JPH04300921A - 含芳香族複素環ポリイミド - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は高弾性率、かつ耐熱性に
優れた、溶液成形可能な新規含芳香族複素環ポリイミド
に関する。特には主鎖中にベンゾビスチアゾール骨格を
含有することを特徴とする、芳香族複素環ポリイミドに
関する。
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関する。
【0002】
【従来の技術】主鎖中に対称性が良く、屈曲部のない芳
香族の骨格を導入したポリマーは、高弾性率かつ高耐熱
性となる。現在公知のポリマー中では、ポリ−p−フェ
ニレンベンゾビスチアゾール(PPBT)(Macro
molecules 14, 915(1981))で
非常に高弾性率な繊維が得られている。
香族の骨格を導入したポリマーは、高弾性率かつ高耐熱
性となる。現在公知のポリマー中では、ポリ−p−フェ
ニレンベンゾビスチアゾール(PPBT)(Macro
molecules 14, 915(1981))で
非常に高弾性率な繊維が得られている。
【0003】
【化4】
その理由は、主鎖中にベンゾビスチアゾール骨格を含む
ためと考えられる。しかしPPBTは不融であり、かつ
一般的な有機溶媒には不溶であるため成形の困難なポリ
マーである。一般に主鎖方向に対称性の良いポリマーほ
ど高弾性率かつ高耐熱性となるが、不溶、不融であった
り、超強酸、強酸等の特殊な溶媒にしか溶けず、成形性
は必ずしも良好ではない。一方、多くのポリイミドに見
られるピロメリットイミド環(IV)は、非常に対称性
が良い構造であり、この構造を主鎖に導入したポリマー
は高弾性率となることが予想できる。
ためと考えられる。しかしPPBTは不融であり、かつ
一般的な有機溶媒には不溶であるため成形の困難なポリ
マーである。一般に主鎖方向に対称性の良いポリマーほ
ど高弾性率かつ高耐熱性となるが、不溶、不融であった
り、超強酸、強酸等の特殊な溶媒にしか溶けず、成形性
は必ずしも良好ではない。一方、多くのポリイミドに見
られるピロメリットイミド環(IV)は、非常に対称性
が良い構造であり、この構造を主鎖に導入したポリマー
は高弾性率となることが予想できる。
【0004】
【化5】
しかもポリイミドは前駆体としてポリアミド酸を経由し
て製造されることが多い。この場合、閉環後に非常に剛
直なポリマーとなり、不溶、不融又は難溶性のポリマー
になるものであっても、ポリアミド酸状態では、アミド
溶媒等の通常の有機溶媒に可溶となる。従って、ポリア
ミド酸の溶液状態で任意の形に成形し、成形後に閉環さ
せることにより、高弾性率、高耐熱性材料を容易に得る
ことができる。
て製造されることが多い。この場合、閉環後に非常に剛
直なポリマーとなり、不溶、不融又は難溶性のポリマー
になるものであっても、ポリアミド酸状態では、アミド
溶媒等の通常の有機溶媒に可溶となる。従って、ポリア
ミド酸の溶液状態で任意の形に成形し、成形後に閉環さ
せることにより、高弾性率、高耐熱性材料を容易に得る
ことができる。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】ベンゾビスチアゾール
構造を主鎖に持つポリマーはPPBTに見られるように
剛直で弾性率は高くなるが成形性は悪い。しかしポリア
ミド酸を経て製造されるポリイミドにピロメリットイミ
ド環(IV)及び架橋形成基を導入すれば高弾性率、高
耐熱材料をより簡便な成形法で得られると考え本発明に
到達した。
構造を主鎖に持つポリマーはPPBTに見られるように
剛直で弾性率は高くなるが成形性は悪い。しかしポリア
ミド酸を経て製造されるポリイミドにピロメリットイミ
ド環(IV)及び架橋形成基を導入すれば高弾性率、高
耐熱材料をより簡便な成形法で得られると考え本発明に
到達した。
【0006】
【課題を解決するための手段】すなわち、本発明は構造
が実質的に下記構造単位(I)、(II)および(II
