WO2005118159A1

WO2005118159A1 - 樹脂層形成方法及び樹脂層形成装置、ディスク及びディスク製造方法

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Publication number: WO2005118159A1
Application number: PCT/JP2005/010061
Authority: WO
Inventors: Tomokazu Ito; Hisashi Nishigaki; Tsukasa Kawakami; Haruka Narita; Yoji Takizawa; Takumi Hanada; Munenori Iwami
Original assignee: Shibaura Mechatronics Corporation
Priority date: 2004-06-03
Filing date: 2005-06-01
Publication date: 2005-12-15
Also published as: KR100745635B1; TW200613066A; TWI313195B; US8220410B2; JP3988834B2; US20120076947A1; CN101027138B; JPWO2005118159A1; US8475870B2; US20100275840A1; KR20070012847A; US20080206570A1; US8088438B2; CN101027138A

Abstract

　簡易な手順によって、貼り合せ前の基板上若しくはコーティングされる基板上の樹脂層を均一化できる樹脂層形成方法及び樹脂層形成装置、ディスク及びディスク製造方法を提供する。　基板Ｐを低速回転させながら、内周側に接着剤Ａを塗布し、基板Ｐを高速回転させることにより、基板Ｐの表面に第一の接着剤層ＡＬ１を形成し、第一の接着剤層ＡＬ１の内周側に紫外線を照射して硬化させることにより、基板Ｐの回転中心の周囲に段差部Ｈを形成し、段差部Ｈよりも基板Ｐの回転中心側に、接着剤Ａを塗布し、基板Ｐを高速回転させることにより、第一の接着剤層ＡＬ１の上に第二の接着剤層ＡＬ２を形成する。第一の接着剤層ＡＬ１及び第二の接着剤層ＡＬ２が一体化して、全体として均一な接着層Ｂとなる。

Description

樹脂層形成方法及び樹脂層形成装置、ディスク及びディスク製造方法技術分野

[0001] 本発明は、例えば、光ディスクのような平板状の記録媒体を製造する際に、基板を接着するため若しくはコーティングするために榭脂層を形成する方法に係り、特に、榭脂層の厚みの精度に改良を施した榭脂層形成方法及び榭脂層形成装置、デイスク及びディスク製造方法に関する。

背景技術

[0002] 光ディスクや光磁気ディスク等の光学読み取り式の円盤状記録媒体は、再生専用のものや、記録された情報の書き換えが可能なものなど、多種多様な規格のものが普及している。力かる記録媒体は、基板に形成された記録面を保護したり、記録面の多層化による高密度記録を実現するために、一対の基板を、接着層を介して貼り合せることによって製造されて、る場合が多、。

[0003] このような貼り合わせ型ディスクの製造は、例えば、以下のように行われる。すなわち、 2枚のポリカーボネート製の基板を射出成型し、スパッタ室においてスパッタリングによってレーザ反射用の金属膜 (記録膜)を形成する。そして、 2枚の基板の接合面に、紫外線硬化型の接着剤を塗布し、スピンコートによって接着剤を展延する。スピンコートとは、基板の中心の周囲に接着剤を塗布した後、基板を高速スピンさせることにより、基板上に接着剤による薄い膜 (接着層）を形成するものである。

[0004] このように接着層を形成した一対の基板は、真空室に挿入され、真空中で互いの接着層が貼り合わされる。さらに、互いに貼り合わされた基板を真空室力大気圧に出し、全体に紫外線を照射することにより、接着剤を硬化させる。これにより、 2枚の基板は強固に接着され、ディスクが完成する。

[0005] ところで、上記のように貼り合わされた基板は、情報の読み書きに用いられるレーザがディスクに照射されたときに、安定してスポットが形成されるように、反りや歪みのない平坦なものとする必要がある。従って、力かる光学式のディスクにおいては、貼り合せる際の接着層の膜厚が、できるだけ均一となっていることが望ましい。しかし、上述のようなスピンコートの場合、接着剤は遠心力によって展延していくため、内周部に対して外周部の膜厚が厚くなつてしまい (例えば、 10 m程度）、基板全体で膜厚を均一化させることは困難である。

[0006] これに対処するため、特許文献 1には、 2枚の基板を貼り合わせ、回転させながら内周側にのみ紫外線を照射することによって先に硬化させた後、外周側の接着剤を展延させ、さらに全体に紫外線を照射して硬化させることにより、全体として均一化を図る技術が提案されている。また、特許文献 2には、基板に接着剤を塗布後、回転させながら内周側にのみ紫外線を照射して粘度を部分的に上昇させた後、外周側の接着剤を展延させることにより、全体として均一化を図る技術が提案されている。

[0007] なお、特許文献 3, 4には、均一化の技術とは異なる力遠心力を利用して接着剤を展延させる際に、内周側に凸部が形成されるようにして、完成したディスクを重ねたときにディスク同士の表面の接触が防止されるようにした従来技術が開示されている

[0008] 特許文献 1：特開 2001— 209980号公報

特許文献 2：特開 2003 - 340359号公報

特許文献 3 :特開 2002— 63737号公報

特許文献 4：特開 2004 - 39050号公報

発明の開示

発明が解決しょうとする課題

[0009] し力しながら、特許文献 1の技術は、基板を貼り合せた後に、紫外線の照射及び基板の回転を制御することにより接着層を均一化させるものであるため、そもそも貼り合せ前の基板上の接着剤の厚みが均一でない場合には、貼り合せ時に基板に反りや歪みが生じてしまい、その後の補正が困難となる。内周側を紫外線照射により先に硬化させるといっても、先に硬化して厚みが決定されてしまった内周部分と、未だ硬化していない部分との差異を生じさせないように、照射の範囲、照射時間、回転数等の最適値を設定することは、手間がかかる。現実には、特許文献 1の実施の形態 2に記載されているように、ロット毎に膜厚測定器で測定しながら調整する必要があり、非常に面倒である。 [0010] また、特許文献 2は、貼り合わせのための接着剤塗布ではなぐ表面のコーティング層を形成するためのものであるため、内周側への紫外線照射によって硬化が進行してしまうことになり、貼り合わせる技術に適用することはできない。また、特許文献 1と同様に、照射の範囲、照射時間、回転数等の最適値を設定することは、手間がかかる。そして、特許文献 3, 4は、最終的にディスクの表面に凸部を残すものであるため、均一な塗布とは相容れない。

[0011] 本発明は、上記のような従来技術の問題点を解決するために提案されたものであり

、その目的は、簡易な手順によって、貼り合せ前の基板上若しくはコーティングされる基板上の榭脂層を均一化できる榭脂形成方法及び榭脂形成装置、ディスク及びディスク製造方法を提供することにある。

課題を解決するための手段

[0012] 上記のような目的を達成するため、本発明は、基板の表面に榭脂層を形成する榭脂層形成方法において、前記基板の表面に、榭脂の展延を調整する調整部を形成し、前記基板における前記調整部よりも内側若しくは前記調整部上に、榭脂を塗布し、前記基板を回転させることを特徴とする。

