WO2006033267A1 - 新規なポリイミドフィルム並びにそれを用いて得られる接着フィルム、フレキシブル金属張積層板 - Google Patents

新規なポリイミドフィルム並びにそれを用いて得られる接着フィルム、フレキシブル金属張積層板 Download PDF

Info

Publication number
WO2006033267A1
WO2006033267A1 PCT/JP2005/016889 JP2005016889W WO2006033267A1 WO 2006033267 A1 WO2006033267 A1 WO 2006033267A1 JP 2005016889 W JP2005016889 W JP 2005016889W WO 2006033267 A1 WO2006033267 A1 WO 2006033267A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
film
polyimide film
polyimide
clad laminate
flexible metal
Prior art date
Application number
PCT/JP2005/016889
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
Takashi Kikuchi
Hisayasu Kaneshiro
Original Assignee
Kaneka Corporation
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kaneka Corporation filed Critical Kaneka Corporation
Priority to US11/663,622 priority Critical patent/US8426548B2/en
Priority to CN200580032496XA priority patent/CN101027345B/zh
Priority to JP2006536349A priority patent/JPWO2006033267A1/ja
Publication of WO2006033267A1 publication Critical patent/WO2006033267A1/ja

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B15/00Layered products comprising a layer of metal
    • B32B15/04Layered products comprising a layer of metal comprising metal as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material
    • B32B15/08Layered products comprising a layer of metal comprising metal as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material of synthetic resin
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B15/00Layered products comprising a layer of metal
    • B32B15/18Layered products comprising a layer of metal comprising iron or steel
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B15/00Layered products comprising a layer of metal
    • B32B15/20Layered products comprising a layer of metal comprising aluminium or copper
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/18Layered products comprising a layer of synthetic resin characterised by the use of special additives
    • B32B27/20Layered products comprising a layer of synthetic resin characterised by the use of special additives using fillers, pigments, thixotroping agents
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/28Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising synthetic resins not wholly covered by any one of the sub-groups B32B27/30 - B32B27/42
    • B32B27/281Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising synthetic resins not wholly covered by any one of the sub-groups B32B27/30 - B32B27/42 comprising polyimides
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B7/00Layered products characterised by the relation between layers; Layered products characterised by the relative orientation of features between layers, or by the relative values of a measurable parameter between layers, i.e. products comprising layers having different physical, chemical or physicochemical properties; Layered products characterised by the interconnection of layers
    • B32B7/04Interconnection of layers
    • B32B7/12Interconnection of layers using interposed adhesives or interposed materials with bonding properties
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G73/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule, not provided for in groups C08G12/00 - C08G71/00
    • C08G73/06Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain of the macromolecule
    • C08G73/10Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
    • C08G73/1003Preparatory processes
    • C08G73/1007Preparatory processes from tetracarboxylic acids or derivatives and diamines
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G73/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule, not provided for in groups C08G12/00 - C08G71/00
    • C08G73/06Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain of the macromolecule
    • C08G73/10Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
    • C08G73/1003Preparatory processes
    • C08G73/1007Preparatory processes from tetracarboxylic acids or derivatives and diamines
    • C08G73/1028Preparatory processes from tetracarboxylic acids or derivatives and diamines characterised by the process itself, e.g. steps, continuous
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G73/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule, not provided for in groups C08G12/00 - C08G71/00
    • C08G73/06Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain of the macromolecule
    • C08G73/10Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
    • C08G73/1046Polyimides containing oxygen in the form of ether bonds in the main chain
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G73/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule, not provided for in groups C08G12/00 - C08G71/00
    • C08G73/06Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain of the macromolecule
    • C08G73/10Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
    • C08G73/1067Wholly aromatic polyimides, i.e. having both tetracarboxylic and diamino moieties aromatically bound
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G73/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule, not provided for in groups C08G12/00 - C08G71/00
    • C08G73/06Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain of the macromolecule
    • C08G73/10Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
    • C08G73/1067Wholly aromatic polyimides, i.e. having both tetracarboxylic and diamino moieties aromatically bound
    • C08G73/1071Wholly aromatic polyimides containing oxygen in the form of ether bonds in the main chain
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J179/00Adhesives based on macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing nitrogen, with or without oxygen, or carbon only, not provided for in groups C09J161/00 - C09J177/00
    • C09J179/04Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain; Polyhydrazides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
    • C09J179/08Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J7/00Adhesives in the form of films or foils
    • C09J7/20Adhesives in the form of films or foils characterised by their carriers
    • C09J7/22Plastics; Metallised plastics
    • C09J7/25Plastics; Metallised plastics based on macromolecular compounds obtained otherwise than by reactions involving only carbon-to-carbon unsaturated bonds
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J7/00Adhesives in the form of films or foils
    • C09J7/30Adhesives in the form of films or foils characterised by the adhesive composition
    • C09J7/35Heat-activated
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/03Use of materials for the substrate
    • H05K1/0313Organic insulating material
    • H05K1/032Organic insulating material consisting of one material
    • H05K1/0346Organic insulating material consisting of one material containing N
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2255/00Coating on the layer surface
    • B32B2255/10Coating on the layer surface on synthetic resin layer or on natural or synthetic rubber layer
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2255/00Coating on the layer surface
    • B32B2255/24Organic non-macromolecular coating
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2255/00Coating on the layer surface
    • B32B2255/26Polymeric coating
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2307/00Properties of the layers or laminate
    • B32B2307/30Properties of the layers or laminate having particular thermal properties
    • B32B2307/308Heat stability
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2307/00Properties of the layers or laminate
    • B32B2307/50Properties of the layers or laminate having particular mechanical properties
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2307/00Properties of the layers or laminate
    • B32B2307/50Properties of the layers or laminate having particular mechanical properties
    • B32B2307/51Elastic
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2307/00Properties of the layers or laminate
    • B32B2307/50Properties of the layers or laminate having particular mechanical properties
    • B32B2307/54Yield strength; Tensile strength
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2307/00Properties of the layers or laminate
    • B32B2307/50Properties of the layers or laminate having particular mechanical properties
    • B32B2307/546Flexural strength; Flexion stiffness
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2307/00Properties of the layers or laminate
    • B32B2307/70Other properties
    • B32B2307/732Dimensional properties
    • B32B2307/734Dimensional stability
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2457/00Electrical equipment
    • B32B2457/08PCBs, i.e. printed circuit boards
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J2301/00Additional features of adhesives in the form of films or foils
    • C09J2301/30Additional features of adhesives in the form of films or foils characterized by the chemical, physicochemical or physical properties of the adhesive or the carrier
    • C09J2301/312Additional features of adhesives in the form of films or foils characterized by the chemical, physicochemical or physical properties of the adhesive or the carrier parameters being the characterizing feature
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J2479/00Presence of polyamine or polyimide
    • C09J2479/08Presence of polyamine or polyimide polyimide
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J2479/00Presence of polyamine or polyimide
    • C09J2479/08Presence of polyamine or polyimide polyimide
    • C09J2479/086Presence of polyamine or polyimide polyimide in the substrate
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/0213Electrical arrangements not otherwise provided for
    • H05K1/0237High frequency adaptations
    • H05K1/024Dielectric details, e.g. changing the dielectric material around a transmission line
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/03Use of materials for the substrate
    • H05K1/0313Organic insulating material
    • H05K1/0353Organic insulating material consisting of two or more materials, e.g. two or more polymers, polymer + filler, + reinforcement
    • H05K1/036Multilayers with layers of different types
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2201/00Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
    • H05K2201/01Dielectrics
    • H05K2201/0137Materials
    • H05K2201/0154Polyimide
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/12All metal or with adjacent metals
    • Y10T428/12493Composite; i.e., plural, adjacent, spatially distinct metal components [e.g., layers, joint, etc.]
    • Y10T428/12535Composite; i.e., plural, adjacent, spatially distinct metal components [e.g., layers, joint, etc.] with additional, spatially distinct nonmetal component
    • Y10T428/12556Organic component
    • Y10T428/12569Synthetic resin
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/28Web or sheet containing structurally defined element or component and having an adhesive outermost layer
    • Y10T428/2813Heat or solvent activated or sealable
    • Y10T428/2817Heat sealable
    • Y10T428/2826Synthetic resin or polymer
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/31504Composite [nonstructural laminate]
    • Y10T428/31678Of metal
    • Y10T428/31681Next to polyester, polyamide or polyimide [e.g., alkyd, glue, or nylon, etc.]
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/31504Composite [nonstructural laminate]
    • Y10T428/31721Of polyimide