I)からなり、構造単位(I)が全体の15〜50モル
%、構造単位(II)が全体の35〜0モル%、構造単
位(III)が全体の50モル%であり、アミック酸状
態で測定したηinh (NMP、5%、30℃)が1
.0以上であることを特徴とする含芳香族複素環ポリイ
ミドに関する。
が実質的に下記構造単位(I)、(II)および(II
I)からなり、構造単位(I)が全体の15〜50モル
%、構造単位(II)が全体の35〜0モル%、構造単
位(III)が全体の50モル%であり、アミック酸状
態で測定したηinh (NMP、5%、30℃)が1
.0以上であることを特徴とする含芳香族複素環ポリイ
ミドに関する。
【0007】
【化6】
(構造単位(II)、(III)において、Ar1 は
【化7】
から選択されるいずれか1種以上、Ar2 は
【化8】
を表わす。ここで、X、X1 、X2 、X3 は水素
原子、アルキル基、アルコキシ基またはハロゲン原子か
ら選択されるいずれか1種以上を、Y、Y1 、Y2
は単結合、−O−、−CH2 −、−S−、−CO−、
−SO2 −、−C(CH3 )2 −または−C(C
F3 )2 −から選択される1種以上を示す。)
原子、アルキル基、アルコキシ基またはハロゲン原子か
ら選択されるいずれか1種以上を、Y、Y1 、Y2
は単結合、−O−、−CH2 −、−S−、−CO−、
−SO2 −、−C(CH3 )2 −または−C(C
F3 )2 −から選択される1種以上を示す。)
【0008】本発明のポリマーの製造に必要なモノマー
としては、構造(I)及び(II)を与える芳香族ジア
ミン及び構造(III)を与える芳香族テトラカルボン
酸二無水物が挙げられる。構造(I)を与える芳香族ジ
アミンとしては2,2′−ジビニルビフェニレンジアミ
ン、3,3′−ジビニルビフェニレンジアミンを挙げる
ことが出来る。構造(II)を与える芳香族ジアミンと
しては、m−およびp−フェニレンジアミン、2,5−
ジアミノトルエン、4,4′−および3,3′−ジアミ
ノジフェニルエーテル、4,4′−および3,3′−ジ
アミノジフェニルメタン、4,4′−および3,3′−
チオジアニリン、4,4′−および3,3′−ジアミノ
ビフェニル、4,4′−および3,3′−ジアミノジフ
ェニルスルホン、ビス−(4−アミノフェニル)イソプ
ロパン、ビス−(4−アミノフェニル)ビス(トリフル
オロメチル)メタン、4,4′−ジアミノベンゾフェノ
ン、4,4′−メチレンビス−(o−クロロアニリン)
、4,4′−メチレンビス−(3−メチルアニリン)、
4,4′−メチレンビス−(2−メトキシアニリン)、
4,4′−メチレンビス−(2−メチルアニリン)、4
,4′−オキシビス−(2−メトキシアニリン)、4,
4′−オキシビス−(2−クロロアニリン)、4,4′
−チオビス−(2−メチルアニリン)、4,4′−チオ
ビス−(2−メトキシアニリン)、4,4′−チオビス
−(2−クロロアニリン)、4,4′−スルホニルビス
−(2−メチルアニリン)、4,4′−スルホニルビス
−(2−エトキシアニリン)、4,4′−スルホニルビ
ス−(2−クロロアニリン)、3,3′−ジメチル−4
,4′−ジアミノベンゾフェノン、3,3′−ジメトキ
シ−4,4′−ジアミノベンゾフェノン、3,3′−ジ
クロロ−4,4′−ジアミノベンゾフェノン、3,3′
−ジメチルベンジジン、3,3′−ジメトキシベンジジ
ン、3,3′−ジクロロベンジジン、2,2′−ビス〔
4−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕プロパン(B
APP)、ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)フェニ
ル〕スルホン、1,4−ビス(4−アミノフェノキシ)
ベンゼン、1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)ベン
ゼン、1,3−ビス(3−アミノフェノキシ)ベンゼン
等である。
