TWI493233B - 光學薄膜及觸控面板 - Google Patents

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Description

光學薄膜及觸控面板
本發明係關於在液晶顯示器(LCD)、陰極管顯示裝置(CRT)、有機電激發光顯示器(有機EL)或電漿顯示器(PDP)等顯示器(影像顯示裝置)的前面等處設置之光學薄膜、及使用其之觸控面板。
在如上述的顯示器中，為能在操作顯示器的影像顯示面時不會造成損傷，便要求賦予硬度。針對此，一般係利用在基材薄膜上設置硬塗(HC)層的光學薄膜，而對顯示器的影像顯示面賦予硬度(例如專利文獻1)。
再者，一般的觸控面板係例如圖1所示，在2片光穿透性基材10及11上，分別設置屬於透明導電膜20及21(以下，為使顯示器側的透明導電膜21能與透明導電膜20有所區分，便稱為「第二透明導電膜」)的錫摻雜氧化銦(ITO)，再隔著間隙子30，使透明導電膜20及21呈相對向配置。又，在光穿透性基材10之輸入操作側之面上，設置為賦予硬度與耐擦傷性的硬塗層40。在光穿透性基材11之與透明導電膜21為相反側之處，配置有顯示器80。然後，利用手指或觸控筆70等，按押觸控面板150之較間隙子30位於更靠輸入操作側的硬塗層40、光穿透性基材10及透明導電膜20，而施行資訊的輸入操作，使被按押部分的輸入操作側之透明導電膜20、與顯示器80側的第二透明導電膜21相接觸，而檢測位置資訊。
此時，在因輸入操作而接觸的透明導電膜部分及其附近，於透明導電膜20之顯示器側之面50處所反射的光，會與被第二透明導電膜21之輸入操作側之面60所反射的光出現相干涉情形，導致產生通稱「牛頓環」的干涉紋，造成顯示器的視認性降低之問題。
針對此問題，專利文獻2有提案：為防止牛頓環產生，便在算術平均粗度(Ra)為0.07~0.3μm、最大高度(Ry)為1.5~2.0μm的牛頓環防止層上，設置其中一者或二者之導電性膜的觸控面板。
但是，當如專利文獻2所提案的Ra較大之觸控面板係設置於顯示器前面(輸入操作側)時，便會產生眩光，且因該眩光便會有視認性降低的問題。
[先行技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本專利特開2008-165040號公報
[專利文獻2]日本專利特開2007-265100號公報
本發明係為解決上述問題點而完成，其目的在於提供：能抑制牛頓環產生及眩光，且提高穿透鮮明度，並能抑制霧度，且視認性優異的觸控面板；及能適用於此種觸控面板的光學薄膜。
本發明者等經深入鑽研的結果，發現藉由使用在基材薄膜一面側設置算術平均粗度(Ra)0.025~0.05μm，且在該面一定區域中形成10~250個0.3~3μm之凸部之硬塗層的光學薄膜取代圖1之基材薄膜10，並在該硬塗層之具有該特定形狀的面上設置透明導電膜，便可獲得抑制牛頓環產生及眩光，且提高穿透鮮明度，並能抑制霧度，且視認性優異的觸控面板，遂完成本發明。
即，本發明的光學薄膜係在光穿透性基材一面側至少設置1層硬塗層(A)的光學薄膜，其特徵在於：該硬塗層(A)之與該光穿透性基材為相反側之面的JIS B0601(1994)中所規定的算術平均粗度(Ra)為0.025~0.05μm，且該面係在1.08mm四方的區域中，存在有10~250個高度0.3~3μm之凸部。
藉由在硬塗層(A)之與光穿透性基材為相反側之面上，形成上述算術平均粗度及凸部，便可抑制牛頓環產生及眩光。
本發明的光學薄膜中，當將上述區域均等分割為100等份，而成為100個塊體時，含有上述凸部的塊體之該凸部存在數平均值係未滿2.5個，從更加提高牛頓環產生與眩光的抑制效果而言係屬較佳。
本發明的光學薄膜中，根據JIS K7105(2006)的穿透鮮明度係180~310，從更加提高光學薄膜的穿透光視認性而言係屬較佳。
本發明的光學薄膜中，較佳係上述硬塗層(A)由相對於黏結劑成分100質量份，含有粒子0.05~1.5質量份的硬塗層用硬化性樹脂組成物之硬化物構成；在硬塗層(A)中，上述粒子的平均粒徑係1.5~8μm，且上述粒子與經硬化後的黏結劑成分之折射率差係在0.07以內。
本發明的光學薄膜中，在上述硬塗層(A)之與上述光穿透性基材為相反側之面上設置透明導電膜，因為可適用於觸控面板用途，因而屬較佳。
本發明的觸控面板之特徵在於：在於上述硬塗層(A)之與光穿透性基材為相反側之面上設置透明導電膜的光學薄膜之該透明導電膜側，更進一步設置第二透明導電膜。
藉由在硬塗層(A)之具有上述特定算術平均粗度與凸部的面側設置透明導電膜，即便該透明導電膜與第二透明導電膜相接觸，仍可抑制牛頓環產生與眩光，俾成為視認性優異的觸控面板。
本發明觸控面板的較佳實施形態，亦可為下述構成：在液晶單元的一面側，依上述觸控面板的第二透明導電膜側係位於液晶單元側的方式設置該觸控面板，且在上述光穿透性基材之與硬塗層(A)為相反側之面上設置偏光板。
本發明的觸控面板係藉由硬塗層(A)之與光穿透性基材為相反側之面具有上述特定算術平均粗度與凸部，而使得即使在該硬塗層(A)之具有上述特定算術平均粗度與凸部的面側所設置之透明導電膜、和與該透明導電膜呈相對向設置的第二透明導電膜相接觸，仍可抑制牛頓環產生與眩光，並能提高穿透鮮明度、且抑制霧度，成為視認性優異的觸控面板。又，本發明的光學薄膜係可輕易地適用於此種觸控面板。
以下，針對本發明的光學薄膜及觸控面板依序進行說明。
另外，薄膜與薄片在JIS-K6900的定義中，所謂「薄片」係指較薄且一般其厚度相對於長度與寬度呈較小的扁平製品，所謂「薄膜」係指相較於長度及寬度之下，厚度屬於極小，而最大厚度則為任意限定的薄扁平製品，通例係依捲筒形式供應。所以，薄片中厚度特別薄者亦可稱之為薄膜，因為薄片與薄膜的界線並無一定，不易明確區分，因而本發明係涵蓋厚度較厚者及較薄者二者，定義為「薄膜」。
本發明中所謂「硬塗層」係指依照JIS K5600-5-4(1999)中所規定的鉛筆硬度試驗(4.9N荷重)，顯示「H」以上的硬度者。
(光學薄膜)
本發明的光學薄膜係在光穿透性基材一面側，至少設置1層硬塗層(A)者，其特徵在於：該硬塗層(A)之與該光穿透性基材為相反側之面的JIS B0601(1994)中所規定的算術平均粗度(Ra)為0.025~0.05μm，且該面係在1.08mm四方的區域中，存在有10~250個高度0.3~3μm之凸部。
圖2係概略顯示本發明光學薄膜的層構成的一例之剖視圖。
在光穿透性基材10的一面側設置硬塗層(A)90，硬塗層(A)90之與光穿透性基材10為相反側之面的算術平均粗度(Ra)係0.025~0.05μm，且該面係在1.08mm四方的區域中，存在有10~250個高度0.3~3μm之凸部。
圖3係概略顯示本發明光學薄膜的層構成的另一例之剖視圖。
在圖2的光學薄膜2之硬塗層(A)90上，更進一步設置透明導電膜20。
