KR101420115B1 - 투명 도전막의 제조방법 및 이로부터 제조되는 투명 도전막 - Google Patents

투명 도전막의 제조방법 및 이로부터 제조되는 투명 도전막 Download PDF

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Abstract

본 발명은 투명 도전막의 제조방법 및 이로부터 제조되는 투명 도전막에 관한 것이다.
본 발명의 투명도전막의 제조 방법은, 1) 투명기재에 셀룰로오스 유도체 코팅액을 도포하여 셀룰로오스 유도체 막을 형성하는 단계; 2) 상기 셀룰로오스 유도체 막에 알칼리제를 처리하여 셀룰로오스 유도체를 가수분해하는 단계; 3) 가수분해된 셀룰로오스 유도체 막에 유기금속잉크를 도포하여 셀룰로오스 유도체상에 금속을 환원시켜 금속막을 형성하는 단계; 4) 금속막이 형성된 셀룰로오스 유도체 막을 열처리하여 전도성 금속층을 형성하는 단계; 를 포함하여 투명 도전막을 형성하는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 따르면, 공정이 간단하면서 전도도와 투과율, 내굴곡성이 우수하고 낮은 헤이즈(Haze)를 갖는 투명도전막을 제조할 수 있다.

Description

투명 도전막의 제조방법 및 이로부터 제조되는 투명 도전막{method for preparing Transpatent Conductive Layer and Transpatent Conductive Layer prepared by the method}
본 발명은 투명 도전막의 제조방법 및 이로부터 제조되는 투명 도전막에 관한 것으로, 보다 상세하게는 1) 투명기재에 셀룰로오스 유도체 코팅액을 도포하여 셀룰로오스 유도체 막을 형성하는 단계; 2) 상기 셀룰로오스 유도체 막에 알칼리제를 처리하여 셀룰로오스 유도체를 가수분해하는 단계; 3) 가수분해된 셀룰로오스 유도체 막에 유기금속잉크를 도포하여 셀룰로오스 유도체상에 금속을 환원시켜 금속막을 형성하는 단계; 4) 금속막이 형성된 셀룰로오스 유도체를 막을 열처리하여 전도성 금속층을 형성하는 단계; 를 포함하여 투명 도전막을 형성하는 것을 특징으로 하는 투명 도전막 제조방법에 관한 것이다.
일반적으로 투명도전막은 표시소자의 전원 인가용, 가전기기의 전자파 차폐막, 그리고 LCD, OLED, FED, PDP, 플렉시블 디스플레이, 전자종이 등, 각종 디스플레이 분야의 투명전극 등 전기전자장비의 필수적인 구성요소로 사용되고 있다.
현재 주로 사용되고 있는 투명도전막 소재로는 ITO(Indium-Tin oxide), ATO(Antimony-Tin Oxide, AZO(Antimony-Zinc Oxide) 등과 같은 무기 산화물 도전성 소재를 사용하고 있다.
투명도전막은 상기 소재를 통상적으로 사용되고 있는 스퍼터링법, 이온빔법 또는 진공증착법 등으로 제조하면 비교적 높은 전도성과 투과율이 우수한 도전막을 제조 할 수 있으나, 진공장비에 의한 설비투자비가 크고 대량 생산 및 대형화에 어려운 점이 있으며, 특히 플라스틱 필름과 같은 저온 공정이 요구되는 투명기판에는 한계가 있다. 스퍼터링 공정으로 증착 시 산소분압과 온도 등의 조건에 따라, 투명도전막의 조성이 변하면서 박막의 투과율과 저항이 급격히 변화되는 현상이 발생하며, 또한, 공정후에도 박막에 크랙이 발생하여 저항이 증가하는 단점이 제기되어 왔다. 따라서, 저가격화와 대형화에 적합한 스핀코팅, 스프레이코팅, 침적코팅, 프린팅 등과 같은 습식 코팅법을 이용하여 코팅한 다음, 소성하여 투명 도전 막을 사용하는 방법 등이 제안되고 있는데, 예를 들면, 한국특허 공개번호 제1999-011487호에는 금속 미립자와 결합제를 이용한 투명도전막이 게시되어 있고 한국특허 공개번호 제 1999-064113호에는 산화주석에 중공형 탄화미세 섬유를 첨가하여 투명도전막용 조성물이 게시되어 있으며, 한국특허 공개번호 제2000-009405호에는 산화주석 혹은 산화인듐에 산화네오디뮴을 첨가한 투명 도전성 광 선택 흡수피막 형성용 도포용액이 게시되어있다. 또한 일본특허 제2003-213441호에는 금이나 은 등의 금속 미립자를 함유한 투명 도전층 형성액의 제조방법에 대한 내용이 게시되어 있다.
