WO2004057381A1

WO2004057381A1 - 透明導電性積層体,タッチパネル及びタッチパネル付液晶表示装置

Info

Publication number: WO2004057381A1
Application number: PCT/JP2003/016240
Authority: WO
Inventors: Hitoshi Mikoshiba; Haruhiko Ito; Isao Shiroishi
Original assignee: Teijin Limited
Priority date: 2002-12-20
Filing date: 2003-12-18
Publication date: 2004-07-08
Also published as: EP1574882B1; KR20050083709A; HK1086628A1; EP1574882A1; CN100376907C; JPWO2004057381A1; TW200416750A; KR100981901B1; JP4059883B2; US7833588B2; HK1075701A1; US20060013967A1; EP1574882A4; TWI347615B; CN1729410A

Abstract

　本発明の透明導電性積層体は、光弾性定数が７０×１０−１２Ｐａ−１以下である高分子からなるフィルムと、その一方の面に形成したヘーズ値が０．２～１．４％の範囲である光散乱層と、他方の面に形成した透明導電層とを含み、かつ全体としてλ／４の位相差を与える積層体である。かかる積層体を用いることにより、反射光を抑え、変色も見られなくしたがって、視認性に優れ、屋外でも使用しやすく高い信頼性を有するタッチパネル及びそれを用いた液晶表示装置を提供することができる。

Description

明細書透明導電性積層体、タツチパネル及ぴタツチパネル付液晶表示装置技術分野

本発明は、透明導電性積層体に関する。特にタツチパネル及びタツチパネル付液晶表示装置に好適に用いることができる透明導電性積層体に関する。背景技術

近年、液晶を用いて情報を表示する表示装置と情報入力用のタツチパネル（タツチスタリーン、透明メンブレンスイッチとも称される）などの入力装置とを搭載した情報機器が広く使用され始めている。タツチパネルとしては、抵抗膜方式のものが多い。この抵抗膜方式のタツチパネルは、透明導電層が形成された二枚の透明電極基板（可動電極基板と固定電極基板）をおよそ 1 0〜1 0 Ο μ ηιの間隔で相対させることにより構成されている。その際に、外力のない状態で可動電極基板と固定電極基板.との間の絶縁性を保持するために、通常固定電極基板の電極面上にドットスぺーサを設ける。これにより、可動電極基板の外側から、指またはペンで押圧すると、押圧部においてのみ可動電極基板と固定電極基板の電極面同士が接触してスィッチとして動作し、例えば、液晶表示装置画面上のメュユーの選択あるいは手書き図形や手書き文字の入力等を行なうことができる。

タツチパネル付きの液晶表示装置を搭載した上記情報機器の中で、例えばビデオカメラ、 P D A (Personal Digital Assistant) , スマートフォン等は携帯用としてしばしば用いられる。これらの携帯型情報機器のタツチパネル付き液晶表示装置は、通常屋外で使用されるために種々の方向から来る光源の存在下で見られることになる。そのため、画像を認識させる光（例えば液晶表示部から来る光）の他にノイズ光（タツチパネル部からの反射光）が同時に眼に入り、表示が見にくレ、。

特開平 0 5— 1 2 7 8 2 2号公報には、タツチパネル部に 1 Z 4波長位相差フィルムと偏光板とノングレア処理された透明フィルムとを順次に積層することによ反射光を低下させるタツチパネルが記載されている。このタツチパネルは、タツチパネル部の反射光を低下させる効果があるが、液晶表示部から出た光が 1 / 4波長の位相差フイルムの作用により、着色する問題がある。

WO 9 9 / 6 6 3 9 1号公報には、位相差が 9 0〜 2 0 0 n mで光弾性定数が 5 X 1 0一 ¹³ cm ²/ dy n e〜 65 X 10— ¹³ cm²/ dyn e (5〜65 X 10^_12P _a-¹) の位相差フィルムと一対の透明導電基板を用いたタッチパネルが開示されている。更に位相差フィルムに透明導電層を設けたものをタツチパネルの透明導電基板として使用できることが記载されている。

しかしながら、位相差フィルムの透明導電層を設けた面と反対側の面に保護層がないと、透明導電層を設ける工程ゃタッチパネルに加工する工程で位相差フイルムに傷が発生したりする実際の製造上に問題や、位相差フィルムを偏光板と貼り合わせる際の接着性における信頼性が十分でない場合があることが分かった。そこで、位相差フィルムの偏光板と貼り合せる面に、偏光板との接着性を向上させるための機能と種々の加工工程での傷を防止するための機能を兼ね備えた層を設けたところ、この層の膜厚斑による縞状の赤緑色の斑が目立ち液晶表示装置の視認性が低下する問題が生じることが明らかになった。

他方、特開平 5— 50561号公報には、フィルムの一方の面は中心線平均粗さ（Ra) 0. 05〜5. 0 μπιの範囲の粗面化された面であり、他方の面には透明導電層が形成された透明導電性フィルム（透明導電性積層体）および該透明導電性フィルム（透明導電性積層体）を下部シート（固定電極基板）に使用して構成したタツチパネルが開示されている。タツチパネルを補強するために下部シートと接するように支持板を設けた時に下部シートと支持板間に光干渉による色斑が発生する問題があつたが、下部シートに粗面化面を形成することにより光干渉によ'る色斑を防止している。'粗面化面を設ける方法として無機微粒子または有機微粒子を含有する層を設ける方法が挙げられている。この方法は縞状の赤緑色の斑を解消する方法としては効果がある。しかしながら粗面化面の中心線平均粗さが大き過ぎるためヘーズが高くなり液晶ディスプレイの視認性が損なわれる問題がある。 · 発明の開示

本発明の主たる目的は、 1/4の位相差を与える新規な透明導電性積層体を提供することにある。

本発明の他の目的は、特にタツチパネルとして用いたときに見やすく、視認性が向上した上記積層体を提供することにある。 '

本宪明のさらに他の目的は、上記積層体を用いたタツチパネル及ぴタツチパネル付き液晶表示装置を提供することにある。

本発明の他の目的おょぴ利点は以下の説明から明らかになろう。本発明によれば、本発明の目的および利点は.、第 1に、光弾性定数が 70 X 10"¹²P a 一¹以下である高分子からなるフィルム（高分子フィルム A) と、その一方の面に形成したへーズ値が 0. 2〜： L . 4 %の範囲である光散乱層と、他方の面に形成した透明導電層とを含み、かつ全体として; 1/4の位相差を与える透明導電性積層体によって達成される。

また本発明の目的および利点は、第 2に、上記積層体を特定の位置に配置したタツチパネル及びタッチパネル付き液晶表示装置によつて達成される。図面の簡単な説明

図 1は、実施例 1 (及ぴ比較例 1) で作製したタツチパネルの概略図である。

図 2は、実施例 2で作製したタツチパネルの概略図である。

図 3は、実施例 3 (及び比較例 2 ) で作製したタツチパネル付き液晶表示装置の概略図でめる。

図 4は、実施例 4で作製したタッチパネル付き液晶表示装置の概略図である。符号の説明

1 ：アンチグレアハードコート層

2 ：光散乱層（又は透明樹脂層）

3 ：位相差フィルム

4 ：硬化樹脂層

5 ：透 ^導電層

6 ：ドットスぺーサ

7 ：透明導電層

8 ：ガラス板

9 ：高屈折率層

10 ：低屈折率層

1 1 ：位相差フィルム '

12 ：高分子フィルム

1 3 ：偏光板

14- 1 :透明導電性積層体

14-2 :透明導電性積層体 15 ：透明導電性積層体

16 ：透明導電性積層体 .

17 ：透明導電性積層体

18 ：位相差フィルム

19 ：偏光板

20 ：位相差フィルム

21 ：液晶セル部

22 ：偏光板本発明の好ましい実施形態

本発明の透明導電性積層体は、高分子からなるフィルム（以下、高分子フィルム Aという) と、その一方の面に光散乱層を有し、他方の面に透明導電層を有して構成される。そして、該積層体全体として λ / 4の位相差を与えるものである。

前記高分子フィルム Αは、 1層のフィルムからなっていてもよいし、 2層以上のフィルムの積層体から構成されていてもよい。'

1層のフィルムからなる場合、かかる高分子フィルム Aとしては、それ 1層で; L/4の位相差を与えるような機能を有するフィルム、つまり iZ4位相差フィルムが挙げられる。

2層以上のフィルムの積層体からなる場合の高分子フィルム Aとしては、例えば（i) 光学等方性に優れた（例えばリターデーション（An d) 値が 30 nm以下の） 1層のフィルムの上に接して、 1層の Z4の位相差を与えるフィルムが設けられた積層フィルム、（i i ) 光学等方性に優れた（例えばリタ一デーシヨン（An d) 値が 30 nm以下の） 1層のフィルムの上に接して、 1層の； 1/4の位相差を与えるフィルム及ぴ 1層のえ / 2の位相差を与えるフィルムが設けられた積層フィルム、（i i i) 1層のえ /4の位相差を与えるフイルムと 1層の λΖ2の位相差を与えるフィルムとからなる積層位相差フィルム、が挙げられる。

かかるえ /4の位相差または λΖ2の位相差を与えるフィルムを得る製法としては、例えば、光弾性定数が 70X 10— ¹²Pa一¹以下である高分子からなるフィルムを一軸延伸する (又は逐次または同時に二軸延伸する）ことにより、高分子フィルム自身に λΖ4の位相差または; 1/ 2の位相差を発現させる方法や、光弾性定数が 7 OX 10_¹²P a一¹以下である高分子フィルム上に λΖ4の位相差または λ Ζ 2の位相差を発現させる化合物の層（例えば高分子液晶からなる層）を設ける方法が挙げられる。 , このような高分子フィルム Aを用いることにより、全体としてん /4の位相差を与える透明導電性積層体が提供される。特に、高分子フィルム Aが、光学等方性に優れた（例えばリターデーシヨン（And) 値が 30 nm以下の） 1層のフィルムの上に接して、 1層の； / 4の位相差を与えるフィルム及び 1層の / 2の位相差を与えるフィルムが設けられた積層フィルムであるか又は、 1層の; L/4位相差フィルムと 1層の λ/2位相差フィルムとからなる積層位相差フィルムであると、積層体全体として広帯域性に優れるえ Ζ4の位相差を与えるので好ましい。

