 7とした。ここで用いたクラッド複合材は、一 枚の銅箔の片面にニッケル層をメツキ法で設け、そのニッケル層の上に、他の銅箔を 重ね合わせて圧延カ卩ェすることで一体ィ匕させたものである。
[0126] 工程 1 b : この第 1銅エッチング工程では、図 2 (c)に示すように、当該金属張積層 板 7の外層に位置する第 1銅層 3に、ドライフィルムを用いたエッチングレジスト層 10 を形成し、エッチング回路パターンを露光し、現像し、銅選択エッチング液 (アンモ- ァ系アルカリ銅エッチング液:エープロセス Zメルテックス社製 以下同様である。 )を 用いて外層に位置する第 1銅層 3を所望の回路形状 (一時回路 21)にエッチングカロ ェした。そして、その後、アルカリ溶液で膨潤させエッチングレジスト剥離を行うことで 、不要な第 1銅層を除去し、一時回路 21を形成し、異種金属層 4を露出させ、図 3 (d )の状態とした。
[0127] 工程 1— c : この第 1異種金属エッチング工程では、第 1銅エッチング工程の終了後 に、外層に形成した一時回路 21の間に露出した異種金属層 4を異種金属選択エツ チング液 (メック社製 ニッケルリムーバー)を用いてエッチング除去し、図 3 (e)に示 す状態とした。
[0128] 工程 l— d : この第 2銅エッチング工程では、第 1異種金属エッチング工程の終了後 、図 3 (f)に示すように、第 1回路とする部位にのみ液体レジストを用いてエッチングレ ジスト層 10を再度形成し、銅選択エッチング液 (アンモニア系アルカリ銅エッチング 液)を用いてエッチングを行うことで、エッチングレジスト層 10の無!、第 1銅層の部位 をエッチング除去して、第 1回路 8の形状を完成させ、異種金属層を残した第 2回路 9 を形成し、エッチングレジスト剥離することで、第 2回路 9の異種金属層 4を露出させ [0129] 工程 1— e : 更に、第 2異種金属エッチング工程では、異種金属選択エッチング液( メック社製 ニッケルリムーバー)を用いて第 2回路の表面にある異種金属層 4のみを 除去し、最終的な第 2回路 9の形状を形成し、図 4 (h)に示す如きプリント配線板 laを 得た。このときの第 1回路 8及び第 2回路 9は、双方共に絶縁層表面から突出した状 態となつており、第 1回路の厚さは 161 /ζ πι、第 2回路の厚さが 80 /z mである。このよ うな厚さで基板表面力 突出したプリント配線板では、第 1回路を電源供給用回路等 として用いて、発熱が顕著であっても、基板の絶縁層内への蓄熱を防止して、効率よ く外部にも熱を気散させることが出来る。
実施例 2
[0130] この実施例では、図 7 (h)に示す両面プリント配線板 lbを製造した。以下、各工程 ごとに説明するが、説明に図 5〜図 7を参照する。
[0131] 工程 l— a : この積層工程では、第 1銅層(80 m)Z異種金属層(: mのニッケル 層) Z第 2銅層(80 μ m)の 3層が順次積層した状態のクラッド複合材 2を用いた。こ のクラッド複合材 2の基材との張り合わせ面は、密着性向上処理として、公知の手法 で黒化処理を施した。そして、図 5 (a)に示すように、このクラッド複合材 2 (第 1銅層 3 、異種金属層 4、第 2銅層 5)を、絶縁層を構成する基材(210 m厚さの FR— 4ダレ ードのガラス エポキシプリプレダ) 6の両面に、 180°C X 60分程度の熱間プレス加 ェを行って張り合わせ、図 5 (b)の金属張積層板 7'とした。ここで用いたクラッド複合 材も、実施例 1と同様に、一枚の銅箔の片面にニッケル層をメツキ法で設け、その-ッ ケル層の上に、他の銅箔を重ね合わせて圧延カ卩ェすることで一体ィ匕させたものであ る。
[0132] そして、図 5 (b)に示す両面金属張積層板 7'の場合、両面にある導体層であるクラ ッド複合材 2の間の電気的導通を確保するため、 200 m径の貫通孔を形成し、デス ミア処理、ノラジウム触媒によるキヤタラィズ、無電解銅メツキ、電解銅メツキを順次行 ぃメツキ層 23を形成することでスルーホール 22を形成し、図 6 (c)に示すように層間 の電気的導通を確保した。
[0133] 工程 1 b : この第 1銅エッチング工程では、図 6 (d)に示すように層間導通手段形 成後の第 1銅層 3にドライフィルムを用いて、エッチングレジスト層 10を形成し、エッチ ング回路パターンを露光し、現像し、銅選択エッチング液 (アンモニア系アルカリエツ チング液)を用いて外層に位置する第 1銅層 3を所望の回路形状にエッチング加工し た。その後、アルカリ溶液で膨潤させ、エッチングレジスト剥離を行うことで、不要な第 1銅層を除去し、一時回路 21を形成し、異種金属層 4を露出させ、図 6 (e)の状態とし た。なお、以下の銅選択エッチング液として、ここに記載したものを用いた。
[0134] 工程 1— c : この第 1異種金属エッチング工程では、第 1銅エッチング工程の終了後 に、外層に形成した一時回路 21の間に露出した異種金属層 4を異種金属選択エツ チング液 (ニッケルリムーバー Zメック社製)を用いてエッチング除去し、図 7(f)に示 す状態とした。なお、以下のニッケル系の異種金属選択エッチング液として、ここに記 載したものを用いた。
[0135] 工程 l— d : この第 2銅エッチング工程では、第 1異種金属エッチング工程の終了後 、図 7 (g)に示すように、第 1回路とする部位にのみ液体レジストを用いてエッチングレ ジスト層 10を再度形成し、銅選択エッチング液を用いてエッチングを行うことで、エツ チングレジスト層 10の無い第 1銅層の部位をエッチング除去して、第 1回路 8の形状 を完成させ、異種金属層 4を残した第 2回路 9を形成し、エッチングレジスト剥離する ことで、第 2回路 9の異種金属層 4を露出させる。
[0136] 工程 1— e : 更に、第 2異種金属エッチング工程では、異種金属選択エッチング液を 用いて第 2回路の表面にある異種金属層 4のみを除去し、最終的な第 2回路 9の形 状を形成し、図 7 (h)に示す如き両面プリント配線板 lbを得た。第 1回路 8及び第 2回 路 9は、双方共に絶縁層表面力 突出した状態となっており、第 1回路の厚さは 161 m、第 2回路の厚さが 80 /z mである。このような厚さで基板表面力も突出したプリン ト配線板では、第 1回路を電源供給用回路等として用いて、発熱が顕著であっても、 基板の絶縁層内への蓄熱を防止して、効率よく外部にも熱を気散させることが出来る 実施例 3
[0137] この実施例では、図 10 (i— I)に示す、片面プリント配線板 lcを製造した。この片面 プリント配線板は、同一基準平面内に厚さの異なる第 1回路と第 2回路とが併存する 回路層を備え、且つ、一方の回路が絶縁層内に埋設配置されたものである。以下、 各工程ごとに説明するが、説明に図 8〜図 10を参照する。
[0138] 工程 2 a : このクラッド複合材エッチング工程では、図 8 (a)に示す第 1銅層(300 μ m) Z異種金属層(1 μ mのニッケル層) Z第 2銅層(80 μ m)の 3層が順次積層し た状態のクラッド複合材 2を用いた。そして、ここでは、クラッド複合材 2の両面に、ドラ ィフィルムをラミネートしてエッチングレジスト層 10を形成し、図 8 (b)に示すように第 2 銅層のエッチングレジスト層のみに、一時回路 21を形成するためのエッチング回路 パターンを露光し、現像し、銅選択エッチング液 (アンモニア系アルカリ銅エッチング 液)を用いて外層に位置する第 2銅層 5を所望の回路形状にエッチング加工し、エツ チングレジスト剥離を行うことで図 8 (c)に示す第 1回路パターン付クラッド複合材 11 を得た。そして、この第 1回路パターン付クラッド複合材 11の基材との張り合わせ面 には、密着性向上処理として、公知の手法で黒化処理を施した。
[0139] 工程 2— b : この積層工程では、図 9 (e—I)に示すように、クラッド複合材エッチング 工程で得られた回路パターン付クラッド複合材 11の一時回路 21を形成したエツチン グ回路パターン面を基材 6 (210 μ m厚さの FR— 4グレードのガラス エポキシプリ プレダ)の表面に当接させ、基材片面に 180°C X 60分程度の熱間プレス力卩ェを行つ て張り合わせ、図 9 (f— I)に示すような一時回路 21のエッチングパターンが絶縁層 6 の内に埋設した状態の金属張積層板 7とした。