としては、構造(I)及び(II)を与える芳香族ジア
ミン及び構造(III)を与える芳香族テトラカルボン
酸二無水物が挙げられる。構造(I)を与える芳香族ジ
アミンとしては2,2′−ジビニルビフェニレンジアミ
ン、3,3′−ジビニルビフェニレンジアミンを挙げる
ことが出来る。構造(II)を与える芳香族ジアミンと
しては、m−およびp−フェニレンジアミン、2,5−
ジアミノトルエン、4,4′−および3,3′−ジアミ
ノジフェニルエーテル、4,4′−および3,3′−ジ
アミノジフェニルメタン、4,4′−および3,3′−
チオジアニリン、4,4′−および3,3′−ジアミノ
ビフェニル、4,4′−および3,3′−ジアミノジフ
ェニルスルホン、ビス−(4−アミノフェニル)イソプ
ロパン、ビス−(4−アミノフェニル)ビス(トリフル
オロメチル)メタン、4,4′−ジアミノベンゾフェノ
ン、4,4′−メチレンビス−(o−クロロアニリン)
、4,4′−メチレンビス−(3−メチルアニリン)、
4,4′−メチレンビス−(2−メトキシアニリン)、
4,4′−メチレンビス−(2−メチルアニリン)、4
,4′−オキシビス−(2−メトキシアニリン)、4,
4′−オキシビス−(2−クロロアニリン)、4,4′
−チオビス−(2−メチルアニリン)、4,4′−チオ
ビス−(2−メトキシアニリン)、4,4′−チオビス
−(2−クロロアニリン)、4,4′−スルホニルビス
−(2−メチルアニリン)、4,4′−スルホニルビス
−(2−エトキシアニリン)、4,4′−スルホニルビ
ス−(2−クロロアニリン)、3,3′−ジメチル−4
,4′−ジアミノベンゾフェノン、3,3′−ジメトキ
シ−4,4′−ジアミノベンゾフェノン、3,3′−ジ
クロロ−4,4′−ジアミノベンゾフェノン、3,3′
−ジメチルベンジジン、3,3′−ジメトキシベンジジ
ン、3,3′−ジクロロベンジジン、2,2′−ビス〔
4−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕プロパン(B
APP)、ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)フェニ
ル〕スルホン、1,4−ビス(4−アミノフェノキシ)
ベンゼン、1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)ベン
ゼン、1,3−ビス(3−アミノフェノキシ)ベンゼン
等である。
【0009】また、構造(III)を与える芳香族テト
ラカルボン酸二無水物としては、ピロメリット酸二無水
物、3,4,3′,4′−ベンゾフェノンテトラカルボ
ン酸二無水物(DPTA)、3,3′,4,4′−ジフ
ェニルテトラカルボン酸二無水物、2,2′,3,3′
−ジフェニルテトラカルボン酸二無水物、2,2−ビス
(3,4−ジカルボキシフェニル)プロパン二無水物、
ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)ビス(トリフル
オロメチル)メタン二無水物、ビス(3,4−ジカルボ
キシフェニル)スルホン二無水物、ビス(3,4−ジカ
ルボキシフェニル)エーテル二無水物、ビス(3,4−
ジカルボキシフェニル)メタン二無水物等が挙げられる
。
ラカルボン酸二無水物としては、ピロメリット酸二無水
物、3,4,3′,4′−ベンゾフェノンテトラカルボ
ン酸二無水物(DPTA)、3,3′,4,4′−ジフ
ェニルテトラカルボン酸二無水物、2,2′,3,3′
−ジフェニルテトラカルボン酸二無水物、2,2−ビス
(3,4−ジカルボキシフェニル)プロパン二無水物、
ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)ビス(トリフル
オロメチル)メタン二無水物、ビス(3,4−ジカルボ
キシフェニル)スルホン二無水物、ビス(3,4−ジカ
ルボキシフェニル)エーテル二無水物、ビス(3,4−
ジカルボキシフェニル)メタン二無水物等が挙げられる
。