本発明における好ましい実施態様の一例を図 1に示す。図 1は、後述する実施例 1におけるタツチパネルの概略図である。図 1において、高分子フィルム A (3 ：； LZ4位相差フィルム）の片側に硬化樹脂層（4) を介して透明導電層 (5) が配置され、該高分子フィルム Aのもう一方の片側には光散乱層（ 2 ) が設けられ透明導電性積層体 P (14-1) が構成されている。この高分子フィルム Aが透明導電性積層体 P. (14-1) 全体に; LZ4の位相差を与えるように作用している。さらに偏光板（13) と上記透明導電性積層体 P (14- 1) との積層物と、空隙を挟んで透明導電性積層体 R (15) とが配置されて、タツチパネルが構成されている。

また本発明の透明導電性積層体は、さらに、前記高分子フィルム Aの透明導電層とは反対側の表面に、光弾性定数が 70X 10— ¹² P a—¹以下である高分子からなる他のフィルム (以下、高分子フィルム Bという）が積層されているものも含む。

この場合、前記高分子フィルム Aまたは高分子フィルム Bのどちらかの作用で、積層体全体として; LZ 4の位相差を与えてもよく、高分子フィルム Aと高分子フィルム Bの両方の作用によって、積層体全体として λ/4の位相差を与えてもよい。高分子フィルム Αに要求される面内のリターデーション値は高分子フィルム Bとの関係で異なる。

前記高分子フィルム Aの作用で積層体全体として；ノ 4の位相差を与える積層体においては、高分子フィルム Aとしては上記したような態様のものを使用することができる。この場合、高分子フィルム Bとしては、全体の作用を妨げないような光学等方性に優れた（例えばリタ一デーシヨン値（Δ n d) が 30 nm以下の）ものを用いることができる。このような高分子フィルム Bは、高分子フィルム Aと共にタツチパネルの電極基板として用いると、全体の強度を高めるための支持体となるので好ましい場合がある。

高分子フィルム Bの作用で、積層体全体として； L / 4の位相差を与えるように機能する積層体においては、高分子フィルム Aが光学等方性に優れた（例えばリタ一デーシヨン値（Δ n d) が 30 nm以下の) フィルムであり、かつ高分子フィルム Bが、 ( i ) λ/4の位相差を与える.1層のフィルムであるか、（i i) 4の位相差を与える 1層のフィルムと； L / 2の位相差を与える 1層のフィルムとの積層位相差フィルムである例を挙げることがで含る。，

かかる 4の位相差または; 1/ 2の位相差を与えるフィルムを得る製法としては、例えば、光弾性定数が 70X 10— ¹²P a一¹以下である高分子からなるフィルムを一軸延伸する (又逐次または同時に二軸延伸する）ことにより、高分子フィルム自身にえ Z4の位相差またはえ / 2の位相差を発現させる方法や、光弾性定数が 70 X 10— ¹² P a一¹以下である高分子フィルム上にえノ 4の位相差または； L Z 2の位相差を発現させる化合物の層（例えば高分子液晶からなる層）を設ける方法が挙げられる。高分子フィルム Bの作用で、積層体全体としてえ /4の位相差を与えるように機能する積層体においては、特に、高分子フィルム B力 1層のえ Z 4位相差フィルムと 1層の； IZ 2位相差フィルムとからなる積層位相差フイルムであると、積層体全体として広帯域性に優れる； 1/4の位相差を与えるので好ましレ、。高分子フィルム Aと高分子フィルム Bの両方の作用によって、積層体全体としてえ Z4の位相差を与える積層体においては、高分子フィルム Aまたは Bのどちらか一方に前記したような; LZ 4の位相差を与えるフィルムを用い、他方に前記したような； 1/2の位相差を与えるフィルムを用いることができる。

特に、高分子フィルム Aとして、 1枚のえ /4位相差フィルムを用レ、、高分子フィルム B として、 1枚の; 1/2位相差フィルムを用いると、高分子フィルム Aと Bとの作用により積層体全体として広帯域性に優れる； LZ 4の位相差を与えるので好ましい。

本発明における好ましい実施態様の一例を図 4に示す。図 4は、後述する実施例 4におけるタツチパネル付き液晶表示装置の概略図である。図 4において、高分子フィルム A (1 2：光学等方性フィルム) の片側に硬化樹脂層（4)、高屈折率層（9)、低屈折率層（10) を介して透明導電層 ( 5 )が配置され、該高分子フィルム Aのもう一方の片側には光散乱層 ( 2 ) が設けられ、さらにその上に、高分子フィルム B (λΖ4位相差フィルム (1 1) と λ/2 位相差フィルム（3) とからなる積層位相差フィルム）が配置されている。この場合、積層位相差フィルムである高分子フィルム Β力透明導電性積層体 Ρ (17) 全体にえ 4の位相差を与えるように作用している。偏光板（1 3) と上記透明導電性積層体 Ρ (1 7) との積層物と、空隙を挟んで透明導電性積層体 R (16) とが配置されてタツチパネル部が構成される。さらに該タツチパネル部、液晶セル部（21)、偏光板（22) と積層されタツチパネル付き液晶表示装置が構成されている。

ここで液晶セル部とは透明電極基板間に液晶を挟持したものであり、液晶セル部単独では画像表示は出来ない。液晶セル部と偏光板と位相差フィルムとを組み合わせることにより液晶表示装置として機能する。

<高分子フィルム A >

本発明に用いる高分子フィルム Aは、これを構成する高分子の光弾性定数が 70 X 10— ¹² P a一¹以下、好ましくは 64 X 10— ¹²P a一¹以下である。従来の光弾性定数が 70 X 1 0_¹²P a一¹を超える高分子からなるフィルム上に透明導電層を設けた透明導電性積層体を偏光板、位相差フィルムと共に用いて構成されているタツチパネルでは、 80°Cに加熱した際に、接着部（シール部）から内側に向かって円弧状に変色が発生することがある。本発明における高分子フィルム Aを用いたタツチパネルではこの変色の発生をかなり抑えることができる。更に、光弾性定数が 70X 10— ¹² P a—¹を超える高分子からなるフィルム Aを用いることにより、加工工程での位相差の変化もかなり抑制できる。力かる光弾性定数の下限値としては特に制限はないが、通常 0. 5X 10— ¹²P a^_1 (0. 5 X 10— ¹³ cm ²/d y n e) である。

光弾性定数が 70 X 10— ¹²P a— ¹ (70 X 10一¹³ cmVd y n e) 以下の高分子としては、熱可塑性榭脂、例えばフルオレン環やイソホロン環を有する芳香族ポリカーボネートが挙げられる。すなわち、下記式（I)

で示される繰り返し単位を、ポリカーボネートを構成する繰り返し単位全体の 70〜30モル％、好ましくは 70〜35モル⁰ /₀を占めるポリカーボネートである。

ここで、上記式（I) において、 R Rsはそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子および炭素数 1〜6の炭化水素基から選ばれる少なくとも一種の基である。該炭化水素基としては、例えばメチル基、ェチル基の如きアルキル基、フエニル基の如きァリール基が挙げられる。

Xは下記式

で表される基 (フルオレン成分）、または下記式

で表される基（イソホロン成分）が挙げられる。 R₉および R₁₀はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子またはメチル基の如き炭素数 1〜 3のアルキル基である。

より好ましいポリカーボネート材料としては、上記式（I) で表される繰り返し単位及び下記式（I I)

で示される繰り返し単位からなり、かつ上記式（I) および（I I) の合計に基づき上記式 ( I ) で表される繰り返し単位は、ポリカーボネートを構成する繰り返し単位全体の 70〜 30モル％を占める。

上記式（I I) において、 Ru R^はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子および炭素数 1〜22の炭化水素基から選ばれる少なくとも一種の基であり、 Yは下記式のそれぞれで表される基：

¾3 c- -O- ~ R₂₂一 O- -Si- o O ^R24 及び -R '25一

よりなる群から選ばれる少なくとも 1種の基である。ここで、 Y中の R₁₉〜R₂₁、 R₂₃及ぴ R₂₄はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、またはアルキル基、ァリール基の如き炭素数 1〜 22の炭化水素基であり、 R ₂₂及び R ₂₅はそれぞれ独立に、アルキル基、ァリール基の如き炭素数 1〜 20の炭化水素基であり、また A r i〜A r ₃はそれぞれ独立に、フヱニル基の如き炭素数 6〜 10のァリール基である。

さらに好ましくは、上記ポリカーボネートは下記式（I I I)

で表される繰り返し単位と、下記式（IV)

で表される繰り返し単位とを含むポリカーボネートである。

上記式（I I I) において、 R ₂₆及ぴ R ₂₇はそれぞれ独立に、水素原子またはメチル基である。好ましくは、 R ₂₆及び R₂₇の両方がメチル基である。

上記式（IV) において、 R₂₈〜R₂₃はそれぞれ独立に、水素原子またはメチル基である。好ましくは水素原子である。

上記ポリカーボネートは、共重合体であっても、ポリマー混合物（ブレンド体、ブレンドポリマー）であってもよい。 2種類以上の共重合体の組み合わせでもよく、 2種類以上のホモポリマー同士あるいはホモポリマーと共重合体が混合されていてもよい。

光弾性定数が 70 X 10 ¹²P a— ¹ (70 X 10~¹³ cm²/d y n e) 以下のポリマーとしては、上記以外に、例えばシクロポリオレフイン系樹脂が拳げられる。該シクロポリオレフイン系樹脂からなる高分子フィルムとしては、三井石油化学（株）製「TPX」、「ΑΡ Oj、日本ゼオン（株）製「ZEONOR」、 J SR製「ARTON」等が挙げられる。上記高分子フィルム Aを構成する高分子は、透明導電性積層体を製造する際や透明導電性積層体をタツチパネルに加工する際に通常加熱工程があるため耐熱性が高いことが望ましい。

