KR100787989B1 - 감광성 수지 조성물 및 함수 겔의 형성방법 - Google Patents

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Abstract

(메타)아크릴산계 폴리머중의 카르복실기의 일부에 하기 화학식 1로 표시되는 화합물을 부가시킨, 고형분 산가가 150mgKOH/g 이상인 폴리(메타)아크릴산계 수용성 감광성 수지(A)와 광중합개시제(B)와 물(C)을 함유시켜서 감광성 수지 조성물로 한다.
(화학식 1)
Figure 112005024856060-pct00006
R1=H, Me
R2=탄소수 2∼10의 직쇄상 또는 분기상의 알킬렌기
감광성 수지, 함수 겔, 광중합

Description

감광성 수지 조성물 및 함수 겔의 형성방법{PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PROCESS FOR THE FORMATION OF HYDROGEL}
본 발명은 광중합형의 감광성 수지 조성물 및 그것을 사용한 함수 겔의 형성방법에 관한 것이다.
폴리(메타)아크릴산 및 그 알칼리 중화물은, 여러가지 약효성분, 효소류 등, 친수성의 생리활성 물질과 혼합성이 양호하기 때문에, 그들 물질의 유지, 고정의 목적으로, 폐수처리나 진단약, 습포제의 기재 등에 적용되고 있다. 이것들의 대부분은, 기재가 물을 포함한 상태 그대로 가교반응에 의해 경화되어, 목적물질의 유지, 고정을 행하는, 소위 함수 겔로서 사용되고 있다. 이 함수 겔에 있어서의 물의 작용은, 막중에서의 물질의 용해 뿐만아니라, 외부로의 방출속도 제어, 또는 외부로부터의 물질 확산속도 제어 등의 중요한 역할을 갖고 있다.
종래, 폴리(메타)아크릴산 및 그 알칼리 중화물의 함수 겔 형성에 있어서는, 열경화반응이 사용되어 왔다. 그렇지만, 열에 불안정한 물질이나 휘발성 물질을 겔중에 고정화하는 경우 저온에서 반응을 진행시킬 필요가 있고, 수일간 이라는 매우 장시간을 들이지 않으면, 겔 형성·고정화가 충분하게 진행되지 않는다는 문제가 있었다(일본 특개평 5-320612호 공보).
최근, 이들 분야에 있어서, 열에 불안정한 효소 등의 생리활성 물질, 혹은 균체를 비가열로 고정화한다는 우수한 방법으로서, 광경화성 수지를 사용한 방법이 인지되어지고 있다(일본 특공평 8-23545호 공보, 일본 특개평 2-240555호 공보 및 일본 특개평 2-308805호 공보).
그렇지만, 이들 문헌에 예시된 감광성 수지중, 소위 PVA-SbQ 수지에서는, 화합물의 구조상 양이온성의 부위를 가지고 있기 때문에, 생리활성 물질, 효소, 균체의 고정에 있어서 혼합용해 가능한 화합물의 범위가 한정되는 결점이 있는 것에 더하여, 물을 많이 포함한 상태에서는, 감도가 극단적으로 저하되기 때문에, 건조 공정을 넣을 수 없는 화합물을 함수상태 그대로 고정화하고 싶은 경우에는 충분한 경화성이 얻어지지 않아, 겔의 강도가 부족하게 되는 문제가 있었다.
셀룰로오스계 폴리머를 사용한 중합형 조성물의 경우, 감도가 충분하다고는 할 수 없고, 사실상, 필요한 경화성을 얻기 위해서는 중합성 모노머의 첨가가 불가결하게 되어 있다. 이 중합성 모노머를 광경화 반응에서 완전하게 폴리머화 시키는 것은, 실질적으로 불가능하여, 잔류한 미반응 모노머가 효소활성 저해나 피부자극과 같은 문제를 야기하기 때문에, 실제로 효소고정이나 습포제의 목적에 적용하는 것은 곤란하다.
에폭시기를 갖는 (메타)아크릴산 에스테르를 사용하여, 폴리(메타)아크릴산에 중합성의 가교부위를 갖게 하는 시도는, 이전부터 알려져 있다(일본 특개소 49-98878호 공보). 그렇지만, 이들 문헌에서, 광경화성 및 물을 함유하는 조성물에 관한 기재는 없어, 본 발명자들이 목적으로 하는 함수 겔 형성용도에 적용할 수 있 는 것은 아니다.