Definitions

  • Novel polyimide film obtained by using the same, and flexible metal-clad laminate
  • the present invention is a polyimide film that can suppress dimensional changes that occur in the manufacturing process of a flexible metal-clad laminate, particularly when a metal foil is bonded by a thermal laminating method with an adhesive layer provided.
  • the present invention relates to a polyimide film from which a flexible metal-clad laminate having dimensional stability is obtained, an adhesive film obtained by using the polyimide film, and a flexible metal-clad laminate.
  • the flexible printed wiring board has a structure in which a circuit that also serves as a metal foil is formed on an insulating film.
  • a flexible metal-clad laminate that is the basis of the flexible wiring board is generally formed of various insulating materials, and a flexible insulating film is used as a substrate, and various adhesive materials are interposed on the surface of the substrate.
  • the metal foil is manufactured by a method of bonding by heating and pressure bonding.
  • a polyimide film or the like is preferably used as the insulating film.
  • thermosetting adhesives such as epoxy and acrylic are generally used (FPC using these thermosetting adhesives is hereinafter referred to as three-layer FPC).
  • Thermosetting adhesives have the advantage that they can be bonded at relatively low temperatures.
  • FPCs hereinafter also referred to as double-layer FPCs
  • a metal layer is directly provided on an insulating film or thermoplastic polyimide is used for an adhesive layer
  • This two-layer FPC has better characteristics than the three-layer FPC, and demand is expected to grow in the future.
  • a polyamic acid precursor which is a polyimide precursor
  • a metal foil is cast on a metal foil, applied, and then imidized by a casting method, sputtering, or plating.
  • a metalizing method in which a metal layer is directly formed on a polyimide film
  • a laminating method in which a polyimide film and a metal foil are bonded via a thermoplastic polyimide.
  • the laminating method is superior in that the thickness range of the metal foil that can be handled is wider than that of the casting method, and the device cost is lower than that of the metalizing method.
  • a laminating apparatus a hot roll laminating apparatus or a double belt press apparatus for continuously laminating a roll-shaped material is used. Of these, the hot roll laminating method can be used more preferably from the viewpoint of productivity.
  • thermosetting resin used for the adhesive layer, so that the laminating temperature could be less than 200 ° C (Patent Document) 1).
  • the double-layer FPC uses thermoplastic polyimide as the adhesive layer, so it is necessary to cover a high temperature of 200 ° C or higher, and in some cases close to 400 ° C, in order to achieve heat-fusibility. . For this reason, residual strain occurs in the flexible metal-clad laminate obtained by lamination, and changes in dimensions appear when etching is performed to form wiring and when solder reflow is performed to mount components.
  • the thickness of the insulating layer used in the current two-layer FPC is mainly 25 / ⁇ ⁇ (1 mil). Force Due to further reduction of board mounting space, problems such as springback, etc. The demand for a so-called “NOF mill” with a thickness of 15 / zm or less has begun to appear. However, since the thickness of the adhesive film is thinner in half-mill products, it is more susceptible to thermal stress during lamination, and the hurdles to improve dimensional change are considerably higher than in 1-mil products.
  • Patent Document 1 Japanese Patent Laid-Open No. 9-199830
  • Patent Document 2 JP 2002-326308 A
  • Patent Document 3 Japanese Patent Laid-Open No. 2002-326280
  • the present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to provide a polyimide film capable of suppressing a dimensional change that occurs in the manufacturing process of a flexible copper-clad laminate, in particular, a material by a laminating method. Dimension obtained by bonding a polyimide film with a function of suppressing thermal strain on the surface, an adhesive film provided with an adhesive layer on at least one side of the polyimide film, and a metal foil bonded to the adhesive film by a thermal laminating method It is an object of the present invention to provide a flexible metal-clad laminate that can suppress the occurrence of changes, particularly a flexible metal-clad laminate that can suppress the occurrence of dimensional changes even when the thickness of an adhesive film is thin.
  • the value of the storage elastic modulus is a specific value.
  • the range-controlled polyimide film can suppress dimensional changes that can occur in the production process of a flexible copper-clad laminate using the polyimide film, and in particular, the core layer of an adhesive film in which an adhesive layer is provided on at least one side of the film.
  • the thermal distortion during thermal lamination can be alleviated and the occurrence of dimensional change can be effectively suppressed, and the present invention has been completed. That is, the above object can be achieved by the following novel polyimide film, an adhesive film using the same, and a flexible metal-clad laminate.
  • the polyimide film as described in 1) which is obtained by imidizing a polyamic acid solution obtained by passing through
  • the aromatic diamine complex used in the step (a) is a flexible diamine
  • the aromatic diamine complex used in the step (b) is a rigid diamine.
  • the polyimide film has a hygroscopic expansion coefficient of 13 ppmZ ° C or less when held at 50% and 40% RH for 3 hours and then at 80% RH for 3 hours.
  • (D-1) at least a part of the film width direction (TD direction) tension is substantially no tension.
  • the polyimide film as described in 7 which is obtained by a method for producing an organic insulating film, which comprises a step of fixing and transporting as described above.
  • thermoplastic polyimide has a glass transition temperature (Tg) of 230 ° C or higher.
  • thermoplastic polyimide Is at least 50 ° C higher than the laminating temperature, and a protective material made of thermoplastic polyimide is placed between the metal foil and the roll, and the protective material is peeled off after cooling after the lamination.
  • the laminate in which the protective material and the flexible metal laminate layer are in close contact with each other is brought into contact with the heating roll for 0.1 to 5 seconds, and then cooled.
  • the dimensional change rate before and after heating at 250 ° C for 30 minutes after removing the metal foil is in the range of -0.04 to + 0.04% in both MD and TD directions.
  • the thickness of the adhesive film is 15 m, and the dimensional change rate power before and after heating at 250 ° C for 30 minutes after removing the metal foil is in the range of 0.05 to + 0.05% in both the MD and TD directions.
  • the polyimide film of the present invention can suppress dimensional changes that occur in the manufacturing process of a flexible copper-clad laminate.
  • it has an inflection point of the storage elastic modulus that relaxes the thermal stress during lamination, and controls its value.
  • the occurrence of dimensional change is effectively suppressed.
  • the dimensional change rate before and after heating at 250 ° C for 30 minutes after removing the metal foil can be in the range of -0.04 to + 0.04% in both the MD and TD directions. It is. Therefore, it can be suitably used for an FPC or the like in which fine wiring is formed, and problems such as misalignment can be improved.
  • the polyimide film satisfies all of the following physical properties (1) to (4), dimensional changes that occur when a flexible metal-clad laminate is produced can be effectively suppressed. That's it.
  • the inflection point of the storage elastic modulus will be described.
  • the inflection point of the storage elastic modulus needs to be in the range of 270 to 340 ° C, preferably 280 to 330 ° C, from the viewpoint of relaxation of thermal stress when the metal foil is laminated by the laminating method.
  • the inflection point of the storage elastic modulus is lower than the above range, the temperature at which the dimensional change after heating of the flexible metal-clad laminate is evaluated (in the field of two-layer FPC, it is evaluated at 250 ° C). In many cases, the core layer begins to soften, which causes the dimensional change to deteriorate.
  • the temperature at which the softness of the core layer starts is high, so that the thermal stress is not sufficiently relaxed during the thermal lamination, and the dimensional change is deteriorated.
  • the peak top of tan ⁇ which is a value obtained by dividing the loss elastic modulus by the storage elastic modulus, needs to be 320 ° C to 410 ° C or more, preferably 330 ° C to 400 ° C. It is. If the peak top of tan ⁇ is lower than the above range, the temperature at which tan ⁇ begins to increase will be around 250 ° C or lower, and the core layer may begin to soften during dimensional change measurement. Dimensional change rate may be worsened.
  • the stored elastic modulus power at 380 ° C is in the range of 0.4 to 2. OGPa, preferably 0.6 to 1.8 GPa, more preferably 0.7 to 1.6 GPa. It is.
  • the glass transition temperature of the adhesive layer needs to be 240 ° C to 280 ° C in order to achieve both solder heat resistance.
  • a laminating temperature of about 380 ° C is required to perform lamination with high productivity. Therefore, storage modulus control at 380 ° C is very important.
  • the storage elastic modulus at 380 ° C is lower than the above range, the film cannot maintain the self-supporting property at the time of imidation or thermal lamination of the film, and the productivity of the film is deteriorated or obtained. This may cause the appearance of the tension laminate to be deteriorated.
  • the temperature is higher than the above range, the core layer does not sufficiently soften, so that the thermal stress relaxation effect at the time of thermal lamination is not sufficiently exhibited, which causes deterioration in dimensional change.
  • the inventors of the present invention have the storage elastic modulus a (GPa) at the inflection point and the storage at 380 ° C.
  • the present inventors have found that it is very important to suppress dimensional changes that occur in the process of manufacturing a flexible metal-clad laminate.
  • the degree of decrease in the storage elastic modulus is small, so that the thermal stress relaxation effect at the time of thermal lamination is not sufficiently exhibited, resulting in deterioration of dimensional change of the obtained flexible metal-clad laminate.
  • the temperature is higher than the above range, the film cannot maintain the self-supporting property, thereby deteriorating the productivity of the film and deteriorating the appearance of the obtained flexible metal-clad laminate.
  • the polyimide film of the present invention provides a solution strength of polyamic acid which is a polyimide precursor.
  • Polyamic acid usually contains an aromatic diamine and an aromatic dianhydride in substantially equimolar amounts. And the resulting polyamic acid organic solvent solution is stirred under controlled temperature conditions until the polymerization of the acid dianhydride and diamine is completed.
  • the These polyamic acid solutions are usually obtained at a concentration of 5 to 35 wt%, preferably 10 to 3 Owt%. When the concentration is in this range, an appropriate molecular weight and solution viscosity are obtained.
  • polyimide film of the present invention various physical properties can be controlled not only by the structure of the starting monomer, diamine and acid dianhydride, but also by controlling the order of monomer addition. Therefore, in order to obtain the polyimide film of the present invention, it is preferable to imidize the polyamic acid solution obtained through the following steps (a) to (c).
  • the step (a) it is preferable to obtain a prepolymer that forms a block component derived from thermoplastic polyimide.
  • a prepolymer that forms a block component derived from a thermoplastic polyimide it is preferable to react a flexible diamine (soft diamine) with an acid dianhydride.
  • the block component derived from thermoplastic polyimide refers to a component that melts when heated to a film strength of 00 ° C. and does not maintain the shape of the film.
  • the polyimide obtained by equimolar reaction of the aromatic diamine compound and the aromatic dianhydride component used in step (a) melts at the above temperature, or the shape of the film changes.
  • the aromatic diamine compound and the aromatic dianhydride component can be selected.
  • a polyamic acid in which thermoplastic sites are scattered in the molecular chain can be obtained.
  • the aromatic diamine compound and the aromatic dianhydride component used in steps (b) and (c) are selected, and the polyamic acid is polymerized so that the final polyimide is non-thermoplastic.
  • the polyimide film obtained by imidizing this has a thermoplastic part, and thus exhibits an inflection point of the storage elastic modulus in a high temperature region.
  • controlling the ratio of thermoplastic and non-thermoplastic sites prevents the storage elastic modulus from drastically decreasing in the high temperature region. It becomes possible.
  • the flexible diamine is a diamine having a flexible structure such as an ether group, a sulfone group, a ketone group, or a sulfide group, and is preferably represented by the following general formula (1). Is.
  • the diamine component used in the step (b) is preferably a rigid structure diamine, since the film finally obtained can be made non-thermoplastic.
  • R2 in the formula is
  • the divalent aromatic group represented by the group force is a group selected, and R in the formula is the same or
  • the use ratio of the rigid structure and the flexible structure (flexible diamine) of diamine is 80:20 to 20:80 in molar ratio, and further 70:30 to 30:70, especially Is preferably in the range of 60:40 to 40:60.
  • the ratio of rigid-structured jamin exceeds the above range, the glass transition temperature of the resulting film becomes too high, and the storage elastic modulus in the high temperature region hardly decreases! ⁇ If the linear expansion coefficient becomes too small! ⁇ ⁇ There may be harmful effects. On the other hand, if it falls below this range, the opposite adverse effects may occur.
  • the flexible structure and the rigid structure of the amine may be used in combination of plural kinds.
  • iS In the polyimide film of the present invention, it is particularly preferable to use 3,4′-diaminodiphenyl ether as the flexible structure diamine.
  • 3,4, -Diaminodiphenyl ether has only one ether bond, which is a bending site, but it is a flexible diammine because it is bonded to one of the amino group catalyses.
  • diamines it exhibits properties close to rigid diamines. That is, the effect of lowering the linear expansion coefficient is exhibited while having the effect of lowering the storage elastic modulus. Therefore, the physical properties of the polyimide film obtained can be balanced by using it in combination with diamine having many bending sites such as 1,3bis (3aminophenoxy) benzene and bis ⁇ 4- (4aminophenoxy) phenyl ⁇ propane. It becomes easy.
  • the amount of 3,4'-diaminodiphenyl ether used is preferably at least 10 mol% of the total diamine component, more preferably at least 15 mol%. If it is less than this, the above effects may not be sufficiently exhibited. On the other hand, the upper limit is preferably 50 mol% or less, more preferably 40 mol% or less. If the amount is higher than this, the linear expansion coefficient of the resulting polyimide film may become too small due to a synergistic effect with the rigid structure amine.
  • Acid dianhydrides that can be used as raw material monomers for the polyimide film of the present invention include pyromellitic dianhydride, 2, 3, 6, 7 naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 3, 3 ', 4 , 4, -biphenyltetracarboxylic dianhydride, 1, 2, 5, 6 naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 2, 2 ', 3, 3, -biphenyltetracarboxylic dianhydride, 3, 3 ', 4, 4, monobenzophenone tetracarboxylic dianhydride, 2, 2', 3, 3'-benzophenone tetracarboxylic dianhydride, 4, 4 'oxyphthalic dianhydride, 3 , 4'-oxyphthalic dianhydride, 2, 2 bis (3,4 dicarboxyphenol) propane dianhydride, 3, 4, 9, 10 perylene tetracarboxylic dianhydride, bis (3,4 ), -
  • acid dianhydrides are also classified into a flexible structure and a rigid structure, and the former is used in step (a) and the latter is used in step (c).
  • Preferred examples of the acid dianhydrides having a flexible structure used in the step (a) include benzophenone tetracarboxylic dianhydrides, oxyphthalic acid dianhydrides, and biphenyl tetracarboxylic dianhydrides. Can be mentioned.
  • Pyromellitic dianhydride is a preferred example of the rigid acid dianhydride used in the step.
  • benzophenone tetracarboxylic dianhydrides Okishifutaru acid dianhydrides
  • preferred amount of Biff We alkenyl tetracarboxylic dianhydrides is 10 to 50 mol relative to the total acid dianhydride 0 / 0, more preferably 15 to 45 mole 0/0, and particularly preferably 20-40 mol%.
  • the soft transition diamine alone may not provide a glass transition temperature that is too high or the storage elastic modulus in the high temperature region may not be sufficiently reduced.
  • the amount is larger than the above range, the glass transition temperature may be too low, or the storage elastic modulus in the high temperature region may be too low, making film formation difficult.
  • the preferred amount is 40 to: LOO mol%, more preferably 50 to 90 mol%, particularly preferably 60 to 80 mol%.
  • the polyimide film according to the present invention uses the aromatic dianhydride and aromatic diamine within the above-mentioned ranges by determining the type and blending ratio, so that the desired glass transition temperature and high temperature range can be obtained.
  • the tensile elastic modulus is 6. OGPa or more, considering the processing method of the adhesive film, that is, the heat laminating method. 6. More preferably 5 GPa or more. If the tensile modulus is smaller than the above value, it will be susceptible to tension, and residual stress will be generated in the flexible metal-clad laminate, causing dimensional changes. In addition, when the film thickness is reduced, the stiffness of the film is weak, which may cause problems in transportability and handling.
  • the upper limit of the tensile modulus is preferably lOGPa or less. 9. OGPa or less is more preferable. If it is larger than the above value, the stiffness may be too strong, causing problems in handling.
  • Tensile modulus increases the proportion of rigid structure diamine or dianhydride, or 3, 4, diaminodiphenyl ether. By increasing the value, it decreases by decreasing the ratio.
  • the hygroscopic expansion coefficient when the polyimide film was held at 50 ° C and 40% RH for 3 hours and then held at 80% RH for 3 hours was 13ppm / ° C. It is preferable that the concentration is not more than l lppmZ ° C. If the hygroscopic expansion coefficient is larger than the above value, the dimensional change becomes more dependent on the environment, which may cause problems when used as an FPC. The hygroscopic expansion coefficient tends to increase as the proportion of polar groups such as ether groups and carbonyl groups in the polyimide molecular chain increases.
  • a diamine component or acid dianhydride component having a low molecular weight tends to increase. Therefore, it can be controlled by adjusting the usage ratio of the flexible structure component and selecting the monomer structure (molecular weight).
  • the linear expansion coefficient force of the polyimide film at 100 ° C to 200 ° C is 15 ppmZ ° C or less. It is more preferable that If the linear expansion coefficient is larger than the above value, the linear expansion coefficient when used as an adhesive film will be too large! /, And the difference from the linear expansion coefficient of the metal foil will be large, which will cause dimensional changes. . On the other hand, if the coefficient of linear expansion coefficient of the polyimide film is too large, the difference in the coefficient of linear expansion of the metal foil will increase. Therefore, the lower limit of the coefficient of linear expansion is preferably 5 ppmZ ° C, more preferably 6 ppmZ ° C.
  • the linear expansion coefficient of the polyimide film is in the range of 5 to 15 ppm / ° C, preferably 6 to 13 ppm / ° C, the linear expansion coefficient of the adhesive film can be made close to that of the metal foil. As described above, the linear expansion coefficient of the polyimide film can be adjusted by the mixing ratio of the flexible structural component and the rigid structural component.
  • any solvent that dissolves the polyamic acid can be used.
  • Amide-based solvent ie, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetate Amide, N-methyl-2-pyrrolidone and the like, and N, N-dimethylformamide and N, N-dimethylacetamide can be used particularly preferably.
  • a filler can be added for the purpose of improving various film properties such as slidability, thermal conductivity, conductivity, corona resistance, and loop stiffness. Anything as a filer
  • preferred examples include silica, titanium oxide, alumina, silicon nitride, boron nitride, calcium hydrogen phosphate, calcium phosphate, mica and the like.
  • the particle size of the filler is not particularly limited because it is determined by the film characteristics to be modified and the type of filler to be added.
  • the average particle size is 0.05 to 100 m. It is preferably 0.1 to 75 m, more preferably 0.1 to 50 m, and particularly preferably 0.1 to 25 / ⁇ ⁇ . If the particle size is below this range, the modification effect appears. If the particle size is above this range, the surface properties may be greatly impaired, or the mechanical properties may be greatly deteriorated. Further, the number of fillers added is not particularly limited because the film characteristics to be modified are determined by the filler particle size and the like.
  • the amount of filler added is 0.01 to 100 parts by weight of polyimide; L00 weight is preferred ⁇ is 0.01 to 90 parts, more preferably 0.02 to 80 parts by weight. It is. If the amount of filler added is below this range, the effect of modification by the filler is difficult to appear. If this range is exceeded, the mechanical properties of the film may be greatly impaired. Filling the filler,
  • thermal imidization method is a method in which the imidization reaction proceeds only by heating without the action of a dehydrating agent, etc.
  • chemical imidization method uses a dehydrating agent and soot or an imidization catalyst in a polyamic acid solution. This is a method for promoting imidization.
  • the dehydrating agent indicates a dehydrating cyclization action on polyamic acid, for example, Aliphatic acid anhydrides, aromatic acid anhydrides, N, ⁇ '-dialkyl carpositimides, halogenated lower aliphatics, halogenated lower fatty acid anhydrides, aryl phosphonic acid dihalogenated compounds, thionyl norogenic compounds, or those The mixture of 2 or more types is mentioned.
  • aliphatic acid anhydrides such as acetic anhydride, propionic anhydride, and latacid anhydride, or a mixture of two or more thereof can be preferably used from the viewpoint of availability and cost.
  • the imidization catalyst means a component having an effect of promoting dehydration and cyclization to polyamic acid, and examples thereof include aliphatic tertiary amines, aromatic tertiary amines, and heterocyclic tertiary amines. Is used. Among them, those selected from heterocyclic tertiary amine forces are particularly preferably used from the viewpoint of reactivity as imido catalysts. Specifically, quinoline, isoquinoline, ⁇ picoline, pyridine and the like are preferably used.
  • Either method may be used to produce the film, but the imidization by the chemical imidization method is more likely to obtain a polyimide film having various properties that are preferably used in the present invention. .
  • the polyimide film production process is particularly preferred.
  • a preferred embodiment of the present invention which is a chemical imidization method, will be described as an example to describe the process for producing a polyimide film.
  • the present invention is not limited to the following examples.
  • the film forming conditions and heating conditions can vary depending on the type of polyamic acid, the thickness of the film, and the like.
  • a film forming dope is obtained by mixing a dehydrating agent and an imido catalyst at a low temperature in a polyamic acid solution. Subsequently, this film-forming dope is cast into a film on a support such as a glass plate, an aluminum foil, an endless stainless steel belt or a stainless drum, and 80 ° C to 200 ° C, preferably 100 ° C on the support. Activate the dehydrating agent and imido catalyst by heating in the temperature range of ⁇ 180 ° C After being partially cured and z or dried, the support strength is peeled off to obtain a polyamic acid film (hereinafter referred to as gel film).
  • gel film a polyamic acid film
  • Gel film is in the middle of curing to polyamic acid polyimide and has self-supporting properties (Equation 2)
  • a and B represent the following.
  • the calculated volatile content is also in the range of 5 to 500% by weight, preferably 5 to 200% by weight, more preferably 5 to 150% by weight. It is preferable to use a film in this range. Outside this range, defects such as film breakage, uneven color tone due to uneven drying, and characteristic variations may occur during the baking process.
  • a preferable amount of the dehydrating agent is 0.5 to 5 mol, preferably 1.0 to 4 mol, per 1 mol of the amic acid unit in the polyamic acid.
  • the preferred amount of the imido catalyst is 0.05 to 3 mol, preferably 0.2 to 2 mol, relative to 1 mol of the amic acid unit in the polyamic acid.
  • the dehydrating agent and the imido catalyst are below the above ranges, the chemical imido is insufficient and may break during firing or the mechanical strength may decrease. If these amounts exceed the above range, the progress of imidization may become too fast, making it difficult to cast into a film.
  • the end of the gel film is fixed and dried while avoiding shrinkage during curing, water, residual solvent, residual dehydrating agent and imidization catalyst are removed, and the remaining amic acid is completely imidized,
  • the polyimide film of the present invention is obtained.
  • heat treatment can be performed under the minimum tension necessary for transporting the film. This heat treatment may be performed in the film manufacturing process, or may be provided separately.
  • the heating conditions vary depending on the film characteristics and the equipment used, and therefore cannot be determined in general. Generally 200 ° C to 500 ° C, preferably 250 ° C to 500 ° C, particularly preferred Alternatively, the internal stress can be relieved by heat treatment at a temperature of 300 ° C. or higher and 450 ° C. or lower for 1 to 300 seconds, preferably 2 to 250 seconds, and particularly preferably 5 to 200 seconds.
  • the molecular orientation is in the polyimide film force conveying direction (MD direction) in order to cancel the influence of tension and stretching due to lamination. That is, the molecular orientation axis angle is preferably ⁇ 15 to 15 degrees with respect to the MD direction.
  • the following method is preferably employed.
  • At least (A) a step of polymerizing polyamic acid
  • (D-1) at least a part of the film width direction (TD direction) tension is substantially no tension. It is a method for producing an organic insulating film, comprising a step of fixing and transporting as described above.
  • the polyamic acid is polymerized as described above.
  • Step (B) is a step in which a gel film is formed after casting (coating) a composition containing a polyamic acid and an organic solvent (also a polyamic acid solution) onto a support.
  • a gel film can be obtained.
  • the volatile content of the gel film in step (B) is preferably 500% by weight or less, more preferably 25 to 200% by weight, particularly preferably 30 to 150% by weight.
  • the gel film is peeled off from the support and the both ends of the gel film are continuously removed.
  • This is a fixing step, and a conventionally known method such as fixing with a clip or pinning may be used.
  • a conventionally known method such as fixing with a clip or pinning
  • the tension in the TD direction may be fixed so as to be substantially no tension.
  • This is a method in which the tension in the TD direction becomes substantially no tension at the stage of fixing the film, and it is sent to the process (D) as it is. Specifically, when fixing the edges, the film is loosened and fixed.
  • Step (D) is a step of conveying the inside of the heating furnace while fixing both ends of the film.
  • at least a part of the step (D) includes (D-1) a step of transporting the film so that the tension in the film width direction (TD direction) is substantially no tension.
  • the fact that the tension in the TD direction is substantially no tension means that the tensile tension due to mechanical handling is not applied in the TD direction other than the tension due to the weight of the film.
  • This film is called a film under substantially no tension.
  • the film is fixed by a gripping device, and at this time, the length 7 in FIG. 1 is the distance between both ends of the fixing device.
  • both ends of the film are in a state where the pins and tension are strong, and the fixed end distance 7 at both ends and the width 8 of the film between the fixed ends at both ends are the same.
  • the distance 7 between the fixed ends at both ends and the width 8 of the film between them are different, and the distance force between the fixed ends at both ends is reduced.
  • the film is loosened and fixed.
  • X and Y are It is preferably fixed so as to satisfy.
  • the tension in the TD direction is fixed so as to be substantially no tension.
  • the orientation axis is directed in the MD direction over the entire film width.
  • the point power for producing a film is preferable.
  • an operation of reducing the distance between the fixed ends of both ends may be performed (method 3), or a combination of these methods may be performed.
  • Method 3 it is preferable to perform the operation to reduce the distance between the fixed ends at both ends in a temperature range of 300 ° C or less, more preferably 250 ° C or less, especially 200 ° C or less! /. In the temperature range of 300 ° C or higher!
  • the orientation of the film tends to be controlled, especially the orientation at the film edge. It tends to be.
  • step (D) since the film is heated rapidly, the film shrinks to some extent. Therefore, if the film is transported while being fixed so that the tension in the TD direction is substantially no tension at the entrance of the heating furnace, the film width is reduced due to film shrinkage caused by heating. The width of the film between the fixed ends at both ends is the same, and a wrinkle-free film can be produced.
  • a heating furnace suitably used in the present invention is a hot air furnace of a type in which hot air of 100 ° C or more is sprayed on the entire film from the upper surface or the lower surface of the film, or both surfaces, or far infrared rays are irradiated.
  • a far-infrared furnace equipped with a far-infrared generator for firing the film is used.
  • the heating temperature given first when the gel film is gripped and transported into the furnace is preferably 100 ° C or higher and 250 ° C or lower, particularly preferably 120 ° C or higher and 200 ° C or higher. It is preferable that the temperature is not higher than ° C to easily obtain an organic insulating film whose orientation is controlled in the MD direction.
  • the heating furnace is preferably two or more heating furnaces, and the temperature of the first heating furnace is preferably 100 ° C. or more and 250 ° C. or less.
  • the boiling point of the solvent contained in the gel film is investigated and 100 ° C lower than the boiling point of the solvent! It is desirable to manage at temperatures ranging from temperatures up to 100 ° C.
  • the initial temperature and the temperature of the next furnace are preferably set as described above, but the other temperatures are preferably fired at the firing temperature used for the production of a normal polyimide film.
  • the firing temperature used for the production of a normal polyimide film.
  • the tension in the MD direction applied to the gel film when transported into the furnace is the tension applied to each film lm, and is preferably 1 to 20 kg / m, particularly preferably 1 to 15 kg / m. Is preferred.