상기 방법에 따라 제조된 투명도전막의 표면 저항은 103-104 Ω/□ 정도로 저항이 높고 또한 주위환경의 변화에 의해 시간에 따라 표면저항이 증가하는 등, 경시변화가 일어나 초기 도전성을 유지하지 못하게 되는 문제점이 있어 투명도전막으로 사용하기에는 한계를 갖고 있다.
상기의 문제점을 해결하기 위하여, 본 발명자들은 셀룰로오스 유도체상에 금속막을 형성할 수 있는 기술을 발명함으로써, 공정이 간단하면서 전도도와 투과율, 내굴곡성이 우수하고 낮은 헤이즈(Haze)를 갖는 투명도전막의 제조방법을 및 이로부터 제조되는 투명 도전막을 제공하는 것이다.
상기 과제를 해결하기 위하여, 본 발명의 투명도전막의 제조 방법은, 1) 투명기재에 셀룰로오스 유도체 코팅액을 도포하여 셀룰로오스 유도체 막을 형성하는 단계; 2) 상기 셀룰로오스 유도체 막에 알칼리제를 처리하여 셀룰로오스 유도체를 가수분해하는 단계; 3) 가수분해된 셀룰로오스 유도체 막에 유기금속잉크를 도포하여 셀룰로오스 유도체상에 금속을 환원시켜 금속막을 형성하는 단계; 4) 금속막이 형성된 셀룰로오스 유도체 막을 열처리하여 전도성 금속층을 형성하는 단계; 를 포함하여 투명 도전막을 형성하는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 의하면, 공정이 간단하면서 전도도와 투과율, 내굴곡성이 우수하고 낮은 헤이즈(Haze)를 갖는 투명도전막의 제조방법을 및 이로부터 제조되는 투명 도전막을 제공할 수 있다.
본 발명의 투명도전막의 제조 방법은, 1) 투명기재에 셀룰로오스 유도체 코팅액을 도포하여 셀룰로오스 유도체 막을 형성하는 단계; 2) 상기 셀룰로오스 유도체 막에 알칼리제를 처리하여 셀룰로오스 유도체를 가수분해하는 단계; 3) 가수분해된 셀룰로오스 유도체 막에 유기금속잉크를 도포하여 셀룰로오스 유도체상에 금속을 환원시켜 금속막을 형성하는 단계; 4) 금속막이 형성된 셀룰로오스 유도체 막을 열처리하여 전도성 금속층을 형성하는 단계; 를 포함하여 투명 도전막을 형성하는 것을 특징으로 한다.
이하, 본 발명에 대해서 각 제조 단계별로 보다 상세히 설명한다.
본 발명의 1)단계는 투명기재에 셀룰로오스 유도체 코팅액을 도포하여 셀룰로오스 유도체 막을 형성하는 단계이다.
상기 투명 기재는 코팅이나 프린팅 공정을 통하여 용이하게 박막이나 패턴형성이 가능한 다양한 기판을 사용하는 것이 가능하다. 예를 들면 폴리이미드(PI), 폴리에틸렌텔레프탈레이트(PET), 폴리에텔렌나프탈레이트(PEN), 폴리에테르술폰(PES), 나일론(Nylon), 폴리테트라플로우로에틸렌(PTFE), 폴리에테르에테르케톤(PEEK), 폴리카보네이트 (PC), 폴리아릴레이트(PAR) 등과 같은 투명 플라스틱 필름이나 유리 기판에 코팅하여 박막을 제조하거나 직접 프린팅 할 수 있다. 한편, 기재가 셀룰로오스 또는 셀룰로오스 유도체 필름의 경우 본 셀룰로오스 유도체 코팅액을 도포할 필요 없이 직접 사용 가능하다. 이러한 기판은 수세 및 탈지 후 사용하거나 특별히 전처리를 하여 사용할 수 있는데 전처리 방법으로는 플라즈마, 이온빔, 코로나, 산화 또는 환원, 열, 에칭, 자외선(UV) 조사, 그리고 상기의 바인더나 첨가제를 사용한 프라이머(primer) 처리하여 사용 할 수 있으며, 이에 한정되지 않음은 물론이다.