마찬가지로 에폭시기를 갖는 (메타)아크릴산 에스테르를 사용하고, 폴리(메타)아크릴산계 공중합체에 가교기를 도입하는 시도는 몇개 보고되어 있는데(일본 특개평 10-3167호 공보 및 일본 특개평 4-337087호 공보), 이것들은 광경화성을 갖지만, 모두 포토레지스트에의 적용을 목적으로 하고 있고, 수용성이 pH에 의존하며, 약산성부터 중성의 범위에서 충분한 수용성을 갖는 것이 아니라, 발명자들이 목적으로 하는 함수 겔 형성시에, 여러 화합물과의 상용성, 겔의 함수율에 있어서 충분한 물성을 갖는 것은 아니다.
지금까지 기술한 바와 같이, 폴리(메타)아크릴산은, 습포제, 진단약, 폐수처리 등에 있어서, 함수 겔을 형성하기 위해서 중요한 화합물이며, 또한 이들 용도에 있어서 광경화법은 유효한데도 불구하고, 이것을 조합한 수법에서 실용적인 것은, 전혀 볼 수 없다.
본 발명은, 이러한 사정을 감안하여, 폴리(메타)아크릴산을 사용하고, 보존안정성이 우수하고, 여러 화합물에 대한 친화성, 혼합용해성을 갖고, 또한 고감도이고 함수상태에 있어서도 광고정화 가능한 감광성 수지 조성물 및 그것을 사용한 함수 겔의 형성방법을 제공하는 것을 과제로 한다.
또한, 최근, 에폭시기를 갖는 아크릴산 에스테르를 사용하여 합성한 가교성 폴리머, 올리고머로서, 에폭시기와 아크릴기 사이에 스페이서로서 알킬렌기를 도입한 것이 보고되어 있다(일본 특개평 11-327139호 공보 및 일본 특개 2001-58972호 공보). 이것들은, 알킬렌기의 스페이서 효과에 의해 (메타)아크릴기의 자유도가 증가하고, 반응속도의 향상, 경화물에의 인성부여 등의 물리 물성 향상과 더불어, 독성, 자극성의 저하 등, 안전성에도 유리한 우수한 것이다. 그러나, 이들 문헌에서도 수용성 또는 물을 함유하는 조성물에 관한 기술은 없고, 기재예에서도 수용성은 확인되지 않는 것으로, 본 발명자들이 목적으로 하는 함수 겔 형성은 불가능했다.
본 발명자들은, 상기 과제를 해결하기 위해서 예의 검토를 거듭한 결과, (메타)아크릴산계 폴리머중의 카르복실기의 일부와, 하기 화학식 1로 표시되는 화합물과의 부가반응에 의해 얻어지는 폴리(메타)아크릴산계 수용성 감광성 수지를 사용함으로써, 보존안정성이 우수하고, 여러 화합물에 대한 친화성, 혼합 용해성을 가지고, 또한 고감도이고 함수상태에서도 광고정화 가능한 감광성 수지 조성물 및 그것을 사용한 함수 겔 형성방법을 완성하기에 이르렀다. 또한, 본 명세서에 있어서, 「(메타)아크릴산」은 「아크릴산 또는 메타크릴산」을 의미한다.
이러한 본 발명의 제 1 태양은, (메타)아크릴산계 폴리머중의 카르복실기의 일부에 하기 화학식 1로 나타내어지는 화합물을 부가시킨, 고형분 산가가 150mgKOH /g 이상인 폴리(메타)아크릴산계 수용성 감광성 수지(A)와, 광중합개시제(B)와, 물(C)을 함유하는 것을 특징으로 하는 감광성 수지 조성물에 있다.
Figure 112005024856060-pct00001
R1=H, Me
R2=탄소수 2∼10의 직쇄상 또는 분기상의 알킬렌기
본 발명의 제 2 태양은 제 1 태양에 있어서, 상기 (메타)아크릴산계 폴리머의 상기 화학식 1로 표시되는 화합물이 부가되지 않은 카르복실기의 일부, 또는 전부가 알칼리에 의해 중화되는 것을 특징으로 하는 감광성 수지 조성물에 있다.
본 발명의 제 3 태양은, 제 1 또는 2 태양의 감광성 수지 조성물을 사용하고, 광중합반응 함으로써 함수 겔을 얻는 것을 특징으로 하는 함수 겔의 형성방법에 있다.
본 발명을 실시하기 위한 최량의 형태
본 발명의 감광성 수지 조성물은 폴리(메타)아크릴산계 수용성 감광성 수지(A)와 광중합개시제(B)와 물(C)을 함유한다.
