WO2004044024A1 - 感光性樹脂組成物および含水ゲルの形成方法 - Google Patents

感光性樹脂組成物および含水ゲルの形成方法 Download PDF

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Shin Utsunomiya
Seigo Yamada
Masahiro Takano
Mitsuharu Miyazaki
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Toyo Gosei Co., Ltd.
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    • C08F2810/30Chemical modification of a polymer leading to the formation or introduction of aliphatic or alicyclic unsaturated groups

Definitions

  • the present invention relates to a photosensitive resin composition of a photopolymerization type and a method of forming a water-containing gel using the same.
  • Poly (meth) acrylic acid and its alkali neutralized products are compatible with hydrophilic physiologically active substances, such as various medicinal ingredients, enzymes, etc., and they are treated with wastewater for the purpose of retention and fixation of those substances. It is applied to the diagnostic agent, base material of the medicine for happ, etc. Most of them are used as a so-called water-containing gel, which is cured by a crosslinking reaction while the base material contains water, to retain and fix the target substance.
  • the action of water in this water-containing gel plays an important role not only in the dissolution of the substance in the membrane, but also in the control of the rate of release to the outside or the control of the rate of substance diffusion from the outside.
  • thermosetting reaction has been used to form a water-containing gel of poly (meth) acrylic acid and its alkali neutralized product.
  • heat labile substances or volatile substances are immobilized in the gel, it is necessary to proceed the reaction at a low temperature, and if it takes a very long time of several days, gel formation ⁇ immobilization
  • gel formation ⁇ immobilization there has been a problem that it does not progress sufficiently (Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 5-360261).
  • the so-called P VA 1 S b Q resin has a cationic site in terms of the structure of the compound, and therefore, immobilization of physiologically active substances, enzymes, and rods is possible.
  • the sensitivity is extremely reduced in the state containing a large amount of water.
  • poly (meth) acrylic acid is an important compound for forming a water-containing gel in the treatment of humming agents, diagnostic agents, waste water, etc. Despite being effective, no practical combination of this is found. Disclosure of the invention
  • the present invention uses poly (meth) acrylic acid, is excellent in storage stability, has affinity for various compounds, has mixed solubility, and is highly sensitive in a water-containing state.
  • Photofixable photocurable resin composition and water-containing gel using the same It is an object of the present invention to provide a method for forming
  • the first aspect of the present invention is characterized in that the compound represented by the following general formula (1) is added to a part of ⁇ ) carpoxyl group in the (meth) acrylic acid polymer, and the acid value of the solid portion is 15
  • a photosensitive resin comprising: a water-soluble photosensitive resin (A) based on poly (meth) atalic acid (A), a photopolymerization initiator (B), and water (C), which is O mg KOH / g. It is in fat composition.
  • R 2 linear or branched alkylene group having 2 to 10 carbon atoms
  • R 2 linear or branched alkylene group having 2 to 10 carbon atoms
  • the photosensitive resin composition is characterized in that a portion or all of the group having no propoxyl group added thereto is neutralized by an alkali.
  • a third aspect of the present invention is a method for forming a water-containing gel characterized by obtaining a water-containing gel by photopolymerization reaction using the photosensitive resin composition of the first or second aspect. Best mode for carrying out the present invention
  • the photosensitive resin composition of the present invention contains a poly (meth) acrylic acid water-soluble photosensitive resin (A), a photopolymerization initiator (B) and water (C).
  • the photosensitive resin (A) is obtained by subjecting the compound represented by the above general formula (1) to an epoxy ring-opening addition to a part of the carboxyl group in the (meth) acrylic acid based polymer.
  • Examples of the compound represented by the general formula (1) include 2-hydroxy atalylate glycidyl ether, 2-hydroxy methacrylate glycidyl ether, 2-hydroxypropyl atalylate glycidyl ether, 2-hydroxy Propyl methacrylate glycidyl ether, 4-hydroxybutyl atarylate glycidyl ether, 4-hydroxybutyl methacrylate glycidyl ether and the like can be mentioned.
  • the (meth) acrylic acid-based polymer may be a (meth) acrylic acid homopolymer, (meth) acrylic acid monomer, other biel mono and (meth) atari. It may be one obtained by copolymerizing two or more kinds selected from rate monomers, and those obtained by performing side chain modification other than the compound of the general formula (1). In any case, after the addition reaction with the compound represented by the general formula (1), it should be selected to have a solid content acid number of 15 Omg KOH or more, preferably 170 mg KOH / g or more.
  • the molecular weight of the photosensitive resin (A) is not particularly limited, but the weight average molecular weight is preferably in the range of 5,000 to 2,000,000. If it is less than 5000, sufficient curability may not be obtained, and if it exceeds 2,000,000, the viscosity will be very high, making it difficult to handle when applying the synthesis and composition.
  • the addition rate of the compound of the general formula (1) should be determined by the crosslink density of the target cured product and the mechanical strength, and is not particularly limited.
  • the solid content acid number of A) should be at least 15 Omg KOHZg, preferably at least 170 mg KOHZg. If the solid content acid value is less than 150 mg KOH / g, sufficient water solubility can not be obtained.
  • the reaction to obtain the photosensitive resin (A) by adding the compound represented by the general formula (1) to a part of the group having a hydroxyl group in the (meth) acrylic acid-based polymer is usually heat or a catalyst in solution. Or it is performed by the combined use.
