JPH03200838A - 新規ポリアミド‐ポリイミド及びポリベンゾキサゾール‐ポリイミド重合体 - Google Patents
新規ポリアミド‐ポリイミド及びポリベンゾキサゾール‐ポリイミド重合体Info
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Abstract
め要約のデータは記録されません。
Description
良好な加工性、良好なフィルム形成特性及び良好なフィ
ルム特性を示す新規フッ素含有ポリアミド−ポリイミド
重合体及びそれから誘導されたポリベンゾキサゾール−
ポリイミド重合体に関する。
イミド類はそれらの強靭性、低密度、熱的安定性、放射
線耐性、機械的強度及び良好な誘電特性により航空宇宙
産業及び電子産業において広汎に使用されている。しか
しながら、そのようなポリイミド類はしばしば熱的に加
工することが困難であり、それらから製造された薄膜は
しばしば脆く、満足できる光学的透明性に欠ける。
イソプロピリデン結合基を有する芳香族ポリイミド類が
、改良された溶解度及び加工特性を有することが示唆さ
れている。例えば、米国特許3,356.648号明細
書は2.2−ビス(4−アミノフェニル)へキサフルオ
ロプロパンから製造されたポリイミド類を開示し、米国
特許4.592.925号明細書は2.2−ビス(3−
アミノフェニル)へキサフルオロプロパンから製造され
たポリイミド類を開示し、米国特許4.111,906
号明細書は2.2−ビス〔4−(4−アミノフェノキシ
)フェニル〕へキサフルオロプロパンから製造されたポ
リイミド類を開示し、米国特許4,477.648号明
細書は2゜2−ビス〔(2−ハロー4−アミノ−フェノ
キシ)フェニル〕へキサフルオロプロパンから製造され
たポリイミド類を開示する。米国特許 4.592.925号明細書は、2.2−ビス(3−ア
ミノフェニル)へキサフルオロプロパン、及び2.2−
ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)へキサフルオロ
ブロバンニ無水物としても知られる4、4′ −へキサ
フルオロイソプロピリデン−ビス(無水フタル酸)を反
応することにより製造されるポリイミド類を開示する。
能性芳香族二無水物、芳香族ジアミン及び芳香族酸ハロ
ゲン化物を縮合することにより製造される良好な熱的安
定性及び良好なフィルム形成特性を有すると云われるポ
リアミド−ポリイミド重合体の製造を開示する。英国特
許出願GB−2188936A号明細書は2,2−ビス
(3−アミノ−4−ヒドロキシフェニル)へキサフルオ
ロプロパンと芳香族ジカルボン酸或いは酸無水物との縮
合生成物に基づきその後このポリアミドを環化してポリ
ベンゾキサゾールを形成することにより得られるポリア
ミド類及びベンゾキサゾール誘導体の製造を開示する。
の同時係属出願5erial No。
キサフルオロ−2,2−ビス(3−アミノ−4−ヒドロ
キシフェニル)プロパンと2.2−ビス(3,4−ジカ
ルボキシフェニル)へキサフルオロプロパンニ無水物の
重合体縮合生成物を形成することにより製造されるヒド
ロキシポリイミド重合体が開示されている。これらの重
合体はフォトレジスト組成物の製造において特に有用で
ある。
及びポリベンゾキサゾール重合体は開示される用途には
有用であるが、しかし優れた熱的及び熱酸化安定性のみ
ならず優れた加工性、優れた耐溶剤性、低水分吸収、低
誘導率及び良好なフィルム形成特性及びフィルム特性を
与えるポリアミド−ポリイミド重合体及びポリベンゾキ
サゾール重合体を提供することが望まれている。
ノ化合物の重合体縮合残基を導入した改良された加工性
及びフィルム特性を有するポリアミド−ポリイミド重合
体及びそれから誘導されたポリベンゾキサゾール−ポリ
イミド重合体を提供するものである。
ルキル或いはパーフルオロアリールアルキル、及び二つ
の芳香族基を直接に結合する炭素−炭素二重結合から選
ばれ、及びRは水素、ヒドロキシ及びC1〜C4′7:
ルコキシよりなる群から選ばれる)。
合物を単独或いはその他の芳香族ジアミン類と混合して
1種以上の芳香族テトラカルボン酸類或いはその無水物
と反応させることにより製造される。そのようなポリア
ミド−ポリイミド重合体のポリベンゾキサゾール−ポリ
イミド誘導体は、Rがヒドロキシ或いはC1〜C4アル
コキシである一般式lの化合物を利用して得られたアル
コキシ或いはヒドロキシ−置換ポリアミド−ポリイミド
を脱水及び環化反応に付してポリベンゾキサゾール−ポ
リイミド重合体を生成させるオキサゾール結合を形成す
ることにより製造される。
置換基及びアミド結合はA基に関してメタ或いはパラ位
において互換性であり、アミノ置換基はアミド結合に関
してメタ或いはバラである。
フルオロイソプロピリデン基 (CF3−C−CF3)或いは1−フェニル−2゜2.