圖4係概略顯示本發明光學薄膜的層構成的另一例之剖視圖。
在光穿透性基材10的一面側，與圖3同樣地設置具特定算術平均粗度與凸部的硬塗層(A)90及透明導電膜20。然後，在光穿透性基材10的另一面上設置第二硬塗層41。
本發明的光學薄膜之穿透鮮明度，係只要配合所要求的硬度等性能而進行適當調節便可，從更加提高光學薄膜的穿透光視認性之觀點，較佳為180~310。若穿透鮮明度未滿180時，會有視認性降低、且產生眩光的疑慮。又，若穿透鮮明度大於310時，則會有抑制牛頓環產生的效果降低的疑慮。即，若穿透鮮明度為180~310，則視認性佳，並可抑制眩光，且抑制牛頓環產生的效果高。
另外，本發明中，穿透鮮明度係指根據JIS K7105(2006)的影像鮮明度測定，使用圖像性測定器(Suga Test Instruments(股)製商品名ICM-1PD)，利用4種光梳(optical comb)(0.125mm、0.5mm、1mm及2mm)所測得數值的合計。數值越大，則穿透鮮明度越高，400為最高值。該4種光梳的數值合計值，雖理由尚未明確，但如上述會與視認性具相關性。
本發明的光學薄膜，較佳係霧度在3%以下。藉由在3%以下，當使用於觸控面板時，影像顯示面的視認性便會呈良好。光學薄膜的霧度更佳係0.1~1.0%。
另外，本發明中，霧度係根據JIS K-7136(2000)，使用村上色彩技術研究所(股)製霧度計(商品名HM-150)進行測定的值。
以下，針對屬於本發明光學薄膜必要構成要件的光穿透性基材及硬塗層(A)進行說明，其次再針對可任意設置的透明導電膜及第二硬塗層等其他構成要件進行說明。
(光穿透性基材)
本發明的光穿透性基材係在滿足能使用為光學薄膜之光穿透性基材的物性之前提下，並無特別限定，可適當選擇使用以往公知光學薄膜或觸控面板所使用的三乙醯纖維素(TAC)、聚對苯二甲酸乙二酯(PET)、聚碳酸酯(PC)或環烯烴聚合物(COP)等樹脂。又，光穿透性基材亦可為玻璃。
在可見光域380~780nm中的光穿透性基材之平均光穿透率，較佳係達50%以上、更佳係達70%以上、特佳係達85%以上。另外，光穿透率的測定係使用紫外可見分光光度計(例如：島津製作所(股)製UV-3100PC)，在室溫、大氣中所測得的值。
再者，對光穿透性基材亦可施行皂化處理、或設置底漆層等表面處理。又，對光穿透性基材亦可添加抗靜電劑等添加劑。
光穿透性基材的厚度並無特別限定，通常係30~250μm、較佳係40~200μm。
本發明的光學薄膜係適用於觸控面板用途。依照觸控面板的態樣，亦可形成如後述在觸控面板內含有液晶單元及偏光板的內部觸控面板。
此時，與輸入操作側的偏光板所鄰接的光穿透性基材，從層構成的簡略化及製造成本降低的觀點，較佳係使用亦具有當作相位差薄膜用機能的COP。
此種COP較佳係使用：日本ZEON(股)製ZEONOR系列(商品名ZF16及ZF14(等向性膜)、ZM16(λ/4膜))等。
(硬塗層(A))
本發明光學薄膜中必要的硬塗層(A)，係硬塗層(A)之與光穿透性基材為相反側之面的JIS B0601(1994)中所規定之算術平均粗度(Ra)為0.025~0.05μm，且該面係在1.08mm四方的區域中，存在有10~250個高度0.3~3μm的凸部。
藉由硬塗層(A)具有該上述特定算術平均粗度與凸部，如圖3與4所示，亦對在該硬塗層(A)上所設置透明導電膜賦予同樣的形狀，當使用於後述觸控面板時，即便透明導電膜與第二透明導電膜相接觸，仍可抑制牛頓環產生與眩光，並提高穿透鮮明度，且可抑制霧度，可獲得優異的視認性。
若算術平均粗度(Ra)未滿0.025μm，當使用於觸控面板時，將無法充分地抑制牛頓環產生。又，若該Ra超過0.05μm，當使用於觸控面板時，會有眩光變大導致視認性降低。
該Ra從更加抑制牛頓環產生與眩光、提高穿透鮮明度、以及將霧度抑制於最佳範圍的觀點，較佳係0.030~0.045μm。
算術平均粗度(Ra)係可使用小坂研究所(股)製商品名「SE-3400」進行求取。
另外，所謂「將光學薄膜使用於觸控面板時的眩光」係指下述事項。當觸控面板畫面在亮室中發出白色光時，從距面板30cm的地點，首先從正前面觀察。然後，如圖10所示，保持對觸控面板9上的視點，身體對正前面連續地朝右、左、右上、左下等分別45度斜方向偏移，一邊改變視線一邊連續地觀察。若一邊改變視線一邊連續地觀察，在面板面的各處會看到特異耀眼的強亮發光部分。若依此施行目視觀察，將在某些特異點處看到輝度上升的現象稱為「眩光」。眩光的原因係推測是因光學薄膜的凹凸形狀之某些部分所造成。
在硬塗層(A)之與光穿透性基材為相反側之面的1.08mm四方的區域中，存在有10~250個高度0.3~3μm的凸部。另外，該1.08mm四方的區域中之凸部的個數及高度，係可使用非接觸表面形狀測定機(例如：Zygo公司製干涉計系列商品名「New View 6000」)進行求取。
凸部的個數係藉由計數在該1.08mm四方的區域中之凸部頂點數便可求取。
再者，凸部的高度係如圖11所示，以凸部頂點為中心每隔22.5°切出8個剖面，再如圖12所示，就各剖面求取(頂點-最低的谷部)=高度h，計算出該高度h的平均值便可求得。
該高度0.3~3μm的凸部從兼顧防止牛頓環出現、與抑制眩光產生的觀點，較佳係在1.08mm四方的區域中存在35~210個。又，穿透鮮明度與霧度亦可處於較佳狀態。
再者，將該區域均等分割為100等份而成為100個塊體時，從使用於觸控面板時更加提高抑制牛頓環產生與眩光的效果之觀點，較佳係含有該凸部的塊體中該凸部存在數平均值未滿2.5個。又，從能抑制眩光、良好保持外觀的觀點，較佳係未存在有凸部極端凝聚的地方(塊體)。即，為能防止牛頓環，較佳係存在有某種程度的凸部，且為能防止眩光，較佳係在區域內該凸部不會集中於特定部分，較佳係整體面呈稀疏無規存在。
另外，凸部存在數的平均值中，所謂「平均值」係指相加平均。
每1塊體的凸部存在數平均值之計算方法，係將在1.08mm四方的區域中所存在高度0.3~3μm的凸部個數，除以含有高度0.3~3μm凸部的塊體個數而求得。例如當100個塊體中，含高度0.3~3μm凸部的塊體為90個，而該凸部個數為180個時，凸部存在數的平均值依照180÷90=2，便為2個。
再者，因為硬塗層(A)的硬度及耐擦傷性均較優於光穿透性基材，因而相較於如圖1所示在光穿透性基材之顯示器側未設置硬塗層(A)的情況，前者能抑制因損傷所造成的光學薄膜穿透光視認性降低情形。
該硬塗層(A)的積層膜厚並無特別限定，只要能達成硬塗層的硬度，且適當調整為硬塗層(A)之與該光穿透性基材為相反側之面，使其具有上述特定算術平均粗度與凸部便可。該硬塗層(A)的積層膜厚通常較佳係2~13μm、更佳係2.5~8.5μm。另外，積層膜厚係可利用雷射顯微鏡(例如，RAIKA製，共軛焦點雷射顯微鏡，型號TCS SP)進行非破壞測定。積層膜厚係藉由測定從無凸部處的紫外線硬化樹脂表面至基材表面間之距離便可求得。在一個顯微鏡觀察畫面中測定任意3點，再依此實施3畫面份，並將合計9點測定值的平均值視為「積層膜厚」。