耐熱性はガラス転移点温度 (Tg)と相関がある。 T gは D S Cで測定することができる。光弾性定数が低い高分子を用いた場合、加工温度より T gが 10°C以上高ければ加工時のフイルムの位相差変化を抑えることができる。光弾性定数が比較的高い高分子の場合、加工時の位相差変化を抑えるためには、 T gが加工温度より 45 °C以上高いことが好ましい。例えば、加工温度を 125°Cとした場合、光弾性定数力 7 X 10— ¹²P a— ¹ (7X 10 ¹³ cm ² d yn e) 以下の:ンクロォレフィンポリマーの場合、 T gは 135 °C以上であることが好ましい。また、光弾性定数が 30〜70 X 10-¹²P a— ¹ ( 70 X 10— ¹³ c m²/ d y n e) のポリカーボネート榭脂等の熱可塑性樹脂の場合は、 T gは 170 °C以上であることが好ましい。

上記高分子フィルム Aの製造方法としては、例えば公知の溶融押し出し法、溶液キャスト法等が用いられる。溶液キャスト法における溶剤としては、例えば上記ポリカーボネートを用いる場合にはメチレンクロライド、ジォキソラン等が好適である。

高分子フィルム Aの厚さとしては、通常 50〜200 μπι、好ましくは 70〜 150 m である。

本発明の透明導電性積層体は、この積層体自身でえ Z 4の位相差を与えることを特徴とするものである。つまり、本発明の積層体は、例えば偏光板を通過して出た直線偏光が、本発明の積層体の一方の面から他方の面へ通過したときに、該直線偏光を円偏光に変換させることができる、いわば； I Z 4位相差フイルムと同じ機能を有する。

したがつて、偏光板と本発明の透明導電性積層体との積層物と空隙を挟んで他の透明導電性積層体とを配置してタツチパネル部を構成した場合、タツチパネル部での外光の反射を低下させることができる。

タツチパネル部での外光の反射を低下させる原理は以下のとおりである。即ち、入力操作側にある偏光板を通過した直線偏光は可動電極基板側にある 1 / 4波長の位相差フィルムを通過すると円偏光になり、これが可動電極基板の電極面又は固定電極基板の電極面で反射を受けると逆回りの円偏光になる。可動電極基板側にある 1 Z 4波長の位相差フィルムを再び通過すると、偏波面が入射時と 9 0度 [II転した直線偏光になるため、偏光板に吸収され、タツチパネル部の反射が抑制される。

本発明の透明導電性積層体を用いたタツチパネル付き液晶表示装置は以下の 2種類に分類され、本発明ではそれぞれ円偏光板タイプ、組み込みタイプと呼ぶこととする。

( 1 ) 円偏光板タイプ

本発明の円偏光板タイプのタツチパネル付き液晶表示装置は、入力操作面側から順に、偏光板 1.と λ / 4の位相差を与える透明導電性積層体 Pとの積層物と、空隙を挟んで他の透明導電性積層体 Rとが配置されて構成されているタツチパネル部と、位相差フイノレム 2と、偏光板 2と、位相差フイルム 3と、液晶セル部と、偏光板 3とが順に積層されて構成されたものである。 ·

この場合、偏光板 2と位相差フイルム 3と液晶セル部と偏光板 3とで液晶表示装置が構成されている。透明導電性積層体 Rは偏光に影響を与えないようリターデーション値が 3 0 η m以下であることが必要である。位相差フィルム 2は; L Z4位相差フィルムであり、透明導電性積層体 Pの光学軸と位相差フィルム 2の光学軸は互いに直交している。偏光板 2から出た光は互いの光学軸同士が直交した 2枚の 1ノ 4波長の位相差フィルムを通過するため実質的に位相差が打ち消され、偏光が何ら変化を受けずに入力操作側にある偏光板に達し、偏光板を通過するか又は偏光板に吸収され表示が行われる。この様にして偏光板 2から出た光の着色を抑えることができる。

( 2 ) 組み込みタイプ

本発明の組み込みタイプのタツチパネル付き液晶表示装置は、入力操作面側から順に、偏光板 1と λ 4の位相差を与える透明導電性積層体 Pとの積層物と、空隙を挟んで他の透明導電性積層体 Rとが配置されて構成されているタツチパネル部と、液晶セル部と、偏光板 3 とが順に積層されて構成されたものである。

この場合、偏光板 1と λ Ζ 4の位相差を与える透明導電性積層体 Ρと液晶セル部と偏光板 3とで液晶表示装置が構成される。透明導電性積層体 Rのリターデーション値が 3 0 n m以下であれば偏光に影響与えないのでタツチパネルを組み込んでも着色の問題はほとんどなレ、。

ここで、え Z 4の位相差を与えるとは、理想的には可視光領域の全ての波長に対してえ Z 4の位相差を与えるという意味である。しかし波長 550 nmにおける位相差が； 1/4であれば他の波長での位相差が多少; 1/4からずれていても実用上は問題なレ、。波長 550 nm におけるリタ一デーシヨン値（ n d) は 125〜150 n mであることが好ましく、 13 1〜145 nmであることがより好ましい。リタ一デンシヨン値が、これより小さくても大きくても偏光板と組合せた場合の外光の反射低減効果力 S小さくなり好ましくない。

上記円偏光板タイプにおいて、位相差フィルム 2は、視認性を高めるために; LZ4位相差フィルムであることが好ましい。 '

上記位相差フィルム 2を構成する材料は特に限定しないが、本発明の透明導電性積層体 P との波長 550 nmにおけるリターデーシヨン値の差は 10 n m以下であることが好ましい。リタ一デーシヨン値の差が 1 Onmを超えると着色が目立つようになる。また、該透明導電性積層体 Pと位相差フィルム 2との間の波長分散の差が大きいと着色が目立つ様になる。したがって、該透明導電性積層体 Pと位相差フィルム 2の波長分散の差は小さいことが好ましい。すなわち、波長 450 nm、 550 nm, 650 nmでのリタ一デーシヨン値をそれぞれ R (450)、 R (550)、 R (650) とした時、該透明導電性積層体 Pの波長分散が R (450) /R (550) > 1でかつ R (650) /R (550) く 1の場合には、位相差フィルム 2の波長分散も R (450) /R (550) > 1でかつ R (650) /R (5 50) く 1であることが好ましい。逆に、該透明導電性積層体 Pの波長分散が R (450) /R (550) く 1でかつ R (650) /R (550) > 1の場合には、位相差フィルム 2 の波長分散も R (450) /R (550) < 1でかつ R (650) /R (550) > 1であることが好ましい。

位相差フィルム 2の少なくとも片面に透明導電層を設けると、電磁波防止機能を付与することができる。

本発明の効果を妨げない範囲で、例えば位相差の波長分散を制御するために、高分子フィルム A, B上に位相差を発現する化合物層（例えば高分子液晶層）を設けたり、高分子フィルム A， B內部に低分子の液晶などの化合物を含ませてもよい。

上記高分子フィルム Bは、前記高分子フィルム Aと同じ材料からなるものを用いることができる。フィルムの厚さ、製法等についても前記高分子フィルム Aと同様のものを用いることができる。ぐ光散乱層 >

上記高分芋フィルム Aの一方の面には光散乱層を設ける。光散乱層は光を散乱させる機能を有するが、それ以外にときには高分子フィルム Bや偏光板との密着性を向上させる機能や、透明導電性積層体を加工する際の傷付きを防止する機能を有十る層として機能することもある。光散乱層は、これ単独のヘーズ値が 0 . 2〜 1 . 4 %であり、好ましくは 0 . 3〜 1 % である。光散乱層単独のヘーズ値は高分子フィルム Aに光散乱層を形成する前と形成した後のヘーズ値の差として求めることが出来る。光散乱層単独のヘーズ値が 0 . 2未満では膜厚斑による縞状の赤緑色の斑が目立ち液晶表示装置の視認性が低下する、また滑り性が悪く透明導電性積層体加工時の傷付きを防止する効果がない。また、ヘーズ値が 1 . 4 %を超えると液晶表示装置の視認性が悪くなる傾向がある。

光散乱層の厚さは、好ましくは 1〜 5 μ πιであり、より好ましくは 1〜4 At mである。なお、この厚さは、凹凸などが表面に形成され実質的に平坦でない場合、任意に 1 0点以上測定した膜厚測定値の平均値と定義する。

光散乱層はこの層の内部および Zまたは表面で光を散乱させる。高分子フィルム Aの表面に光散乱層を設ける方法としては、例えば、微粒子を含有する重合体層を積層する方法ゃ微粒子を含有しなレヽ重合体層を積層する際に表面に微細凹凸を付与する方法が挙げられる。前者の方法では、重合体と屈折率の異なった微粒子を用いることにより光散乱層の内部で光散乱が起こる。また、平均粒子径が重合体層の膜さより大きな粒子を用いるごとにより、表面に微細凹凸が出来るため微粒子の屈折率に関係なく表面での光散乱が起こる。後者の方法では重合体層を積層する際に重合体層の表面にエンボス口一ル等を接触させ凹凸を形成する方法がある。

光散乱層内部での光散乱のみを利用する場合を除き光散乱層は凹凸を有するが、表面性を示す指標として中心線平均粗さ（R a ) が 0 . 0 0 5〜0 . 0 4 μ πιの範囲であることが好ましい。

微粒子を含有する重合体層は、例えば塗工法、スプレー法、ラミネート法により高分子フイルム Αの表面に設けることができる。

塗工法により微粒子を含有する重合体層を形成するのに用いる微粒子としては、例えばシリカ微粒子、架橋アクリル微粒子、架橋ポリスチレン微粒子等が挙げられる。光散乱層のへーズ値は、該微粒子の粒径、該微粒子と該重合体との混合比率ゃ該重合体層の膜厚等を調整することにより調整することができる。

重合体としては、例えば、メチルトリエトキシシラン、フエニルトリエトキシシラン等のケィ素アルコキシドをモノマーとしたケィ素原子含有重合体、ェ一テル化メチロールメラミン等のメラミン熱硬化樹脂、フエノキシ熱硬化樹脂、ェポキジ熱硬化樹脂、ポリオールァクリレート、ポリエステルァクリレート、ウレタンァクリレート、エポキシァクリレート等の多官能ァクリレートモノマーを用いた多官能ァクリレート樹脂が例示できる。これらのァクリレート樹脂は、熱硬化榭脂でも放射線硬化樹脂でもよい。放射線硬化樹脂は、紫外線ゃ電子線等の放射線を照射することによって重合が進行する樹脂を指す。