  • the tension is 1 kg / m or less, it tends to be difficult to produce a stable film by gripping the film, which is difficult to stably transport the film.
  • the tension applied to the film is 20 kg / m or more, it tends to be difficult to control the molecular orientation in the MD and MD directions at the edge of the film.
  • the tension generators applied to the film include a load roll that applies a load to the gel film, a roll that changes the load by adjusting the rotation speed of the roll, and a nip roll that controls the tension by sandwiching the gel film between two rolls.
  • Various methods, such as the method used, can be used to adjust the tension on the gel fill.
  • the tension applied to the film is preferably adjusted as appropriate within the above range depending on the thickness of the polyimide film.
  • the film thickness is preferably 1 to 200 / ⁇ ⁇ , particularly preferably 1 to: LOO m! /.
  • the polyimide film obtained is oriented in the MD direction.
  • the molecular orientation axis angle ( ⁇ ) with respect to the MD direction of the film is not necessarily limited, but is preferably 15 ° ⁇ ⁇ 15 °.
  • the orientation may be insufficient, and the effect of suppressing the dimensional change may be manifested.
  • it is preferable that it be 1 15 ° ⁇ 0 ⁇ 15 °, but it is more preferable to set it in the range 1 1 0 ° ⁇ ⁇ ⁇ 10 °.
  • the above molecular orientation axis angle means an angle formed between the reference axis and the orientation axis of the polyimide molecular chain.
  • the molecular orientation axis angle ⁇ relative to the film MD direction is 0 °, It means that the molecular orientation axis coincides with the film MD direction.
  • the linear expansion coefficient of the resulting polyimide film is also changed by the heat treatment, the linear expansion coefficient (200 to 300 ° C) in the MD direction of the polyimide film is ⁇ (ppm / ° C), TD direction
  • the linear expansion coefficient (200 to 300 ° C) at j8 ( PP mZ ° C) is 2 ⁇ ⁇
  • the effect may not be sufficiently resolved, and the effect of suppressing dimensional change may be reduced. If the value of (0 + 13) is outside the above range, the film thickness direction (z-axis direction)
  • the orientation of the material may change greatly, and the effect of suppressing the dimensional change may not be exhibited, and the properties of other materials may deteriorate.
  • thermoplastic polyimide contained in the adhesive layer of the adhesive film according to the present invention includes thermoplastic polyimide, thermoplastic polyamideimide, thermoplastic polyetherimide, and thermoplastic poly An ester imide or the like can be preferably used.
  • thermoplastic polyesterimide is particularly preferably used from the viewpoint of low moisture absorption characteristics.
  • the thermoplastic polyimide in the present invention has a temperature range of 150 to 300 ° C. It preferably has a glass transition temperature (Tg). Furthermore, taking into account the hygroscopic solder resistance, Tg is preferably 230 ° C or higher, more preferably 240 ° C or higher. Tg can be obtained from the value of the inflection point of the storage elastic modulus measured by a dynamic viscoelasticity measuring device (DMA).
  • DMA dynamic viscoelasticity measuring device
  • the polyamic acid that is a precursor of the thermoplastic polyimide is not particularly limited, and any known polyamic acid can be used. Also for the production, known raw materials, reaction conditions and the like can be used (for example, refer to Examples described later). If necessary, inorganic or organic fillers may be added.
  • the adhesive film according to the present invention is obtained by providing an adhesive layer containing thermoplastic polyimide on at least one surface of the polyimide film.
  • a method for producing an adhesive film a method of forming an adhesive layer on a polyimide film to be a base film, or a method of forming an adhesive layer into a sheet and bonding it to the base film is suitably exemplified. obtain.
  • the former method when the former method is adopted, if the polyamic acid, which is a precursor of the thermoplastic polyimide contained in the adhesive layer, is completely imidized, the solubility in an organic solvent may be reduced. For this reason, it may be difficult to provide the adhesive layer on the base film.
  • a solution containing a polyamic acid which is a precursor of a thermoplastic polyimide it is preferable to prepare a solution containing a polyamic acid which is a precursor of a thermoplastic polyimide, apply it to a substrate film, and then apply imidization.
  • a thermal curing method or a chemical curing method can be used as the imidizing method at this time.
  • the temperature at that time is from (glass transition temperature of thermoplastic polyimide 100 ° C) to (glass transition temperature + 200 ° C) is preferable, and it is more preferable to set it within the range of (glass transition temperature of thermoplastic polyimide—50 ° C) to (glass transition temperature + 150 ° C). That's right.
  • Heat cure temperature is high. Since it is easy for Simide to occur, the cure speed can be increased, which is preferable in terms of productivity. However, if it is too high, the thermoplastic polyimide may thermally decompose. On the other hand, if the temperature of the thermal cure is too low, the time required for the curing process in which imidization is difficult to proceed even with chemical curing will be prolonged.
  • the imidization time is not limited as long as it takes a time sufficient for the imidization and drying to be substantially completed, but it is generally in the range of about 1 to 600 seconds. It is set as appropriate. In addition, for the purpose of improving the melt fluidity of the adhesive layer, it is possible to intentionally lower the imidization rate and to leave Z or a solvent.
  • the tension applied when imidizing is lkgZn! It is preferable to be within the range of ⁇ 15kgZm 5kgZn! It is particularly preferable to be within the range of ⁇ lOkgZm. If the tension is smaller than the above range, sagging may occur during film transport, and problems such as inability to wind evenly may occur. On the other hand, if it is larger than the above range, the adhesive film is heated to a high temperature in a state where strong tension is strong, so it is assumed that a core film with a high tensile elastic modulus or a core film with MD orientation is used. However, thermal stress is generated in the adhesive film, which may affect the dimensional change.
  • the method for casting and applying the polyamic acid solution onto the base film is not particularly limited, and existing methods such as a die coater, a reverse coater, and a blade coater can be used.
  • the polyamic acid solution may contain other materials such as filler, depending on the application.
  • each layer of the adhesive film may be appropriately adjusted so as to have a total thickness according to the application.
  • the coefficient of thermal expansion of the adhesive film at 200 to 300 ° C. is preferably set to be close to that of the metal foil. Specifically, the thermal expansion coefficient of the metal foil is preferably within ⁇ 10 ppm, more preferably within ⁇ 5 ppm.
  • the surface of the core film may be subjected to various surface treatments such as corona treatment, plasma treatment, and coupling treatment before or after providing the adhesive layer.
  • the flexible metal-clad laminate according to the present invention can be obtained by bonding a metal foil to the adhesive film.
  • the metal foil to be used is not particularly limited, but when the flexible metal-clad laminate of the present invention is used for electronic equipment and electrical equipment, for example, copper or copper alloy, stainless steel or alloy thereof, nickel Alternatively, foils such as a nickel alloy (including 42 alloy), aluminum, or an aluminum alloy can be cited.
  • a force frequently used for copper foil such as rolled copper foil and electrolytic copper foil can be preferably used in the present invention.
  • the surface of these metal foils may have a heat-resistant layer or a heat-resistant layer, or an adhesive layer may be applied.
  • the thickness of the metal foil is not particularly limited, and may be a thickness that can exhibit a sufficient function depending on the application.
  • a hot roll laminating apparatus having a pair of metal rolls or a continuous process using a double belt press (DBP) can be used as a method for bonding the adhesive film and the metal foil.
  • DBP double belt press
  • the polyimide film and the adhesive film of the present invention were bonded together with a hot roll laminating apparatus. In some cases, a significant effect is exhibited.
  • the “heat roll laminating apparatus having a pair of metal rolls” as used herein is not particularly limited as long as the apparatus has a metal roll for heating and pressurizing a material. It is not something.
  • the specific configuration of the means for carrying out the thermal laminating is not particularly limited, but in order to improve the appearance of the resulting laminate, it is protected between the pressing surface and the metal foil. It is preferable to arrange the material.
  • the protective material include materials that can withstand the heating temperature in the heat laminating process, that is, heat-resistant plastics such as non-thermoplastic polyimide films, metal foils such as copper foil, aluminum foil, and SUS foil.
  • heat-resistant plastics such as non-thermoplastic polyimide films, metal foils such as copper foil, aluminum foil, and SUS foil.
  • a non-thermoplastic polyimide film or a film made of a thermoplastic polyimide having a temperature higher by 50 ° C. or more than the laminating temperature is preferably used because of excellent balance such as heat resistance and reusability.
  • the thickness is too thin, it will not function sufficiently as a buffer and protect during lamination.
  • the thickness of the polyimide film is preferably 75 ⁇ m or more.
  • the protective material does not necessarily need to be a single layer, and may have a multilayer structure of two or more layers having different characteristics.
  • the laminating temperature is high, if the protective material is used as it is for laminating, the appearance and dimensional stability of the resulting flexible metal-clad laminate may not be sufficient due to rapid thermal expansion. Therefore, it is preferable to preheat the protective material before lamination.
  • the preheating means include a method of bringing the protective material into contact with the heating roll. The contact time is preferably 1 second or longer, more preferably 3 seconds or longer.
  • the distance at which the protective material is held on the heating roll is not particularly limited, and may be adjusted as appropriate based on the diameter of the hot heating roll and the contact time.
  • the protective material is peeled off after being laminated and cooled. Immediately after lamination, the protective material and the laminated material are soft at high temperatures. If the protective material is peeled off at this time, the laminated material is affected by the peeling stress, and the dimensional stability may deteriorate. is there . In addition, when the protective material is peeled off at a high temperature, the movement of the laminated material is not suppressed, and the appearance of the laminated material may deteriorate due to cooling shrinkage. It is more preferable that the protective material is peeled off after cooling to room temperature, in which it is preferable that the material to be laminated is cooled to a temperature lower than the glass transition temperature of the adhesive film by 100 ° C or more.
  • the heating method of the material to be laminated in the heat laminating means is not particularly limited.
  • a conventionally known method that can be heated at a predetermined temperature such as a heat circulation method, a hot air heating method, an induction heating method, or the like is adopted.
  • the heating means can be used.
  • the pressurization method of the material to be laminated in the thermal lamination means is not particularly limited.
  • a conventionally known publicly known method capable of applying a predetermined pressure such as a hydraulic method, a pneumatic method, a gap pressure method, etc.
  • a pressurizing means adopting the method can be used.
  • the heating temperature in the thermal laminating step is preferably the glass transition temperature (Tg) of the adhesive film + 50 ° C or more, and more preferably Tg + 100 ° C or more of the adhesive film. preferable. If the temperature is Tg + 50 ° C or higher, the adhesive film and the metal foil can be heat-laminated well. Further, if Tg + 100 ° C or more, the laminating speed can be increased to further improve the productivity.
  • the polyimide film used as the core of the adhesive film of the present invention is designed so that thermal stress relaxation effectively works when laminated at Tg + 100 ° C or higher. A flexible metal-clad laminate with excellent qualities can be obtained with good productivity.
  • the relaxation mechanism of thermal stress during thermal lamination will be described.
  • thermoplastic polyimide is contained in the adhesive layer of the adhesive film
  • the laminating temperature is inevitably high, so the flexible metal-clad laminate immediately after laminating is also very hot.
  • the storage elastic modulus of the core layer of the adhesive film is lowered to a certain value or more, the entire adhesive film softens together with the adhesive layer (however, the self-supporting property is maintained). .
  • the thermal stress accumulated in the laminate is alleviated by the tension and pressure during thermal lamination.
  • the flexible metal-clad laminate immediately after lamination is brought into contact with the heating roll while the protective material is still placed, and is not affected by the tension. It is preferable to relax the strain and then move away from the heated roll.
  • the contact time with the heating roll is preferably 0.1 seconds or more, more preferably 0.2 seconds or more, and particularly preferably 0.5 seconds or more. If the contact time is shorter than the above range, the relaxation effect may not occur sufficiently.
  • the upper limit of the contact time is preferably 5 seconds or less. Even if the contact is made for 5 seconds or more, the relaxation effect is not manifested, and this is not preferable because the laminating speed is lowered and the line handling is restricted.
  • the flexible metal-clad laminate after being brought into contact with the heating roll and slowly cooled through the post-heating step with the protective material still disposed.
  • the tension of is preferably in the range of 1 to: LONZcm.
  • the atmospheric temperature for the post-heating is preferably in the range of (laminate temperature—200 ° C.) to (laminate temperature + 100 ° C.).
  • the “atmospheric temperature” as used herein refers to the outer surface temperature of the protective material adhered to both surfaces of the flexible metal-clad laminate. Although the actual temperature of the flexible metal-clad laminate varies somewhat depending on the thickness of the protective material, if the temperature of the surface of the protective material is within the above range, the effect of post-heating can be exhibited.
  • the outer surface temperature of the protective material can be measured using a thermocouple or thermometer.
  • the laminating speed in the thermal laminating step is preferably 0.5 mZ min or more. 1. More preferably, it is OmZ min or more. If it is 0.5 mZ or more, sufficient thermal lamination is possible. 1. If it is OmZ or more, productivity can be further improved.
  • the laminating pressure is preferably in the range of 49 to 490 NZcm (5 to 50 kgfZcm), more preferably in the range of 98 to 294 NZcm (10 to 30 kgfZcm). Within this range, the three conditions of laminating temperature, laminating speed and laminating pressure can be improved, and productivity can be further improved.
  • the adhesive film tension in the laminating step is preferably 0.01 to 4NZcm, more preferably 0.02 to 2.5NZcm, and particularly preferably 0.05 to L5NZcm.
  • the tension is below the above range, sagging or meandering occurs during the conveyance of the laminate, and it is difficult to obtain a flexible metal-clad laminate having a good appearance because it is not uniformly fed into the heating roll.
  • it exceeds the above range the influence of tension becomes so strong that it cannot be relaxed by controlling the Tg and storage modulus of the adhesive layer, and the dimensional stability may be inferior.
  • the thermal laminating apparatus that continuously press-bonds the material to be laminated while heating.
  • Stacked material feeding means for feeding the stacked material to the previous stage
  • the laminated material collecting means for winding up the laminated material may be provided after the thermal laminating means.
  • the specific configurations of the laminated material feeding means and the laminated material collecting means are not particularly limited. For example, an adhesive film, a metal foil, or a known roll shape that can wind up the obtained laminated plate is used. You can list the harvester.
  • a protective material catching means and a protective material feeding means for winding and feeding the protective material. If these protective material take-up means and protective material feeding means are provided, the protective material can be reused by winding the protective material once used in the thermal laminating process and installing it again on the feeding side. . Further, when winding up the protective material, an end position detecting means and a scraping position correcting means may be provided in order to align both ends of the protective material. As a result, the end portions of the protective material can be accurately aligned and wound, so that the efficiency of reuse can be increased.
  • the specific configurations of the protective material punching means, the protective material feeding means, the end position detecting means, and the punching position correcting means are not particularly limited, and various conventionally known devices can be used.
  • the flexible metal-clad laminate obtained by the manufacturing method according to the present invention has a dimensional change rate before and after heating at 250 ° C for 30 minutes after removal of the metal foil, in the MD direction and TD direction. It is highly preferable that both are in the range of -0.04 to + 0.04%.
  • the dimensional change rate before and after heating is represented by a ratio between a difference between a predetermined dimension in the flexible metal-clad laminate after the etching process and a predetermined dimension after the heating process and a predetermined dimension before the heating process.
  • the dimensional change rate is out of this range, the dimensional change at the time of component mounting in the flexible metal-clad laminate increases, and the component mounting position force at the design stage is shifted. As a result, there is a risk that the component to be mounted and the board will not be connected well. In other words, if the dimensional change rate is within the above range, it can be considered that there is no problem in mounting components.
  • the method for measuring the rate of dimensional change is not particularly limited, and in a flexible metal-clad laminate, the increase or decrease in size that occurs before or after the etching or heating process can be measured. Any known method can be used as long as it is a method.
  • the total value of the dimensional change rate before and after heating of the flexible metal-clad laminate at 250 ° C. for 30 minutes after removing the metal foil is the same in both the MD direction and the TD direction. It is highly preferred to be in the range of 04%.
  • the polyimide film of the core layer used in the adhesive film of the present invention has the characteristic of effectively relieving thermal stress, and therefore is more susceptible to thermal stress. Even when an adhesive film having a thickness of m or less is used, the dimensional change rate of the obtained flexible metal-clad laminate can be reduced. Specifically, the dimensional change rate power before and after heating at 250 ° C. for 30 minutes after removing the metal foil is in the range of 0.05 to + 0.05% in both the MD and TD directions.
  • the flexible metal-clad laminate obtained by the production method according to the present invention can be reduced in size and increased in density if a desired pattern wiring is formed by etching a metal foil. It can be used as a flexible wiring board with mounted parts. Needless to say, the use of the present invention is not limited to this, and it is needless to say that a laminate including a metal foil can be used for various purposes.
  • thermoplastic polyimide The glass transition temperature of the thermoplastic polyimide, the storage modulus of the polyimide film, the tensile modulus of elasticity, the hygroscopic expansion coefficient, the molecular orientation axis angle, the linear expansion coefficient, the flexible metal tension in the synthesis examples, examples and comparative examples.
  • Laminate dimensional change rate, metal foil peel strength, absorption The evaluation method of wet solder resistance is as follows.
  • the glass transition temperature was measured with a DMS6100 manufactured by SII Nanotechnology, and the inflection point of the storage modulus was taken as the glass transition temperature.
  • Sample measurement range width 9mm, distance between grips 20mm
  • the storage elastic modulus was measured with the apparatus and conditions for measuring the glass transition temperature. The measurement was performed in the MD direction of the core film.
  • the tensile modulus was measured according to ASTM D882. The measurement was performed in the MD direction of the core film.
  • Sample measurement range width 15mm, distance between grips 100mm
  • the hygroscopic expansion coefficient is a steam atmosphere thermomechanical analyzer manufactured by Rigaku Corporation TMAZHUM
  • the amount of change when measured using —1 was calculated.
  • the measurement was performed at an angle of 45 ° with respect to the molecular orientation axis of the core film.
  • Sample measurement range width 5mm, distance between grips 15mm
  • the molecular orientation axis angle ⁇ of the core film was measured with a microwave molecular orientation meter MO A2012A manufactured by KS Systems.
  • the definition of the molecular orientation axis angle ⁇ is as follows.
  • the molecular orientation direction in the film plane (maximum orientation of ⁇ , where ⁇ ′ is the dielectric constant of the sample) can be known as an angle value.
  • a straight line indicating the orientation direction is defined as the “orientation axis” of the sample.
  • the X axis is taken in the longitudinal direction (MD direction) of the center of the film, and the traveling direction when the polyamic acid is cast on the support is the positive direction.
  • the angle between the positive direction of the X axis and the orientation axis obtained by the above measurement is defined as the orientation axis angle ⁇ , and the orientation axis angle when the orientation axis is in the first quadrant and the third quadrant is positive. (0 ° ⁇ ⁇ 90 °), the orientation axis angle when the orientation axis is in the second quadrant and fourth quadrant is defined as negative (one 90 ° ⁇ ⁇ ⁇ 0 °).
  • the measurement of the orientation axis angle was carried out at the film end in the TD direction, at the center, and at the five points between the ends and the center.
  • the linear expansion coefficient of the polyimide film is as follows: Thermomechanical analyzer manufactured by SII NanoTechnology Co., Ltd., trade name: TMAZSS6100, raised to 0 ° C to 460 ° C and then cooled to 10 ° C
  • the temperature was further increased at 10 ° C / min, and the average value in the range of 100 to 200 ° C at the second temperature increase was obtained. Measurements were made in the MD direction and TD direction of the core film. Sample shape: width 3mm, length 10mm
  • Measurement temperature range 0 to 460 ° C
  • the measurement sample after etching was heated at 250 ° C. for 30 minutes, and then left in a temperature-controlled room at 20 ° C. and 60% R.H. for 24 hours. Thereafter, the distances of the four holes were measured. The measured value of the distance between each hole after heating was set as D3, and the dimensional change rate before and after heating was calculated by the following formula.
  • the dimensional change rate was measured in both the MD direction and the TD direction.
  • a sample was prepared according to “6.5 peel strength” of JIS C6471, and a 5 mm wide metal foil was peeled off at 180 ° peel angle and 50 mmZ, and the load was measured.
  • the solder resistance of the sample prepared under two conditions normal (20 ° C, 60% RH, after 24 hours adjustment) and moisture absorption (85 ° C, 85% RH, after 96 hours adjustment) And the presence or absence of abnormalities of the whitening phenomenon and the peeling phenomenon on the appearance were determined.
  • the normal solder was immersed in a solder bath at 300 ° C for 1 minute and the hygroscopic solder was immersed in a solder bath at 260 ° C for 10 seconds.
  • TMEG monoethylene glycol dibenzoate tetracarboxylic dianhydride
  • the obtained polyamic acid solution was cast on a 25 ⁇ m PET film (Therapy HP, manufactured by Toyo Metallizing Co., Ltd.) to a final thickness of 20 m, and dried at 120 ° C. for 5 minutes.
  • the dried self-supporting film is peeled off from the PET, and then fixed to a metal pin frame.
  • 150 ° C for 5 minutes at 200 ° C for 5 minutes, at 250 ° C for 5 minutes, at 350 ° C for 5 minutes Drying was performed for a minute. It was 240 degreeC when the glass transition temperature of the obtained single layer sheet was measured.
  • pyromellitic dianhydride hereinafter also referred to as PMDA
  • PMDA pyromellitic dianhydride
  • p-PDA p-phenylenediamine
  • an acetic anhydride Z isoquinoline ZDMF (weight ratio 2.0 / 0. 3/4. 0) strength imidizer was added at a weight ratio of 45% with respect to the polyamic acid solution.
  • the mixture was stirred with a mixer and the T-die force was also pushed out and cast onto a stainless steel endless belt running 20mm below the die.
  • This resin film is heated at 130 ° C for 100 seconds, then the self-supporting gel film is peeled off from the endless belt (volatile content 30% by weight), fixed to a tenter clip, transported to a heating furnace, and 300 ° C.
  • the film was dried and imidized continuously for 30 seconds in a hot air drying oven, 30 seconds in a 400 ° C hot air drying oven, and 30 seconds in a 500 ° C IR oven, to obtain a polyimide film having a thickness of 18 ⁇ m.
  • an imidization accelerator composed of acetic anhydride Z isoquinoline ZD MF (weight ratio 2.0 / 0. 3/4. 0) was added to the polyamic acid solution. It was added at a weight ratio of 45%, continuously stirred by a mixer, extruded from a T die carder, traveled 20 mm below the die, and cast onto a stainless steel endless belt.
  • This resin film is heated at 110 ° C for 100 seconds, and then the self-supporting gel film is peeled off from the endless belt (volatile content 50% by weight), fixed to a tenter clip, transported to a heating furnace, and 300 ° C This was dried for 30 seconds in a hot air drying oven, 30 seconds in a 400 ° C hot air drying oven, and 30 seconds in a 500 ° C IR oven to obtain a polyimide film having a thickness of 18 m.
  • the gel film gel film
  • the end of the gel film is fixed to the tenter clip
  • the TD shrinkage at this time was 4%.
  • Example 7 Using the polyamic acid solution obtained in the same manner as in Example 2, the same operation as in Example 7 was performed to obtain a polyimide film having a thickness of 18 ⁇ m.
  • an imidization accelerator composed of acetic anhydride Zisoquinoline ZDM F (weight ratio 2.0 / 0. 3/4. 0) was added to the polyamic acid solution.
  • the mixture was added at a weight ratio of 45%, continuously stirred by a mixer, extruded from a T die card, and cast on a stainless steel endless belt running 20 mm below the die.
  • This resin film is heated at 130 ° C for 70 seconds, and then the self-supporting gel film is peeled off from the endless belt (volatile content 30% by weight), fixed to a tenter clip, transported to a heating furnace, and heated to 300 ° C. Drying was performed continuously for 22 seconds in a hot air drying furnace, 22 seconds in a 400 ° C hot air drying furnace, and 22 seconds in an IR furnace at 500 ° C to obtain a polyimide film having a thickness of 10 ⁇ m.
  • Example 9 Using the polyamic acid solution obtained in the same manner as in Examples 2 to 6, the same operation as in Example 9 was performed to obtain a polyimide film having a thickness of 10 m.
  • an imidization accelerator composed of acetic anhydride Zisoquinoline ZDM F (weight ratio 2.0 / 0. 3/4. 0) was added to the polyamic acid solution.
  • Add at a weight ratio of 45% continuously stir with a mixer, extrude from T-Dieka, and 20mm below the die And then cast on an endless belt made of stainless steel. After heating this resin film at 110 ° C for 70 seconds, peel off the self-supporting gel film from the endless belt (volatile content 50% by weight), fix it on a tenter clip, and transport it to a heating furnace.
  • Drying was performed continuously for 22 seconds in a hot air drying furnace, 22 seconds in a 400 ° C hot air drying furnace, and 22 seconds in an IR furnace at 500 ° C to obtain a polyimide film having a thickness of 10 ⁇ m.
  • the endless belt force was fixed so that the gel film (gel film) was peeled off and the end of the gel film was fixed to the tenter clip, so that the tension in the TD direction was substantially no tension. .
  • the TD shrinkage at this time was 4%.
  • Example 15 Using a polyamic acid solution obtained in the same manner as in Example 2, the same operation as in Example 15 was performed to obtain a polyimide film having a thickness of 10 m.
  • thermoplastic polyimide precursor obtained in Synthesis Example 1 is gravure coated so that the final thickness of the thermoplastic polyimide layer (adhesion layer) is 2 m. It was applied and heated in a drying oven set at 140 ° C for 1 minute. Subsequently, heating in a far-infrared heater furnace having an atmospheric temperature of 390 ° C for 20 seconds was performed to obtain an adhesive film.
  • Comparative Example 1 The same operation as in Comparative Example 1 was performed except that a 12.5 m thick polyimide film (Abical 12.5NPP, manufactured by Kanechi Co., Ltd.) was used as the core film, and the coating thickness was 1.5 m per side. A flexible metal-clad laminate was produced.
  • a 12.5 m thick polyimide film (Abical 12.5NPP, manufactured by Kanechi Co., Ltd.) was used as the core film, and the coating thickness was 1.5 m per side.
  • a flexible metal-clad laminate was produced.
  • Tables 2 to 4 show the results of evaluating the characteristics of the polyimide films and flexible metal-clad laminates obtained in each of Examples and Comparative Examples.
  • Example 1 (First time) (Second time) Example 1 20 25 20 20 55 57 Example 2 30 20 20 25 50 52 Example 3 30 20 10 35 50 52 Example 4 20 30 20 25 50 52 Example 5 10 40 20 25 50 52 Example 6 20 30 10 35 50 52
  • Example 1 4 3 0 1 1. 4 3 6 5 7 6 7. 0 1 0. 3 8. 8 8. 6 Example 1 5 2 8 3 1. 2 3 5 5 74 8. 4 1 0. 5 4. 3 5. 9 Example 1 6 2 9 2 1. 3 3 5 0 7 7 8. 5 1 1. 1 4. 8 8. 7 Comparative Example 1 2 7 8 0. 6 3 1 0 7 7 6. 0 7. 8 1 2. 4 1 2. 0 Comparative Example 2 2 8 0 0. 8 3 0 8 7 0 5. 8 7. 5 1 1. 6 1 1. 0 Comparative Example 3 2. 7 ⁇ 4. 4 1 5. 5 1 6. 4 1 5. 5 Comparative Example 4 2. 4 4. 2 1 5. 0 1 6. 6 1 5. 8
  • Example 7 1 5 3 1 1 2 3
  • Example 8 4 1 1 3 4 1 1
  • Example 1 6 5 4 2 0 1 2
  • Fig. 1 is a diagram schematically showing an apparatus for producing a polyimide film.
  • FIG. 2 is a diagram showing a film molecule orientation axis angle measurement.
  • FIG. 3 is a diagram showing sampling locations of molecular orientation axis angles.
  • the polyimide film of the present invention can suppress dimensional changes that occur in the production process of a flexible copper-clad laminate.
  • it has an inflection point of the storage elastic modulus that relaxes the thermal stress during lamination, and controls its value.
  • the occurrence of dimensional change is effectively suppressed.
  • the dimensional change rate before and after heating at 250 ° C for 30 minutes after removing the metal foil can be in the range of -0.04 to + 0.04% in both the MD and TD directions. It is. Therefore, it can be suitably used for an FPC or the like in which fine wiring is formed, and problems such as misalignment can be improved.