  • the solvent constituting the solution is not particularly limited, but a composition in which the (meth) acrylic acid-based polymer used is soluble is preferable.
  • Ethylene glycol phenols such as Nore et al., Ethylene glyconol mono methinoleate tenolee, Ethylene glycol nor mono mono / metheate / Leete / le, Ethylene glycol-one / Legetizole tenolee, Glycol ether such as dimethylene dimethinoleate tenole , Ethylene Glycol Monoethylo Elethe Enore Acetate, Diethylene Glycol Ele Monole Enoire Etho Relate, Daricoal Ether Acetates such as Diethylene Glycol Monobutyl Ether Acetate, Propylene Recall, di
  • Propylene glycol ethers such as propylene glycol monomethyl noree tene acetate, propylene glycol monolenoe nore tene acetate, dipropylene dicholic monomethyl ether acetate, dipropylene dalicole monoethyl ether acetate And acetates, dimethyl sulfoxide, ⁇ -methyl pyrrolidone, dimethyl formamide, dimethyl acetoamide, and mixtures thereof.
  • the catalyst used for the reaction there is no limitation on the catalyst used for the reaction, but as an example, as an acid catalyst, inorganic acids such as sulfuric acid, phosphoric acid and perchloric acid, Lewis acids such as BF 3 and the like, methanesulfonic acid, benzenesulfonic acid, p-toluene Organic sulfonic acids such as sulfonic acid and dodecylbenzenesulfonic acid can be mentioned.
  • inorganic acids such as sulfuric acid, phosphoric acid and perchloric acid
  • Lewis acids such as BF 3 and the like
  • methanesulfonic acid benzenesulfonic acid
  • p-toluene Organic sulfonic acids such as sulfonic acid and dodecylbenzenesulfonic acid
  • Examples of basic catalysts include triethylamine, tetramethyldibenzamine, triptylamamine, trivalent n-octylamine, dimethylbenzylamine, tertiary amine such as pyridine, tetramethyl ammonium chloride, tetramethyl ammonium bromide, tetraethyl ammonium bromide, and the like.
  • Examples thereof include quaternary ammonium salts such as bromide and tetrabutyreneammoylum bromide, and phosphorus compounds such as trifyl sulfonyl and triptyl phosphine.
  • reaction temperature There is no particular limitation on the reaction temperature, but usually, a range from room temperature to 120 ° C. is preferably used. ,.
  • the photosensitive resin composition of the present invention When the photosensitive resin composition of the present invention is formed of a photosensitive resin synthesized using a solvent other than water, it may be simply diluted with water, but water may be used after solvent substitution by distillation or after drying and solidification. Alternatively, it may be dissolved in water after being deposited and separated into solid components by separation into a nonpolar solvent such as aliphatic hydrocarbon, aromatic hydrocarbon, ethyl acetate and butyl acetate.
  • a nonpolar solvent such as aliphatic hydrocarbon, aromatic hydrocarbon, ethyl acetate and butyl acetate.
  • the carboxyl group remaining in the photosensitive resin (A) may be in the acid form or may be neutralized with an alkaline compound.
  • the alkali compound is not particularly limited, but examples thereof include inorganic alkalis such as lithium, sodium and potassium, ammonium, primary to tertiary alkylamines, quaternary ammonium compounds and the like.
  • the degree of neutralization and it may be adjusted as needed to be pH according to the purpose of use.
  • the solid content concentration of the photosensitive resin composition of the present invention containing the photosensitive resin (A), the photopolymerization initiator and water is not particularly limited, and is, for example, 3% to 50%. This makes it possible to form particularly strong gels.
  • the photosensitive resin composition of the present invention requires a photopolymerization initiator.
  • a photosensitizer may be added.
  • the photopolymerization initiator may be chemically bonded to the photosensitive resin which is capable of dissolving or dispersing in the composition.
  • the amount of the photopolymerization initiator is generally 0.1 to 30% by weight, preferably 1 to 10% by weight, based on the photosensitive resin. Do.
  • the photopolymerization initiator and the photosensitizer to be applied are not particularly limited, but as an example, “L, benzophenone, hydroxybenzophenone, bis-one N, N-dimethylaminobenzophenone, bis-one N, Benzophenones such as N-jetinoleaminobenzozophenone, 4-methoxy4'-dimethylaminophensophenone, thioxanthone, 2, 4-digetyl thioxanthone, isopropyl thioxanthone, crothiothioxanthone, isopropoxy crothiothioxanthones such as thioxanthones , Anthraquinones such as benzanthraquinone, benzanthraquinone, aminoanthraquinone, black anthraquinone, acetophenones, benzoin methyl ether, ben zin etinole e
  • 2,4,5-triarylimidazole Dimers benzyl dimethyl ketone, 2 1 benzyl 1 2 Dimethyl ⁇ Minnow 1 i (4 one mono Reho Rinofu enyl) - Butane _ 1 _ on, 2-methyl 1 1 [4 1 (methylthio) phenyl] 1 2 morpholino 1 1 propanone, 2-hydroxy 2-methyl 1 1 phase 2 loop port 1 1 on, 1 1 [4- (2-hydroxyethoxy) monophenyl] 1 2-hydroxy-2 methyl-1 1-propane to 1-one, fuenanthrene quinone, 9, 10 0-fuenansulone quinone, methinolebenzoin, ethinolevenzoin Benzoins such as, 9-phenyl acridine, 1, 7-bis (9, 9'-: aklyzinyl) heptane, etc., acridine derivative, bis-acyl phosphine oxide, and a mixture thereof.