[0013] 以上のような本発明では、基板の回転時における遠心力で榭脂が展延する際に、調整部によって、内周側から外周側へ樹脂の展延が調整されるので、外周側が過度に膜厚となることが防止され、均一な榭脂層を形成できる。

[0014] 好ま、態様では、前記調整部は、前記基板の表面に形成された段差部若しくは硬化部であることを特徴とする。

以上のような態様では、基板の回転時における遠心力で榭脂が展延する際に、あらかじめ形成された段差部若しくは硬化部によって、内周側から外周側へ樹脂が過度に流動することが抑制されるので、簡易な手順で、全体として均一な榭脂層を形成することができる。

[0015] 好ましい態様では、基板の表面に榭脂層を形成する榭脂層形成方法において、前記基板の表面に榭脂を塗布し、前記基板を回転させることにより、前記基板の表面に第一の榭脂層を形成し、前記第一の榭脂層の一部又は全部を硬化させることにより、前記基板の回転中心の周囲に硬化部を形成し、前記硬化部よりも前記基板の回転中心側若しくは前記硬化部上に、榭脂を塗布し、前記基板を回転させることにより、前記第一の榭脂層の上に第二の榭脂層を形成することを特徴とする。

以上のような態様では、第一の榭脂層の形成後に硬化部を形成し、さらに第二の榭脂層を形成するという簡易な手順によって、精度の高い均一化を実現することができる。

[0016] 好まヽ態様では、前記榭脂は紫外線硬化榭脂であり、前記硬化部は、前記基板の一部若しくは全部に、紫外線を照射することにより形成することを特徴とする。以上のような態様では、貼り合せやコーティングに用いる榭脂と同じ材質によって硬化部を形成できるので、特別な材料を用いることなぐ均一な榭脂層の形成が可能となる。

[0017] 好ましい態様では、可動式紫外線照射部を用いて、前記基板の複数箇所に紫外線を照射することにより、複数の硬化部を形成することを特徴とする。

以上のような態様では、複数の硬化部によって、外周への榭脂の展延が抑制されるので、全体として均一な榭脂層を形成できる。

[0018] 好ましい態様では、複数の紫外線照射部を用いて、紫外線を照射することにより、複数の硬化部を形成することを特徴とする。

以上のような態様では、複数の硬化部を形成する際に、複数の紫外線照射部を用いるため、硬化部の形成時間を短縮できる。

[0019] 好ましい態様では、照射範囲が可変の紫外線照射部を用いて、前記基板に紫外線を照射することにより、前記硬化部を形成することを特徴とする。

好ましい態様では、前記紫外線照射部は、照射範囲が可変に構成されていることを特徴とする。

以上のような態様では、種々の状況に応じて、均一な榭脂層が形成されるように、照射範囲を変更することができる。

[0020] 好まヽ態様では、基板の表面に榭脂層を形成する榭脂層形成方法にお！ヽて、前記基板の表面に榭脂を塗布し、前記基板を回転させることにより、前記基板の表面に第一の榭脂層を形成し、前記第一の榭脂層の一部又は全部を硬化させることにより、前記基板の回転中心の周囲に硬化部を形成し、前記硬化部よりも前記基板の回転中心側若しくは前記硬化部上に、榭脂を塗布し、前記基板を回転させることにより、前記第一の榭脂層の上に第二の榭脂層を形成し、前記第一の榭脂層及び前記第二の榭脂層の全体を硬化させた第一の硬化層を形成し、前記第一の硬化層よりも前記基板の回転中心側若しくは前記第一の硬化層上に、榭脂を塗布し、前記基板を回転させること〖こより、第三の榭脂層を形成し、前記第三の榭脂層の全体を硬化させた第二の硬化層を形成し、前記第三の榭脂層及び前記第二の硬化層の形成工程を、複数回繰り返すことを特徴とする。

以上のような態様では、榭脂層の形成と硬化を多数回繰り返すことにより、所望の厚みの層を均一に形成することができる。

[0021] 好ましい態様では、前記第二の榭脂層を形成する際に、加熱することを特徴とする好ましい態様では、前記第三の榭脂層を形成する際に、加熱することを特徴とする

[0022] 好ま、態様では、基板の表面に紫外線硬化型の榭脂を塗布する塗布部と、前記基板を回転させることにより、第一の榭脂層を基板の表面に形成する回転部と、前記基板の回転中心の周囲に紫外線を照射することにより、榭脂を硬化させた硬化部を形成する紫外線照射部と、前記塗布部によって前記硬化部よりも内側若しくは前記硬化部上に塗布された榭脂を、前記回転部によって前記基板を回転させながら加熱する加熱部と、を有することを特徴とする。

以上のような態様では、榭脂層を形成する際に、加熱により粘度が低下するため、流動性が増して膜厚が薄くなり、全体として均一になる。

[0023] 好ま、態様では、加熱範囲が可変の加熱部を用いて、加熱することを特徴とする好ましい態様では、前記加熱部は、加熱範囲が可変に構成されていることを特徴とする。

以上のような態様では、種々の状況に応じて、均一な榭脂層が形成されるように、加熱範囲を変更することができる。

[0024] 好ましい態様では、一対の基板の一方若しくは双方の表面に、上記の榭脂層形成方法により榭脂層を形成し、一対の前記基板を、前記榭脂層を介して貼り合せることを特徴とする。

好ま、態様では、一対の基板が榭脂層を介して貼り合わされたディスクにお、て

、前記一対の基板の少なくとも一方には、貼り合わせる面の中心の周囲に、榭脂の展延を調整する調整部が設けられ、前記榭脂層は、前記調整部よりも内側若しくは調整部上力前記基板の外縁まで展延されていることを特徴とする。

以上のような態様では、接着層となる榭脂層の展延が調整されて、均一となるので、中間層が均一で、反りの少ないディスクを製造できる。

[0025] 好ましい態様では、紫外線硬化型の樹脂が塗布された基板を回転させることにより、前記基板の表面に第一の榭脂層を形成する第一の回転部と、前記第一の榭脂層の一部に紫外線を照射することにより、前記基板の回転中心の周囲を硬化させた硬化部を形成する紫外線照射部と、前記硬化部の内側若しくは前記硬化部上に紫外線硬化型の樹脂が塗布された前記基板を回転させることにより、前記第一の榭脂層の上に第二の榭脂層を形成する第二の回転部と、を有することを特徴とする。

以上のような態様では、一方の基板への第一の榭脂層の形成と、他方の基板への第二の榭脂層の形成とを、第一と第二の回転部において同時並行的に行うことができるので、製品を効率良く量産できる。

発明の効果

[0026] 以上、説明したように、本発明によれば、簡易な手順によって、貼り合せ前の基板上若しくはコーティングされる基板上の榭脂層を均一化できる榭脂層形成方法及び榭脂層形成装置、ディスク及びディスク製造方法を提供することができる。