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)
  • Manufacture Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
  • Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
  • Adhesive Tapes (AREA)
  • Moulding By Coating Moulds (AREA)
  • Lining Or Joining Of Plastics Or The Like (AREA)

Abstract

本発明は、特にラミネート法で金属層とポリイミドフィルムを積層した場合の、材料にかかる熱歪みを抑制する機能を持ったポリイミドフィルム、及び該ポリイミドフィルムを用いた接着フィルム、フレキシブル金属張積層板を提供することにある。芳香族ジアミンと芳香族酸二無水物を反応させて得られるポリアミド酸を、イミド化して得られるポリイミドフィルムであってフィルムの貯蔵弾性率が特定の範囲となっているポリイミドフィルム、接着フィルム、フレキシブル金属張積層板によって上記課題を解決しうる。

Description

明 細 書
新規なポリイミドフィルム並びにそれを用いて得られる接着フィルム、フレ キシブル金属張積層板
技術分野
[0001] 本発明は、フレキシブル金属張積層板の製造工程で発生する寸法変化を抑制しう るポリイミドフィルム、特に、接着層を設けて熱ラミネート法で金属箔を貼り合わせた際 に、優れた寸法安定性を有するフレキシブル金属張積層板が得られるポリイミドフィ ルム、並びにそれを用いて得られる接着フィルム、フレキシブル金属張積層板に関 する。
背景技術
[0002] 近年、エレクトロニクス製品の軽量化、小型化、高密度化にともない、各種プリント配 線板の需要が伸びている力 中でもフレキシブルプリント配線板 (以下、 FPCとも称 する)の需要が特に伸びている。フレキシブルプリント配線板は、絶縁性フィルム上に 金属箔カもなる回路が形成された構造を有している。
[0003] 上記フレキシブル配線板の元となるフレキシブル金属張積層板は、一般に、各種 絶縁材料により形成され、柔軟性を有する絶縁性フィルムを基板とし、この基板の表 面に、各種接着材料を介して金属箔を加熱'圧着することにより貼りあわせる方法に より製造される。上記絶縁性フィルムとしては、ポリイミドフィルム等が好ましく用いられ ている。上記接着材料としては、エポキシ系、アクリル系等の熱硬化性接着剤が一般 的に用いられて 、る(これら熱硬化性接着剤を用いた FPCを以下、三層 FPCとも 、う
) o
[0004] 熱硬化性接着剤は比較的低温での接着が可能であるという利点がある。しかし今 後、耐熱性、屈曲性、電気的信頼性といった要求特性が厳しくなるに従い、熱硬化 性接着剤を用いた三層 FPCでは対応が困難になると考えられる。これに対し、絶縁 性フィルムに直接金属層を設けたり、接着層に熱可塑性ポリイミドを使用した FPC ( 以下、二層 FPCともいう)が提案されている。この二層 FPCは、三層 FPCより優れた 特性を有し、今後需要が伸びていくことが期待される。 [0005] 二層 FPCに用いるフレキシブル金属張積層板の作製方法としては、金属箔上にポ リイミドの前駆体であるポリアミド酸を流延、塗布した後イミド化するキャスト法、スパッ タ、メツキによりポリイミドフィルム上に直接金属層を設けるメタライジング法、熱可塑性 ポリイミドを介してポリイミドフィルムと金属箔とを貼り合わせるラミネート法が挙げられ る。この中で、ラミネート法は、対応できる金属箔の厚み範囲がキャスト法よりも広ぐ 装置コストがメタライジング法よりも低 、と 、う点で優れて 、る。ラミネートを行う装置と しては、ロール状の材料を繰り出しながら連続的にラミネートする熱ロールラミネート 装置またはダブルベルトプレス装置等が用いられている。上記の内、生産性の点から 見れば、熱ロールラミネート法をより好ましく用いることができる。
[0006] 従来の三層 FPCをラミネート法で作製する際、接着層に熱硬化性榭脂を用いて!/ヽ たため、ラミネート温度は 200°C未満で行うことが可能であった (特許文献 1参照)。こ れに対し、二層 FPCは熱可塑性ポリイミドを接着層として用いるため、熱融着性を発 現させるために 200°C以上、場合によっては 400°C近くの高温をカ卩える必要がある。 そのため、ラミネートされて得られたフレキシブル金属張積層板に残留歪みが発生し 、エッチングして配線を形成する際、並びに部品を実装するために半田リフローを行 う際に寸法変化となって現れる。
[0007] 特にラミネート法は、ポリイミドフィルム上に熱可塑性ポリイミドを含有する接着層を 設ける際に、熱可塑性ポリイミドの前駆体であるポリアミド酸を流延、塗布した後に連 続的に加熱してイミド化を行い、金属箔を貼り合わせる際も連続的に加熱加圧を行う ため、材料は張力がかけられた状態で加熱環境下に置かれることが多い。そのため 、 MD方向と TD方向で異なる熱応力が発生する。具体的には、張力のかかる MD方 向には引張られる力が働き、逆に TD方向には縮む力が働く。その結果、フレキシブ ル積層板力 金属箔をエッチングする際と、半田リフローを通して加熱する際にこの 歪みが解放され、 MD方向は収縮し、逆に TD方向は膨張してしまう。
[0008] 近年、電子機器の小型化、軽量化を達成するために、基板に設けられる配線は微 細化が進んでおり、実装する部品も小型化、高密度化されたものが搭載される。その ため、微細な配線を形成した後の寸法変化が大きくなると、設計段階での部品搭載 位置力 ずれて、部品と基板とが良好に接続されなくなるという問題が生じる。 [0009] そこで、ラミネート圧力の制御や、接着フィルムの張力制御により、寸法変化を抑え る試みがなされている(特許文献 2または 3参照)。し力しながら、これらの手段により 寸法変化は改善されるものの、まだ充分ではなぐ更なる寸法変化の改善が求めら れている。
[0010] 特に近年では、鉛フリー半田の採用により、吸湿半田耐性の要求レベルが高くなる 傾向にあり、それに対応するために接着層の高 Tg (ガラス転移温度)化が進んで!/、る 力 その結果としてラミネートに必要な温度も必然的に高くなつている。そのため、材 料に力かる熱応力は更に大きくなり、寸法変化が発生しやすい状況となっている。従 つて、より効率的に、熱応力を緩和する材料設計が必要となる。
[0011] また、現在の二層 FPCに使用される絶縁層の厚みは 25 /ζ πι (1ミル)が主流である 力 基板実装スペースの更なる削減、スプリングバック等の課題から、絶縁層の厚み を 15 /z m以下にした、いわゆる「ノヽーフミル」の要求も出始めている。しかしながら、 ハーフミル品は接着フィルムの厚みが薄くなるため、ラミネート時の熱応力の影響を 更に受けやすくなり、 1ミル品よりも寸法変化改善のハードルはかなり高くなる。
特許文献 1:特開平 9— 199830号公報
特許文献 2:特開 2002— 326308号公報
特許文献 3:特開 2002— 326280号公報
発明の開示
発明が解決しょうとする課題
[0012] 本発明は、上記の課題に鑑みてなされたものであって、その目的は、フレキシブル 銅張り積層板の製造工程で発生する寸法変化を抑制しうるポリイミドフィルム、特に、 ラミネート法で材料に力かる熱歪みを抑制する機能を持ったポリイミドフィルム、及び 該ポリイミドフィルムの少なくとも片面に接着層を設けた接着フィルム、そして該接着 フィルムに熱ラミネート法で金属箔を貼り合わせて得られる、寸法変化の発生を抑制 できるフレキシブル金属張積層板、特に接着フィルムの厚みが薄 ヽ場合でも寸法変 化の発生を抑制できるフレキシブル金属張積層板を提供することにある。
課題を解決するための手段
[0013] 本発明者らは、上記の課題に鑑み鋭意検討した結果、貯蔵弾性率の値が特定の 範囲に制御されたポリイミドフィルムは、これを用いたフレキシブル銅張積層板の製 造工程で発生しうる寸法変化を抑制できること、特に、フィルムの少なくとも片面に接 着層を設けた接着フィルムのコア層として使用することで、熱ラミネート時における熱 歪みを緩和し、寸法変化の発生を効果的に抑制できることを独自に見出し、本発明 を完成させるに至った。すなわち、以下の新規なポリイミドフィルム、これを用いた接 着フィルムおよびフレキシブル金属張積層板によって、上記目的を達成しうる。
1)芳香族ジァミンと芳香族酸二無水物を反応させて得られるポリアミド酸を、イミドィ匕 して得られるポリイミドフィルムであって、下記(1)〜(4)の条件
( 1) 270°C〜340°Cの範囲に貯蔵弾性率の変曲点を有し、
(2)損失弾性率を貯蔵弾性率で割った値である tan δのピークトップが 320°C〜410 °Cの範囲内にあり、
(3) 380°Cにおける貯蔵弾性率が 0. 4GPa〜2. OGPaであり、
(4)変曲点における貯蔵弾性率 a (GPa)と、 380°Cにおける貯蔵弾性率 a (GPa)
1 2 が下記式(1)の範囲にある
(式 1) ; 85≥{ ( α - a ) / a } X 100≥65
1 2 1
を全て満たすことを特徴とする、ポリイミドフィルム。
2)前記ポリイミドフィルム力 下記の工程 (a)〜(c)
(a)芳香族酸二無水物と、これに対し過剰モル量の芳香族ジァミン化合物とを有機 極性溶媒中で反応させ、両末端にアミノ基を有するプレボリマーを得る
(b)続、て、ここに芳香族ジァミンィ匕合物を追加添加する
(c)更に、全工程における芳香族酸二無水物と芳香族ジァミンが実質的に等モルと なるように芳香族酸二無水物を添加して重合する
を経ることによって得られたポリアミド酸溶液をイミド化して得られることを特徴とする 1 )記載のポリイミドフィルム。
3)前記 (a)工程で用いる芳香族ジァミンィ匕合物が、柔構造のジァミンであり、前記 (b )工程で用いる芳香族ジァミンィ匕合物が、剛構造のジァミンであることを特徴とする、 2)記載のポリイミドフィルム。
4)前記ポリイミドフィルム力 3, 4,ージアミノジフエ-ルエーテルを、全ジァミン成分 の 10モル%以上使用して得られることを特徴とする、 1)乃至 3)記載のポリイミドフィ ノレム。
5)前記ポリイミドフィルムの引張弾性率力 6. OGPa以上であることを特徴とする、 1) 乃至 4)の!、ずれかに記載のポリイミドフィルム。
6)前記ポリイミドフィルムを 50°C、 40%R. H.で 3時間保持した後、 80%R. H.で 3 時間保持した際の吸湿膨張係数が、 13ppmZ°C以下であることを特徴とする、 1)乃 至 5)の!、ずれかに記載のポリイミドフィルム。
7)前記ポリイミドフィルムの 100°C〜200°Cにおける線膨張係数が、 15 1!17で以 下であることを特徴とする、 1)乃至 6)のいずれかに記載のポリイミドフィルム。
8)さらに前記ポリイミドフィルムは、分子配向軸角度が MD方向に対して— 15から 15 度となって!/、ることを特徴とする 1)乃至 7)の 、ずれかに記載のポリイミドフィルム。
9)前記ポリイミドフィルムが、
(A)ポリアミド酸を重合する工程
(B)ポリアミド酸及び有機溶媒を含む組成物を支持体上に流延 ·塗布後、ゲルフィル ムを形成する工程、
(C)該ゲルフィルムを引き剥がし、両端を固定する工程
(D)フィルムの両端を固定しながら加熱炉内を搬送する工程、
を含む有機絶縁性フィルムの製造方法であって、前記 (D)工程は、(D— 1)少なくと も一部にお 、てフィルム幅方向(TD方向)の張力が実質的に無張力となるように固 定されて搬送する工程を含むことを特徴とする有機絶縁性フィルムの製造方法により 得られるものであることを特徴とする、 7)記載のポリイミドフィルム。
10) 1)乃至 9)のいずれかに記載のポリイミドフィルムの少なくとも片面に、熱可塑性 ポリイミドを含有する接着層を設けた接着フィルム。
11)熱可塑性ポリイミドのガラス転移温度 (Tg)が 230°C以上であることを特徴とする 、 10)記載の接着フィルム。
12)フィルム厚みが 15 μ m以下となって!/、る 10)または 11)記載の接着フィルム。
13)—対以上の金属ロールを有する熱ロールラミネート装置を用いて、 10)乃至 12) のいずれかに記載の接着フィルムに金属箔を貼り合わせて得られることを特徴とする 、フレキシブル金属張積層板。
14)前記一対以上の金属ロールを有する熱ロールラミネート装置を用いて、接着フィ ルムに金属箔を貼り合わせる際に、非熱可塑性ポリイミド、またはガラス転移温度 (Tg
)がラミネート温度よりも 50°C以上高 、熱可塑性ポリイミドからなる保護材料を金属箔 とロールの間に配してラミネートを行い、ラミネート後冷却された段階で保護材料を剥 離して得られることを特徴とする、 13)記載のフレキシブル金属張積層板。
15)前記ラミネート後、保護材料を剥離する前に、保護材料とフレキシブル金属張積 層板が密着している積層体を、加熱ロールに 0. 1〜5秒の範囲で接触させ、その後 冷却して積層体力も保護材料を剥離することを特徴とする、 14)記載のフレキシブル 金属張積層板。
16)金属箔除去後に 250°C、 30分の加熱を行う前後の寸法変化率が、 MD方向、 T D方向共に— 0. 04〜+ 0. 04%の範囲にあることを特徴とする、 13)乃至 15)のい ずれかに記載のフレキシブル金属張積層板。
17)接着フィルムの厚みが 15 mであり、かつ金属箔除去後に 250°C、 30分の加熱 を行う前後の寸法変化率力 MD方向、 TD方向共に 0. 05〜+ 0. 05%の範囲に あることを特徴とする 13)乃至 15)のいずれか〖こ記載のフレキシブル金属張積層板。 発明の効果
[0014] 本発明のポリイミドフィルムは、フレキシブル銅張り積層板の製造工程で発生する寸 法変化を抑制することができる。特に、ラミネート時の熱応力を緩和すベぐ貯蔵弾性 率の変曲点を持たせており、かつその値を制御している。その結果、該ポリイミドフィ ルムをコアに使用した接着フィルムに、ラミネート法で金属箔を貼り合わせたフレキシ ブル金属張積層板は、寸法変化の発生が効果的に抑制されている。具体的には、 金属箔除去後に 250°C、 30分の加熱を行う前後の寸法変化率を、 MD方向、 TD方 向共に—0. 04〜+ 0. 04%の範囲とすることが可能である。従って、微細な配線を 形成した FPC等にも好適に用いることが可能で、位置ずれ等の問題を改善できる。 発明を実施するための最良の形態
[0015] 本発明の実施の形態について、以下に説明する。まず、本発明に係るポリイミドフィ ルムの場合について、その実施の形態の一例に基づき説明する。 [0016] (本発明のポリイミドフィルム)
本発明は、ポリイミドフィルムが下記(1)〜 (4)のすベての物性を満たせば、これを用 いてフレキシブル金属張積層板を製造する際に発生する寸法変化を効果的に抑制 しうるというものである。
( 1) 270°C〜340°Cの範囲に貯蔵弾性率の変曲点を有し、
(2)損失弾性率を貯蔵弾性率で割った値である tan δのピークトップが 320°C〜 4 10°Cの範囲内にあり、
(3) 380°Cにおける貯蔵弾性率が 0. 4GPa〜2. OGPaであり、
(4)変曲点における貯蔵弾性率 a (GPa)と、 380°Cにおける貯蔵弾性率 a (GPa)
1 2 が下記式(1)の範囲にある
(式 1) ; 85≥{ ( α - a ) / a } X 100≥65
1 2 1
貯蔵弾性率の変曲点について説明する。貯蔵弾性率の変曲点は、ラミネート法で 金属箔を貼り合わせる際の熱応力の緩和の観点から、 270〜340°C、好ましくは 280 〜330°Cの範囲にあることが必要である。ここで、貯蔵弾性率の変曲点が上記範囲よ りも低 ヽ場合、フレキシブル金属張積層板の加熱後寸法変化を評価する温度(二層 FPCの分野においては、 250°Cで評価されることが多い)において、コア層の軟化が 始まるため、寸法変化が悪化する原因となる。逆に上記範囲よりも高い場合、コア層 の軟ィ匕が始まる温度が高いため、熱ラミネート時に熱応力を十分に緩和せず、やはり 寸法変化が悪化する原因となる。
[0017] また、損失弾性率を貯蔵弾性率で割った値である tan δのピークトップが 320°C〜 410°C以上、好ましくは 330°C〜400°Cの範囲内にあることが必要である。 tan δの ピークトップが上記範囲よりも低い場合、 tan δが増加し始める温度が 250°C前後も しくはそれ以下になり、寸法変化測定時にコア層が軟ィ匕し始める場合があるため、寸 法変化率が悪化する可能性がある。逆に tan δのピークトップが上記範囲よりも高い 場合、歪みを緩和するのに充分なレベルまでコア層を軟ィ匕させるために必要な温度 が高くなりすぎ、既存のラミネート装置では熱応力を充分に緩和せず、寸法変化が悪 化する可能性がある。上記範囲を外れる場合、貯蔵弾性率の変曲点と同様、寸法変 化が悪化する原因となる。 [0018] また、 380°Cにおける貯蔵弾'性率力 0. 4〜2. OGPa、好ましくは 0. 6〜1. 8GPa 、更に好ましくは 0. 7〜1. 6GPaの範囲にあることが必要である。本発明者らは鋭意 検討を行った結果、半田耐熱性も両立させる場合、接着層のガラス転移温度は 240 °C〜280°Cとする必要があることを見出した。その場合、生産性良くラミネートを行う ためには、ラミネート温度が 380°C程度必要である。そのため、 380°Cでの貯蔵弾性 率制御が非常に重要となる。 380°Cにおける貯蔵弾性率が上記範囲よりも低い場合 、フィルムのイミド化時または熱ラミネート時に、フィルムが自己支持性を保てなくなり 、フィルムの生産性を悪ィ匕させたり、得られるフレキシブル金属張積層板の外観を悪 ィ匕させる原因となる。逆に上記範囲よりも高い場合、コア層が十分に軟ィ匕しないため 、熱ラミネート時の熱応力緩和効果が十分に発現せず、寸法変化が悪化する原因と なる。
[0019] また、本発明者らは、変曲点における貯蔵弾性率 a (GPa)と 380°Cにおける貯蔵
1
弾性率 a (GPa)の値の関係について検討した結果、下記式(1)の範囲にあることが
2
、フレキシブル金属張積層板を製造する工程で発生する寸法変化を抑制するの〖こ 重要であることを見出した。
85≥{ ( a - a ) / a } X 100≥65 (式 1)
1 2 1
上記範囲を下回る場合、貯蔵弾性率の低下度合いが少ないため、熱ラミネート時の 熱応力緩和効果が十分に発現せず、得られるフレキシブル金属張積層板の寸法変 化が悪化する原因となる。逆に上記範囲よりも高い場合、フィルムが自己支持性を保 てなくなり、フィルムの生産性を悪ィ匕させたり、得られるフレキシブル金属張積層板の 外観を悪化させる原因となる。
[0020] 寸法安定性に優れたフレキシブル金属張積層板を得るためには、上記 4条件を全 て満たしたポリイミドフィルムが必要である。
[0021] これまで、上記特性のすべてを満たすポリイミドフィルムは知られていなかった。こ のようなポリイミドフィルムを得る方法は、特に限定はされないが、一例を挙げて説明 する。
本発明のポリイミドフィルムは、ポリイミドの前駆体であるポリアミド酸の溶液力 得られ る。ポリアミド酸は、通常、芳香族ジァミンと芳香族酸二無水物とを、実質的に等モル 量となるように有機溶媒中に溶解させて、得られたポリアミド酸有機溶媒溶液を、制御 された温度条件下で、上記酸二無水物とジァミンの重合が完了するまで攪拌すること によって製造される。これらのポリアミド酸溶液は通常 5〜35wt%、好ましくは 10〜3 Owt%の濃度で得られる。この範囲の濃度である場合に適当な分子量と溶液粘度を 得る。
本発明のポリイミドフィルムは、原料モノマーであるジァミン並びに酸二無水物の構 造のみならず、モノマー添加順序を制御することによつても、諸物性を制御することが 可能である。従って、本発明のポリイミドフィルムを得るためには、下記 (a)〜(c)のェ 程を経ることによって得られたポリアミド酸溶液をイミド化することが好ましい。
(a)芳香族酸二無水物と、これに対し過剰モル量の芳香族ジァミン化合物とを有機 極性溶媒中で反応させ、両末端にアミノ基を有するプレボリマーを得る
(b)続、て、ここに芳香族ジァミンィ匕合物を追加添加する
(c)更に、全工程における芳香族酸二無水物と芳香族ジァミンが実質的に等モルと なるように芳香族酸二無水物を添加して重合する
本発明のポリイミドフィルムの原料モノマーとして使用し得る芳香族ジァミンとしては 、 4, 4'ージアミノジフエニルプロパン、 4, 4'ージアミノジフエニルメタン、ベンジジン 、 3, 3'—ジクロ口べンジジン、 3, 3 '—ジメチルベンジジン、 2, 2'—ジメチルベンジ ジン、 3, 3'ージメトキシベンジジン、 2, 2'ージメトキシベンジジン、 4, 4'ージアミノジ フエ-ルスルフイド、 3, 3,一ジアミノジフエ-ルスルホン、 4, 4'—ジアミノジフエニル スルホン、 4, 4'ージアミノジフエニルエーテル、 3, 3,ージアミノジフエニルエーテル 、 3, 4'—ジアミノジフエニルエーテル、 1, 5—ジァミノナフタレン、 4, 4'ージアミノジ フエ二ルジェチルシラン、 4, 4'ージアミノジフエニルシラン、 4, 4'ージアミノジフエ二 ルェチルホスフィンォキシド、 4, 4'ージアミノジフエニル N—メチルァミン、 4, 4'ージ アミノジフエ-ル N—フエニルァミン、 1, 4—ジァミノベンゼン(p—フエ-レンジアミ ン)、 1, 3—ジァミノベンゼン、 1, 2—ジァミノベンゼン、ビス {4一(4ーァミノフエノキ シ)フエ-ル}スルホン、ビス {4— (3—アミノフエノキシ)フエ-ル}スルホン、 4, 4,一ビ ス(4—アミノフエノキシ)ビフエ-ル、 4, 4,一ビス(3—アミノフエノキシ)ビフエ-ル、ビ ス {4— (4—アミノフエノキシ)フエ-ル}プロパン、 1, 3—ビス(3—アミノフエノキシ)ベ ンゼン、 1, 3—ビス(4—アミノフエノキシ)ベンゼン、 1, 3—ビス(4—アミノフエノキシ) ベンゼン、 1, 3—ビス(3—アミノフエノキシ)ベンゼン、 3, 3,一ジァミノべンゾフエノン 、 4, 4'ージァミノベンゾフヱノン及びそれらの類似物などが挙げられる。
[0023] 上記 (a)工程にぉ 、て、熱可塑性ポリイミド由来のブロック成分を形成するプレポリ マーを得ることが好まし ヽ。熱可塑性ポリイミド由来のブロック成分を形成するプレポリ マーを得るためには、屈曲性を有するジァミン (柔構造のジァミン)と酸二無水物とを 反応させることが好まし 、。本発明にお 、て熱可塑性ポリイミド由来のブロック成分と は、その高分子量体のフィルム力 00°Cに加熱した際に熔融し、フィルムの形状を保 持しないようなものを指す。具体的には、(a)工程で用いる芳香族ジァミンィ匕合物お よび芳香族酸二無水物成分を等モル反応させて得られるポリイミドが、上記温度で溶 融するか、あるいはフィルムの形状を保持しないかを確認することで、芳香族ジァミン 化合物および芳香族酸二無水物成分を選定することができる。このプレボリマーを用 いて (b)、(c)工程の反応を進めることにより、熱可塑性部位が分子鎖中に点在した ポリアミド酸が得られる。ここで、 (b)、(c)工程で用いる芳香族ジァミンィ匕合物および 芳香族酸二無水物成分を選択して、最終的に得られるポリイミドが非熱可塑性となる ようにポリアミド酸を重合すれば、これをイミド化して得られるポリイミドフィルムは、熱 可塑性部位を有することにより、高温領域で貯蔵弾性率の変曲点を発現するようにな る。その一方で、分子鎖中の大部分は非熱可塑性の構造であるため、熱可塑性部位 と非熱可塑性部位の割合を制御することによって、高温領域で貯蔵弾性率が極端に 低下することを防ぐことが可能となる。