【0010】本発明のポリマーは、実質的にジアミン(
I)50モル%とピロメリット酸二無水物50モル%と
から合成された場合に最も剛直となる。必要に応じて構
造式(II)を与えるジアミン、ピロメリット酸二無水
物以外の構造式(III)を与えるテトラカルボン酸二
無水物を共重合させることができる。しかしイミド閉環
後のポリマーの剛直性を著しく損なわないためには、ポ
リマー中に実質的にイミド閉環後、下記構造式で表され
る構造単位が30モル%以上含まれることが好ましい。
I)50モル%とピロメリット酸二無水物50モル%と
から合成された場合に最も剛直となる。必要に応じて構
造式(II)を与えるジアミン、ピロメリット酸二無水
物以外の構造式(III)を与えるテトラカルボン酸二
無水物を共重合させることができる。しかしイミド閉環
後のポリマーの剛直性を著しく損なわないためには、ポ
リマー中に実質的にイミド閉環後、下記構造式で表され
る構造単位が30モル%以上含まれることが好ましい。
【0011】
【化9】
本発明のポリアミド酸は、アミド溶媒中で上記芳香族ジ
アミンと芳香族テトラカルボン酸を反応させることによ
り製造することができる。ついで化学環化法及び/又は
熱環化法によりイミド化することで、本発明のポリイミ
ドを製造することができる。ポリアミド酸の製造に使用
するアミド溶媒としては、N−メチル−2−ピロリドン
(NMP)、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン
(DMI)、N,N−ジメチルホルムアミド(DMF)
、N,N−ジメチルアセトアミド(DMAc)、ヘキサ
メチルホスホルトリアミド(HMPA)、及びそれらの
混合溶媒等が適している。
アミンと芳香族テトラカルボン酸を反応させることによ
り製造することができる。ついで化学環化法及び/又は
熱環化法によりイミド化することで、本発明のポリイミ
ドを製造することができる。ポリアミド酸の製造に使用
するアミド溶媒としては、N−メチル−2−ピロリドン
(NMP)、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン
(DMI)、N,N−ジメチルホルムアミド(DMF)
、N,N−ジメチルアセトアミド(DMAc)、ヘキサ
メチルホスホルトリアミド(HMPA)、及びそれらの
混合溶媒等が適している。
【0012】以下、ピロメリット酸二無水物をPMDA
、N−メチル−2−ピロリドンをNMP、と略称する。 本発明の架橋形成性ポリイミドは80〜300℃の熱処
理下で架橋が形成され極めて耐熱性に優れる材料を得る
ことが出来る。本発明の含芳香族複素環ポリイミドは通
常の粘度溶媒に不溶であり通常の分子量測定が不能であ
る。従って本願においてはイミド化の閉環前のアミック
酸状態でN−メチル−2−ピロリドン(NMP)、5%
、30℃で測定したηinh で定義され、その値は1
.0以上である好ましいηinh は2〜5である。ま
た本発明の含芳香族複素環ポリイミドは繊維、フィルム
、シート、積層体、各種構造体として、特には耐熱用途
に有用である。
、N−メチル−2−ピロリドンをNMP、と略称する。 本発明の架橋形成性ポリイミドは80〜300℃の熱処
理下で架橋が形成され極めて耐熱性に優れる材料を得る
ことが出来る。本発明の含芳香族複素環ポリイミドは通
常の粘度溶媒に不溶であり通常の分子量測定が不能であ
る。従って本願においてはイミド化の閉環前のアミック
酸状態でN−メチル−2−ピロリドン(NMP)、5%
、30℃で測定したηinh で定義され、その値は1
.0以上である好ましいηinh は2〜5である。ま
た本発明の含芳香族複素環ポリイミドは繊維、フィルム
、シート、積層体、各種構造体として、特には耐熱用途
に有用である。
【0013】
【実施例】以下、本発明を実施例により詳述するが、本
発明はその要旨を逸脱しない限り実施例により何ら制約
を受けるものではない。
発明はその要旨を逸脱しない限り実施例により何ら制約
を受けるものではない。