상기의 셀룰로오스 유도체 코팅액은 셀룰로오스 유도체를 용매에 용해시켜 제조되는데, 필요에 따라서 용매, 안정제, 분산제, 바인더 수지(binder resin), 환원제, 계면활성제(surfactant), 습윤제(wetting agent), 칙소제(thixotropic agent) 또는 레벨링(levelling)제와 같은 첨가제 등을 포함 시킬 수 있다.
상기 셀룰로오스 유도체는 셀룰로오스 아세테이트, 셀룰로오스 프로피오네이트, 셀룰로오스 부티레이트, 셀룰로오스 니트레이트, 알킬셀룰로오스, 하이드록시알킬셀룰로오스 등에서 1종 이상 선택되어 단독 또는 혼합되어 사용될 수 있으며, 이를 용해시키는 용매는 셀룰로오스 유도체의 종류에 따라, 물, 메탄올, 에탄올, 이소프로판올, 1-메톡시프로판올, 부탄올, 에틸헥실 알코올, 테르피네올과 같은 알코올류, 에틸렌글리콜, 글리세린과 같은 글리콜류, 에틸아세테이트, 부틸아세테이트, 메톡시프로필아세테이트, 카비톨아세테이트, 에틸카비톨아세테이트와 같은 아세테이트류, 메틸셀로솔브, 부틸셀로솔브, 디에틸에테르, 테트라히드로퓨란, 디옥산과 같은 에테르류, 메틸에틸케톤, 아세톤, 디메틸포름아미드, 1-메틸-2-피롤리돈과 같은 케톤류, 헥산, 헵탄, 도데칸, 파라핀 오일, 미네랄 스피릿과 같은 탄화수소계, 벤젠, 톨루엔, 자일렌과 같은 방향족 탄화수소계, 그리고 클로로포름이나 메틸렌클로라이드, 카본테트라클로라이드와 같은 할로겐 치환 용매, 아세토니트릴, 디메틸술폭사이드 또는 이들의 혼합용매 등을 사용할 수 있다.
상기와 같이 제조된 셀룰로오스 유도체 코팅액을 도포하는 방법으로는 코팅액의 물성에 따라 스핀(spin) 코팅, 롤(roll) 코팅, 스프레이 코팅, 딥(dip) 코팅, 플로(flow) 코팅, 닥터 블레이드(doctor blade)와 디스펜싱(dispensing), 잉크젯 프린팅, 옵셋 프린팅, 스크린 프린팅, 패드(pad) 프린팅, 그라비아 프린팅, 플렉소(flexography) 프린팅, 스텐실 프린팅, 임프린팅(imprinting), 제로그라피(xerography), 리소그라피(lithography) 등을 선택하여 사용하는 것이 가능하다.
본 발명의 2) 단계는 1)단계로부터 형성된 셀룰로오스 유도체 막에 알칼리제를 처리하여 셀룰로오스 유도체를 가수분해하는 단계이다.
본 단계는 후속 단계의 유기금속잉크를 환원시켜 금속막을 형성시키기 위하여, 1단계로부터 형성된 셀룰로오스 유도체 코팅층에 알칼리제를 도포하여 코팅층 표면의 셀룰로오스 유도체의 -OCOR기 또는 -OR기를 -OH기로 일부 치환시켜 금속과 착체를 형성할 수 있는 좌석을 만들어 금속 시드 레이어를 형성시키는 단계이다.
상기의 알칼리제는 소디움 하이드록사이드, 포타슘 하이드록사이드, 암모늄 하이드록사이드, 쿼터너리 암모늄 하이드록사이드 등을 사용할 수 있으며, 도포 방법으로는 상기 1)단계의 다양한 코팅 또는 인쇄방법을 사용할 수 있다.
본 발명의 3)단계는 가수분해된 셀룰로오스 유도체 막에 유기금속잉크를 도포하여 셀룰로오스 유도체상에 금속을 환원시켜 금속막을 형성하는 단계이다.