  • promoters and the like can also be added.
  • examples thereof include ethyl p-dimethylaminobenzoate, isoamyl p-dimethylaminobenzoate, ethanolanolamine, diethanolamine, triethanolamine and the like.
  • polyethylene glycol diacrylates having 2 to 14 ethylene groups
  • polyethylene glycol dimetatalylates having 1 to 14 ethylene groups
  • trimethylolpropane ditalylate trimethylo noreprono Dimetatalylate
  • Trimethylolole Propanetriarylate Trimethylolpropane Trimethalylate
  • Trimethylolpropane Ethoxytalylate Trimethylolpropane Ethoxytritritalylate
  • Trimethylolpropane propoxy triarylate Trimethylolpropane propoxytrimethacrylate Tetramethyl- no-roe mesto triarylate, tetramethylol-methane trimethacrylate, tetramethylol-methane tetra-atalylate, t
  • esters with alkyl esters, alkyl esters of acrylic acid or methacrylic acid (acrylic acid methyl ester, metatalylic acid methyloesterenole, acrylic acid ethyl ester, metatalic acid ethyl ester, atalylic acid butyl ester Le, Metatariru acid petit ester, hexyl ester to Atariru acid 2 Echinore, hexyl ester to methacrylic acid 2-Echiru) and the like.
  • conventionally known materials such as a polymerization inhibitor, a plasticizer, a pigment, a dye, a surfactant, an antifoaming agent, a coupling agent and the like can be added as necessary.
  • the photosensitive resin composition of the present invention is highly sensitive even in a low concentration state, it can form a water-containing gel by performing a photopolymerization reaction even as a low concentration aqueous solution having a solid concentration of about 3%, for example. .
  • the photosensitive resin composition of the present invention can be mixed with various medicinal components, enzymes, cells, etc. which form a function.
  • various medicinal components, enzymes, cells, etc. which form a function.
  • photocuring a photosensitive resin composition containing various medicinal components, enzymes, cells and the like it is possible to form a water-containing gel including various medicinal components, enzymes, cells and the like.
  • various medicinal components, enzymes, cells, etc. may be impregnated.
  • the photosensitive resin composition of the present invention can be patterned in the same manner as an ordinary resist composition. Therefore, the photosensitive resin composition of the present invention is a mixture of various medicinal components, enzymes, cells and the like which form a function, or the photosensitive resin composition of the present invention forms a function after forming a water-containing gel. It is also possible to put a product impregnated with various active ingredients, enzymes, cells, etc. by photolithography.
  • the power of the present invention will be described below based on examples.
  • the type of photosensitive resin composition formed using this photosensitive resin differs depending on the purpose of use, and this is merely an example, and the scope of the present invention is limited. It is not a thing.
  • the temperature of the hot water bath is further raised to 90 ° C., methanol is distilled off while adding water dropwise, and the mixture is treated with an ion exchange resin (Mitsubishi Chemical Co., Ltd. product: PK-216H) to remove pyridine and remove non-volatile matter concentration.
  • An aqueous solution of 13% of photosensitive resin (A) was obtained.
  • the solid content acid value of this photosensitive resin (A) was titrated with a 0.1 M aqueous solution of NaOH and found to be 63 Omg KOH / g.
  • this photosensitive resin (A) As 100 g of a 13% aqueous solution of this photosensitive resin (A), it is possible to use 1-one [2- (2-hydroxyethoxy) -phenyl] -one 2-hydroxy-2-methyl-1-propane-1-one as a photopolymerization initiator. (Ciba Specialty Chemicals Inc .: I RGACURE-2959) 0.1 g was added to obtain a target aqueous photosensitive resin composition solution.
  • the aqueous solution of the photosensitive resin composition was diluted with water to the concentration shown in Table 1, each was put in a test tube, and sealed in a sealed state.
  • the test tube was erected and the stopper was opened, and iron balls of 5.5 g in weight were placed on the liquid surface, and the hardenability was compared and evaluated by settling and holding of the iron balls.
  • the aqueous solution of the photosensitive resin (A) synthesized in Example 1 was neutralized with sodium hydroxide to obtain an aqueous solution having a pH of 6.0 and a non-volatile content concentration of 10.4%.
  • the aqueous solution of the photosensitive resin composition was diluted with water to the concentration shown in Table 2, and under the same conditions as in Example 1, the curability was evaluated by comparison of sedimentation and retention of iron balls.
  • PVA-Sb Q resin manufactured by Toyo Gosei Co., Ltd .: SPP-H- 13 degree of polymerization 17 00
  • SPP-H- 13 degree of polymerization 17 00 was diluted with water to the concentration shown in Table 3, and the curability was evaluated in the same manner as in Example 1. did.
  • the photosensitive resin composition of the present invention is excellent in storage stability, is compatible with various compounds, has mixed solubility, and is very fast, and strong and uniform even when the concentration is low. It is very useful because it can form a gel.