これらの中でも、放射線照射により重合硬化する多官能ァクリレー小モノマーは、比較的短時間に架橋度の高い重合体層が得られることから、製造プロセスへの負荷が少ない。また得られる層自体の強度も強いという特徴があり好ましく用いられる。

多官能ァクリレートモノマーとしては、単位構造内に 2個以上のァクリロイル基を有する多官能ァクリレート成分を含有するものが挙げられる。具体的には、例えばトリメチロールプロパン卜リアタリレート、トリメチロールプロパンエチレンォキサイド変性トリアタリレ ―卜、トリメチロ一ルプロパンプロピレンォキサイド変性トリアタリレート、イソシァヌル酸エチレンォキサイド変性トリァクリレート、ペンタエリスリトールテトラァクリレート、ジペンタエリスリトーノレペンタァクリレート、ジペンタエリスリトーノレへキサァクリレート、ジメチローノレトリシクロデカンジァクリレート等の各種ァクリレートモノマー、ポリエステル変性ァクリレート、ウレタン変性ァクリレート、エポキシ変性ァクリレート等の多官能ァクリレートオリゴマ一等が本用途に好ましく用いられる。これらの樹脂は単独の組成で用いても、数種の混合組成で用いても良く、また場合によっては、各種ケィ素アルコキシドの加水分解縮合物を組成中に適量添加することも好ましく行われる。

なお、紫外線照射によって樹脂層の重合を行なう場合には公知の光反応開始剤が適量添加される。光反応開始剤としては、例えばジエトキシァセトフエノン、 2—メチル _ 1一 { 一 (メチルチオ) フエ二ノレ } — 2—モノレフォリノプロパン、 2—ヒドロキシ _ 2—メチルー 1—フエ二ノレプロパン一 1—オン、 1—ヒドロキシシク口へキシルフェニルケトン等のァセトフエノン系化合物；ベンゾイン、ペンジノレジメチルケタール等のベンゾィン系化合物；べ. ンゾフエノン、ベンゾィル安息香酸等のベンゾフエノン系化合物；チォキサンソン、 2、 4 ージクロロチォキサンソン等のチォキサンソン系化合物等が挙げられる。

また、フエノキシ熱硬化樹脂層としては、下記式（ 1 ) で示されるフエノキシ樹脂、フェノキシエーテル樹脂、フエノキシエステル樹脂を多官能イソシァネート化合物で熱的に架橋させた重合体層が挙げられる。

上記式（1 ) 中、 R ¹ !^ ⁶は、同一または異なる水素または炭素数 1 〜 3のアルキル基、 R ⁷は炭素数 2〜 5のアルキレン基、 Xはエーテル基、エステル基、 mは 0〜 3の整数、 n は 2 0〜 3 0 0の整数をそれぞれ意味する。この中でも特に I ¹、 R ²はメチル基、 R ³〜R ⁶は水素、 R ⁷はペンチレン基のものが、合成が容易で生産性の面から好ましい。

また、多官能イソシァネート化合物としては、一分子中にィソシァネート基を二つ以上含有する化合物であれば良く、以下のものが例示される。 2， 6—トリレンジイソシァネート、 2 , 4—トリレンジイソシァネート、トリレンジイソシァネートートリメチロープロパンァダクト体、 tーシクロへキサン 1 , 4ージイソシァネート、 m—フエ二レンジイソシァネート、 p—フエ二レンジイソシァネート、へキサメチレンジイソシァネート、 1 , 3， 6 —へキサメチレントリイソシァネー卜、ィソホロンジィソシァネート、 1 , 5一ナフタレンジイソシァネート、トリジンジイソシァネート、キシリレンジイソシァネート、水添キシリレンジイソシァネート、ジフェニ^^メタン一 4 , 4 ' ージイソシァネート、水添ジフエ二ノレメタン一 4， A ' —ジイソシァネート、リジンジイソシァネート、リジンエステルトリイソシァネート、トリフエニルメタントリイソシァネート、トリス（イソシァネートフエニル）チォホスフェート、 m—テトラメチルキシリレンジィソシァネ一ト、 p—テトラメチルキシリレンジイソシァネート、 1 ， 6 ， 1 1ーゥンデカントリイソシァネート、 1 ， 8—ジイソシァネート一 4—ィソシァネートメチルォクタン、ビシク口へプタントリイソシァネート、 2， 2 , 4 _トリメチノレへキサメチレンジィソシァネート、 2 , 4 , 4一トリメチノレへキサメチレンジイソシァネート等のポリイソシァネートおよびそれらの混合物あるいは多価ァルコール付加体等。この中でも特に汎用性、反応性の観点から 2 , 6—トリレンジィソシァネート、 2， 4一トリレンジイソシァネート、トリレンジイソシァネート一トリメチローノレプロパンァダクト体、へキサメチレンジィソシァネートが好ましい。

この他、反応促進剤として、公知のトリエチレンジァミン等の第三ァミン、ジブチル錫ジラウレート等の有機錫化合物を適量添加する事で架橋速度を向上することが可能である。また、エポキシ熱硬化樹脂層としては、各種のものが使用できるが、その中でも、下記式 ( 2 ) で示されるノポラック型のェポキシ樹脂を熱的に架橋させた層が好ましい。

(2)

上記式（2 ) において、 R ⁸は水素またはメチル基、 R ⁹は水素またはグリシジルフエニルエーテル基を示す。また、 qは 1〜5 0までの整数を示すが、実際の所、 qの値は一般的に分布を持っていて特定しにくレ、が、平均の数として大きい方が好ましく、 3以上さらには 5 以上が好ましい。

このようなェポキシ樹脂を架橋させる硬化剤としては、公知のものが適用される。例えば、アミン系ポリアミノアミド系、酸および酸無水物、イミダゾール、メルカプタン、フエノール樹脂等の硬化剤が用いられる。これらの中でも、酸無水物および脂環族ァミン類が好ましく用いられ、さらに好ましくは酸無水物である。酸無水物としては、メチルへキサヒドロ無水フタル酸、メチルデトラヒドロ無水フタル酸どの脂環族酸無水物、無水フタル酸等の芳香族酸無水物、ドデセニル無水フタル酸等の脂肪族酸無水物が挙げられる力特にメチルへキサヒドロ無水フタル酸が好ましレ、。尚、脂環族ァミンとしては、ビス（4ーァミノ一3— メチルジシクロへキシル）メタン、ジァミノシク口へキシルメタン、ィソホロンジァミン等が挙げられ、特にビス ( 4ーァミノ一 3—メチルジシク口へキシル) メタンが好ましい。ここで、硬化剤として酸無水物を用いた場合、エポキシ樹脂と酸無水物との硬化反応を促進する反応促進剤を添カ卩しても良レ、。反応促進剤としては、ベンジルメチルァミン、 2， 4 , 6—トリス（ジメチアミノメチノレ）フエノー ^、ピリジン、 1 , 8—ジァザビシクロ（5 , 4， 0 ) ゥンデセンー 1等の公知の第二、第三ァミン類ゃィミダゾ一'ル類等の硬化触媒が挙げられる。

また、ケィ素アルコキシドの重合体層としては、 2〜4官能性、さらに好ましくは 3〜4 官能性のケィ素アルコキシドを二種以上混合して用いることが好ましく、これらをあらかじめ溶液中で適度に加水分解ならぴに脱水縮合を行なつて適度にオリゴマー化させたものも好ましく用いられる。

ケィ素アルコキシドの例としては、例えばテトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、 γ— グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、 β― ( 3、 4エポキシシク口へキシル) ェチルトリメトキシシラン、ビニノレトリメトキシシラン、 Ν - β (アミノエチノレ) _γ—ァミノプロビルトリメトキシシラン、 Ν - β (アミノエチル) γ—ァミノプロピルメチルジメトキシシラン、 γ—アミノプロピルトリエトキシシラン等が例示される。

これらのケィ素アルコキシドは、加熱により重合が進行する力必要に応じて紫外,镍等の活性光線を塗工膜に照射することによって、架橋度をより高めることができる。

<透明導電層 >

高分子フィルム Αの上記光散乱層とは反対側の面には、透明導電層が形成される。

本宪明に用いられる透明導電層は、金属酸ィ匕物から構成される層である。かかる金属酸ィ匕物としては、' 例えば、錫、テルル、カドミウム、モリブデン、タングステン、フッ素、亜鉛を含有する酸化インジウム、アンチモンを含有する酸化錫、酸化錫及び酸化力ドミゥムよりなる酸ィ匕物が挙げられる。中でも、透明性及ぴ導電性の点で錫を含む酸化インジウム（I T _π Ο) が好ましい。或いは I T Oに更に第 3元素として、珪素、チタン、亜鉛等を添加したものが好ましい。

カかる透明導電層の厚さとしては、 +分な導電性を得るためには、 1 5 n m以上であることが好ましく、また十分に透明性の高い膜を得るためには、 1 5 0 n m以下であることが好ましい。特に好ましくは 1 7〜1 4 O n mである。ぐ硬化樹脂層 >

高分子フィルム Aの上記光散乱層とは反対側の面に透明導電層を形成する前に、高分子フイルム Aの表面にあらかじめ硬化樹脂層を設けることが好ましい。硬化樹脂層があると、タツチパネルに加工する工程で、溶剤による高分子フィルム Aのダメージを防ぐことができる。硬化樹脂層の厚さは、好ましくは 0 . 1〜1 0 μ πι、より好ましくは 2〜1 Ο μ πιである。硬ィ匕樹脂層は必ずしも 1層である必要はなく、 2層以上積層しても良い。また、硬化樹脂層と高分子フィルム Αとの密着性を向上するために硬化樹脂層と高分子フィルム Aとの間にアンカー層を設けても良い。.