[0140] 工程 2 c : この第 1銅エッチング工程では、図 9 (g—I)に示すように金属張積層板 7の外層面にある第 1銅層 3に、ドライフィルムを用 V、てエッチングレジスト層 10を形 成し、エッチング回路パターンを露光し、現像し、銅選択エッチング液 (アンモニア系 アルカリ銅エッチング液)を用いて外層に位置する第 1銅層 3を所望の回路形状 (一 時回路 21)にエッチングカ卩ェし、アルカリ溶液で膨潤させ、エッチングレジスト剥離を 行うことで、不要な第 1銅層 3を除去し、一時回路 21を形成し、異種金属層 4の一部 を露出させ、図 10 (h—I)の状態とした。
[0141] 工程 2— d : この異種金属エッチング工程では、第 1銅エッチング工程が終了した後 、異種金属選択エッチング液 (メック社製 ニッケルリムーバー)を用いて、異種金属 層をエッチング除去して第 1回路 8と第 2回路 9とを形成し、 010 (1-1)に示すごとき プリント配線板 lcとした。このとき第 2回路 9が絶縁層内に埋設され、第 1回路 8の一 部が絶縁層表面力も突出した状態となっており、第 1回路の厚さは 381 μ m、第 2回 路の厚さが 80 mである。このような厚さで基板表面力も突出したプリント配線板で は、第 1回路を電源供給用回路等として用いて、発熱が顕著であっても、基板の絶縁 層内への蓄熱を防止して、効率よく外部にも熱を気散させることが出来る。
実施例 4
[0142] この実施例では、図 10 (i— Π)に示す、片面プリント配線板 lcを製造した。この片面 プリント配線板は、同一基準平面内に厚さの異なる第 1回路と第 2回路とが併存する 回路層を備え、且つ、一方の回路が絶縁層内に埋設配置されたものである。以下、 各工程ごとに説明するが、説明に図 8〜図 10を参照する。
[0143] 工程 2— a : このクラッド複合材エッチング工程では、図 8 (a)に示す第 1銅層(300 μ m) Z異種金属層(1 μ mのニッケル層) Z第 2銅層(80 μ m)の 3層が順次積層し た状態のクラッド複合材 2を用いた。そして、ここでは、クラッド複合材 2の両面に、ドラ ィフィルムをラミネートしてエッチングレジスト層 11を形成し、図 8 (b)に示すように第 2 銅層のエッチングレジスト層のみに、一時回路 21を形成するためのエッチング回路 ノ ターンを露光し、現像し、銅選択エッチング液を用いて外層に位置する第 2銅層 5 を所望の回路形状にエッチング加工し、エッチングレジスト剥離を行うことで図 8 (c) に示す第 1回路パターン付クラッド複合材 11を得た。そして、更に一時回路 21間に 露出した異種金属層を異種金属選択エッチング液で除去し、図 8 (d)に示す第 2回 路パターン付クラッド複合材 11,を得た。この第 2回路パターン付クラッド複合材 11, の基材との張り合わせ面には、密着性向上処理として、公知の手法で黒化処理を施 した。
[0144] 工程 2— b : この積層工程では、図 9 (e—Π)に示すように、クラッド複合材エッチング 工程で得られた第 2回路パターン付クラッド複合材 11 'の一時回路 21を形成したエツ チング回路パターン面を基材 6 (210 μ m厚さの FR— 4グレードのガラス エポキシ プリプレダ)の表面に当接させ、基材片面に 180°C X 60分程度の熱間プレス力卩ェを 行って張り合わせ、図 9 (f—II)に示すような一時回路 21のエッチングパターンが絶 縁層 6の内に埋設した状態の金属張積層板 7とした。
[0145] 工程 2— c : この第 1銅エッチング工程では、図 9 (g—Π)に示すように金属張積層板 7の外層面にある第 1銅層 3に、ドライフィルムを用 V、てエッチングレジスト層 10を形 成し、エッチング回路パターンを露光し、現像し、銅選択エッチング液 (アンモニア系 アルカリ銅エッチング液)を用いて外層に位置する第 1銅層 3をエッチングカ卩ェし、ァ ルカリ溶液で膨潤させ、エッチングレジスト剥離を行うことで、不要な第 1銅層 3を除去 し、第 1回路 8を形成し、第 2回路上にある異種金属層 4を露出させ、図 10 (h— Π)の 状態とした。
[0146] 工程 2 d: この異種金属エッチング工程では、第 1銅エッチング工程が終了した後 、異種金属選択エッチング液 (メック社製 ニッケルリムーバー)を用いて、異種金属 層をエッチング除去して第 1回路 8と第 2回路 9とを形成し、図 10 (i— Π)に示すごとき プリント配線板 lcとした。このとき第 2回路 9が絶縁層内に埋設され、第 1回路 8の一 部が絶縁層表面力も突出した状態となっており、第 1回路の厚さは 381 μ m、第 2回 路の厚さが 80 mである。このような厚さで基板表面力も突出したプリント配線板で は、第 1回路を電源供給用回路等として用いて、発熱が顕著であっても、基板の絶縁 層内への蓄熱を防止して、効率よく外部にも熱を気散させることが出来る。
実施例 5
[0147] この実施例では、図 15 (h)に示す、両面プリント配線板 Idを製造した。この両面プ リント配線板は、同一基準平面内に厚さの異なる第 1回路と第 2回路とが併存する回 路層を備え、且つ、一方の回路が絶縁層内に埋設配置されたものである。以下、各 工程ごとに説明するが、説明に図 13〜図 15を参照する。
[0148] 工程 2— a : このクラッド複合材エッチング工程では、実施例 3の工程 2— aと同様に 図 13 (b)に示す回路パターン付クラッド複合材 11を得た。
[0149] 工程 2— b : この積層工程では、図 13 (a)に示すクラッド複合材 2を用いて得られた 図 13 (b)に示す回路パターン付クラッド複合材 11を 2枚用い、図 13 (c)に示すように 回路パターン付クラッド複合材 11の一時回路 21を形成したエッチング回路パターン 面を基材 6 (210 μ m厚さの FR— 4グレードのガラス エポキシプリプレダ)の両面に 当接させ、基材両面に 180°C X 60分程度の熱間プレス力卩ェを行って張り合わせ、図 14 (d)のように一時回路 21が絶縁層 6の内部に埋設した状態の両面金属張積層板 7,とした。 [0150] そして、図 14 (d)に示す両面金属張積層板 7'の場合、両面にある導体層である回 路パターン付クラッド複合材間の電気的導通を確保するため、 200 m径の貫通孔 を形成し、デスミア処理、ノラジウム触媒によるキヤタラィズ、無電解銅メツキ、電解銅 メツキを順次行いメツキ層 23を形成することでスルーホール 22を形成し、図 14 (e)に 示すように層間の電気的導通を確保した。
[0151] 工程 2— c : この第 1銅エッチング工程では、図 14 (f)に示すように金属張積層板 7 の外層面にある第 1銅層 3に、ドライフィルムを用 V、てエッチングレジスト層 10を形成 し、エッチング回路パターンを露光し、現像し、銅選択エッチング液を用いて外層に 位置する第 1銅層 3を所望の回路形状 (一時回路 21)にエッチング加工し、アルカリ 溶液で膨潤させ、エッチングレジスト剥離を行うことで、不要な第 1銅層 3を除去し、一 時回路 21を形成し、異種金属層 4の一部を露出させ、図 15 (g)の状態とした。
[0152] 工程 2— d: この異種金属エッチング工程では、第 1銅エッチング工程が終了した後 、異種金属選択エッチング液を用いて、異種金属層をエッチング除去して第 1回路 8 と第 2回路 9とを形成し、図 15 (h)に示すごときプリント配線板 Idとした。このとき第 2 回路 9が絶縁層内に埋設され、第 1回路 8の一部が絶縁層表面力 突出した状態と なっており、第 1回路の厚さは 381 μ m、第 2回路の厚さが 80 μ mである。このような 厚さで基板表面力 突出したプリント配線板では、第 1回路を電源供給用回路等とし て用いて、発熱が顕著であっても、基板の絶縁層内への蓄熱を防止して、効率よく外 部にも熱を気散させることが出来る。
実施例 6
[0153] この実施例では、図 12 (e)に示す、片面プリント配線板 lc'を製造した。この片面プ リント配線板は、同一基準平面内に厚さの異なる第 1回路と第 2回路とが併存する回 路層を備え、且つ、一方の回路の一部が絶縁層内に埋設配置されたものである。以 下、各工程ごとに説明するが、説明に図 11及び図 12を参照する。
