JPH03200838A - 新規ポリアミド‐ポリイミド及びポリベンゾキサゾール‐ポリイミド重合体 - Google Patents

新規ポリアミド‐ポリイミド及びポリベンゾキサゾール‐ポリイミド重合体

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JPH03200838A
JPH03200838A JP2059804A JP5980490A JPH03200838A JP H03200838 A JPH03200838 A JP H03200838A JP 2059804 A JP2059804 A JP 2059804A JP 5980490 A JP5980490 A JP 5980490A JP H03200838 A JPH03200838 A JP H03200838A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 発明の背景 1、発明の分野 本発明は改良された熱的安定性、改良された耐溶剤性、
良好な加工性、良好なフィルム形成特性及び良好なフィ
ルム特性を示す新規フッ素含有ポリアミド−ポリイミド
重合体及びそれから誘導されたポリベンゾキサゾール−
ポリイミド重合体に関する。
2、関連技術の説明 芳香族ジアミン及び二無水物単量体から誘導されるポリ
イミド類はそれらの強靭性、低密度、熱的安定性、放射
線耐性、機械的強度及び良好な誘電特性により航空宇宙
産業及び電子産業において広汎に使用されている。しか
しながら、そのようなポリイミド類はしばしば熱的に加
工することが困難であり、それらから製造された薄膜は
しばしば脆く、満足できる光学的透明性に欠ける。
ジアミン及び/又は二無水物単量体中にヘキサフルオロ
イソプロピリデン結合基を有する芳香族ポリイミド類が
、改良された溶解度及び加工特性を有することが示唆さ
れている。例えば、米国特許3,356.648号明細
書は2.2−ビス(4−アミノフェニル)へキサフルオ
ロプロパンから製造されたポリイミド類を開示し、米国
特許4.592.925号明細書は2.2−ビス(3−
アミノフェニル)へキサフルオロプロパンから製造され
たポリイミド類を開示し、米国特許4.111,906
号明細書は2.2−ビス〔4−(4−アミノフェノキシ
)フェニル〕へキサフルオロプロパンから製造されたポ
リイミド類を開示し、米国特許4,477.648号明
細書は2゜2−ビス〔(2−ハロー4−アミノ−フェノ
キシ)フェニル〕へキサフルオロプロパンから製造され
たポリイミド類を開示する。米国特許 4.592.925号明細書は、2.2−ビス(3−ア
ミノフェニル)へキサフルオロプロパン、及び2.2−
ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)へキサフルオロ
ブロバンニ無水物としても知られる4、4′ −へキサ
フルオロイソプロピリデン−ビス(無水フタル酸)を反
応することにより製造されるポリイミド類を開示する。
加えて、米国特許3,179,635号明細書は、四官
能性芳香族二無水物、芳香族ジアミン及び芳香族酸ハロ
ゲン化物を縮合することにより製造される良好な熱的安
定性及び良好なフィルム形成特性を有すると云われるポ
リアミド−ポリイミド重合体の製造を開示する。英国特
許出願GB−2188936A号明細書は2,2−ビス
(3−アミノ−4−ヒドロキシフェニル)へキサフルオ
ロプロパンと芳香族ジカルボン酸或いは酸無水物との縮
合生成物に基づきその後このポリアミドを環化してポリ
ベンゾキサゾールを形成することにより得られるポリア
ミド類及びベンゾキサゾール誘導体の製造を開示する。
米国特許庁に1987年7月21日に出願した本出願人
の同時係属出願5erial No。
076.098号には、好ましい実施態様においてはへ
キサフルオロ−2,2−ビス(3−アミノ−4−ヒドロ
キシフェニル)プロパンと2.2−ビス(3,4−ジカ
ルボキシフェニル)へキサフルオロプロパンニ無水物の
重合体縮合生成物を形成することにより製造されるヒド
ロキシポリイミド重合体が開示されている。これらの重
合体はフォトレジスト組成物の製造において特に有用で
ある。
ところが、上記ポリイミド類、ポリアミド−ポリイミド
及びポリベンゾキサゾール重合体は開示される用途には
有用であるが、しかし優れた熱的及び熱酸化安定性のみ
ならず優れた加工性、優れた耐溶剤性、低水分吸収、低
誘導率及び良好なフィルム形成特性及びフィルム特性を
与えるポリアミド−ポリイミド重合体及びポリベンゾキ
サゾール重合体を提供することが望まれている。
発明の概要 本発明は重合体骨格中に次式を有する新規芳香族ジアミ
ノ化合物の重合体縮合残基を導入した改良された加工性
及びフィルム特性を有するポリアミド−ポリイミド重合
体及びそれから誘導されたポリベンゾキサゾール−ポリ
イミド重合体を提供するものである。
(式中、Aはso   oSs%co、c1〜C62ゝ アルキル、1〜10の炭素原子を有するパーフルオロア
ルキル或いはパーフルオロアリールアルキル、及び二つ
の芳香族基を直接に結合する炭素−炭素二重結合から選
ばれ、及びRは水素、ヒドロキシ及びC1〜C4′7:
ルコキシよりなる群から選ばれる)。
本発明のポリアミド−ポリイミド重合体は一般式Iの化
合物を単独或いはその他の芳香族ジアミン類と混合して
1種以上の芳香族テトラカルボン酸類或いはその無水物
と反応させることにより製造される。そのようなポリア
ミド−ポリイミド重合体のポリベンゾキサゾール−ポリ
イミド誘導体は、Rがヒドロキシ或いはC1〜C4アル
コキシである一般式lの化合物を利用して得られたアル
コキシ或いはヒドロキシ−置換ポリアミド−ポリイミド
を脱水及び環化反応に付してポリベンゾキサゾール−ポ
リイミド重合体を生成させるオキサゾール結合を形成す
ることにより製造される。
発明の詳細な説明 本発明のより好ましい実施態様において一般式I中のR
置換基及びアミド結合はA基に関してメタ或いはパラ位
において互換性であり、アミノ置換基はアミド結合に関
してメタ或いはバラである。
本発明の最も好ましい実施態様においては、Aはヘキサ
フルオロイソプロピリデン基 (CF3−C−CF3)或いは1−フェニル−2゜2.