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Description

明 細 書 感光性樹脂組成物およぴ含水ゲルの形成方法 技術分野
本発明は、 光重合型の感光性樹脂組成物およぴそれを用いた含水ゲルの形成方 法に関する。 背景技術
ポリ (メタ) アクリル酸およびそのアルカリ中和物は、 種々の薬効成分、 酵素 類等、 親水性の生理活性物質と混合性が良好なため、 それら物質の保持、 固定の 目的で、 廃水処理や診断薬、 ハツプ剤の基材等に適用されている。 これらの多く は、 基材が水を含んだ状態のまま架橋反応により硬化し、 目的物質の保持、 固定 を行う、 いわゆる含水ゲルとして用いられている。 この含水ゲルにおける水の作 用は、 膜中における物質の溶解のみならず、 外部への放出速度制御、 または外部 からの物質拡散速度制御などの重要な役目を持っている。
従来、 ポリ (メタ) アクリル酸およびそのアルカリ中和物の含水ゲル形成にお いては、 熱硬化反応が用いられてきた。 しかしながら、 熱に不安定な物質や揮発 性物質をゲル中に固定ィヒする場合、 低温にて反応を進める必要があり、 数日間と いう非常に長時間をかけなければ、 ゲル形成 ·固定化が十分に進行しないという 問題があった (特開平 5— 3 2 0 6 1 2号公報) 。
近年、 これらの分野において、 熱に不安定な酵素等の生理活性物質、 あるいは 菌体を非加熱で固定ィヒするという優れた方法として、 光硬化性樹脂を用いた方法 が認知されつつある (特公平 8— 2 3 5 4 5号公報、 特開平 2— 2 4 0 5 5 5号 公報及び特開平 2— 3 0 8 8 0 5号公報) 。
しかしながら、 これらの文献に例示された感光性樹脂のうち、 いわゆる P VA 一 S b Q樹脂では、 化合物の構造上カチオン性の部位を持っているため、 生理活 性物質、 酵素、 萆体の固定において混合溶解可能な化合物の範囲が限定される欠 点があることに加え、 水を多く含んだ状態では、 感度が極端に低下するため、 乾 蘼工程を入れられない化合物を含水状態のまま固定ィ匕したい場合には十分な硬化 性が得られず、 ゲルの強度が不足する問題があった。
セルロース系ポリマーを用いた重合型組成物の場合、 感度が十分とはいえず、 事実上、 必要な硬化性を得るためには重合性モノマーの添加が不可欠となってい る。 この重合性モノマーを光硬化反応において完全にポリマー化させることは、 実質的に不可能であり、 残留した未反応モノマーが酵素活性阻害や皮膚刺激とい つた問題を引き起こすため、 実際に酵素固定やハツプ剤の目的に適用することは 困難である。
エポキシ基を持つ (メタ) アクリル酸エステルを用いて、 ポリ (メタ) アタリ ル酸に重合性の架橋部位を持たせる試みは、 以前から知られている (特開昭 4 9 —9 8 8 7 8号公報) 。 しかしながら、 これらの文献において、 光硬化性おょぴ 水を含有する組成物に関する記載は無く、 本発明者らが目的とする含水ゲル形成 用途に適用できるものではない。
同様にエポキシ基を持つ (メタ) アクリル酸エステルを用い、 ポリ (メタ) ァ クリル酸系共重合体に架橋基を導入する試みは幾つ力報告されているが (特開平 1 0 - 3 1 6 7号公報及ぴ特開平 4 - 3 3 7 0 8 7号公報) 、 これらは光硬化性 を持つが、 いずれもフォトレジストへの適用を目的としており、 水溶性が p Hに 依存し、 弱酸性から中性の範囲において十分な水溶性を有するものでなく、 発明 者らが目的とする含水ゲル形成に際し、 種々の化合物との相溶性、 ゲルの含水率 において十分な物性を持つものではない。
これまで述べてきたように、 ポリ (メタ) アクリル酸は、 ハツプ剤、 診断薬、 廃水処理などにおいて、 含水ゲルを形成するために重要な化合物であり、 かっこ れらの用途において光硬化法は有効であるにもかかわらず、 これを組合せた手法 で実用的なものは、 全く見られない。 発明の開示
本発明は、 このような事情に鑑み、 ポリ (メタ) アクリル酸を用い、 保存安定 性に優れ、 様々な化合物に対しての親和性、 混合溶解性を持ち、 かつ高感度で含 水状態においても光固定ィヒ可能な感光性樹脂組成物およびそれを用いた含水ゲル の形成方法を提供することを課題とする。
なお、 近年、 エポキシ基を持つアクリル酸エステルを用いて合成した、 架橋性 ポリマー、 オリゴマーとして、 エポキシ基とアクリル基の間にスぺーサ一として アルキレン基を導入したものが報告されている (特開平 1 1— 3 2 7 1 3 9号公 報及び特開 2 0 0 1— 5 8 9 7 2号公報) 。 これらは、 アルキレン基のスぺーサ 一効果により (メタ) アクリル基の自由度が增し、 反応速度の向上、 硬化物への 靭性付与などの物理物性向上に加え、 毒性、 刺激性の低下など、 安全性にも有利 な優れたものである。 しかしながら、 これらの文献においても水溶性または水を 含有する組成物に関する記述は無く、 記載例においても水溶性は認められないも のであり、 本発明者らの目的とする含水ゲル形成は不可能であった。