本発明において屈曲性を有するジァミン (柔構造のジァミン)とは、エーテル基、スル ホン基、ケトン基、スルフイド基など柔構造を有するジァミンであり、好ましくは、下記 一般式(1)で表されるものである。
[0024] [化 1]
Figure imgf000012_0001
一般式 ( 1 )
[0025] (式中の Rは、
4
[0026] [化 2]
Figure imgf000012_0002
-般式群 (1 ) で表される 2価の有機基または連結基力 なる群力 選択される基であり、式中の R
5 は同一または異なって、 H—, CH―、 一 OH、 -CF 、 -SO 、 一 COOH、 一 CO-
3 3 4
NH 、 CI—、 Br―、 F―、及び CH O からなる群より選択される 1つの基である。 )
2 3
さらに (b)工程で用いるジァミン成分は剛構造のジァミンであることが最終的に得る フィルムを非熱可塑性とすることができる点から好まし 、。本発明にお 、て剛直構造 を有するジァミンとは、
[0028] [化 3]
NH2— R2-NH2
一般式 (2)
[0029] 式中の R2は
[0030] [化 4]
Figure imgf000013_0001
一般式群 (2)
[0031] で表される 2価の芳香族基力 なる群力 選択される基であり、式中の Rは同一また
3 は異なって H—, CH一、 一 OH、 -CF、 一 SO、 一 COOH、 一 CO— NH、 C1一、
3 3 4 2
Br—、 F—、及び CH O—からなる群より選択される何れかの 1つの基である)
3
で表されるものをいう。
[0032] ここで、剛構造と柔構造 (屈曲性を有するジァミン)のジァミンの使用比率はモル比 で 80:20〜20:80カ 子ましく、さらには70:30〜30:70、特には60:40〜40:60の 範囲となるようにするのが好ましい。剛構造のジァミンの使用比率が上記範囲を上回 ると、得られるフィルムのガラス転移温度が高くなり過ぎる、高温領域の貯蔵弾性率が 殆ど低下しな!ヽ、線膨張係数が小さくなり過ぎると!ヽぅ弊害が発生する場合がある。 逆にこの範囲を下回ると、正反対の弊害を発生する場合がある。
[0033] 上記柔構造、剛構造のジァミンはそれぞれ複数種を組み合わせて使用しても良い iS 本発明のポリイミドフィルムにおいては、柔構造のジァミンとして、 3, 4'—ジァミノ ジフエニルエーテルを使用することが特に好ましい。
[0034] 3, 4,ージアミノジフエ-ルエーテルは、屈曲部位であるエーテル結合は一つしか ないが、片方のアミノ基カ タ位に結合しているため、柔構造のジァミンではあるが、 柔構造のジァミンの中でも、剛構造のジァミンに近い性質を示す。即ち、貯蔵弾性率 を低下させる効果を有しつつ、線膨張係数を若干低下させる効果を発現させる。そ のため、 1, 3 ビス(3 アミノフエノキシ)ベンゼン、ビス {4— (4 アミノフエノキシ)フ ェニル }プロパン等の屈曲部位を多く有するジァミンと併用することで、得られるポリイ ミドフィルムの物性バランスを取ることが容易となる。
[0035] 3, 4'ージアミノジフエ-ルエーテルの使用量は、全ジァミン成分の 10モル%以上 であることが好ましぐ 15モル%以上がより好ましい。これよりも少ないと、上記効果を 十分に発現しない場合がある。一方、上限については、 50モル%以下が好ましぐ 4 0モル%以下がより好ましい。これよりも多いと、剛構造ジァミンとの相乗効果で、得ら れるポリイミドフィルムの線膨張係数が小さくなり過ぎる場合がある。
[0036] 本発明のポリイミドフィルムの原料モノマーとして使用し得る酸二無水物としては、ピ ロメリット酸二無水物、 2, 3, 6, 7 ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、 3, 3' , 4, 4,ービフエ-ルテトラカルボン酸二無水物、 1, 2, 5, 6 ナフタレンテトラカルボン酸 二無水物、 2, 2' , 3, 3,ービフエ-ルテトラカルボン酸二無水物、 3, 3' , 4, 4,一べ ンゾフエノンテトラカルボン酸二無水物、 2, 2' , 3, 3'—べンゾフエノンテトラカルボン 酸二無水物、 4, 4' ォキシフタル酸ニ無水物、 3, 4'—ォキシフタル酸ニ無水物、 2, 2 ビス(3, 4 ジカルボキシフエ-ル)プロパン二無水物、 3, 4, 9, 10 ペリレ ンテトラカルボン酸二無水物、ビス(3, 4—ジカルボキシフエ-ル)プロパン二無水物 、 1, 1—ビス(2, 3 ジカルボキシフエ-ル)エタンニ無水物、 1, 1—ビス(3, 4 ジ カルボキシフエ-ル)エタンニ無水物、ビス(2, 3 ジカルボキシフエ-ル)メタン二無 水物、ビス(3, 4—ジカルボキシフエ-ル)エタンニ無水物、ォキシジフタル酸二無水 物、ビス(3, 4—ジカルボキシフエ-ル)スルホン二無水物、 p フエ-レンビス(トリメリ ット酸モノエステル酸無水物)、エチレンビス(トリメリット酸モノエステル酸無水物)、ビ スフェノール Aビス(トリメリット酸モノエステル酸無水物)及びそれらの類似物等が挙 げられる。これらを単独または、任意の割合の混合物が好ましく用い得る。
[0037] ジァミンの場合と同様、酸二無水物についても、柔構造と剛構造とに分類し、前者 を (a)工程で、後者を (c)工程でそれぞれ使用する。(a)工程で使用する柔構造の酸 二無水物としては、ベンゾフエノンテトラカルボン酸二無水物類、ォキシフタル酸ニ無 水物類、ビフエ二ルテトラカルボン酸二無水物類が好ましい例として挙げられる。(c) 工程で使用する剛構造の酸二無水物としては、ピロメリット酸二無水物が好ましい例 として挙げられる。また、ベンゾフエノンテトラカルボン酸二無水物類、ォキシフタル酸 二無水物類、ビフヱニルテトラカルボン酸二無水物類の好ましい使用量は、全酸二 無水物に対して 10〜50モル0 /0、より好ましくは 15〜45モル0 /0、特に好ましくは 20〜 40モル%である。上記範囲よりも少ない場合、柔構造ジァミンだけでは、得られるポリ イミドフィルムのガラス転移温度が高すぎたり、高温領域の貯蔵弾性率が十分に低下 しない場合がある。逆に上記範囲よりも多い場合、ガラス転移温度が低すぎたり、高 温領域の貯蔵弾性率が低すぎてフィルム製膜が困難になる場合がある。
また、ピロメリット酸二無水物を用いる場合、好ましい使用量は 40〜: LOOmol%、更に 好ましくは 50〜90mol%、特に好ましくは 60〜80mol%である。ピロメリット酸二無 水物をこの範囲で用いることにより、得られるポリイミドフィルムのガラス転移温度およ び高温領域の貯蔵弾性率を、使用または製膜に好適な範囲に保ちやすくなる。
[0038] 本発明に係るポリイミドフィルムは、上記の範囲の中で芳香族酸二無水物および芳 香族ジァミンの種類、配合比を決定して用いることにより、所望のガラス転移温度、高 温領域の貯蔵弾性率を発現することができるが、使用用途である接着フィルムの加 ェ方法、即ち熱ラミネート法で加工することを考えると、引張弾性率が 6. OGPa以上 であることが好ましぐ 6. 5GPa以上であることがより好ましい。引張弾性率が上記値 よりも小さいと、張力の影響を受けやすくなり、フレキシブル金属張積層板に残留応 力が発生し、寸法変化の原因となる。また、フィルム厚を薄くした際、フィルムのコシが 弱いため、搬送性や取扱い性に問題が生じる場合がある。引張弾性率の上限値とし ては、 lOGPa以下が好ましぐ 9. OGPa以下がより好ましい。上記値よりも大きいと、 コシが強すぎて、取扱い性に問題が生じる場合がある。引張弾性率は、剛構造のジ ァミンまたは酸二無水物、もしくは 3, 4,ージアミノジフエ-ルエーテルの割合を増や すことで値が大きくなり、割合を減らすことで逆に小さくなる。
[0039] また、寸法変化への影響を考慮すると、ポリイミドフィルムを 50°C、 40%R. H.で 3 時間保持した後、 80%R. H.で 3時間保持した際の吸湿膨張係数が、 13ppm/°C 以下であることが好ましぐ l lppmZ°C以下であることがより好ましい。吸湿膨張係数 が上記値よりも大きい場合、寸法変化の環境依存性が大きくなり、 FPCとして使用す る際に問題が生じる場合がある。吸湿膨張係数は、ポリイミド分子鎖中のエーテル基 、カルボニル基等の極性基の割合が増えると、大きくなる傾向にある。また、分子量 の小さいジァミン成分、酸二無水物成分を使用する(単位分子量あたりのイミド基の 数が多くなる)ことによつても、大きくなる傾向にある。そのため、柔構造成分の使用比 率の調整、ならびにモノマー構造 (分子量)の選択により、制御することが可能である
[0040] 更に、同じく寸法変化への影響を考慮すると、前記ポリイミドフィルムの 100°C〜20 0°Cにおける線膨張係数力 15ppmZ°C以下であることが好ましぐ 13 1!17で以 下であることがより好ましい。線膨張係数が上記値よりも大きい場合、接着フィルムに した際の線膨張係数が大きくなり過ぎてしま!/、、金属箔の線膨張係数との差が大きく なるため、寸法変化の原因となる。逆にポリイミドフィルムの線膨張係数力 、さ過ぎる と、やはり金属箔の線膨張係数の差が大きくなつてしまう。そのため、線膨張係数の 下限は 5ppmZ°Cであることが好ましぐ 6ppmZ°Cであることがより好ましい。ポリイミ ドフィルムの線膨張係数が 5〜 15ppm/°C、好ましくは 6〜 13ppm/°Cの範囲内で あれば、接着フィルムの線膨張係数を金属箔のそれに近づけることが容易となる。ポ リイミドフィルムの線膨張係数は、上記の通り、柔構造成分と剛構造成分の混合比に より調整が可能である。
ポリアミド酸を合成するための好まし 、溶媒は、ポリアミド酸を溶解する溶媒であれば いかなるものも用いることができる力 アミド系溶媒すなわち N, N—ジメチルフオルム アミド、 N, N—ジメチルァセトアミド、 N—メチルー 2—ピロリドンなどであり、 N, N- ジメチルフオルムアミド、 N, N—ジメチルァセトアミドが特に好ましく用い得る。
また、摺動性、熱伝導性、導電性、耐コロナ性、ループスティフネス等のフィルムの諸 特性を改善する目的でフィラーを添加することもできる。フイラ一としてはいかなるもの を用いても良いが、好ましい例としてはシリカ、酸化チタン、アルミナ、窒化珪素、窒 化ホウ素、リン酸水素カルシウム、リン酸カルシウム、雲母などが挙げられる。
[0041] フィラーの粒子径は改質すべきフィルム特性と添加するフイラ一の種類によって決 定されるため、特に限定されるものではないが、一般的には平均粒径が 0. 05-100 m、好ましく ίま 0. 1〜75 m、更に好ましく ίま 0. 1〜50 m、特に好ましく ίま 0. 1 〜25 /ζ πιである。粒子径がこの範囲を下回ると改質効果が現れに《なり、この範囲 を上回ると表面性を大きく損なったり、機械的特性が大きく低下したりすることがある。 また、フィラーの添加部数にっ 、ても改質すべきフィルム特性ゃフイラ一粒子径など により決定されるため特に限定されるものではない。一般的にフィラーの添カ卩量はポ ジイミド、 100重量咅に対して 0. 01〜: L00重量咅^好まし <は 0. 01〜90重量咅^更に 好ましくは 0. 02〜80重量部である。フィラー添加量力この範囲を下回るとフイラ一に よる改質効果が現れにくぐこの範囲を上回るとフィルムの機械的特性が大きく損な われる可能性がある。フィラーの添カロは、
1.重合前または途中に重合反応液に添加する方法
2.重合完了後、 3本ロールなどを用いてフィラーを混鍊する方法
3.フィラーを含む分散液を用意し、これをポリアミド酸有機溶媒溶液に混合する方法 など!/、かなる方法を用いてもょ 、が、フィラーを含む分散液をポリアミド酸溶液に混合 する方法、特に製膜直前に混合する方法が製造ラインのフィラーによる汚染が最も少 なくすむため、好ましい。フィラーを含む分散液を用意する場合、ポリアミド酸の重合 溶媒と同じ溶媒を用いるのが好ましい。また、フィラーを良好に分散させ、また分散状 態を安定化させるために分散剤、増粘剤等をフィルム物性に影響を及ぼさな ヽ範囲 内で用いることもできる。
これらポリアミド酸溶液力 ポリイミドフィルムを製造する方法については従来公知の 方法を用いることができる。この方法には熱イミドィ匕法と化学イミドィ匕法が挙げられる。 熱イミド化法は、脱水剤等を作用させずに加熱だけでイミド化反応を進行させる方法 であり、化学イミド化法は、ポリアミド酸溶液に、脱水剤及び Ζ又はイミド化触媒とを作 用させてイミド化を促進する方法である。
[0042] ここで、脱水剤とは、ポリアミド酸に対し、脱水閉環作用を示すものであり、例えば、 脂肪族酸無水物、芳香族酸無水物、 N, Ν' -ジアルキルカルポジイミド、ハロゲン 化低級脂肪族、ハロゲン化低級脂肪酸無水物、ァリールホスホン酸ジハロゲンィ匕物、 チォニルノヽロゲンィ匕物、またはそれら 2種以上の混合物が挙げられる。中でも入手の 容易性、コストの点から、無水酢酸、無水プロピオン酸、無水ラタ酸等の脂肪族酸無 水物、またはそれら 2種以上の混合物を好ましく用いることができる。
また、イミド化触媒とはポリアミド酸に対する脱水閉環作用を促進する効果を有する成 分を意味し、例えば、脂肪族第三級ァミン、芳香族第三級ァミン、複素環式第三級ァ ミン等が用いられる。中でもイミドィ匕触媒としての反応性の点から、複素環式第三級ァ ミン力 選択されるものが特に好ましく用いられる。具体的にはキノリン、イソキノリン、 β ピコリン、ピリジン等が好ましく用いられる。
どちらの方法を用いてフィルムを製造してもかまわないが、化学イミド化法によるイミド 化の方が本発明に好適に用いられる諸特性を有したポリイミドフィルムを得やす ヽ傾 I口」にある。
また、本発明にお 、て特に好ま 、ポリイミドフィルムの製造工程は、
a) 有機溶剤中で芳香族ジァミンと芳香族テトラカルボン酸二無水物を反応させてポ リアミド酸溶液を得る工程、
b)上記ポリアミド酸溶液を含む製膜ドープを支持体上に流延する工程、
c)支持体上で加熱した後、支持体力ゝらゲルフィルムを引き剥がす工程、
d)更に加熱して、残ったァミック酸をイミドィ匕し、かつ乾燥させる工程、
を含むことが好ましい。
(ポリイミドフィルムの製造工程)
以下本発明の好ましい一形態、化学イミド化法を一例にとり、ポリイミドフィルムの製 造工程を説明する。ただし、本発明は以下の例により限定されるものではない。製膜 条件や加熱条件は、ポリアミド酸の種類、フィルムの厚さ等により、変動し得る。
脱水剤及びイミドィ匕触媒を低温でポリアミド酸溶液中に混合して製膜ドープを得る。 引き続いてこの製膜ドープをガラス板、アルミ箔、エンドレスステンレスベルト、ステン レスドラムなどの支持体上にフィルム状にキャストし、支持体上で 80°C〜200°C、好 ましくは 100°C〜180°Cの温度領域で加熱することで脱水剤及びイミドィ匕触媒を活 性ィ匕することによって部分的に硬化及び zまたは乾燥した後支持体力 剥離してポ リアミド酸フィルム(以下、ゲルフィルムと 、う)を得る。
ゲルフィルムは、ポリアミド酸力 ポリイミドへの硬化の中間段階にあり、自己支持性を 有し、(式 2)
(A— B) Χ 100ΖΒ· · · · (式 2)
( (式 2)中
A, Bは以下のものを表す。
A:ゲルフィルムの重量
B:ゲルフィルムを 450°Cで 20分間加熱した後の重量)
力も算出される揮発分含量は 5〜500重量%の範囲、好ましくは 5〜200重量%、よ り好ましくは 5〜150重量%の範囲にある。この範囲のフィルムを用いることが好適で あり、この範囲外では、焼成過程でフィルム破断、乾燥ムラによるフィルムの色調ムラ 、特性ばらつき等の不具合が起こることがある。
脱水剤の好ましい量は、ポリアミド酸中のアミド酸ユニット 1モルに対して、 0. 5〜5モ ル、好ましくは 1. 0〜4モルである。
また、イミドィ匕触媒の好ましい量はポリアミド酸中のアミド酸ユニット 1モルに対して、 0 . 05〜3モル、好ましくは 0. 2〜2モルである。
脱水剤及びイミドィ匕触媒が上記範囲を下回ると化学的イミドィ匕が不十分で、焼成途 中で破断したり、機械的強度が低下したりすることがある。また、これらの量が上記範 囲を上回ると、イミドィ匕の進行が早くなりすぎ、フィルム状にキャストすることが困難とな る場合がある。
前記ゲルフィルムの端部を固定して硬化時の収縮を回避して乾燥し、水、残留溶 媒、残存脱水剤及びイミド化触媒を除去し、そして残ったアミド酸を完全にイミド化し て、本発明のポリイミドフィルムが得られる。
この時、最終的に 400〜650°Cの温度で 5〜400秒カ卩熱するのが好ましい。この温 度より高い及び Zまたは時間が長いと、フィルムの熱劣化が起こり問題が生じることが ある。逆にこの温度より低い及び Zまたは時間が短いと所定の効果が発現しないこと がある。 また、フィルム中に残留して!/ヽる内部応力を緩和させるためにフィルムを搬送するに 必要最低限の張力下において加熱処理をすることもできる。この加熱処理はフィルム 製造工程において行ってもよいし、また、別途この工程を設けても良い。加熱条件は フィルムの特性や用いる装置に応じて変動するため一概に決定することはできない 力 一般的には 200°C以上 500°C以下、好ましくは 250°C以上 500°C以下、特に好 ましくは 300°C以上 450°C以下の温度で、 1〜300秒、好ましくは 2〜250秒、特に好 ましくは 5〜200秒程度の熱処理により内部応力を緩和することができる。
さらに本発明では、最終的に熱ラミネート法で加工する場合、張力ならびにラミネート による延伸の影響をキャンセルするため、ポリイミドフィルム力 搬送方向(MD方向) に分子配向していることが好ましい。すなわち、分子配向軸角度が MD方向に対して —15から 15度となっていることが好ましい。フィルムの分子配向軸角度を制御する一 例としては以下の方法が好ましく採用される。
少なくとも、(A)ポリアミド酸を重合する工程
(B)ポリアミド酸及び有機溶媒を含む組成物を支持体上に流延 ·塗布後、ゲルフィル ムを形成する工程、
(C)該ゲルフィルムを引き剥がし、両端を固定する工程
(D)フィルムの両端を固定しながら加熱炉内を搬送する工程、
を含む有機絶縁性フィルムの製造方法であって、前記 (D)工程は、(D— 1)少なくと も一部にお 、てフィルム幅方向(TD方向)の張力が実質的に無張力となるように固 定されて搬送する工程を含むことを特徴とする有機絶縁性フィルムの製造方法であ る。
[0045] (A)工程では、上述のようにしてポリアミド酸を重合する。
[0046] また (B)工程は、ポリアミド酸及び有機溶媒を含む組成物(ポリアミド酸溶液とも 、う )を支持体上に流延'塗布後、ゲルフィルムを形成する工程であり、上述のようにゲル フィルムを得ればよい。なお、(B)工程におけるゲルフィルムの揮発分含量は、 500 重量%以下であることが好ましぐさらに好ましくは 25〜200重量%、特に好ましくは 30〜150重量%でぁる。
[0047] (C)工程は、ゲルフィルムを支持体から引き剥がし連続的にゲルフィルムの両端を 固定する工程であり、クリップによる固定やピンニング等の従来公知の方法を用いれ ばよい。なお、後述する(D)工程においての少なくとも一部において TD方向の張力 が実質的に無張力となるように固定する方法として、この(C)工程の、ゲルフィルムの 端部を固定する際に、 TD方向の張力が実質的に無張力となるように固定してもよい 。フィルムを固定する段階で、 TD方向の張力が実質的に無張力となるように行い、そ のまま (D)工程へ送る方法である。具体的には、端部を固定する際に、フィルムを弛 ませて固定するのである。
[0048] (D)工程は、フィルムの両端を固定しながら加熱炉内を搬送する工程である。本発 明においては、この(D)工程の少なくとも一部において(D—1)フィルム幅方向(TD 方向)の張力が実質的に無張力となるように固定されて搬送する工程を含むことが、 MD方向に配向が制御された有機絶縁性フィルムを得ると ヽぅ点で好ま 、。
[0049] ここで、 TD方向の張力が実質的に無張力であるとは、フィルムの自重による張力以 外に、機械的なハンドリングによる引っ張り張力が TD方向にかからないことを意味し ている。実質的にはフィルムの両端部固定端の距離(図 1の 7)よりも両端部固定端間 のフィルムの幅(図 1の 8)が広いことを意味しており、そのような状況下でのフィルムを 実質的に無張力下のフィルムと言う。図 1を用いて説明すると、フィルムは、把持装置 によって固定され、このとき図 1の 7の長さが両端部固定装置端の距離である。通常 は、フィルムの両端はピンと張力が力かった状態であり、この両端部固定端距離 7と 両端部固定端間のフィルムの幅 8は同じである。本発明においては、図 1のように、両 端部固定端距離 7とこの間のフィルムの幅 8は異なり、両端部固定端の距離力 、さく なっている。具体的には、フィルムは弛ませて固定されているのである。特に、 MD方 向の分子配向を制御しやすいという点から、両端部固定端の距離 7を X、両端部固 定端間のフィルムの幅 8を Yとしたとき、 Xと Yが下記式を満足するように固定されてい ることが好ましい。
20. 0≥ (Υ-Χ) /Υ Χ 100 >0.00 · · · · (式 3)
(Υ-Χ) /Ύ X 100 (これを便宜上 TD収縮率と 、う場合がある)を上記範囲以上に 大きくすると、フィルムの弛みを安定的に制御することが難しくなり、弛み量が進行方 法に対して変化する場合がある。また場合によってはフィルムの弛みによる端部把持 装置からの脱落が生じ、安定したフィルムの製造ができない場合がある。さらに好まし くは 15. 0≥(Y— X) /YX 100>0.00である。特に好ましくは 10. Ο≥(Υ-Χ) /Υ X 100 > 0.00である。
[0050] 本発明においては、(D)工程における加熱炉の入り口において、 TD方向の張力 が実質的に無張力となるように固定されていること力 フィルム全幅において MD方 向に配向軸を向けてフィルムを製造する点力 好ましい。加熱炉の入り口において、 TD方向の張力が実質的に無張力となるように固定されて搬送するには、前述の(C) 工程の、ゲルフィルムの端部を固定する際に、 TD方向の張力が実質的に無張力と なるように固定し、そのまま (D)工程に送る方法 (方法その 1)の他に、(C)工程の後 、一旦両端部固定端の距離を縮める操作を行って、(D)工程に送る方法 (方法その 2)が挙げられる。方法その 1は、ゲルフィルムの両端を固定する際に、(式 3)を満た すように固定する方法が好ましぐ方法その 2は、(式 3)を満たすように固定端の距離 を縮めることが好ましい。
[0051] もちろん、 (D)工程の加熱炉に入って後、両端部固定端の距離を縮める操作を行 つてもよく(方法その 3)、これらの方法を組み合わせて行ってもよい。方法その 3では 、両端部固定端の距離を縮める操作は 300°C以下、さらには 250°C以下、特には 20 0°C以下の温度範囲で行うことが好まし!/、。 300°C以上の温度領域にお!、て方法そ の 3の操作を行った場合には、フィルムの配向を制御しに《なる傾向にあり、特にフ イルム端部での配向が制御しに《なる傾向にある。