감광성 수지(A)는, (메타)아크릴산계 폴리머중의 카르복실기의 일부에, 상기 화학식 1로 표시되는 화합물을 에폭시 개환 부가시킴으로써 얻어진다.
이 화학식 1로 표시되는 화합물로서는, 예를 들면 2-히드록시에틸아크릴레이트 글리시딜에테르, 2-히드록시에틸메타크릴레이트 글리시딜에테르, 2-히드록시프 로필아크릴레이트 글리시딜에테르, 2-히드록시프로필메타크릴레이트 글리시딜에테르, 4-히드록시부틸아크릴레이트 글리시딜에테르, 4-히드록시부틸메타크릴레이트 글리시딜에테르 등을 들 수 있다.
또, (메타)아크릴산계 폴리머는, (메타)아크릴산 호모폴리머이어도, (메타)아크릴산 모노머, 그 밖의 비닐모노머 및 (메타)아크릴레이트 모노머로부터 선택되는 2종 이상을 공중합한 것이어도 좋고, 또한 그것들을 화학식 1의 화합물 이외의 측쇄 변성을 행한 것이어도 좋다. 어쨌든, 화학식 1로 표시되는 화합물과의 부가반응후에 고형분 산가 150mgKOH/g 이상, 바람직하게는 170mgKOH/g 이상이 되도록 선택되지 않으면 안된다.
감광성 수지(A)의 분자량은 특별히 제한은 없지만, 중량평균 분자량이 5000∼2000000의 범위가 바람직하다. 5000 미만에서는, 충분한 경화성이 얻어지지 않는 경우가 있고, 또, 2000000을 초과하면 매우 고점도가 되어, 합성 및 조성물의 도포시에 취급이 곤란하게 되기 때문이다.
화학식 1의 화합물의 부가율은, 목적으로 하는 경화물의 가교밀도, 기계적 강도에 의해 결정되는 것이며, 특별히 한정은 없지만, 부가후의 감광성 수지(A)의 고형분 산가는, 150mgKOH/g 이상, 바람직하게는 170mgKOH/g 이상이어야 한다. 고형분 산가가 150mgKOH/g 미만인 경우, 충분한 수용성이 얻어지지 않기 때문이다.
(메타)아크릴산계 폴리머중의 카르복실기의 일부에, 화학식 1로 표시되는 화합물을 부가시켜서 감광성 수지(A)를 얻는 반응은, 통상, 용액중에서 열, 또는 촉매 혹은 그 병용으로 행해진다. 용액을 구성하는 용매는 특별히 제한은 없지만, 사용하는 (메타)아크릴산계 폴리머가 용해하는 조성이 바람직하다. 일례로서, 물, 메탄올, 에탄올, 2-프로판올, n-부탄올, sec-부탄올, 이소부탄올, tert-부탄올, 에틸렌 글리콜, 디에틸렌 글리콜, 트리에틸렌 글리콜, 테트라에틸렌 글리콜 등의 에틸렌 글리콜류, 에틸렌 글리콜 모노메틸에테르, 디에틸렌 글리콜 모노메틸에테르, 에틸렌글리콜 디에틸에테르, 디에틸렌 글리콜 디메틸에테르 등의 글리콜 에테르류, 에틸렌 글리콜 모노에틸에테르 아세테이트, 디에틸렌 글리콜 모노에틸에테르 아세테이트, 디에틸렌 글리콜 모노부틸에테르 아세테이트 등의 글리콜에테르 아세테이트류, 프로필렌 글리콜, 디프로필렌 글리콜, 트리프로필렌 글리콜 등의 프로필렌 글리콜류, 프로필렌 글리콜 모노메틸에테르, 프로필렌 글리콜 모노에틸에틸에테르, 디프로필렌 글리콜 모노메틸에테르, 디프로필렌 글리콜 모노에틸에테르, 프로필렌 글리콜 디메틸에테르, 디프로필렌 글리콜 디메틸에테르, 프로필렌 글리콜 디에틸에테르, 디프로필렌 글리콜 디에틸에테르 등의 프로필렌 글리콜 에테르류, 프로필렌 글리콜 모노메틸에테르 아세테이트, 프로필렌 글리콜 모노에틸에테르 아세테이트, 디프로필렌 글리콜 모노메틸에테르 아세테이트, 디프로필렌 글리콜 모노에틸에테르 아세테이트 등의 프로필렌 글리콜 에테르 아세테이트류, 디메틸 술폭시드, N-메틸피롤리돈, 디메틸 포름아미드, 디메틸 아세트아미드, 및 그것들의 혼합물을 들 수 있다.