本発明者らは、 上記課題を解決するために鋭意検討を重ねた結果、 ' (メタ) ァ クリル酸系ポリマー中のカルボキシル基の一部と、 下記一般式 (1 ) に示される 化合物との付加反応によって得られるポリ (メタ) アクリル酸系水溶性感光性樹 脂を用いることにより、 保存安定性に優れ、 様々な化合物に対しての親和性、 混 合溶解性を持ち、 かつ高感度で含水状態においても光固定化可能な感光性樹脂組 成物およびそれを用いた含水ゲル形成方法を完成するに至った。 なお、 本明細書 において、 「 (メタ) アクリル酸」 は、 「アクリル酸またはメタクリル酸」 を意 味する。
力かる本発明の第 1の態様は、 (メタ) アクリル酸系ポリマー中^)カルポキシ ル基の一部に下記一般式 (1 ) に示される化合物を付加させた、 固形分酸価が 1 5 O m g K O H/ g 上であるポリ (メタ) アタリル酸系水溶性感光性樹脂 ( A ) と、 光重合開始剤 (B ) と、 水 (C ) とを含有することを特徴とする感光性榭 脂組成物にある。
Figure imgf000006_0001
= Me
R2=炭素数 2 10の直鎖状または分岐状のアルキレン基 本発明の第 2の態様は、 第 1の態様において、 前記 (メタ) アクリル酸系ポリ マーの前記一般式 (1 ) で示される化合物が付加していない力ルポキシル基の一 部、 または全部がアル力リにより中和されていることを特徴とする感光性樹脂組 成物にある。
本発明の第 3の態様は、 第 1または 2の態様の感光性樹脂組成物を用い、 光重 合反応することにより含水ゲルを得ることを特徴とする含水ゲルの形成方法にあ る。 本 §明を実施するための最良の形態
本発明の感光性樹脂組成物は、 ポリ (メタ) アクリル酸系水溶性感光性樹脂 ( A) と、 光重合開始剤 (B ) と、 水 (C) とを含有する。
感光性樹脂 (A) は、 (メタ) アクリル酸系ポリマー中のカルボキシル基の一 部に、 上記一般式 (1 ) に示される化合物をエポキシ開環付加させることによつ て得られる。
この一般式 (1 ) に示される化合物としては、 例えば、 2—ヒドロキシェチル アタリレートグリシジルエーテル、 2—ヒドロキシェチルメタクリレートグリシ ジルエーテル、 2—ヒ ドロキシプロピルァタリレートグリシジルエーテル、 2— ヒドロキシプロピルメタクリレートグリシジルエーテル、 4—ヒドロキシブチル アタリレートグリシジルエーテル、 4ーヒドロキシブチルメタクリレートグリシ ジルエーテル等を挙げることができる。
また、 (メタ) アクリル酸系ポリマーは、 (メタ) アクリル酸ホモポリマーで も、 (メタ) アクリル酸モノマー、 その他のビエルモノ 及び (メタ) アタリ レートモノマーから選択される 2種以上を共重合したものでもよく、 さらにそれ らを一般式 (1) の化合物以外の側鎖変性を行ったものでもよレ、。 何れにしても 、 一般式 (1) に示される化合物との付加反応後に固形分酸価 15 OmgKOH 以上、 好ましくは 170mgKOH/g以上となるよう選択されなければな らない。
感光性樹脂 (A) の分子量は特に制限はないが、 重量平均分子量が 5000〜 2000000の範囲が好ましい。 5000未満では、 十分な硬化性が得られな い場合があり、 また、 2000000を超えると非常に高粘度となり、 合成およ ぴ組成物の塗布に際して取扱いが困難になるからである。
一般式 (1) の化合物の付加率は、 目的とする硬化物の架橋密度、 機械的強度 によって決定されるべきものであり、 特に限定はないが、 付加後の感光性樹脂 (
A) の固形分酸価は、 15 OmgKOHZg以上、 好ましくは 170 m g KOH Zg以上でなければならない。 固形分酸価が 150mgKOH/g未満の場合、 十分な水溶性が得られないからである。
(メタ) アクリル酸系ポリマー中の力ルポキシル基の一部に、 一般式 (1) に 示される化合物を付加させて感光性樹脂 (A) を得る反応は、 通常、 溶液中で熱 、 または触媒もしくはその併用で行われる。 溶液を構成する溶媒は特に制限はな いが、 用いる (メタ) アクリル酸系ポリマーが溶解する組成が好ましい。 