図面の簡単な説明

[0027] [図 1]本発明の第 1の実施形態を実現する装置例を示す簡略構成図である。

[図 2]図 1の実施形態による接着層形成工程を示すフローチャートである。

[図 3]図 1の実施形態による第一の接着剤塗布工程を示す説明図である。

[図 4]図 1の実施形態における基板上の第一の接着剤層を示す縦断面図である。

[図 5]図 1の実施形態における紫外線照射部による段差部形成工程を示す説明図である。圆 6]図 1の実施形態における基板上の段差部を示す縦断面図である。

圆 7]図 1の実施形態における第二の接着剤塗布工程を示す説明図である。

圆 8]図 1の実施形態における基板上の第一及び第二の接着剤層を示す縦断面図である。

圆 9]図 1の実施形態における貼り合わせ後の段差部の位置関係を示す説明図である。

[図 10]本発明と従来技術との接着層の均一性を測定した実験結果を示す説明図である。

[図 11]本発明の第 2の実施形態を実現する装置例を示す簡略構成図である。

圆 12]図 11の実施形態における第二の接着層の展延塗布工程を示す説明図である圆 13]図 11の実施形態における基板の貼り合せ工程を示す説明図である。

圆 14]接着層が厚い場合の基板の貼り合せ工程を示す説明図である。

[図 15]本発明の第 3の実施形態を実現する装置例を示す簡略構成図である。

圆 16]図 15の実施形態における基板の貼り合せ工程を示す説明図である。

圆 17]本発明の第 4の実施形態における段差部形成工程を示す説明図である。圆 18]図 17の実施形態における第二の接着層の塗布工程を示す説明図である。圆 19]図 17の実施形態における第二の接着層の展延工程を示す説明図である。圆 20]図 17の実施形態における貼り合せ後の紫外線照射工程を示す説明図である圆 21]従来例における内外周の接着剤のひけを示す説明図である。

圆 22]本発明の第 5の実施形態における第二の接着層の展延工程を示す説明図である。

圆 23]本発明の第 6の実施形態における硬化部の形成工程を示す説明図である。圆 24]図 23の実施形態における第二の榭脂層の展延工程を示す説明図である。圆 25]図 23の実施形態における第一及び第二の榭脂層の硬化工程を示す説明図である。

圆 26]図 23の実施形態における第三の榭脂層の展延工程を示す説明図である。 [図 27]図 23の実施形態と未加熱の例との榭脂層の均一性を測定した実験結果を示す説明図である。

圆 28]同心円状に段差部を形成した基板を示す平面図である。

圆 29]図 28の段差部を形成する紫外線照射部を示す簡略構成図である。

[図 30]図 28の段差部を示す縦断面図である。

圆 31]複数の段差部を形成する複数の紫外線照射部を示す簡略構成図である。

[図 32]複数の段差部を形成する複数の紫外線発光 LEDを示す簡略構成図である。圆 33]紫外線若しくは赤外線照射範囲変更用のスライド筒を示す説明図である。圆 34]紫外線若しくは赤外線照射範囲変更用のシャツタを示す説明図である。圆 35]紫外線若しくは赤外線照射範囲変更用のレンズを示す説明図である。

圆 36]接着剤展延前に段差部を形成した基板を示す縦断面図である。

圆 37]図 36の基板に接着剤を展延した状態を示す縦断面図である。

符号の説明

1· ··ターンテープノレ

2…接着剤塗布部

3, 31· ··紫外線照射部

31a…光源

31b…光ファイバ

32…遮光板

40…加熱部

A…接着剤

AL1…第一の接着剤層

AL2…第二の接着剤層

B…接着層

C…空間

G…グラフ

H…段差部

I…硬化部 Κ1· ··スライド筒

Κ2· ··シャツタ

Κ3· ··レンズ

Ρ· ··基板

QL1…第一の榭脂層

QL2…第二の榭脂層

QL3…第三の榭脂層

R…記録膜

U…スポット径

υν···紫外線

V…照射高

W…段差幅

问

Υ, Ζ· ··距離

rl〜r3…半径

発明を実施するための最良の形態

[0029] 次に、本発明の実施の形態について、図面を参照して具体的に説明する。

[第 1の実施形態]

[装置の構成]

まず、第 1の実施形態に使用する榭脂層形成装置 (以下、本装置と呼ぶ)の構成を、図 1を参照して説明する。なお、本装置は、ディスクの製造装置の一部を構成するものであり、本装置の上流工程に配設される基板の成型装置及び金属膜の形成装置、本装置の下流工程に配設される基板の貼合装置及び紫外線照射による硬化装置、さらに各装置間で基板を受け渡す機構等については、公知のあらゆる技術を適用可能であり、説明を省略する。

[0030] すなわち、本装置は、図 1に示すように、ディスク用の基板 Pが載置されるターンテ一ブル 1と、基板 P上に接着剤を塗布する接着剤塗布部 2と、接着剤に紫外線を照射する紫外線照射部 3とを有している。ターンテーブル 1は、円板状の基板 Pがー枚づっ載置されて装着され、回転する装置である。接着剤塗布部 2は、図示しない接着剤タンクから供給される紫外線硬化型の接着剤を、基板 Pの内周側に塗布するノズルである。この接着剤塗布部 2は、基板 P上の所望の位置に接着剤を塗布できるように、基板 Pの径方向に走査可能に設けられている。紫外線照射部 3は、基板 P上に展延された接着剤の内周近傍に紫外線をスポット照射して、接着剤の一部を環状に硬化させる光源である。紫外線照射部 3も、基板 P上の所望の位置を照射できるように、基板 Pの径方向に走査可能に設けられている。

[0031] なお、ターンテーブル 1の回転及び速度調整、接着剤塗布部 2の接着剤滴下及び移動、紫外線照射部 3の発光及び移動等は、それぞれの駆動機構の動作タイミングを、制御装置によって制御することにより行われる。この制御装置は、例えば、専用の電子回路若しくは所定のプログラムで動作するコンピュータ等によって実現できる。従って、以下に説明する手順で本装置の動作を制御するためのコンピュータプロダラム及びこれを記録した記録媒体も、本発明の一態様である。

[0032] [接着層の形成]

以上のような本装置によって、基板 P上に接着層を形成する方法を、図 2のフローチャート、図 1、図 3〜9の説明図を参照して説明する。すなわち、図 1に示すように、前工程において記録膜 Rが形成された基板 Pは、その記録膜 Rを上にして、ターンテ一ブル 1上に載置され、装着される（ステップ 201)。そして、ターンテーブル 1を作動させることによって、基板 Pを低速回転させる (ステップ 202)。低速回転の速度は、例えば、 20〜400rpmとすることが考えられる力この値には限定されない。このように低速回転する基板 Pにおける記録膜 Rよりも内周側に、図 3に示すように、接着剤塗布部 2から接着剤 Aを滴下する (ステップ 203)。これにより、基板 Pの中心の周囲に、接着剤 Aが環状に塗布される。