반응에 사용하는 촉매에 제한은 없지만, 일례로서, 산촉매로는, 황산, 인산, 과염소산 등의 무기산, BF3 등의 루이스산, 메탄술폰산, 벤젠술폰산, p-톨루엔술폰산, 도데실벤젠술폰산 등의 유기 술폰산을 들 수 있다. 염기성 촉매로서는, 트리에틸아민, 테트라메틸에틸렌디아민, 트리부틸아민, 트리n-옥틸아민, 디메틸벤질아민, 피리딘 등의 3차 아민, 테트라메틸암모늄 클로라이드, 테트라메틸안모늄 브로마이드, 테트라에틸암노늄 브로마이드, 테트라부틸암모늄 브로마이드 등의 4차 암모늄염, 트리페닐포스핀, 트리부틸포스핀 등의 인 화합물을 들 수 있다.
반응온도에 특별한 제한은 없지만, 통상, 실온에서 120℃의 범위가 적합하게 사용된다.
물 이외의 용제를 사용하여 합성된 감광성 수지로부터, 본 발명의 감광성 수지 조성물을 구성하는 경우, 단지 물로 희석하는 것만으로도 좋지만, 증류제거에 의한 용제치환, 또는 건조 고화후에 수용해, 또는, 지방족 탄화수소, 방향족 탄화수소, 아세트산 에틸, 아세트산 부틸과 같은 비극성 용제에 투입하여 고형분을 석출 분리후, 물에 재용해시켜도 상관없다.
또한, 감광성 수지(A)에 잔존하는 카르복실기는, 산 형태인채라도, 알칼리 화합물로 중화되어 있어도 좋다. 이 알칼리 화합물에 특별히 제한은 없지만, 예를 들면, 리튬, 나트륨, 칼륨 등의 무기 알칼리, 암모니아, 1∼3차의 알킬아민, 4차 암모늄 화합물 등을 적용할 수 있다. 또, 중화도에 제한은 없고, 사용목적에 따른 pH가 되도록, 적당하게 조정하면 된다.
이 감광성 수지(A)와 광중합개시제와 물을 함유하는 본 발명의 감광성 수지 조성물의 고형분 농도는 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면 3%∼50%이다. 이것에 의해, 특히 강고한 겔을 형성할 수 있다.
본 발명의 감광성 수지 조성물은, 광중합개시제가 필수적이다. 또, 광중합개시제에 광증감제를 더 첨가해도 된다. 광중합개시제는, 조성물중에 용해, 혹은 분산시키거나, 감광성 수지에 대하여 화학적으로 결합시켜도 된다. 조성물중에 광중합개시제를 용해, 또는 분산시키는 경우, 광중합개시제의 양은 감광성 수지에 대해 통상 0.1∼30중량%, 바람직하게는 1∼10중량%로 한다. 적용되는 광중합개시제, 광증감제에 특별히 제한은 없지만, 일례로서, 벤조페논, 히드록시벤조페논, 비스-N,N-디메틸아미노벤조페논, 비스-N,N-디에틸아미노벤조페논, 4-메톡시-4'-디메틸아미노벤조페논 등의 벤조페논류, 티옥산톤, 2,4-디에틸티옥산톤, 이소프로필티옥산톤, 클로로티옥산톤, 이소프로폭시클로로티옥산톤 등의 티옥산톤류, 에틸안트라퀴논, 벤즈안트라퀴논, 아미노안트라퀴논, 클로로안트라퀴논 등의 안트라퀴논류, 아세토페논류, 벤조인메틸에테르, 벤조인에틸에테르, 벤조인페닐에테르 등의 벤조인에테르류, 2,4,6-트리할로메틸트리트리아진류, 1-히드록시시클로로헥실페닐케톤, 2-(o-클로로페닐)-4,5-디페닐이미다졸 2량체, 2-(o-클로로페닐)-4,5-디(m-메톡시페닐)이미다졸 2량체, 2-(o-플루오로페닐)-4,5-디페닐이미다졸 2량체, 2-(o-메톡시페닐)-4,5-디페닐이미다졸 2량체, 2-(p-메톡시페닐)-4,5-디페닐이미다졸 2량체, 2,4-디(p-메톡시페닐)-5-페닐이미다졸 2량체, 2-(2,4-디메톡시페닐)-4,5-디페닐이미다졸 2량체 등, 2,4,5-트리아릴이미다졸 2량체류, 벤질디메틸케탈, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-부탄-1-온, 2-메틸-1-[4-(메틸티오)페닐]-2-모르폴리노-1-프로파논, 2-히드록시-2-메틸-1-페닐-프로판-1-온, 1-[4-(2-히드록시에톡시)-페닐]-2-히드록시-2-메틸-1-프로판-1-온, 페난트렌퀴논, 9,10-페난트렌퀴논, 메틸벤조인, 에틸벤조인 등의 벤조인류, 9-페닐아크리딘, 1,7-비스(9,9'-아크리디닐)헵탄 등, 아크리딘 유도체, 비스아실포스핀 옥사이드, 및 이것들의 혼합물 등을 들 수 있다.