2)단계에서 가수분해된 셀룰로오스 유도체 막에 유기금속잉크를 도포하면, 셀룰로오스 유도체에서 치환된 -OH기가 유기금속잉크를 환원시켜 셀룰로오스 유도체상에 금속막을 형성시킬수 있다.
상기 유기금속잉크의 종류는 특별히 한정되지 않으며, 금속잉크에서 유기금속형태로 존재하며, 소성과정 중에 유기물질이 분해되어 금속입자를 형성하는 금속잉크는 본 발명의 목적을 달성할 수 있다.
특히, 본원 출원인에 의해 특허출원 제 2006-0090180호로 출원된 특수한 구조를 가지는 유기금속착체화합물을 포함하는 금속잉크를 사용하는 것이 금속박막의 균일한 두께 및 우수한 전도성, 또한 낮은 소성온도를 가지며, 소송 후에 전도성 물질을 제외한 잔류물이 없기 때문에 바람직하다.
상기의 금속 착체 화합물을 포함하는 금속잉크의 제조는 본 출원인이 금속 화합물과 암모늄 카바메이트계 화합물, 암모늄 카보네이트계 화합물 또는 암모늄바이카보네이트계 화합물로부터 선택되는 1종 또는 2종 이상의 혼합물과 반응시킴으로서 금속[암모늄 카바메이트계화합물, 암모늄 카보네이트계 화합물 또는 암모늄바이카보네이트계 화합물] 복합체를 제조하고, 이를 포함하는 금속잉크를 제조하는 것으로서, 본 발명에서도 동일한 제조방법을 사용하였다.
본 발명의 4)단계는 금속막이 형성된 셀룰로오스 유도체 막을 열처리하여 전도성 금속층을 형성하는 단계이다.
본 단계는 셀룰로오스 유도체 상에 형성된 금속막을 열처리하여 소성함으로써 전도성층을 형성하고, 최종적으로 투명 도전막을 제조할 수 있다.
상기 투명성 향상을 위한 투명층의 열처리는 보통 80 ~ 400℃ 사이, 바람직하게는 90 ~ 300℃, 보다 바람직하게는 100 ~ 150℃에서 열처리하는 것이 박막의 물성을 위하여 좋다. 부가적으로, 상기 범위 내에서 저온과 고온에서 2단계 이상 가열 처리하는 것도 박막의 균일성을 위해서 좋다. 예를 들면 80 ~ 150℃에서 1 ~ 30분간 처리하고, 150 ~ 300℃에서 1 ~ 30분간 처리하는 것이 좋다.
이하, 본 발명은 실시예에 의하여 보다 상세히 설명되지만, 실시예는 본 발명의 예시에 불과할 뿐, 본 발명의 범위가 실시 예에 의하여 한정되는 것은 아니다.
<제조예>
제조예 1 : 셀룰로오스 아세테이트 코팅액 제조
교반기가 부착된 50밀리리터의 슈렝크(Schlenk) 플라스크에 아세톤(acetone) 99 mL 와 셀룰로오스 아세테이트(cellulose acetate) 1 g 을 첨가하여 상온에서 30분 동안 교반하여 셀룰로오스 아세테이트 코팅액을 제조하였다.
제조예 2 : 셀룰로오스 프로피오네이트 코팅액 제조
교반기가 부착된 50밀리리터의 슈렝크(Schlenk) 플라스크에 아세톤(acetone) 99 mL 와 셀룰로오스 프로피오네이트(cellulose propionate) 1 g 을 첨가하여 60 OC 에서 30분 동안 교반하여 셀룰로오스 프로피오네이트 코팅액을 제조하였다.