以下，針對經硬化而形成硬塗層(A)的硬塗層用硬化性樹脂組成物(以下簡稱「HC層用組成物」)進行說明。
(硬塗層用硬化性樹脂組成物)
HC層用組成物係至少含有：為在HC層表面形成上述算術平均粗度與凸部用的粒子、以及具有光硬化性的黏結劑成分。
以下，針對必要成分的該粒子與黏結劑成分、及屬於任意成分的溶劑、聚合起始劑、抗靜電劑、均塗劑、以及為賦予硬度用的微粒子等進行說明。
(粒子)
粒子係可使用在以往公知防眩薄膜等之中所採用的防眩性粒子。
粒子係可任意使用有機系及無機系粒子中任一種。
無機系粒子係可舉例如含有從矽、鋁、鋅、鈦、鋯、釔、銦、銻、錫、鎢中選擇之至少1種金屬元素的氧化物。無機系粒子的較佳者係氧化矽(二氧化矽)粒子，無關形狀及結晶狀態均可使用。形狀係無定形較佳於球狀。原因在於藉由呈無定形，即便添加量為少量仍可獲得較佳的凹凸形狀。又，粒子亦較佳係使用專利文獻1所記載，至少在表面其中一部分被覆著有機成分，且表面具有利用該有機成分所導入反應性官能基的無機微粒子(C)，原因在於該無機微粒子(C)會與後述黏結劑成分進行交聯反應，而提高密接性。
再者，有機系粒子係可舉例如：日本專利特開2009-116336號公報所揭示的三聚氰胺球珠、聚苯乙烯球珠、及丙烯酸系球珠等有機系粒子。
粒子的形狀係在能對HC層(A)表面賦予上述形狀的前提下，並無限定，可使用正球狀、略球狀、針狀及旋轉橢圓體等任一種。較佳係正球狀或略球狀。
樹脂組成物中，粒子的粒徑係只要配合HC層(A)的厚度、粒子的形狀等，經進行適當調節後再使用便可，平均粒徑較佳係0.5~8.0μm、更佳係1.5~8.0μm。又，經硬化後的HC層(A)中之粒子平均粒徑較佳係1.5~8.0μm。當該平均粒徑未滿1.5μm時，會有抑制牛頓環產生的效果降低之疑慮。又，當該平均粒徑大於8.0μm時，會有穿透鮮明度降低、且霧度亦上升，導致視認性降低的疑慮。
再者，平均粒徑係相對於欲形成的HC層積層膜厚，較佳為90~120%。若在該範圍內，便可輕易地在HC層(A)表面形成上述特定算術平均粗度與凸部。若平均粒徑相對於欲形成HC層的厚度係未滿90%時，因為粒子會埋入於HC層中，因而會有抑制牛頓環產生的效果降低之疑慮。又，若平均粒徑相對於欲形成HC層的厚度係超過120%時，便會有穿透鮮明度降低、且霧度亦上升，導致視認性降低的疑慮。
另外，粒子的平均粒徑係設為利用庫爾特粒度計數(Coulter counter)法進行測定，且將體積粒徑分佈設為依累積分佈表示時的平均粒徑。該平均粒徑係可使用Beckman Coulter股份有限公司製精密粒度分佈測定裝置Coulter Multisizer3進行測定。
另一方面，硬化膜(HC層(A))中的粒子平均粒徑係利用光學顯微鏡(例如KEYENCE製、VHX200數位式顯微鏡)穿透觀察凹凸表面，並從所觀察的粒子中選擇任意10粒子，且測定其粒徑，經計算出平均粒徑(μm)而求得。具體而言，測量各個粒子的短軸徑與長軸徑，並將其平均設為該粒子的粒徑。依此測量10粒子份，並求取總平均值。
當粒子係有機系粒子的情況，因溶劑或單體等的影響，會有膨潤或收縮情形。另一方面，當粒子係無機系粒子的情況，雖幾乎不會如有機系粒子般，因溶劑或單體等的影響而造成之粒子物性變化，但在硬化膜中會有粒子彼此間發生凝聚的情況。因而，硬化膜中的粒子平均粒徑會依照原料的粒子平均粒徑而有所變化，而硬化膜(HC層(A))中，上述粒子的平均粒徑較佳係1.5~8μm。硬化膜中形成凸形狀的粒子，不管該粒子係1次粒子或2次粒子，均僅視為1個，並就10粒子份分別測量其短軸徑與長軸徑，且求取總平均值，再將其視為硬化膜中的平均粒徑。
依庫爾特粒度計數法所測得原料粒子的平均粒徑，若在較佳範圍內，則在成為硬化膜後，可形成本發明的較佳凸部，且硬化膜中的平均粒徑亦可在1.5~8μm範圍內。
上述粒子係可單獨使用1種，亦可組合使用2種以上材料、形狀或粒徑不同的粒子。
上述硬塗層(A)係由含粒子及黏結劑成分的硬塗層用硬化性樹脂組成物之硬化物構成，相對於該黏結劑成分100質量份，該粒子較佳係含有0.05~1.5質量份、更佳係含有0.1~1質量份。藉由粒子相對於黏結劑成分含有該比例，便可抑制牛頓環產生與眩光，因而屬較佳。
再者，硬塗層(A)中，上述粒子與經硬化後的黏結劑成分間之折射率差較佳係在0.07以內。藉由粒子與經硬化後的黏結劑成分間之折射率差在0.07以內，便會使霧度降低、且更加提高穿透鮮明度與對比，俾可獲得良好視認性，因而屬較佳。折射率差係為提升對比、穿透率及穿透鮮明度，該差值越小越佳，更佳係例如0.03以內。另一方面，為防止眩光，亦可使具有某種程度的折射率差，俾對HC層內賦予內部擴散性。若折射率差在0.05以內，則均衡佳，可提升對比、穿透率及穿透鮮明度，且亦可提升眩光防止性，因而屬最佳。
此處，上述折射率差係可對經製作光學薄膜後的HC層(A)，使用穿透型相移雷射顯微干涉計測裝置(例如NTT Advanced Technology公司製PLM-OPT)進行測定。測定順序係可使用後述實施例所記載的方法。該方法中雖需要將HC層從基材上剝離，但當無法將HC層從基材上剝離的情況，亦可削取經硬化後的HC層(未存在粒子的部分)，再使用JIS K7142(1996)塑膠的折射率測定方法之B法，測定經硬化後的HC之折射率，再計算與組成物中所使用粒子的折射率間之差值。又，當粒子係無機系粒子的情況、或者無定形粒子或折射率極接近HC的粒子之情況，即屬於粒子形狀無法利用光學顯微鏡明確看到之粒子的情況，亦可依照與無法將上述HC層從基材上剝離的情況之同樣方法，測定經硬化後的HC折射率，並計算與組成物中所使用粒子間的折射率差。特別係當無機系粒子的情況，不同於有機系粒子，即便在組成物中，因為幾乎不會有因單體或溶劑而造成的膨潤等，因而可使用該計算方法。有機系粒子的情況，若屬單獨材料的情況，因為在將組成物施行硬化後，會因各種原因而有折射率不同的情況，因而較佳採取上述使用穿透型相移雷射顯微干涉計測裝置的方法。
(黏結劑成分)
HC層用組成物中所含的黏結劑成分係具有光硬化性的黏結劑成分，在經硬化後能獲得當作HC層用的充分強度之前提下，並無特別限定。從抑低製造成本、獲得高穿透鮮明度、低霧度，且較容易獲得HC層硬度俾能穩定地提高抑制牛頓環產生的效果而言，較佳使用光硬化性樹脂。光硬化性樹脂係具有光硬化性基，較佳係具有游離輻射線硬化性不飽和基。具體例係可舉例如：(甲基)丙烯醯基、乙烯基、烯丙基等乙烯性不飽和鍵結及環氧基等。另外，本發明中，(甲基)丙烯醯基係指丙烯醯基及/或甲基丙烯醯基，(甲基)丙烯酸酯係指丙烯酸酯及/或甲基丙烯酸酯。