上記硬化樹脂層を形成する硬化樹脂としては、上記光散乱層を構成する重合体と同じものを用いることができる。

また、上記硬化樹脂層中に微粒子を含むことにより、硬化樹脂層表面に凹凸を設けると、可動電極基板と固定電極基板との間で発生するニュートンリングを防止することができるため、より視認性が向上する効果がある。硬化樹脂層中に添加する微粒子としては、例えばシリ力微粒子、架橋ァクリル微粒子、架橋ポリスチレン微粒子が挙げられる。表面の凹凸は、用いる微粒子の粒径、該微粒子と該硬化樹脂との混合比率、硬化樹脂層の膜厚等を調整することにより制御することができる。

上記微粒子を含む硬化樹脂層は、

(A) ( i ) 硬化樹脂成分と（i i ) 少なくとも 1種類以上の平均一次粒子径が 0. 5 μ πι 以上 5 / m以下の微粒子 Αと、（ i i i ) 平均一次粒子径が 1 0 0 nm以下の金属酸化物及びノまたは金属フッ化物からなる群から選ばれる少なくとも一種の超微粒子 Bとを含んで構成され、

(B) 当該微粒子 Aの含有量は当該樹脂成分 1 0 0重量部あたり 0. 3重量部以上 1. 0重量部未満であり、，

(C)当該超微粒子 Bの含有量は当該樹脂成分 1 0 0重量部あたり 1重量部以上 2 0重量部以下であり、かつ

(D) 膜厚が 0. 5 μιη以上 5 μιη以下 '

の条件を満たすと、可動電極基板と固定電極基板との間で発生するニュートンリングを防止する機能があり、かつ液晶表示装置の画面のちらつきが少ないので好ましい。

微粒子 Aとしては、平均一次粒子径が 0. 5 μ m以上 5 μ m以下であれば特に化合物の種類に制限なく使用できる。たとえば S i 0₂、または S i 0₂を主成分あるいは架橋成分とする微粒子や、スチレン系、アクリル系、ブタジエン系などのポリマーを主成分とする微粒子を適応することができる。このような微粒子は、表面改質などの処理を行っていても構わない。また、かかる微粒子を 2種類以上混合して用いても構わない。さらに微粒子 Aは、異なる平均一次粒子径の材料を混合し、粒子径分布を広く持たせることも可能である。本発明では、微粒子 Aの含有量について特に制限することはないが、硬化榭脂成分 1 0 0重量部に対し、微粒子 Aの含有量は 0. 3重量部以上から 1. 0重量部未満が好ましく、更に好ましくは 0. 3重量部から 0. 9重量部であり、. 0. 3重量部から 0. 8重量部であることがさらに好ましい。含有量が 0. 3重量部より少ないと、ニュートンリングの発生を抑えにくレ、。また 1. 0重量部を超えると、ニュートンリングの発生防止には優れる力ヘーズが高くなるために液晶表示装置の映像、文字などの情報がぼやけやすくなるため好ましくない。平均一次粒子径が 1 0 0 nm以下の超微粒子 Bとしては特に化合物の種類に制限がなく用いることができる。例えば、 A 1 ₂0₃、 B i ₂0₃、 C e〇₂、 I n ₂〇₃、 ( I n ₂O_s - S n 0₂)、 H f 0₂、 L a ₂0 ₃、 M g F ₂、 S b ₂0₅、（S b ₂〇₅ ' S n〇₂)、 S i〇₂、 S n 0 ₂、 T i〇₂、 Y ₂0₃、 Z n O、 Z r O ₂などの金属酸化物または金属フッ化物からなるものを挙げることができる。これらは 2種類以上併用してもよレ、。また金属酸化物と金属フッ化物は同時に使用することもできる。ただし、超微粒子 Bの屈折率が硬化樹脂成分の屈折率' よりも大きい場合、得られる硬化樹脂層はヘーズが高くなりやすい。このため超微粒子 Bの屈折率は低いほど硬化樹脂成分の選択肢が広がるので好ましレ、。このような材質としては例えば S i 0₂、, M g F ₂などが好ましく挙げられる。これらの超微粒子 Bは比表面積が非常に大きいため一般的に凝集を起こしやすいので、分散剤を添加し、溶剤に分散させたスラリーとして製造 ·販売されることが多い。このような分散剤としては例えば、脂肪酸アミン系、スルホン酸アミド系、 ε—力プロラクトン系、ハイドロステアリン酸系、ポリカルボン酸系、ポリエステルァミンなど各種が使用できる。また分散媒（溶媒）としてはアルコール、水、ケトン系、芳香族系などに代表される一般的なものを使用することができる。

該超微粒子 Βの平均一次粒子径は、硬化樹脂層が内部ヘーズによる白化を起こさないため小さいほうが望ましく、好ましくは 1 O O n m以下である。かかる超微粒子 Bの平均一次粒子径はより好ましくは 8 0 η ηι以下、さらに好ましくは 6 0 n m以下である。また下限は特に制限ないが 5 n mである。超微粒子 Bの平均一次粒子径は、レーザー回折散乱方式粒度分布測定装置を使用して測定することができる。また簡易的に透過型電子顕微鏡などを用いることによって実際の大きさを測定することもできる。具体的には超微粒子 Bを含有する硬化樹脂層をエポキシ樹脂などで包埋し、エポキシ樹脂層を完全に硬化させた後ミクロトームで薄片化して測定試料を作製する。さらにこの測定試料を透過型電子顕微鏡で観察し、超微粒子の大きさをランダムに 1 0点以上測定し、これらの測定値を平均化することで平均一次粒子径を求めることができる。

また、硬化榭脂層中に分散している超微粒子 Bの含有量としては、硬化樹脂成分 1 0 0重量部に対し、超微粒子 Bが 1重量部以上 2 0重量部以下であり、好ましく 2重量部以上 1 0 重量部以下であり、更に好ましくは 3重量部以上 7重量部以下である。該超微粒子 Bは硬化樹脂層を平坦化（レべリング）する効果がある。超微粒子 Bの含有量が上記範囲にあると、微粒子 Aとの相乗効果により硬化樹脂層に好適な表面凹凸が形成されるため、この表面囬凸によりニュートンリングの発生防止機能が発現され、かつ液晶表示装置の画面のちらつきが少ない。超微粒子 B成分を 1重量部未満とした場合では、硬化樹脂層をレベリングさせることは難しく硬化榭脂層の表面凹凸が大きくなり過ぎるため液晶表示装置の画面のちらつきが目立つようになる。また、超微粒子 B成分が 2 0重量部を超える場合には、硬化樹脂層がレベリングしすぎてしまうために、ニュートンリングを防止する機能が十分に発現されなレ、。 <光学干渉層 >

高分子フィルム Aと透明導電層との間には光学干渉層を設けることができる。光学干渉層を設けることによりタツチパネルの色調がより改善される。

光学干渉層の配置は前記高分子フィルム Aと前記透明導電層との間であって、該高分子フイルム A側から順に硬化樹脂層、光学干渉層、及び透明導電層の順で設けられていることが生産性や効果の面で好都合である。

光学干渉層は高屈折率層と低 S折率層からなり、該低屈折率層は透明導電層と接していることが好ましい。これらの高屈折率層と低屈折率層は架橋重合体よりなり、かつ高屈折率層及び低屈折率層の少なくとも一方は平均 1次粒子径が 1 0 0 11 m以下の超微粒子を含むことが好ましい。架橋重合体としては、金属アルコキシドを加水分解並びに縮合重合してなる架橋重合体の他に、熱硬化樹脂や放射線硬化樹脂の架橋重合体も用いることが出来る。

金属アルコキシドを加水分解ならびに縮合重合してなる架橋重合体の中では、機械的強度や安定性、密着性が優れているとの観点から、チタニウムアルコキシド及びジルコニウムァルコキシド並びにアルコキシシランを加水分解並びに縮合重合してなる架橋重合体が好ましい。

チタニウムアルコキシドとしては、例えばチタニウムテトライソプロポキシド、テトラー n—プロピルオルトチタネート、チタニウムテトラー n—ブトキシド、テトラキス ( 2—ェチルへキシルォキシ）チタネート等が例示され、また、ジルコニウムアルコキシドとしては、例えばジルコウムテトライソプロポキシド、ジルコニウムテトラー n—ブトキシド等が例示される。

アルコキシシランとしては、例えば、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ジメチノレジメトキシシラン、 γ—グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、 β - ( 3、 4エポキシシクロへキシル）ェチノレトリメトキシシラン、ビュルトリメトキシシラン、 Ν _ β (アミノエチル） Τ/ーァミノプロピルトリメトキシシラン、 Ν - β (アミノエチル) γ—ァミノプロピルメチルジメトキシシラン、 γ—ァミノプロピルトリエトキシシラン等が例示される。これらのアルコキシシランは必要に応じて、層の機械的強度や密着性およぴ耐溶剤性等の観点から二種類以上を混合して用いることが好ましい場合が多く、特にアルコキシシランの全組成中に重量比率 0 . 5〜6 0 %の範囲で、分子内にアミノ基を有するアルコキシシラン含有されていることが好ましレ、。これらの金属アルコキシドは、モノマーで用いても、あらかじめ加水分解と脱水縮合を行なって適度にオリゴマー化して用いても良いが、通常、適当な有機溶媒に溶解、希釈した塗液を基板上に塗工する。基板上に形成された塗工膜は、空気中の水分等により加水分解が進行し、続いて脱水縮合重合が進行する。一般に、縮合重合の促進には適当な加熱処理が必要であり、塗工法のプロセスにおいて 100°C以上の温度で数分以上の熱処理を施すことが好ましい。また、場合によっては、前記の熱処理と並行して、紫外線等の活性光線を塗膜に照射する事により、架橋度をより高めることができる。

希釈溶剤としては、アルコール系、炭化水素系の溶剤、例えば、エタノール、 2_プロパノール、ブタノール、 2—メチル一 1 _プロパノール、 1ーメトキシ _ 2 _プロパノール、へキサン、シクロへキサン、リグ口イン等が好適であるが、この他にも、キシレン、トルェン、シク口へキサノン、メチルイソブチルケトン、酢酸ィソブチル等の極性溶媒も使用可能である。これらのものは単独あるいは二種以上の混合溶剤として用いることができる。高屈折率層及び低屈折率層の少なくとも一方に平均 1次粒子径が 100 nm以下の超微粒子を含むことにより屈折率を調整することが可能である。平均 1次粒子径は 100 n m以下が好ましく、更に好ましくは 50 nm以下である。該超微粒子の平均 1次粒子径を 100 n m以下に制御することにより、塗膜が白化することなく良好な光学干渉層を形成することができる。