이들 개시제에 촉진제 등을 더 첨가할 수도 있다. 이것들의 예로서, p-디메틸아미노벤조산에틸, p-디메틸아미노벤조산이소아밀, 에탄올아민, 디에탄올아민, 트리에타놀아민 등을 들 수 있다.
또, 본 발명의 감광성 수지 조성물에는, 감도, 경화물 물성조정의 목적으로, 중합성 모노머를 첨가하는 것도 가능하다. 일례로서, 폴리에틸렌 글리콜 디아크릴레이트(에틸렌기의 수가 2∼14의 것), 폴리에틸렌 글리콜 디메타크릴레이트(에틸렌기의 수가 2∼14의 것), 트리메티롤프로판 디아크릴레이트, 트리메티롤프로판 디메타크릴레이트, 트리메티롤프로판 트리아크릴레이트, 트리메티롤프로판 트리메타크릴레이트, 트리메티롤프로판 에톡시트리아크릴레이트, 트리메티롤프로판 에톡시트리메타크릴레이트, 트리메티롤프로판 프로폭시트리아크릴레이트, 트리메티롤프로판 프로폭시트리메타크릴레이트, 테트라메티롤메탄 트리아크릴레이트, 테트라메티롤메탄 트리메타크릴레이트, 테트라메티롤메탄 테트라아크릴레이트, 테트라메티롤메탄 테트라메타크릴레이트, 폴리프로필렌 글리콜 디아크릴레이트(프로필렌기의 수가 2∼14의 것), 폴리프로필렌 글리콜 디메타크릴레이트(프로필렌기의 수가 2∼14의 것), 디펜타에리트리톨 펜타아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 펜타메타아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 헥사아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 헥사메타크릴레이트, 비스페놀A 폴리옥시에틸렌 디아크릴레이트, 비스페놀A 폴리옥시에틸렌 디메타크릴레이트, 비스페놀A 디옥시에틸렌 디아크릴레이트, 비스페놀A 디옥시에틸렌 디메타크릴레이트, 비스페놀A 트리옥시에틸렌 디아크릴레이트, 비스페놀A 트리옥시에틸렌 디메타크릴레이트, 비스페놀A 데카옥시에틸렌 디아크릴레이트, 비스페놀A 데카옥시에틸렌 디메타크릴레이트, 다가 카르복실산(무수 프탈산 등)과 수산기 및 에틸렌성 불포화기를 갖는 화합물(β-히드록시에틸 아크릴레이트, β-히드록시에틸 메타크릴레이트 등)과의 에스테르화물, 아크릴산 혹은 메타크릴산의 알킬에스테르(아크릴산 메틸에스테르, 메타크릴산 메틸에스테르, 아크릴산 에틸에스테르, 메타크릴산 에틸에스테르, 아크릴산 부틸에스테르, 메타크릴산 부틸에스테르, 아크릴산2-에틸헥실에스테르, 메타크릴산2-에틸헥실에스테르 등) 등을 들 수 있다.
또한 그 밖의 성분으로서, 중합금지제, 가소제, 안료, 염료, 계면활성제, 소포제, 커플링제 등, 종래 공지의 것을 필요에 따라서 배합할 수 있다.
상기 본 발명의 감광성 수지 조성물은, 저농도 상태에서도 고감도이기 때문에, 예를 들면 고형분 농도 3% 정도의 저농도 수용액으로서도 광중합반응 함으로써, 함수 겔을 형성할 수 있다.