【0014】2,2′−ジビニルビフェニレンジアミン
の合成例 メタニトロスチレンの合成 メタニトロケイ皮酸20g、銅粉3g、キノリン75m
lを撹拌機つき4つ口フラスコに仕込み、200℃オイ
ルバス下で反応を開始させた。発生する炭酸ガスを水中
に導いて発生具合で反応の終了を判定する。1.5時間
で炭酸ガスの発生は止んだ。冷却後、キノリンに対し1
.5倍量の3N塩酸300mlを加えた。反応器内を窒
素バブルさせながら水を留去させた。その際、淡黄の油
分を同伴した。反応器内の水量を維持する為150ml
の水を2回加えた。450mlの水が溜出した時点で停
止した。溜分をクロロホルム50mlで3回抽出し、ク
ロロホルムを蒸発させ、得た淡黄液体を減圧蒸留にかけ
た。減圧度1mmHg、83〜86℃を本留分とし回収
した。
の合成例 メタニトロスチレンの合成 メタニトロケイ皮酸20g、銅粉3g、キノリン75m
lを撹拌機つき4つ口フラスコに仕込み、200℃オイ
ルバス下で反応を開始させた。発生する炭酸ガスを水中
に導いて発生具合で反応の終了を判定する。1.5時間
で炭酸ガスの発生は止んだ。冷却後、キノリンに対し1
.5倍量の3N塩酸300mlを加えた。反応器内を窒
素バブルさせながら水を留去させた。その際、淡黄の油
分を同伴した。反応器内の水量を維持する為150ml
の水を2回加えた。450mlの水が溜出した時点で停
止した。溜分をクロロホルム50mlで3回抽出し、ク
ロロホルムを蒸発させ、得た淡黄液体を減圧蒸留にかけ
た。減圧度1mmHg、83〜86℃を本留分とし回収
した。
【0015】3−ビニルヒドラゾベンゼンの合成メタニ
トロスチレン23.3g、亜鉛粉末50g、エタノール
80mlを撹拌機つき4つ口フラスコに仕込み、苛性ソ
ーダ30gを含む100ml水溶液を発熱をみながら滴
下ロートを通し滴下した。15ml滴下時点で急激な発
熱があるので滴下を停止し発熱がおさまった時点で滴下
を再開した。以後2時間かけて滴下を継続した。 滴下終了後、エタノールを溜去し、得た内容物について
60mlトルエンで3回洗浄抽出し、デカンテーション
によりトルエン溶液として回収した。ついでトルエンを
溜去し、放冷することにより結晶状固化物を得た。元素
分析値はC;81.19(計算値81.32)、H;6
.84(同6.81)N;11.63(同11.86)
であった。
トロスチレン23.3g、亜鉛粉末50g、エタノール
80mlを撹拌機つき4つ口フラスコに仕込み、苛性ソ
ーダ30gを含む100ml水溶液を発熱をみながら滴
下ロートを通し滴下した。15ml滴下時点で急激な発
熱があるので滴下を停止し発熱がおさまった時点で滴下
を再開した。以後2時間かけて滴下を継続した。 滴下終了後、エタノールを溜去し、得た内容物について
60mlトルエンで3回洗浄抽出し、デカンテーション
によりトルエン溶液として回収した。ついでトルエンを
溜去し、放冷することにより結晶状固化物を得た。元素
分析値はC;81.19(計算値81.32)、H;6
.84(同6.81)N;11.63(同11.86)
であった。
【0016】2,2′−ジビニルビフェニレンジアミン
の合成 ヒドラゾベンゼン18g、ジエチルエーテル130ml
を4つ口フラスコに仕込み氷バスにつけ内温が5℃以下
になる様にした。35%塩酸300ml、水300ml
からなる水溶液を氷バスにつけ10℃以下になる様にし
た。窒素シール下で滴下ロートを通し40分かけてエー
テル溶液を滴下し、黄白色スラリーを得た。滴下終了後
、30分撹拌を続けた。次いで濾過し、濾残を500m
lメタノールで洗浄し、濾過回収して13gの塩酸塩を
得た。この塩酸塩を500mlの水に懸濁させ苛性ソー
ダ溶液によりアルカリ性にするとブロック状沈澱が得ら
れた。水で洗浄後、メタノール200mlで溶解し濾過
した。濾液にメタノール溶液が濁り始める迄水を加える
ことにより淡黄白色の針状沈澱が得られた。濾過回収し
、6.6gの精製ジアミンを得た。元素分析値はC;8
1.30(計算値81.36)、H;6.73(同6.
