JP2001134990A - 光学記録ディスクの製造方法及び製造装置 - Google Patents

光学記録ディスクの製造方法及び製造装置

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recording disk
disk
circular
ultraviolet
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Kokichi Obinata
好吉 小日向
Shoji Akiyama
昭次 秋山
Takatada Itabane
賢忠 板羽
Tadahiro Morioka
督大 森岡
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 両円形基板の紫外線硬化型樹脂に対する濡れ
性のバラツキがあっても、硬化された樹脂の内周部側の
縁部が、略同心円の美しい輪郭形状を呈し、濡れ性のバ
ラツキ、樹脂に与える遠心力の制御の困難さ、両円形基
板の板厚のバラツキ等があっても、樹脂の膜厚が均一と
なり、しかもその膜厚を所定値以下に制御することので
きる品質の良好な光学記録ディスクを得る。 【解決手段】 両基板Ｄ１、Ｄ２間に、その基板と略同
心円のリング状の紫外線硬化型樹脂Ｒを介在させて仮接
着された光学記録ディスクＤを、両基板間を加圧しなが
ら、その両基板のいずれか一方を低速回転させると共に
他方を固定して、樹脂を、その展延により所定の均一な
厚さの層に形成し、その層状の樹脂を有する仮接着され
たディスクを高速回転し、その高速回転された仮接着さ
れたディスクに紫外線を照射して、層状の樹脂Ｒを硬化
せしめる。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、貼り合わされた２
枚の円形基板からなる光学記録ディスクの製造方法及び
製造装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】以下に、図６を参照して、従来の光学記
録ディスクの製造方法を説明する。図６Ａに示すよう
に、直径が１２０ｍｍの第２の円形基板（例えば、ポリ
カーボネートからなる）Ｄ２を用意する。ｈ２は、第２
の円形基板Ｄ２の中心孔である。ｒ２は、第２の円形基
板Ｄ２の記録面で、同心円又は円に近いトラックに沿っ
てデータ記録痕跡（長さや幅の異なるピットの列からな
る）が形成されている。
【０００３】図６Ｂに示すように、第２の円形記録板Ｄ
２の記録面ｒ２上の半径で１５ｍｍ〜５０ｍｍの範囲内
の適切な位置に、第２の円形記録板Ｄ２を回転させなが
ら、その記録面ｒ２上に、接着剤としての紫外線硬化型
樹脂Ｒを滴下して、第２の円形基板Ｄ２と略同心円の所
定幅のリング状の紫外線硬化型樹脂Ｒを塗布する。
【０００４】図６Ｃに示すように、直径が１２０ｍｍの
第１の円形基板（例えば、ポリカーボネートからなる）
Ｄ１を用意する。ｈ１は、第１の円形基板Ｄ１の中心孔
である。ｒ１は、第１の円形基板Ｄ１の記録面で、同心
円又は円に近いトラックに沿ってデータ記録痕跡（長さ
や幅の異なるピットの列からなる）が形成されている。
【０００５】図６Ｄに示すように、こられ第１及び第２
の円形基板Ｄ１、Ｄ２の各記録面ｒ１、ｒ２間を、紫外
線硬化型樹脂Ｒを介して重ね合わせて未硬化接着して光
学記録ディスクを得、その未硬化接着された光学記録デ
ィスクを高速に回転することによって、第１及び第２の
円形基板Ｄ１、Ｄ２間の紫外線硬化型樹脂Ｒを、遠心力
によって均一の厚さとなるように、内周部及び外周部全
体に展延して、未硬化接着された光学記録ディスクＤを
得る。
【０００６】図６Ｅに示すように、図６Ｄで展延された
紫外線硬化型樹脂Ｒを介して未硬化接着された第１及び
第２の円形基板Ｄ１、Ｄ２からなる光学記録ディスクＤ
に、紫外線を照射して、紫外線硬化型樹脂Ｒを硬化せし
めることによって、第１及び第２の円形基板Ｄ１、Ｄ２
が貼り合わせられて完成された光学記録ディスクＤが得
られる。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】かかる従来の光学記録
ディスクの製造方法では、第１及び第２の円形基板の紫
外線硬化型樹脂に対する濡れ性のバラツキによって、紫
外線硬化型樹脂の展延にバラツキが生じて、紫外線硬化
型樹脂の内周側への第１及び第２の円形基板と略同心円
状の展延が行われないために、第１及び第２の円形基板
間の硬化された紫外線硬化型樹脂の内周部側の縁部が、
第１及び第２の円形基板と略同心円の美しい輪郭形状と
はならず、品質の良好な光学記録ディスクを得ることが
できなかった。
【０００８】又、従来の光学記録ディスクの製造方法で
は、第１及び第２の円形基板間を紫外線硬化型樹脂を介
して未硬化接着し、その後、その未硬化接着されたディ
スクを高速回転して、未硬化の紫外線硬化型樹脂の膜厚
を所定の値にするようにしているが、第１及び第２の円
形基板の紫外線硬化型樹脂に対する濡れ性のバラツキ、
未硬化の紫外線硬化型樹脂に与える遠心力の制御の困難
さ、第１及び第２の円形基板の板厚のバラツキ等に起因
して、第１及び第２の円形基板間の硬化された紫外線硬
化型樹脂の膜厚が均一で品質の良好な光学記録ディスク
を得ることが困難であった。
【０００９】更に、従来の光学記録ディスクの１つであ
るジタルビデオディスク（ＤＶＤ）には、第１及び第２
の円形基板間の硬化された紫外線硬化型樹脂の膜厚が２
０μｍ以下と規格化されたＤＶＤがあり、従来の光学記