또, 본 발명의 감광성 수지 조성물은 기능을 형성하는 각종의 약효성분, 효소, 균체 등을 혼합할 수 있다. 이 경우에는, 각종의 약효성분, 효소, 균체 등을 함유하는 감광성 수지 조성물을 광경화 시킴으로써, 각종의 약효성분, 효소, 균체 등을 포함한 함수 겔을 형성할 수 있다. 물론, 본 발명의 감광성 수지 조성물로부터 함수 겔을 형성한 후에 각종의 약효성분, 효소, 균체 등을 함침시켜도 좋다.
또한, 본 발명의 감광성 수지 조성물은, 통상의 레지스트 조성물과 동일하게 패터닝할 수 있다. 그 때문에, 본 발명의 감광성 수지 조성물에 기능을 형성하는 각종의 약효성분, 효소, 균체 등을 혼합한 것, 또는 본 발명의 감광성 수지 조성물로부터 함수 겔을 형성한 후에 기능을 형성하는 각종의 약효성분, 효소, 균체 등을 함침시킨 것을, 포토리소그래피에 의해 패터닝 하는 것도 가능하다.
이하에, 본 발명을 실시예에 기초하여 설명하는데, 이 감광성 수지를 사용하여 구성되는 감광성 수지 조성물의 종류, 사용목적에 따라 다르기 때문에, 어디까지나 예시이며, 본 발명의 범위를 제한하는 것은 아니다.
(실시예 1)
폴리아크릴산(니혼쇼쿠바이(주)제: 아쿠알릭 AS-58 중량평균 분자량 80만) 10g을 75g의 메탄올에 가열 용해시킨 후, 4-히드록시부틸아크릴레이트 글리시딜에테르(닛뽄카세(주)제: 4HBAGE) 1.6g과 반응촉진을 위한 촉매로서 피리딘 1.1g을 가하고, 55℃의 온수욕 속에서 24시간 교반했다. 온수욕 온도를 90℃로 더 올리고, 물을 적하하면서 메탄올을 증류제거 한 뒤, 이온교환 수지(미쓰비시카가쿠(주)제: PK-216H) 처리를 행하고, 피리딘을 제거하고, 불휘발분 농도 13%의 감광성 수지(A)의 수용액을 얻었다. 이 감광성 수지(A)의 고형분 산가를 NaOH의 0.1M 수용액으로 적정한 바, 630mgKOH/g 이었다. 이 감광성 수지(A)의 13%수용액 100g에 대하여, 광중합개시제로서 1-[4-(2-히드록시에톡시)-페닐]-2-히드록시-2-메틸-1-프로판-1-온(치바·스페셜티·케미컬(주)제-: IRGACURE-2959) 0.1g을 가하여, 목적의 감광성 수지 조성물 수용액을 얻었다.
이 감광성 수지 조성물 수용액을 물로 표 1의 농도로 희석하고, 각각을 시험관에 넣고, 마개를 막은 상태에서, 조도 250mW/cm2의 메탈할라이드 램프 UV 조사기로, 4초간 UV 조사를 행한 후, 시험관을 직립시키고 마개를 열고, 무게 5.5g의 철공을 액면에 놓고, 철공의 침강·유지에 의해 경화성을 비교 평가했다.
Figure 112005024856060-pct00002
(실시예 2)
실시예 1에서 합성한 감광성 수지(A)의 수용액을 수산화 나트륨으로 중화하고, pH=6.0, 불휘발분 농도 10.4%의 수용액을 얻었다. 이 용액 100g에 대하여, 광중합개시제로서 1-[4-(2-히드록시에톡시)-페닐]-2-히드록시-2-메틸-1-프로판-1-온(치바·스페셜티·케미컬(주)제: IRGACURE-2959) 0.08g을 가하고, 감광성 수지 조성물 수용액을 얻었다.
이 감광성 수지 조성물 수용액을 물로 표 2의 농도로 희석하고, 실시예 1과 동일한 조건으로, 철공의 침강·유지에 의해 경화성을 비교평가·했다.
Figure 112005024856060-pct00003
(비교예 1)
PVA-SbQ 수지(도요고세고교(주)제: SPP-H-13 중합도 1700)를 물로 표 3의 농도로 희석하고, 실시예 1과 동일한 방법에 의해, 경화성을 평가했다.
Figure 112005024856060-pct00004
표 1∼3에 나타내는 바와 같이 실시예 1 및 2에서는 고형분 농도가 3%로 저농도 수용액이어도 강고하고 균일한 함수 겔이고, 철공을 유지할 수 있었다. 한편, 비교예 1에서는 고형분 농도 8%로, 실시예에 비해 고농도의 수용액으로 하지 않으면 철공을 유지할 수 없었다.