2−)リフルオロエタン基(CF3−?−フェニル)で
あり、及びRはヒドロキシである。
般式Iの構造を有する化合物は、本願と同日に米国特許
庁に出願された本出願人の同時係属出願D−1278に
開示されており、その出願の開示内容をここに準用する
本発明のポリアミド−ポリイミド重合体の一実施態様は
次の構造式を有する繰返し基を含んでなる重合体として
特徴付けられる: (式中、B部分はベンゼン核、4個までのフェニル環を
有するポリフェニル核及びナフタレン核よりなる群から
選ばれた置換或いは未置換四価芳香族基であり、nはジ
メチルアセトアミド中の重合体溶液から25摂氏度にて
0.5重量%の重合体濃度において測定して少なくとも
0.ldl/gの固有粘度を有する重合体を生成するの
に十分な整数であり、A及びRは式Iと同様である。部
分Bにおいて、カルボニル基の各対は部分Bの環内の隣
接炭素原子に結合されている)。
本発明のもう一つの好ましい実施態様は、次の構造式の
少なくとも一種の繰返し基を含んでなるポリベンゾキサ
ゾール−ポリイミド重合体に関する二 これらのポリベンゾキサゾール重合体は、RがA部分に
関して互換的にメタ或いはパラ位に位置するヒドロキシ
或いはCI  C4アルコキシである一般式■のポリア
ミド−ポリイミド重合体から誘導され、それらはアミド
結合を環化してオキサゾール結合を形成することにより
製造される。
一般式■及び■の重合体の範囲内には又一般式lのジア
ミンと例えば次式により表わされるような少なくとも1
種の異なったジアミンが共重合されるコポリアミド−ポ
リイミド類及びそれから誘導されるポリベンゾキサゾー
ル類が含まれる:(式中、A、B及びnは上記の通りで
ある)。
〔式中、(n)は一般式■の単一縮合端子を表わし、D
はアリール核上に上記の如きRW置換基含有しても或い
はしなくてもよい異なった芳香族ジアミンの残基を表わ
し、B及びnは上記の通りであり、及び(a)及び(b
)は重合体鎖中の各繰返し単位のモル分率に等しい〕。
構造■の好ましい重合体及び共重合体は(a)及び(b
)のモル分率が下記のものである:a=0.01to1
.0 b−0,0toO,99; より好ましくは: a−0,5to1. 0 b−0,0to0. 5 ; 最も好ましくは; a−0,7te1. 0 b−0,0to0.3 一般式■及び■の範囲内のポリアミド−コポリイミド類
及びそれらから誘導されるポリベンゾキサゾール類は又
一般式■のジアミンが下記一般式で表わされるような2
種以上の冗なった芳香族二無水物と共重合される場合に
も製造される:〔式中、B′はBの範鴫の四価芳香族二
無水物を表わすが、しかし、(II)中に存在するB成
分とは異なり、及び(II) 、A% RSa、b及び
nは上記の通りである〕。
RがA部分に関して互換的にメタ及びバラ位に位置する
C1〜C4アルコキシである一般式■及びVの構造に類
似した構造を有するポリベンゾキサゾール類は、アミド
結合を上記の如くオキサゾール結合に環化することによ
り製造される。
本発明において用いるのに適した好ましい二無水物は、
ベンゼン及びナフタレンテトラカルボン酸二無水物及び
次の積構造を有するジフェニルニ無水物である: (式中、Aは一般式■において規定した通りである。最
も好ましい二無水物はAがへキサフルオロイソプロピリ
デン基或いは1−フェニル−2,2゜2−トリフルオロ
エタン基であるものである)。
本発明において用いるのに適したテトラカルボン酸二無
水物の具体例は下記の通りである=1、 2.4. 5
−ベンゼンテトラカルボン酸二無水物; 1、 2. 3.4−ベンゼンテトラカルボン酸二無水
物; 1.4−ビス(2,3−ジカルボキシフェノキシ)ベン
ゼンニ無水物; 1.3−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)ベンゼ
ンニ無水物; 1.2,4.5−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物
; 1、2. 5.6−ナフタレンテトラカルボン酸二無水
物; 1、4. 5.8−ナフタレンテトラカルボン酸二無水
物; 2、3.6. 7−ナフタレンテトラカルボン酸二無水
物; 2.6−シクロロナフタレンー1.4.5.8−テトラ
カルボン酸二無水物; 2.7−シクロロナフタレンー1.4. 5.8−テト
ラカルボン酸二無水物; 2、 3.6.7−チトラクロロナフタレンー1゜4.