제조예 3 : 니트로 셀룰로오스 코팅액 제조
교반기가 부착된 50밀리리터의 슈렝크(Schlenk) 플라스크에 아세톤(acetone) 99 mL 와 니트로 셀룰로오스(nitro-cellulose) 1 g 을 첨가하여 상온에서 30분 동안 교반하여 니트로 셀룰로오스 코팅액 제조하였다
제조예 4 : 유기은 잉크 제조
교반기가 부착된 50밀리리터의 슈렝크(Schlenk) 플라스크에 점성 있는 액체인 2-에틸헥실암모늄 2-에틸헥실카바메이트 3.25그램(10.75 밀리몰)을 57밀리리터의 아이소프로필알코올에 용해시킨 후 산화 은 1.0그램(4.31 밀리몰)을 첨가하여 상온에서 반응시켰다. 상기 반응용액은 처음에 검은색 현탁액(Slurry)에서 반응이 진행되어 착화합물이 생성됨에 따라 색이 엷어지면서 투명하게 변하는 것을 관찰할 수 있었으며 2시간 반응시킨 결과 무색 투명한 용액을 얻어 착화합물이 성공적으로 얻었음을 확인할 수 있었다. 이 용액을 0.45미크론의 멤브레인 필터(membrane filter)를 사용하여 필터링하여 유기은 잉크를 제조하였다.
<실시예>
실시예 1 : 투명 도전막 제조
제조예 1에서 제조한 셀룰로오스 아세테이트(cellulose acetate) 코팅액 2.0 g 을 PET 기재 위에 스핀 코팅(spin coating)한 후, 150 OC 하에서 3분 동안 건조시켰다. 상기 셀룰로오스 아세테이트 코팅필름 표면에 1 wt% KOH 용액을 스핀 코팅한 후, D/W 및 MeOH 로 세척하였다. 제조예 4에서 제조한 유기은 잉크를 세척된 필름에 스핀 코팅한 후 150 OC 하에서 3분 동안 소성시켜 투명 도전막을 얻었다.
실시예 2 : 투명 도전막 제조
제조예 2에서 제조한 셀룰로오스 프로피오네이트(cellulose propionate) 코팅액 2.0 g 을 PET 기재 위에 스핀 코팅(spin coating)한 후 150 OC 하에서 3분 동안 건조시켰다. 상기 셀룰로오tm 프로피오네이트 코팅필름 표면에 1 wt% KOH 용액을 스핀 코팅한 후, D/W 및 MeOH 로 세척하였다. 제조예 4에서 제조한 유기은 잉크를 세척된 필름에 스핀 코팅한 후, 150 OC 하에서 3분 동안 소성시켜 투명 도전막을 얻었다.
실시예 3 : 투명 도전막 제조
제조예 3에서 제조한 니트로 셀룰로오스(nitro-cellulose) 코팅액 2.0 g 을 PET 기재 위에 스핀 코팅(spin coating)한 후, 150 OC 하에서 3분 동안 건조시켰다. 상기 니트로 셀룰로오스 코팅필름 표면에 1 wt% KOH 용액을 스핀 코팅한 후 D/W 및 MeOH 로 세척하였다. 제조예 4에서 제조한 제조예 4에서 제조한 유기은 잉크를 세척된 필름에 스핀 코팅한 후 150 OC 하에서 3분 동안 소성시켜 투명 도전막을 얻었다.
실시예 4 : 투명도전막 제조
제조예 2에서 제조한 셀룰로즈 프로피오네이트(cellulose propionate)용액 2.0 g 을 PET 기재 위에 스핀 코팅(spin coating)한 후 150 OC 하에서 3분 동안 건조시켰다. 상기 니트로 셀룰로즈 코팅필름 표면에 2.5 wt% 쿼터너리 암모늄 하이드록사이드(quaternary ammonium hydroxide, (CH3)4N(OH)) 용액을 스핀 코팅한 후 150 OC 하에서 3분 동안 건조시켰다. 제조예 4에서 제조한 유기은 잉크를 세척된 필름에 스핀 코팅한 후 150 OC 하에서 3분 동안 소성시켜 투명 도전막을 얻었다.
실시예 5 :　 투명도전막 제조
제조예 3에서 제조한 니트로 셀룰로즈(nitro-cellulose)용액 2.0 g 을 유리 기재 위에 스핀 코팅(spin coating)한 후 150 OC 하에서 3분 동안 건조시켰다. 상기 니트로 셀룰로즈 코팅필름 표면에 2.5 wt% 쿼터너리 암모늄 하이드록사이드(quaternary ammonium hydroxide, (CH3)4N(OH)) 용액을 스핀 코팅한 후 150 OC 하에서 3분 동안 건조시켰다. 제조예 4에서 제조한 유기은 잉크를 세척된 필름에 스핀 코팅한 후 150 OC 하에서 3분 동안 소성시켜 투명 도전막을 얻었다.