光硬化性樹脂通常係可使用紫外線硬化性樹脂或電子線硬化性樹脂等。光硬化性樹脂係只要含有具有經利用光便能進行聚合(以下亦稱「硬化」)反應的至少1個官能基之光硬化性成分便可。該光硬化性成分係可適用具自由基聚合性不飽和雙鍵的化合物，例如有：單官能基單體、雙官能基以上的多官能基單體、官能基寡聚物、官能基聚合物等。
單官能基單體係可適用例如：丙烯酸、丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸丁酯、丙烯酸-2-乙基己酯、丙烯酸異丁酯、甲基丙烯酸甲酯、丙烯酸-2-己酯、丙烯酸-2-乙基己酯、丙烯酸-2-羥酯、丙烯酸-2-羥乙酯、丙烯酸-2-羥丙酯、壬酚EO加成物丙烯酸酯(DNPA)、丙烯酸苯氧基乙酯、丙烯酸-2-羥基-3-苯氧基丙酯(HPPA)、3-乙基-3-羥甲基氧雜環丁烷等(甲基)丙烯酸酯、或其烷基或芳基酯；苯乙烯、甲基苯乙烯、苯乙烯丙烯腈等等。
雙官能基單體係可適用例如：1,6-己二醇丙烯酸酯(HDDA)、乙二醇二丙烯酸酯、新戊二醇二丙烯酸酯(NPGDA)、二乙二醇二丙烯酸酯(DEGDA)、三丙二醇二丙烯酸酯(TPGDA)、聚乙二醇400二丙烯酸酯(PEG400DA)、羥三甲基乙酸酯新戊二醇二丙烯酸酯(HPNDA)、雙酚A EO改質二丙烯酸酯、1,4-雙[(3-乙基-3-氧雜環丁烷基甲氧基)甲基]苯等。
多官能基單體係可適用使例如：乙二醇、甘油、季戊四醇、環氧樹脂等雙官能基以上的化合物，與(甲基)丙烯酸或其衍生物進行反應而獲得的雙官能基以上之(甲基)丙烯醯基單體等，可例示如：三羥甲基丙烷三丙烯酸酯(TMPTA)、季戊四醇三丙烯酸酯(PETA)、季戊四醇四丙烯酸酯、二季戊四醇五丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯(DPHA)、三羥甲基丙烷EO改質三丙烯酸酯、二羥甲基丙烷四丙烯酸酯等。
多官能基寡聚物(亦稱「預聚物」)係可適用分子量(重量平均)約300~5000左右，且分子內中具有(甲基)丙烯醯基、甲基丙烯醯基、烯丙基、或環氧基等自由基聚合性雙鍵的聚胺甲酸酯系、聚酯系、聚醚系、聚碳酸酯系、聚(甲基)丙烯酸酯系，例如：不飽和二羧酸與多元醇的縮合物等不飽和聚酯類；聚酯(甲基)丙烯酸酯、胺甲酸酯(甲基)丙烯酸酯、聚酯-胺甲酸酯(甲基)丙烯酸酯、聚醚(甲基)丙烯酸酯、多元醇(甲基)丙烯酸酯、三聚氰胺(甲基)丙烯酸酯、異三聚氰酸(甲基)丙烯酸酯、環氧(甲基)丙烯酸酯等(甲基)丙烯酸酯類；陽離子聚合型環氧化合物；矽氧烷等矽樹脂等等。
多官能基聚合物係分子量(重量平均)約5000~30萬左右，且具有丙烯醯基、甲基丙烯醯基、烯丙基、或環氧基等自由基聚合性雙鍵的胺甲酸酯(甲基)丙烯酸酯、異三聚氰酸(甲基)丙烯酸酯、聚酯-胺甲酸酯(甲基)丙烯酸酯、環氧(甲基)丙烯酸酯；矽氧烷等矽樹脂等等。
上述光硬化性樹脂的單體、寡聚物、聚合物係可單獨使用、亦可併用2種以上。
從抑低製造成本、較容易獲得HC層硬度俾能穩定地提高抑制牛頓環產生的效果而言，其中更佳係單獨使用或組合使用2種以上具有2個以上官能基的多官能基單體、多官能基寡聚物、多官能基聚合物。
在HC層用組成物所含的黏結劑成分中，亦可更進一步含有上述熱可塑性樹脂、上述熱硬化性樹脂、上述二液混合型樹脂。該等係可單獨使用、亦可併用2種以上。
例如熱可塑性樹脂係可舉例如：聚乙烯醇系樹脂、聚乙烯‧聚丙烯等烯烴系樹脂；胺甲酸酯系樹脂、(甲基)丙烯酸酯系共聚物；苯乙烯-丁二烯-苯乙烯嵌段共聚物、苯乙烯-異戊二烯-苯乙烯嵌段共聚物等苯乙烯共聚物；乙烯-醋酸乙烯酯共聚物、丁二烯樹脂、異丁烯樹脂、醋酸乙烯酯樹脂、聚苯乙烯樹脂、丁醛樹脂、聚乙烯縮醛樹脂、ABS樹脂、聚醯亞胺樹脂、聚醯胺樹脂、聚矽氧樹脂等。上述熱可塑性樹脂係經溶解於適當溶劑中之後才使用。熱硬化性樹脂係可舉例如：酚樹脂、尿素樹脂、三聚氰胺樹脂、環氧樹脂、環氧丙烯酸酯樹脂、聚胺甲酸酯樹脂、聚胺甲酸酯丙烯酸酯樹脂、不飽和聚酯樹脂等。二液混合型樹脂係可舉例如：二液胺甲酸酯樹脂、二液環氧樹脂等。
(溶劑)
當黏結劑成分係使用較多量的情況，因為黏結劑成分中的單體及/或寡聚物亦具有能當作液狀介質的機能，因而會有即便未使用溶劑仍可調製HC層用組成物的情況。所以，若為能適當地將固形份予以溶解或分散，而調整濃度，俾調製得塗佈性優異的HC層用組成物，只要使用溶劑便可。
溶劑係在能將黏結劑成分、粒子予以溶解或分散的前提下並無特別限定，可使用各種有機溶劑，例如：異丙醇、甲醇及乙醇等醇類；甲乙酮、甲基異丁酮及環己酮等酮類；醋酸乙酯及醋酸丁酯等酯類；鹵化烴、甲苯及二甲苯等芳香族烴；以及該等的混合溶劑。
上述溶劑係可單獨使用1種、亦可混合使用2種以上。
(聚合起始劑)
為促進黏結劑成分、或後述經表面處理且具有光硬化性基的反應性二氧化矽微粒子之交聯反應等，視需要亦可適當選擇使用自由基及陽離子聚合起始劑等。該等聚合起始劑係利用光照射及/或加熱而分解，並產生自由基或陽離子，而進行自由基聚合與陽離子聚合。例如利用光進行的自由基聚合起始劑係可舉例如日本汽巴(股)製商品名IRGACURE 184(1-羥基-環己基-苯基-酮)、IRGACURE 907及IRGACURE 369等。
當使用聚合起始劑的情況，其含有量係相對於HC層用組成物的總固形份合計質量，較佳使用1~10質量%。
(抗靜電劑)
抗靜電劑係可使用以往公知抗靜電劑，可使用例如：四級銨鹽等陽離子性抗靜電劑、錫摻雜氧化銦(ITO)等微粒子。
當使用抗靜電劑的情況，其含有量係相對於HC層用組成物的總固形份合計質量，較佳為1~30質量%。
(均塗劑)
本發明的HC層用組成物中，在對HC層(A)賦予膜厚均勻性之目的下，亦可含有以往公知均塗劑。
均塗劑係可使用在以往公知硬塗層或防污層中所使用的氟系或聚矽氧系等均塗劑。又，亦可使用含有氟系及聚矽氧系雙方的共聚物。
均塗劑市售物係可舉例如：DIC(股)製MEGAFAC系列(商品名MCF350-5)等未具有游離輻射線硬化性基的均塗劑、以及信越化學工業(股)製商品名X22-163A及X22-164E等具有游離輻射線硬化性基的均塗劑。
使用均塗劑的情況，其含有量係相對於HC層用組成物的總固形份合計質量，較佳係使用0.02~2質量%。
(為賦予硬度的粒子)
本發明的HC層用組成物中，為求HC層(A)的硬度提升，亦可含有硬度優異的無機微粒子等粒子。
該無機微粒子係只要在以往公知HC層中所使用者便可，例如：二氧化矽、氧化鋁、二氧化鋯及二氧化鈦等。
再者，亦可使用專利文獻1所記載，表面具有反應性官能基(光硬化性基)的無機微粒子。藉由使用該反應性無機微粒子，反應性無機微粒子的光硬化性基與上述黏結劑成分的光硬化性基便會進行交聯反應，俾更加提高HC層的硬度。
為賦予硬度的無機微粒子較佳係二氧化矽。更佳的粒子係無定形較優於球狀，因為少量添加便可獲得良好的硬度。
為賦予硬度的粒子之平均1次粒徑，從HC層(A)的透明性觀點，較佳係1~100nm。