[0052] (D)工程では、フィルムが急激に加熱されるため、フィルムはある程度収縮する。従 つて、加熱炉の入り口で、 TD方向の張力が実質的に無張力となるように固定して搬 送すると、加熱によるフィルムの収縮によって、フィルム幅が小さくなるので、両端部 固定端距離と両端部固定端間のフィルムの幅は同じとなり、しわのないフィルムが製 造できるのである。
[0053] 本発明に好適に用いられる加熱炉は、フィルム上面もしくは下面、或いは、両面か ら 100°C以上の熱風をフィルム全体に噴射して加熱する方式の熱風炉、もしくは、遠 赤外線を照射してフィルムを焼成する遠赤外線発生装置を備えた遠赤外線炉が用 いられる。加熱工程においては、段階的に温度を上げて焼成することが好ましぐそ の為に、熱風炉、もしくは、遠赤外線炉、もしくは、熱風炉と遠赤外線炉を混在させな 力 数台連結して焼成する段階式の加熱炉を用いることが好ましい。各炉の間には、 前炉からの熱を次炉へ伝えな 、ために、各炉を仕切るための装置が備え付けられて 、ることが好まし!/、。
上記焼成過程において本願発明では、ゲルフィルムを把持し、炉内に搬送した際の 最初に与えられる加熱温度が 100°C以上、 250°C以下が好ましぐ特に好ましくは、 120°C以上 200°C以下であることが、 MD方向に配向が制御された有機絶縁性フィ ルムを得やすい点力 好ましい。具体的には、前記加熱炉は、 2以上の複数の加熱 炉にし、第一の加熱炉の温度を 100°C以上 250°C以下とすることが好ましい。特に、 ゲルフィルム中に含まれる溶剤の沸点を調査し、該溶剤の沸点よりも 100°C低!、温 度から 100°C高い温度までの範囲の温度で管理することが望ましい。
ポリイミドフィルムの製造において、炉内に搬送した際の最初に与えられる加熱温度 力 S250°C以上の場合にはポリイミドフィルム上でボーイング現象(フィルムの収縮の影 響で中央部がフィルムの端部よりも早く加熱炉内部に搬送されるため、端部に強い分 子配向状態が発生する現象)が発生しフィルムの端部の配向軸を制御しにくくなる傾 向にある。さらに、 100°C以下の場合には、次ぎの炉の温度を 100°C以上、 250°C以 下の温度に設定することで分子配向軸を制御したポリイミドフィルムの製造が可能と なる。また、初期温度及び次炉の温度は上記のように設定することが好ましいが、そ れ以外の温度は通常のポリイミドフィルムの製造に用いられる焼成温度にて焼成する ことが好ましい。例えば、その一例として、ポリイミドフィルムの焼成には最高 600°Cま での温度にて段階的に焼成することが好ましい。最高焼成温度が低い場合には、ィ ミドィ匕率が完全でない場合があり充分に焼成することが必要となる。
炉内に搬送される際のゲルフィルムに与えられる MD方向の張力はフィルム lmあ たりにかけられる張力で、 l〜20kg/mであることが好ましぐ特に好ましくは l〜15kg /mであることが好ましい。張力が lkg/m以下の場合にはフィルムを安定して搬送す ることが難しぐフィルムを把持して安定したフィルムが製造しにくくなる傾向にある。 また、フィルムにかける張力が 20kg/m以上の場合には、特に、フィルムの端部にお V、て MD方向に分子配向を制御しにくくなる傾向にある。炉内に搬送されるゲルフィ ルムに与える張力発生装置としては、ゲルフィルムに荷重をかける荷重ロール、ロー ルの回転速度を調整して荷重を変化させるロール、ゲルフィルムを 2つのロールで挟 み込み張力の制御を行うニップロールを用いる方式等の種々の方法を用いてゲルフ ィルへの張力を調整することができる。
[0055] 尚、フィルムに与える張力はポリイミドフィルムの厚みにより上記範囲内で適宜調整 することが好ましい。フィルム厚みとしては、 1〜200 /ζ πιの厚みが好ましぐ特に好ま しくは 1〜: LOO mであることが好まし!/、。
[0056] 前記加熱処理を経ることにより、得られるポリイミドフィルムは MD方向にポリイミド分 子が配向する。フィルム MD方向に対する分子配向軸角度( Θ )は、必ずしも制限さ れるわけではないが、 15° ≤ Θ≤15° となることが好ましい。フィルム MD方向に 対する分子配向軸角度 Θが上記範囲外である場合、配向が不十分となる場合があ るため、寸法変化を抑制する効果が発現しに《なることがある。寸法変化を抑制す る効果を十分に発現するためには、 一 15° ≤ 0≤15° となることが好ましいが、 一 1 0° ≤ Θ≤10° の範囲とすることが更に好ましぐ最も好ましくは 5° ≤ Θ≤5° で ある。なお、上記の分子配向軸角度とは、基準となる軸と、ポリイミド分子鎖の配向軸 とのなす角度を意味し、例えば、フィルム MD方向に対する分子配向軸角度 Θが 0° である場合は、分子配向軸がフィルム MD方向と一致することを意味する。
[0057] また、前記加熱処理により、得られるポリイミドフィルムの線膨張係数も変化するが、 ポリイミドフィルムの MD方向における線膨張係数(200〜300°C)を β (ppm/°C)、 TD方向における線膨張係数(200〜300°C)を j8 (PPmZ°C)とした場合、 2≤ β
2 1
≤10、かつ 5≤j8 ≤25、かつ 10≤( j8 + β )≤40の範囲内となることが好ましい。
2 1 2
β 並びに j8 の値が上記範囲外である場合、例えば、熱ラミネート工程時の張力の
1 2
影響を十分に解消できないことがあり、寸法変化を抑制する効果が小さくなることがあ る。また、 ( 0 + 13 )の値が上記範囲外となった場合、フィルム厚み方向(z軸方向)
1 2
の配向が大きく変化していることがあり、寸法変化を抑制する効果が発現されず、他 物'性ち低下することがある。
[0058] 本発明に係る接着フィルムの接着層に含有される熱可塑性ポリイミドとしては、熱可 塑性ポリイミド、熱可塑性ポリアミドイミド、熱可塑性ポリエーテルイミド、熱可塑性ポリ エステルイミド等を好適に用いることができる。中でも、低吸湿特性の点から、熱可塑 性ポリエステルイミドが特に好適に用いられる。
[0059] また、既存の装置でラミネートが可能であり、かつ得られる金属張積層板の耐熱性 を損なわないという点から考えると、本発明における熱可塑性ポリイミドは、 150〜30 0°Cの範囲にガラス転移温度 (Tg)を有していることが好ましい。更に、吸湿半田耐性 も考慮に入れると、 Tgは 230°C以上であることが好ましぐ 240°C以上であることがよ り好ましい。なお、 Tgは動的粘弾性測定装置 (DMA)により測定した貯蔵弾性率の 変曲点の値により求めることができる。
[0060] 熱可塑性ポリイミドの前駆体であるポリアミド酸についても、特に限定されるわけで はなぐ公知のあらゆるポリアミド酸を用いることができる。その製造に関しても、公知 の原料や反応条件等を用いることができる (例えば、後述する実施例参照)。また、必 要に応じて無機ある 、は有機物のフィラーを添加しても良 、。
[0061] (接着フィルム)
本発明に係る接着フィルムは、上記ポリイミドフィルムの少なくとも片面に熱可塑性 ポリイミドを含有する接着層を設けることにより得られる。接着フィルムの製造方法とし ては、基材フィルムとなるポリイミドフィルムに接着層を形成する方法、又は接着層を シート状に成形し、これを上記基材フィルムに貼り合わせる方法等が好適に例示され 得る。このうち、前者の方法を採る場合、接着層に含有される熱可塑性ポリイミドの前 駆体であるポリアミド酸を完全にイミドィ匕してしまうと、有機溶媒への溶解性が低下す る場合があることから、基材フィルム上に上記接着層を設けることが困難となることが ある。従って、上記観点から、熱可塑性ポリイミドの前駆体であるポリアミド酸を含有す る溶液を調製して、これを基材フィルムに塗布し、次いでイミドィ匕する手順を採った方 力 り好ましい。この時のイミドィ匕の方法としては、熱キュア法若しくはケミカルキュア 法のどちらも用いることができる。
[0062] いずれのイミド化手順を採る場合も、イミドィ匕を効率良く進めることができるという観 点から、その時の温度は、(熱可塑性ポリイミドのガラス転移温度 100°C)〜(ガラス 転移温度 + 200°C)の範囲内に設定することが好ましく、(熱可塑性ポリイミドのガラス 転移温度— 50°C)〜 (ガラス転移温度 + 150°C)の範囲内に設定することがより好ま しい。熱キュアの温度は高い方力 Sイミドィ匕が起こりやすいため、キュア速度を速くする ことができ、生産性の面で好ましい。但し、高すぎると熱可塑性ポリイミドが熱分解を 起こすことがある。一方、熱キュアの温度が低すぎると、ケミカルキュアでもイミド化が 進みにくぐキュア工程に要する時間が長くなつてしまう。
[0063] イミドィ匕時間に関しては、実質的にイミド化および乾燥が完結するに十分な時間を 取ればよぐ一義的に限定されるものではないが、一般的には 1〜600秒程度の範 囲で適宜設定される。また、接着層の熔融流動性を改善する目的で、意図的にイミド 化率を低くする及び Z又は溶媒を残留させることもできる。
[0064] イミドィ匕する際にかける張力としては、 lkgZn!〜 15kgZmの範囲内とすることが好 ましぐ 5kgZn!〜 lOkgZmの範囲内とすることが特に好ましい。張力が上記範囲よ り小さい場合、フィルム搬送時にたるみが生じ、均一に巻き取れない等の問題が生じ ることがある。逆に上記範囲よりも大きい場合、接着フィルムに強い張力が力かった状 態で高温まで加熱されるため、引張弾性率の高いコアフィルムや、 MD配向させたコ ァフィルムのコアフィルムを用いたとしても接着フィルムに熱応力が発生し、寸法変化 に影響を与えることがある。
[0065] 上記ポリアミド酸溶液を基材フィルムに流延、塗布する方法については特に限定さ れず、ダイコ一ター、リバースコーター、ブレードコーター等、既存の方法を使用する ことができる。また、前記ポリアミド酸溶液には、用途に応じて、例えば、フィラーのよう な他の材料を含んでもょ 、。
[0066] 接着フィルム各層の厚み構成については、用途に応じた総厚みになるように適宜 調整すれば良い。ただし、熱ラミネート時の熱歪みの発生を抑制するという観点から
、 200〜300°Cにおける接着フィルムの熱膨張係数が金属箔に近くなるように設定す ることが好ましい。具体的には、金属箔の熱膨張係数の ± 10ppm以内とすることが 好ましぐ ±5ppm以内とすることがより好ましい。
[0067] また、必要に応じて、接着層を設ける前、もしくは接着層を設けた後にコロナ処理、 プラズマ処理、カップリング処理等の各種表面処理をコアフィルム表面に施しても良 い。
[0068] (フレキシブル金属張積層板) 本発明に係るフレキシブル金属張積層板は、上記接着フィルムに金属箔を貼り合 わせることにより得られる。使用する金属箔としては特に限定されるものではないが、 電子機器'電気機器用途に本発明のフレキシブル金属張積層板を用いる場合には 、例えば、銅若しくは銅合金、ステンレス鋼若しくはその合金、ニッケル若しくは-ッケ ル合金 (42合金も含む)、アルミニウム若しくはアルミニウム合金カゝらなる箔を挙げるこ とができる。一般的なフレキシブル金属張積層板では、圧延銅箔、電解銅箔といった 銅箔が多用される力 本発明においても好ましく用いることができる。なお、これらの 金属箔の表面には、防鲭層ゃ耐熱層ある 、は接着層が塗布されて 、てもよ 、。
[0069] 本発明において、上記金属箔の厚みについては特に限定されるものではなぐそ の用途に応じて、十分な機能が発揮できる厚みであればよい。接着フィルムと金属箔 の貼り合わせ方法としては、例えば、一対以上の金属ロールを有する熱ロールラミネ ート装置或いはダブルベルトプレス(DBP)による連続処理を用いることができる。中 でも、装置構成が単純であり保守コストの面で有利であるという点から、一対以上の 金属ロールを有する熱ロールラミネート装置を用いることが好ましい。また、一対以上 の金属ロールを有する熱ロールラミネート装置で金属箔と貼り合わせた場合に特に 寸法変化が発生しやす 、ことから、本発明のポリイミドフィルムおよび接着フィルムは 、熱ロールラミネート装置で張り合わせた場合に顕著な効果を発現する。ここでいう「 一対以上の金属ロールを有する熱ロールラミネート装置」とは、材料を加熱加圧する ための金属ロールを有している装置であればよぐその具体的な装置構成は特に限 定されるものではない。
[0070] 上記熱ラミネートを実施する手段の具体的な構成は特に限定されるものではないが 、得られる積層板の外観を良好なものとするために、加圧面と金属箔との間に保護材 料を配置することが好ましい。保護材料としては、熱ラミネート工程の加熱温度に耐 えうる材料、即ち、非熱可塑性ポリイミドフィルム等の耐熱性プラスチック、銅箔、アル ミニゥム箔、 SUS箔等の金属箔等が挙げられる。中でも、耐熱性、再使用性等のバラ ンスが優れる点から、非熱可塑性ポリイミドフィルムもしくは、ラミネート温度よりも 50°C 以上高い熱可塑性ポリイミドからなるフィルムが好ましく用いられる。また、厚みが薄 いとラミネート時の緩衝並びに保護の役目を十分に果たさなくなるため、非熱可塑性 ポリイミドフィルムの厚みは 75 μ m以上であることが好ましい。
また、この保護材料は必ずしも 1層である必要はなぐ異なる特性を有する 2層以上の 多層構造でも良い。
[0071] また、ラミネート温度が高温の場合、保護材料をそのままラミネートに用いると、急激 な熱膨張により、得られるフレキシブル金属張積層板の外観や寸法安定性が充分で ない場合がある。従って、ラミネート前に保護材料に予備加熱を施した方が好ましい 。予備加熱の手段としては、保護材料を加熱ロールに抱かせるなどして接触させる方 法が挙げられる。接触時間としては 1秒以上が好ましぐ更に好ましくは 3秒以上接触 させることが好ましい。保護材料の予備加熱を行うことにより、ラミネートする際には保 護材料の熱膨張が終了しているため、フレキシブル金属張積層板の外観や寸法特 性に影響を与えることが抑制される。接触時間が上記よりも短い場合、保護材料の熱 膨張が終了しないままラミネートが行われるため、ラミネート時に保護材料の急激な 熱膨張が起こり、得られるフレキシブル金属張積層板の外観や寸法特性が悪化する ことがある。保護材料を加熱ロールに抱かせる距離については特に限定されず、カロ 熱ロールの径と上記接触時間から適宜調整すれば良い。
[0072] 保護材料の剥離は、ラミネート後に冷却された段階で行う。ラミネート直後は、保護 材料ならびに被積層材料が高温で軟ィ匕した状態にあるため、この時に保護材料を剥 離すると、被積層材料が剥離応力の影響を受け、寸法安定性が悪化することがある 。また、高温で保護材料を剥離すると、被積層材料の動きが抑制されず、冷却収縮 により被積層材料の外観が悪化することがある。保護材料の剥離は、接着フィルムの ガラス転移温度よりも 100°C以上低い温度まで被積層材料が冷却されて力 剥離す ることが好ましぐ室温まで冷却されて力 剥離することが更に好ましい。
[0073] 上記熱ラミネート手段における被積層材料の加熱方式は特に限定されるものでは なぐ例えば、熱循環方式、熱風加熱方式、誘導加熱方式等、所定の温度で加熱し 得る従来公知の方式を採用した加熱手段を用いることができる。同様に、上記熱ラミ ネート手段における被積層材料の加圧方式も特に限定されるものではなぐ例えば、 油圧方式、空気圧方式、ギャップ間圧力方式等、所定の圧力を加えることができる従 来公知の方式を採用した加圧手段を用いることができる。 [0074] 上記熱ラミネート工程における加熱温度、すなわちラミネート温度は、接着フィルム のガラス転移温度 (Tg) + 50°C以上の温度であることが好ましぐ接着フィルムの Tg + 100°C以上がより好ましい。 Tg + 50°C以上の温度であれば、接着フィルムと金属 箔とを良好に熱ラミネートすることができる。また、 Tg+ 100°C以上であれば、ラミネ ート速度を上昇させてその生産性をより向上させることができる。特に、本発明の接着 フィルムのコアとして使用しているポリイミドフィルムは、 Tg+ 100°C以上でラミネート を行った場合に、熱応力の緩和が有効に作用するように設計しているため、寸法安 定性に優れたフレキシブル金属張積層板を生産性良く得られる。
[0075] ここで、熱ラミネート時の熱応力の緩和機構にっ 、て説明する。接着フィルムの接 着層に熱可塑性ポリイミドが含有される場合、ラミネート温度が必然的に高くなるため 、ラミネート直後のフレキシブル金属張積層板も非常に高温となっている。ここで、接 着フィルムのコア層の貯蔵弾性率が一定以上の値にまで低下していると、接着層と 合わせて接着フィルム全体が軟ィ匕する(但し、自己支持性は保っている)。その際、 熱ラミネート時の張力、圧力によって積層板に蓄積された熱応力が緩和されるのであ る。
[0076] より効率的に熱応力を緩和する場合、積層板に力かる張力を最小限に留めた方が 好ましい。そのため、ラミネート直後のフレキシブル金属張積層板は、保護材料を配 したままの状態で加熱ロールに抱かせるなどして接触させ、張力の影響を受けな 、よ うにした状態で熱ラミネート時に発生した残留歪みを緩和させ、その後加熱ロールか ら離すようにした方が好ましい。加熱ロールへの接触時間は 0. 1秒以上が好ましぐ より好ましくは 0. 2秒以上、 0. 5秒以上が特に好ましい。接触時間が上記範囲より短 い場合、緩和効果が十分に発生しない場合がある。接触時間の上限は、 5秒以下が 好ましい。 5秒以上接触させても緩和効果がより発現するわけではなぐラミネート速 度の低下やラインの取り回しに制約が生じるため好ましくない。
[0077] また、ラミネート後に加熱ロールに接触させて徐冷を行ったとしても、依然としてフレ キシブル金属張積層板と室温との差は大きぐまた、残留歪みを緩和しきれていない 場合もある。そのため、加熱ロールに接触させて徐冷した後のフレキシブル金属張積 層板は、保護材料を配したままの状態で後加熱工程を通した方が好ましい。この際 の張力は 1〜: LONZcmの範囲とすることが好ましい。また、後加熱の雰囲気温度は( ラミネート温度— 200°C)〜(ラミネート温度 + 100°C)の範囲とすることが好ましい。こ こでいう「雰囲気温度」とは、フレキシブル金属張積層板の両面に密着させている保 護材料の外表面温度をいう。実際のフレキシブル金属張積層板の温度は、保護材料 の厚みによって多少変化するが、保護材料表面の温度を上記範囲内にすれば、後 加熱の効果を発現させることが可能である。保護材料の外表面温度測定は、熱電対 や温度計などを用いて行うことができる。
[0078] 上記熱ラミネート工程におけるラミネート速度は、 0. 5mZ分以上であることが好ま しぐ 1. OmZ分以上であることがより好ましい。 0. 5mZ分以上であれば十分な熱ラ ミネートが可能になり、 1. OmZ分以上であれば生産性をより一層向上することがで きる。
[0079] 上記熱ラミネート工程における圧力、すなわちラミネート圧力は、高ければ高いほど ラミネート温度を低ぐかつラミネート速度を速くすることができる利点があるが、一般 にラミネート圧力が高すぎると得られる積層板の寸法変化が悪ィ匕する傾向がある。ま た、逆にラミネート圧力が低すぎると得られる積層板の金属箔の接着強度が低くなる 。そのためラミネート圧力は、 49〜490NZcm (5〜50kgfZcm)の範囲内であるこ とが好ましぐ 98〜294NZcm (10〜30kgfZcm)の範囲内であることがより好まし い。この範囲内であれば、ラミネート温度、ラミネート速度およびラミネート圧力の三条 件を良好なものにすることができ、生産性をより一層向上することができる。
[0080] 上記ラミネート工程における接着フィルム張力は、 0. 01〜4NZcm、さらには 0. 0 2〜2. 5NZcm、特には 0. 05〜: L 5NZcmが好ましい。張力が上記範囲を下回る と、ラミネートの搬送時にたるみや蛇行が生じ、均一に加熱ロールに送り込まれない ために外観の良好なフレキシブル金属張積層板を得ることが困難となることがある。 逆に、上記範囲を上回ると、接着層の Tgと貯蔵弾性率の制御では緩和できないほど 張力の影響が強くなり、寸法安定性が劣ることがある。
[0081] 本発明にかかるフレキシブル金属張積層板を得るためには、連続的に被積層材料 を加熱しながら圧着する熱ラミネート装置を用いることが好ましいが、この熱ラミネート 装置では、熱ラミネート手段の前段に、被積層材料を繰り出す被積層材料繰出手段 を設けてもよいし、熱ラミネート手段の後段に、被積層材料を巻き取る被積層材料卷 取手段を設けてもよい。これらの手段を設けることで、上記熱ラミネート装置の生産性 をより一層向上させることができる。上記被積層材料繰出手段および被積層材料卷 取手段の具体的な構成は特に限定されるものではなぐ例えば、接着フィルムや金 属箔、あるいは得られる積層板を巻き取ることのできる公知のロール状卷取機等を挙 げることができる。
[0082] さらに、保護材料を巻き取ったり繰り出したりする保護材料卷取手段や保護材料繰 出手段を設けると、より好ましい。これら保護材料卷取手段'保護材料繰出手段を備 えていれば、熱ラミネート工程で、一度使用された保護材料を巻き取って繰り出し側 に再度設置することで、保護材料を再使用することができる。また、保護材料を巻き 取る際に、保護材料の両端部を揃えるために、端部位置検出手段および卷取位置 修正手段を設けてもよい。これによつて、精度よく保護材料の端部を揃えて巻き取る ことができるので、再使用の効率を高めることができる。なお、これら保護材料卷取手 段、保護材料繰出手段、端部位置検出手段および卷取位置修正手段の具体的な 構成は特に限定されるものではなぐ従来公知の各種装置を用いることができる。
[0083] 本発明に力かる製造方法により得られるフレキシブル金属張積層板にぉ 、ては、 金属箔除去後に 250°C、 30分の加熱を行う前後の寸法変化率が、 MD方向、 TD方 向共に— 0. 04〜+ 0. 04%の範囲にあることが非常に好ましい。加熱前後の寸法変 化率は、エッチング工程後のフレキシブル金属張積層板における所定の寸法および 加熱工程後の所定の寸法の差分と、上記加熱工程前の所定の寸法との比で表され る。
[0084] 寸法変化率がこの範囲内から外れると、フレキシブル金属張積層板において、部 品搭載時の寸法変化が大きくなつてしまい、設計段階での部品搭載位置力 ずれる ことになる。その結果、実装する部品と基板とが良好に接続されなくなるおそれがある 。換言すれば、寸法変化率が上記範囲内であれば、部品搭載に支障がないと見な すことが可能になる。
[0085] 上記寸法変化率の測定方法は特に限定されるものではなぐフレキシブル金属張 積層板において、エッチングまたは加熱工程の前後に生じる寸法の増減を測定でき る方法であれば、従来公知のどのような方法でも用いることができる。
[0086] ここで、寸法変化率の測定は、 MD方向、 TD方向の双方について測定することが 必須となる。連続的にイミド化並びにラミネートする場合、 MD方向および TD方向で は張力のかかり方が異なるため、熱膨張'収縮の度合いに差が現れ、寸法変化率も 異なる。
[0087] 従って、寸法変化率の小さい材料では、 MD方向および TD方向の双方ともに変化 率が小さいことが要求される。本発明においては、フレキシブル金属張積層板の、金 属箔除去後に 250°C、 30分の加熱を行う前後の寸法変化率の合計値が、 MD方向 、TD方向共に一 0. 04〜+ 0. 04%の範囲にあることが非常に好ましい。