5.8−テトラカルボン酸二無水物;3.3’ 、4.
4’  −ジフェニルテトラカルボン酸二無水物; 2、 2’   3. 3’  −ジフェニルテトラカ
ルボン酸二無水物; 4.4′−ビス(3,4−ジカルボキシフェノキシ)ジ
フェニルニ無水物; ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)エーテルニ無水
物; 4.4′−ビス(2,3−ジカルボキシフェノキシ)ジ
フェニルエーテルニ無水物; 4.4′−ビス(3,4−ジカルボキシフェノキシ)ジ
フェニルエーテルニ無水物; ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)スルフィドニ無
水物; 4.4′−ビス(2,3−ジカルボキシフェノキシ)ジ
フェニルスルフイドニ無水物;4.4′−ビス(3,4
−ジカルボキシフェノキシ)ジフェニルスルフイドニ無
水物;ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)スルホン
ニ無水物; 4.4′−ビス(2,3−ジカルボキシフェノキシ)ジ
フェニルスルホンニ無水物; 4.4′−ビス(3,4−ジカルボキシフェノキシ)ジ
フェニルスルホンニ無水物; 3.3’ 4.4’  −ベンゾフェノンテトラカルボ
ン酸二無水物; 2.2’ 、3.3’  −ベンゾフェノンテトラカル
ボン酸二無水物; 2、 3. 3’ 4’  −ベンゾフェノンテトラカ
ルボン酸二無水物; 4.4′−ビス(3,4−ジカルボキシフェノキシ)ペ
ンゾフェノンニ無水物; ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)メタン二無水物
; ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)メタン二無水物
; 1.1−ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)エタン
ニ無水物; 1.1−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)エタン
ニ無水物; 1.2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)エタン
ニ無水物; 2.2−ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)プロパ
ンニ無水物; 2.2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)プロパ
ンニ無水物; 2.2−ビス(4−(2,3−ジカルボキシフェノキシ
)フェニル〕プロパンニ無水物;2.2−ビス[4−(
3,4−ジカルボキシフェノキシ)フェニル]プロパン
ニ無水物;4−  (2,3−ジカルボキシフェノキシ
)4’  −(3,4−ジカルボキシフェノキシ)ジフ
ェニル−2,2−プロパンニ無水物; 2.2−ビス[4−(3,4−ジカルボキシフェノキシ
−3,5−ジメチル)フェニル]プロパンニ無水物; 2、 3.4. 5−チオフェンテトラカルボン酸二無
水物; 2.3,4.5−ピロリジンテトラカルボン酸二無水物
; 2.3,5.6−ピラジンテトラカルボン酸二無水物; 1.8.9.10−フェナントレン−テトラカルボン酸
二無水物; 3.4.9.10−ベリーレンチトラカルボン酸二無水
物; 2.2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)へキサ
フルオロプロパンニ無水物; 1.3−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)へキサ
フルオロブロバンニ無水物; 1.1−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)−1−
フェニル−2,2,2−トリフルオロエタンニ無水物; 2.2−ビス(4−(3,4−ジカルボキシフェノキシ
)フェニル〕へキサフルオロプロパンニ無水物; 1.1−ビス(4−(3,4−ジカルボキシフェノキシ
)フェニル〕−1−フェニル−2,2゜2−トリフルオ
ロエタンニ無水物; 4.4′ −ビス[2−(3,4−ジカルボキシフェニ
ル)へキサフルオロイソプロピル]ジフェニルエーテル
ニ無水物、 及びそれらの混合物。
当業者は上記二無水物化合物のテトラカルボン酸類及び
酸−エステル類を用いてポリイミド類が形成されること