一例と して、 水、 メタノール、 エタノール、 2—プロパノール、 n—ブタノール、 s e cーブタノ一ノレ、 イソブタノ^-ノレ、 t e r tープタノ一ノレ、 エチレングリ コーノレ 、 ジエチレングリコーノレ、 トリエチレングリコー^^ テトラエチレングリコーノレ 等のエチレングリコーノレ類、 エチレングリコーノレモノメチノレエーテノレ、 ジェチレ ングリコーノレモノメチ /レエーテ/レ、 エチレングリコ一/レジェチゾレエーテノレ、 ジェ チレングリコールジメチノレエーテノレ等のグリコールエーテル類、 エチレングリコ ーノレモノエチノレエーテノレアセテート、 ジエチレングリ コーノレモノェチノレエーテノレ ァセテ一ト、 ジエチレングリコールモノブチルエーテルァセテ一ト等のダリコー ルエーテルアセテート類、 プロピレングリコール、 ジプロピレングリコール、 ト リプロピレンダリコーノレ等のプロピレンダリコーノレ類、 プロピレングリコ一/レモ ノメチノレエーテノレ、 プロピレングリコーノレモノェチノレエーテノレ、 ジプロピレング リコールモノメチルェ テル、 ジプロピレングリコールモノェチルエーテル、 プ ロピレングリコーノレジメチノレエーテノレ、 ジプロピレングリコーノレジメチノレエーテ ル、 プ Πピレングリコールジェチルエーテル、 ジプロピレングリコールジェチル エーテル等のプロピレングリコールエーテル類、 プロピレングリコールモノメチ ノレエーテノレアセテート、 プロピレングリコーノレモノェチノレエーテノレアセテート、 ジプロピレンダリコールモノメチルエーテルァセテ一ト、 ジプロピレンダリコー ルモノェチルエーテルァセテ一ト等のプロピレングリコールエーテルァセテ一ト 類、 ジメチルスルホキシド、 Ν—メチルピロリ ドン、 ジメチルホルムアミ ド、 ジ メチルァセトアミド、 およびそれらの混合物が挙げられる。
反応に使用する触媒に制限はないが、 一例として、 酸触媒では、 硫酸、 リン酸 、 過塩素酸等の無機酸、 B F 3 等のルイス酸、 メタンスルホン酸、 ベンゼンスノレ ホン酸、 p—トルエンスルホン酸、 ドデシルベンゼンスルホン酸等の有機スルホ ン酸が挙げられる。 塩基性触媒としては、 トリェチルァミン、 テトラメチルェチ レンジァミン、 トリプチルァミン、 トリ一 n—ォクチルァミン、 ジメチルベンジ ルァミン、 ピリジン等の 3級ァミン、 テトラメチルアンモニゥムクロライ ド、 テ トラメチルアンモニゥムブロミド、 テトラエチルアンモニゥムプロミド、 テトラ プチノレアンモユウムブロミド等の 4級アンモ-ゥム塩、 トリフヱニルホスフィン 、 トリプチルホスフィン等のリン化合物が挙げられる。
反応温度に特別な制限はないが、 通常、 室温から 1 2 0 °Cの範囲が好適に用い られる。 . ,
水以外の溶剤を用いて合成された感光性樹脂から、 本発明の感光性樹脂組成物 を構成する場合、 単に水で希釈するのみでもよいが、 溜去による溶剤置換、 また は乾燥固化後に水溶解、 あるいは、 脂肪族炭化水素、 芳香族炭化水素、 酢酸ェチ ル、 酢酸ブチルといった非極性溶剤に投入し固形分を析出分離後、 水に再溶解さ せてもかまわない。
なお、 感光性樹脂 (A) に残存するカルボキシル基は、 酸型のままでも、 アル 力リ化合物で中和されていてもよい。 このアルカリ化合物に特に制限はないが、 一例を挙げるなら、 リチウム、 ナトリウム、 カリウム等の無機アルカリ、 アンモ ニァ、 1〜 3級のアルキルァミン、 4級アンモ-ゥム化合物等が適用できる。 ま た、 中和度に制限はなく、 使用目的に応じた p Hになるよう、 適宜調整すればよ レ、。
この感光性樹脂 (A) と光重合開始剤と水とを含有する本発明の感光性樹脂組 成物の固形分濃度は特に限定されないが、 例えば 3 %〜5 0 %である。 これによ り、 特に強固なゲルを形成することができる。
本発明の感光性樹脂組成物は、 光重合開始剤が必須である。 また、 光重合開始 剤に加えて光増感剤を添加してもか わない。 光重合開始剤は、 組成物中に溶解 、 もしくは分散させる力 \ 感光性樹脂に対し化学的に結合させてもかまわない。 組成物中に光重合開始剤を溶解、 もしくは分散させる場合、 光重合開'始剤の量は 感光性樹脂に対して通常 0 . 1〜3 0重量%、 好ましくは 1〜1 0重量%とする 。 適用される光重合開始剤、 光增感剤に特に制限はないが、 一例と "Lて、 ベンゾ フエノン、 ヒ ドロキシベンゾフエノン、 ビス一 N, N—ジメチルァミノべンゾフ ェノン、 ビス一 N, N—ジェチノレアミノべンゾフエノン、 4ーメ トキシー 4 ' - ジメチルァミノべンゾフエノン等のベンゾフエノン類、 チォキサントン、 2 , 4 一ジェチルチオキサンドン、 イソプロピルチオキサントン、 クロ口チォキサント ン、 イソプロポキシクロ口チォキサントン等のチォキサントン類、 ェチルアント ラキノン、 ベンズアントラキノン、 アミノアントラキノン、 クロ口アントラキノ ン等のアントラキノン類、 ァセトフエノン類、 ベンゾィンメチルエーテル、 ベン ゾィンェチノレエーテノレ、 ベンゾィンフエニノレエーテノレ等のベンゾィンエーテノレ類 、 2, 4, 6—トリハロメチノレトリアジン類、 1ーヒ ドロキシシクロへキシルフ 工ニルケトン、 2— (o—クロ口フエ-ノレ) —4 , 5—ジフエ-ルイミダゾール 二量体、 2— (o—クロ口フエニル) _ 4, 5—ジ (m—メ トキシフヱニル) ィ ミダゾール.