[0088] 更に、本発明の接着フィルムに使用しているコア層のポリイミドフィルムは、前述した 通り、熱応力を有効に緩和する特性を持たせているため、より熱応力の影響を受け やすい 15 m以下の厚みの接着フィルムを用いた場合でも、得られるフレキシブル 金属張積層板の寸法変化率を小さくできる。具体的には、金属箔除去後に 250°C、 30分の加熱を行う前後の寸法変化率力 MD方向、 TD方向共に 0. 05〜+ 0. 0 5%の範囲となる。
[0089] なお、寸法変化率を測定する際の加熱工程においては、 250°Cで 30分間加熱が なされれば良ぐ具体的な条件は特に限定されない。
[0090] 本発明に力かる製造方法によって得られるフレキシブル金属張積層板は、前述し たように、金属箔をエッチングして所望のパターン配線を形成すれば、各種の小型化 、高密度化された部品を実装したフレキシブル配線板として用いることができる。もち ろん、本発明の用途はこれに限定されるものではなぐ金属箔を含む積層体であれ ば、種々の用途に利用できることはいうまでもない。
実施例
[0091] 以下、実施例により本発明を具体的に説明する力 本発明はこれら実施例のみに 限定されるものではない。
[0092] なお、合成例、実施例及び比較例における熱可塑性ポリイミドのガラス転移温度、 ポリイミドフィルムの貯蔵弾性率、引張弾性率、吸湿膨張係数、分子配向軸角度並び に線膨張係数、フレキシブル金属張積層板の寸法変化率、金属箔引き剥し強度、吸 湿半田耐性の評価法は次の通りである。
[0093] (ガラス転移温度)
ガラス転移温度は、 SIIナノテクノロジ一社製 DMS6100により測定し、貯蔵弾性 率の変曲点をガラス転移温度とした。
サンプル測定範囲;幅 9mm、つかみ具間距離 20mm
測定温度範囲; 0〜440°C
昇温速度; 3°CZ分
歪み振幅; 10 m
測定周波数; 1, 5, 10Hz
最小張力 Z圧縮力; lOOmN
張力 Z圧縮ゲイン; 1. 5
力振幅初期値; lOOmN
(コアフィルムの貯蔵弾性率)
貯蔵弾性率は、上記ガラス転移温度の測定の装置、条件で測定した。なお、測定は コアフィルムの MD方向に対して行った。
[0094] (引張弾性率)
引張弾性率は、 ASTM D882に従い、測定を行った。なお、測定はコアフィルムの MD方向に対して行った。
サンプル測定範囲;幅 15mm、つかみ具間距離 100mm
I張速度; 200mmZmin
(吸湿膨張係数)
吸湿膨張係数は、株式会社リガク製 水蒸気雰囲気熱機械分析装置 TMAZHUM
—1を使用して測定した際の変化量力 算出した。なお、測定はコアフィルムの分子 配向軸に対して 45° の角度で行った。
サンプル測定範囲;幅 5mm、つかみ具間距離 15mm
測定温度; 50°C
温度 ·湿度条件; 40%R. H.で 3時間ホールド後、 80%R. H.で 3時間ホール ド (フィルムの分子配向軸角度) コアフィルムの分子配向軸角度 Θは、 KSシステムズ社製マイクロ波分子配向計 MO A2012A型により測定した。分子配向軸角度 Θの定義は以下のとおりである。
分子配向計を用いて、フィルム面内での分子配向方向( ε の最大方位、ここで、 ε ' は、試料の誘電率である。)を角度の値として知ることができる。本発明においては、 配向方向を示した直線を、その試料の「配向軸」とする。
図 2に示すように、フィルム中央部の長手方向(MD方向)に X軸をとり、ポリアミド酸を 支持体上に流延させた際の進行方向を正の方向とする。このとき、 X軸の正の方向と 、前述の測定で得られた配向軸のなす角度を配向軸角度 Θとし、配向軸が第一象 限及び第三象限にあるときの配向軸角度を正 (0° < Θ≤90° )、配向軸が第二象 限及び第四象限にあるときの配向軸角度を負(一 90° ≤ Θ < 0° )と定義する。配向 軸角度の測定は、図 3に示すように、 TD方向におけるフィルム両端部、中央部、両 端部と中央部の中間の五点について実施した。
(線膨張係数)
ポリイミドフィルムの線膨張係数は、 SIIナノテクノロジ一社製熱機械的分析装置、商 品名: TMAZSS6100により 0°C〜460°Cまで一且昇温させた後、 10°Cまで冷却し
、さらに 10°C/minで昇温させて、 2回目の昇温時の、 100〜200°Cの範囲内の平均 値を求めた。なお、測定はコアフィルムの MD方向及び TD方向に対して行った。 サンプル形状;幅 3mm、長さ 10mm
荷重; 29. 4mN
測定温度範囲; 0〜460°C
昇温速度; 10°CZmin
(寸法変化率)
IS C6481に基づいて、フレキシブル積層板に 4つの穴を形成し、各穴のそれぞれ の距離を測定した。次に、エッチング工程を実施してフレキシブル積層板力も金属箔 を除去した後に、 20°C、 60%R. H.の恒温室に 24時間放置した。その後、エツチン グ工程前と同様に、上記 4つの穴について、それぞれの距離を測定した。金属箔除 去前における各穴の距離の測定値を D1とし、金属箔除去後における各穴の距離の 測定値を D2として、次式によりエッチング前後の寸法変化率を求めた。 寸法変化率(%) = { (D2-DD /D1 } X 100
続いて、エッチング後の測定サンプルを 250°Cで 30分加熱した後、 20°C、 60%R. H.の恒温室に 24時間放置した。その後、上記 4つの穴について、それぞれの距離 を測定した。加熱後における各穴の距離の測定値を D3として、次式により加熱前後 の寸法変化率を求めた。
寸法変化率(%) = { (D3 - D2) /D2} X 100
なお、上記寸法変化率は、 MD方向及び TD方向の双方について測定した。
[0096] (金属箔の引き剥がし強度:接着強度)
JIS C6471の「6. 5 引きはがし強さ」に従って、サンプルを作製し、 5mm幅の金属 箔部分を、 180度の剥離角度、 50mmZ分の条件で剥離し、その荷重を測定した。
[0097] (フレキシブル金属張積層板の半田耐性)
JIS C6471に従ってサンプルを作製した後、常態(20°C、 60%RH、 24時間調整 後)と吸湿(85°C、 85%RH、 96時間調整後)の 2条件で調製したサンプルの半田耐 性を測定し、外観上の白化現象と剥離現象の異常の有無を判定した。なお、常態半 田は 300°Cで 1分間、吸湿半田は 260°Cで 10秒間、半田浴に浸漬させた。評価につ いては、半田浴への浸漬前後でサンプルの外観に変化が無い場合は〇、サンプル 力 の金属箔層の剥離、接着フィルムの白ィ匕、サンプルの膨れのいずれかが確認さ れた場合は Xとした。
[0098] (合成例 1;熱可塑性ポリイミド前駆体の合成)
容量 2000mlのガラス製フラスコに N, N—ジメチルホルムアミド(以下、 DMFともい う)を 780g、 2, 2—ビス〔4— (4—アミノフエノキシ)フエ-ル〕プロパン(以下、 BAPP ともいう。)を 115. 6g加え、窒素雰囲気下で攪拌しながら、 3, 3 ' , 4, 4 '—ビフエ- ルテトラカルボン酸二無水物(以下、 BPDAともいう。 )を 78. 7g徐々に添カ卩した。続 いて、 3, 3 ' , 4, 4,一エチレングリコールジベンゾエートテトラカルボン酸二無水物( 以下、 TMEGともいう。)を 3. 8g添加し、氷浴下で 30分間撹拌した。 2. Ogの TME Gを 20gの DMFに溶解させた溶液を別途調製し、これを上記反応溶液に、粘度に 注意しながら徐々に添加、撹拌を行った。粘度が 3000poiseに達したところで添加、 撹拌をやめ、ポリアミド酸溶液を得た。 得られたポリアミド酸溶液を 25 μ mPETフィルム(セラピール HP,東洋メタライジング 社製)上に最終厚みが 20 mとなるように流延し、 120°Cで 5分間乾燥を行った。乾 燥後の自己支持性フィルムを PETから剥離した後、金属製のピン枠に固定し、 150 °Cで 5分間、 200°Cで 5分間、 250°Cで 5分間、 350°Cで 5分間乾燥を行った。得られ た単層シートのガラス転移温度を測定したところ、 240°Cであった。
[0099] (実施例 1〜6;ポリイミドフィルムの合成)
反応系内を 5°Cに保った状態で、 DMFに、 3, 4'ージアミノジフエ-ルエーテル(以 下、 3, 4'—ODAともいう)ならびに BAPPを表 1に示すモル比で添カ卩し、撹拌を行 つた。溶解したことを目視確認した後、ベンゾフエノンテトラカルボン酸二無水物(以 下、 BTDAともいう)を表 1に示すモル比で添カ卩し、 30分間撹拌を行った。
続いて、ピロメリット酸二無水物(以下、 PMDAともいう)を表 1に示すモル比で添カロし 、 30分間撹拌を行った。続いて、 p—フエ-レンジァミン (以下、 p— PDAともいう)を 表 1に示すモル比で添加し、 50分間撹拌を行った。続いて、 PMDAを再度、表 1に 示すモル比で添加し、 30分間撹拌を行った。
最後に、 3モル%分の PMDAを固形分濃度 7%となるように DMFに溶解した溶液を 調製し、この溶液を粘度上昇に気をつけながら上記反応溶液に徐々に添加し、 20°C での粘度力 000ボイズに達した時点で重合を終了した。
このポリアミド酸溶液に、無水酢酸 Zイソキノリン ZDMF (重量比 2. 0/0. 3/4. 0) 力もなるイミドィ匕促進剤をポリアミド酸溶液に対して重量比 45%で添加し、連続的にミ キサ一で攪拌し Tダイ力も押出してダイの下 20mmを走行しているステンレス製のェ ンドレスベルト上に流延した。この榭脂膜を 130°C X 100秒で加熱した後エンドレス ベルトから自己支持性のゲル膜を引き剥がして (揮発分含量 30重量%)テンタークリ ップに固定し加熱炉に搬送し、 300°Cの熱風乾燥炉で 30秒、 400°Cの熱風乾燥炉 で 30秒、 500°Cの IR炉で 30秒、連続的に乾燥'イミド化させ、厚み 18 μ mのポリイミ ドフィルムを得た。
[0100] (実施例 7 ;ポリイミドフィルムの合成)
実施例 1と同様の操作で得られたポリアミド酸溶液に、無水酢酸 Zイソキノリン ZD MF (重量比 2. 0/0. 3/4. 0)からなるイミド化促進剤をポリアミド酸溶液に対して 重量比 45%で添加し、連続的にミキサーで攪拌し Tダイカゝら押出してダイの下 20m mを走行して 、るステンレス製のエンドレスベルト上に流延した。この榭脂膜を 110°C X 100秒で加熱した後エンドレスベルトから自己支持性のゲル膜を引き剥がして (揮 発分含量 50重量%)テンタークリップに固定し加熱炉に搬送し、 300°Cの熱風乾燥 炉で 30秒、 400°Cの熱風乾燥炉で 30秒、 500°Cの IR炉で 30秒、連続的に乾燥'ィ ミドィ匕させ、厚み 18 mのポリイミドフィルムを得た。なお、本実施例ではエンドレスべ ルトからゲル膜 (ゲルフィルム)を引き剥がして該ゲルフィルムの端部をテンタークリツ プに固定する際に、 TD方向の張力が実質的に無張力となるように固定した。このと きの TD収縮率は 4%であった。
[0101] (実施例 8 ;ポリイミドフィルムの合成)
実施例 2と同様の操作で得られたポリアミド酸溶液を用いて、実施例 7と同様の操作 を行い、厚み 18 μ mのポリイミドフィルムを得た。
[0102] (実施例 9 ;ポリイミドフィルムの合成)
実施例 1と同様の操作で得られたポリアミド酸溶液に、無水酢酸 Zイソキノリン ZDM F (重量比 2. 0/0. 3/4. 0)からなるイミド化促進剤をポリアミド酸溶液に対して重 量比 45%で添加し、連続的にミキサーで攪拌し Tダイカゝら押出してダイの下 20mm を走行しているステンレス製のエンドレスベルト上に流延した。この榭脂膜を 130°C X 70秒で加熱した後エンドレスベルトから自己支持性のゲル膜を引き剥がして (揮発分 含量 30重量%)テンタークリップに固定し加熱炉に搬送し、 300°Cの熱風乾燥炉で 2 2秒、 400°Cの熱風乾燥炉で 22秒、 500°Cの IR炉で 22秒、連続的に乾燥'イミドィ匕 させ、厚み 10 μ mのポリイミドフィルムを得た。
[0103] (実施例 10〜 14 ;ポリイミドフィルムの合成)
実施例 2〜6と同様の操作で得られたポリアミド酸溶液を用いて、それぞれ実施例 9と 同様の操作を行い、厚み 10 mのポリイミドフィルムを得た。
[0104] (実施例 15 ;ポリイミドフィルムの合成)
実施例 1と同様の操作で得られたポリアミド酸溶液に、無水酢酸 Zイソキノリン ZDM F (重量比 2. 0/0. 3/4. 0)からなるイミド化促進剤をポリアミド酸溶液に対して重 量比 45%で添加し、連続的にミキサーで攪拌し Tダイカゝら押出してダイの下 20mm を走行して 、るステンレス製のエンドレスベルト上に流延した。この榭脂膜を 110°C X 70秒で加熱した後エンドレスベルトから自己支持性のゲル膜を引き剥がして (揮発分 含量 50重量%)テンタークリップに固定し加熱炉に搬送し、 300°Cの熱風乾燥炉で 2 2秒、 400°Cの熱風乾燥炉で 22秒、 500°Cの IR炉で 22秒、連続的に乾燥'イミドィ匕 させ、厚み 10 μ mのポリイミドフィルムを得た。なお、本実施例ではエンドレスベルト 力もゲル膜 (ゲルフィルム)を引き剥がして該ゲルフィルムの端部をテンタークリップに 固定する際に、 TD方向の張力が実質的に無張力となるように固定した。このときの T D収縮率は 4%であった。
[0105] (実施例 16 ;ポリイミドフィルムの合成)
実施例 2と同様の操作で得られたポリアミド酸溶液を用いて実施例 15と同様の操作 を行い、厚み 10 mのポリイミドフィルムを得た。
[0106] (実施例 17〜32)
実施例 1〜16で得られたポリイミドフィルムの両面に、実施例 1〜8のポリイミドフィ ルムを用いる場合は熱可塑性ポリイミド層(接着層)の最終片面厚みが 3. 5 μ mとな るように、実施例 9〜16のポリイミドフィルムを用いる場合は熱可塑性ポリイミド層(接 着層)の最終片面厚みが 2 mとなるように、合成例 1で得た熱可塑性ポリイミド前駆 体をグラビアコーターで塗布し、 140°Cに設定した乾燥炉内を 1分間通して加熱を行 つた。続いて、雰囲気温度 390°Cの遠赤外線ヒーター炉の中を 20秒間通して加熱ィ ミドィ匕を行って、接着フィルムを得た。得られた接着フィルムの両側に 18 m圧延銅 箔 (BHY— 22B— T,ジャパンエナジー社製)を、さらに銅箔の両側に保護フィルム( アビカル 125NPI ;株式会社カネ力製)を用いて、ポリイミドフィルムの張力 0. 4N/c m、ラミネート温度 380°C、ラミネート圧力 196NZcm (20kgfZcm)、ラミネート速度 1. 5mZ分の条件で連続的に熱ラミネートを行い、本発明に力かるフレキシブル金 属張積層板を作製した。なお、保護フィルムは予め加熱ロールに抱カゝせる形で 3秒 間接触させて予熱した後、銅箔の外側に重ねてラミネートを行った。また、ラミネート 後、保護フィルムを配したままの状態で積層体を加熱ロールに 0. 2秒接触させ、その 後自然冷却が終了して力 保護フィルムを剥離した。
[0107] (比較例 1) 合成例 1で得られたポリアミド酸溶液を固形分濃度 10重量%になるまで DMFで希釈 した後、 18 m厚のポリイミドフィルム(アビカル 18HPP,株式会社カネ力製)の両面 に、最終片面厚みが 3. 5 mとなるようにグラビアコーターで塗布し、 140°Cに設定 した乾燥炉内を 1分間通して加熱を行った。続いて、雰囲気温度 390°Cの遠赤外線 ヒーター炉の中を 20秒間通して加熱イミド化を行って、接着フィルムを得た。得られ た接着フィルムの両側に 18 μ m圧延銅箔(ΒΗΥ—22Β—Τ,ジャパンエナジー社製 )を、さらに銅箔の両側に保護フィルム (アビカル 125NPI;株式会社カネ力製)を用 いて、ポリイミドフィルムの張力 0. 4NZcm、ラミネート温度 380°C、ラミネート圧力 19 6NZcm (20kgfZcm)、ラミネート速度 1. 5mZ分の条件で連続的に熱ラミネートを 行い、フレキシブル金属張積層板を作製した。
[0108] (比較例 2)
コアフィルムとして、 10 /z m厚のポリイミドフィルム(アビカル 10HPP,株式会社カネ 力製)を使用し、塗布厚みを片面あたり 2 mとする以外は比較例 1と同様の操作を 行い、フレキシブル金属張積層板を作製した。
[0109] (比較例 3)
コアフィルムとして、 20 /z m厚のポリイミドフィルム(アビカル 20NPP,株式会社カネ 力製)を使用し、塗布厚みを片面あたり 2 mとする以外は比較例 1と同様の操作を 行い、フレキシブル金属張積層板を作製した。
[0110] (比較例 4)
コアフィルムとして、 12. 5 m厚のポリイミドフィルム(アビカル 12. 5NPP,株式会社 カネ力製)を使用し、塗布厚みを片面あたり 1. 5 mとする以外は比較例 1と同様の 操作を行い、フレキシブル金属張積層板を作製した。
[0111] 各実施例、比較例で得られたポリイミドフィルムならびにフレキシブル金属張積層板 の特性を評価した結果を表 2〜4に示す。
[0112] [表 1] PMDA PMDA
3, 4' -ODA B AP P BTD A p -PDA
(1回目) (2回目) 実施例 1 20 25 20 20 55 57 実施例 2 30 20 20 25 50 52 実施例 3 30 20 10 35 50 52 実施例 4 20 30 20 25 50 52 実施例 5 10 40 20 25 50 52 実施例 6 20 30 10 35 50 52
^ 【表 2】
貯蔵弾性率 3 8 0での貯蔵 t a η δピ一ク ΐ (α!— α 2) 引張弾性率 吸湿膨張係数 線膨張係数 (p m/ ;) 変曲点 (V) 弾性率 (GP a) トップ (V) / γ) X 1 0 0 (GP a) (p pm,C) MD TD 実施例 1 284 1. 3 3 5 1 74 7. 9 1 0. 7 5. 1 5. 0 実施例 2 2 9 0 1. 2 348 7 8 7. 9 1 1. 1 6. 5 6. 5 実施例 3 3 04 1. 6 3 6 5 6 6 7. 6 1 0. 9 6. 5 6. 7 実施例 4 284 1 1 3 3 8 8 1 7. 2 1 0. 8 9. 1 9. 0 実施例 5 2 7 7 1. 0 3 3 6 84 7. 0 1 0. 4 1 2. 6 1 2. 4 実施例 6 303 1. 5 3 6 2 74 7. 1 1 0. 6 8. 6 8. 6 実施例 7 2 8 2 1. 3 3 54 7 3 8. 2 1 0. 5 4. 5 5. 7 実施例 8 2 90 1. 1 34 7 7 6 8. 2 1 1. 3 4. 7 8. 5 実施例 9 2 86 1. 4 3 5 5 7 5 7. 9 1 0. 2 5. 3 5. 4 実施例 1 0 2 8 9 1. 0 34 6 7 7 8. 0 1 0. 8 6. 5 6. 6 実施例 1 1 3 0 5 1. 7 3 6 7 6 5 7. 8 1 0. 7 6. 7 6. 7 実施例 1 2 2 84 1. 3 3 3 9 8 0 7. 2 1 0. 6 9. 2 9. 0 実施例 1 3 2 7 9 1. 2 3 3 7 8 3 7. 1 1 0. 0 1 2. 4 1 2. 6 実施例 1 4 3 0 1 1. 4 3 6 5 7 6 7. 0 1 0. 3 8. 8 8. 6 実施例 1 5 2 8 3 1. 2 3 5 5 74 8. 4 1 0. 5 4. 3 5. 9 実施例 1 6 2 9 2 1. 3 3 5 0 7 7 8. 5 1 1. 1 4. 8 8. 7 比較例 1 2 7 8 0. 6 3 1 0 7 7 6. 0 7. 8 1 2. 4 1 2. 0 比較例 2 2 8 0 0. 8 3 0 8 7 0 5. 8 7. 5 1 1. 6 1 1. 0 比較例 3 2. 7 ― 4. 4 1 5. 5 1 6. 4 1 5. 5 比較例 4 2. 4 4. 2 1 5. 0 1 6. 6 1 5. 8
※ 変曲点における貯蔵弾性率 (GP a )
α 2 38 0°Cにおける貯蔵弾性率 (GP a)
※比較例 1 ~4 ;比較例の接着フィルムに使用したコアフィルムの物性を記載
^0113 分子配向軸角度 (° )
E E C C WC W
0115 実施例 7 一 5 3 1 一 2 3 実施例 8 4 一 1 3 4 一 1 実施例 1 5 一 2 3 2 一 1 4 実施例 1 6 5 4 2 0 一 2
耐性加変グ変半熱後寸法後寸法化チ化田ンエッ 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 X X 着度接強 ' ') (%) (% 実施例 17
〇 〇実施例 18 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 0 〇 実施例 19
実施例 20
∞ o 卜 卜
実施例 21
卜 実施例 22 ト 卜 卜 o f
実施例 23
実施例 24
実施例 25
o
Q
実施例 26
H o
+ + + + + + + 十 十 + 実施例 + 27 + + + + + + + + 実施例 28
1実施例 29 o
o o O o t
Ω 実施例 30 ,
o o o 実施例 31 o
1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1
実施例 32
t 較例比 1 t ο o o
P o 較例比 2 H o 較例比 σ 3!
+ + + + + o
十 1 + + + + + + + + + 十 十
較例比 + 4 csi
Q
o
+ + + + + 1 1 1 + 1 1 + 1 1 1 1 1
比較例 1 4に示すように、コアフィルムの貯蔵弾性率、 tan δピークが規定範囲外 である場合は、熱ラミネート時に材料に力かる応力を効率良く緩和できず、寸法変化 率が大きくなるという結果となった。特に、接着フィルム厚が薄くなると、更に寸法変化 率が大きくなるという結果となっている。 [0117] これに対し、全ての特性が所定範囲内となっているコアフィルムを使用した実施例 1 7〜32では熱ラミネート法で作製しても寸法変化の発生が抑制される結果となった。 特に、接着フィルム厚が薄い実施例 25〜32においても、実施例 17〜24と同等の寸 法変化率となっている。また、貯蔵弾性率を制御しても接着強度や半田耐性には何 ら影響が無ぐ実使用でも問題無い結果となっている。
図面の簡単な説明
[0118] [図 1]ポリイミドフィルムの製造装置を模式的に示す図である。
[図 2]フィルム分子配向軸角度測定を示す図である。
[図 3]分子配向軸角度のサンプリング箇所を示す図である。
符号の説明
[0119] 1 ゲルフィルム把持部材 (ゲルフィルムの端部把持装置)
7 フィルムの両端部固定端の距離
8 両端部固定端間のゲルフィルムの幅
産業上の利用可能性
[0120] 本発明のポリイミドフィルムは、フレキシブル銅張り積層板の製造工程で発生する寸 法変化を抑制することができる。特に、ラミネート時の熱応力を緩和すベぐ貯蔵弾性 率の変曲点を持たせており、かつその値を制御している。その結果、該ポリイミドフィ ルムをコアに使用した接着フィルムに、ラミネート法で金属箔を貼り合わせたフレキシ ブル金属張積層板は、寸法変化の発生が効果的に抑制されている。具体的には、 金属箔除去後に 250°C、 30分の加熱を行う前後の寸法変化率を、 MD方向、 TD方 向共に—0. 04〜+ 0. 04%の範囲とすることが可能である。従って、微細な配線を 形成した FPC等にも好適に用いることが可能で、位置ずれ等の問題を改善できる。