[0154] 工程 3— a : このクラッド複合材エッチング工程では、図 8 (a)に示す第 1銅層(300 μ m) Z異種金属層(1 μ mのニッケル層) Z第 2銅層(80 μ m)の 3層が順次積層し た状態のクラッド複合材 2を用いた。そして、ここでは、クラッド複合材 2の両面に、ドラ ィフィルムをラミネートしてエッチングレジスト層 11を形成し、図 8 (b)に示すように第 2 銅層のエッチングレジスト層のみに、一時回路 21を形成するためのエッチング回路 ノ ターンを露光し、現像し、銅選択エッチング液を用いて外層に位置する第 2銅層 5 を所望の回路形状にエッチング加工し、エッチングレジスト剥離を行うことで図 8 (c) に示す第 1回路パターン付クラッド複合材 11を得た。そして、更に一時回路 21間に 露出した異種金属層を異種金属選択エッチング液で除去し、図 8 (d) ( =図 11 (a) ) に示す第 2回路パターン付クラッド複合材 11,を得た。そして、この第 2回路パターン 付クラッド複合材 11 'の基材との張り合わせ面には、密着性向上処理として、公知の 手法で黒化処理を施した。
[0155] 工程 3— b : この積層工程では、図 11 (b)に示すように、クラッド複合材エッチングェ 程で得られた第 2回路パターン付クラッド複合材 11 'の一時回路 21を形成したエッチ ング回路パターン面を基材 6 (210 μ m厚さの FR— 4グレードのガラス エポキシプリ プレダ)の表面に当接させ、基材片面に 180°C X 60分程度の熱間プレス力卩ェを行つ て張り合わせ、図 11 (c)に示すような一時回路 21のエッチングパターンが絶縁層 6の 内に埋設した状態の金属張積層板 7とした。
[0156] 工程 3— c : この第 1銅エッチング工程では、図 12 (d)に示すように金属張積層板 7 の外層面にある第 1銅層 3に、ドライフィルムを用 V、てエッチングレジスト層 10を形成 し、エッチング回路パターンを露光し、現像し、銅選択エッチング液 (アンモニア系ァ ルカリ銅エッチング液)を用いて外層に位置する第 1銅層 3をエッチングカ卩ェし、アル カリ溶液で膨潤させ、エッチングレジスト剥離を行うことで、第 1回路 8及び第 2回路 9 を同時に形成し、図 12 (e)に示すごときプリント配線板 lc 'とした。このとき第 2回路 9 が絶縁層から突出し、第 1回路 8の一部が絶縁層に埋設した状態となっており、第 1 回路の厚さは 381 μ m、第 2回路の厚さが 300 mである。このようなプリント配線板 では、第 1回路を電源供給用回路等として用いて、発熱が顕著であっても、基板の絶 縁層内への蓄熱を防止して、効率よく外部にも熱を気散させることが出来る。
実施例 7
[0157] この実施例では、図 15 (h)に示す、両面プリント配線板 Idであって、軽量化プリン と配線板を製造した。この両面プリント配線板は、同一基準平面内に厚さの異なる第 1回路と第 2回路とが併存する回路層を備え、且つ、一方の回路が絶縁層内に埋設 配置されたものである。以下、各工程ごとに説明するが、説明に図 13〜図 15を参照 する。但し、この実施例ではクラッド複合材 2の異種金属層 4が厚いタイプのものを用 いており、図 13〜図 15の模式断面図とは異種金属層の層厚が異なり、最終的に得 られるプリント配線板は図 1 (Id)に示す如きものとなる。
[0158] 工程 2— a : このクラッド複合材エッチング工程では、実施例 3で用いたクラッド複合 材に替えて、第 1銅層(80 μ m) Z異種金属層(500 μ mのアルミニウム層) Z第 2銅 層(80 μ m)の 3層が順次積層した状態のクラッド複合材 2を用い、図 8に示した製造 フローで回路パターン付クラッド複合材 11を得た。
[0159] 工程 2— b : この積層工程では、実施例 4と同様に、図 13 (a)に示すクラッド複合材 2から得られた図 13 (b)に示す回路パターン付クラッド複合材 11を 2枚用い、図 13 (c )に示すように回路パターン付クラッド複合材 11の一時回路 21を形成したエッチング 回路パターン面を基材 6 (210 μ m厚さの FR— 4グレードのガラス エポキシプリプレ グ)の両面に当接させ、基材両面に 180°C X 60分程度の熱間プレス力卩ェを行って張 り合わせ、図 14 (d)のように一時回路 21が絶縁層 6の内部に埋設した状態の両面金 属張積層板 7'とした。
[0160] そして、図 14 (d)に示す両面金属張積層板 7'の場合、両面にある導体層である回 路パターン付クラッド複合材間の電気的導通を確保するため、 200 m径の貫通孔 を形成し、デスミア処理、ノラジウム触媒によるキヤタラィズ、無電解銅メツキ、電解銅 メツキを順次行いメツキ層 23を形成することでスルーホール 22を形成し、図 14 (e)に 示すように層間の電気的導通を確保した。
[0161] 工程 2— c : この第 1銅エッチング工程では、図 14 (f)に示すように金属張積層板 7 の外層面にある第 1銅層 3に、ドライフィルムを用 V、てエッチングレジスト層 10を形成 し、エッチング回路パターンを露光し、現像し、銅選択エッチング液 (酸系銅エツチン グ液)を用いて外層に位置する第 1銅層 3を所望の回路形状 (一時回路 21)にエッチ ング加工し、アルカリ溶液で膨潤させ、エッチングレジスト剥離を行うことで、不要な第 1銅層 3を除去し、一時回路 21を形成し、異種金属層 4の一部を露出させ、図 15 (g) の状態とした。
[0162] 工程 2 d: この異種金属エッチング工程では、第 1銅エッチング工程が終了した後 、異種金属選択エッチング液 (水酸ィ匕ナトリウム系アルカリエッチング液)を用いて、 異種金属層をエッチング除去して第 1回路 8と第 2回路 9とを形成し、図 15 (h)に示す ごときプリント配線板 Idとした。このとき第 2回路 9が絶縁層内に埋設され、第 1回路 8 の一部が絶縁層表面から突出した状態となっており、第 1回路の厚さは 660 ;ζ ΐη、第 2回路の厚さが 80 mである。このような厚さで基板表面力も突出したプリント配線板 では、第 1回路を電源供給用回路等として用いて、発熱が顕著であっても、基板の絶 縁層内への蓄熱を防止して、効率よく外部にも熱を気散させることが出来る。そして、 この実施例で得られたプリント配線板は、導体層を殆ど銅で構成した場合に比べ、 3 0%程度の軽量ィ匕が出来て 、た。
実施例 8
[0163] この実施例では、クラッド複合材 2を出発材料として、図 18 (i)に示す両面プリント配 線板 leを製造する場合について述べる。この両面プリント配線板 leは、その片面側 の同一基準平面にのみ、厚さの異なる第 1回路と第 2回路とが併存するものである。 以下、各工程ごとに説明する力 説明に図 16〜図 18を参照する。
[0164] 工程 4— a : この積層工程では、図 16 (a)に示すように、クラッド複合材 2 (第 1銅層( 300 μ m) Z異種金属層(1 μ mのニッケル層) Z第 2銅層(80 m) )と、通常の銅箔 12とを、絶縁層を構成する基材 6 (210 μ m厚さの FR— 4グレードのガラス一ェポキ シプリプレダ)の両面に当接させ、各々一面側に、 180°C X 60分程度の熱間プレス 加工を行って張り合わせ、図 16 (b)に示す両面金属張積層板 7 'とした。
[0165] そして、図 16 (b)に示す両面金属張積層板 7'の両面にある導体層であるクラッド複 合材 2と銅箔 12との間の電気的導通を確保するため、 200 m径の貫通孔を形成し 、デスミア処理、ノ《ラジウム触媒によるキヤタラィズ、無電解銅メツキ、電解銅メツキを 順次行いメツキ層 23を形成することでスルーホール 22を形成し、図 16 (c)に示すよう に層間の電気的導通を確保した。
[0166] 工程 4 b : この第 1銅エッチング工程では、図 17 (d)に示すように、絶縁層の一面 側に位置するクラッド複合材 2の第 1銅層 3及び他面側の銅箔層 12に、ドライフィルム を用いてエッチングレジスト層 10を形成し、エッチング回路パターンを露光し、現像し 、銅選択エッチング液 (アンモニア系アルカリ銅エッチング液)を用いて外層に位置す る第 1銅層 3及び銅箔 12を所望の回路形状 (一時回路 21)にエッチング加工し、エツ チングレジスト剥離を行うことで、図 17 (e)に示すように、不要な第 1銅層 3を除去し、 一時回路 21を形成し、一時回路 21間に異種金属層 4を露出させ、銅箔 12は所望の 回路形状とした。