録ディスクの製造方法では、硬化された紫外線硬化型樹
脂の膜厚が２０μｍ以下となるＤＶＤを得ることは頗る
困難であった。
【００１０】かかる点に鑑み、本発明は、第１及び第２
の円形基板の紫外線硬化型樹脂に対する濡れ性のバラツ
キがあっても、その紫外線硬化型樹脂の内周側への展延
が第１及び第２の円形基板と略同心円状に行われて、硬
化された紫外線硬化型樹脂の内周部側の縁部が、第１及
び第２の円形基板と略同心円の美しい輪郭形状を呈し、
両円形基板の紫外線硬化型樹脂に対する濡れ性のバラツ
キ、未硬化の紫外線硬化型樹脂に与える遠心力の制御の
困難さ、第１及び第２の円形基板の板厚のバラツキ等が
あっても、硬化された紫外線硬化型樹脂の膜厚が均一と
なり、しかもその膜厚を所定値以下に制御することので
きる品質の良好な光学記録ディスクを得ることのできる
光学記録ディスクの製造方法及び製造装置を提案しよう
とするものである。
【００１１】
【課題を解決するための手段】第１の本発明による光学
記録ディスクの製造方法は、第１及び第２の円形基板間
に、その第１及び第２の円形基板と略同心円のリング状
の紫外線硬化型樹脂を介在させて未硬化接着された光学
記録ディスクを、第１及び第２の円形基板間を加圧しな
がら、その第１及び第２の円形基板のいずれか一方を低
速回転させると共に他方を固定して、紫外線硬化型樹脂
を、その展延により所定の均一な厚さの層に形成し、所
定の均一な厚さの層状の紫外線硬化型樹脂を有する未硬
化接着された光学記録ディスクを高速回転し、その高速
回転された未硬化接着された光学記録ディスクに紫外線
を照射して、層状の紫外線硬化型樹脂を硬化せしめて、
第１及び第２の円形基板が貼り合わせられてなる完成さ
れた光学記録ディスクを得るようにしたものである。
【００１２】かかる第１の本発明によれば、第１及び第
２の円形基板間に、その第１及び第２の円形基板と略同
心円のリング状の紫外線硬化型樹脂を介在させて未硬化
接着された光学記録ディスクを、第１及び第２の円形基
板間を加圧しながら、その第１及び第２の円形基板のい
ずれか一方を低速回転させると共に他方を固定して、紫
外線硬化型樹脂を、その展延により所定の均一な厚さの
層に形成し、所定の均一な厚さの層状の紫外線硬化型樹
脂を有する未硬化接着された光学記録ディスクを高速回
転し、その高速回転された未硬化接着された光学記録デ
ィスクに紫外線を照射して、層状の紫外線硬化型樹脂を
硬化せしめて、第１及び第２の円形基板が貼り合わせら
れてなる完成された光学記録ディスクを得る。
【００１３】
【発明の実施の形態】第１の本発明は、第１及び第２の
円形基板間に、その第１及び第２の円形基板と略同心円
のリング状の紫外線硬化型樹脂を介在させて未硬化接着
された光学記録ディスクを、第１及び第２の円形基板間
を加圧しながら、その第１及び第２の円形基板のいずれ
か一方を低速回転させると共に他方を固定して、紫外線
硬化型樹脂を、その展延により所定の均一な厚さの層に
形成し、所定の均一な厚さの層状の紫外線硬化型樹脂を
有する未硬化接着された光学記録ディスクを高速回転
し、その高速回転された未硬化接着された光学記録ディ
スクに紫外線を照射して、層状の紫外線硬化型樹脂を硬
化せしめて、第１及び第２の円形基板が貼り合わせられ
てなる完成された光学記録ディスクを得るようにした光
学記録ディスクの製造方法である。
【００１４】第２の本発明は、第１及び第２の円形基板
間に、その第１及び第２の円形基板と略同心円のリング
状の紫外線硬化型樹脂を介在させて未硬化接着された光
学記録ディスクを、第１及び第２の円形基板間を加圧し
ながら低速回転させて、紫外線硬化型樹脂を、その展延
により所定の均一な厚さの層に形成し、所定の均一な厚
さの層状の紫外線硬化型樹脂を有する未硬化接着された
光学記録ディスクを高速回転し、その高速回転された未
硬化接着された光学記録ディスクに紫外線を照射して、
層状の紫外線硬化型樹脂を硬化せしめて、第１及び第２
の円形基板が貼り合わせられてなる完成された光学記録
ディスクを得るようにした光学記録ディスクの製造方法
である。
【００１５】第３の本発明は、第１の本発明において、
第１及び第２の円形基板間を加圧する圧力を計測し、そ
の計測された圧力が紫外線硬化型樹脂の層の所定の厚さ
に応じた所定値になったとき、第１及び第２の円形基板
間の加圧及び未硬化接着された光学記録ディスクの低速
回転を終了するようにした光学記録ディスクの製造方法
である。
【００１６】第４の本発明は、第１の本発明において、
第１及び第２の円形基板間の加圧中におけるその第１又
は第２の円形基板の基準位置からの移動量を計測し、そ
の計測された移動量が紫外線硬化型樹脂の層の所定の厚
さに応じた所定値になったとき、第１及び第２の円形基
板間の加圧及び未硬化接着された光学記録ディスクの低
速回転を終了するようにした光学記録ディスクの製造方
法である。
【００１７】第５の本発明は、第２の本発明において、
第１及び第２の円形基板間を加圧する圧力を計測し、そ
の計測された圧力が紫外線硬化型樹脂の層の所定の厚さ
に応じた所定値になったとき、第１及び第２の円形基板
間の加圧及び未硬化接着された光学記録ディスクの低速
回転を終了するようにした光学記録ディスクの製造方法
である。
【００１８】第６の本発明は、第２の本発明において、
第１及び第２の円形基板間の加圧中におけるその第１又
は第２の円形基板の基準位置からの移動量を計測し、そ
の計測された移動量が紫外線硬化型樹脂の層の所定の厚
さに応じた所定値になったとき、第１及び第２の円形基