(透明導電膜)
本發明的光學薄膜，亦可如圖3所示，在HC層(A)90具有特定算術平均粗度與凸部之面側，直接或隔著後述低折射率層等其他層，設置透明導電膜20。
透明導電膜係只要屬於以往公知觸控面板所使用者便可。透明導電膜係可舉例如：專利文獻2所記載的In及Sn等金屬；氧化銦及氧化錫等金屬化合物；ITO等金屬氧化物；PEDOT-PSS(聚-3,4-伸乙基二氧基噻吩-聚苯乙烯磺酸)、聚對伸苯基、聚乙炔、碳奈米管等導電性高分子等等。透明導電膜較佳係ITO。
透明導電膜的膜厚係只要將表面電阻適當調節而呈均勻狀態便可，例如調整為500Ω/□±3%的膜厚。
(第二硬塗層)
本發明的光學薄膜，亦可如圖4所示，在光穿透性基材10之與HC層(A)90為相反側之面上，設置第二HC層41。
第二HC層並無特別限定，可為與HC層(A)相同，亦可為不同於HC層(A)的以往公知HC層。
以往公知HC層係有如專利文獻1所記載的HC層，由含有黏結劑成分與反應性無機微粒子的組成物之硬化物構成之層。又，亦可為未含反應性無機微粒子，主要由黏結劑成分構成的層。
第二硬塗層的膜厚係只要配合所要求的性能進行適當調節便可，例如可設為1~20μm。
(低折射率層)
本發明的光學薄膜亦可如圖5所示，在第二HC層41之與光穿透性基材10為相反側之面上設置低折射率層100。
低折射率層係當使用於觸控面板時，只要折射率較低於該低折射率層之顯示器側所鄰接層便可，可調節為適當折射率。低折射率層的折射率較佳係1.45以下。
低折射率層係由含有二氧化矽或氟化鎂等低折射率成分與黏結劑成分的組成物、或由含有偏二氟乙烯共聚物等含氟樹脂的組成物之硬化物構成，可設為以往公知的低折射率層。
在用於形成低折射率層用的組成物中，為使低折射率層的折射率降低，亦可含有中空粒子。
中空粒子係指具有外殼層，且被外殼層所圍繞的內部呈多孔質組織或空洞的粒子。在該多孔質組織或空洞中含有空氣(折射率：1)，藉由使低折射率層中含有折射率1.20~1.45的中空粒子，便可使低折射率層的折射率降低。
中空粒子的平均粒徑較佳係1~100nm。
中空粒子係可使用以往公知低折射率層中所使用者，例如日本專利特開2008-165040號公報所記載具有空隙的微粒子。
低折射率層的膜厚係只要配合所要求性能而適當選擇便可，較佳係80~120nm，主要係利用反射率與色調進行調整。
(防污層)
本發明的光學薄膜亦可如圖5所示，當使用於觸控面板時，在成為輸入操作側最表面的位置處，於賦予防污性與耐擦傷性之目的下，設置防污層110。
防污層係由含有黏結劑成分與均塗劑等防污劑的組成物構成，可設為以往公知的防污層。
黏結劑成分及防污劑係可使用上述HC層中所舉例者。
防污劑的含有量係相對於防污層用組成物的總固形份合計質量，較佳為0.02~3質量%。
其他，亦可在用於形成上述第二HC層的組成物中，添加上述HC層(A)所舉例的防污劑，俾對第二HC層賦予防污性。
再者，亦可在用於形成上述低折射率層的組成物中，添加上述HC層(A)所舉例防污劑，俾對低折射率層賦予防污性。藉此，例如雖未圖示，亦可由圖5的低折射率層100與防污層110統合構成一層。
(光學薄膜之製造方法)
本發明光學薄膜的製造方法係包括：準備上述硬塗層用硬化性樹脂組成物的步驟；在光穿透性基材的一面側，塗佈該硬塗層用硬化性樹脂組成物而形成塗膜的步驟；以及對該塗膜施行光照射而使其硬化，形成硬塗層(A)的步驟。
在準備HC層用組成物的步驟中，係準備上述HC層(A)所敘述的HC層用組成物。
HC層用組成物通常係在溶劑中將黏結劑成分、以及其他的粒子或聚合起始劑等，依照一般的調製法施行混合而進行分散處理便調製得。在混合分散時係可使用塗料振盪機或珠磨機等。當黏結劑成分係具有流動性時，因為即便未使用溶劑仍可將HC層用組成物塗佈於光穿透性基材上，因而只要適當地配合需要使用溶劑便可。
在塗佈HC層用組成物而形成塗膜的步驟中，塗佈方法係只要使用以往公知方法便可，並無特別限定，可使用例如：旋塗法、浸漬法、噴塗法、斜板式塗佈法、棒塗法、輥塗法、模具塗佈法、半月板塗佈法、橡膠版輪轉印刷法、及網版印刷法等各種方法。
在形成HC層的步驟中，於光照射時，主要係使用紫外線、可見光、電子線或游離輻射線等。當施行紫外線硬化時，係使用從LED、超高壓水銀燈、高壓水銀燈、低壓水銀燈、碳弧、氙弧或金屬鹵素燈等光源所發出的紫外線等。能量線源的照射量係依紫外線波長365nm下的積分曝光量計，設為50~500mJ/cm2 左右。
當除光照射之外，尚施行加熱時，通常依40~120℃溫度進行處理。
在HC層用組成物施行塗佈後，且施行光照射之前，亦可施行乾燥。乾燥方法係可舉例如：減壓乾燥或加熱乾燥，以及組合該等乾燥的方法等。例如當HC層用組成物的溶劑係使用甲基異丁酮(MIBK)時，便可依30~150℃、較佳35℃~100℃溫度，且20秒~3分、較佳30秒~1分的時間施行乾燥步驟。
(其他層之形成)
當形成上述第二HC層等其他層時，只要準備其他層的組成物，再如同上述HC層(A)的形成，將組成物施行塗佈，再利用光照射及/或加熱而使硬化，便可形成其他層。
再者，針對透明導電膜，當ITO等無機系透明導電膜的情況，係可使用真空蒸鍍法、濺鍍法、離子蒸鍍法等真空製膜法。當PEDOT-PSS等有機系透明導電膜的情況，係可使用與上述HC層(A)同樣的塗佈方法。
關於除透明導電膜之外的第二硬塗層等其他層，亦可在形成HC層(A)之前便已形成，亦可在形成HC層(A)之後才形成。
(觸控面板)
本發明觸控面板的特徵係在於上述硬塗層(A)之與光穿透性基材為相反側之面上設置透明導電膜的光學薄膜之該透明導電膜側，更進一步設置第二透明導電膜。
藉由使用在上述具有特定算術平均粗度與凸部的硬塗層(A)上，設置透明導電膜的光學薄膜，即使該透明導電膜與第二透明導電膜相接觸，仍可抑制牛頓環產生與眩光，且提高穿透鮮明度、並抑制霧度，俾成為視認性優異的觸控面板。
圖6係概略顯示本發明觸控面板的層構成的一例、及與顯示器間之位置關係的剖視圖。
光學薄膜2、與一面側設置第二透明導電膜21的第二光穿透性基材11，係配置成透明導電膜20與第二透明導電膜21呈相對向狀態。而，觸控面板5便位於顯示器80的顯示面側。
另外，顯示器80係可為LCD、CRT、有機EL、無機EL或電漿顯示器等公知顯示器中任一者。
圖7係概略顯示本發明觸控面板的層構成的另一例、及與顯示器間之位置關係的剖視圖。
圖7之觸控面板6為光學薄膜3、與一面側設置第二透明導電膜21的第二光穿透性基材11，係配置成透明導電膜20與第二透明導電膜21呈相對向狀態，且進一步在該透明導電膜20與第二透明導電膜21之間配置間隙子30。因而，觸控面板6係位於顯示器80的顯示面側。又，在光學薄膜3之光穿透性基材10的輸入操作側之面上設置第二硬塗層41。
圖8係概略顯示本發明觸控面板的層構成的另一例、及與顯示器間之位置關係的剖視圖。