Claims

請求の範囲 [1] 芳香族ジァミンと芳香族酸二無水物を反応させて得られるポリアミド酸を、イミド化し て得られるポリイミドフィルムであって、下記(1)〜(4)の条件 ( 1) 270°C〜340°Cの範囲に貯蔵弾性率の変曲点を有し、 (2)損失弾性率を貯蔵弾性率で割った値である tan δのピークトップが 320°C〜 4 10°Cの範囲内にあり、 (3) 380°Cにおける貯蔵弾性率が 0. 4GPa〜2. OGPaであり、 (4)変曲点における貯蔵弾性率 a (GPa)と、 380°Cにおける貯蔵弾性率 a (GPa) 1 2 が下記式(1)の範囲にある
(式 1) ; 85≥{ ( α - a ) / a } X 100≥65
1 2 1
を全て満たすことを特徴とする、ポリイミドフィルム。
[2] 前記ポリイミドフィルム力 下記の工程 (a)〜(c)
(a)芳香族酸二無水物と、これに対し過剰モル量の芳香族ジァミン化合物とを有機 極性溶媒中で反応させ、両末端にアミノ基を有するプレボリマーを得る
(b)続、て、ここに芳香族ジァミンィ匕合物を追加添加する
(c)更に、全工程における芳香族酸二無水物と芳香族ジァミンが実質的に等モルと なるように芳香族酸二無水物を添加して重合する
を経ることによって得られたポリアミド酸溶液をイミド化して得られることを特徴とする、 請求項 1記載のポリイミドフィルム。
[3] 前記 (a)工程で用いる芳香族ジァミン化合物が、柔構造のジァミンであり、前記 (b) 工程で用いる芳香族ジァミンィ匕合物が、剛構造のジァミンであることを特徴とする、請 求項 2記載のポリイミドフィルム。
[4] 前記ポリイミドフィルム力 3, 4,ージアミノジフエ-ルエーテルを、全ジァミン成分の 1
0モル%以上使用して得られることを特徴とする、請求項 1乃至 3のいずれかに記載 のポリイミドフィルム。
[5] 前記ポリイミドフィルムの引張弾性率力 6. OGPa以上であることを特徴とする、請求 項 1乃至 4のいずれかに記載のポリイミドフィルム。
[6] 前記ポリイミドフィルムを 50°C、 40%R. H.で 3時間保持した後、 80%R. H.で 3時 間保持した際の吸湿膨張係数が、 13ppmZ°C以下であることを特徴とする、請求項
1乃至 5のいずれかに記載のポリイミドフィルム。
[7] 前記ポリイミドフィルムの 100°C〜200°Cにおける線膨張係数が、 15ppmZ°C以下 であることを特徴とする、請求項 1乃至 6のいずれかに記載のポリイミドフィルム。
[8] さらに前記ポリイミドフィルムは、分子配向軸角度がフィルム搬送方向(MD方向)に 対して— 15から 15度となっていることを特徴とする請求項 1乃至 7のいずれかに記載 のポリイミドフィルム。
[9] 前記ポリイミドフィルムが、
(A)ポリアミド酸を重合する工程
(B)ポリアミド酸及び有機溶媒を含む組成物を支持体上に流延 ·塗布後、ゲルフィル ムを形成する工程、
(C)該ゲルフィルムを引き剥がし、両端を固定する工程
(D)フィルムの両端を固定しながら加熱炉内を搬送する工程、
を含む有機絶縁性フィルムの製造方法であって、前記 (D)工程は、(D— 1)少なくと も一部にお 、てフィルム幅方向(TD方向)の張力が実質的に無張力となるように固 定されて搬送する工程を含むことを特徴とする有機絶縁性フィルムの製造方法により 得られるものであることを特徴とする、請求項 8記載のポリイミドフィルム。
[10] 請求項 1乃至 9のいずれかに記載のポリイミドフィルムの少なくとも片面に、熱可塑性 ポリイミドを含有する接着層を設けた接着フィルム。
[11] 熱可塑性ポリイミドのガラス転移温度 (Tg)が 230°C以上であることを特徴とする、請 求項 10記載の接着フィルム。
[12] フィルム厚みが 15 μ m以下となっている請求項 10または 11記載の接着フィルム。
[13] 一対以上の金属ロールを有する熱ロールラミネート装置を用いて、請求項 10乃至 12 のいずれかに記載の接着フィルムに金属箔を貼り合わせて得られることを特徴とする 、フレキシブル金属張積層板。
[14] 前記一対以上の金属ロールを有する熱ロールラミネート装置を用いて、接着フィルム に金属箔を貼り合わせる際に、非熱可塑性ポリイミド、またはガラス転移温度 (Tg)が ラミネート温度よりも 50°C以上高い熱可塑性ポリイミドからなる保護材料を金属箔とロ ールの間に配してラミネートを行い、ラミネート後冷却された段階で保護材料を剥離 して得られることを特徴とする、請求項 13記載のフレキシブル金属張積層板。
[15] 前記ラミネート後、保護材料を剥離する前に、保護材料とフレキシブル金属張積層板 が密着している積層体を、加熱ロールに 0. 1〜5秒の範囲で接触させ、その後冷却 して積層体力も保護材料を剥離することを特徴とする、請求項 14記載のフレキシブ ル金属張積層板。
[16] 金属箔除去後に 250°C、 30分の加熱を行う前後の寸法変化率が、 MD方向、 TD方 向共に— 0. 04〜+ 0. 04%の範囲にあることを特徴とする、請求項 13乃至 15のい ずれかに記載のフレキシブル金属張積層板。
[17] 接着フィルムの厚みが 15 μ mであり、かつ金属箔除去後に 250°C、 30分の加熱を 行う前後の寸法変化率力 MD方向、 TD方向共に 0. 05〜+ 0. 05%の範囲に あることを特徴とする、請求項 13乃至 15のいずれかに記載のフレキシブル金属張積 層板。
PCT/JP2005/016889 2004-09-24 2005-09-14 新規なポリイミドフィルム並びにそれを用いて得られる接着フィルム、フレキシブル金属張積層板 WO2006033267A1 (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US11/663,622 US8426548B2 (en) 2004-09-24 2005-09-14 Polyimide film and adhesive film and flexible metal-clad laminate both obtained with the same
CN200580032496XA CN101027345B (zh) 2004-09-24 2005-09-14 新型聚酰亚胺膜以及使用其而得到的粘接膜、柔性覆金属层压板
JP2006536349A JPWO2006033267A1 (ja) 2004-09-24 2005-09-14 新規なポリイミドフィルム並びにそれを用いて得られる接着フィルム、フレキシブル金属張積層板

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004277224 2004-09-24
JP2004-277224 2004-09-24
JP2004333666 2004-11-17
JP2004-333666 2004-11-17

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2006033267A1 true WO2006033267A1 (ja) 2006-03-30

Family

ID=36090030

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2005/016889 WO2006033267A1 (ja) 2004-09-24 2005-09-14 新規なポリイミドフィルム並びにそれを用いて得られる接着フィルム、フレキシブル金属張積層板

Country Status (6)

Country Link
US (1) US8426548B2 (ja)
JP (3) JPWO2006033267A1 (ja)
KR (1) KR100952796B1 (ja)
CN (1) CN101027345B (ja)
TW (1) TWI408200B (ja)
WO (1) WO2006033267A1 (ja)

Cited By (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006306973A (ja) * 2005-04-27 2006-11-09 Kaneka Corp 新規なポリイミドフィルム並びにそれを用いて得られる接着フィルム、フレキシブル金属張積層板
JP2006306972A (ja) * 2005-04-27 2006-11-09 Kaneka Corp 新規なポリイミドフィルム並びにそれを用いて得られる接着フィルム、フレキシブル金属張積層板
JP2008068406A (ja) * 2006-09-12 2008-03-27 Tomoegawa Paper Co Ltd フレキシブル金属積層体およびフレキシブルプリント基板
JP2008188843A (ja) * 2007-02-02 2008-08-21 Kaneka Corp ポリイミド前駆体溶液の多層膜、多層ポリイミドフィルム、片面金属張積層板、および多層ポリイミドフィルムの製造方法
JP2008188954A (ja) * 2007-02-07 2008-08-21 Kaneka Corp 片面金属張積層板用基材及び片面金属張積層板の製造方法
WO2011013904A2 (ko) * 2009-07-31 2011-02-03 에스케이씨코오롱피아이 주식회사 폴리이미드 필름
JP2011057782A (ja) * 2009-09-08 2011-03-24 Toyobo Co Ltd ポリイミドフィルムの製造方法
CN102009515A (zh) * 2010-07-21 2011-04-13 广东生益科技股份有限公司 二层法双面挠性覆铜板的制作方法及该二层法双面挠性覆铜板
US20120231263A1 (en) * 2009-11-20 2012-09-13 E.I. Du Pont De Nemours And Company Coverlay compositions and methods relating thereto
JP2016186031A (ja) * 2015-03-27 2016-10-27 東レ・デュポン株式会社 ポリイミドフィルム
JP2018509308A (ja) * 2015-07-24 2018-04-05 エルジー・ケム・リミテッド 可撓性基板の製造方法
CN108327377A (zh) * 2018-03-13 2018-07-27 广西师范大学 一种聚酰亚胺膜或聚酰亚胺覆铜板的制备装置

Families Citing this family (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2012026438A1 (ja) * 2010-08-24 2012-03-01 住友電気工業株式会社 低誘電率被膜用ポリエステルイミド樹脂系ワニス
KR101838581B1 (ko) 2010-08-25 2018-03-15 가부시키가이샤 가네카 그라파이트 필름 및 그라파이트 필름의 제조 방법
KR101509831B1 (ko) * 2010-12-31 2015-04-08 코오롱인더스트리 주식회사 폴리이미드 필름의 제조방법
KR101493595B1 (ko) 2013-05-22 2015-02-13 에스케이씨코오롱피아이 주식회사 폴리이미드 필름
CN104694030B (zh) * 2013-12-10 2016-12-07 中国航空工业第六一八研究所 一种零件表面贴膜绝缘处理方法
JP6423633B2 (ja) * 2014-07-11 2018-11-14 東レ・デュポン株式会社 グラファイトシート用ポリイミドフィルム及びその製造方法
JP6337825B2 (ja) * 2015-04-21 2018-06-06 住友金属鉱山株式会社 ポリイミドフィルムの良否判定方法、並びにそのポリイミドフィルムを用いた銅張積層板及びフレキシブル配線板の製造方法
TWI698345B (zh) * 2015-06-26 2020-07-11 日商鐘化股份有限公司 單面貼金屬之積層板之製造方法及製造裝置
JP6917987B2 (ja) * 2016-06-03 2021-08-11 株式会社有沢製作所 フレキシブル金属張積層板の製造方法
US10143973B2 (en) * 2016-06-30 2018-12-04 L'air Liquide Societe Anonyme Pour L'etude Et L'exploitation Des Procedes Georges Claude Metallopolyimide precursor fibers for aging-resistant carbon molecular sieve hollow fiber membranes with enhanced selectivity
JP7114983B2 (ja) * 2017-03-29 2022-08-09 荒川化学工業株式会社 接着剤、フィルム状接着材、接着層、接着シート、樹脂付銅箔、銅張積層板、プリント配線板、並びに多層配線板及びその製造方法
JP7255972B2 (ja) * 2017-04-20 2023-04-11 三星電子株式会社 ポリ(アミド-イミド)コポリマー、ポリ(アミド-イミド)コポリマーを含む成形品、および表示装置
CN108692670B (zh) * 2018-05-30 2020-08-11 业成科技(成都)有限公司 曲面贴合的应变监测方法
CN112840747A (zh) * 2018-10-09 2021-05-25 杜邦电子公司 热基板
CN109486189A (zh) * 2018-11-09 2019-03-19 李梅 一种用于fpc行业的tpi薄膜及其制备方法
TW202110948A (zh) * 2019-06-14 2021-03-16 美商杜邦電子股份有限公司 聚合物膜及電子裝置
JP6900138B1 (ja) * 2020-09-18 2021-07-07 株式会社日本製鋼所 積層成形プレス装置、積層成形システム、および積層成形方法
KR20230063057A (ko) * 2021-11-01 2023-05-09 피아이첨단소재 주식회사 높은 치수 안정성을 가지는 폴리이미드 필름 및 그 제조방법
WO2023220458A1 (en) * 2022-05-13 2023-11-16 Virginia Tech Intellectual Properties, Inc. Mesoporous polyimide thin films as dendrite-suppressing separators for alkali metal batteries

Citations (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06333994A (ja) * 1993-05-21 1994-12-02 Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd Tab用テープ及びその製造方法
JPH1036506A (ja) * 1996-07-18 1998-02-10 Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd 新規なポリイミド組成物及びポリイミドフィルム
JPH1070157A (ja) * 1996-08-27 1998-03-10 Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd 新規ポリイミドフィルムをベースフィルムとするfcテープ及びtabテープ
JPH10126019A (ja) * 1996-08-27 1998-05-15 Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd フレキシブルプリント基板、fcテープ及びそれからなるtabテープ
JPH10130594A (ja) * 1996-10-29 1998-05-19 Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd 耐熱性ボンディングシート
JP2000063543A (ja) * 1998-08-25 2000-02-29 Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd ポリイミドフィルムおよびその製造方法
JP2000159887A (ja) * 1998-12-01 2000-06-13 Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd ポリイミドフィルムおよびその製造方法
JP2000297163A (ja) * 1999-04-16 2000-10-24 Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd ポリイミドフィルムおよびその製造方法
JP2001072781A (ja) * 1998-11-05 2001-03-21 Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd ポリイミドフィルムおよびそれを用いた電気・電子機器用基板
JP2001315256A (ja) * 2000-05-02 2001-11-13 Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd フレキシブル金属箔張積層板
JP2002322276A (ja) * 2001-04-25 2002-11-08 Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd 新規な熱可塑性ポリイミド樹脂
JP2004143300A (ja) * 2002-10-24 2004-05-20 Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd 感光性フィルム、およびこれを備えたプリント配線板、並びにプリント配線板の製造方法

Family Cites Families (26)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4535105A (en) * 1983-03-08 1985-08-13 Ube Industries, Ltd. Wholly aromatic polyamic acid solution composition
US5202412A (en) * 1990-10-02 1993-04-13 E. I. Du Pont De Nemours And Company Polyimide copolymer precursors
JPH04207094A (ja) 1990-11-30 1992-07-29 Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd フレキシブルプリント基板およびその製造方法
US5196500A (en) 1990-12-17 1993-03-23 E. I. Du Pont De Nemours And Company Tetrapolyimide film containing benzophenone tetracarboxylic dianhydride
JPH04300921A (ja) * 1991-03-29 1992-10-23 Mitsubishi Kasei Corp 含芳香族複素環ポリイミド
JPH0741556A (ja) 1993-07-29 1995-02-10 Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd ポリイミド樹脂及びポリイミドフィルム
JPH09199830A (ja) 1996-01-17 1997-07-31 Hosiden Corp フレキシブル配線基板の製造方法
JP4009918B2 (ja) * 1997-07-18 2007-11-21 東レ・デュポン株式会社 ポリイミドフィルム、その製造方法およびそれを基材とした金属積層板
US6277495B1 (en) * 1997-07-18 2001-08-21 E. I. Du Pont De Nemours And Company Polyimide film, a method for its manufacture and a polyimide film containing metal laminated plate
JP3580128B2 (ja) * 1998-04-17 2004-10-20 宇部興産株式会社 金属箔積層フィルムの製法
JP3961670B2 (ja) 1998-05-27 2007-08-22 新日鐵化学株式会社 シロキサン変性ポリイミド系樹脂組成物及びその硬化物
TW531547B (en) 1998-08-25 2003-05-11 Kaneka Corp Polyimide film and process for producing the same
JP2000119419A (ja) * 1998-10-16 2000-04-25 Du Pont Toray Co Ltd 共重合ポリイミドフィルム、その製造方法およびこれを基材とした金属配線回路板
TW450982B (en) * 1998-11-05 2001-08-21 Kanegafuchi Chemical Ind Polyimide film and electric/electronic equipment base materials with the use thereof
US6350844B1 (en) 1998-11-05 2002-02-26 Kaneka Corporation Polyimide film and electric/electronic equipment bases with the use thereof
JP2002326308A (ja) 2001-04-27 2002-11-12 Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd 耐熱性フレキシブル積層板およびその製造方法
JP4774162B2 (ja) 2001-04-27 2011-09-14 株式会社カネカ 耐熱性フレキシブルの製造方法
JP2002338930A (ja) 2001-05-22 2002-11-27 Toray Ind Inc 半導体装置用接着材料および樹脂付き金属箔ならびに配線板
JP3932506B2 (ja) * 2002-01-10 2007-06-20 東レ・デュポン株式会社 ポリイミドフィルム、印刷回路および金属配線板
JP2004068002A (ja) * 2002-06-13 2004-03-04 Du Pont Toray Co Ltd ポリイミド混交フィルムの製造方法およびこれを基材とした金属配線回路板
US7267883B2 (en) 2002-09-25 2007-09-11 Kaneka Corporation Polyimide film and laminate having metal layer and same
JP3534405B1 (ja) 2002-11-28 2004-06-07 鐘淵化学工業株式会社 耐熱性フレキシブル積層板の製造方法およびこれにより製造される耐熱性フレキシブル積層板
JP2005200435A (ja) 2002-12-20 2005-07-28 Kaneka Corp ポリイミドフィルム及び該ポリイミドフィルムを用いた金属積層板
JP4595291B2 (ja) 2003-05-23 2010-12-08 東レ・デュポン株式会社 ポリイミドフィルム及びその製造方法
JP2005178242A (ja) 2003-12-22 2005-07-07 Kaneka Corp 寸法安定性を向上させたフレキシブル金属張積層板の製造方法
JP2005199481A (ja) 2004-01-13 2005-07-28 Kaneka Corp 接着フィルムならびにそれから得られる寸法安定性を向上させたフレキシブル金属張積層板

Patent Citations (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06333994A (ja) * 1993-05-21 1994-12-02 Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd Tab用テープ及びその製造方法
JPH1036506A (ja) * 1996-07-18 1998-02-10 Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd 新規なポリイミド組成物及びポリイミドフィルム
JPH1070157A (ja) * 1996-08-27 1998-03-10 Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd 新規ポリイミドフィルムをベースフィルムとするfcテープ及びtabテープ
JPH10126019A (ja) * 1996-08-27 1998-05-15 Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd フレキシブルプリント基板、fcテープ及びそれからなるtabテープ
JPH10130594A (ja) * 1996-10-29 1998-05-19 Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd 耐熱性ボンディングシート
JP2000063543A (ja) * 1998-08-25 2000-02-29 Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd ポリイミドフィルムおよびその製造方法
JP2001072781A (ja) * 1998-11-05 2001-03-21 Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd ポリイミドフィルムおよびそれを用いた電気・電子機器用基板
JP2000159887A (ja) * 1998-12-01 2000-06-13 Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd ポリイミドフィルムおよびその製造方法
JP2000297163A (ja) * 1999-04-16 2000-10-24 Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd ポリイミドフィルムおよびその製造方法
JP2001315256A (ja) * 2000-05-02 2001-11-13 Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd フレキシブル金属箔張積層板
JP2002322276A (ja) * 2001-04-25 2002-11-08 Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd 新規な熱可塑性ポリイミド樹脂
JP2004143300A (ja) * 2002-10-24 2004-05-20 Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd 感光性フィルム、およびこれを備えたプリント配線板、並びにプリント配線板の製造方法

Cited By (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006306972A (ja) * 2005-04-27 2006-11-09 Kaneka Corp 新規なポリイミドフィルム並びにそれを用いて得られる接着フィルム、フレキシブル金属張積層板
JP2006306973A (ja) * 2005-04-27 2006-11-09 Kaneka Corp 新規なポリイミドフィルム並びにそれを用いて得られる接着フィルム、フレキシブル金属張積層板
JP2008068406A (ja) * 2006-09-12 2008-03-27 Tomoegawa Paper Co Ltd フレキシブル金属積層体およびフレキシブルプリント基板
JP2008188843A (ja) * 2007-02-02 2008-08-21 Kaneka Corp ポリイミド前駆体溶液の多層膜、多層ポリイミドフィルム、片面金属張積層板、および多層ポリイミドフィルムの製造方法
JP2008188954A (ja) * 2007-02-07 2008-08-21 Kaneka Corp 片面金属張積層板用基材及び片面金属張積層板の製造方法
WO2011013904A3 (ko) * 2009-07-31 2011-04-14 에스케이씨코오롱피아이 주식회사 폴리이미드 필름
WO2011013904A2 (ko) * 2009-07-31 2011-02-03 에스케이씨코오롱피아이 주식회사 폴리이미드 필름
JP2011057782A (ja) * 2009-09-08 2011-03-24 Toyobo Co Ltd ポリイミドフィルムの製造方法
US20120231263A1 (en) * 2009-11-20 2012-09-13 E.I. Du Pont De Nemours And Company Coverlay compositions and methods relating thereto
CN102009515A (zh) * 2010-07-21 2011-04-13 广东生益科技股份有限公司 二层法双面挠性覆铜板的制作方法及该二层法双面挠性覆铜板
JP2016186031A (ja) * 2015-03-27 2016-10-27 東レ・デュポン株式会社 ポリイミドフィルム
JP2018509308A (ja) * 2015-07-24 2018-04-05 エルジー・ケム・リミテッド 可撓性基板の製造方法
US10517171B2 (en) 2015-07-24 2019-12-24 Lg Chem, Ltd. Method for fabricating flexible substrate
CN108327377A (zh) * 2018-03-13 2018-07-27 广西师范大学 一种聚酰亚胺膜或聚酰亚胺覆铜板的制备装置

Also Published As

Publication number Publication date
JP2012077302A (ja) 2012-04-19
US20090197110A1 (en) 2009-08-06
US8426548B2 (en) 2013-04-23
JP2014001392A (ja) 2014-01-09
KR100952796B1 (ko) 2010-04-14
JPWO2006033267A1 (ja) 2008-05-15
KR20070054244A (ko) 2007-05-28
TW200626694A (en) 2006-08-01
CN101027345A (zh) 2007-08-29
TWI408200B (zh) 2013-09-11
CN101027345B (zh) 2010-11-24
JP5613300B2 (ja) 2014-10-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5613300B2 (ja) 新規なポリイミドフィルム並びにそれを用いて得られる接着フィルム、フレキシブル金属張積層板
KR100958466B1 (ko) 신규한 폴리이미드 필름 및 그의 이용
JP5069847B2 (ja) 新規なポリイミドフィルム並びにそれを用いて得られる接着フィルム、フレキシブル金属張積層板
JP5069846B2 (ja) 新規なポリイミドフィルム並びにそれを用いて得られる接着フィルム、フレキシブル金属張積層板
WO2006033272A1 (ja) 接着性の改良された新規なポリイミドフィルム
JP5064033B2 (ja) 接着シートおよび銅張り積層板
WO2005111164A1 (ja) 接着フィルムおよびフレキシブル金属張積層板並びにそれらの製造方法
JP5750424B2 (ja) 等方的な接着フィルムおよびその製造方法、接着フィルムを用いたフレキシブル金属積層板
JP4509032B2 (ja) 寸法安定性を向上させたフレキシブル金属張積層板の製造方法
JP4551094B2 (ja) 接着フィルムならびにそれから得られる寸法安定性を向上させたフレキシブル金属張積層板、ならびにその製造方法
JP5620093B2 (ja) 寸法安定性を向上させたフレキシブル金属張積層板の製造方法ならびにそれにより得られるフレキシブル金属張積層板
JP2006052389A (ja) 接着フィルムおよびフレキシブル金属張積層板並びにそれらの製造方法
JP2007091947A (ja) 等方的な接着フィルムおよびその製造方法、接着フィルムを用いたフレキシブル金属積層板。
JP4271563B2 (ja) フレキシブル金属張積層板の製造方法
JP2005199481A (ja) 接着フィルムならびにそれから得られる寸法安定性を向上させたフレキシブル金属張積層板
JP2005350668A (ja) 接着フィルムおよびフレキシブル金属張積層板並びにそれらの製造方法
JP2005193542A (ja) 寸法安定性を向上させたフレキシブル金属張積層板の製造方法ならびにそれにより得られるフレキシブル金属張積層板
JP4663976B2 (ja) 寸法安定性を向上させたフレキシブル金属張積層板の製造方法
JP2005193541A (ja) 寸法安定性を向上させたフレキシブル金属張積層板の製造方法ならびにそれにより得られるフレキシブル金属張積層板
JP5758457B2 (ja) 接着フィルムの製造方法およびフレキシブル金属張積層板の製造方法
JP5592463B2 (ja) 等方的な接着フィルムおよびその製造方法、接着フィルムを用いたフレキシブル金属積層板
WO2006082828A1 (ja) 等方性接着フィルム及びフレキシブル金属張積層体
JP2006027067A (ja) 接着フィルムおよびフレキシブル金属張積層板並びにそれらの製造方法
JP2005335102A (ja) 寸法安定性を向上させた接着性接合部材及びそれからなるフレキシブル金属張積層板
JP2005324403A (ja) 接着フィルムおよびフレキシブル金属張積層板並びにそれらの製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
AK Designated states

Kind code of ref document: A1

Designated state(s): AE AG AL AM AT AU AZ BA BB BG BR BW BY BZ CA CH CN CO CR CU CZ DE DK DM DZ EC EE EG ES FI GB GD GE GH GM HR HU ID IL IN IS JP KE KG KM KP KR KZ LC LK LR LS LT LU LV MA MD MG MK MN MW MX MZ NA NG NI NO NZ OM PG PH PL PT RO RU SC SD SE SG SK SL SM SY TJ TM TN TR TT TZ UA UG US UZ VC VN YU ZA ZM ZW

AL Designated countries for regional patents

Kind code of ref document: A1

Designated state(s): BW GH GM KE LS MW MZ NA SD SL SZ TZ UG ZM ZW AM AZ BY KG KZ MD RU TJ TM AT BE BG CH CY CZ DE DK EE ES FI FR GB GR HU IE IS IT LT LU LV MC NL PL PT RO SE SI SK TR BF BJ CF CG CI CM GA GN GQ GW ML MR NE SN TD TG

121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application
WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 2006536349

Country of ref document: JP

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 11663622

Country of ref document: US

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 200580032496.X

Country of ref document: CN

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 1020077008458

Country of ref document: KR

122 Ep: pct application non-entry in european phase