板間の加圧及び未硬化接着された光学記録ディスクの低
速回転を終了するようにした光学記録ディスクの製造方
法である。
【００１９】第７の本発明は、第１及び第２の円形基板
間に、その第１及び第２の円形基板と略同心円のリング
状の紫外線硬化型樹脂を介在させて未硬化接着された光
学記録ディスクの第１の円形基板を保持するディスク保
持手段と、未硬化接着された光学記録ディスクの第２の
円形基板を保持して低速回転駆動するディスク低速回転
駆動手段と、そのディスク低速回転駆動手段を、ディス
ク保持手段に保持されている第１の円形基板に向かって
押し付けるディスク押し付け駆動手段と、未硬化接着さ
れた光学記録ディスクを高速回転駆動する高速回転駆動
手段と、未硬化接着された光学記録ディスクに紫外線を
照射する紫外線照射手段とを有する光学記録ディスクの
製造装置である。
【００２０】第８の本発明は、第７の本発明において、
ディスク保持手段には、第１及び第２の円形基板間を加
圧する圧力を計測する圧力計測手段が設けられ、その圧
力計測手段によって計測された圧力が、紫外線硬化型樹
脂の層の所定の厚さに応じた所定値になったときは、デ
ィスク押し付け駆動手段によるディスク低速回転駆動手
段の第１の円形基板に向かう押し付け及びディスク低速
回転駆動手段による第２の円形基板の低速回転を終了す
るようにした光学記録ディスクの製造装置である。
【００２１】〔発明の実施の形態の具体例〕以下に、図
１〜図５を参照して、本発明の実施の形態の具体例の光
学記録ディスクの製造方法及び製造装置を詳細に説明す
る。先ず、図１を参照して、具体例の光学記録ディスク
の製造方法を説明する。図１Ａにおいて、Ｄ１、Ｄ２
は、それぞれ直径が１２０ｍｍの第１及び第２の円形基
板（例えば、ポリカーボネートからなる）で、それぞれ
中心孔ｈ１、ｈ２を有する。これら第１及び第２の円形
基板Ｄ１、Ｄ２は、それぞれの記録面ｒ１、ｒ２が互い
に対向するように配されると共に、その間に、第１及び
第２の円形基板Ｄ１、Ｄ２と同心円のリング状の紫外線
硬化型樹脂Ｒが、第１及び第２の円形基板Ｄ１、Ｄ２の
半径１５ｍｍ〜５０ｍｍ内の適切な位置に介在せしめら
れている。記録面ｒ１、ｒ２には、同心円又は円に近い
トラックに沿ってデータ記録痕跡（長さや幅の異なるピ
ットの列からなる）が形成されている。
【００２２】図１Ａのように、紫外線硬化型樹脂Ｒを介
して、第２の円形基板Ｄ２上に第１の円形基板Ｄ１を重
ねるのは、紫外線硬化型樹脂Ｒを、当初第２の円形基板
Ｄ２の記録面ｒ２上に塗布し、その上に第１の円形基板
Ｄ１を載置する場合と、当初第１の円形基板Ｄ１の上側
の記録面ｒ１上に紫外線硬化型樹脂Ｒを塗布し、その
後、その紫外線硬化型樹脂Ｒの塗布された第１の円形基
板Ｄ１を反転して、第２の円形基板Ｄ２上に載置する場
合とがある。後者の場合は、第１の円形基板Ｄ１上の紫
外線硬化型樹脂Ｒが第２の円形基板Ｄ２の面に最初に接
触するときの面積が小さいので、紫外線硬化型樹脂Ｒ内
に取り込まれる気泡の数が、前者の場合より少ないの
で、高品質の光学記録ディスクを得ることができる。
【００２３】そして、図１Ｂに示すように、第１及び第
２の円形基板Ｄ１、Ｄ２間に圧力を加えながら、第１若
しくは第２の円形基板Ｄ１、Ｄ２の一方を低速回転させ
ると共に、他方を固定するか、又は、第１及び第２の円
形基板Ｄ１、Ｄ２を一体的に同時に低速回転させ、紫外
線硬化型樹脂Ｒの厚さが所定値まで薄くなったら、第１
及び第２の円形基板Ｄ１、Ｄ２間の加圧並びに第１若し
くは第２の円形基板Ｄ１、Ｄ２の低速回転若しくは第１
及び第２の円形基板Ｄ１、Ｄ２の低速回転を停止する。
【００２４】第１及び第２の円形基板Ｄ１、Ｄ２間を加
圧することによって、第１及び第２の円形基板Ｄ１、Ｄ
２の紫外線硬化型樹脂Ｒに対する濡れ性の不均一にも拘
らず、紫外線硬化型樹脂Ｒの厚さを一定にすることがで
きる。又、第１及び第２の円形基板Ｄ１、Ｄ２間を加圧
すると共に、第１及び第２の円形基板Ｄ１、Ｄ２の内の
いずれか一方又は両方を回転させることによって、第１
及び第２の円形基板Ｄ１、Ｄ２の内のいずれか一方又は
両方に厚さの不均一があっても、第１及び第２の円形基
板Ｄ１、Ｄ２間の、第１及び第２の円形基板Ｄ１、Ｄ２
と略同心円のリング状の紫外線硬化型樹脂Ｒが内周側及
び外周側に向かって略同心円状に展延されて、第１及び
第２の円形基板Ｄ１、Ｄ２及び紫外線硬化型樹脂Ｒの全
体の厚さを均一な所定の厚さにすることができ、これに
より紫外線硬化型樹脂Ｒの厚さ規格値に対し、マージン
を多くとることができる。
【００２５】紫外線硬化型樹脂Ｒの厚さが所定値まで薄
くなったか否かは、第１及び第２の円形基板Ｄ１、Ｄ２
の内の一方の厚み方向の位置を固定し、他方の移動量が
所定値になったか否かによって検知するか、若しくは、
第１及び第２の円形基板Ｄ１、Ｄ２の両方を移動量の和
が所定値になったか否かによって検知する。又、紫外線
硬化型樹脂Ｒの厚さが所定値まで薄くなったか否かは、
第１及び第２の円形基板Ｄ１、Ｄ２の内の一方の厚み方
向の位置を固定し、他方の加圧量が所定値になったか否
かによって検知するか、若しくは、第１及び第２の円形
基板Ｄ１、Ｄ２それぞれへの加圧量の和が所定値になっ
たか否かによって検知するようにしても良い。
【００２６】そして、図１Ｃに示す如く、第１及び第２
の円形基板Ｄ１、Ｄ２を一体的に同時に所定時間の間高
速回転する。これによって、第１及び第２の円形基板Ｄ
１、Ｄ２間の紫外線硬化型樹脂Ｒは更に薄くなる。
【００２７】そして、図１Ｄに示す如く、第１及び第２