圖8之觸控面板7係就圖7所示觸控面板6，於顯示器側的第二透明導電膜21與第二光穿透性基材11之間，更進一步設置第三硬塗層42。
圖9係概略顯示本發明觸控面板之一態樣的內部觸控面板之層構成的一例的剖視圖。
圖9之內部觸控面板8係在液晶單元140的一面側，依圖8之觸控面板的第二透明導電膜側係位於液晶單元側之方式設置該觸控面板，且更進一步在該觸控面板的液晶單元側設置相位差薄膜(λ/4板)12。圖9之內部觸控面板係取代圖8之觸控面板的光穿透性基材10，改為設置兼具光穿透性基材的相位差薄膜12，在該相位差薄膜12之與硬塗層(A)90為相反側之面上，即相位差薄膜12與第二硬塗層41之間，設置偏光板130。
再者，雖未圖示，亦可在圖9之第三硬塗層42與第二透明導電膜21之間設置低折射率層。
以下，針對本發明觸控面板必要構成要件的光學薄膜及第二透明導電膜、以及視需要可適當設置的其他構件進行說明。
(觸控面板的光學薄膜)
本發明觸控面板的光學薄膜係上述光學薄膜中，如圖3所示，只要至少在光穿透性基材的一面側從該光穿透性基材側起設置硬塗層(A)及透明導電膜即可。因為關於該至少在光穿透性基材的一面側，從該光穿透性基材側起設置硬塗層(A)及透明導電膜的形態係如上述，因而在此便省略說明。
再者，光學薄膜係如圖4及5所示，相對於光穿透性基材，當使用於觸控面板時，亦可在較光穿透性基材更靠輸入操作側的位置處，設置第二硬塗層、低折射率層或防污層等。
再者，如後述，亦可如圖9所示含有偏光板。
(第二透明導電膜)
第二透明導電膜係如圖6與圖8所示，設置於上述光學薄膜的光穿透性基材之外的第二光穿透性基材或第二硬塗層等之上，且配置於與上述光學薄膜的透明導電膜呈相對向位置處。
透明導電膜與第二透明導電膜係呈相對向位置關係，只要當從輸入操作側按押透明導電膜時能相接觸便可。因而，如圖7所示，在透明導電膜與第二透明導電膜之間亦可設置間隙子，雖未圖示，但亦可在透明導電膜的邊緣部分等處設置除間隙子以外的絕緣膜等。又，亦可未設置間隙子或絕緣膜等，而僅隔著空氣等氣體層呈相對向。
第二透明導電膜係可使用上述光學薄膜中所舉例的透明導電膜。
透明導電膜與第二透明導電膜的材料及膜厚係可為相同、亦可為不同。
再者，圖7~9所示第二透明導電膜的輸入操作側之面60，係可為平滑，亦可如在硬塗層(A)具有凸部之面側所設置之上述透明導電膜般，設置凹凸。
面60較佳係平滑。
(觸控面板的其他構件)
本發明的觸控面板係除上述光學薄膜與第二透明導電膜之外，配合所要求的性能與態樣，亦可適當地含有：第二光穿透性基材、空氣層、間隙子、第二硬塗層、偏光板、相位差薄膜及液晶單元等其他構件。以下，針對該等依序進行說明。
(第二光穿透性基材)
第二透明導電膜的基材係如圖6所示，亦可使用第二光穿透性基材。
第二光穿透性基材係可使用上述光學薄膜中所舉例的光穿透性基材，較佳係玻璃。又，從輕量化的觀點，較佳亦可使用樹脂薄膜。
第二光穿透性基材的厚度係當使用玻璃的情況較佳為0.2~2mm，當使用樹脂薄膜的情況較佳為40~200μm。
(空氣層)
如上述，觸控面板係只要透明導電膜與第二透明導電膜呈相對向位置關係便可，在該透明導電膜與第二透明導電膜之間亦可為空氣層或空隙，亦可如後述設置間隙子。
該空隙(空氣層)的高度並無特別限定，可適當調節，例如設為75~200μm。
(間隙子)
間隙子係在確保透明導電膜與第二透明導電膜間之空隙、控制輸入操作時的荷重、以及提升輸入操作後的透明導電膜與第二透明導電膜間之分離等目的下而設置。
間隙子係可使用專利文獻2所記載的胺甲酸酯系樹脂或粒子。
間隙子的尺寸係可適當調節，例如可設為直徑30~50μm、高度3~15μm。又，間隙子的間隔亦可適當調節，例如可依0.1~10mm的一定間隔設置。
(在第二透明導電膜之顯示器側所設置的第三硬塗層)
本發明的觸控面板，如圖8及圖9所示，在第二光穿透性基材與第二透明導電膜之間，於賦予耐擦傷性等目的下，亦可設置第三HC層42。
第三HC層42係可與上述光學薄膜中所舉例第二HC層同樣地形成。如同光學薄膜中所舉例的第二HC層，該第三HC層的輸入操作側之面係可為平滑、亦可如HC層(A)般的設置凹凸。
如圖8及圖9所示，當第二HC層41位於光學薄膜的輸入操作側最表面(即光穿透性基材10的表面側)時，該第二HC層41的輸入操作側之面120，係可為平滑、亦可與透明導電膜之顯示器側之面50同樣地形成凹凸。
再者，雖未圖示，在位於上述光學薄膜所述光穿透性基材10之輸入表面側的第二HC層41之更靠輸入表面側，可設置低折射率層或防污層等。上述低折射率層或防污層等係與上述第二HC層41同樣地可為平滑、亦可與透明導電膜之顯示器側之面50同樣地形成凹凸。
(偏光板)
本發明觸控面板的較佳實施形態，亦可形成如圖9所示，在液晶單元的一面側，依上述觸控面板的第二透明導電膜側位於液晶單元側的方式設置該觸控面板，且在上述光穿透性基材之與硬塗層(A)為相反側之面上，於降低反射光之目的下，設置偏光板的觸控面板(內部觸控面板)。
偏光板係可使用液晶顯示器中所使用的以往公知偏光板，例如可使用在保護膜上設置偏光件者。
偏光件並無特別限定，只要具有當作偏光件用的機能，即將入射光分為相互正交的2個偏光成分，僅使其中一者通過，而使其他成分被吸收或分散的作用者便可。此種偏光件係可例如日本專利特開2009-226932號公報所記載的聚乙烯醇(PVA)‧碘系偏光件等。
保護膜係可使用上述光學薄膜中所舉例光穿透性基材的TAC及PET等。
再者，除內部觸控面板以外的觸控面板(例如圖6之觸控面板5)，當在LCD、CRT、有機EL、無機EL及電漿顯示器等顯示器的影像顯示面側，配置本發明觸控面板時，於降低反射光之目的下，亦可將偏光板配置於輸入操作側的表面或光學薄膜具有第二硬塗層等的表面附近位置處。
(相位差薄膜)
相位差薄膜(相位差板)係具有將直線偏光轉換為圓偏光或橢圓偏光之機能的薄膜。內部觸控面板較佳係使用在正交的偏光成分之間會生成1/4波長(π/2)相位差的λ/4板(亦稱4分之λ板、或四分之一λ板)。
λ/4板係可使用在液晶顯示領域中一般所採用的各種高分子物質之單軸延伸薄膜。其材料係可舉例如：PVA、降烯系樹脂、COP、纖維素系樹脂或聚碳酸酯樹脂等。
相位差薄膜之一種的COP之市售物係可例如日本ZEON製ZEONOR系列(商品名ZM16)等。因為COP亦具有當作上述光穿透性基材用的機能，因而從可將層構成簡略化，俾亦可降低製造成本的觀點，係屬較佳。
(液晶單元)
液晶單元係在液晶顯示器中負責光之快門作用的部位，係在具有透明導電膜等的2片玻璃基板之間，注入液晶分子等液晶材料的單元。液晶單元係可使用以往公知者。
(觸控面板之製造方法)
本發明的觸控面板係可依照以往公知方法進行製造，例如將具備上述透明導電膜的光學薄膜、與具有第二透明導電膜的光穿透性基材等，藉由依透明導電膜與第二透明導電膜呈相對向之方式，隔著空氣層等配置便可進行製造。
[實施例]
