WO2002101738A1

WO2002101738A1 - Procede de fabrication d'un disque-maitre destine a la fabrication de support d'enregistrement optique presentant des depressions regulieres et des saillies, matrice de pressage et support d'enregistrement optique

Info

Publication number: WO2002101738A1
Application number: PCT/JP2002/005803
Authority: WO
Inventors: Motohiro Furuki
Original assignee: Sony Corporation
Priority date: 2001-06-11
Filing date: 2002-06-11
Publication date: 2002-12-19
Also published as: CN1199170C; CN1465057A; JP4165396B2; TWI226059B; KR20030024838A; JPWO2002101738A1; US20040011762A1

Description

明細書

凹凸を有する光記録媒体作製用原盤、スタンパ、光記録媒体の各製造方法技術分野

本発明は、ディスクノィズが改善された光記録媒体を得ることができる凹凸を有する光記録媒体作製用原盤、スタンパ、光記録媒体の各製造方法に係わる。背景技術

通常、光による再生または/および記録がなされる光記録媒体

、例えば C D— R O M ( Compact Disc - Read Only Memory)をはじめとして、例えば光磁気記録層を有する光磁気記録媒体、相変化記録層を有する相変化記録媒体等においては、そのディスク、あるいはカード等の基板に、記録ピッ卜、トラツキング用のダル一ブ等の凹凸が形成された構成を有する。

このような凹凸を有する光記録媒体を作製する方法としては、この凹凸パターンに対応する反転凹凸パターンを有するスタンパを用いて、目的とする凹凸を有する光記録媒体基板を射出成形によって、あるいはいわゆる 2 P法（Photopolymerization 法）による成形によつて作製する。

そして、この凹凸パターンを有する光記録媒体基板上に、上述した光磁気記録層、相変化記録層、保護層等の成膜がなされて、目的とする光記録媒体が製造される。

上述したスタンパの作製は、通常、原盤の作製がなされ、この原盤上に例えば N i メッキがなされてこの N i メッキ層を原盤から剝離してスタンパが転写作製される。あるいは原盤からマスタースタンパを転写作製し、このマスタスタンパの転写複製によつてマザ一ス夕ンパを作製し、このマザ一スタンパから上述した射出成形、あるいは 2 P法の成形に用いるスタンパを転写作製する o

原盤の作製は、例えばアルカリ含有ガラス、石英、金属等による基板の平滑表面上に、フォトレジス卜層の塗布、パターン露光

、現像によって、このフォトレジスト層自体の厚さによって高さの規定がなされた凹凸パターンが形成された原盤を得る。

ところで、現在例えば記録容量が、 4. 7 G B程度の D V D (D igital Versatile Disc)において、これと同サイズで、例えば 1 5 G Bの記録容量を目指すと、このディスクにおける凹凸の、より微細化が要求される。

この微細化は、上述したフォ卜レジスト層に対するパターン露光における解像度に依存する。この解像度を決定するものとして、露光光源の波長およびその集光対物レンズの開口数（N. A. ) が挙げられる。

このフォトレジス卜を用いるときの解像度 Rは、露光波長スとするとき、下記（ 1 ) 式のレイリ一（Raighly) の解像限界式で表される。

R = 0. 6 1 X A /N. A. ( 1 ) 図 5 は、この（ 1 ) 式を基に、露光波長スと、これを用いて作製した原盤によって得た光ディスクの最小ピッ卜長および卜ラックピッチとの関係を示したものである。ここで、 N. A. は、 0 . 9 としている。

波長 3 5 1 n mでは、解像限界は、上記（ 1 ) 式から約 0. 2

4 0 mとなり、この原盤に基いて作製されたディスクは、最小ピット長 0. 2 5 m、トラックピッチ t p . 0. 4 7 ^ mにおいて D V Dサイズで約 1 2 G Bの容量が可能となる。 —方、ス = 2 6 6 n mの光源を用いた場合には、解像限界は約 0. 1 8 mとなり、最小ピット長は 0. 4 1 m、 t p . = 0 . 1 9 mにおいて、 D V Dサイズで約 1 5 G Bの容量が可能となる。

事実、そのフォトレジスト層として、ノボラック系フォトレジストを用いて波長 2 6 6 n m、対物レンズ N. A. 力く 0. 9 0 という光学系による露光によって作製した原盤によるスタンパによつて作製した光ディスクは、波長 5 3 2 n m、 N. A. = 0. 9 4による再生光学系で、 1 5 G Bで 6. 6 %という実用可能なジッタ値が達成されている。