の円形ディスクＤ１、Ｄ２の内のいずれか一方、ここで
は第１の円形基板Ｄ１を通じて、紫外線硬化型樹脂Ｒに
紫外線を照射して、その紫外線硬化型樹脂Ｒを硬化せし
め、これによって、第１及び第２の円形基板Ｄ１、Ｄ２
が貼り合わせられて完成された光学記録ディスクＤが得
られる。
【００２８】次に、図２〜図５を参照して、具体例の光
学記録ディスクの製造装置を説明する。先ず、図５の具
体例の光学記録ディスクの製造装置（平面図）を説明す
る。ＢＳは基台である。この基台ＢＳ上には、右側から
左側へと順次に配列された回転テーブルＲＴ１、ＲＴ
２、回転アームホルダＲＨ２及び回転テーブルＲＴ３が
取付けられている。回転テーブルＲＴ１、ＲＴ２には、
それぞれ６０度毎に、６個の孔Ｈ１、Ｈ２が穿設されて
おり、６０度ずつ間欠的に回転する。各６個の孔Ｈ１、
Ｈ２の直径は、上述した第１及び第２の円形基板Ｄ１、
Ｄ２の直径より短くなされている。回転テーブルＲＴ３
は、９０度毎に間欠的に回転し、９０度毎に４枚の光学
記録ディスクＤが載置されて回転せしめられる。回転テ
ーブルＲＴ３の上を覆う如く、略１４０度の扇型のカバ
ーＣＶが基台ＢＳ上に取付けられると共に、そのカバー
ＣＶには、紫外線（ＵＶ）ランプＬＵＶが取付けれ、紫
外線ランプＬＵＶよりの紫外線が、カバーＣＶに設けら
れた窓（図示せず）を通じて、そのカバーＣＶを回転的
に通過する光学記録ディスクＤに照射されるようになさ
れている。
【００２９】図５において、ＲＳは樹脂供給部で、基板
ＢＳ上に取付けられている。樹脂供給部ＲＳは、紫外線
硬化型樹脂Ｒを回転テーブルＲＴ１上の第１の円形基板
Ｄ１（図５では図示を省略）上に滴下するノズル（図示
せず）を有する。又、その樹脂供給部ＲＳのノズルの下
側で、且つ回転テーブルＲＴ１の下側には、図示を省略
するも、第１の円形基板Ｄ１をゆっくりと回転させるデ
ィスク回転手段が基台ＢＳ上に取付けられている。この
ディスク回転手段は、回転テーブルＲＴ１の孔Ｈ１を通
じて、その孔Ｈ１上にある第１の円形基板Ｄ１（図５で
は図示を省略）を回転させながら、樹脂供給部ＲＳのノ
ズルから紫外線硬化型樹脂Ｒを、その第１の円形基板Ｄ
１の記録面ｒ１上に滴下して、リング状に塗布する。そ
の後、回転テーブルＲＴ１が右回り方向に６０度回転せ
しめられる。
【００３０】ＤＲはディスク反転機で、回転テーブルＲ
Ｔ１によって回転搬送されてきた、紫外線硬化型樹脂Ｒ
の塗布された第１の円形基板Ｄ１を反転する、即ち、１
８０度回転する。
【００３１】次に、図３を参照して、ディスク反転機Ｄ
Ｒの一例の構造（側面図）を説明する。ＦＰ１は固定板
で、この固定板ＦＰ１に、例えば、エアーシリンダから
なるディスク上下駆動源ＵＤ１が取付けられている。こ
のディスク上下駆動源ＵＤ１には、上下に移動するスラ
イドユニットＳＵ１が設けられている。このスライドユ
ニットＳＵ１の上側には、例えば、ロータリアクチュエ
ータからなるディスク反転駆動源ＤＤＲが取付けられて
いる。このディスク反転駆動源ＤＤＲには、例えば、エ
アーチェックからなるフィンガー駆動源ＤＦＧが取付け
られている。そして、このフィンガー駆動源ＤＦＧに互
いに平行な２本のフィンガーＦＧが取付けられている。
この２本のフィンガーＦＧは、フィンガー駆動源ＤＦＧ
によって、２本のフィンガーＦＧ間の間隔が変化するよ
うに平行移動せしめられる。
【００３２】このディスク反転機ＤＲにおいては、ディ
スク反転駆動源ＤＤＲが固定板ＦＰ１に対し低い位置に
あるときに、２本のフィンガーＦＧの開閉によって、回
転テーブルＲＴ１の孔Ｈ１上の第１の円形基板Ｄ１を、
その中心孔ｈ１の部分で保持する。その後、ディスク反
転駆動源ＤＤＲが、スライドユニットＳＵ１を介して、
ディスク上下駆動源ＵＤ１を、これによって、フィンガ
ー駆動源ＤＦＧによる第１の円形基板Ｄ１の回転に支障
がなくなる程度以上の高さに、持ち上げる。その後、第
１の円形基板Ｄ１を保持している２本のフィンガーＦＧ
が、フィンガー駆動源ＤＦＧによって、１８０度回転せ
しめられる。その後、ディスク反転駆動源ＤＤＲは、ス
ライドユニットＳＵ１を介して、ディスク上下駆動源Ｕ
Ｄ１によって、固定板ＦＰ１に接近するように下降せし
められて、反転された、紫外線硬化型樹脂Ｒの塗布され
た第１の円形基板Ｄ１は、回転テーブルＲＴ１の孔Ｈ１
上に戻される。その後、回転テーブルＲＴ１は右回り方
向に６０度回転せしめられる。
【００３３】再び、図５に戻って説明する。ＲＨ１は回
転アームホルダで、第１の円形基板Ｄ１を保持して、回
転テーブルＲＴ１から回転テーブルＲＴ２に搬送するも
ので、例えば、３本のアームを有する。基台ＢＳ上の位
置Ｐ１の回転テーブルＲＴ１の下側には、図４に示す構
造のディスク上下駆動機がそれぞれ取付けられている。
【００３４】以下に、図４のディスク上下駆動機の一例
の構造（側面図）を説明する。ＵＤ２は、例えば、エア
シリンダからなるディスク上下駆動源で、基台ＢＳ上に
取付けられ、そのディスク上下駆動源ＵＤ２には、スラ
イドユニットＳＵ２が設けられている。そのスライドユ
ニットＳＵ２には、ホルダＨＤ１及びスピンドルＳＰ１
が取付けられている。ＤＳはホルダＨＤ１に取付けられ
た受け皿で、第１の円形基板Ｄ１に塗布された紫外線硬
化型樹脂Ｒが落下した場合、それを受けるためのもので
ある。この受け皿ＤＳは、基台ＢＳ上の点Ｐ１で使用さ
れるものには必要であるが、点Ｐ２で使用されるものに
は不要であるので、受け皿ＤＳは設けられていはいな
い。
【００３５】基台ＢＳ上の点Ｐ１に設けられているディ
スク上下駆動機は、回転テーブルＲＴ１の孔Ｈ１上にあ