[0167] 工程 4— c : この第 1異種金属エッチング工程では、第 1銅エッチング工程が終了し 、外層に形成した一時回路 21の間に露出した異種金属層 4を異種金属選択エッチ ング液を用いてエッチング除去し、図 17 (f)の状態とした。
[0168] 工程 4— d : この第 2銅エッチング工程では、第 1異種金属エッチング工程の終了後 、図 18 (g)に示すように、第 1回路とする部位及び銅箔層をエッチングして形成した 回路にのみエッチングレジスト層 10を再度形成し、銅選択エッチング液 (アンモニア 系アルカリ銅エッチング液)を用いてエッチングを行うことで、エッチングレジスト層の 無い第 1銅層の部位をエッチング除去して、エッチングレジスト剥離することで、図 18 (h)に示すように、第 1回路 8及び異種金属層 4を残した第 2回路 9を形成する。
[0169] 工程 4— e : この第 2異種金属エッチング工程では、異種金属選択エッチング液 (メッ ク社製 ニッケルリムーバー)を用いて第 2回路 9の表面にある異種金属層 4のみを除 去し、図 18 (i)に示すように、第 2回路 9の形状を形成しプリント配線板 leを得た。こ のとき第 1回路 8及び第 2回路 9ともに絶縁層表面力 突出した状態となっており、第 1回路 8の厚さは 381 μ m、第 2回路 9の厚さが 80 mである。このような厚さで基板 表面力も突出したプリント配線板では、第 1回路 8を電源供給用回路等として用いて 、発熱が顕著であっても、基板の絶縁層内への蓄熱を防止して、効率よく外部にも熱 を気散させることが出来る
実施例 9
[0170] この実施例では、クラッド複合材 2を出発材料として、図 21 (h)に示す両面プリント 配線板 Ifを製造する場合について述べる。この両面プリント配線板 Ifは、その片面 側の同一基準平面にのみ、厚さの異なる第 1回路と第 2回路とが併存し、且つ、第 1 回路若しくは第 2回路の 、ずれか一方が絶縁層内に埋設配置されたものである。以 下、各工程ごとに説明する力 説明に図 19〜図 21を参照する。
[0171] 工程 5— a : このクラッド複合材エッチング工程は、図 19 (a)に示したクラッド複合材 2 (第 1銅層(300 μ m) Z異種金属層(1 μ mのニッケル層) Z第 2銅層(80 m) )を 出発材料として、図 8に示すプロセスで図 19 (b)に示す回路パターン付クラッド複合 材 11を製造する工程である。従って、実施例 3の工程 2— aと同様である。
[0172] 工程 5— b : この積層工程では、当該回路パターン付クラッド複合材 11と、銅箔 12と を用いて、基材 6の両面に図 19 (c)に示すように積層する。そして、絶縁層を構成す る基材 6 (210 μ m厚さの FR— 4グレードのガラス エポキシプリプレダ)の両面に当 接させ、各々一面側に、 180°C X 60分程度の熱間プレス力卩ェを行って張り合わせ、 図 20 (d)に示すような両面金属張積層板 7'とした。
[0173] そして、図 20 (e)に示すように、両面金属張積層板 7'の両面にある導体層である 回路パターン付クラッド複合材 11と銅箔 12との間の電気的導通を確保するため、 20 径の貫通孔を形成し、デスミア処理、パラジウム触媒によるキヤタラィズ、無電 解銅メツキ、電解銅メツキを順次行 ヽメツキ層 23を形成することでスルーホール 22を 形成した。この形成方法は、上述のとおりであり、ここでの重複した説明は省略する。
[0174] 工程 5— c : そして、第 1銅エッチング工程では、絶縁層の一面側に位置するクラッド 複合材の第 1銅層及び他面側の銅箔層に、ドライフィルムを用いてエッチングレジス ト層 10を形成し、エッチング回路パターンを露光し、現像し、図 20 (f)に示す状態とし て、銅選択エッチング液 (塩化鉄銅エッチング液)を用いて外層に位置する第 1銅層 及び銅箔を所望の回路形状にエッチング加工し、エッチングレジスト剥離を行うこと で、図 21 (g)に示すように異種金属層を露出させた。
[0175] 工程 5 d: この第 1異種金属エッチング工程では、第 1銅エッチング工程が終了し 、外層に形成した一時回路 21の間に露出した異種金属層 4を異種金属選択エッチ ング液 (メック社製 ニッケルリムーバー)を用いてエッチング除去し、図 21 (h)に示す ように第 1回路 8、第 2回路 9及び銅箔回路 13を形成しプリント配線板 Ifとした。このと き第 2回路 9が絶縁層内に埋設され、第 1回路 8の一部が絶縁層表面力 突出した状 態となつており、第 1回路の厚さは 381 /ζ πι、第 2回路の厚さが 80 /z mである。このよ うな厚さで基板表面力 突出したプリント配線板では、第 1回路を電源供給用回路等 として用いて、発熱が顕著であっても、基板の絶縁層内への蓄熱を防止して、効率よ く外部にも熱を気散させることが出来る。 実施例 10
[0176] この実施例では、内層回路を備えた内層コア材の表面に位置する絶縁層の同一基 準平面に厚さの異なる第 1回路と第 2回路とが併存する回路層を備えた多層プリント 配線板を製造した。なお、以下の説明に際して、図 22〜図 25を参照する。
[0177] 工程 6— a : この積層工程では、図 22 (a)にあるように、内層コア材 14の表面に、絶 縁層を構成する基材 6 (210 μ m厚さの FR— 4グレードのガラス エポキシプリプレ グ)を介して、クラッド複合材 2 (第 1銅層(300 μ m) Z異種金属層(1 μ mのニッケル 層) Z第 2銅層(80 μ m) )を積層し、熱間プレス加工を行うことで、図 22 (b)に示す多 層金属張積層板 7' 'とした。そして、ここで用いた内層コア材 14は、内層回路 15を備 え、且つ、 100 /z m径のビアホールを備える厚さ 150 mの FR— 4クレードのリジッド 基板用いた。
[0178] そして、図 22 (b)に示すように、両面にある導体層であるクラッド複合材 2と内層回 路 15の間の電気的導通を確保するため、 100 m径のビアホール 22を形成し、この 孔内にメツキ処理を施し、図 23 (c)に示すように層間の電気的導通を確保した。この 形成方法は、上述のとおりであり、ここでの重複した説明は省略する。
[0179] 工程 6— b : この第 1銅エッチング工程では、図 23 (d)に示すように当該多層金属張 積層板 7,,の外層に位置する第 1銅層 3にドライフィルムを用いてエッチングレジスト 層 10を形成し、エッチング回路パターンを露光し、現像し、銅選択エッチング液 (アン モ-ァ系アルカリ銅エッチング液)を用いて外層に位置する第 1銅層を所望の回路形 状 (一時回路 21)にエッチングカ卩ェし、エッチングレジスト剥離を行うことで、図 23 (e) に示すように不要な第 1銅層を除去した部位にて一時回路 21を形成し、異種金属層 4を露出させた。
[0180] 工程 6— c : この第 1異種金属エッチング工程では、第 1銅エッチング工程が終了し 、外層に形成した一時回路 21の間に露出した異種金属層 4を異種金属選択エッチ ング液 (メック社製 ニッケルリムーバー)を用いてエッチング除去し、図 24 (f)の状態 とした。
[0181] 工程 6 d: この第 2銅エッチング工程では、第 1異種金属エッチング工程の終了後 、図 24 (g)に示すように、第 1回路とする部位にのみ液体レジストを用いてエッチング レジスト層 10を再度形成し、銅選択エッチング液を用いてエッチングを行うことで、ェ ツチングレジスト層 10の無 、第 1銅層の部位をエッチング除去して、エッチングレジス ト剥離することで、図 24 (h)に示すように、第 1回路 8及び異種金属層 4を残した第 2 回路を形成した。
[0182] 工程 6— e : この第 2異種金属エッチング工程では、異種金属選択エッチング液 (メッ ク社製 ニッケルリムーバー)を用いて第 2回路の表面にある異種金属層 4のみを除 去し、図 25 (i)に示すように、第 2回路 9の形状を形成し多層プリント配線板 lgとした 。このとき第 1回路 8及び第 2回路 9ともに絶縁層表面力 突出した状態となっており、 第 1回路 8の厚さは 381 μ m、第 2回路 9の厚さが 80 μ mである。このような厚さで基 板表面力も突出したプリント配線板では、第 1回路 8を電源供給用回路等として用い て、発熱が顕著であっても、基板の絶縁層内への蓄熱を防止して、効率よく外部にも 熱を気散させることが出来る