2−)リフルオロエタン基(CF3−?−フェニル)で
あり、及びRはヒドロキシである。
庁に出願された本出願人の同時係属出願D−1278に
開示されており、その出願の開示内容をここに準用する
。
次の構造式を有する繰返し基を含んでなる重合体として
特徴付けられる: (式中、B部分はベンゼン核、4個までのフェニル環を
有するポリフェニル核及びナフタレン核よりなる群から
選ばれた置換或いは未置換四価芳香族基であり、nはジ
メチルアセトアミド中の重合体溶液から25摂氏度にて
0.5重量%の重合体濃度において測定して少なくとも
0.ldl/gの固有粘度を有する重合体を生成するの
に十分な整数であり、A及びRは式Iと同様である。部
分Bにおいて、カルボニル基の各対は部分Bの環内の隣
接炭素原子に結合されている)。
少なくとも一種の繰返し基を含んでなるポリベンゾキサ
ゾール−ポリイミド重合体に関する二 これらのポリベンゾキサゾール重合体は、RがA部分に
関して互換的にメタ或いはパラ位に位置するヒドロキシ
或いはCI C4アルコキシである一般式■のポリア
ミド−ポリイミド重合体から誘導され、それらはアミド
結合を環化してオキサゾール結合を形成することにより
製造される。
ミンと例えば次式により表わされるような少なくとも1
種の異なったジアミンが共重合されるコポリアミド−ポ
リイミド類及びそれから誘導されるポリベンゾキサゾー
ル類が含まれる:(式中、A、B及びnは上記の通りで
ある)。
はアリール核上に上記の如きRW置換基含有しても或い
はしなくてもよい異なった芳香族ジアミンの残基を表わ
し、B及びnは上記の通りであり、及び(a)及び(b
)は重合体鎖中の各繰返し単位のモル分率に等しい〕。
)のモル分率が下記のものである:a=0.01to1
.0 b−0,0toO,99; より好ましくは: a−0,5to1. 0 b−0,0to0. 5 ; 最も好ましくは; a−0,7te1. 0 b−0,0to0.3 一般式■及び■の範囲内のポリアミド−コポリイミド類
及びそれらから誘導されるポリベンゾキサゾール類は又
一般式■のジアミンが下記一般式で表わされるような2
種以上の冗なった芳香族二無水物と共重合される場合に
も製造される:〔式中、B′はBの範鴫の四価芳香族二
無水物を表わすが、しかし、(II)中に存在するB成
分とは異なり、及び(II) 、A% RSa、b及び
nは上記の通りである〕。
C1〜C4アルコキシである一般式■及びVの構造に類
似した構造を有するポリベンゾキサゾール類は、アミド
結合を上記の如くオキサゾール結合に環化することによ
り製造される。
ベンゼン及びナフタレンテトラカルボン酸二無水物及び
次の積構造を有するジフェニルニ無水物である: (式中、Aは一般式■において規定した通りである。最
も好ましい二無水物はAがへキサフルオロイソプロピリ
デン基或いは1−フェニル−2,2゜2−トリフルオロ
エタン基であるものである)。
水物の具体例は下記の通りである=1、 2.4. 5
−ベンゼンテトラカルボン酸二無水物; 1、 2. 3.4−ベンゼンテトラカルボン酸二無水
物; 1.4−ビス(2,3−ジカルボキシフェノキシ)ベン
ゼンニ無水物; 1.3−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)ベンゼ
ンニ無水物; 1.2,4.5−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物
; 1、2. 5.6−ナフタレンテトラカルボン酸二無水
物; 1、4. 5.8−ナフタレンテトラカルボン酸二無水
物; 2、3.6. 7−ナフタレンテトラカルボン酸二無水
物; 2.6−シクロロナフタレンー1.4.5.8−テトラ
カルボン酸二無水物; 2.7−シクロロナフタレンー1.4. 5.8−テト
ラカルボン酸二無水物; 2、 3.6.7−チトラクロロナフタレンー1゜4.