る、下面に紫外線硬化型樹脂の塗布された第１の円形基
板Ｄ１を持ち上げて、回転アームホルダＲＨ１に保持さ
せる。その後、回転アームホルダＲＨ１は、左回り方向
に１２０度回転せしめられる。
【００３６】回転テーブルＲＴ２の下側の基台ＢＳ上の
点Ｐ３には、図２Ａ、Ｂに示すディスク加圧回転機（正
面図及び側面図）が設けれると共に、回転テーブルＲＴ
２の上側の基台ＢＳ上の点Ｐ３には、図２Ｄに示す第１
の円形基板Ｄ１を保持するディスクホルダが設けられて
いる。
【００３７】以下に、図２Ａ、Ｂのディスク加圧回転機
を説明する。先ず、正面図及び側面図を示す図２Ａ、Ｂ
を参照して、ディスク加圧回転機を説明する。ＨＤ２は
第２の円形基板Ｄ２を保持するホルダで、そのホルダＨ
Ｄ２はスピンドルＳＰ２の遊端に取付けられ、ホルダＨ
Ｄ２はそのスピンドルＳＰ２を介して、例えば、モータ
からなるディスク低速回転駆動源ＰＴＬによって低速回
転駆動される。低速回転駆動源ＰＴＬは、２本の互いに
平行に配されたスライドガイドＳＧに沿って移動可能と
され、例えば、モータからなるディスク押上駆動源（デ
ィスク上下駆動源）ＵＰの回転力を、図示を省略したボ
ールネジによって直線移動力に変換して、ホルダＨＤ２
を上下に移動可能とし、特に、図２Ｃの光学記録ディス
クＤの第２の円形基板Ｄ２を押し上げる機能を有する。
【００３８】以下に、図２Ｄを参照して、図２Ｃの光学
記録ディスクＤの第１の円形基板Ｄ１を保持するディス
クホルダについて説明する。ＤＨＤはディスクホルダを
示し、保持板ＰＨＤに取付けられている。ディスクホル
ダＤＨＤには、中心軸を介して、例えば、ロードセルか
らなる圧力検出器ＰＳが設けれている。
【００３９】点Ｐ２にも、図２Ａ、Ｂで示したディスク
加圧回転機が設けられているが、点Ｐ２では、第１の円
形基板Ｄ１が回転アームホルダＰＨ１によって保持され
ており、回転テーブルＲＴ２によって搬送された第２の
円形基板Ｄ２が、ディスク加圧回転機によって持ち上げ
られて、第１の円形基板Ｄ１の下面に塗布されているリ
ング状の紫外線硬化型樹脂Ｒに押し付けられる。その
後、この未硬化接着された第１及び第２の円形基板Ｄ
１、Ｄ２からなる光学記録ディスクＤが、回転テーブル
ＲＴ２の右回りの６０度の回転によって、点Ｐ２の位置
から点Ｐ３の位置まで回転搬送される。
【００４０】そして、点Ｐ３において、回転テーブルＲ
Ｔ２上の未硬化接着された光学記録ディスクＤが、図２
Ａ、Ｂに示すディスク加圧回転機のホルダＨＤ２によっ
て持ち上げられ、固定位置にあるディスクホルダＤＨＤ
のところまで押し上げられ、第１の円形基板Ｄ１のみが
ディスクホルダＤＨＤに保持される。ディスク加圧回転
機による光学記録ディスクＤに対する加圧圧力は、圧力
検出器ＰＳによって検出されるので、その加圧圧力が所
定値になったら、第１の円形基板Ｄ１をディスクホルダ
ＤＨＤによって吸着すると共に、第２の円形基板Ｄ２を
ホルダＨＤ２によって吸着し、ディスク押上駆動源ＵＰ
によって、第１及び第２の円形基板Ｄ１、Ｄ２間に所定
の圧力掛けつつ、第２の円形基板Ｄ２のディスク低速回
転駆動源ＰＴＬによる低速回転を開始する。そして、圧
力検出器ＰＳによって、図２Ａ、Ｂに示すディスク加圧
回転機による光学記録ディスクＤに対する加圧圧力が、
紫外線硬化型樹脂Ｒの展延によって上昇し、その加圧圧
力が紫外線硬化型樹脂Ｒの所定厚さに対応する所定値に
なったことが検出されたら、ディスク低速回転駆動源Ｐ
ＴＬによる低速回転及びディスク押上駆動源ＵＰによる
光学記録ディスクＤに対する加圧を終了し、第１の円形
基板Ｄ１のディスクホルダＤＨＤによる吸着及び第２の
円形基板Ｄ２のホルダＨＤ２による吸着を解除する。そ
して、ディスク押上駆動源ＵＰによる未硬化接着された
光学記録ディスクＤの下降により、その光学記録ディス
クＤは、回転テーブルＲＴ２上に載置される。
【００４１】この低速回転及び加圧の終了した未硬化接
着された光学記録ディスクＤは、回転テーブルＲＴ２に
よって、右回りに６０度回転搬送された後、回転アーム
ホルダＲＨ２の下降、ディスクＤの吸着、上昇、右回り
の９０度の回転搬送、下降及びディスクＤの吸着解除に
よって、スピンチャンバー（振り切りチャンバー）ＳＰ
１又はＳＰ２まで搬送されて装填され、そこで、所定時
間の間高速回転せしめられる。
【００４２】未硬化接着された光学記録ディスクＤの低
速回転及び高速回転時の回転速度は、紫外線硬化型樹脂
Ｒの粘度や気温等によって異なるが、一例として、高速
回転時の回転数が、例えば、２０００ｒｐｍの場合、低
速回転時の回転数を、例えば、５０〜５００ｒｐｍに設
定する。
【００４３】スピンチャンバーＳＰ１又はＳＰ２によっ
て高速回転せしめられた未硬化接着された光学記録ディ
スクＤは、回転アームホルダＲＨ２の下降、ディスクＤ
の吸着、上昇、右回りの９０度の回転搬送、下降及びデ
ィスクＤの吸着解除によって、回転テーブルＲＴ３上に
搬送及び載置される。
【００４４】回転テーブルＲＴ３上に載置された未硬化
接着された光学記録ディスクＤは、回転テーブルＲＴ３
の回転によって、カバーＣＶの下を通過し、これによっ
て、ＵＶランプＬＵＶよりの紫外線が照射され、その第
１及び第２の円形基板Ｄ１、Ｄ２間の結果紫外線硬化型
樹脂Ｒが硬化されて、第１及び第２の円形基板Ｄ１、Ｄ
２が貼り合わせられた完成された光学記録ディスクＤが
得られる。その後は、回転アームホルダＲＨ２が逆回転
して、次の光学記録ディスクＤに対する上述と同様の動
作が繰り返される。
【００４５】