平均 1次粒子径が 100 nm以下の超微粒子としては、例えば A 1₂0₃、 B i ₂0₃、 C e〇₂、 I n₂〇₃、 I n₂0₃ ' Sn〇₂、 H f 0₂、 L a ₂〇₃、 S b₂0₅、 S b ₂0₅· S nO ₂、 S n0₂、 T i 0₂、 Y₂0₃、 ZnO、 Z r O ₂などの金属酸化物の超微粒子、 Mg F₂ などの金属フッ化物からなる超微粒子が例示される。

かくして得られた本発明の透明導電性積層体は、タツチパネルの可動電極基板または固定電極基板として使用することができる。

上述の如く、本発明の透明導電性積層体をタツチパネルの電極基板として使用し該タツチパネルを液晶表示装置に組み込んで使用することができる。

このとき用いられる偏光板は、以下に述べる偏光フィルムに必要に応じて片面又は両面に保護フィルムを積層したものである。偏光フィルムとしては、例えば（i) ポリビエルアルコール系フィルム、部分ホルマール化ポリビニルアルコール系フィルム、エチレン一酢酸ビニル共重合体系ケン化フィルム、セルロース系フィルムの如き親水性高分子フィルムに沃素及び又は 2色性有機染料を吸着配向せしめてなる沃素及び又は 2色性有機染料系偏光フィルム、（ i i) ポリビュルアルコール系フィルムを脱水処理してポリェンを形成して配向せしめてなるポリェン系偏光フィルム、（ i i i ) ポリェン塩化ビュルフィルムを脱塩酸処理してポリェンを形成して配向せしめてなるポリェン系偏光フィルム等が挙げられる。これらは通常 1 0〜8 0 /z mの厚さを有するものが使用される。

また、偏光フィルムとしては、疎水性ポリマーにあらカじめ 2色性有機染料を配合した後、公知の方法によりフィルム状に成形し、少なくとも一方向に延伸し、更に熱固定して製造したフィルムも使用できる。該球水性ポリマーとしては、 1 0 0 °C以下の温度、相対湿度 8 0 % 以下の条件で収縮、膨潤等の変化を起こさない素材であれば良く、具体的にはポリエチレンテレフタレート、ポリプチレンテレフタレート等のポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ナイロン一 6、ナイロン一 6 6、ナイロン一 1 2等のポリアミド系榭脂、ポリ塩ィ匕ビュル樹脂、ポリプロピレン等のポリオレフイン系榭脂、ポリエーテル系榭脂、ポリサルフオン系榭脂等であり、特に好ましくはポリエチレンテレフタレート、ナイロン一 6、ナイ口ン一 6 6、ナイロン一 1 2である。該 2色性有機染料は、分子構造上 2色性を有するものであって、特に耐熱性、耐候性を有するものが好ましい。この様な偏光フィルムの製造は、上記疎水性ポリマーに 2色性有機染料をヘンシェルミキサ一、プレンダ一等を用いて配合し、その後、通常公知の Tダイ押出法、インフレーション法、溶液流延法等の方法でフィルム状に成形した後延伸工程に供給される。延伸工程は、榭脂のガラス転移点以上融点以下の適当な温度で一方向にできるだけ高倍率に延伸して表面積を増加させると同時に厚さを減少させる。この場合延伸方向は特に一方向に限定されるものではなく、'必要に応じて延伸方向の直角方向に低倍率延伸し、フィルムの機械的強度を向上させることもできる。また、上記疎水性ポリマーに本発明の目的を阻害しない範囲内で他種ポリマーをブレンドしても良いし、酸化防止剤、熱安定剤、滑剤、紫外線吸収剤、核生成剤、表面突起形成剤等の無機又は有機添加剤を添カ卩しても良い。これらの偏光フィルムの厚さは 2 0〜2 0 0 Ai mが望ましい。偏光フィルムには前述の様に、必要に応じて片面又は両面に保護フィルムを積層すること力 Sできる。保護フィルムとしては、リターデーション値が 3 0 n m以下の光学等方性フィルム、及び又は一方向のみに延伸したフィルムを用いることができる。特に偏光板が入力操作側に用いられる場合には、偏光フィルムにおいて透明導電性積層体を積層しなレ、側に来る面には保護フィルムを積層することが、信頼性の点で好ましい。

上記保護フィルムとして使用できるリターデンション値が 3 0 n m以下の光学等方性フイルムとしては、ポリカーボネート系樹脂、ポリサルフォン、ポリエーテルサルフォン、ポリアリルサルフォン等のポリサルフォン系樹脂、ポリオレフイン系樹脂、セルローストリアセテート等のアセテート系樹脂、ポリアリレート系樹脂等のフィルムで、厚さが 1 0〜2 0 0； amのものが挙げられる。

また、上記保護フィルムとして使用できる一方向のみに延伸したプラスチックフィルムとして、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンイソフタレート、ポリフエ二レンィソフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレン一 2， 6—ナフタレート等のポリェステル系樹脂、ポリサルフォン、ボリエーテルサルフォン、ポリアリルサルフォン等のポリサルフォン系樹脂、ポリメチルペンテン、ポリスチレン、ポリオレフイン、ポリアミド、ポリメタクリル酸メチル、ポリ塩化ビュル、トリァセテ一ト等の樹脂を一方向のみに延伸してなるフィルムが挙げられるが、耐薬品性等の点からは、上記のポリエステルからなるフィルムを、縦軸又は横軸方向のみに少なくとも 5 %、好ましくは 50〜 80 %延伸し、 100 °C X 60分間〜 230°CX 5分間ヒートセットしてなる、厚さ 10〜200 / mのものが好ましい。

また、上記偏光板がタツチパネルの入力操作側に用いられる場合には、該偏光板の入力操作を行う側の面には、反射防止機能、防眩機能、耐摩耗性機能を有する層を設けることができる。

本発明における透明導電性積層体（R) は高分子フィルムあるいはガラスからなる透明基材の少なくとも一方の表面に透明導電層を有する積層体である。ここで、かかる高分子フィルムとしては、本発明の透明導電性積層体（P) に用いる光弾性定数が 70 X 10— ¹²P a — ¹ (70X 10~¹³ cmVd y n e) 以下の高分子からなるフィルム Aと同じものを用レ、ることができる。またかかる高分子フィルムは 2層以上積層して用いてもよいし、ガラス板との積層体でもよレ、。但し、タツチパネル付き液晶表示装置全体の光学設計に合う様に透明基材のリターデーション値について考慮する必要がある。

該透明基材の厚さは、 50〜2000 ί mが好ましレ、。特に 75〜： 1500 μ mが好ましい。厚さが 50 μπι未満では透明導電層の加工が困難である。また、厚さが 2000 μπιを超えるとタツチパネルの厚さが大になり携帯情報機器の用途には適さない。

該透明基材はリターデーション値が 30 nm以下の光学等方性基板であるか、または 1 Z 4波長の位相差を与える基板のいずれかであることが好ましい。

該透明基材が光学等方性基板の場合、透明導電性積層体 Rの光学軸は透明導電性積層体 P の光学軸と平行または直交する方向に配置してタツチパネルを構成することが好ましい。透明基材が 1/4波長の位相差を与える基板の場合、透明導電性積層体 Rは位相差フィルム 2を兼ねることが出来る。この場合、透明導電性積層体 Rの光学軸と透明導電性積層体 P の光学軸とが互いに直交する様に配置してタツチパネルを構成する。本発明のタツチパネルは、表示のために偏光板を必要とする反射型液晶（Reflective L CD), 透過型液晶（Transmissive LCD), 半透過反射型液晶（ ransflective LCD) なら通常利用することができる。例えば、 TN、 STN、 ECB (electrically controlled birefringence) C S H (color super homeotropic OCB (optical compensated bend) ^ HAN (half aligned nematic)、 V A (vertical aligned)、 I P S (in plain switching)、強誘電、反強誘電、コレステリック相転移、 GH (guest host).等の各種モードの液晶を挙げることができる。

本発明のタツチパネルは液晶表示装置と組合せて用いると効果が大きいが、液晶表示装置以外に用いることも可能である。例えば、 OLED (organic light-emitting diode) を挙げることができる。

上記の如く作製されたタッチパネルは、例えば液晶（ L C D )、 OLED (organic light-emitting diode) , などの表示装置の上、すなわち観測者側に載せられて円偏光板タィプのィンナー型と呼ばれるタツチパネル付き表示装置、あるいは組み込みタイプのィンナ一型と呼ばれるタツチパネル付き表示装置として提供される。発明の効果

本発明によれば、視認性に優れ、かつ高温での変色も見られないタツチパネル及びそれを用いた液晶表示装置を提供できる明導電性積層体が与えられる。実施例

以下に実施例により本発明を詳述する。但し、本発明はこれら実施例に何ら限定されるものではない。

(評価法）

(1) リタ一デーシヨン値、光弾性定数の測定

リタ一デーシヨン値おょぴ光弾性定数は、分光エリプソメータ『_Μ150』（日本分光（株）製）により測定した。

(2) 高分子のガラス転移点温度 (Tg) の測定

『DSC2920 Modulated DSCj (TA Instruments社製）により測定した。フィルム成形後ではなく、樹脂重合後、フレークスまたはチップの状態で測定した。

(3) タツチパネルの高温試験

80°Cに加熱した表面が鏡面のホットプレート上にタツチパネルを偏光板が上側になる様にして置き、 1分間放置後タツチパネルの色変化を調べた。

(4) タツチパネルの色斑観察

3波長蛍光灯下で、タッチパネルの偏光板側から色斑を観察した。

また、以下の実施例、比較例で用いたポリカーボネートの ΐノマー構造を以下に示す。

[実施例 1及び比較例 1 ]