5.8−テトラカルボン酸二無水物;3.3’ 、4.
4’ −ジフェニルテトラカルボン酸二無水物; 2、 2’ 3. 3’ −ジフェニルテトラカ
ルボン酸二無水物; 4.4′−ビス(3,4−ジカルボキシフェノキシ)ジ
フェニルニ無水物; ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)エーテルニ無水
物; 4.4′−ビス(2,3−ジカルボキシフェノキシ)ジ
フェニルエーテルニ無水物; 4.4′−ビス(3,4−ジカルボキシフェノキシ)ジ
フェニルエーテルニ無水物; ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)スルフィドニ無
水物; 4.4′−ビス(2,3−ジカルボキシフェノキシ)ジ
フェニルスルフイドニ無水物;4.4′−ビス(3,4
−ジカルボキシフェノキシ)ジフェニルスルフイドニ無
水物;ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)スルホン
ニ無水物; 4.4′−ビス(2,3−ジカルボキシフェノキシ)ジ
フェニルスルホンニ無水物; 4.4′−ビス(3,4−ジカルボキシフェノキシ)ジ
フェニルスルホンニ無水物; 3.3’ 4.4’ −ベンゾフェノンテトラカルボ
ン酸二無水物; 2.2’ 、3.3’ −ベンゾフェノンテトラカル
ボン酸二無水物; 2、 3. 3’ 4’ −ベンゾフェノンテトラカ
ルボン酸二無水物; 4.4′−ビス(3,4−ジカルボキシフェノキシ)ペ
ンゾフェノンニ無水物; ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)メタン二無水物
; ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)メタン二無水物
; 1.1−ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)エタン
ニ無水物; 1.1−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)エタン
ニ無水物; 1.2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)エタン
ニ無水物; 2.2−ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)プロパ
ンニ無水物; 2.2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)プロパ
ンニ無水物; 2.2−ビス(4−(2,3−ジカルボキシフェノキシ
)フェニル〕プロパンニ無水物;2.2−ビス[4−(
3,4−ジカルボキシフェノキシ)フェニル]プロパン
ニ無水物;4− (2,3−ジカルボキシフェノキシ
)4’ −(3,4−ジカルボキシフェノキシ)ジフ
ェニル−2,2−プロパンニ無水物; 2.2−ビス[4−(3,4−ジカルボキシフェノキシ
−3,5−ジメチル)フェニル]プロパンニ無水物; 2、 3.4. 5−チオフェンテトラカルボン酸二無
水物; 2.3,4.5−ピロリジンテトラカルボン酸二無水物
; 2.3,5.6−ピラジンテトラカルボン酸二無水物; 1.8.9.10−フェナントレン−テトラカルボン酸
二無水物; 3.4.9.10−ベリーレンチトラカルボン酸二無水
物; 2.2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)へキサ
フルオロプロパンニ無水物; 1.3−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)へキサ
フルオロブロバンニ無水物; 1.1−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)−1−
フェニル−2,2,2−トリフルオロエタンニ無水物; 2.2−ビス(4−(3,4−ジカルボキシフェノキシ
)フェニル〕へキサフルオロプロパンニ無水物; 1.1−ビス(4−(3,4−ジカルボキシフェノキシ
)フェニル〕−1−フェニル−2,2゜2−トリフルオ
ロエタンニ無水物; 4.4′ −ビス[2−(3,4−ジカルボキシフェニ