実施例 11
[0183] この実施例では、内層回路を備えた内層コア材の表面に位置する絶縁層の同一基 準平面に厚さの異なる第 1回路と第 2回路とが併存し、且つ、いずれかの回路が絶縁 層内に埋設配置された多層プリント配線板を製造した。なお、以下の説明に際して、 図 26〜図 28を参照する。
[0184] 工程 7— a : このクラッド複合材エッチング工程は、図 8 (a)に示したクラッド複合材 2 ( 第 1銅層(300 μ m) Z異種金属層(1 μ mのニッケル層) Z第 2銅層(80 m) )を出 発材料として、図 8に示すプロセスで図 8 (c)に示す回路パターン付クラッド複合材 11 を製造する工程である。従って、実施例 3の工程 2— aと同様である。
[0185] 工程 7—b : この積層工程では、内層コア材の両面に、図 26 (a)にあるように、内層 コア材 14の表面に、絶縁層を構成する基材 6 (210 m厚さの FR— 4グレードのガラ ス一エポキシプリプレダ)を介して、当該回路パターン付クラッド複合材 11のエツチン グ回路パターン面を基材表面に当接させて積層する。そして、熱間プレス加工を行う ことで、図 26 (b)に示すように、回路パターン付クラッド複合材 11のエッチング回路 ノターン面にある一時回路 21が絶縁層 6に埋設した状態の多層金属張積層板 7' , とした。そして、ここで用いた内層コア材 14は、内層回路 15を備え、且つ、 100 /z m 径のビアホールを備える厚さ 150 μ mの FR— 4グレードのリジッド基板を用いた。
[0186] そして、両面にある導体層である回路パターン付クラッド複合材 11と内層回路 15の 間の電気的導通を確保するため、 100 m径のビアホール 22を形成し、この孔内に メツキ処理を施し、図 27 (c)に示すように層間の電気的導通を確保した。この形成方 法は、上述のとおりであり、ここでの重複した説明は省略する。
[0187] 工程 7— c : この第 1銅エッチング工程では、図 27 (d)に示すように当該多層金属張 積層板 7,,の外層に位置する第 1銅層 3にドライフィルムを用いてエッチングレジスト 層 10を形成し、エッチング回路パターンを露光し、現像し、銅選択エッチング液を用 いて外層に位置する第 1銅層を所望の回路形状にエッチング加工し、エッチングレジ スト剥離を行うことで、図 28 (e)に示すように不要な第 1銅層を除去した部位にて一時 回路 21、異種金属層 4を露出させた。
[0188] 工程 7— d : この第 1異種金属エッチング工程では、第 1銅エッチング工程が終了し 、外層に形成した一時回路 21の間に露出した異種金属層 4を異種金属選択エッチ ング液 (メック社製 ニッケルリムーバー)を用いてエッチング除去し、第 1回路 8と第 2 回路 9とを同時に完成させ、図 28 (f)の状態の多層プリント配線板 lhとした。このとき 第 2回路 9が絶縁層内に埋設され、第 1回路 8の一部が絶縁層表面力 突出した状 態となつており、第 1回路の厚さは 381 /ζ πι、第 2回路の厚さが 80 /z mである。このよ うな厚さで基板表面力 突出したプリント配線板では、第 1回路を電源供給用回路等 として用いて、発熱が顕著であっても、基板の絶縁層内への蓄熱を防止して、効率よ く外部にも熱を気散させることが出来る。
産業上の利用可能性
[0189] 本件発明に係るプリント配線板は、同一基準平面内にある回路の一部の回路の高 さを調節し、且つ、回路断面積を極めて大きくすることが可能である。従って、電源供 給用回路等として用いるときも、回路幅を広くするのではなぐ当該回路の導体厚を 厚くして対応でき、基板面積の実質的縮小化を可能とする事が出来る。そして、回路 厚の異なる回路を同一基準平面内に形成することで、電気的特性及び用途の異なる 回路を同一基準平面上形成したプリント配線板となる。また、プリント配線板の突出し た回路部を放熱フィンと同様に機能させ、放熱用回路又は放熱板として利用できるこ とも可能となる。従って、本件発明に係るプリント配線板は、小型であり、且つ、耐熱 特性に優れたものであり、当該プリント配線板を組み込むデバイス機器の小型化に 寄与することとなる。更に、前述の異種金属層に軽量ィ匕を目的として、アルミニウム等 の軽量金属を用いることにより、プリント配線板としての軽量ィ匕が図れるため、これを 組み込むデバイス機器の軽量ィ匕に寄与することも可能となる。
[0190] また、本件発明に係るプリント配線板の製造方法は、 2層の銅層の間に異種金属層 として、銅との選択エッチング可能な異種金属層を含むクラッド複合材を用いることで 、従来のプリント配線板の積層技術、エッチング方法及び装置を利用することが可能 であり、特段の設備投資を必要とせず、簡便且つ生産性に優れた製造方法であり、 市場に対する本件発明に係るプリント配線板の安定供給を可能とする。
図面の簡単な説明
[0191] [図 1]本件発明に係るプリント配線板の典型的ノリエーシヨンの断面層構成を示した 模式断面図である。
[図 2]本件発明に係るプリント配線板を製造するための手順を示したフロー図である。
[図 3]本件発明に係るプリント配線板を製造するための手順を示したフロー図である。
[図 4]本件発明に係るプリント配線板を製造するための手順を示したフロー図である。
[図 5]本件発明に係るプリント配線板を製造するための手順を示したフロー図である。
[図 6]本件発明に係るプリント配線板を製造するための手順を示したフロー図である。
[図 7]本件発明に係るプリント配線板を製造するための手順を示したフロー図である。
[図 8]本件発明に係るプリント配線板を製造するための手順を示したフロー図である。
[図 9]本件発明に係るプリント配線板を製造するための手順を示したフロー図である。
[図 10]本件発明に係るプリント配線板を製造するための手順を示したフロー図である
[図 11]本件発明に係るプリント配線板を製造するための手順を示したフロー図である
[図 12]本件発明に係るプリント配線板を製造するための手順を示したフロー図である
[図 13]本件発明に係るプリント配線板を製造するための手順を示したフロー図である [図 14]本件発明に係るプリント配線板を製造するための手順を示したフロー図である [図 15]本件発明に係るプリント配線板を製造するための手順を示したフロー図である [図 16]本件発明に係るプリント配線板を製造するための手順を示したフロー図である [図 17]本件発明に係るプリント配線板を製造するための手順を示したフロー図である [図 18]本件発明に係るプリント配線板を製造するための手順を示したフロー図である [図 19]本件発明に係るプリント配線板を製造するための手順を示したフロー図である [図 20]本件発明に係るプリント配線板を製造するための手順を示したフロー図である [図 21]本件発明に係るプリント配線板を製造するための手順を示したフロー図である [図 22]本件発明に係るプリント配線板を製造するための手順を示したフロー図である [図 23]本件発明に係るプリント配線板を製造するための手順を示したフロー図である [図 24]本件発明に係るプリント配線板を製造するための手順を示したフロー図である [図 25]本件発明に係るプリント配線板を製造するための手順を示したフロー図である [図 26]本件発明に係るプリント配線板を製造するための手順を示したフロー図である [図 27]本件発明に係るプリント配線板を製造するための手順を示したフロー図である [図 28]本件発明に係るプリント配線板を製造するための手順を示したフロー図である 符号の説明
la- -lh プリント配線板
2 クラッド複合材
3 第 1銅層
4 異種金属層
5 第 2銅層
6 絶縁層 (基材)
7 金属張積層板
7, 両面金属張積層板
7"多層金属張積層板
8 第 1回路
9 第 2回路
10 エッチングレジスト(層)
11 回路パターン付クラッド複合材
12 銅箔
13 銅箔回路
14 内層コア材
15 内層回路
21 一時回路
22 スルーホール(若しくはビアホール)
23 メツキ層