본 발명의 감광성 수지 조성물은, 보존안정성이 우수하고, 여러 화합물에 대한 친화성, 혼합 용해성을 갖고, 또한 매우 고속이고, 또한 저농도이어도 강고하고 균일한 함수 겔을 형성할 수 있기 때문에, 매우 유용한 것이다.

Claims (5)

  1. (메타)아크릴산계 폴리머중의 카르복실기의 일부에 하기 화학식 1로 표시되는 화합물을 부가시킨, 고형분 산가가 170mgKOH/g이상인 폴리(메타)아크릴산계 수용성 감광성 수지(A)와 광중합개시제(B)와 물(C)을 함유하는 것을 특징으로 하는 감광성 수지 조성물.
    (화학식 1)
    Figure 112007056174824-pct00007
    R1=H, 메틸기
    R2=탄소수 2∼10의 직쇄상 또는 분기상의 알킬렌기
  2. 제 1 항에 있어서, 상기 (메타)아크릴산계 폴리머의 상기 화학식 1로 표시되는 화합물이 부가되어 있지 않은 카르복실기의 일부, 또는 전부가 알칼리에 의해 중화되는 것을 특징으로 하는 감광성 수지 조성물.
  3. 제 1 항 또는 제 2 항의 감광성 수지 조성물을 사용하여, 광중합 반응시킴으로써 함수 겔을 얻는 것을 특징으로 하는 함수 겔의 형성방법.
  4. (메타)아크릴산계 폴리머중의 카르복실기의 일부에 하기 화학식 1로 표시되는 화합물을 부가시킨, 고형분 산가가 170mgKOH/g 이상인 폴리(메타)아크릴산계 수용성 감광성 수지(A)와 광중합개시제(B)와 물(C)를 함유하는 감광성 수지 조성물을 사용하여, 광중합반응 시킴으로써 얻은 것을 특징으로 하는 함수 겔.
    (화학식 1)
    Figure 112007056174824-pct00008
    R1=H, 메틸기
    R2=탄소수 2∼10의 직쇄상 또는 분기상의 알킬렌기
  5. 제 4 항에 있어서, 상기 (메타)아크릴산계 폴리머의 상기 화학식 1로 표시되는 화합물이 부가되어 있지 않은 카르복실기의 일부 또는 전부가 알칼리에 의해 중화되는 것을 특징으로 하는 함수 겔.
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Families Citing this family (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4278083B2 (ja) * 2002-12-10 2009-06-10 東洋合成工業株式会社 新規なポリ酢酸ビニル鹸化物系感光性樹脂、感光性樹脂組成物及びそれを用いた含水ゲルの形成方法並びに化合物
US20090202744A1 (en) * 2005-01-27 2009-08-13 Konica Minolta Holdings, Inc. Inkjet ink, inkjet ink set and method of inkjet recording
EP1702961B1 (en) * 2005-03-14 2008-11-05 Konica Minolta Holdings, Inc. Ink-jet ink, ink-jet ink set, and ink-jet recording method
US20070064050A1 (en) * 2005-09-21 2007-03-22 Konica Minolta Holdings, Inc. Ink-jet ink, ink-jet ink set and ink-jet recording method
US20070109375A1 (en) * 2005-11-16 2007-05-17 Konica Minolta Holdings, Inc. Ink-jet ink, ink-jet ink set and ink-jet recording method
US20070115325A1 (en) * 2005-11-21 2007-05-24 Konica Minolta Holdings, Inc. Ink-jet ink and ink-jet recording method
EP2042304B1 (en) 2006-07-14 2013-01-02 Konica Minolta Holdings, Inc. Plate making method and planographic printing plate
JP2008221468A (ja) 2007-03-08 2008-09-25 Konica Minolta Holdings Inc インクジェット記録方法
JP5098397B2 (ja) 2007-03-29 2012-12-12 コニカミノルタホールディングス株式会社 インクジェットインク、及びインクジェット記録方法
JP5014873B2 (ja) * 2007-05-11 2012-08-29 群栄化学工業株式会社 高分子樹脂、及びそれを用いた感放射線性樹脂組成物
JP5181576B2 (ja) * 2007-08-17 2013-04-10 ソニー株式会社 燃料電池の製造方法、燃料電池および電子機器
EP2075293B1 (en) 2007-12-28 2014-03-12 Konica Minolta Holdings, Inc. Ink-jet ink and ink-jet recording method
WO2009119622A1 (ja) * 2008-03-25 2009-10-01 綜研化学株式会社 感光性樹脂およびこれを利用した感光性樹脂組成物
ES2335958B2 (es) * 2008-08-06 2010-11-02 Universidad De Santiago De Compostela Hidrogeles acrilicos con ciclodextrinas colgantes, su preparacion y su aplicacion como sistemas de liberacion y componentes de lentes de contacto.