二量体、 2— ( o—フルオロフェニル) 一 4, 5—ジフエニノレイミダ ゾール二量体、 2 _ ( o—メ トキシフエ二ル) 一4 , 5—ジフエ二ルイミダゾ一 ノレ二量体、 2— (p—メ トキシフエ二ノレ) 一 4, 5—ジフエニノレイ ミダゾーノレ二 量体、 2, 4—ジ (p—メ トキシフヱ -ル) 一 5—フエ二ルイミダゾールニ量体 、 2— (2, 4ージメ トキシフエニル) ー4, 5—ジフエ-ルイミダゾ一ルニ量 体等、 2, 4 , 5 _トリァリ一ルイミダゾールニ量体類、 ベンジルジメチルケタ ール、 2一ベンジル一 2—ジメチルァミノー 1一 ( 4一モノレホリノフエニル) - ブタン _ 1 _オン、 2—メチルー 1一 〔4一 (メチルチオ) フエニル〕 一2—モ ルホリノ _ 1一プロパノン、 2—ヒドロキシ _ 2—メチルー 1一フエ二ループ口 パン一 1—オン、 1一 〔4— ( 2—ヒドロキシエトキシ) 一フエニル〕 一 2—ヒ ドロキシー 2—メチルー 1一プロパン〜 1一オン、 フエナントレンキノン、 9, 1 0—フエナンスレンキノン、 メチノレべンゾイン、 ェチノレべンゾイン等のベンゾ イン類、 9一フエ二ルァクリジン、 1, 7—ビス (9, 9 ' —:ァクリジニル) へ プタン等、 ァクリジン誘導体、 ビスァシルフォスフィンオキサイド、 およびこれ らの混合物等が挙げられる。
これらの開始剤に加え、 促進剤等を添加することもできる。 これらの例として 、 p—ジメチルァミノ安息香酸ェチル、 p—ジメチルァミノ安息香酸イソアミル 、 エタノーノレアミン、 ジエタノールァミン、 トリエタノールァミン等が挙げられ る。
また、 本発明の感光性樹脂組成物には、 感度、 硬化物物性調整の目的で、 重合 性モノマーを添加することも可能である。 一例として、 ポリエチレングリコール ジァクリレー卜 (エチレン基の数が 2〜1 4のもの) 、 ポリエチレングリコール ジメタタリレート (エチレン基の数が 〜 1 4のもの) 、 トリメチロールプロパ ンジアタリレート、 トリメチローノレプロノ ンジメタタリレート、 トリメチローノレ プロパントリアタリレート、 トリメチロールプロパントリメタタリレート、 トリ メチロールプロパンエトキシトリアタリレート、 トリメチロールプロパンェトキ シトリメタタリレート、 トリメチロールプロパンプロポキシトリアタリレート、 トリメチロールプロパンプロポキシ卜リメタクリレート、 テトラメチローノレメタ ントリアタリレート、 テトラメチロールメタントリメタクリレート、 テトラメチ ロールメタンテトラアタリレート、 テトラメチロールメタンテトラメタクリレー ト、 ポリプロピレングリコールジアタリレート (プロピレン基の数が 2〜1 4の もの) 、 ポリプロピレングリコールジメタタリレート (プロピレン基の数が 2〜 1 4のもの) 、 ジペンタエリスリ トーノレペンタアタリレート、 ジペンタエリスリ トールペンタメタクリ レート、 ジペンタエリスリ トールへキサアタリレート、 ジ ペンタエリスリ トーノレへキサメタクリレート、 ビスフエノーノレ Aポリオキシェチ レンジァクリレート、 ビスフエノール Aポリオキシエチレンジメタクリレート、 ビスフエノール Aジォキシエチレンジァクリレート、 ビスフエノール Aジォキシ エチレンジメタクリレート、 ビスフエノーノレ Aトリォキシエチレンジァクリレー ト、 ビスフエノール Aトリオキシエチレンジメタクリレート、 ビスフエノール A デカオキシエチレンジァクリレート、 ビスフエノール Aデカオキシエチレンジメ タクリ レート、 多価カルボン酸 (無水フタル酸等) と水酸基及ぴエチレン性不飽 和基を有する化合物 ( ーヒドロキシェチルァクリレート、 3—ヒドロキシェチ ルメタタリレート等) とのエステル化物、 アクリル酸若しくはメタクリル酸のァ ルキルエステル (アクリル酸メチルエステル、 メタタリル酸メチノレエステノレ、 ァ クリル酸ェチルエステル、 メタタリル酸ェチルエステル、 アタリル酸ブチルエス テル、 メタタリル酸プチ エステル、 アタリル酸 2—ェチノレへキシルエステル、 メタクリル酸 2—ェチルへキシルエステル等) などが挙げられる。
さらにその他の成分として、 重合禁止剤、 可塑剤、 顔料、 染料、 界面活性剤、 消泡剤、 カツプリング剤等、 従来公知のものを必要に応じて配合できる。
上記本発明の感光性樹脂組成物は、 低濃度状態でも高感度であるため、 例えば 、 固形分濃度 3 %程度の低濃度水溶液としても光重合反応することにより、 含水 ゲルを形成することができる。
また、 本発明の感光性樹脂組成物は、 機能を形成する各種の薬効成分、 酵素、 菌体等を混合することができる。 この場合は、 各種の薬効成分、 酵素、 菌体等を 含有する感光性樹脂組成物を光硬化させることにより、 各種の薬効成分、 酵素、 菌体等を包含した含水ゲルを形成することができる。 勿論、 本発明の感光性樹脂 組成物から含水ゲルを形成した後に、 各種の薬効成分、 酵素、 菌体等を含浸させ てもよい。