Claims

請求の範囲
[1] 導電層と絶縁層とを含む金属張積層板をエッチング加工することにより得られるプリ ント配線板であって、
同一基準平面に形成した厚さの異なる第 1回路と第 2回路とが併存したことを特徴 としたプリント配線板。
[2] 第 1回路又は第 2回路のいずれか一方の回路がプリント配線板表面力 突出配置し 、他方の回路がプリント配線板表面に埋設配置された請求項 1に記載のプリント配線 板。
[3] 第 1回路又は第 2回路のいずれか厚い方の回路厚さを T mとしたとき、他方の回 路厚さ Tが T ZlOO〜T ( m)である請求項 1又は請求項 2に記載のプリント配線
2 1 1
板。
[4] 第 1回路又は第 2回路のいずれか厚い方の回路は、第 1銅層 Z異種金属層 Z第 2銅 層の 3層が順次積層したクラッド状であり、当該異種金属層にニッケル、スズ、アルミ ユウム、チタン及びこれらの合金を用いた請求項 1〜請求項 3のいずれかに記載のプ リント配線板。
[5] 第 1回路又は第 2回路のいずれか厚い方の回路は、第 1銅層 Z異種金属層 Z第 2銅 層の 3層が順次積層した状態のクラッド複合材であって、異種金属層にクラッド複合 材のトータル厚さの 50%〜80%厚さのアルミニウム又はアルミニウム合金を用いたこ とを特徴とした請求項 4に記載のプリント配線板。
[6] 同一基準平面内に厚さの異なる第 1回路と第 2回路とが併存する回路層を備えた片 面若しくは両面プリント配線板の製造方法であって、
以下に示す工程 1 a〜工程 1 eを備えることを特徴とするプリント配線板の製造 方法。
工程 1 a: 第 1銅層 Z異種金属層 Z第 2銅層の 3層が順次積層した状態のクラッド 複合材は、異種金属層が銅との選択エッチング可能な金属成分で構成したものであ り、このクラッド複合材を絶縁層を構成する基材に張り合わせ、金属張積層板とする 積層工程。
工程 1 b: 当該金属張積層板の外層に位置する第 1銅層にエッチングレジスト層 を形成し、エッチング回路パターンを露光し、現像し、銅選択エッチング液を用いて 外層に位置する第 1銅層を所望の回路形状にエッチング加工し、エッチングレジスト 剥離を行うことで、不要な第 1銅層を除去した部位にて、異種金属層を露出させる第 1銅エッチング工程。
工程 1— c : 第 1銅エッチング工程が終了し、外層に一時的に形成した回路間に露 出した異種金属層を異種金属選択エッチング液を用いてエッチング除去し、第 1回 路形状を形成する第 1異種金属エッチング工程。
工程 1 d : 第 1異種金属エッチング工程の終了後、第 1回路とする部位にのみエツ チングレジスト層を再度形成し、銅選択エッチング液を用いてエッチングを行うことで
、エッチングレジスト層の無い第 1銅層の部位をエッチング除去して、第 1回路の形状 を完成させ、異種金属層を残した第 2回路を形成し、エッチングレジスト剥離すること で、第 2回路の異種金属層を露出させる第 2銅エッチング工程。
工程 1— e : 更に、異種金属選択エッチング液を用いて第 2回路の表面にある異種 金属層のみを除去し、最終的な第 2回路形状を形成しプリント配線板とする第 2異種 金属層エッチング工程。
[7] 工程 1— aと工程 1 との間に層間導通手段形成工程を設けた請求項 6に記載の両 面プリント配線板の製造方法。
[8] クラッド複合材は、その基材との張り合わせ面に基材との密着性を向上させるための 密着性向上処理を施したものを用いる請求項 6又は請求項 7に記載のプリント配線板 の製造方法。
[9] 同一基準平面に厚さの異なる第 1回路と第 2回路とが併存し、いずれか一方の回路 が絶縁層内に埋設配置された片面又は両面プリント配線板の製造方法であって、 以下に示す工程 2— a〜工程 2— dを備えることを特徴とするプリント配線板の製造 方法。
工程 2 a: 第 1銅層 Z異種金属層 Z第 2銅層の 3層が順次積層した状態のクラッド 複合材は、異種金属層が銅との選択エッチング可能な金属成分で構成したものであ り、このクラッド複合材を用いて、銅選択エッチング液で第 2銅層のみをエッチングカロ ェして、片面にエッチング回路パターンを形成し、回路パターン付クラッド複合材を 得るクラッド複合材エッチング工程。
工程 2— b : クラッド複合材エッチング工程で得られた回路パターン付クラッド複合材 のエッチング回路パターン面を基材表面に当接させ、基材表面に張り合わせ当該ェ ツチングパターンが絶縁層内に埋設した状態の金属張積層板とする積層工程。 工程 2— c : 金属張積層板の外層面にある第 1銅層にエッチングレジスト層を形成し 、エッチング回路パターンを露光し、現像し、銅選択エッチング液を用いて外層に位 置する第 1銅層を所望の回路形状にエッチング加工し、エッチングレジスト剥離を行 うことで、不要な第 1銅層を除去し、異種金属層を露出させる第 1銅エッチング工程。 工程 2— d: 第 1銅エッチング工程が終了すると、異種金属選択エッチング液を用い て異種金属層をエッチング除去して第 1回路と第 2回路とを形成しプリント配線板とす る異種金属エッチング工程。
[10] 工程 2— bと工程 2—じとの間に層間導通手段形成工程を設けた請求項 9に記載の抵 抗回路を備えたプリント配線板の製造方法。
[11] 回路パターン付クラッド複合材は、その基材とのエッチング回路パターン面に露出し た異種金属層を除去したものを用いる請求項 9又は請求項 10に記載のプリント配線 板の製造方法。
[12] 回路パターン付クラッド複合材は、エッチング回路パターン面に基材との密着性を向 上させるための密着性向上処理を施したものを用いる請求項 9〜請求項 11のいずれ かに記載のプリント配線板の製造方法。
[13] 同一基準平面に厚さの異なる第 1回路と第 2回路とが併存し、いずれか一方の回路 が絶縁層内に埋設配置された片面又は両面プリント配線板の製造方法であって、 以下に示す工程 3— a〜工程 3— cを備えることを特徴とするプリント配線板の製造 方法。
工程 3— a : 第 1銅層 Z異種金属層 Z第 2銅層の 3層が順次積層した状態のクラッド 複合材は、異種金属層が銅との選択エッチング可能な金属成分で構成したものであ り、このクラッド複合材を用いて、銅選択エッチング液で第 2銅層のみをエッチングカロ ェして、片面にエッチング回路パターンを形成し、エッチング回路パターン面に露出 した異種金属層を除去した回路パターン付クラッド複合材を得るクラッド複合材エツ チング工程。
工程 3— b : クラッド複合材エッチング工程で得られた回路パターン付クラッド複合材 のエッチング回路パターン面を基材表面に当接させ、基材表面に張り合わせ当該ェ ツチングパターンが絶縁層内に埋設した状態の金属張積層板とする積層工程。 工程 3— c : 金属張積層板の外層面にある第 1銅層にエッチングレジスト層を形成し 、エッチング回路パターンを露光し、現像し、銅選択エッチング液を用いて外層に位 置する第 1銅層を所望の回路形状にエッチング加工し、エッチングレジスト剥離を行 うことで、第 1回路と第 2回路とを同時に形成しプリント配線板とする第 1銅エッチング 工程。
[14] 工程 3— bと工程 3 じとの間に層間導通手段形成工程を設けた請求項 13に記載の 抵抗回路を備えたプリント配線板の製造方法。
[15] 回路パターン付クラッド複合材は、エッチング回路パターン面に基材との密着性を向 上させるための密着性向上処理を施したものを用いる請求項 13又は請求項 14に記 載のプリント配線板の製造方法。
[16] 片面側の同一基準平面に厚さの異なる第 1回路と第 2回路とが併存する両面プリント 配線板の製造方法であって、
以下に示す工程 4 a〜工程 4 eを備えることを特徴とする両面プリント配線板の 製造方法。
工程 4 a : 第 1銅層 Z異種金属層 Z第 2銅層の 3層が順次積層した状態のクラッド 複合材は、異種金属層が銅との選択エッチング可能な金属成分で構成したものであ り、このクラッド複合材と、銅箔とを用いて、絶縁層を構成する基材の各々一面側に張 り合わせ、金属張積層板とする積層工程。
工程 4 b: 絶縁層の一面側に位置するクラッド複合材の第 1銅層及び他面側の銅 箔層にエッチングレジスト層を形成し、エッチング回路パターンを露光し、現像し、銅 選択エッチング液を用いて外層に位置する第 1銅層及び銅箔を所望の回路形状に エッチング加工し、エッチングレジスト剥離を行うことで、クラッド複合材は不要な第 1 銅層を除去し異種金属層を露出させ、銅箔は所望の回路形状とする第 1銅エツチン グ工程。 工程 4— c : 第 1銅エッチング工程が終了し、外層に一時的に形成した回路間に露 出した異種金属層を異種金属選択エッチング液を用いてエッチング除去し、第 1回 路形状を形成する第 1異種金属エッチング工程。
工程 4 d : 第 1異種金属エッチング工程の終了後、第 1回路とする部位にのみエツ チングレジスト層を再度形成し、銅選択エッチング液を用いてエッチングを行うことで 、エッチングレジスト層の無い第 1銅層の部位をエッチング除去して、異種金属層を 残した第 2回路を形成し、エッチングレジスト剥離することで、第 2回路の異種金属層 を露出させる第 2銅エッチング工程。
工程 4 e : 更に、異種金属選択エッチング液を用いて第 2回路の表面にある異種 金属層のみを除去し、最終的な第 2回路形状を形成し両面プリント配線板とする異種 金属層除去工程。