실시예 6 : 투명도전막 제조
제조예 3에서 제조한 니트로 셀룰로즈(nitro-cellulose)용액 2.0 g 을 유리 기재 위에 스핀 코팅(spin coating)한 후 150 OC 하에서 3분 동안 건조시킨다. 상기 니트로 셀룰로즈 코팅필름 표면에 2.5 wt% 쿼터너리 암모늄 하이드록사이드(quaternary ammonium hydroxide, (CH3)4N(OH)) 용액을 스핀 코팅한 후 150 OC 하에서 3분 동안 건조시킨다. 제조예 4에서 제조한 유기은 잉크를 세척된 필름에 스핀 코팅한 후 300 OC 하에서 3분 동안 소성시켜 투명 도전막을 얻었다.

Claims (9)

  1. 투명 도전막의 제조방법에 있어서, 1) 투명기재에 셀룰로오스 유도체 코팅액을 도포하여 셀룰로오스 유도체 막을 형성하는 단계; 2) 상기 셀룰로오스 유도체 막에 알칼리제를 처리하여 셀룰로오스 유도체를 가수분해하는 단계; 3) 가수분해된 셀룰로오스 유도체 막에 유기금속잉크를 도포하여 셀룰로오스 유도체상에 금속을 환원시켜 금속막을 형성하는 단계; 4) 금속막이 형성된 셀룰로오스 유도체를 막을 열처리하여 전도성 금속층을 형성하는 단계; 를 포함하여 제조되는 것을 특징으로 하는 투명 도전막 제조방법.
  2. 제 1항에 있어서, 투명기재는 폴리이미드(PI), 폴리에틸렌텔레프탈레이트(PET), 폴리에텔렌나프탈레이트(PEN), 폴리에테르술폰(PES), 나일론(Nylon), 폴리테트라플로우로에틸렌(PTFE), 폴리에테르에테르케톤(PEEK), 폴리카보네이트 (PC), 폴리아릴레이트(PAR) 필름 또는 유리기재인 것을 특징으로 하는 투명 도전막의 제조방법.
  3. 제 1항에 있어서, 투명기재에 셀룰로오스 유도체 코팅액을 도포하여 셀룰로오스 유도체 막을 형성하는 대신에, 셀룰로오스 또는 셀룰로오스 유도체 필름을 사용하는 것을 특징으로 하는 투명 도전막의 제조방법.
  4. 제 1항에 있어서, 상기 셀룰로오스 유도체는 셀룰로오스 아세테이트, 셀룰로오스 프로피오네이트, 셀룰로오스 부티레이트, 셀룰로오스 니트레이트, 알킬셀룰로오스, 하이드록시알킬셀룰로오스에서 1종 이상 선택되어 단독 또는 혼합되어 사용되는 것을 특징으로 하는 투명 도전막의 제조방법.
  5. 제 1항에 있어서, 상기 셀룰로오스 유도체 코팅액에서 용매는 물, 메탄올, 에탄올, 이소프로판올, 1-메톡시프로판올, 부탄올, 에틸헥실 알코올, 테르피네올과 같은 알코올류, 에틸렌글리콜, 글리세린과 같은 글리콜류, 에틸아세테이트, 부틸아세테이트, 메톡시프로필아세테이트, 카비톨아세테이트, 에틸카비톨아세테이트와 같은 아세테이트류, 메틸셀로솔브, 부틸셀로솔브, 디에틸에테르, 테트라히드로퓨란, 디옥산과 같은 에테르류, 메틸에틸케톤, 아세톤, 디메틸포름아미드, 1-메틸-2-피롤리돈과 같은 케톤류, 헥산, 헵탄, 도데칸, 파라핀 오일, 미네랄 스피릿과 같은 탄화수소계, 벤젠, 톨루엔, 자일렌과 같은 방향족 탄화수소계, 그리고 클로로포름이나 메틸렌클로라이드, 카본테트라클로라이드와 같은 할로겐 치환 용매, 아세토니트릴, 디메틸술폭사이드 또는 이들의 혼합용매에서 선택되어 사용되는 것을 특징으로 하는 투명 도전막 제조방법.