【発明の効果】第１の本発明によれば、第１及び第２の
円形基板間に、その第１及び第２の円形基板と略同心円
のリング状の紫外線硬化型樹脂を介在させて未硬化接着
された光学記録ディスクを、第１及び第２の円形基板間
を加圧しながら、その第１及び第２の円形基板のいずれ
か一方を低速回転させると共に他方を固定して、紫外線
硬化型樹脂を、その展延により所定の均一な厚さの層に
形成し、所定の均一な厚さの層状の紫外線硬化型樹脂を
有する未硬化接着された光学記録ディスクを高速回転
し、その高速回転された未硬化接着された光学記録ディ
スクに紫外線を照射して、層状の紫外線硬化型樹脂を硬
化せしめて、第１及び第２の円形基板が貼り合わせられ
てなる完成された光学記録ディスクを得るようにしたの
で、第１及び第２の円形基板の紫外線硬化型樹脂に対す
る濡れ性のバラツキがあっても、その紫外線硬化型樹脂
の内周側への展延が第１及び第２の円形基板と略同心円
状に行われて、硬化された紫外線硬化型樹脂の内周部側
の縁部が、第１及び第２の円形基板と略同心円の美しい
輪郭形状を呈し、両円形基板の紫外線硬化型樹脂に対す
る濡れ性のバラツキ、未硬化の紫外線硬化型樹脂に与え
る遠心力の制御の困難さ、第１及び第２の円形基板の板
厚のバラツキ等があっても、硬化された紫外線硬化型樹
脂の膜厚が均一となり、しかもその膜厚を所定値以下に
制御することのできる品質の良好な光学記録ディスクの
得られる光学記録ディスクの製造方法を得ることができ
る。
【００４６】第２の本発明によれば、第１及び第２の円
形基板間に、その第１及び第２の円形基板と略同心円の
リング状の紫外線硬化型樹脂を介在させて未硬化接着さ
れた光学記録ディスクを、第１及び第２の円形基板間を
加圧しながら低速回転させて、紫外線硬化型樹脂を、そ
の展延により所定の均一な厚さの層に形成し、所定の均
一な厚さの層状の紫外線硬化型樹脂を有する未硬化接着
された光学記録ディスクを高速回転し、その高速回転さ
れた未硬化接着された光学記録ディスクに紫外線を照射
して、層状の紫外線硬化型樹脂を硬化せしめて、第１及
び第２の円形基板が貼り合わせられてなる完成された光
学記録ディスクを得るようにしたので、第１及び第２の
円形基板の紫外線硬化型樹脂に対する濡れ性のバラツキ
があっても、その紫外線硬化型樹脂の内周側への展延が
第１及び第２の円形基板と略同心円状に行われて、硬化
された紫外線硬化型樹脂の内周部側の縁部が、第１及び
第２の円形基板と略同心円の美しい輪郭形状を呈し、両
円形基板の紫外線硬化型樹脂に対する濡れ性のバラツ
キ、未硬化の紫外線硬化型樹脂に与える遠心力の制御の
困難さ、第１及び第２の円形基板の板厚のバラツキ等が
あっても、硬化された紫外線硬化型樹脂の膜厚が均一と
なり、しかもその膜厚を所定値以下に制御することので
きる品質の良好な光学記録ディスクの得られる光学記録
ディスクの製造方法を得ることができる。
【００４７】第３の本発明によれば、第１の本発明にお
いて、第１及び第２の円形基板間を加圧する圧力を計測
し、その計測された圧力が紫外線硬化型樹脂の層の所定
の厚さに応じた所定値になったとき、第１及び第２の円
形基板間の加圧及び未硬化接着された光学記録ディスク
の低速回転を終了するようにしたので、第１及び第２の
円形基板の紫外線硬化型樹脂に対する濡れ性のバラツキ
があっても、その紫外線硬化型樹脂の内周側への展延が
第１及び第２の円形基板と略同心円状に行われて、硬化
された紫外線硬化型樹脂の内周部側の縁部が、第１及び
第２の円形基板と略同心円の美しい輪郭形状を呈し、両
円形基板の紫外線硬化型樹脂に対する濡れ性のバラツ
キ、未硬化の紫外線硬化型樹脂に与える遠心力の制御の
困難さ、第１及び第２の円形基板の板厚のバラツキ等が
あっても、硬化された紫外線硬化型樹脂の膜厚が均一と
なり、しかもその膜厚を所定値以下に確実に制御するこ
とのできる品質の良好な光学記録ディスクの得られる光
学記録ディスクの製造方法を得ることができる。
【００４８】第４の本発明によれば、第１の本発明にお
いて、第１及び第２の円形基板間の加圧中におけるその
第１又は第２の円形基板の基準位置からの移動量を計測
し、その計測された移動量が紫外線硬化型樹脂の層の所
定の厚さに応じた所定値になったとき、第１及び第２の
円形基板間の加圧及び未硬化接着された光学記録ディス
クの低速回転を終了するようにしたので、第１及び第２
の円形基板の紫外線硬化型樹脂に対する濡れ性のバラツ
キがあっても、その紫外線硬化型樹脂の内周側への展延
が第１及び第２の円形基板と略同心円状に行われて、硬
化された紫外線硬化型樹脂の内周部側の縁部が、第１及
び第２の円形基板と略同心円の美しい輪郭形状を呈し、
両円形基板の紫外線硬化型樹脂に対する濡れ性のバラツ
キ、未硬化の紫外線硬化型樹脂に与える遠心力の制御の
困難さ、第１及び第２の円形基板の板厚のバラツキ等が
あっても、硬化された紫外線硬化型樹脂の膜厚が均一と
なり、しかもその膜厚を所定値以下に確実に制御するこ
とのできる品質の良好な光学記録ディスクの得られる光
学記録ディスクの製造方法を得ることができる。
【００４９】第５の本発明によれば、第２の本発明にお
いて、第１及び第２の円形基板間を加圧する圧力を計測
し、その計測された圧力が紫外線硬化型樹脂の層の所定
の厚さに応じた所定値になったとき、第１及び第２の円
形基板間の加圧及び未硬化接着された光学記録ディスク
の低速回転を終了するようにしたので、第１及び第２の
円形基板の紫外線硬化型樹脂に対する濡れ性のバラツキ
があっても、その紫外線硬化型樹脂の内周側への展延が