[0033] このような接着剤 Aの塗布後に、ターンテーブル 1によって基板 Pを高速回転させる

(ステップ 204)。高速回転の速度は、例えば、 300〜10000rpmとすることが考えられるが、この値には限定されない。この高速回転によって接着剤 Aが外周方向へ展延されて振り切られると、図 4に示すように、記録膜 Rを覆う第一の接着剤層 AL1が形成される (ステップ 205)。このとき、上述した従来技術と同様に、第一の接着剤層 AL1は、その断面が内周側力外周側に行くに従って隆起した形状となる。

[0034] 次に、図 5に示すように、回転する基板 Pにおける第一の接着剤層 AL1の内周側（例えば、記録膜 Rよりも内側）に、紫外線照射部 3によって、紫外線をスポット照射する (ステップ 206)。すると、図 6に示すように、紫外線を照射した環状の部分のみが選択的に硬化して、その硬化部分が基板 Pの表面力隆起した段差部 Hが形成される (ステップ 207)。このときの照射時間は、硬化に十分な時間であれば、第一の接着剤層 AL1の厚み等に応じて自由に変更可能であるが、例えば、基板 Pを一周若しくは数周回転させる間、照射することが考えられる。さらに、ターンテーブル 1によって、基板 Pを低速回転させる (ステップ 208)。そして、図 7に示すように、接着剤塗布部 2 によって、段差部 Hよりも内側に接着剤を滴下することにより、基板 Pの段差部 Hの内周における第一の接着剤層 AL1の上若しくは第一の接着剤層 AL1の内周に、接着剤 Aが環状に塗布される (ステップ 209)。

[0035] このような接着剤 Aの塗布後に、ターンテーブル 1によって基板 Pを高速回転させる。この高速回転によって接着剤 Aが外周方向へ展延されて振り切られると、図 8に示すように、第一の接着剤層 AL1の上に第二の接着剤層 AL2が形成される (ステップ 210)。このとき、未硬化の第一の接着剤層 AL1と第二の接着剤層 AL2とが一体ィ匕して、内周から外周にかけて均一な膜厚の接着層 Bが形成される (ステップ 211)。

[0036] 以上のような工程を経て、それぞれ接着層 Bが形成された一対の基板 Pは、図 9に示すように、貼合装置においてその接着層 Bを挟んで貼り合わされ、硬化装置において全面に紫外線が照射されることにより、接着層 Bが硬化される。これにより、内部に 2層の記録膜 Rを有するディスクが形成される。なお、一対の基板 Pの段差部 Hの位置は貼り合わせ時に対向しないように、紫外線照射部 3の位置を調整することが望ましい。また、張り合わせる一対の基板 Pは、双方に接着層 Bが形成されていても、一方にのみ接着層 Bが形成されて、てもよ、。

[0037] [実施例]

以上のような本発明の実施形態による実験結果を、図 5、図 6、図 9及び 10に従つて説明する。本実験は、例えば、少なくとも半透明層と反射層の 2層の記録膜を有する DVD等のための貼り合せ基板を製作したものであり、半透明層を形成した基板と全反射層を形成した基板を貼り合せ、その接着層の厚みを測定したものである。

[0038] まず、上記のように、記録膜 Rを形成した基板 Pに第一の接着剤層 AL1を展延した後、図 5に示すように、紫外線照射によって段差部 Hを形成した。段差部 Hの形成のための紫外線照射の条件は、以下の通りである。すなわち、照射時の基板 Pの回転数を 60rpmとし、紫外線照射部 3の照射口付近での照度を約 1000mWZcm²、照射する波長を 365mm、照射時間を Is (—周分)とした。また、紫外線照射部 3のスポット径 Uは約 5mm、照射高 Vは約 5mmとした。このような紫外線照射により、図 6に示すように、段差幅 Wが約 5mm、段差高 Xが約 10 mの段差部 Hを形成した。そして、上記のように第二の接着剤層 AL2を展延することにより、接着層 Bを形成した。

[0039] 同様の条件で、中心からの距離が異なる位置に段差部 Hを形成し、接着層 Bを形成した基板 Pを製作し、図 9に示すように、両基板 Pを、その接着層 B同士が合わさるように貼り合せた。なお、図中の上側の記録膜 Rが半透明層、下側の記録膜 Rが全反射層であり、上側の段差部 Hは中心力もの距離 Yが 31mm、下側の段差部 Hは中心からの距離 Zが 22mmである。

[0040] このような貼り合せ硬化後のディスクにおける接着層の厚みを測定した結果力図 1 0である。比較例として用いたものは、段差部を形成せず、従来の高速スピンによる展延のみで接着層を形成し、貼り合せたものである。図 10の横軸はディスクの中心力もの距離、縦軸は 20ミクロンを 0とした場合の接着層の厚みの差を示す。この測定結果によれば、段差部を設けた場合には、記録面を包含する 24mn！〜 55mmの間の膜厚の範囲は約 19〜21 /ζ πιとなり、その格差はほぼ 2 /ζ πι(± 1)に収まっている。これに対して、段差部のない従来の方法による場合には、記録面を包含する 24mm 〜55mmの間の膜厚の範囲は約 17〜21 μになり、その格差は約 4 (— 3〜+ 1) μ mという広がりを有している。

[0041] [効果]

以上のような本実施形態によれば、第一の接着剤層 AL1の内周部に硬化した段差部 Hを形成した上で、第二の接着剤層 AL2を形成することにより、基板 Pの高速回転時における遠心力で、内周側力外周側へ接着剤が過度に流動することが抑制される。従って、簡単な手順で、貼り合せ前の基板 Pに接着層 Bを均一に展延させることができるとともに、基板 Pを貼り合せた後には、特別の工程を経なくとも、ディスクの厚みを均一化させることができ、反りや歪みのな、製品を短時間で量産できる。

[0042] 特に、紫外線照射は、段差部 Hの形成のためのスポット照射、貼り合せ後の全体照射のみで済むので、貼り合せ後の基板 Pに対する紫外線照射によって内周側から外周側に力 4ナて段階的に硬化させたり、粘度を変化させるといった手間や時間がかからず、一定の品質の製品を効率よく量産できる。さらに、紫外線照射部 3のスポット径や照射時間を変更すれば、段差部 Hの高さ、幅、位置、数、硬化の程度等が変化するので、これにより接着層 Bの厚みを調整することもでき、生産ロット毎のディスクの品質を容易に変更、補正等できる。

[0043] [第 2の実施形態]

[装置の構成]