[17] 前記工程 4— aと工程 4— bとの間に、当該金属張り積層板の絶縁層の両面に位置す るクラッド複合材と銅箔との間の電気的導通を確保するためのスルーホール、ビアホ 一ル等を形成する層間導通手段形成工程を設けた請求項 16に記載の両面プリント 配線板の製造方法。
[18] クラッド複合材は、その基材との張り合わせ面に基材との密着性を向上させるための 密着性向上処理を施したものを用いる請求項 16又は請求項 17に記載の両面プリン ト配線板の製造方法。
[19] 片面側の同一基準平面に厚さの異なる第 1回路と第 2回路とが併存する両面プリント 配線板の製造方法であって、
以下に示す工程 5— a〜工程 5— dを備えることを特徴とする両面プリント配線板の 製造方法。
工程 5 a: 第 1銅層 Z異種金属層 Z第 2銅層の 3層が順次積層したクラッド複合材 は、異種金属層が銅との選択エッチング可能な金属成分で構成したものであり、この クラッド複合材を用いて、第 2銅層のみをエッチング加工して、片面にエッチング回路 ノ ターンを形成し、回路パターン付クラッド複合材を得るクラッド複合材エッチングェ 程。
工程 5— b : 当該回路パターン付クラッド複合材と、銅箔とを用いて、絶縁層を構成 する基材の各々一面側に張り合わせ、金属張積層板とする積層工程。 工程 5— c: 絶縁層の一面側に位置するクラッド複合材の第 1銅層及び他面側の銅 箔層にエッチングレジスト層を形成し、エッチング回路パターンを露光し、現像し、銅 選択エッチング液を用いて外層に位置する第 1銅層及び銅箔を所望の回路形状に エッチング加工し、エッチングレジスト剥離を行うことで、クラッド複合材は不要な第 1 銅層を除去し異種金属層を露出させ、銅箔は所望の回路形状とする第 1銅エツチン グ工程。
工程 5— d : 第 1銅エッチング工程が終了し、外層に一時的に形成した回路間に露 出した異種金属層を異種金属選択エッチング液を用いてエッチング除去し、第 1回 路、第 2回路及び銅箔回路を形成し両面プリント配線板とする第 1異種金属エツチン グ工程。
[20] 前記工程 5— bと工程 5— cとの間に、当該金属張り積層板の絶縁層の両面に位置す る回路パターン付クラッド複合材と銅箔との間の電気的導通を確保するためのスルー ホール、ビアホール等を形成する層間導通手段形成工程を設けた請求項 19に記載 の両面プリント配線板の製造方法。
[21] 回路パターン付クラッド複合材は、その基材とのエッチング回路パターン面に露出し た異種金属層を除去したものを用いる請求項 19又は請求項 20に記載の両面プリン ト配線板の製造方法。
[22] 回路パターン付クラッド複合材は、その基材とのエッチング回路パターン面に基材と の密着性を向上させるための密着性向上処理を施したものを用いる請求項 19〜請 求項 21のいずれかに記載の両面プリント配線板の製造方法。
[23] 内層回路を備えた内層コア材の表面に位置する絶縁層の同一基準平面に厚さの異 なる第 1回路と第 2回路とが併存する回路層を備えたプリント配線板の製造方法であ つて、
以下に示す工程 6— a〜工程 6— eを備えることを特徴とする多層プリント配線板の 製造方法。
工程 6— a : 第 1銅層 Z異種金属層 Z第 2銅層の 3層が順次積層した状態のクラッド 複合材は、異種金属層が銅との選択エッチング可能な金属成分で構成したものであ り、このクラッド複合材を、内層コア材の表面に絶縁層を介して張り合わせ、多層金属 張積層板とする積層工程。
工程 6— b : 当該多層金属張積層板の外層に位置する第 1銅層にエッチングレジス ト層を形成し、エッチング回路パターンを露光し、現像し、銅選択エッチング液を用い て外層に位置する第 1銅層を所望の回路形状にエッチング加工し、エッチングレジス ト剥離を行うことで、不要な第 1銅層を除去した部位にて、異種金属層を露出させる 第 1銅エッチング工程。
工程 6— c : 第 1銅エッチング工程が終了し、外層に一時的に形成した回路間に露 出した異種金属層を異種金属選択エッチング液を用いてエッチング除去し、第 1回 路形状を形成する第 1異種金属エッチング工程。
工程 6— d : 第 1異種金属エッチング工程の終了後、第 1回路とする部位にのみエツ チングレジスト層を再度形成し、銅選択エッチング液を用いてエッチングを行うことで 、エッチングレジスト層の無い第 1銅層の部位をエッチング除去して、異種金属層を 残した第 2回路を形成し、エッチングレジスト剥離することで、第 2回路の異種金属層 を露出させる第 2銅エッチング工程。
工程 6— e : 更に、異種金属選択エッチング液を用いて第 2回路の表面にある異種 金属層のみを除去し、最終的な第 2回路形状を形成しプリント配線板とする異種金属 層除去工程。
[24] 前記工程 6— aと工程 6— bとの間に、当該金属張積層板の絶縁層の両面に位置する クラッド複合材と内層回路との電気的導通を確保するためのスルーホール、ビアホー ル等を形成する層間導通手段形成工程を設けた請求項 23に記載の多層プリント配 線板の製造方法。
[25] クラッド複合材は、その基材との張り合わせ面に基材との密着性を向上させるための 密着性向上処理を施したものを用いる請求項 23又は請求項 24に記載の多層プリン ト配線板の製造方法。
[26] 内層回路を備えた内層コア材の表面に位置する絶縁層の同一基準平面に厚さの異 なる第 1回路と第 2回路とが併存する回路層を備えたプリント配線板の製造方法であ つて、 以下に示す工程 7— a〜工程 7— dを備えることを特徴とする多層プリント配線板の 製造方法。
工程 7— a: 第 1銅層 Z異種金属層 Z第 2銅層の 3層が順次積層したクラッド複合材 は、異種金属層が銅との選択エッチング可能な金属成分で構成したものであり、この クラッド複合材を用いて、銅選択エッチング液で第 2銅層のみをエッチング加工して、 片面にエッチング回路パターンを形成し、回路パターン付クラッド複合材を得るクラッ ド複合材エッチング工程。
工程 7—b : 内層コア材の両面に絶縁層を設け、この絶縁層の両面に、クラッド複合 材エッチング工程で得られた回路パターン付クラッド複合材のエッチング回路パター ン面を基材表面に当接させ、張り合わせて当該エッチングパターンが絶縁層内に埋 設した状態の多層金属張積層板とする積層工程。
工程 7— c : 前記多層金属張積層板の外層面にある第 1銅層にエッチングレジスト 層を形成し、エッチング回路パターンを露光し、現像し、銅選択エッチング液を用い て外層に位置する第 1銅層を所望の回路形状にエッチング加工し、エッチングレジス ト剥離を行うことで、不要な第 1銅層を除去する第 1銅エッチング工程。
工程 7— d : 第 1銅エッチング工程が終了し、外層に一時的に形成した回路の間に 露出した異種金属層を異種金属選択エッチング液を用いてエッチング除去し、第 1 回路 8と第 2回路 9とを同時に完成させ、多層プリント配線板とする第 1異種金属エツ チング工程。
[27] 前記工程 7—bと工程 7— cとの間に、当該金属張積層板の絶縁層の両面に位置する 回路パターン付クラッド複合材と内層回路との電気的導通を確保するためのスルー ホール、ビアホール等を形成する層間導通手段形成工程を設けた請求項 26に記載 の多層プリント配線板の製造方法。
[28] 回路パターン付クラッド複合材は、その基材とのエッチング回路パターン面に露出し た異種金属層を除去したものを用いる請求項 26又は請求項 27に記載の多層プリン ト配線板の製造方法。
[29] 回路パターン付クラッド複合材は、その基材とのエッチング回路パターン面に基材と の密着性を向上させるための密着性向上処理を施したものを用いる請求項 26〜請 求項 29のいずれかに記載の多層プリント配線板の製造方法。
[30] 前記クラッド複合材として、当該異種金属層に銅との選択エッチングの可能な-ッケ ル、スズ、アルミニウム、チタン又はこれらの合金のいずれかを用いる請求項 6〜請求 項 29のいずれかに記載のプリント配線板の製造方法。
[31] 前記クラッド複合材として、第 1銅層 Z異種金属層 Z第 2銅層の構成に於いて、トー タル厚さが 10 μ m〜2000 μ mであり、異種金属層の厚さが 0. 01 μ m〜5 μ mであ るものを用いる請求項 6〜請求項 30のいずれかに記載のプリント配線板の製造方法
[32] 前記クラッド複合材として、第 1銅層 Z異種金属層 Z第 2銅層の構成に於いて、 3層 のトータル厚さが 10 μ m〜2000 μ m、第 1銅層と第 2銅層とのトータル厚さが 1 μ m 〜1600 μ mであり、異種金属層がクラッド複合材のトータル厚さの 50%〜80%厚さ であり、銅との選択エッチング可能な金属材で構成したものを用いた請求項 6〜請求 項 31の 、ずれかに記載のプリント配線板の製造方法。
PCT/JP2005/021218 2004-11-19 2005-11-18 プリント配線板及びそのプリント配線板の製造方法 WO2006054684A1 (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US11/719,803 US8138423B2 (en) 2004-11-19 2005-11-18 Printed wiring board and method for manufacturing printed wiring board
EP05807092A EP1830611A4 (en) 2004-11-19 2005-11-18 PRINTED CIRCUIT BOARD AND METHOD FOR MANUFACTURING CIRCUIT BOARD