JP5561986B2 (ja) * 2009-09-30 2014-07-30 積水化成品工業株式会社 光硬化性樹脂組成物及び粘着性高分子ゲル
EP3275919B1 (en) * 2015-03-24 2022-07-20 FUJIFILM Corporation Water dispersion of gel particles, producing method thereof, and image forming method
EP3130453A1 (en) * 2015-08-13 2017-02-15 Sika Technology AG Tire filling based on acrylic hydrogels

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH103167A (ja) * 1996-06-14 1998-01-06 Ueno Kagaku Kogyo Kk 水溶性感光性組成物
JPH11327139A (ja) * 1998-05-18 1999-11-26 Nippon Kayaku Co Ltd 樹脂組成物及びその硬化物
JP2002214354A (ja) * 2001-01-23 2002-07-31 Nippon Kayaku Co Ltd 放射線線量計用樹脂組成物及びその硬化物

Family Cites Families (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3872047A (en) 1972-12-04 1975-03-18 Hana Jandourek Composition and method for improving adherence of polymeric materials to substrates
JPS5879006A (ja) * 1981-11-05 1983-05-12 Toagosei Chem Ind Co Ltd 含水ゲルの製造法
JPH0823545B2 (ja) 1986-09-18 1996-03-06 株式会社エー・アンド・デイ 簡易酵素電極
US5102775A (en) * 1988-09-30 1992-04-07 Kansai Paint Co., Ltd. Visible light sensitive electrodeposition coating composition and image-forming method using the same
JP2748516B2 (ja) 1989-03-14 1998-05-06 エヌオーケー株式会社 グルコースセンサ
JP2538056B2 (ja) 1989-05-23 1996-09-25 信越化学工業株式会社 アクリル系樹脂組成物
US5723261A (en) * 1989-11-30 1998-03-03 Tamura Kaken Co., Ltd. Photopolymerizable composition
JPH04337087A (ja) 1991-05-14 1992-11-25 Toagosei Chem Ind Co Ltd 微細有孔板の製造方法
JPH05320612A (ja) 1992-05-22 1993-12-03 Hisamitsu Pharmaceut Co Inc 粘着組成物
US5399604A (en) * 1992-07-24 1995-03-21 Japan Synthetic Rubber Co., Ltd. Epoxy group-containing resin compositions
US5716757A (en) * 1993-06-18 1998-02-10 Asahi Kasei Kogyo Kabushiki Kaisha Photosensitive resin composition used for a corrugated board printing plate
JP2718007B2 (ja) * 1995-06-06 1998-02-25 太陽インキ製造株式会社 アルカリ現像可能な一液型フォトソルダーレジスト組成物及びそれを用いたプリント配線板の製造方法
JP3254572B2 (ja) 1996-06-28 2002-02-12 バンティコ株式会社 光重合性熱硬化性樹脂組成物
JP4572431B2 (ja) 1999-08-19 2010-11-04 日本化成株式会社 (メタ)アクリレート誘導体およびその製造方法
JP2001270919A (ja) * 2000-01-17 2001-10-02 Toyo Gosei Kogyo Kk 高分子化合物及びその製造方法並びに感光性組成物及びパターン形成方法
GB2366538B (en) * 2000-09-09 2002-10-30 Alan Roger Harper Production of composite mouldings
JP4536914B2 (ja) * 2000-12-19 2010-09-01 コダック株式会社 光重合性組成物及び光重合性平版印刷版

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH103167A (ja) * 1996-06-14 1998-01-06 Ueno Kagaku Kogyo Kk 水溶性感光性組成物
JPH11327139A (ja) * 1998-05-18 1999-11-26 Nippon Kayaku Co Ltd 樹脂組成物及びその硬化物
JP2002214354A (ja) * 2001-01-23 2002-07-31 Nippon Kayaku Co Ltd 放射線線量計用樹脂組成物及びその硬化物

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Publication number Publication date
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DE60323121D1 (de) 2008-10-02
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