も認識するであろう。これらのテトラカルボン酸類或い
はその誘導体は人手可能であるか或いは公知方法により
製造される。例えば、ここに準用される米国特許3,8
47.867号及び米国特許4,650,850号各明
細書はそれぞれビス(エーテル無水物類)及びビス(ジ
アルキル芳香族エーテル無水物類)の製法を示す。
フッ素含有二無水物の製法は又ここに準用される米国特
許3,310,573号及び米国特許3.649,60
1号各明細書に開示されている。
コポリアミド−ポリイミド共重合体は又上記一般式Iの
ジアミンと次式を有する少なくとも1種の他の芳香族ジ
アミンの混合物を用いても製造される: NH2−D−NH2 (式中、Dは未置換或いはハロゲン、ヒドロキシ、C−
Cアルキル或いはC1〜C4アルコキシ   6 基によって置換されてよいフェニレン、ナフタレン、或
いはビス−フェニレン系化合物の芳香族部分である)。
一般式Iのジアミンの共重合混合物に使用するために適
したジアミン類の具体例としては下記のものが挙げられ
る: m−フェニレンジアミン; p−フェニレンジアミン; 1.3−ビス(4−アミノフェニル)プロパン;2.2
−ビス(4−アミノフェニル)プロパン;4.4′ −
ジアミノ−ジフェニルメタン;1.2−ビス(4−アミ
ノフェニル)エタン;1.1−ビス(4−アミノフェニ
ル)エタン;2.2′ −ジアミノ−ジエチルスルフィ
ド;ビス(4−アミノフェニル)スルフィド;2.4′
  −ジアミノ−ジフェニルスルフィド;ビス(3−ア
ミノフェニル)スルホン;ビス(4−アミノフェニル)
スルホン;4.4′ −ジアミノ−ジベンジルスルホキ
シド;ビス(4−アミノフェニル)エーテル;ビス(3
−アミノフェニル)エーテル;ビス(4−アミノフェニ
ル)ジエーテルシラン:ビス(4−アミノフェニル)ジ
フェニルシラン;ビス(4−アミノフェニル)エチルホ
スフィンオキシト; ビス(4−アミノフェニル)フェニルホスフィンオキシ
ト: ビス(4−アミノフェニル)−N−フェニルアミン; ビス(4−アミノフェニル)−N−メチルアミン; 1.2−ジアミノ−ナフタレン; 1.4−ジアミノ−ナフタレン; 1.5−ジアミノ−ナフタレン; 1、6−シアミツ−ナフタレン; 1.7−シアミツ−ナフタレン; 1.8−ジアミノ−ナフタレン; 2.3−ジアミノ−ナフタレン; 2.6−シアミツ−ナフタレン: 1.4−ジアミノ−2−メチル−ナフタレン;1.5−
ジアミノ−2−メチル−ナフタレン;1、3−ジアミノ
−2−フェニル−ナフタレン;4.4′ −シアミ、ノ
ービフェニル;3.3′ −ジアミノ−ビフェニル; 3.3′−ジクロロ−4,4′ −ジアミノ−ビフェニ
ル: 3.3′ フェニル; 3.4′ フェニル; 3.3′ ビフェニル; 4.4′ −ビス フェニル; 2.4−ジアミノ 2.5−ジアミノ 2.6−ジアミノ 3.5−ジアミノ 1.3−ジアミノ ン; 1゜ −ジメチル−4゜ 〜ジメトキシー4゜ (4−アミノフェノキシ) 一ジメチルー4゜ 4−ジアミノ−2゜ 4′ −ジアミノービ 4′ −ジアミノービ 4′ −ジアミノ− 一ビ ートルエン; 一トルエン; 一トルエン; −トルエン; −2,5−ジクロローベンゼ 5−ジクロローベンゼ 1−メトキシ−2,4−ジアミノ−ベンゼン;1.4−
ジアミノ−2−メトキシ−5−メチル−ベンゼン: 1.4−ジアミノ−2,3,5,6−チトラメチルーベ
ンゼン; 1.4−ビス(2−メチル−4−アミノ−ペンチル)−
ベンゼン; 1.4−ビス(1,1−ジメチル−5−アミノ−ペンチ
ル)−ベンゼン; 1.4−ビス(4−アミノフェノキシ)−ベンゼン; 0−キシリレンジアミン; m−キシリレンジアミン; p−キシリレンジアミン; 3.3′ −ジアミノ−ベンゾフェノン;4.4′ −
ジアミノ−ベンゾフェノン;2.6−シアミツ−ピリジ
ン; 3.5−ジアミノ−ピリジン; 1.3−ジアミノ−アダマンタン; ビス[2−(3−アミノフェニル)へキサフルオロイソ
プロピル]ジフェニルエーテル;3.3′−ジアミノ−
1,1,1’  −シアダマンタン; N−(3−アミノフェニル)−4−アミノベンズアミド
; 4−アミノフェニル−3−アミノベンゾエート;2.2
−ビス(4−アミノフェニル)へキサフルオロプロパン
; 2.2−ビス(3−アミノフェニル)へキサフルオロプ
ロパン; 2− (3−アミノフェニル)−2−(4−アミノフェ
ニル)へキサフルオロプロパン;2.2−ビス(4−(
4−アミノフェノキシ)フェニルヘキサフルオロプロパ
ン; 2.2−ビス(4−(2−クロロ−4−アミノフェノキ