第 2の実施形態に使用する榭脂層形成装置 (以下、本装置と呼ぶ)の構成を、図 1 1を参照して説明する。なお、本装置は、基本的には、上記の第 1の実施形態と同様の構成であるが、紫外線照射部 31が、光源 3 laから光ファイバ 3 lbを介して導かれた紫外線 UVを、比較的広範囲で照射できるように、基板 Pの搬送の邪魔にならない程度の高さ（例えば、 50〜200mm程度）に配置されている。これにより、紫外線 UV が広がり、基板 Pの中心力ら径方向に 0〜35mm程度の間の範囲が照射範囲となる。なお、照射範囲は、径方向に 50mm以内に抑えることが望ましいが、必ずしもこの値には限定されず、固定とせずに可変とすることも可能である。また、図 11の上部に示したグラフ Gは、紫外線 UVの強度分布であり、横軸は水平方向の照射位置、縦軸が紫外線強度を示す。なお、 laはターンテーブル 1を回転させる駆動部である。

[0044] [接着層の形成]

以上のような本装置によって、基板 P上に接着層を形成する方法を、図 11〜13の説明図を参照して説明する。なお、上記の第 1の実施形態と同様の手順は、説明を簡略化する。すなわち、図 11に示すように、前工程において記録膜 Rが形成された基板 Pは、ターンテーブル 1上に載置され、第一の接着剤層 AL1が形成される。次に、紫外線照射部 31によって、第一の接着剤層 AL1の内周側から比較的広い範囲に、紫外線 UVを照射する。 [0045] すると、紫外線 UVを照射した部分のみが選択的に硬化して、その硬化部分が基板 Pの表面力隆起した段差部 Hが、比較的広範に形成される。基板 P上での照射強度は、照射光中心が強ぐ外周にいくにつれて、強度は弱まる。強度が強い部分では、完全に硬化されるが、外周に行くにつれて、接着剤 Aの酸素阻害の影響を受け、表面が固まらず、内部が固まる。このため、外周に向力つて、内部がだんだん硬化しなくなるので、段差部 Hは緩やかな傾斜がっ、て形成される。

[0046] そして、図 12に示すように、接着剤塗布部 2によって、段差部 Hの上に接着剤 Aを滴下しながら、ターンテーブル 1を低速回転させることにより、基板 Pの段差部 Hの内周における第一の接着剤層 AL1の上に、接着剤 Aが環状に塗布される。このような接着剤 Aの塗布後に、ターンテーブル 1によって基板 Pを高速回転させる。この高速回転によって、接着剤 Aが外周方向へ展延されて振り切られると、第一の接着剤層 A L1の上に第二の接着剤層 AL2が形成される。

[0047] このとき、図 13に示すように、未硬化の第一の接着剤層 AL1と第二の接着剤層 AL 2とが一体ィ匕して、内周から外周にかけて均一な膜厚の接着層 Bが形成される。このように均一となる要因は、接着剤 Aが展延されるときに、段差部 H上の表面が流動性を低下させることによる。つまり、接着剤 Aが硬化している段差部 Hの部分は、表面の硬化ムラによって、流動性が低下することが、均一な膜厚に寄与しているのである。また、接着剤 Aが硬化反応中には、この表面に付着された接着剤 Aにも硬化反応を及ぼすことも、流動性が低下する要因となる。そして、段差部 Hは傾斜が緩いため、基板 P上の位置による接着層 Bの厚みの格差は少なくなる。さらに、段差部 Hの厚みが確保されていることは、内周の薄い部分を嵩上げする効果もあり、これらの要因が相俟つて均一性が実現できる。

[0048] 以上のような工程を経て、それぞれ接着層 Bが形成された一対の基板 Pは、図 13に示すように、貼合装置においてその接着層 Bを挟んで、真空中で貼り合わされる。接着層 Bの厚みの格差が少ないため、貼り合せ時に生じる空間 Cは非常に薄くなり、大気圧に戻すと、接着層 Bの流動によって圧縮、消泡される。

[0049] [効果]

以上のような本実施形態によれば、上記の第 1の実施形態と同様の効果が得られるとともに、接着層 Bが厚くなる場合でも、気泡の残存を抑えて、歩留まりを向上させることができる。例えば、図 14に示すように、段差部 Hの傾斜が急であり、接着層 Bが厚くなる場合には、接着層 Bの厚みの格差 Sが大きくなり、貼り合せ時に生じる空間じが大きくなるので、圧縮、消泡に時間がかかるが、本実施形態では、この時間が短縮される。

[0050] また、基板 Pを回転させずに、段差部 Hを形成できるので、手順が簡単となる。さらに、紫外線をスポット照射するために基板 Pに近づけるための機構や動作が不要となるため、装置が簡略化され、コストを低減できる。

[0051] [第 3の実施形態]

[装置の構成]

第 3の実施形態に使用する榭脂層形成装置 (以下、本装置と呼ぶ)の構成を、図 1 5を参照して説明する。なお、本装置は、基本的には、上記の第 2の実施形態と同様の構成であるが、紫外線照射部 31の近傍に、遮光板 32が配設されている。この遮光板 32は、基板 Pの径方向の 15mm以内への紫外線 UVの照射を遮断するものであり、これにより、照射範囲が、径方向に 15〜50mmとなるように設定されている（この範囲には必ずしも限定されない)。また、図 15の上部に示したグラフは、図 11と同様に、紫外線 UVの強度分布である。

[0052] [接着層の形成]

以上のような本装置によって、基板 P上に接着層を形成する方法を、図 15及び図 1 6の説明図を参照して説明する。なお、上記の第 2の実施形態と同様の手順は、説明を省略する。すなわち、図 15に示すように、紫外線照射部 31によって、第一の接着剤層 AL1に対して、紫外線 UVを照射すると、遮光板 32によって、径方向の 15mm 以内への照射が遮られるので、 15〜50mmの部分のみが選択的に硬化した段差部 Hが形成される。この段差部 Hの外周側は、第 2の実施形態と同様に、緩やかな傾斜がついて形成される。

[0053] そして、接着剤塗布部 2によって、段差部 Hよりも内側に接着剤 Aを滴下して環状に塗布した後に、高速回転によって、接着剤が外周方向へ展延されて振り切られると、図 16に示すように、第一の接着剤層 AL1の上に第二の接着剤層が形成され、これがー体ィ匕して、内周から外周にかけて均一な膜厚の接着層 Bが形成される。このように均一となる要因は、上記の第 1の実施形態と第 2の実施形態の要因と同様である。

[0054] 以上のような工程を経て、それぞれ接着層 Bが形成された一対の基板 Pは、図 16に示すように、貼合装置においてその接着層 Bを挟んで、真空中で貼り合わされる。接着層 Bの厚みの格差が少ないため、貼り合せ時に生じる空間 Cは非常に薄くなり、大気圧に戻すと、接着層 Bの流動によって圧縮、消泡される。

[0055] [効果]

以上のような本実施形態によれば、上記の第 2の実施形態と同様の効果が得られるとともに、段差部 Hの内側への接着剤の塗布によって、外周への流動がさらに抑制されるので、膜厚の均一化が実現しやすくなる。

[0056] [第 4の実施形態]

[装置の構成]