ル)へキサフルオロイソプロピル]ジフェニルエーテル
ニ無水物、 及びそれらの混合物。
酸−エステル類を用いてポリイミド類が形成されること
も認識するであろう。これらのテトラカルボン酸類或い
はその誘導体は人手可能であるか或いは公知方法により
製造される。例えば、ここに準用される米国特許3,8
47.867号及び米国特許4,650,850号各明
細書はそれぞれビス(エーテル無水物類)及びビス(ジ
アルキル芳香族エーテル無水物類)の製法を示す。
許3,310,573号及び米国特許3.649,60
1号各明細書に開示されている。
ジアミンと次式を有する少なくとも1種の他の芳香族ジ
アミンの混合物を用いても製造される: NH2−D−NH2 (式中、Dは未置換或いはハロゲン、ヒドロキシ、C−
Cアルキル或いはC1〜C4アルコキシ 6 基によって置換されてよいフェニレン、ナフタレン、或
いはビス−フェニレン系化合物の芳香族部分である)。
したジアミン類の具体例としては下記のものが挙げられ
る: m−フェニレンジアミン; p−フェニレンジアミン; 1.3−ビス(4−アミノフェニル)プロパン;2.2
−ビス(4−アミノフェニル)プロパン;4.4′ −
ジアミノ−ジフェニルメタン;1.2−ビス(4−アミ
ノフェニル)エタン;1.1−ビス(4−アミノフェニ
ル)エタン;2.2′ −ジアミノ−ジエチルスルフィ
ド;ビス(4−アミノフェニル)スルフィド;2.4′
−ジアミノ−ジフェニルスルフィド;ビス(3−ア
ミノフェニル)スルホン;ビス(4−アミノフェニル)
スルホン;4.4′ −ジアミノ−ジベンジルスルホキ
シド;ビス(4−アミノフェニル)エーテル;ビス(3
−アミノフェニル)エーテル;ビス(4−アミノフェニ
ル)ジエーテルシラン:ビス(4−アミノフェニル)ジ
フェニルシラン;ビス(4−アミノフェニル)エチルホ
スフィンオキシト; ビス(4−アミノフェニル)フェニルホスフィンオキシ
ト: ビス(4−アミノフェニル)−N−フェニルアミン; ビス(4−アミノフェニル)−N−メチルアミン; 1.2−ジアミノ−ナフタレン; 1.4−ジアミノ−ナフタレン; 1.5−ジアミノ−ナフタレン; 1、6−シアミツ−ナフタレン; 1.7−シアミツ−ナフタレン; 1.8−ジアミノ−ナフタレン; 2.3−ジアミノ−ナフタレン; 2.6−シアミツ−ナフタレン: 1.4−ジアミノ−2−メチル−ナフタレン;1.5−
ジアミノ−2−メチル−ナフタレン;1、3−ジアミノ
−2−フェニル−ナフタレン;4.4′ −シアミ、ノ
ービフェニル;3.3′ −ジアミノ−ビフェニル; 3.3′−ジクロロ−4,4′ −ジアミノ−ビフェニ
ル: 3.3′ フェニル; 3.4′ フェニル; 3.3′ ビフェニル; 4.4′ −ビス フェニル; 2.4−ジアミノ 2.5−ジアミノ 2.6−ジアミノ 3.5−ジアミノ 1.3−ジアミノ ン; 1゜ −ジメチル−4゜ 〜ジメトキシー4゜ (4−アミノフェノキシ) 一ジメチルー4゜ 4−ジアミノ−2゜ 4′ −ジアミノービ 4′ −ジアミノービ 4′ −ジアミノ− 一ビ ートルエン; 一トルエン; 一トルエン; −トルエン; −2,5−ジクロローベンゼ 5−ジクロローベンゼ 1−メトキシ−2,4−ジアミノ−ベンゼン;1.4−
ジアミノ−2−メトキシ−5−メチル−ベンゼン: 1.4−ジアミノ−2,3,5,6−チトラメチルーベ
ンゼン; 1.4−ビス(2−メチル−4−アミノ−ペンチル)−
ベンゼン; 1.4−ビス(1,1−ジメチル−5−アミノ−ペンチ
ル)−ベンゼン; 1.4−ビス(4−アミノフェノキシ)−ベンゼン; 0−キシリレンジアミン; m−キシリレンジアミン; p−キシリレンジアミン; 3.3′ −ジアミノ−ベンゾフェノン;4.4′ −
ジアミノ−ベンゾフェノン;2.6−シアミツ−ピリジ
ン; 3.5−ジアミノ−ピリジン; 1.3−ジアミノ−アダマンタン; ビス[2−(3−アミノフェニル)へキサフルオロイソ
プロピル]ジフェニルエーテル;3.3′−ジアミノ−
1,1,1’ −シアダマンタン; N−(3−アミノフェニル)−4−アミノベンズアミド
; 4−アミノフェニル−3−アミノベンゾエート;2.2
−ビス(4−アミノフェニル)へキサフルオロプロパン
; 2.2−ビス(3−アミノフェニル)へキサフルオロプ
ロパン; 2− (3−アミノフェニル)−2−(4−アミノフェ