シ)フェニルヘキサフルオロプロパン;1.1−ビス(
4−アミノフェニル)−1−フェニル−2,2,2−)
リフルオロエタン;1.1−ビス(4−(4−アミノフ
ェノキシ)フェニル〕 −1−フェニル−2,2,2−
トリフルオロエタン; 1.4−ビス(3−アミノフェニル)ブタ−1−エン−
3−イン; 1.3−ビス(3−アミノフェニル)ヘキサフルオロプ
ロパン; 1.5−ビス(3−アミノフェニル)デカフルオロペン
タン; 4.4′−ビス(2−(4−アミノフェノキシフェニル
)へキサフルオロイソプロピル〕ジフェニルエーテル; 及びそれらの混合物。
コポリアミド−コポリイミド重合体及びそれから誘導さ
れるポリベンゾキサゾール重合体は、又本発明に従って
上記ジアミン類の混合物及び上記二無水物類の混合物の
両者を反応させることにより製造されてもよい。
本発明のポリアミド−ポリイミド類は、公知の重合技術
、典型的にはパラトルエンスルホン酸などの縮合触媒を
用いる高温溶液縮合法により製造される。適当な溶媒と
しては、N−メチルピロリドン、ガンマ−ブチロラクト
ン、モノクロロベンゼン及びそれらの混合物が挙げられ
る。反応は、好ましくは、実質的に無水条件下において
少なくとも50%、好ましくは少なくとも90%の対応
するポリアミン酸−ポリアミドを与えるのに十分な時間
及び温度において行い、次いでポリアミン酸−ポリアミ
ドをポリアミド−ポリイミドに転換して行うのが好まし
い。そのような転換は適当な脱水剤例えばポリリン酸、
無水酢酸或いはそのベーターピコリンとの混合物などを
ポリアミン酸反応媒体に添加し、該混合物を室温におい
てイミド化が実質的に完結するまで攪拌することにより
達成される。イミド化は又、ポリアミン酸を加熱するか
或いはポリアミン酸の注型フィルムを形成し、このフィ
ルムを段階的に約4時間に亘って約70摂氏度から約2
50摂氏度まで加熱することよっても達成される。
アミド置換基に隣接した芳香族炭素上にヒドロキシC1
−C4アルコキシ置換基を含有するポリアミド−ポリイ
ミド重合体は更に脱水及び環化反応により本発明の対応
するベンゾキサゾール−ポリイミド重合体に容易に転換
される。この反応は、よく知られており、好ましくはア
ミド/ヒドロキシ或いはアミド/アルコキシ置換基を環
化させてオキサゾール結合を形成するのに十分な時間及
び温度でポリアミド−ポリイミド重合体を加熱すること
により達成される。環化の好ましい方法はポリアミド−
ポリイミドを少なくとも約300℃まで少なくとも約1
時間の間に加熱させることである。−船釣に、本発明の
ポリアミン酸前駆体及びポリアミド−ポリイミド重合体
は通常の有機溶媒に可溶性であるのに対し、誘導体ポリ
ベンゾキサゾール重合体は可溶性でない。即ち、フィル
ム或いは複合体などの成形製品が製造される場合には、
先ず所望形状を注型或いは成形し、次いで注型或いは成
形形状を加熱して溶媒不溶性ポリベンゾキサゾールを形
成するのが好ましい。
本発明の最も好ましいポリイミド類は、上記−般式Iの
ジアミンと1. 2.4. 5−ベンゼンテトラカルボ
ン酸二無水物(ピロメリット酸二無水物−PMDAとし
ても知られている)、ビス(3゜4−ジカルボキシ−フ
ェニル)エーテルニ無水物(オキシフタル酸二無水物−
〇DPAとしても知られている) 、3.3’ 、4.
4’  −ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物(
ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物−BTDAと
しても知られている) 、3.4’ 、4.4’  −
ジフェニルテトラカルボン酸二無水物(BPDA) 、
2.2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)へキサ
フルオロプロパンニ無水物(6FDA)、及び4゜4′
 −ビス(2−(3,4−ジカルボキシフェニル)へキ
サフルオロイソプロピル〕ジフェニルエーテルニ無水物
(12FDA)との重合体縮合生成物を形成することに
より製造される。
本発明の好ましい実施態様においては、ジアミン及び二
無水物単量体はほぼ等モル量にて反応させられる。
以下の具体例は本発明を例示するものである。
例   1 下記構造式を有するビス−N、N’  −(パラーニト
ロベンゾイル)−へキサフルオロ−2,2−ビス(4−
ヒドロキシフェニル)プロパンを調製する: 冷却ジャケット及び機械的攪拌機を備えた500m1の
丸底フラスコに30.0g(0,082mol)の2.