第 4の実施形態に使用する榭脂層形成装置 (以下、本装置と呼ぶ)の構成を、図 1 7、 19を参照して説明する。なお、本装置は、基本的には、上記の第 1の実施形態と同様の構成であるが、図 17に示すように、紫外線照射部 3が、基板 Pの径方向にあらかじめ多数配設されている。また、基板 Pの外周側には、図 19に示すように、ヒータ若しくは赤外線照射装置等の加熱部 40が配設されてヽる。

[0057] [接着層の形成]

以上のような本装置によって、基板 P上に接着層を形成する方法を、図 17〜20の説明図を参照して説明する。なお、上記の第 1の実施形態と同様の手順は、説明を簡略化する。すなわち、図 17に示すように、前工程において記録膜 Rが形成された基板 Pは、ターンテーブル上に載置され、第一の接着剤層 AL1が形成される。次に、基板 Pを回転させながら、複数の紫外線照射部 3から、紫外線を同時に照射することにより、環状の段差部 Hを同心円上に複数形成する。

[0058] そして、図 18に示すように、接着剤塗布部 2によって、段差部 Hの上に接着剤 Aを滴下することにより、基板 Pの段差部 Hの内周における第一の接着剤層 AL1の上に、接着剤 Aが環状に塗布される。このような接着剤 Aの塗布後に、ターンテーブル 1 によって基板 Pを高速回転させる。このとき、図 19に示すように、加熱部 40によって基板 Pの外周部を加熱する。すると、高速回転によって、接着剤 Aが外周方向へ展延されて振り切られ、第一の接着剤層 AL1の上に第二の接着剤層 AL2が形成される。同時に、外周部が加熱されて接着剤 Aの粘度が低下するため、流動性が増して、膜厚が薄くなる。

[0059] これにより、図 20に示すように、未硬化の第一の接着剤層 AL1と第二の接着剤層 AL2とが一体ィ匕して、内周から外周にかけて均一な膜厚の接着層 Bが形成され、それぞれ接着層 Bが形成された一対の基板 Pが、貼合装置においてその接着層 Bを挟んで、真空中で貼り合わされる。そして、紫外線 UVの全面照射によって、接着層 Bが硬化される。

[0060] [効果]

以上のような本実施形態によれば、上記の第 1の実施形態と同様の効果が得られるとともに、複数の段差部 Hを形成することにより、外周側への接着剤 Aの流動をより一層抑制することができる。さらに、外周側を加熱することにより、外周側の膜圧を薄くすることができるので、均一化を実現しやすくなる。

[0061] [第 5の実施形態]

第 5の実施形態は、接着剤と基板との端部の界面に生じるひけ (部分的な剥がれ）を防止するものである。すなわち、図 21に示すように、スピンコートによって基板 P上に接着層 Bを形成すると、矢印に示すように、基板 Pや記録膜 Rの材質によっては、接着層 Bの収縮等により、内外周にひけが生じやすくなる。かかるひけは、接着層 B の不均一 (膜厚ムラ)や、気泡発生などの問題を生じさせる。

[0062] そこで、本実施形態では、図 22に示すように、接着層を形成する。すなわち、スピンコートによって第一の接着剤層 AL1を形成した後、全面若しくは内外周部に紫外線 UVを照射する。すると、第一の接着剤層 AL1の一部が硬化した硬化部 Iとなる。なお、第一の接着剤層 AL1の硬化は、その底面部 (基板 Pとの接触面側)から硬化する。これは、空気に触れている表面に近い部分は、酸素が存在し、紫外線硬化を阻害する力である。

[0063] このように、硬化部 Iを形成した第一の接着剤層 AL1の上部に、再度接着剤を塗布し、スピンコートによって第二の接着剤層 AL2を形成する。このような接着剤塗布と硬化を複数回繰り返すことにより、均一な接着層 Bが形成された基板を貼り合せ、紫外線を照射することにより、ディスクを完成させる。

[0064] 以上のような本実施形態によれば、あらかじめ基板 Pに展延させた接着剤を硬化させるので、基板 Pと接着剤とが乖離せず、ひけを防止できる。そして、ある程度だけ硬化した接着剤の表面に、重ねて接着剤を展延させるので、接着剤同士の親和性が大きぐその後のひけも生じない。また、展延時の外周への流動も抑制されるので、膜圧の均一化が実現しやすくなる。

[0065] [第 6の実施形態]

上記の実施形態は、一対の基板を貼り合せる接着層（中間層）の形成に関するものであるが、これを、基板の表面のカバー層（コーティング層、保護層）の均一化に用いてもよい。つまり、上記の各実施形態において、基板に 2度若しくはそれ以上 (n層）重ねて榭脂を展延させて硬化させることにより、均一なカバー層を形成することができる。

[0066] そこで、力かる複数回の榭脂の展延によってカバー層を形成する実施形態を、以下に説明する。なお、本実施形態は、カバー層の均一化の精度を高めるために、赤外線照射による加熱も行う。

[工程 α ]

まず、最初の工程 αについて説明する。すなわち、図 23に示すように、低速回転する基板 Ρに対して榭脂を滴下塗布して、高速回転のスピンコートによって第一の榭脂層 QL1を形成する。使用榭脂は、例えば、粘度 430cpである（以下同様)。榭脂の滴下と回転条件は、例えば、 0. 2MPa X 0. 15s、 400rpm X 1回転とする。スピンコートの回転条件は、例えば、 10000rpm X 2sとする。

[0067] その後、内周部に紫外線 UVを部分照射することにより、一部を硬化させる（図中黒色部分)。条件としては、例えば、基板 Pの回転数が 300rpm、紫外線照射部 31の位置が基板 Pの中心からの半径 rl =約 15mm、高さ h=約 50mm、照射条件は 1500 mWZcm² X ls、照射範囲の外周は半径 r2=約 23mmとする。

[0068] さら〖こ、図 24に示すように、低速回転する基板 Pに対して榭脂を滴下塗布して、高速回転のスピンコートによって第二の榭脂層 QL2を形成する。榭脂の滴下と回転条件は、例えば、 0. 2MPa X 0. 5s、 120rpm X 1回転とする。スピンコートの回転条件は、例えば、 lOOOOrpm X Isとする。そして、図 25に示すように、 Nパージし、全面

2

に紫外線を照射できる位置に紫外線照射部 31を移動させて (若しくは基板 Pを全面照射可能な別場所に移動させて)、紫外線を照射することにより、全体を硬化させる。照射条件としては、例えば、 50mWZcm² X 5sとする。このように、工程 αでは、 2度塗りによって、例えば、 15 m程度の層が形成される。

[0069] [工程 j8 ]

次に、上記の工程 αに続いて、繰り返し行われる工程 j8について説明する。すなわち、図 26に示すように、工程 αにおいて硬化した層が形成された基板 Pに対して、低速回転させて榭脂を滴下塗布し、高速回転のスピンコートによって第三の榭脂層 QL 3を形成する。このとき、赤外線照射装置である加熱部 40によって、加熱しながら榭脂を展延させる。榭脂の滴下と回転条件は、例えば、 0. 2MPa X 0. 5s、 120rpm X 1回転とする。スピンコートの回転条件は、例えば、 9000rpm X Isとする。加熱部 40 は、例えば、 350W、 900〜3000nmの仕様の赤外線照射装置を用いる。照射条件は、高さ h=約 50mmから、基板 Pの中心からの半径 r3 =約 40mmの位置から、 r4 =約 12mm以内の範囲で行うものとする。