ニル)へキサフルオロプロパン;2.2−ビス(4−(
4−アミノフェノキシ)フェニルヘキサフルオロプロパ
ン; 2.2−ビス(4−(2−クロロ−4−アミノフェノキ
シ)フェニルヘキサフルオロプロパン;1.1−ビス(
4−アミノフェニル)−1−フェニル−2,2,2−)
リフルオロエタン;1.1−ビス(4−(4−アミノフ
ェノキシ)フェニル〕 −1−フェニル−2,2,2−
トリフルオロエタン; 1.4−ビス(3−アミノフェニル)ブタ−1−エン−
3−イン; 1.3−ビス(3−アミノフェニル)ヘキサフルオロプ
ロパン; 1.5−ビス(3−アミノフェニル)デカフルオロペン
タン; 4.4′−ビス(2−(4−アミノフェノキシフェニル
)へキサフルオロイソプロピル〕ジフェニルエーテル; 及びそれらの混合物。
れるポリベンゾキサゾール重合体は、又本発明に従って
上記ジアミン類の混合物及び上記二無水物類の混合物の
両者を反応させることにより製造されてもよい。
、典型的にはパラトルエンスルホン酸などの縮合触媒を
用いる高温溶液縮合法により製造される。適当な溶媒と
しては、N−メチルピロリドン、ガンマ−ブチロラクト
ン、モノクロロベンゼン及びそれらの混合物が挙げられ
る。反応は、好ましくは、実質的に無水条件下において
少なくとも50%、好ましくは少なくとも90%の対応
するポリアミン酸−ポリアミドを与えるのに十分な時間
及び温度において行い、次いでポリアミン酸−ポリアミ
ドをポリアミド−ポリイミドに転換して行うのが好まし
い。そのような転換は適当な脱水剤例えばポリリン酸、
無水酢酸或いはそのベーターピコリンとの混合物などを
ポリアミン酸反応媒体に添加し、該混合物を室温におい
てイミド化が実質的に完結するまで攪拌することにより
達成される。イミド化は又、ポリアミン酸を加熱するか
或いはポリアミン酸の注型フィルムを形成し、このフィ
ルムを段階的に約4時間に亘って約70摂氏度から約2
50摂氏度まで加熱することよっても達成される。
−C4アルコキシ置換基を含有するポリアミド−ポリイ
ミド重合体は更に脱水及び環化反応により本発明の対応
するベンゾキサゾール−ポリイミド重合体に容易に転換
される。この反応は、よく知られており、好ましくはア
ミド/ヒドロキシ或いはアミド/アルコキシ置換基を環
化させてオキサゾール結合を形成するのに十分な時間及
び温度でポリアミド−ポリイミド重合体を加熱すること
により達成される。環化の好ましい方法はポリアミド−
ポリイミドを少なくとも約300℃まで少なくとも約1
時間の間に加熱させることである。−船釣に、本発明の
ポリアミン酸前駆体及びポリアミド−ポリイミド重合体
は通常の有機溶媒に可溶性であるのに対し、誘導体ポリ
ベンゾキサゾール重合体は可溶性でない。即ち、フィル
ム或いは複合体などの成形製品が製造される場合には、
先ず所望形状を注型或いは成形し、次いで注型或いは成
形形状を加熱して溶媒不溶性ポリベンゾキサゾールを形
成するのが好ましい。
ジアミンと1. 2.4. 5−ベンゼンテトラカルボ
ン酸二無水物(ピロメリット酸二無水物−PMDAとし
ても知られている)、ビス(3゜4−ジカルボキシ−フ
ェニル)エーテルニ無水物(オキシフタル酸二無水物−
〇DPAとしても知られている) 、3.3’ 、4.
4’ −ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物(
ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物−BTDAと
しても知られている) 、3.4’ 、4.4’ −
ジフェニルテトラカルボン酸二無水物(BPDA) 、
2.2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)へキサ
フルオロプロパンニ無水物(6FDA)、及び4゜4′
−ビス(2−(3,4−ジカルボキシフェニル)へキ
サフルオロイソプロピル〕ジフェニルエーテルニ無水物
(12FDA)との重合体縮合生成物を形成することに
より製造される。
無水物単量体はほぼ等モル量にて反応させられる。
ロベンゾイル)−へキサフルオロ−2,2−ビス(4−
ヒドロキシフェニル)プロパンを調製する: 冷却ジャケット及び機械的攪拌機を備えた500m1の
丸底フラスコに30.0g(0,082mol)の2.