2−ビス(3−アミノ−4−ヒドロキシフェニル)へキ
サフルオロプロパン及び400m1のアセトンを仕込ん
だ。混合物をアミノフェニルが溶解するまで攪拌し、そ
の後100m1のアセトンに溶解したバラ−ニトロベン
ゾイルクロライドを30分間にわたって滴加した。
混合物を添加時に20℃未満に維持し、その後混合物を
攪拌しなから2時間35〜40℃に加熱した。30.0
g (0,218mol)の炭酸カリウムを次いで徐々
に添加し、混合物を更に35〜40℃で2時間攪拌した
。熱を除去し、混合物を更に室温で18時間攪拌した。
その後20m1の水及び16m1の水酸化ナトリウム溶
液を激しく攪拌しながら添加し、混合物を50〜55℃
で30分間加熱した。熱を次いで除去し、混合物をビー
カーに移し、pHをHCL (37%)及び500m1
の追加の水を攪拌下に30分間に亘って追加することに
より、6.0〜7.0の範囲に調整した。
この混合物を次いで11cmブフナーフィルター上で濾
過し、沈殿物を水で洗浄し、60〜70℃においてオー
ブン中で乾燥した。ビス−N、N’(バラ−ニトロベン
ゾイル)−へキサフルオロ−2,2−ビス(4−ヒドロ
キシフェニル)プロパンの収率は、理論値の93.6%
であった。
例   2 例1の生成物を次の方法に従って再結晶により精製した
機械的攪拌機を備えた10100Oの丸底フラスコに5
1.ogの例1の粗製生成物、316gのアセトン及び
158gのメタノールを仕込んだ。
混合物を例1の生成物が溶解するまで40〜50℃にお
いて加熱した。混合物を室温まで冷却し、30gのN0
r1teを徐々に添加し、その後混合物を約25分間攪
拌した。混合物を次いで9011ブフナ−漏斗を通過さ
せ、及び少量のアセトン/メタノールの2対1混合物を
濯ぎ液として用いることにより透明化した。透明化溶液
を次いでビーカーに移し、50〜55℃に加熱した。3
00m1の温水道水を溶液に30分間に亘って滴加し、
その後60〜65℃に加熱した。熱から除去後、溶液は
ゆっくり20〜25℃まで冷却され、それにより精製化
合物の沈殿が形成された。混合物を9C11プフナー漏
斗を用いて濾過し、水道水で洗浄し、60〜70℃でオ
ーブン乾燥した。生成物の収率は86.2%の回収率を
示す44gであった。
例   3 本例は例2の精製生成物の還元による゛ビスーN。
N′ −(バラ−アミノベンゾイル)−へキサフルオロ
−2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパンの
調製を例示する。本例により調製された生成物は次の構
造を有する: 1fjのParrボトルに、20.0g (0,03m
ol)の例2の精製生成物、1.0gの炭素上5%パラ
ジウム触媒及び180.4gの酢酸エチルを仕込んでス
ラリーを形成した。このスラリーを窒素ガスを吹込むこ
とにより15分間パージした。
このボトルを次いで気相、液相及び固相の密接な接触を
維持することのできるシェーカー装置に接続し、その後
スラリーを水素ガスで3回パージして圧力密封を確実に
した。シェーカーをスタートさせ、内容物を50〜55
℃に加熱しながら50psi(約3. 5kg/cJ)
の水素ガスに付した。混合物は次いで35分間振盪させ
た。混合物を次いで35℃まで冷却させた。得られたス
ラリーを窒素でパージ後、それを濾過して触媒を除去し
、その後溶媒を蒸発させた。生成物を空気オーブン中に
90℃で乾燥するまで加熱し、17.0gの乾燥生成物
を得た。
その他の本発明の範囲内のジニトロ及びジアミノ化合物
は上記方法或いは当業者に明らかなその変法により調製
される。
以下の具体例はポリアミド−ポリイミド重合体及びその
ポリベンゾキサゾール誘導体の調製を例示する。
例   4 温度計及び冷却器、ディーンスタークトラップ機械的攪
拌機及び窒素導入管を備えた100m1の三つ首フラス
コに、例3において調製された3、02g (0,00
5謹01)のジアミン及び2.22g (0,005■
01)の2,2°−ビス−(3,4−ジカルボキシフェ
ニル)へキサフルオロプロパンニ無水物を、32m1の
モノクロロベンゼン及び8mlのN−メチルピロリドン
(NMP)と共に添加した。フラスコの内容物を攪拌下
に90℃まで加熱し、その後0.06gのパラ−トルエ
ンスルホン酸を添加した。混合物を142℃の還流温度
まで加熱し、その後追加の16m1のモノクロロベンゼ
ン及び4mlのNMPを添加した。
フラスコの内容物を142−145℃で10時間還流さ
せた。20m1のNNPを次いで添加し、モノクロロベ
ンゼンを155℃において留去した。
混合物を次いで室温まで冷却させ、氷/水/メタノール
混合物を用いて沈殿させた。沈殿を水で洗浄し、125
℃で一晩乾燥させた。
得られた重合体は25℃において0.5重量%溶液とし
てのジメチルアセトアミド中において0.60dl/g
の固有粘度及び37,000の数平均分子量を有する。
この重合体は次の構造を有する: υ この重合体をNMP中に溶液を形成し、それをガラス板
上で注型した。この被覆板を例えば70℃71時間、1
00℃/1時間、150℃/1時間、及び250℃/1
時間のオーブン加熱サイクルに付して結合のポリアミン
酸部分を環化させた。
345℃のガラス転移温度を有し、NMP中に可溶性に
留どまった。均一な柔軟性フィルムが得られた。このフ
ィルムを更に350℃で2時間加熱して、367℃のガ
ラス転移温度を有し、NMP中で不溶性のポリベンゾキ
サゾール−ポリイミドフィルムを得た。
例   5 二無水物単量体として6F−DAの代りにビス(3,4
−ジカルボキシフェニル)エーテルニ無水物(OD P
 A)を用いる以外は例4の方法を繰返した。これらの
単量体は反応媒体中に3.02g (0,005io+
)のAHHP及び1.55g(0,005■ol)の0
DPAの割合で存在した。
例   6 二無水物単量体として6F−DAの代りに3゜3’ 、
4.4’ベンゾフエノンテトラカルボン酸二無水物(B
TDA)を用いる以外は例4の方法を繰返した。これら
の単量体は反応媒体中に3.02g (0,005so
l)のAHHP及び1.62g (0,005■ol)
のBTDAの割合で存在した。
例   7 二無水物単量体として6F−DAの代りに1゜2.4.