第１及び第２の円形基板と略同心円状に行われて、硬化
された紫外線硬化型樹脂の内周部側の縁部が、第１及び
第２の円形基板と略同心円の美しい輪郭形状を呈し、両
円形基板の紫外線硬化型樹脂に対する濡れ性のバラツ
キ、未硬化の紫外線硬化型樹脂に与える遠心力の制御の
困難さ、第１及び第２の円形基板の板厚のバラツキ等が
あっても、硬化された紫外線硬化型樹脂の膜厚が均一と
なり、しかもその膜厚を所定値以下に確実に制御するこ
とのできる品質の良好な光学記録ディスクの得られる光
学記録ディスクの製造方法を得ることができる。
【００５０】第６の本発明によれば、第２の本発明にお
いて、第１及び第２の円形基板間の加圧中におけるその
第１又は第２の円形基板の基準位置からの移動量を計測
し、その計測された移動量が紫外線硬化型樹脂の層の所
定の厚さに応じた所定値になったとき、第１及び第２の
円形基板間の加圧及び未硬化接着された光学記録ディス
クの低速回転を終了するようにしたので、第１及び第２
の円形基板の紫外線硬化型樹脂に対する濡れ性のバラツ
キがあっても、その紫外線硬化型樹脂の内周側への展延
が第１及び第２の円形基板と略同心円状に行われて、硬
化された紫外線硬化型樹脂の内周部側の縁部が、第１及
び第２の円形基板と略同心円の美しい輪郭形状を呈し、
両円形基板の紫外線硬化型樹脂に対する濡れ性のバラツ
キ、未硬化の紫外線硬化型樹脂に与える遠心力の制御の
困難さ、第１及び第２の円形基板の板厚のバラツキ等が
あっても、硬化された紫外線硬化型樹脂の膜厚が均一と
なり、しかもその膜厚を所定値以下に確実に制御するこ
とのできる品質の良好な光学記録ディスクの得られる光
学記録ディスクの製造方法を得ることができる。
【００５１】第７の本発明によれば、第１及び第２の円
形基板間に、その第１及び第２の円形基板と略同心円の
リング状の紫外線硬化型樹脂を介在させて未硬化接着さ
れた光学記録ディスクの第１の円形基板を保持するディ
スク保持手段と、未硬化接着された光学記録ディスクの
第２の円形基板を保持して低速回転駆動するディスク低
速回転駆動手段と、そのディスク低速回転駆動手段を、
ディスク保持手段に保持されている第１の円形基板に向
かって押し付けるディスク押し付け駆動手段と、未硬化
接着された光学記録ディスクを高速回転駆動する高速回
転駆動手段と、未硬化接着された光学記録ディスクに紫
外線を照射する紫外線照射手段とを有するので、第１及
び第２の円形基板の紫外線硬化型樹脂に対する濡れ性の
バラツキがあっても、その紫外線硬化型樹脂の内周側へ
の展延が第１及び第２の円形基板と略同心円状に行われ
て、硬化された紫外線硬化型樹脂の内周部側の縁部が、
第１及び第２の円形基板と略同心円の美しい輪郭形状を
呈し、両円形基板の紫外線硬化型樹脂に対する濡れ性の
バラツキ、未硬化の紫外線硬化型樹脂に与える遠心力の
制御の困難さ、第１及び第２の円形基板の板厚のバラツ
キ等があっても、硬化された紫外線硬化型樹脂の膜厚が
均一となり、しかもその膜厚を所定値以下に制御するこ
とのできる品質の良好な光学記録ディスクの得られる光
学記録ディスクの製造装置を得ることができる。
【００５２】第８の本発明によれば、第７の本発明にお
いて、ディスク保持手段には、第１及び第２の円形基板
間を加圧する圧力を計測する圧力計測手段が設けられ、
その圧力計測手段によって計測された圧力が、紫外線硬
化型樹脂の層の所定の厚さに応じた所定値になったとき
は、ディスク押し付け駆動手段によるディスク低速回転
駆動手段の第１の円形基板に向かう押し付け及びディス
ク低速回転駆動手段による第２の円形基板の低速回転を
終了するようにしたので、第１及び第２の円形基板の紫
外線硬化型樹脂に対する濡れ性のバラツキがあっても、
その紫外線硬化型樹脂の内周側への展延が第１及び第２
の円形基板と略同心円状に行われて、硬化された紫外線
硬化型樹脂の内周部側の縁部が、第１及び第２の円形基
板と略同心円の美しい輪郭形状を呈し、両円形基板の紫
外線硬化型樹脂に対する濡れ性のバラツキ、未硬化の紫
外線硬化型樹脂に与える遠心力の制御の困難さ、第１及
び第２の円形基板の板厚のバラツキ等があっても、硬化
された紫外線硬化型樹脂の膜厚が均一となり、しかもそ
の膜厚を所定値以下に確実に制御することのできる品質
の良好な光学記録ディスクの得られる光学記録ディスク
の製造装置を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施の形態の具体例の光学記録ディス
クの製造方法を示す工程図である。
【図２】本発明の具体例の光学記録ディスクの製造装置
のディスク加圧回転機を示す図である。Ａ ディスク回
転機の正面図である。Ｂ そのディスク回転機の側面図
である。Ｃ 光学記録ディスクを示す断面図である。Ｄ
ディスクホルダを示す正面図であす。
【図３】具体例の光学記録ディスクの製造装置のディス
ク反転機を示す側面図である。
【図４】具体例の光学記録ディスクの製造装置のディス
ク上下駆動機を示す側面図である。
【図５】具体例の光学記録ディスクの製造装置を示す平
面図である。
【図６】従来例の光学記録ディスクの製造方法を示す工
程図である。
【符号の説明】
Ｄ１ 第１の円形基板、ｈ１ 第１の円形基板の中心
孔、ｒ１ 第１の円形基板の記録面、Ｄ２ 第２の円形
基板、ｈ２ 第２の円形基板の中心孔、ｒ２ 第２の円
形基板の記録面、Ｒ 紫外線硬化型樹脂、Ｄ 光学記録