2−ビス(3−アミノ−4−ヒドロキシフェニル)へキ
サフルオロプロパン及び400m1のアセトンを仕込ん
だ。混合物をアミノフェニルが溶解するまで攪拌し、そ
の後100m1のアセトンに溶解したバラ−ニトロベン
ゾイルクロライドを30分間にわたって滴加した。
攪拌しなから2時間35〜40℃に加熱した。30.0
g (0,218mol)の炭酸カリウムを次いで徐々
に添加し、混合物を更に35〜40℃で2時間攪拌した
。熱を除去し、混合物を更に室温で18時間攪拌した。
液を激しく攪拌しながら添加し、混合物を50〜55℃
で30分間加熱した。熱を次いで除去し、混合物をビー
カーに移し、pHをHCL (37%)及び500m1
の追加の水を攪拌下に30分間に亘って追加することに
より、6.0〜7.0の範囲に調整した。
過し、沈殿物を水で洗浄し、60〜70℃においてオー
ブン中で乾燥した。ビス−N、N’(バラ−ニトロベン
ゾイル)−へキサフルオロ−2,2−ビス(4−ヒドロ
キシフェニル)プロパンの収率は、理論値の93.6%
であった。
。
1.ogの例1の粗製生成物、316gのアセトン及び
158gのメタノールを仕込んだ。
いて加熱した。混合物を室温まで冷却し、30gのN0
r1teを徐々に添加し、その後混合物を約25分間攪
拌した。混合物を次いで9011ブフナ−漏斗を通過さ
せ、及び少量のアセトン/メタノールの2対1混合物を
濯ぎ液として用いることにより透明化した。透明化溶液
を次いでビーカーに移し、50〜55℃に加熱した。3
00m1の温水道水を溶液に30分間に亘って滴加し、
その後60〜65℃に加熱した。熱から除去後、溶液は
ゆっくり20〜25℃まで冷却され、それにより精製化
合物の沈殿が形成された。混合物を9C11プフナー漏
斗を用いて濾過し、水道水で洗浄し、60〜70℃でオ
ーブン乾燥した。生成物の収率は86.2%の回収率を
示す44gであった。
−2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパンの
調製を例示する。本例により調製された生成物は次の構
造を有する: 1fjのParrボトルに、20.0g (0,03m
ol)の例2の精製生成物、1.0gの炭素上5%パラ
ジウム触媒及び180.4gの酢酸エチルを仕込んでス
ラリーを形成した。このスラリーを窒素ガスを吹込むこ
とにより15分間パージした。
維持することのできるシェーカー装置に接続し、その後
スラリーを水素ガスで3回パージして圧力密封を確実に
した。シェーカーをスタートさせ、内容物を50〜55
℃に加熱しながら50psi(約3. 5kg/cJ)
の水素ガスに付した。混合物は次いで35分間振盪させ
た。混合物を次いで35℃まで冷却させた。得られたス
ラリーを窒素でパージ後、それを濾過して触媒を除去し
、その後溶媒を蒸発させた。生成物を空気オーブン中に
90℃で乾燥するまで加熱し、17.0gの乾燥生成物
を得た。
は上記方法或いは当業者に明らかなその変法により調製
される。
ポリベンゾキサゾール誘導体の調製を例示する。
拌機及び窒素導入管を備えた100m1の三つ首フラス
コに、例3において調製された3、02g (0,00
5謹01)のジアミン及び2.22g (0,005■
01)の2,2°−ビス−(3,4−ジカルボキシフェ
ニル)へキサフルオロプロパンニ無水物を、32m1の
モノクロロベンゼン及び8mlのN−メチルピロリドン
(NMP)と共に添加した。フラスコの内容物を攪拌下
に90℃まで加熱し、その後0.06gのパラ−トルエ
ンスルホン酸を添加した。混合物を142℃の還流温度
まで加熱し、その後追加の16m1のモノクロロベンゼ
ン及び4mlのNMPを添加した。
せた。20m1のNNPを次いで添加し、モノクロロベ
ンゼンを155℃において留去した。
混合物を用いて沈殿させた。沈殿を水で洗浄し、125
℃で一晩乾燥させた。
てのジメチルアセトアミド中において0.60dl/g
の固有粘度及び37,000の数平均分子量を有する。
上で注型した。この被覆板を例えば70℃71時間、1
00℃/1時間、150℃/1時間、及び250℃/1
時間のオーブン加熱サイクルに付して結合のポリアミン
酸部分を環化させた。
留どまった。均一な柔軟性フィルムが得られた。このフ
ィルムを更に350℃で2時間加熱して、367℃のガ
ラス転移温度を有し、NMP中で不溶性のポリベンゾキ
サゾール−ポリイミドフィルムを得た。
−ジカルボキシフェニル)エーテルニ無水物(OD P
A)を用いる以外は例4の方法を繰返した。これらの
単量体は反応媒体中に3.02g (0,005io+
)のAHHP及び1.55g(0,005■ol)の0
DPAの割合で存在した。
4.4’ベンゾフエノンテトラカルボン酸二無水物(B
TDA)を用いる以外は例4の方法を繰返した。これら