[0070] そして、図 25と同様に、 Nパージし、紫外線照射部 31によって全面に紫外線を照

2

射することにより、全体を硬化させる。照射条件としては、例えば、 50mW/cm² X 5s とする。これにより、例えば、約 15 m程度の層が形成される。このような工程 βを 6 回繰り返すことにより、前工程 αの約 15 mmの層と合わせて、最終的に、約 100 m程度のカバー層が形成される。

[0071] [効果]

以上のような本実施形態によれば、工程 αと、繰り返し行われる工程 j8とによって、全体として均一なカバー層を、所望の厚みに形成することができる。特に、工程 j8において、加熱工程を含むことは、加熱を行なわない場合に比べて、ディスクの半径方向の厚みの相違幅を著しく小さくすることができる。これは、上記のような条件設定で、工程 α X I回と工程 |8 X 6回を行ったカバー層と、工程 α X I回と工程 |8 (加熱を行わない） X 6回を行ったカバー層との比較データである図 27に示すように明らかである。すなわち、図 27では、加熱を行ったものに関しては（▲を結ぶ実線で示す）、デイスクの半径方向の位置 23〜58mmの間において、基準値からの厚みの相違が約 ± 2 mに収まっているが、加熱を行わなかったものに関しては（点線で示す）、約一 4 m〜 + 12 m以上と!/、う大きな相違が生じて、る。

[0072] [他の実施形態]

本発明は、上記のような実施形態に限定されるものではない。特に、具体的な数値は例示であり、所望の作用効果を得るために比較的適したものではある力これらの値に限定されるものではない。

[0073] また、第 4の実施形態において、貼り合わされる基板のどちらに紫外線の一部照射、加熱を行うかは自由である。例えば、基板の両方に一部照射及び加熱を行ってもよいし、両方に一部照射、片方に加熱を行ってもよいし、片方に一部照射、両方に加熱を行ってもよいし、片方のみに一部照射及び加熱を行ってもよい。また、上記の各実施形態のいずれかを組み合わせることも可能である。例えば、第 4の実施形態における加熱部を、その他の実施形態に用いてもょ、。

[0074] また、図 28、 29に示すように、第一の接着剤層 AL1を展延した後、紫外線照射部 3の位置を、ディスクの径方向にシフトしながら、所定のタイミングで照射することにより、図 30に示すように、環状の段差部 Hを同心円上に複数形成することもできる。この後、上記と同様に、内周側に接着剤 Aを塗布し、高速回転させることにより、第二の接着剤層 AL2を展延する。カゝかる場合にも、均一な接着層 Bが形成される。

[0075] なお、図 31に示すように、第 4の実施形態と同様に、複数の光源から成る紫外線照射部 3を、基板 Pの径方向にあら力じめ多数配設しておき、これらの全部若しくは一部を同時に照射させることにより、短時間に多数の段差部 Hを形成できるようにした方が、タクトタイムを短縮することができる。また、紫外線照射部 3に備える複数の光源として、図 32に示すように、多数の紫外線発光 LEDを用いることにより、消費電力の節約と光源の長寿命化によるコスト低減を図ることもできる。光源をマスクして、所定の位置に単数若しくは複数形成されたスリットやスポット穴から照射させることもできるし、力かるスリットやスポット穴を開閉することにより、所望の時間に所望の位置に照射させることちでさる。 [0076] また、紫外線や赤外線の照射範囲については、対象の一部にするか全体にするか等は自由であるが、種々の状況に応じて、最適の効果を得るために、可変可能な構造とすることが好ましい。このための構成例としては、種々のものが考えられる。単純な方法としては、可動の遮光板を用いる方法が考えられる。また、図 33に示すように、スライド筒 K1によるもの、図 34に示すように、シャツタ K2によるもの、図 35に示すように、移動するレン K3によるもの等、種々のものが考えられる。第 3の実施形態で例示したような遮光板に加えて、照射範囲の外周を決める遮光板を使用することも考えられる。

[0077] また、図 36及び図 37に示すように、あら力じめ内周部に低速回転により榭脂を塗布して、紫外線照射により硬化させて段差部 Hを形成した後、さらにその内周側に塗布した榭脂を、高速スピンによって展延させてもよい。この場合にも、段差部 Hによつて、内周側から外周側へ樹脂が過度に流動することが抑制されるので、均一な榭脂層 QL1を形成することができる。この榭脂層 QL1の上に、上記の実施形態と同様に、第二の榭脂層を形成することにより、さらに均一化を図ってもよい。

[0078] また、請求項 1に記載の調整部（段差部若しくは硬質部を含む）は、榭脂の硬化によって形成するものには限定されない。図 6等に示した段差部 Hを、液体、流動体、半流動体や固体等であって展延し難ヽ材料によって形成し、その内周側に塗布した榭脂を、高速回転によって展延させることにより、外周側への榭脂の過度の流動を抑えて、均一な榭脂層を形成することができる。このように形成した榭脂層の上に、上記の実施形態と同様に、第二の榭脂層を形成することにより、さらに均一化を図ってもよい。また、例えば、版印刷、インクジェットによる印刷により段差を形成してもよい。レ一ザマーカ等により、内周側の一部に凹凸を形成することにより、段差部を構成してもよ、し、既に形成されて、る段差部をカ卩工修正してもよ、。

[0079] また、調整部 (段差部若しくは硬質部を含む)の形状、高さ、幅、位置、数等は、自由に変更可能である。例えば、断面の角が丸みを帯びていてもよいし、上面に傾斜を有していてもよい。連続していない断続的な環状としてもよい。榭脂の硬化により形成する場合には、記録膜の表面に散点的に設けられて、てもよ、。

[0080] また、榭脂層形成装置の各構成部を複数設けて、処理を同時並行的に行うことにより、製品を効率よく量産できるようにしてもよい。例えば、基板を載置して回転する回転部であるターンテーブルを 2台独立して備え、一方のターンテーブルにおいて、榭脂塗布及び高速スピンによる榭脂展延を行って第一の榭脂層を形成し、紫外線照射部により段差部を形成した後、他方のターンテーブルに移載して榭脂塗布、高速スピンによる榭脂展延を行って第二の榭脂層を形成してもよい。つまり、上記の実施形態のように、単一の回転部において第一の榭脂層、段差部及び第二の榭脂層の形成を全て行ってもよいし、 2つの回転部の一方において第一の榭脂層、段差部の形成を行い、他方において第二の榭脂層の形成を行ってもよい。 2つの回転部の一方において、第一の榭脂層の形成を行い、他方において段差部、第二の榭脂層の形成を行ってもよい。 3つの回転部を設け、それぞれにおいて第一の榭脂層、段差部及び第二の榭脂層の形成を行ってもよい。紫外線照射部を、複数の回転部毎に設けたり、複数の回転部間を移動可能に設けることにより、同一の装置において、上記のような異なる態様を切り換えて実現できるようにしてもょ、。