攪拌機、温度計および環流冷却器を備えた反応槽に水酸化ナトリゥム水溶液およびイオン交換水を仕込み、これに上記構造を有するモノマー（E)、 (F) を 50 ： 50のモル比で溶解させ、少量のハイドロサルフィトを加えた。次にこれに塩化メチレンを加え、 20°Cでホスゲンを約 60分かけて吹き込んだ。さらに、 p - t e r t一ブチルフエノールを加えて乳化させた後、トリェチルァミンを加えて 30 °Cで約 3時間攪拌して反応を終了させた。反応終了後有機相を分取し、塩ィヒメチレンを蒸発させてポリカーボネート共重合体を得た。得られた共重合体の組成比はモノマー仕込み量比とほぼ同等であった。ガラス転移温度は 21 5°Cであった。

この共重合体を塩ィヒメチレンに溶解させ、固形分濃度 18重量％のドープ溶液を作製した。このドープ溶液からキャストフィルムを作製し、 220°〇にて1. 30倍に縦一軸延伸することによりリ厚さ 95 μπι, リタ一デーシヨン値 138nm、光弾性定数 60X 10— ¹²P a一¹である位相差フィルム（3) を得た。

次に、ポリエステルアタリレート（東亜化学株式会社製ァロニックス M8060) 50 重量部、ジペンタエリスリトールへキサアタリレート（日本化薬株式会社製 DPHA) 5 0重量部、光開始剤（チバガイギ一社製ィルガキュア 184) 7重量部、希釈剤として 1 —メトキシー 2—プロパノール 200重量部からなる塗工液 Aを用意した。更に塗工液 Aに、微粒子として、平均粒径が約 3 μπιのシリコーン架橋微粒子（GE東芝シリコーン株式会社製トスパール 130) を樹脂成分 100重量部に対して 0. 2重量部添加することにより塗工液 Βを得た。また、塗工液 Αに、微粒子として、平均粒径が約 3 μπιのシリコーン架橋微粒子（G Ε東芝シリコーン株式会社製トスパール 130) を樹脂成分 100重量部に対して 0. 5重量部添加することにより塗工液 Cを得た。

上記位相差フイルム（ 3 ) の片面に該塗工液 Βをマイク口グラビア塗工装置にて塗付し 6 0 °Cで 1分間乾燥後、強度 160 w/c mの高圧水銀灯を用いて積算光量 450 m J / c m ²の条件で塗工膜を硬化させることにより厚さ約 2 μπιの光散乱層（2) を設けた。光散乱層単独のヘーズ値は 0. 5%であった。次に、位相差フィルム（3) の光散乱層を設けた側と反対面に該塗工液 Cをマイクロダラビア塗工装置にて塗付し 60 °Cで 1分間乾燥後、強度 160w/ cmの高圧水銀灯を用いて積算光量 450 m J Z c m²の条件で塗工膜を硬化させることにより厚さ約 2 μπιの硬化樹脂層（4) を設けた。

弓 Iき続いて、酸化インジウムと酸化錫が重量比 9： 1の組成で充填密度 98%の酸化インジゥム -錫ターゲットを用いスパッタリング法で上記硬化樹脂層（4) 上に I TO膜を積層することにより実施例 1の透明導電性積層体（14—1) を得た。 I T O膜の膜厚は 20η m、抵抗値は 330 Ω /口であった。リターデーション値は 137 nmで殆ど変化がなかつた。

また、上記位相差フィルム（3) の片面に塗工液 Aをマイクログラビア塗工装置にて塗布し 60 で 1分間乾燥後、強度 160 w/ c mの高圧水銀灯を用いて積算光量 450 m J / cm²の条件で塗工膜を硬化させることにより厚さ約 2 μπιの透明樹脂層を設けた。該透明樹脂層単独の^ ^一ズ値は 0%であった。同様にして、該塗工液 Cを用いて位相差フィルム (3) の該透明榭脂層を設けた側と反対面に厚さ約 2 imの硬化樹脂層を設けた。同様にして、硬化樹脂層上に I T O膜を積層することにより比較例 1の透明導電性積層体（14—1) を得た。 I TO膜の膜厚は 20 nm、抵抗値は 340 Ω/口であった。リターデーション値は 137 nmで殆ど変化がなかった。 .

一方、厚さ 1. 1 mmのガラス板 (8) の両面にディップコ一ティング法により S i 0₂ 膜を設けた後、スパッタリング法により厚さ 18 nmの I T O膜を透明導電層として設けることにより透明導電性積層体（15) を得た。次に、 I T O膜上に高さ 7 μ m、直径 70 μ m、ピッチ 1. 5 mmのドットスぺーサを設けた。

しかる後、外部への引き出し回路、絶縁層、粘着層を設けた後、透明導電性積層体（14 一 1) と透明導電性積層体（15) の透明導電層（Ι ΤΌ膜）同士が向かい合いようにして貼り合わせアナ口グ型のタツチパネル部を作製した。

次に、沃素を偏光子として含有した一軸延伸ポリビニルアルコールフィルムの両面に接着剤を介してトリアセテートフィルムを貼り合わせて厚さ 150 / inの入力操作側の偏光板 (13) を得た。なお、偏光板（13) の入力操作面にはアンチグレアハードコート層を設けた。

この偏光板（13) の光学軸と位相差フィルム（3) の光学軸とのなす角度が 45度になるように粘着剤を介して偏光板（13) と透明導電性積層体（14— 1) を貼り合せることにより、実施例 1と比較例 1のタツチパネルを作製した。

タツチパネルの高温試験、色斑観察を行なった。結果を表 1に示す。

[実施例 2]

実施 lの位相差フィルム（3) の片面に実施例 1同様にして厚さ約 2 μπιの光散乱層 (2) を設けた。光散乱層単独のヘーズ値は 0..5%であった。次に、位相差フィルム（3) の光散乱層を設けた側と反対面に実施例 1と同様にして厚さ約 2 μΐηの硬化樹脂層（4) を設けた。

次に、テトラブトキシチタネート（日本槽達社製「B— 4」）をリグ口イン（和光純薬ェ業社製の等級が特級品）とブタノール（和光純薬工業社製の等級が特級品）の混合溶媒で希釈した塗工液 Dを作製した。 '

γ-グリシドキシプロビルトリメトキシラン（信越化学社製 ΓΚΒΜ403」) とメチルトリメトキシシラン（信越化学社製「ΚΒΜ13」）を 1 ： 1のモル比で混合し、酢酸水溶液（ρΗ=3. 0) により公知の方法で前記シランの加水分解を行った。こうして得たシランの加水分解物に対して、'固形分の重量比率 20 ： 1の割合で Ν - i3 (アミノエチル） Τ/ -ァミノプロピルメトキシシラン（信越化学社製 ΓΚΒΜ603」）を添カ卩し、更にイソプロピルアルコールと _n-ブタノールの混合溶液で希釈を行い、アルコキシシラン塗工液 Eを作製した。

塗工液 Dのテトラブトキシチタネート成分と塗工液 Eのアルコキシシラン成分の重量比率が 70： 30となるように塗工液 Dと塗工液 Eを混合した後、混合液中に 1次粒子径が 2 0 nmの T i 0₂超微粒子を T i O ₂超微粒子と金属アルコキシド（テトラブトキシチタネートとアルコキシシランの合計）の重量比率が 30 : 70となるように混合した塗工液 Fを作製した。位相差フィルム 3の硬化樹脂層上に塗工液 Fをマイクロダラビア塗工装置にて塗布後、 130°C2分間乾燥し、膜厚が 55 nmの高屈折率層 (9) を形成した。続いて該高屈折率層上に塗工液 Eをマイクログラビア塗工装置にて塗布後、 130°C2分間乾燥し、膜厚が 45 nmの低屈折率層（10) を形成し高屈折率層と低屈折率層からなる光学干渉層を作成した。さらにこの低屈折率層上に、酸化インジウムと酸化錫が重量比 9 ： 1の組成で充填密度 98%の酸化インジウム-錫ターゲットを用いスパッタリング法で I TO膜を形成することにより実施例 2の透明導電性積層体（14— 2)を得た。 I T O層の膜厚は約 20 n m、表面抵抗は約 300 Ω /口であった。リターデーション値は 137 nmで殆ど変化がなかつた。

一方、実施例 1と全く同様な方法で、透明導電性積層体（15) の I TO膜上に高さ 7 m、直径 70μηι、ピッチ 1. 5 mmのドットスぺーサを設けた。

しカゝる後、外部への引き出し回路、絶縁層、粘着層を設けた後、透明導電性積層体（14 一 2) と透明導電性積層体（15) を透明導電層同士が向かい合いようにして貼り合わせァナ口グ型のタッチパネル部を作製した。

次に、実施例 1と全く同様な方法で偏光板（13) を得た。なお、偏光板（13) の入力操作面側にはアンチグレアハードコート層を設けた。

この偏光板（13) の光学軸と位相差フィルム（3) の光学軸とのなす角度が 45度になるように、粘着剤を介して偏光板（13) と透明導電性積層体（14一 2) を貼り合せることにより、実施例 2のタツチパネルを作製した。

' 表 1

[実施例 3及び比較例 2] ,

偏光板（19)、位相差フィルム（20)、液晶セノレ (21)、偏光板（22) と力らなる液晶表示装置の偏光板（19) 上に、え Z 4位相差フィルム (18) を、偏光板（19) の光軸と位相差フィルム 18の光軸が 1 35度になる様に貼り合せた。しかる後、液晶表示装置上に 0. 4 mmの空隙を空けて実施例 2のタツチパネルを偏光板（13)'の光軸と偏光板 (1 9) の光軸が平行になる様に配置することにより、円偏光板タイプのタツチパネル付き液晶表示装置を作製した。該液晶表示装置は屋外で見ても画像がはっきり見えた。更にタツチパネルの有無による液晶表示装置の色変化は無かつた。 '