の単量体は反応媒体中に3.02g (0,005so
l)のAHHP及び1.62g (0,005■ol)
のBTDAの割合で存在した。
5−ベンゼンテトラカルボン酸二無水物(、PMDA)
を用いる以外は例4の方法を繰返した。これらの単量体
は反応媒体中に3. 02g(0,0051of)のA
HHP及び1.09g(0,005■ol)のPMDA
の割合で存在した。
4.4’ −ジフェニルテトラカルボン酸二無水物(
BPDA)を用いる以外は例4の方法を繰返した。これ
らの単量体は反応媒体中に3.02g (0,005a
ol)のAHHP及び1.47g (0,005■ol
)のBPDAの割合で存在した。
ビス[2−(3,4−ジカルボキシフェニル)へキサフ
ルオロイソプロピル]ジフェニルエーテルニ無水物(1
2F−DA)を用いる以外は例4の方法を繰返した。こ
れらの単量体は反応媒体中に3.02g (0,005
■ol)のAHHP及び4.73g (0,005■o
l)の12F−DAの割合で存在した。
合体の各々の固有粘度を表1に示す。又、GPCにより
測定された重量平均(M vr)及び数平均(Mn)分
子量、差動走査熱量分析(DSC)により測定されたポ
リアミド−ポリイミド及びポリベンゾキサゾール−ポリ
イミド両重合体のガラス転移温度、及びポリアミド−ポ
リイミド及びポリベンゾキサゾール−ポリイミドフィル
ムから作製されたフィルムの特性も示す。分子量及びガ
ラス転移温度を求めるための特定の技術は同時係属出願
D−1276に開示されるような標準的方法である。そ
の開示内容はここに準用する。表中に用いられる可溶性
という用語は、N−メチルピロリドン(NMP)(並び
に多くの他の通常の溶媒)中の溶解度を意味するのに対
し、不溶性という用語はNMP中における不溶性を意味
する。
ミド(PA−P I)及びポリベンゾキサゾール−ポリ
イミド(PBO−P I)重合体は高いガラス転移温度
を示し、又PA−P Iは溶媒可溶性且つ柔軟性フィル
ムを生成する。ポリベンゾキサゾール形態に転換後、P
BO−PIフィルムは溶媒不溶性となるが、しかし、例
7及び9の重合体を除いてそれらの良好な柔軟性を保持
する。
紡糸されて繊維及びフィラメントを形成する。PA−P
11i合体の通常の有機溶媒中の良好な可溶性により
フィルムは溶媒溶液から注型され、任意にポリベンゾキ
サゾール形態に転換される。そのようなフィルムはプリ
ント回路裏材、絶縁性誘電中間層及び過去において良好
な誘電特性を有する強靭、柔軟性、高温安定性フィルム
が用いられてきたその他の応用において用いられる。
技術を用いて成形されて、安全マスク、風避け、電子回
路基板、飛行機窓などの成形品を製造する。それらはピ
ストンリング、バルブシート、ベアリング及びシールに
有用な自己滑性防摩表面の製造のために黒鉛、黒鉛繊維
、二硫化モリブデン或いはPTFEと配合されてよい。
配合されてジェットエンジン部品などの高強度構造部品
用の成形化合物を製造する。それらは又耐摩耗性材料と
配合されて高温制動部品用の成形化合物を製造するか或
いは高速砥石用のダイヤモンドなどの研磨剤とも配合さ
れる。
包装、モータースロットライナー或いは柔軟性プリント
回路基板として有用なフィルムとして注型されてよい。
の被膜として使用されてよい。それらは又磁性ワイヤー
用高温被膜、各種電子部品用デイツプ被膜、ガラス、金
属及びプラスチック基板上の保護波膜、ワイヤー被膜及
び微小電子加工において有用なフォトレジスト被膜を製
造するためにも有用である。
子回路用の高温接着剤、微小電子応用用の銀或いは金な
どの伝導性充填剤と混合された場合の伝導性接着剤、或
いはガラス金属、或いはプラスチック基板用の接着剤を
製造するためにも用いられる。
ワニス組成物或いはマトリックス樹脂としても用いられ
る。ワニス組成物及びマトリックス樹脂はレードーム、
プリント回路板、放射性廃棄物容器、タービンブレード
、航空宇宙構造部品その他の高温性能、不燃性及び優れ
た電気特性を有する構造部品を製造するために、ガラス
或いは石英布或いは黒鉛或いはホウ素繊維を含浸するた
めに用いられる。
当業者に可能であることが了解されるべきである。従っ
て、本発明はここに開示される実施態様に限定されるも
のでなく、冒頭に掲げられた特許請求の範囲の規定に従
って限定されるものである。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、下記構造の少なくとも1種の繰返し基を含んでなる
ポリアミド−ポリイミド重合体:▲数式、化学式、表等
があります▼ 〔式中、B部分はベンゼン核、4個までのフェニル環を
有するポリフェニル核及びナフタレン核よりなる群から
選ばれた置換或いは未置換四価芳香族基であり、nはジ
メチルアセトアミド中の重合体溶液から25℃にて0.