78)N;11.89(同11.86)であった。
の合成 ヒドラゾベンゼン18g、ジエチルエーテル130ml
を4つ口フラスコに仕込み氷バスにつけ内温が5℃以下
になる様にした。35%塩酸300ml、水300ml
からなる水溶液を氷バスにつけ10℃以下になる様にし
た。窒素シール下で滴下ロートを通し40分かけてエー
テル溶液を滴下し、黄白色スラリーを得た。滴下終了後
、30分撹拌を続けた。次いで濾過し、濾残を500m
lメタノールで洗浄し、濾過回収して13gの塩酸塩を
得た。この塩酸塩を500mlの水に懸濁させ苛性ソー
ダ溶液によりアルカリ性にするとブロック状沈澱が得ら
れた。水で洗浄後、メタノール200mlで溶解し濾過
した。濾液にメタノール溶液が濁り始める迄水を加える
ことにより淡黄白色の針状沈澱が得られた。濾過回収し
、6.6gの精製ジアミンを得た。元素分析値はC;8
1.30(計算値81.36)、H;6.73(同6.
78)N;11.89(同11.86)であった。
【0017】ポリアミック酸製造例1
2,2′−ジビニルビフェニレンジアミン1.1137
g、無水ピロメリット酸1.0343gをNMP20m
lと伴に撹拌機つき4つ口フラスコに仕込み、窒素下1
.5時間反応させ、粘稠なポリアミック酸溶液を得た。 この時点でのηinh は3.89であった。流動しに
くいので更にNMPを加え約4%濃度に希釈し回収した
。このポリアミック酸溶液をポリアミック酸Aと略称す
る。
g、無水ピロメリット酸1.0343gをNMP20m
lと伴に撹拌機つき4つ口フラスコに仕込み、窒素下1
.5時間反応させ、粘稠なポリアミック酸溶液を得た。 この時点でのηinh は3.89であった。流動しに
くいので更にNMPを加え約4%濃度に希釈し回収した
。このポリアミック酸溶液をポリアミック酸Aと略称す
る。
【0018】ポリアミック酸製造例2
2,2′−ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)フェニ
ル〕プロパン(BAPP)2.3007g、3,4,3
′,4′−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物(
DPTA)1.6333g、NMP35mlを撹拌機つ
き4つ口フラスコに仕込み窒素雰囲気下2時間15分反
応させた。この時点でのポリアミック酸のηinh は
1.30であった。更に、2,2′−ジビニルビフェニ
レンジアミン1.3639g、無水ピロメリット酸1.
2786gをNMP30mlと伴に仕込み、6時間重合
し、ブロック型ポリアミック酸溶液を得た。この時点で
のηinh は2.52であった。このポリアミック酸
溶液をポリアミック酸Bと略称する。
ル〕プロパン(BAPP)2.3007g、3,4,3
′,4′−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物(
DPTA)1.6333g、NMP35mlを撹拌機つ
き4つ口フラスコに仕込み窒素雰囲気下2時間15分反
応させた。この時点でのポリアミック酸のηinh は
1.30であった。更に、2,2′−ジビニルビフェニ
レンジアミン1.3639g、無水ピロメリット酸1.
2786gをNMP30mlと伴に仕込み、6時間重合
し、ブロック型ポリアミック酸溶液を得た。この時点で
のηinh は2.52であった。このポリアミック酸
溶液をポリアミック酸Bと略称する。
【0019】ポリアミック酸製造例3
BAPP3.4805g、DPTA2.4708g、N
MP55mlを撹拌機つき4つ口フラスコに仕込み、窒
素雰囲気下、1時間30分反応させた。この時点でのポ
リアミック酸のηinh は1.12であった。更に、
2,2′−ジビニルビフェニレンジアミン0.7742
g、無水ピロメリット酸0.7263gを20mlNM
Pと伴に仕込み6時間重合し、ブロック型ポリアミック
酸を得た。この時点でのηinh は1.77であった
。このポリアミック酸溶液をポリアミック酸Cと略称す
る。
MP55mlを撹拌機つき4つ口フラスコに仕込み、窒
素雰囲気下、1時間30分反応させた。この時点でのポ
リアミック酸のηinh は1.12であった。更に、
2,2′−ジビニルビフェニレンジアミン0.7742
g、無水ピロメリット酸0.7263gを20mlNM
Pと伴に仕込み6時間重合し、ブロック型ポリアミック
酸を得た。この時点でのηinh は1.77であった
。このポリアミック酸溶液をポリアミック酸Cと略称す
る。
【0020】ポリアミック酸製造例4
BAPP3.5387g、DPTA2.5130g、N