ディスク。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 板羽 賢忠 東京都品川区北品川６丁目７番35号 ソニ ー株式会 社内 (72)発明者 森岡 督大 東京都品川区北品川６丁目７番35号 ソニ ー株式会 社内 Ｆターム(参考） 5D121 AA07 FF03 FF11 FF18 GG02

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 第１及び第２の円形基板間に、該第１及
    び第２の円形基板と略同心円のリング状の紫外線硬化型
    樹脂を介在させて未硬化接着された光学記録ディスク
    を、上記第１及び第２の円形基板間を加圧しながら、該
    第１及び第２の円形基板のいずれか一方を低速回転させ
    ると共に他方を固定して、上記紫外線硬化型樹脂を、そ
    の展延により所定の均一な厚さの層に形成し、 上記所定の均一な厚さの層状の紫外線硬化型樹脂を有す
    る未硬化接着された光学記録ディスクを高速回転し、 該高速回転された未硬化接着された光学記録ディスクに
    紫外線を照射して、上記層状の紫外線硬化型樹脂を硬化
    せしめて、上記第１及び第２の円形基板が貼り合わせら
    れてなる完成された光学記録ディスクを得るようにした
    ことを特徴とする光学記録ディスクの製造方法。
  2. 【請求項２】 第１及び第２の円形基板間に、該第１及
    び第２の円形基板と略同心円のリング状の紫外線硬化型
    樹脂を介在させて未硬化接着された光学記録ディスク
    を、上記第１及び第２の円形基板間を加圧しながら低速
    回転させて、上記紫外線硬化型樹脂を、その展延により
    所定の均一な厚さの層に形成し、 上記所定の均一な厚さの層状の紫外線硬化型樹脂を有す
    る未硬化接着された光学記録ディスクを高速回転し、 該高速回転された未硬化接着された光学記録ディスクに
    紫外線を照射して、上記層状の紫外線硬化型樹脂を硬化
    せしめて、上記第１及び第２の円形基板が貼り合わせら
    れてなる完成された光学記録ディスクを得るようにした
    ことを特徴とする光学記録ディスクの製造方法。
  3. 【請求項３】 上記第１及び第２の円形基板間を加圧す
    る圧力を計測し、該計測された圧力が上記紫外線硬化型
    樹脂の層の所定の厚さに応じた所定値になったとき、上
    記第１及び第２の円形基板間の加圧及び上記未硬化接着
    された光学記録ディスクの低速回転を終了することを特
    徴とする請求項１に記載の光学記録ディスクの製造方
    法。
  4. 【請求項４】 上記第１及び第２の円形基板間の加圧中
    における該第１又は第２の円形基板の基準位置からの移
    動量を計測し、該計測された移動量が上記紫外線硬化型
    樹脂の層の所定の厚さに応じた所定値になったとき、上
    記第１及び第２の円形基板間の加圧及び上記未硬化接着
    された光学記録ディスクの低速回転を終了することを特
    徴とする請求項１に記載の光学記録ディスクの製造方
    法。
  5. 【請求項５】 上記第１及び第２の円形基板間を加圧す
    る圧力を計測し、該計測された圧力が上記紫外線硬化型
    樹脂の層の所定の厚さに応じた所定値になったとき、上
    記第１及び第２の円形基板間の加圧及び上記未硬化接着
    された光学記録ディスクの低速回転を終了することを特
    徴とする請求項２に記載の光学記録ディスクの製造方
    法。
  6. 【請求項６】 上記第１及び第２の円形基板間の加圧中
    における該第１又は第２の円形基板の基準位置からの移
    動量を計測し、該計測された移動量が上記紫外線硬化型
    樹脂の層の所定の厚さに応じた所定値になったとき、上
    記第１及び第２の円形基板間の加圧及び上記未硬化接着
    された光学記録ディスクの低速回転を終了することを特
    徴とする請求項２に記載の光学記録ディスクの製造方
    法。
  7. 【請求項７】 第１及び第２の円形基板間に、該第１及
    び第２の円形基板と略同心円のリング状の紫外線硬化型
    樹脂を介在させて未硬化接着された光学記録ディスクの
    上記第１の円形基板を保持するディスク保持手段と、 上記未硬化接着された光学記録ディスクの上記第２の円
    形基板を保持して低速回転駆動するディスク低速回転駆
    動手段と、 該ディスク低速回転駆動手段を、上記ディスク保持手段
    に保持されている上記第１の円形基板に向かって押し付
    けるディスク押し付け駆動手段と、 上記未硬化接着された光学記録ディスクを高速回転駆動
    する高速回転駆動手段と、 上記未硬化接着された光学
    記録ディスクに紫外線を照射する紫外線照射手段とを有
    することを特徴とする光学記録ディスクの製造装置。
  8. 【請求項８】 上記ディスク保持手段には、上記第１及
    び第２の円形基板間を加圧する圧力を計測する圧力計測
    手段が設けられ、該圧力計測手段によって計測された圧
    力が、上記紫外線硬化型樹脂の層の所定の厚さに応じた
    所定値になったときは、上記ディスク押し付け駆動手段
    による上記ディスク低速回転駆動手段の上記第１の円形
    基板に向かう押し付け及び上記ディスク低速回転駆動手
    段による上記第２の円形基板の低速回転を終了すること
    を特徴とする請求項７に記載の光学記録ディスクの製造
    装置。
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