以下，列舉實施例，針對本發明進行更具體的說明。惟本發明並不僅侷限於該等記載。
粒子(1)係使用丙烯酸系-苯乙烯交聯粒子(積水化成品工業(股)製Techpolymer SMX系列、平均粒徑7μm、折射率1.540)。
粒子(2)係使用丙烯酸系-苯乙烯交聯粒子(積水化成品工業(股)製Techpolymer SMX系列、平均粒徑5.7μm、折射率1.578)。
粒子(3)係使用經被覆著有機成分，且表面具有反應性官能基的無定形非晶質二氧化矽微粒子(Tosoh(股)製NIPGEL AZ-360、平均粒徑3μm、折射率1.46~1.47)。
多官能基聚酯丙烯酸酯係使用東亞合成(股)製商品名M9050。
多官能基單體係使用季戊四醇三丙烯酸酯(日本化藥(股)製、PET-30(三官能基))。
聚合起始劑(1)係使用日本汽巴(股)製：IRGACURE(Irg)184。
聚合起始劑(2)係使用日本汽巴(股)製：IRGACURE(Irg)907。
均塗劑係使用DIC(股)製MCF350SF(含有全氟烷基‧親水性基‧親油性基的寡聚物)。
光穿透性基材(1)係使用日本ZEON(股)製COP薄膜、商品名ZEONOR ZM16(厚度100μm)。
光穿透性基材(2)係使用東洋紡績(股)製PET薄膜、商品名A4300(厚度100μm)。
(HC層用硬化性樹脂組成物之調製)
調配下述所示組成的成分，而調製得HC層用硬化性樹脂組成物1。另外，丙烯酸系-苯乙烯交聯粒子、與黏結劑成分的多官能基聚酯丙烯酸酯及多官能基單體的混合物間之折射率差係0.03。
(HC層用硬化性樹脂組成物1)
丙烯酸系-苯乙烯交聯粒子(粒子(1)、平均粒徑7μm)：0.1質量份
多官能基聚酯丙烯酸酯(M9050)：80質量份
多官能基單體(PET-30)：20質量份
聚合起始劑(1)(Irg-184)：4.5質量份
聚合起始劑(2)(Irg-907)：0.5質量份
均塗劑(MCF-350SF)：0.1質量份
甲基異丁酮(MIBK)：129質量份
(光學薄膜之製作) (實施例1)
在光穿透性基材(1)的一面側塗佈上述HC層用硬化性樹脂組成物1，並在溫度70℃熱烤箱中施行60秒鐘乾燥，而使塗膜中的溶劑蒸發，再藉由將紫外線依積分光通量成為80mJ/cm2 的方式施行照射，而使塗膜硬化，便形成膜厚5.9μm的HC層(A)，獲得光學薄膜。
(實施例2~7及比較例1~5)
除將光穿透性基材、粒子的種類及含有量、以及HC層(A)的積層膜厚，改變為如表1所示之外，其餘均與實施例1同樣地獲得實施例2~7及比較例1~5的光學薄膜。
(評估)
針對實施例1~7及比較例1~5的光學薄膜，分別依如下述，就粒子與經硬化後的黏結劑成分間之折射率差、算術平均粗度(Ra)、凸部高度、1.08mm四方區域中的高度0.3~3μm凸部個數、該凸部存在數的平均值、穿透鮮明度、霧度及眩光的抑制效果進行測定，並針對牛頓環的抑制效果施行評估。結果合併記於表1及表2中。另外，比較例3係因為高度0.3~3μm凸部的個數為0個，因而該凸部存在數的平均值係未評估(「-」)。
(粒子與黏結劑成分間之折射率差的測定)
粒子與經硬化後的黏結劑成分(HC層無粒子的部分)間之折射率差，係使用穿透型相移雷射顯微干涉計測裝置(NTT Advanced Technology公司製、PLM-OPT)，依如下述進行求取。
將所製成光學薄膜切取3cm方塊，放入燒瓶內，於室溫在氯仿中浸漬24小時，從基材上僅將上述HC層剝離成為5mm方塊左右以上的大小，並使乾燥。如圖13所示，將所剝離的HC層202放置於載玻片201上，並浸漬於具有與經硬化後黏結劑成分相同程度折射率的油203(Moritex公司製Cargille標準折射液)中，在其上面放置蓋玻片204。藉此，便可相對於上述HC層的厚度方向，將HC層的表面凹凸施行光學性平坦化，俾可將會產生與粒子以外間之相位差的要因予以除去。另外，具有與黏結劑成分同程度折射率的油係可依如下述進行選擇。將所製成的光學薄膜之硬塗部分(粒子無存在部分)利用切削刀等進行削取，再依照JIS K7142(1996)塑膠的折射率測定方法之B法，將油滴下於所削取的HC上，利用光學顯微鏡觀察其樣子，並選擇不會看到有削取碎片的油。
將依此所獲得樣品利用上述穿透型相移雷射顯微干涉計測裝置(測定條件：He-Ne雷射測定波長633nm、測定倍率200倍)，將光入射方向設為樣品的厚度方向並施行測定，便測得經硬化後黏結劑成分與粒子間之相位差。另外，施行相位差測定之際，有設定經硬化後黏結劑成分與粒子的位置之測定順序，當粒子的情況便選擇粒子中心部，而當黏結劑成分的情況便選擇粒子完全無存在的部分。
再者，利用光學顯微鏡(KEYENCE製、VHX200數位式顯微鏡)施行穿透觀察，並就粒子粒徑測定10處，且計算出平均粒徑(μm)，更由下式求取經硬化後黏結劑成分與粒子間之折射率差。
Δn=ΔΦ‧λ/(2π‧d)
Δn：經硬化後黏結劑成分與粒子間之折射率差
ΔΦ：經硬化後黏結劑成分與粒子間之相位差
λ：測定波長
d：經硬化後的粒子平均粒徑
另外，依上述方法所求得經硬化後的粒子平均粒徑，全部均屬於在1.5~8.0μm範圍內的粒徑。
再者，實施例4及5、比較例1及2中，所使用的二氧化矽微粒子係無定形無機微粒子，因為不易受到由溶劑與單體所造成的影響，經硬化後的折射率並無變化，因而折射率差係僅就經硬化後的硬塗層折射率，依照JIS K7142(1996)塑膠的折射率測定方法之B法進行實測並計算出。
(算術平均粗度(Ra)之測定)
算術平均粗度(Ra)係根據JIS B0601(1994)，使用小坂研究所(股)製商品名SE-3400施行測定。表1及2中的Ra結果係經測定3次的平均值。
(凸部的高度、個數及平均值之測定)
針對1.08mm四方區域中的凸部高度，使用Zygo公司製商品名New View 6000進行測定。
凸部的個數係藉由計數在該1.08mm四方區域中的凸部頂點數而求得。
再者，以凸部頂點為中心每隔22.5°切出8個剖面(參照圖11)，並就各剖面求取(頂點-最低的谷部)=高度h(參照圖12)，並將該高度h的平均值視為凸部高度。另外，表1及表2中記載1.08mm四方區域中的凸部高度最低值與最高值。
然後，就該區域內之高度0.3~3μm的凸部個數，係將該區域劃割為100均等份，而成為100個塊體，並測定含有該凸部的塊體中之該凸部存在數平均值。
(穿透鮮明度之測定)
穿透鮮明度係根據JIS K7105(2006)的像鮮明度測定，使用圖像性測定器(Suga Test Instruments(股)製商品名ICM-1PD)，依利用4種光梳(0.125mm、0.5mm、1mm及2mm)所測得數值的合計表示。數值越大，表示穿透鮮明度越高，400係最高值。
(霧度之測定)
光學薄膜的霧度係根據JIS K-7136，使用村上色彩技術研究所(股)製霧度計(商品名HM-150)進行測定。