MP55mlを撹拌機つき4つ口フラスコに仕込み、窒
素雰囲気下、2時間40分反応させた。更に、2,2′
−ジビニルビフェニレンジアミン1.9902g、無水
ピロメリット酸2.0685gをNMP40mlと伴に
仕込み、2時間重合しブロック型ポリアミック酸を得た
。この時点でのηinh は2.04であった。このポ
リアミック酸溶液をポリアミック酸Dと略称する。
MP55mlを撹拌機つき4つ口フラスコに仕込み、窒
素雰囲気下、2時間40分反応させた。更に、2,2′
−ジビニルビフェニレンジアミン1.9902g、無水
ピロメリット酸2.0685gをNMP40mlと伴に
仕込み、2時間重合しブロック型ポリアミック酸を得た
。この時点でのηinh は2.04であった。このポ
リアミック酸溶液をポリアミック酸Dと略称する。
【0021】ポリアミック酸製造例5
BAPP4.6132g、DPTA3.2752g、N
MP75mlを撹拌機つき4つ口フラスコに仕込み、窒
素雰囲気下、3.5時間反応させた。更に、2,2′−
ジメチルビフェニレンジアミン0.9726g、無水ピ
ロメリット酸1.0206gをNMP20mlと伴に仕
込み、3.5時間重合しブロック型ポリアミック酸を得
た。この時点でのηinh は2.04であった。この
ポリアミック酸溶液をポリアミック酸Eと略称する。
MP75mlを撹拌機つき4つ口フラスコに仕込み、窒
素雰囲気下、3.5時間反応させた。更に、2,2′−
ジメチルビフェニレンジアミン0.9726g、無水ピ
ロメリット酸1.0206gをNMP20mlと伴に仕
込み、3.5時間重合しブロック型ポリアミック酸を得
た。この時点でのηinh は2.04であった。この
ポリアミック酸溶液をポリアミック酸Eと略称する。
【0022】実施例1〜3、比較例1〜2製造例に従い
、得られるポリアミック酸溶液に含有アミド結合に対し
6倍量の無水酢酸及び0.6倍量のピリジンを加え、減
圧下で5分撹拌脱泡を行なった。ついでガラス板上に約
1mm厚で流延し、エアオーブン中で80℃、1時間乾
燥させた。次にガラス板より乾燥フィルムをはがし、円
形状枠にはさみ固定下熱処理を行ない、ポリイミドフィ
ルムを得た。これらの結果を表1に示す。
、得られるポリアミック酸溶液に含有アミド結合に対し
6倍量の無水酢酸及び0.6倍量のピリジンを加え、減
圧下で5分撹拌脱泡を行なった。ついでガラス板上に約
1mm厚で流延し、エアオーブン中で80℃、1時間乾
燥させた。次にガラス板より乾燥フィルムをはがし、円
形状枠にはさみ固定下熱処理を行ない、ポリイミドフィ
ルムを得た。これらの結果を表1に示す。
【0023】また、図1にポリアミック酸Aから得られ
るフィルムの80℃時点及び250℃時点での赤外スペ
クトルを示す。980cm−1のビニル基の消失傾向を
見ることが出来る。なお、表1中のtanδピーク温度
は粘弾性測定装置DSM200(セイコー電子製)によ
り測定した。また、引張り物性はこのフィルムを幅5m
m、長さ100mmの短冊状に裁断したものについて引
張試験機(インテスコIM20)により測定した。チャ
ックスピードは10mm/分である。表1より架橋が導
入されることにより耐熱性が著しく向上することが対応
する組成の比較例とtanδのピーク温度を較べること
で確認される。
るフィルムの80℃時点及び250℃時点での赤外スペ
クトルを示す。980cm−1のビニル基の消失傾向を
見ることが出来る。なお、表1中のtanδピーク温度
は粘弾性測定装置DSM200(セイコー電子製)によ
り測定した。また、引張り物性はこのフィルムを幅5m
m、長さ100mmの短冊状に裁断したものについて引
張試験機(インテスコIM20)により測定した。チャ
ックスピードは10mm/分である。表1より架橋が導
入されることにより耐熱性が著しく向上することが対応
する組成の比較例とtanδのピーク温度を較べること
で確認される。
【0024】実施例4
実施例3の成膜を行なう際にそのまま室温減圧下で1昼
夜放置することによりゲルシートを得た。このシートを
幅2cm、長さ8cmの短冊状に切り取り、引張試験機
を用いて、3倍に延伸した。(初期長5cm)。この延
伸ゲルシートを定長下で無水酢酸/ピリジン=70/3
0(容積比)に2分浸漬することにより固定化した。つ
いで実施例3の熱処理条件に従い、定長下で熱処理を行
ない、架橋ポリイミドフィルムを得た。得られたフィル
ムについて同様の物性測定を行なった。結果を表1に示
す。
夜放置することによりゲルシートを得た。このシートを
幅2cm、長さ8cmの短冊状に切り取り、引張試験機