[0081] また、本発明の製造対象となるディスクは、その大きさ、形状、材質、記録膜の数等は自由であり、既存の CDや DVD等の規格に限定されず、将来において採用されるあらゆる規格に適用可能である。さらに、本発明は、情報記録用のディスクのみならず、榭脂を用いて貼り合わされるあらゆる基板に適用することができる。つまり、基板の材質や形状、接着剤となる樹脂の種類も、上記の実施形態で例示したものには限定されない。例えば、基板の材質としては一般的なポリカーボネートの他、アクリル、エポキシ等の樹脂が考えられる力これには限定されない。

[0082] 上記の通り、本発明は、接着層のみならずカバー層へ適用してもよい。典型例としては、基板の貼り合わせ型ディスクのいわゆる接着層、表面に榭脂でスタンプ部を形成した基板を接着したいわゆる中間層が挙げられる。また、例えば、ブルーレイディスク（BD)の表面のフィルムと基板との!/、わゆる接着層や、フィルムの代わりに BDの表面をコーティングするいわゆるカバー層として適している。特に、 BDは、対物レンズの NAが大きぐ表面のカバー層（100 m程度）について高い厚み精度が要求されるので、本発明が適している。

[0083] また、接着やコーティングに用いられる榭脂としても、回転により展延できるものであれば、現在又は将来において利用可能なあらゆる材質のものが適用可能である。放射線硬化型の榭脂のように、外部から広義の電磁波を照射したり、熱硬化型の榭脂のように、温度変化を加えることによって硬化するものも適用可能である。

Claims

請求の範囲

[1] 基板の表面に榭脂層を形成する榭脂層形成方法において、

前記基板の表面に、榭脂の展延を調整する調整部を形成し、

前記基板における前記調整部よりも内側若しくは前記調整部上に、榭脂を塗布し、前記基板を回転させることを特徴とする榭脂層形成方法。

[2] 前記調整部は、前記基板の表面に形成された段差部若しくは硬化部であることを特徴とする請求項 1記載の榭脂層形成方法。

[3] 基板の表面に榭脂層を形成する榭脂層形成方法において、

前記基板の表面に榭脂を塗布し、

前記基板を回転させることにより、前記基板の表面に第一の榭脂層を形成し、前記第一の榭脂層の一部又は全部を硬化させることにより、前記基板の回転中心の周囲に硬化部を形成し、

前記硬化部よりも前記基板の回転中心側若しくは前記硬化部上に、榭脂を塗布し前記基板を回転させることにより、前記第一の榭脂層の上に第二の榭脂層を形成することを特徴とする榭脂層形成方法。

[4] 前記榭脂は紫外線硬化榭脂であり、

前記硬化部は、前記基板の一部若しくは全面に、紫外線を照射することにより形成することを特徴とする請求項 3記載の榭脂層形成方法。

[5] 可動式紫外線照射部を用いて、前記基板の複数箇所に紫外線を照射することにより、複数の硬化部を形成することを特徴とする請求項 4記載の榭脂層形成方法。

[6] 複数の紫外線照射部を用いて、紫外線を照射することにより、複数の硬化部を形成することを特徴とする請求項 4記載の榭脂層形成方法。

[7] 照射範囲が可変の紫外線照射部を用いて、前記基板に紫外線を照射することにより、前記硬化部を形成することを特徴とする請求項 4記載の榭脂層形成方法。

[8] 前記第二の榭脂層を形成する際に、加熱することを特徴とする請求項 3記載の榭脂層形成方法。

[9] 基板の表面に榭脂層を形成する榭脂層形成方法にお!ヽて、前記基板の表面に榭脂を塗布し、

前記硬化部よりも前記基板の回転中心側若しくは前記硬化部上に、榭脂を塗布し前記基板を回転させることにより、前記第一の榭脂層の上に第二の榭脂層を形成し、

前記第一の榭脂層及び前記第二の榭脂層の全体を硬化させた第一の硬化層を形成し、

前記第一の硬化層よりも前記基板の回転中心側若しくは前記第一の硬化層上に、榭脂を塗布し、

前記基板を回転させることにより、第三の榭脂層を形成し、

前記第三の榭脂層の全体を硬化させた第二の硬化層を形成し、

前記第三の榭脂層及び前記第二の硬化層の形成工程を、複数回繰り返すことを特徴とする樹脂層形成方法。

[10] 前記第三の榭脂層を形成する際に、加熱することを特徴とする請求項 9記載の榭脂層形成方法。

[11] 加熱範囲が可変の加熱部を用いて、加熱することを特徴とする請求項 8又は請求項 10記載の榭脂層形成方法。

[12] 一対の基板の一方若しくは双方の表面に、請求項 1又は請求項 3記載の榭脂層形成方法により榭脂層を形成し、

一対の前記基板を、前記榭脂層を介して貼り合せることを特徴とするディスク製造方法。

[13] 一対の基板が榭脂層を介して貼り合わされたディスクにおいて、

前記一対の基板の少なくとも一方には、貼り合わせる面の中心の周囲に、榭脂の展延を調整する調整部が設けられ、

前記榭脂層は、前記調整部よりも内側若しくは調整部上力前記基板の外縁まで展延されて!/ゝることを特徴とするディスク。

[14] 基板の表面に紫外線硬化型の榭脂を塗布する塗布部と、

前記基板を回転させることにより、榭脂層を基板の表面に形成する回転部と、前記基板の回転中心の周囲に紫外線を照射することにより、榭脂を硬化させた硬化部を形成する紫外線照射部と、

前記塗布部によって前記硬化部よりも内側若しくは前記硬化部上に塗布された榭脂を、前記回転部によって前記基板を回転させながら加熱する加熱部と、

を有することを特徴とする榭脂層形成装置。

[15] 前記紫外線照射部は、照射範囲が可変に構成されていることを特徴とする請求項

14記載の榭脂層形成装置。

[16] 前記加熱部は、加熱範囲が可変に構成されていることを特徴とする請求項 14記載の榭脂層形成装置。

[17] 紫外線硬化型の樹脂が塗布された基板を回転させることにより、前記基板の表面に第一の榭脂層を形成する第一の回転部と、

前記第一の榭脂層の一部に紫外線を照射することにより、前記基板の回転中心の周囲を硬化させた硬化部を形成する紫外線照射部と、

前記硬化部の内側若しくは前記硬化部上に紫外線硬化型の樹脂が塗布された前記基板を回転させることにより、前記第一の榭脂層の上に第二の榭脂層を形成する第二の回転部と、

を有することを特徴とする榭脂層形成装置。