(眩光之抑制效果評估)
在監視器(Apple公司製15吋LCD)上，將所獲得光學薄膜的HC層(A)具有凸部之面朝下放置，於亮室中從監視器中發出白色光，從距面板30cm的地點，首先由正前面進行觀察。然後，如圖10所示，在保持視點的情況下，身體相對於正前面連續地朝右、左、右上、左下等各45度傾斜方向偏移，一邊改變視線，一邊目視觀察是否有無眩光情形，並依下述基準進行評估。
評估基準
評估◎：無法辨識到眩光。
評估○：視野角雖從監視器正前面朝左右30度方向並未辨識到眩光，但在傾斜45度方向卻有辨識到眩光。
評估×：視野角從監視器正前面不管左右30度方向均有辨識到眩光，屬於不良。
(牛頓環之抑制效果評估)
在上述各實施例及比較例的光學薄膜之HC層(A)設置凸部的面上，設置當作透明導電膜用的ITO，並於液晶顯示器上，依接觸到該光學薄膜的ITO側之方式放置，從光穿透性基材側利用手指按押光學薄膜，並依如下述判斷牛頓環產生狀態。達「3」以上的評估便屬良好。
評估5‧‧‧即使強力按押，仍無產生牛頓環。
評估4‧‧‧若強力按押，會有些微產生牛頓環的地方。
評估3‧‧‧普通按押時，不會產生牛頓環。
評估2‧‧‧普通按押時，有些地方會看到牛頓環。
評估1‧‧‧普通按押時，能看到牛頓環。
評估0‧‧‧普通按押時，牛頓環明顯。
另外，所謂「強力按押」係將左右二支拇指相隔約3cm間隔，並施加49~59N左右的荷重，例如若將二指的設置面積設為4cm2 ，便成為120~150kPa左右的壓力。
所謂「普通按押」係將左右二支拇指相隔約3cm間隔，並施加14.7~19.6N左右的荷重，例如若將二指的設置面積設為4cm2 ，便成為40~50kPa左右的壓力。
此處之所以利用左右2支手指進行評估，係因為僅利用1支手指較難觀察牛頓環，但檢視2支手指間則較容易觀察牛頓環。
(實施例及比較例的結果整理)
依本發明條件所設計的實施例係牛頓環抑制、眩光抑制均呈良好。
但是，比較例1雖有抑制牛頓環產生，但卻有辨識到眩光，穿透鮮明度亦低，霧度高。此現象可認為因為比較例1的HC層之算術平均粗度(Ra)大於0.05μm所致。
比較例2相較於比較例1之下，穿透鮮明度更低、霧度亦更高，且亦有辨識到眩光。此現象可認為係因為HC層的算術平均粗度(Ra)較大於比較例1，以及凸部的存在數平均值為3.1個的較高值之關係所致。
比較例3雖有抑制眩光，但牛頓環卻明顯。此現象可認為係與比較例1及2相反，因為HC層的算術平均粗度(Ra)小於0.025μm所致。
比較例4係有辨識到眩光，且牛頓環亦明顯。此現象可認為因為Ra為0.069μm，係大於0.05μm，且高度0.3~3μm的凸部個數亦為8個，並未滿10個，因而無法獲得為抑制牛頓環產生所必要的凸部數所致。
比較例5係雖抑制眩光，但牛頓環卻明顯。此現象可認為因為Ra為0.012μm，係小於0.25μm，且高度0.3~3μm的凸部個數亦為5個，並未滿10個，因而無法獲得為抑制牛頓環產生所必要的凸部數所致。
1、2、3、4．．．光學薄膜
5、6、7、9．．．觸控面板
8．．．內部觸控面板
10．．．光穿透性基材
11．．．第二光穿透性基材
12．．．相位差薄膜
20、21．．．透明導電膜
30．．．間隙子
40．．．習知硬塗層
41．．．第二硬塗層
42．．．第三硬塗層
50．．．透明導電膜之顯示器側之面
60．．．第二透明導電膜之輸入操作側之面
70．．．觸控筆
80．．．顯示器
90．．．硬塗層(A)
100．．．低折射率層
110．．．防污層
120．．．光學薄膜之輸入操作側的最表面
130．．．偏光板
140．．．液晶單元
150．．．習知觸控面板
201．．．載玻片
202．．．HC層
203．．．油
204．．．蓋玻片
圖1為概略顯示習知觸控面板構成的一例的剖視圖。
圖2為概略顯示本發明光學薄膜構成的一例的剖視圖。
圖3為概略顯示本發明光學薄膜構成的另一例的剖視圖。
圖4為概略顯示本發明光學薄膜構成的另一例的剖視圖。
圖5為概略顯示本發明光學薄膜構成的另一例的剖視圖。
圖6為概略顯示本發明觸控面板的層構成的一例、及與顯示器間之位置關係的剖視圖。
圖7為概略顯示本發明觸控面板的層構成的另一例、及與顯示器間之位置關係的剖視圖。
圖8為概略顯示本發明觸控面板的層構成的另一例、及與顯示器間之位置關係的剖視圖。
圖9為概略顯示本發明觸控面板之一態樣的內部觸控面板的層構成的一例之剖視圖。
圖10為概略顯示目視觀察眩光時，視線的移動之例的圖。
圖11為概略顯示以凸部的頂點為中心，每隔22.5o 切出8個剖面之例的圖。
圖12為概略顯示凸部的剖面中，求取高度h之例的圖。
圖13為概略顯示粒子與黏結劑成分的折射率差測定之樣品調製的剖視圖。
8．．．內部觸控面板
11．．．第二光穿透性基材
12(10)．．．相位差薄膜
20、21．．．透明導電膜
30．．．間隙子
41．．．第二硬塗層
42．．．第三硬塗層
50．．．透明導電膜之顯示器側之面
60．．．第二透明導電膜之輸入操作側之面
90．．．硬塗層(A)
120．．．光學薄膜之輸入操作側的最表面
130．．．偏光板
140．．．液晶單元

Claims (7)

  1. 一種光學薄膜，係在光穿透性基材一面側至少設置1層硬塗層(A)的光學薄膜，其特徵在於：該硬塗層(A)之與該光穿透性基材為相反側之面的JIS B0601(1994)中所規定的算術平均粗度(Ra)係0.025~0.05μm，且該面係在1.08mm四方的區域中，存在有10~250個高度0.3~3μm之凸部；該光學薄膜之霧度係0.1~1.0%。
  2. 如申請專利範圍第1項之光學薄膜，其中，當將上述區域均等分割為100等份，而成為100個塊體時，含有上述凸部的塊體之該凸部存在數平均值係未滿2.5個。
  3. 如申請專利範圍第1項之光學薄膜，其中，根據JIS K7105(2006)的穿透鮮明度係180~310。
  4. 如申請專利範圍第1項之光學薄膜，其中，上述硬塗層(A)係由相對於黏結劑成分100質量份，含有粒子0.05~1.5質量份的硬塗層用硬化性樹脂組成物之硬化物構成；且在硬塗層(A)中，上述粒子的平均粒徑係1.5~8μm，且上述粒子與經硬化後的黏結劑成分之折射率差係在0.07以內。
  5. 如申請專利範圍第1項之光學薄膜，其中，在上述硬塗層(A)之與上述光穿透性基材為相反側之面側，設置透明導電膜。
  6. 一種觸控面板，其特徵在於：含有申請專利範圍第5項 之光學薄膜，且在該光學薄膜之上述透明導電膜側，更進一步設置第二透明導電膜。
  7. 一種觸控面板，其特徵在於：在液晶單元的一面側，依申請專利範圍第6項之觸控面板的第二透明導電膜側係位於液晶單元側的方式設置該觸控面板，且在上述光穿透性基材之與硬塗層(A)為相反側之面上設置偏光板。
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