を用いて、3倍に延伸した。(初期長5cm)。この延
伸ゲルシートを定長下で無水酢酸/ピリジン=70/3
0(容積比)に2分浸漬することにより固定化した。つ
いで実施例3の熱処理条件に従い、定長下で熱処理を行
ない、架橋ポリイミドフィルムを得た。得られたフィル
ムについて同様の物性測定を行なった。結果を表1に示
す。
【0025】
【表1】
【0026】
【発明の効果】本発明のポリイミドは高弾性率かつ高耐
熱性で、簡便な方法で成形できる。
熱性で、簡便な方法で成形できる。
【図1】実施例1で得たフィルムの赤外線吸収スペクト
ルを示す。
ルを示す。
Claims (1)
- 【請求項1】 構造が実質的に下記構造単位(I)、
(II)および(III)からなり、構造単位(I)が
全体の15〜50モル%、構造単位(II)が全体の3
5〜0モル%、構造単位(III)が全体の50モル%
であり、アミック酸状態で測定したηinh (NMP
、5%、30℃)が1.0以上であることを特徴とする
含芳香族複素環ポリイミド。 【化1】 (構造単位(II)、(III)において、Ar1 は
【化2】 から選択されるいずれか1種以上、Ar2 は【化3】 を表わす。ここで、X、X1 、X2 、X3 は水素
原子、アルキル基、アルコキシ基またはハロゲン原子か
ら選択されるいずれか1種以上を、Y、Y1 、Y2
は単結合、−O−、−CH2 −、−S−、−CO−、
−SO2 −、−C(CH3 )2 −または−C(C
F3 )2 −から選択される1種以上を示す。)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6670291A JPH04300921A (ja) | 1991-03-29 | 1991-03-29 | 含芳香族複素環ポリイミド |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6670291A JPH04300921A (ja) | 1991-03-29 | 1991-03-29 | 含芳香族複素環ポリイミド |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04300921A true JPH04300921A (ja) | 1992-10-23 |
Family
ID=13323535
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6670291A Pending JPH04300921A (ja) | 1991-03-29 | 1991-03-29 | 含芳香族複素環ポリイミド |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04300921A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2006109514A1 (ja) * | 2005-03-30 | 2006-10-19 | Nippon Steel Chemical Co., Ltd. | 感光性樹脂組成物及びこれを用いた回路基板 |
JP2014001392A (ja) * | 2004-09-24 | 2014-01-09 | Kaneka Corp | 新規なポリイミドフィルム並びにそれを用いて得られる接着フィルム、フレキシブル金属張積層板 |
-
1991
- 1991-03-29 JP JP6670291A patent/JPH04300921A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014001392A (ja) * | 2004-09-24 | 2014-01-09 | Kaneka Corp | 新規なポリイミドフィルム並びにそれを用いて得られる接着フィルム、フレキシブル金属張積層板 |
WO2006109514A1 (ja) * | 2005-03-30 | 2006-10-19 | Nippon Steel Chemical Co., Ltd. | 感光性樹脂組成物及びこれを用いた回路基板 |
US8026036B2 (en) | 2005-03-30 | 2011-09-27 | Nippon Steel Chemical Co., Ltd. | Photosensitive resin composition and circuit substrate employing the same |
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