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004336480A JP4713131B2 (ja) 2004-11-19 2004-11-19 プリント配線板及びそのプリント配線板の製造方法
JP2004-336480 2004-11-19

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2006054684A1 true WO2006054684A1 (ja) 2006-05-26

Family

ID=36407220

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2005/021218 WO2006054684A1 (ja) 2004-11-19 2005-11-18 プリント配線板及びそのプリント配線板の製造方法

Country Status (5)

Country Link
US (1) US8138423B2 (ja)
EP (1) EP1830611A4 (ja)
JP (1) JP4713131B2 (ja)
TW (1) TW200624001A (ja)
WO (1) WO2006054684A1 (ja)

Families Citing this family (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4799349B2 (ja) * 2006-09-29 2011-10-26 株式会社フジクラ 電源分配装置およびその製造方法
KR100836653B1 (ko) * 2006-10-25 2008-06-10 삼성전기주식회사 회로기판 및 그 제조방법
JP2009117600A (ja) * 2007-11-06 2009-05-28 Nippon Mektron Ltd バンプ付き回路配線板の製造方法
JP2009123971A (ja) * 2007-11-15 2009-06-04 Nippon Mektron Ltd バンプ付き回路配線板の製造方法
TW200948238A (en) * 2008-05-13 2009-11-16 Unimicron Technology Corp Structure and manufacturing process for circuit board
KR101019150B1 (ko) * 2008-06-30 2011-03-04 삼성전기주식회사 비아-온-패드 구조를 갖는 인쇄회로기판 제조방법
TWI420990B (zh) * 2010-03-18 2013-12-21 Zhen Ding Technology Co Ltd 電路板製作方法
KR20130097481A (ko) * 2012-02-24 2013-09-03 삼성전자주식회사 인쇄회로기판(pcb) 및 그 pcb를 포함한 메모리 모듈
DE102012224284A1 (de) * 2012-12-21 2014-06-26 Heraeus Precious Metals Gmbh & Co. Kg Dünne Metallmembran mit Träger
US9165878B2 (en) 2013-03-14 2015-10-20 United Test And Assembly Center Ltd. Semiconductor packages and methods of packaging semiconductor devices
US9087777B2 (en) * 2013-03-14 2015-07-21 United Test And Assembly Center Ltd. Semiconductor packages and methods of packaging semiconductor devices
CN104349609A (zh) * 2013-08-08 2015-02-11 北大方正集团有限公司 印刷线路板及其制作方法
KR101509747B1 (ko) * 2013-12-20 2015-04-07 현대자동차 주식회사 방열 인쇄 회로 기판 및 그 제조 방법
CN104684264A (zh) * 2015-02-14 2015-06-03 深圳市五株科技股份有限公司 印刷电路板内层芯板的蚀刻方法
US10410939B2 (en) 2015-12-16 2019-09-10 Intel Corporation Package power delivery using plane and shaped vias
KR20180113996A (ko) * 2016-02-18 2018-10-17 미쓰이금속광업주식회사 프린트 배선판 제조용 구리박, 캐리어를 구비한 구리박 및 동장 적층판 그리고 그것들을 사용한 프린트 배선판의 제조 방법
CN107920415B (zh) * 2016-10-06 2020-11-03 鹏鼎控股(深圳)股份有限公司 具厚铜线路的电路板及其制作方法
CN106604524A (zh) * 2016-11-21 2017-04-26 努比亚技术有限公司 柔性电路板
CN108135078A (zh) * 2017-12-31 2018-06-08 长沙牧泰莱电路技术有限公司 一种复合母排pcb板及其加工方法
DE102018212272A1 (de) * 2018-07-24 2020-01-30 Robert Bosch Gmbh Keramischer Schaltungsträger und Elektronikeinheit
US10888002B2 (en) * 2019-03-28 2021-01-05 At&S Austria Technologie & Systemtechnik Aktiengesellschaft Component carrier with embedded tracks protruding up to different heights
CN112333926B (zh) * 2020-10-20 2022-05-31 盐城维信电子有限公司 一种具有不同厚度金属层的线路板制作方法
CN115529719B (zh) * 2022-11-01 2023-08-29 深圳市丰达兴线路板制造有限公司 一种具有表面金属线防护结构的线路板

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6027466U (ja) * 1983-07-30 1985-02-25 日本メクトロン株式会社 フレキシブル回路基板用基材
JPS62185396A (ja) * 1986-02-10 1987-08-13 電気化学工業株式会社 金属ベ−ス混成集積微細回路基板の製法
JPH05299816A (ja) * 1992-04-23 1993-11-12 Hitachi Chem Co Ltd 配線板の製造法
JPH09199816A (ja) * 1996-01-16 1997-07-31 Sumitomo Wiring Syst Ltd フレキシブルプリント基板およびその製造方法
WO2002005604A1 (fr) * 2000-07-07 2002-01-17 Mitsui Mining & Smelting Co.,Ltd. Feuille de cuivre composite a feuille support, procede de fabrication de carte imprimee a circuit de resistance, et carte imprimee a circuit de resistance
JP2003046247A (ja) * 2001-08-02 2003-02-14 Mitsui Chemicals Inc 多層プリント配線板およびその製造方法

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS58119340A (ja) 1982-01-06 1983-07-15 Teikoku Kako Kk 変色吸着剤
JP2664408B2 (ja) * 1988-04-18 1997-10-15 三洋電機株式会社 混成集積回路の製造方法
DE69218344T2 (de) * 1991-11-29 1997-10-23 Hitachi Chemical Co Ltd Herstellungsverfahren für eine gedruckte Schaltung
JPH077272A (ja) 1993-06-15 1995-01-10 Cmk Corp 多層プリント配線板
JPH07111386A (ja) 1993-10-12 1995-04-25 Hitachi Ltd 多層配線基板およびその製造方法
JPH07221411A (ja) * 1994-02-08 1995-08-18 Toyota Autom Loom Works Ltd プリント配線基板及びその製造方法
JPH1032371A (ja) * 1996-05-17 1998-02-03 Furukawa Electric Co Ltd:The 複合回路基板およびその製造方法
JPH10313152A (ja) * 1997-05-09 1998-11-24 Furukawa Electric Co Ltd:The 回路基板
JP3606763B2 (ja) 1999-03-30 2005-01-05 日本メクトロン株式会社 可撓性回路基板の製造法
TWI243008B (en) * 1999-12-22 2005-11-01 Toyo Kohan Co Ltd Multi-layer printed circuit board and its manufacturing method
JP4411720B2 (ja) * 2000-02-02 2010-02-10 パナソニック株式会社 熱伝導基板とその製造方法
JP4459406B2 (ja) * 2000-07-27 2010-04-28 ソニーケミカル&インフォメーションデバイス株式会社 フレキシブル配線板製造方法
JP3520039B2 (ja) * 2000-10-05 2004-04-19 三洋電機株式会社 半導体装置および半導体モジュール
JP4133560B2 (ja) * 2003-05-07 2008-08-13 インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション プリント配線基板の製造方法およびプリント配線基板

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6027466U (ja) * 1983-07-30 1985-02-25 日本メクトロン株式会社 フレキシブル回路基板用基材
JPS62185396A (ja) * 1986-02-10 1987-08-13 電気化学工業株式会社 金属ベ−ス混成集積微細回路基板の製法
JPH05299816A (ja) * 1992-04-23 1993-11-12 Hitachi Chem Co Ltd 配線板の製造法
JPH09199816A (ja) * 1996-01-16 1997-07-31 Sumitomo Wiring Syst Ltd フレキシブルプリント基板およびその製造方法
WO2002005604A1 (fr) * 2000-07-07 2002-01-17 Mitsui Mining & Smelting Co.,Ltd. Feuille de cuivre composite a feuille support, procede de fabrication de carte imprimee a circuit de resistance, et carte imprimee a circuit de resistance
JP2003046247A (ja) * 2001-08-02 2003-02-14 Mitsui Chemicals Inc 多層プリント配線板およびその製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
TWI314430B (ja) 2009-09-01
JP2006147881A (ja) 2006-06-08
US8138423B2 (en) 2012-03-20
JP4713131B2 (ja) 2011-06-29
TW200624001A (en) 2006-07-01
EP1830611A4 (en) 2009-06-24
EP1830611A1 (en) 2007-09-05
US20090145630A1 (en) 2009-06-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
WO2006054684A1 (ja) プリント配線板及びそのプリント配線板の製造方法
KR100834591B1 (ko) 양면 배선기판과, 양면 배선기판 제조방법 및 다층배선기판
CN104244616B (zh) 一种无芯板薄型基板的制作方法
KR100701353B1 (ko) 다층 인쇄 회로 기판 및 그 제조 방법
JP5216079B2 (ja) 多層プリント配線板の製造方法
WO2018110437A1 (ja) 配線基板、多層配線基板、及び配線基板の製造方法
US20200337156A1 (en) Multilayer printed wiring board and method of manufacturing the same
JP3441368B2 (ja) 多層配線基板およびその製造方法
JP2005038918A (ja) 多層フレキシブルプリント配線板及びその製造方法
JP4738895B2 (ja) ビルドアップ型多層フレキシブル回路基板の製造方法
JP4011968B2 (ja) 配線基板およびその製造方法ならびに導体張板
JP4713305B2 (ja) 抵抗回路付プリント配線板及びその製造方法
JP2009026898A (ja) 多層プリント配線板の製造方法、多層プリント配線板
JP2003273509A (ja) 配線基板およびその製造方法
EP1631134B1 (en) Multilayer circuit board and method of producing the same
JP2007043201A (ja) 多層配線基板の製造方法
JPH098458A (ja) プリント配線板及びその製造方法
JP4466169B2 (ja) 半導体装置用基板の製造方法
JP5512578B2 (ja) ビルドアップ型多層フレキシブル回路基板の製造方法
JPH0818228A (ja) 多層プリント配線板の製造方法
JP2000036664A (ja) 多層配線基板およびその製造方法
JPH1168308A (ja) 配線基板の製造方法
JP2009141298A (ja) 多層配線板及びその製造方法
JP2001189536A (ja) 配線基板
JPH06302959A (ja) 多層プリント配線板の製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
AK Designated states

Kind code of ref document: A1

Designated state(s): AE AG AL AM AT AU AZ BA BB BG BR BW BY BZ CA CH CN CO CR CU CZ DE DK DM DZ EC EE EG ES FI GB GD GE GH GM HR HU ID IL IN IS KE KG KM KN KP KR KZ LC LK LR LS LT LU LV LY MA MD MG MK MN MW MX MZ NA NG NI NO NZ OM PG PH PL PT RO RU SC SD SE SG SK SL SM SY TJ TM TN TR TT TZ UA UG US UZ VC VN YU ZA ZM ZW

AL Designated countries for regional patents

Kind code of ref document: A1

Designated state(s): BW GH GM KE LS MW MZ NA SD SL SZ TZ UG ZM ZW AM AZ BY KG KZ MD RU TJ TM AT BE BG CH CY CZ DE DK EE ES FI FR GB GR HU IE IS IT LT LU LV MC NL PL PT RO SE SI SK TR BF BJ CF CG CI CM GA GN GQ GW ML MR NE SN TD TG

121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application
NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 2005807092

Country of ref document: EP

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 11719803

Country of ref document: US

WWP Wipo information: published in national office

Ref document number: 2005807092

Country of ref document: EP