5−ベンゼンテトラカルボン酸二無水物(、PMDA)
を用いる以外は例4の方法を繰返した。これらの単量体
は反応媒体中に3. 02g(0,0051of)のA
HHP及び1.09g(0,005■ol)のPMDA
の割合で存在した。
例   8 二無水物単量体として6F−DAの代りに3゜4’ 、
4.4’  −ジフェニルテトラカルボン酸二無水物(
BPDA)を用いる以外は例4の方法を繰返した。これ
らの単量体は反応媒体中に3.02g (0,005a
ol)のAHHP及び1.47g (0,005■ol
)のBPDAの割合で存在した。
例   9 二無水物単量体として6F−DAの代りに4゜4′ −
ビス[2−(3,4−ジカルボキシフェニル)へキサフ
ルオロイソプロピル]ジフェニルエーテルニ無水物(1
2F−DA)を用いる以外は例4の方法を繰返した。こ
れらの単量体は反応媒体中に3.02g (0,005
■ol)のAHHP及び4.73g (0,005■o
l)の12F−DAの割合で存在した。
例4〜9において製造されたポリアミド−ポリイミド重
合体の各々の固有粘度を表1に示す。又、GPCにより
測定された重量平均(M vr)及び数平均(Mn)分
子量、差動走査熱量分析(DSC)により測定されたポ
リアミド−ポリイミド及びポリベンゾキサゾール−ポリ
イミド両重合体のガラス転移温度、及びポリアミド−ポ
リイミド及びポリベンゾキサゾール−ポリイミドフィル
ムから作製されたフィルムの特性も示す。分子量及びガ
ラス転移温度を求めるための特定の技術は同時係属出願
D−1276に開示されるような標準的方法である。そ
の開示内容はここに準用する。表中に用いられる可溶性
という用語は、N−メチルピロリドン(NMP)(並び
に多くの他の通常の溶媒)中の溶解度を意味するのに対
し、不溶性という用語はNMP中における不溶性を意味
する。
表1のデータから明らかなように、ポリアミド−ポリイ
ミド(PA−P I)及びポリベンゾキサゾール−ポリ
イミド(PBO−P I)重合体は高いガラス転移温度
を示し、又PA−P Iは溶媒可溶性且つ柔軟性フィル
ムを生成する。ポリベンゾキサゾール形態に転換後、P
BO−PIフィルムは溶媒不溶性となるが、しかし、例
7及び9の重合体を除いてそれらの良好な柔軟性を保持
する。
本発明の重合体は又改良された熱的流動性も示し、溶融
紡糸されて繊維及びフィラメントを形成する。PA−P
 11i合体の通常の有機溶媒中の良好な可溶性により
フィルムは溶媒溶液から注型され、任意にポリベンゾキ
サゾール形態に転換される。そのようなフィルムはプリ
ント回路裏材、絶縁性誘電中間層及び過去において良好
な誘電特性を有する強靭、柔軟性、高温安定性フィルム
が用いられてきたその他の応用において用いられる。
本発明の重合体は圧縮成形成いは射出成形などの標準的
技術を用いて成形されて、安全マスク、風避け、電子回
路基板、飛行機窓などの成形品を製造する。それらはピ
ストンリング、バルブシート、ベアリング及びシールに
有用な自己滑性防摩表面の製造のために黒鉛、黒鉛繊維
、二硫化モリブデン或いはPTFEと配合されてよい。
それらは又ガラス、黒鉛或いはホウ素繊維などの繊維と
配合されてジェットエンジン部品などの高強度構造部品
用の成形化合物を製造する。それらは又耐摩耗性材料と
配合されて高温制動部品用の成形化合物を製造するか或
いは高速砥石用のダイヤモンドなどの研磨剤とも配合さ
れる。
これらのPA−P I重合体は、ワイヤー及びケーブル
包装、モータースロットライナー或いは柔軟性プリント
回路基板として有用なフィルムとして注型されてよい。
それらはアルミニウム或いは二酸化ケイ素などの基板上
の被膜として使用されてよい。それらは又磁性ワイヤー
用高温被膜、各種電子部品用デイツプ被膜、ガラス、金
属及びプラスチック基板上の保護波膜、ワイヤー被膜及
び微小電子加工において有用なフォトレジスト被膜を製
造するためにも有用である。
これらのPA−PI重合体は又航空宇宙構造体或いは電
子回路用の高温接着剤、微小電子応用用の銀或いは金な
どの伝導性充填剤と混合された場合の伝導性接着剤、或
いはガラス金属、或いはプラスチック基板用の接着剤を
製造するためにも用いられる。
これらの重合体は又複合体及びam体を製造するための
ワニス組成物或いはマトリックス樹脂としても用いられ
る。ワニス組成物及びマトリックス樹脂はレードーム、
プリント回路板、放射性廃棄物容器、タービンブレード
、航空宇宙構造部品その他の高温性能、不燃性及び優れ
た電気特性を有する構造部品を製造するために、ガラス
或いは石英布或いは黒鉛或いはホウ素繊維を含浸するた
めに用いられる。
上記本発明の実施態様は例示に過ぎず、あらゆる修正が
当業者に可能であることが了解されるべきである。従っ
て、本発明はここに開示される実施態様に限定されるも
のでなく、冒頭に掲げられた特許請求の範囲の規定に従
って限定されるものである。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、下記構造の少なくとも1種の繰返し基を含んでなる
    ポリアミド−ポリイミド重合体:▲数式、化学式、表等
    があります▼ 〔式中、B部分はベンゼン核、4個までのフェニル環を
    有するポリフェニル核及びナフタレン核よりなる群から
    選ばれた置換或いは未置換四価芳香族基であり、nはジ
    メチルアセトアミド中の重合体溶液から25℃にて0.