なお、 本発明の感光性樹脂組成物は、,通常のレジスト組成物と同様にパター二 ングすることができる。 それゆえ、 本発明の感光性樹脂組成物に機能を形成する 各種の薬効成分、 酵素、 菌体等を混合したもの、 または本発明の感光性樹脂組成 物から含水ゲルを形成した後に機能を形成する各種の薬効成分、 酵素、 菌体等を 含浸させたものを、 フォトリソグラフィーによりパターユングすることも可能で ある。 以下に、 本発明を実施例に基づいて説明する力 この感光性樹脂を用いて構成 される感光性樹脂組成物の種類、 使用目的によって異なるため、 あくまで例示で あり、 本発明の範囲を制限するものではない。
(実施例 1)
ポリアクリル酸 (日本触媒 (株) 製:アクアリック AS— 58 重量平均分子 量 80万) 10 gを 75 gのメタノールに加熱溶解させた後、 4—ヒドロキシブ チルァクリレートグリシジルエーテル (日本化成 (株) 製: 4HBAGE) 1. 6 gと反応促進のための触媒としてピリジン 1. 1 gを加え、 55 °Cの湯浴中で 24時間攪拌した。 更に湯浴温度を 90°Cに上げ、 水を滴下しながらメタノール を溜去したのち、 イオン交換樹脂 (三菱化学 (株) 製: PK—216H) 処理を 行ない、 ピリジンを除去し、 不揮発分濃度 13%の感光性樹脂 (A) の水溶液を 得た。 この感光性樹脂 (A) の固形分酸価を NaOHの 0. 1M水溶液で滴定し たところ、 63 OmgKOH/gであった。 この感光性樹脂 (A) の 13 %水溶 液 100 gに対し、 光重合開始剤として 1一 〔4一 (2—ヒドロキシエトキシ) —フエニル〕 一 2—ヒドロキシー2—メチルー 1一プロパン一 1一オン (チバ · スペシャルティ .ケミカルズ (株) 製: I RGACURE— 2959) 0. 1 g を加え、 目的の感光性樹脂組成物水溶液を得た。
この感光性樹脂組成物水溶液を水にて表 1の濃度に希釈し、 それぞれを試験管 に入れ、 密栓した状態で、 照度 25 OmW/cm2 のメタルハライドランプ UV 照射機にて、 4秒間 UV照射を行った後、 試験管を直立させて栓を空け、 重さ 5 . 5 gの鉄球を液面に置いて、 鉄球の沈降 ·保持により硬化性を比較評価した。
【表 1】
Figure imgf000012_0001
(実施例 2)
実施例 1で合成した感光性樹脂 (A) の水溶液を水酸ィ匕ナトリウムで中和し、 pH=6. 0、 不揮発分濃度 10. 4%の水溶液を得た。 この溶液 100 gに対 し、 光重合開始剤として 1一 〔4— (2—ヒドロキシエトキシ) 一フエニル〕 一 2—ヒ ドロキシー 2—メチノレー 1一プロパン一 1一オン (チパ ·スぺシヤノレティ •ケミカルズ (株) 製: I RGACURE— 2959) 0. 08 gを加え、 感光 性樹脂組成物水溶液を得た。
この感光性樹脂組成物水溶液を水にて表 2の濃度に希釈し、 実施例 1と同様の 条件にて、 鉄球の沈降 ·保持により硬化性を比較評価'した。
【表 2】
Figure imgf000013_0001
(比較例 1 )
PVA-Sb Q樹脂 (東洋合成工業 (株) 製: SPP— H— 13 重合度 17 00) を水にて表 3の濃度に希釈し、 実施例 1と同様の方法により、 硬化性を評 価した。
【表 3】
Figure imgf000013_0002
表 1〜 3に示すように、 実施例 1及び 2では固形分濃度が 3 %と低濃度水溶液 であっても強固で均一な含水ゲルであり、 鉄球を保持することができた。 一方、 比較例 1では固形分濃度 8%と、 実施例と比べて高濃度の水溶液としないと鉄球 を保持することができなかった。 産業上の利用可能性
本発明の感光性樹脂組成物は、 保存安定性に優れ、 様々な化合物に対しての親 和性、 混合溶解性を持ち、 また、 非常に高速に、 かつ低濃度でも強固で均一な含 水ゲルを形成できるため、 たいへん有用なものである。

Claims

1. (メタ) アクリル酸系ポリマー中のカルボキシル基の一部に下記一般式 (1) に示される化合物を付加させた、 固形分酸価が 150mgKOH/g以上 であるポリ (メタ) アクリル酸系水溶性感光性樹脂 (A) と、 光重合開始剤 (B ) と、 水 (C) とを含有することを特徴とする感光性樹脂組成物。
Figure imgf000014_0001
R^H, Me
R2=炭素数 2〜: 10の直鎖状または分岐状のアルキレン基
2. 請求の範囲 1において、 前記 (メタ) アクリル酸系ポリマーの前記一般 式 (1) で示される化合物が付カ卩していない力ルポキシル基の一部、 または全部 がアル力リにより中和されていることを特徴とする感光性樹脂組成物。
3. 請求の範囲 1または 2の感光性樹脂組成物を用い、 光重合反応すること により含水ゲルを得ることを特徴とする含水ゲルの形成方法。
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