なお、実施例 2のタツチパネルを構成する透明導電性積層体における位相差フィルム（ 3 ) の代わりに以下の位相差フィルムを用いて透明導電性積層体を作製した（比較例 2)。すなわち、帝人化成（株）製 C 1400 (ガラス転移点温 jjl 55°C) を塩化メチレンに溶解させ、固形分濃度 18重量％のドープ溶液を作製した。このドープ溶液からキャストフィルムを作製し、 155 にて1. 05倍に縦一軸延伸することにより厚さ 70 Aim、リターデーシヨン値 1 38 nm、光弾性定数 90 X 10 - ¹² P a - ¹である位相差フィルム（ 3 )を得た。次に、実施例 2と全く同様な方法で、位相差フィルム（3) の片面に光散乱層を設けた。更に光散乱層を設けた側と反対面に順次に硬化樹脂層、高屈折率層、低屈折率層、 I TO膜を設けることにより、透明導電性積層体（14一 2) を得た。 I T〇膜の膜厚は 2 Onm、抵抗値は 310 Ω ロであった。リターデーション値は 148 nmに変化した。

得られた透明導電性積層体（14— 2) を用いて実施例 3と同じ構成のタツチパネル付き液晶表示装置を作製した。該液晶表示装置は屋外で見るとタツチパネルが無い場合に比較して液晶画面は黄色がかって見えた。更に該タツチパネルの高温試験を行なったところ、接着部（シール部）カら内側に向かって円弧状に変色が発生した。

[実施例 4]

ウレタンアタリレート 100重量部、光開始剤（チバガイギ一社製ィルガキュア 184) 7重量部、希釈剤として 1—メトキシ _2_プロパノール 135重量部、イソプロパノール 135重量部からなる塗工液 Gを用意した。更に塗工液 Gに、微粒子 Aとして平均粒径が約 3 μιηのシリコーン架橋微粒子（GE東芝シリコーン株式会社製トスパール 130) を樹脂成分 100重量部に対して 0. 2重量部添加することにより塗工液 Hを得た。また、塗工液 Gに、微粒子 Aとして平均粒径が約 3 μ mのシリコーン架橋微粒子 (GE東芝シリコーン株式会社製トスパール 1 30) を樹脂成分 100重量部に対して 0. 7重量部、超微粒子 Bとして Mg F ₂超微粒子を樹脂成分 100重量部に対して 5重量部をそれぞれ添加することにより塗工液 Iを得た。

厚さ 100 ^ m、ガラス転移温度 1 36。C、リタ一デーシヨン値 5. 5 n m、光弾性定数 6. 5 X 10— ¹²P a— ¹である高分子フイノレム（12) (ZEONORフィルム、 ZF 14 一 100、日本ゼオン株式会ネ： h») の片面に該塗工液 Hをマイクログラビア塗工装置にて塗付し 60 °Cで 1分間乾燥後、強度 160 wZ c mの高圧水銀灯を用いて積算光量 450 m J /cm²の条件で塗工膜を硬化させることにより厚さ約 2 μιηの光散乱層（2) を設けた。光散乱層単独のヘーズ値は 0. 5%であった。次に、高分子フィルム（12) の光散乱層を設けた側と反対面に該塗工液 Iをマイク口グラビア塗工装置にて塗付し 60 °Cで 1分間乾燥後、強度 1 60 c mの高圧水銀灯を用いて積算光量 450m J/c m²の条件で塗工膜を硬化させることにより厚さ約 2 μπιの硬化樹脂層（4) を設けた。

次に実施例 2と同様にして、塗工液 Ε、塗 X液 Fを用意した。高分子フィルム（12) の硬化樹脂層（4) 上に塗工液 Fをマイクログラビア塗工装置にて塗布後、 125°C2分間乾燥し、膜厚が 55 nmの高屈折率層 (9) を形成した。続いて該高屈折率層上に塗工液 Eをマイクログラビア塗工装置にて塗布後、 125 °C 2分間乾燥し、膜厚が 45 n mの低屈折率層（10) を形成し高屈折率層と低屈折率層からなる光学干渉層を作成した。さらにこの低屈折率層上に、酸化インジウムと酸化錫が重量比 9： 1の組成で充填密度 98%の酸化インジゥム -錫ターゲットを用いスパッタリング法で I TO膜を形成することにより透明導電性積層体（16) を得た。 I TO層の膜厚は約 20 nm、表面抵抗は約 300 Ω /口であった。リタ一デーシヨン値は殆ど変化がなかった。透明導電性積層体の光散乱層 (2) 上に; LZ4 位相差フィルム（1 1)、え Z 2位相差フィルム（3) を 1層ずつ貼り合わせ、透明導電性積層体（1 7) を得た。

一方、実施例 1と全く同様な方法で、透明導電性積層体（16) の I TO膜上に高さ 7 μ m、直径 70 im、ピッチ 1. 5 mmのドットスぺーサを設けた。

しかる後、外部への引き出し回路、絶縁層、粘着層を設けた後、透明導電性積層体（1 7) と透明導電性積層体（16) を透明導電層同士が向かい合いようにして貼り合わせアナログ型のタツチパネル部を作製した。

次に、実施例 1と全く同様な方法で偏光板（13) を得た。なお、偏光板（1 3) の入力操作面側にはアンチグレアハードコート層を設けた。

この偏光板（1 3) を透明導電性積層体（1 7) に粘着剤を介して貼り合せることによりタツチパネルを得た。弓 Iき続いて該タツチパネル、液晶セル（21)、偏光板（22) を貼り合わせ、実施例 4の組み込みタイプのタッチパネル付き液晶表示装置を作製した。該液晶表示装置は屋外で見ても画像がはっきり見えた。 · 産業上の利用可能性本発明の透明導電性積層体は、反射光を抑え、変色も見られなく生産性も良好である。したがって、力かる積層体を用いることにより、視認性に優れ、屋外でも使用しやすく高い信頼性を有するタツチパネル及びそれを用いた液晶表示装置を提供することができる。

Claims

請求の範囲

1. 光弾性定数が 70 X 10-¹²P a一¹以下である高分子からなるフィノレム（高分子フィルム A) と、その一方の面に形成したヘーズ値が 0. 2〜1. 4%の範囲である光散乱層と、他方の面に形成した透明導電層とを含み、かつ全体として; LZ 4の位相差を与える透明導電性積層体。

2.前記高分子フィルム Aが、 1層のフィルムである請求項 1に記載の透明導電性積層体。

3. 前記高分子フィルム Aが、 λΖ4位相差フィルムである請求項 2に記載の透明導電性積層体。

4. 前記高分子フィルム Αが、 2層以上のフィルムの積層体からなる請求項 1に記載の透明導電性積層体。

5. 前記高分子フィルム Aが、 1層の; IZ4位相差フィルムと 1層の; LZ2位相差フィルムとカゝらなる積層位相差フイルムである、請求項 4に記載の透明導電性積層体。

6. 前記積層体において、さらに、前記高分子フィルム Aの透明導電層とは反対側の表面に、光弾性定数が 70 X 10— ¹²P a一¹以下である高分子からなる他のフィルム（高分子フィルム B) が積層されている請求項 1に記載の透明導電性積層体。

7. 前記高分子フィルム Aと該高分子フィルム Bとでえ Z 4の位相差を与える請求項 6に記載の透明導電性積層体。

8. 前記高分子フィルム Aがリタ一デーシヨン値 30n m以下の高分子フィルムであり、かつ前記高分子フィルム Bが 1層の; Z 4位相差フイルムと 1層の; L/2位相差フィルムとの積層位相差フィルムである、請求項 6に記載の透明導電性積層体。

9. 前記高分子フィルム Aが 1層のえ /2位相差フィルムであり、かつ前記高分子フィルム Bが 1層の； L / 4位相差フィルムである、請求項 6に記載の透明導電性積層体。

10. 前記高分子フィルム Aと前記透明導電層との間にさらに硬化樹脂層が設けられている、請求項 1に記載の透明導電性積層体。

11. 前記硬化樹脂層は、微粒子 Aと超微粒子 Bとを含有する、請求項 10に記載の透明導電性積層体。，

12. 前記高分子フィルム Aと前記透明導電層との間に、'高屈折率層と低屈折率層とからなる光学干渉層が前記低屈折率層側で前記透明導電層と接するように設けられており、かつこれらの高屈折率層及ぴ低屈折率層はそれぞれ架橋重合体からなる請求項 1に記載の透明導電性積層体。

13. 前記高分子フィルム Aと.前記透明導電層との間に、該高分子フィルム A側から順に硬化榭脂層及び光学干渉層が設けられている請求項 1に記載の透明導電性積層体。

14. 前記光散乱層の中心線平均粗さ（Ra) が 0 005〜0. 04μ mである請求項 1に記載の透明導電性積層体。

15. 前記高分子が、ガラス転移点温度（Tg) が 170°C以上の熱可塑性樹脂である、請求項 1に記載の透明導電性積層体。

16. 前記熱可塑性樹脂がポリ力ーボネートである、請求項 15に記載の透明導電性積層体。

17. 入力操作面側から順に、偏光板 1と 1ノ 4の位相差を与える透明導電性積層体 Pとの積層物と、空隙を挟んで他の透明導電性積層体 Rとが配置されて構成されているタツチパネルであって、前記透明導電性積層体 Pが請求項 1記載の透明導電性積層体である、タツチパネル。

1 8 . 入力操作面側から順に、偏光板 1と； 1 / 4の位相差を与える透明導電性積層体 Pとの積層物と、空隙を挟んで他の透明導電性積層体 Rとが配置されて構成されているタツチパネル部と、位相差フイノレム 2と、偏光板 2と、位相差フイルム 3と、液晶セル部と、偏光板 3とが順に積層されて構成されたタツチパネル付き液晶表示装置であって、前記透明導電性積層体 Pが請求項 1記載の透明導電性積層体である、タッチパネル付き液晶表示装置。

1 9 . 入力操作面側から順に、偏光板 1とえ Z 4の位相差を与える透明導電性積層体 Pとの積層物と、空隙を挟んで他の透明導電性積層体 Rとが配置されて構成されているタツチパネル部と、液晶セル部と、偏光板 3とが順に積層されて構成されたタツチパネル付き液晶表示装置であって、前記透明導電性積層体 Pが請求項 1記載の透明導電性積層体である、タッチパネル付き液晶表示装置。