    5重量%の重合体濃度において測定して少なくとも0.
    1dl/gの固有粘度を有する重合体を生成するのに十
    分な整数であり、AはSO_2、O、S、CO、C_1
    〜C_6アルキル、1〜10個の炭素原子を有するパー
    フルオロアルキル或いはパーフルオロアリールアルキル
    、及び二つの芳香族基を直接に結合する炭素−炭素二重
    結合よりなる群から選ばれ、及びRは水素、ヒドロキシ
    及びC_1〜C_4アルコキシよりなる群から選ばれる
    〕。 2、Rがヒドロキシ或いはC_1〜C_4アルコキシで
    ある、請求項1記載の重合体。 3、A基が▲数式、化学式、表等があります▼或いは ▲数式、化学式、表等があります▼フェニルである、請
    求項1記載の 重合体。 4、A基が▲数式、化学式、表等があります▼である、
    請求 項1記載の重合体。 5、Rがパラであり及びアミド結合がA基に関してメタ
    である、請求項4記載の重合体。6、Rがヒドロキシで
    ある、請求項5記載の重合体。 7、イミド結合が各アミド結合に関してパラである、請
    求項5記載の重合体。 8、B基が▲数式、化学式、表等があります▼である、
    請求 項1記載の重合体。 9、Bが1,2,4,5−ベンゼンテトラカルボン酸二
    無水物、ビス(3,4−ジカルボキシ−フェニル)エー
    テル二無水物、3,3′,4,4′−ベンゾフェノンテ
    トラカルボン酸二無水物、3,4′,4,4′−ジフェ
    ニルテトラカルボン酸二無水物、2,2−ビス(3,4
    −ジカルボキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン二無
    水物及び4,4′−ビス〔2−(3,4−ジカルボキシ
    フェニル)ヘキサフルオロイソプロピル〕ジフエニルエ
    ーテル二無水物よりなる群から選ばれる二無水物の残存
    核である、請求項1記載の重合体。 10、Rがヒドロキシであり、Aが ▲数式、化学式、表等があります▼であり、及びRがパ
    ラであり 及びアミノ結合がA基に関してメタである、請求項9記
    載の重合体。 11、イミド結合が各アミド結合に関してパラである、
    請求項10記載の重合体。 12、下記構造の少なくとも1種の繰返し基を含んでな
    るポリベンゾキサゾール−ポリイミド重合体であって、
    該重合体が請求項2の重合体を環化することにより製造
    されることを特徴とする重合体: ▲数式、化学式、表等があります▼ 13、A基が▲数式、化学式、表等があります▼である
    、 請求項12記載の重合体。 14、Rがヒドロキシである、請求項13記載の重合体
    。 15、Rがパラであり、アミノ結合がA基に関してメタ
    である、請求項13記載の重合体。 16、イミド結合が各アミド結合に関してパラである、
    請求項13記載の重合体。 17、B基が▲数式、化学式、表等があります▼である
    、請 求項13記載の重合体。 18、Bが1,2,4,5−ベンゼンテトラカルボン酸
    二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシ−フェニル)エ
    ーテル二無水物、3,3′、4,4′−ベンゾフェノン
    テトラカルボン酸二無水物、3,4′,4,4′−ジフ
    ェニルテトラカルボン酸二無水物、2,2−ビス(3,
    4−ジカルボキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン二
    無水物及び4,4′−ビス〔2−(3,4−ジカルボキ
    シフェニル)ヘキサフルオロイソプロピル〕ジフエニル
    エーテル二無水物よりなる群から選ばれる二無水物の残
    存核である、請求項13記載の重合体。 19、請求項1記載の重合体の溶媒溶液。 20、請求項1記載の重合体或いは請求項12記載の重
    合体を含んでなることを特徴とする乾燥フィルム。
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