  6. 제 1항에 있어서, 상기 알칼리제는 소디움 하이드록사이드, 포타슘 하이드록사이드, 암모늄 하이드록사이드, 쿼터너리 암모늄 하이드록사이드에서 선택되어 사용되는 것을 특징으로 하는 투명 도전막 제조방법.
  7. 제 1항에 있어서, 제 1)단계 또는 제 3)단계에서의 도포는 스핀(spin) 코팅, 롤(roll) 코팅, 스프레이 코팅, 딥(dip) 코팅, 플로(flow) 코팅, 닥터 블레이드(doctor blade)와 디스펜싱(dispensing), 잉크젯 프린팅, 옵셋 프린팅, 스크린 프린팅, 패드(pad) 프린팅, 그라비아 프린팅, 플렉소(flexography) 프린팅, 스텐실 프린팅, 임프린팅(imprinting), 제로그라피(xerography), 리소그라피(lithography)에서 선택하여 사용되는 것을 특징으로 하는 투명 도전막 제조방법.
  8. 제 1항에 있어서, 상기 유기금속잉크는 금속 화합물과 암모늄 카바메이트계 화합물, 암모늄 카보네이트계 화합물 또는 암모늄바이카보네이트계 화합물로부터 선택되는 1종 또는 2종 이상의 혼합물과 반응시킴으로서 금속[암모늄 카바메이트계화합물, 암모늄 카보네이트계 화합물 또는 암모늄바이카보네이트계 화합물] 복합체를 제조하고, 이를 포함하는 유기금속잉크인 것을 특징으로 하는 투명 도전막 제조방법.
  9. 청구항 제 1항 내지 제 6항 중 어느 한 항에 따른 제조방법에 의해 제조된 투명 도전막.
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Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9671542B2 (en) 2013-06-04 2017-06-06 Inktec Co., Ltd. Method for manufacturing polarizing film

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006128098A (ja) * 2004-09-30 2006-05-18 Sumitomo Metal Mining Co Ltd 透明導電膜形成用塗布液及び透明導電膜並びにその製造方法
JP2007005290A (ja) * 2005-05-23 2007-01-11 Sumitomo Metal Mining Co Ltd 透明導電膜とその製造方法、及び透明導電膜形成用塗布液

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100472496B1 (ko) * 1997-07-23 2005-05-16 삼성에스디아이 주식회사 투명도전성조성물,이로부터형성된투명도전막및그제조방법
US7833588B2 (en) * 2002-12-20 2010-11-16 Teijin Limited Transparent conductive laminate, touch panel and touch panel-equipped liquid crystal display
US20060019099A1 (en) * 2004-07-20 2006-01-26 General Electric Company Method for making multilayer film, sheet and articles therefrom
JP2009544491A (ja) 2006-07-28 2009-12-17 イルフォード イメージング スウィツアランド ゲーエムベーハー 光学用途用柔軟材料
EP2752470A1 (en) * 2006-08-07 2014-07-09 Inktec Co., Ltd. Process for preparation of silver nanoparticles, and the compositions of silver ink containing the same
KR100832002B1 (ko) * 2006-08-07 2008-05-23 주식회사 잉크테크 저저항 금속 패턴 형성방법
US8764960B2 (en) 2006-08-07 2014-07-01 Inktec Co., Ltd. Manufacturing methods for metal clad laminates
KR20090099081A (ko) * 2007-01-05 2009-09-21 바스프 에스이 전기 전도성 표면의 제조 방법
JP5609008B2 (ja) * 2009-05-12 2014-10-22 コニカミノルタ株式会社 透明導電フィルム、透明導電フィルムの製造方法及び電子デバイス用透明電極
JP5609290B2 (ja) * 2010-06-15 2014-10-22 コニカミノルタ株式会社 太陽光反射用ミラー、フィルムミラー及びその製造方法

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006128098A (ja) * 2004-09-30 2006-05-18 Sumitomo Metal Mining Co Ltd 透明導電膜形成用塗布液及び透明導電膜並びにその製造方法
JP2007005290A (ja) * 2005-05-23 2007-01-11 Sumitomo Metal Mining Co Ltd 透明導電膜とその製造方法、及び透明導電膜形成用塗布液

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