5重量%の重合体濃度において測定して少なくとも0.
1dl/gの固有粘度を有する重合体を生成するのに十
分な整数であり、AはSO_2、O、S、CO、C_1
〜C_6アルキル、1〜10個の炭素原子を有するパー
フルオロアルキル或いはパーフルオロアリールアルキル
、及び二つの芳香族基を直接に結合する炭素−炭素二重
結合よりなる群から選ばれ、及びRは水素、ヒドロキシ
及びC_1〜C_4アルコキシよりなる群から選ばれる
〕。 2、Rがヒドロキシ或いはC_1〜C_4アルコキシで
ある、請求項1記載の重合体。 3、A基が▲数式、化学式、表等があります▼或いは ▲数式、化学式、表等があります▼フェニルである、請
求項1記載の 重合体。 4、A基が▲数式、化学式、表等があります▼である、
請求 項1記載の重合体。 5、Rがパラであり及びアミド結合がA基に関してメタ
である、請求項4記載の重合体。6、Rがヒドロキシで
ある、請求項5記載の重合体。 7、イミド結合が各アミド結合に関してパラである、請
求項5記載の重合体。 8、B基が▲数式、化学式、表等があります▼である、
請求 項1記載の重合体。 9、Bが1,2,4,5−ベンゼンテトラカルボン酸二
無水物、ビス(3,4−ジカルボキシ−フェニル)エー
テル二無水物、3,3′,4,4′−ベンゾフェノンテ
トラカルボン酸二無水物、3,4′,4,4′−ジフェ
ニルテトラカルボン酸二無水物、2,2−ビス(3,4
−ジカルボキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン二無
水物及び4,4′−ビス〔2−(3,4−ジカルボキシ
フェニル)ヘキサフルオロイソプロピル〕ジフエニルエ
ーテル二無水物よりなる群から選ばれる二無水物の残存
核である、請求項1記載の重合体。 10、Rがヒドロキシであり、Aが ▲数式、化学式、表等があります▼であり、及びRがパ
ラであり 及びアミノ結合がA基に関してメタである、請求項9記
載の重合体。 11、イミド結合が各アミド結合に関してパラである、
請求項10記載の重合体。 12、下記構造の少なくとも1種の繰返し基を含んでな
るポリベンゾキサゾール−ポリイミド重合体であって、
該重合体が請求項2の重合体を環化することにより製造
されることを特徴とする重合体: ▲数式、化学式、表等があります▼ 13、A基が▲数式、化学式、表等があります▼である
、 請求項12記載の重合体。 14、Rがヒドロキシである、請求項13記載の重合体
。 15、Rがパラであり、アミノ結合がA基に関してメタ
である、請求項13記載の重合体。 16、イミド結合が各アミド結合に関してパラである、
請求項13記載の重合体。 17、B基が▲数式、化学式、表等があります▼である
、請 求項13記載の重合体。 18、Bが1,2,4,5−ベンゼンテトラカルボン酸
二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシ−フェニル)エ
ーテル二無水物、3,3′、4,4′−ベンゾフェノン
テトラカルボン酸二無水物、3,4′,4,4′−ジフ
ェニルテトラカルボン酸二無水物、2,2−ビス(3,
4−ジカルボキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン二
無水物及び4,4′−ビス〔2−(3,4−ジカルボキ
シフェニル)ヘキサフルオロイソプロピル〕ジフエニル
エーテル二無水物よりなる群から選ばれる二無水物の残
存核である、請求項13記載の重合体。 19、請求項1記載の重合体の溶媒溶液。 20、請求項1記載の重合体或いは請求項12記載の重
合体を含んでなることを特徴とする乾燥フィルム。
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