しかしながら、近年、光ディスクでは、単に微細パターンの形成のみならず、個々のパターンの均一性や、形成されたパターンのエッジラフネスの軽減、凹凸の側壁の傾斜角度の制御などが求められてきている。

これは、光記録媒体の高記録密度化から、光記録媒体に対する再生光が近赤外から青紫色へと、短波長化され、更に光ピックァップにおける光学レンズの開口数が大とされることに伴う、再生光のスポッ卜サイズの縮小化により、 MT F (Modulation Trans fer Function) が增加し、従来においてはジッタの要因にはならなかった凹凸の形状が、ジッ夕に影響してきていることに因る。これは、波長 7 8 0 n m、レンズ開口数 N. A. 力 0. 4 5の C Dでのスポッ卜サイズと、青紫色光を用いた波長 4 0 5 n m、レンズ開口数 N. A. 0. 8 5による読み取りスポットサイズとを単純比較すると 0. 2 7倍に縮小していることを主要因として挙げることができる。

光ディスクのジッ夕要因は、次式（ 2 ) で表される。

(ジッ夕） ² = ( ディスクノイズ） ²+ ( クロストーク）² + ( 符号間干渉の影響） ² + ( 電気的ノイズ）²

( 2 ) このように、ジッ夕の要因としては、ランドエリア、ピット形状に起因するディスクノイズ、隣接卜ラックからのクロス卜一クの影響、ピット前後の符号間干渉の影響、プレーヤ一などに依存する電気的ノィズに分類される。

このうち、クロストーク、符号間干渉に関しては、記録補償を導入することによりこれらの軽減を図ることが C Dなどで既に行われている。

すなわち、例えば再生信号波形を解析し、ピッ卜の位置を前後に若干ずらし符号間干渉、クロストークが最も低ぐなるようにシミユレーションを行い、その結果を信号発生器にフィ一ドバックさせ、再度カツティングを行う。この一連のプロセスを繰り返すことでクロストーク、符号間干渉ノイズを減少させる方法が採られている。

しかしながら、ディスクノィズについては、上述した露光、現像によるフォ卜レジストパターンの不均一性、エッジラフネス、フォ卜レジスト自体の粗さなどに起因しており、これらはランダムな量であることから、このノイズを電気回路的に取り除くことは極めて困難で、フォ卜レジス卜の組成調整が必要となる場合がい o

また、このディスクノイズは、短波長化、高 N . A . 化による高密度ディスクの開発が進むにつれ、支配的になってきている。一例として、 2 0 G Bの R O Mディスクを挙げると、卜ラックピッチ 0 . 3 6 m、ビット長 0 . 1 3 m / bi t 、光入射側の記録層間の光透過層の厚さが 1 0 0 m、記録層背面に配置される反射膜の反射率が 2 0 %というディスク構造において、再生波長 4 0 7 n mの K r レーザ、 N . A . 力く 0 . 8 5 という再生光学系を用いて測定を行いジッタ値を測定し要因を解析した。この、結果は、

全ジッタ 8 . 6 0 %

ディスクノイズ 5 . 3 0 %

クロストーク 4 . 9 0 %

符号間干渉 4 . 4 0 %

電気的ノィズ 1 . 5 0 %

となった。

このようにディスクノイズが支配的であるが、このディスクノィズを従来の製造方法をもって低減させることは極めて難しい。そして、青紫色光による光記録媒体のように光ディスク基板上の成膜側から記録再生を行う場合、反射膜、記録層の形状が極めて重要となり、例えばガラス原盤上の凹凸形状、すなわちピッ卜またはグループ形状の側壁傾斜角度、側壁面の粗さ、エッジ形状を制御することが必須となる。

上述したような、問題を解決するために、昨今、光記録媒体、例えば光ディスクの原盤作製工程に、反応性ィォンエッチングによるドライエツチング工程を導入することによって、形状の制御性の向上を図る方向にある。

しかしながら、このような方法によっても、図 6に模式的断面図を示すように、基板 1 0 0 に対して一般的なドライエッチングで形成したトレンチすなわち凹部 1 0 1 には、その底部の角部に、更なる窪みいわゆるサブ卜レンチ 1 0 2が発生する。

したがって、この原盤によって形成したスタンパには、このサブトレンチの形状が転写し、このスタンパを用いて射出成形、あるいは 2 P法によって作製した光記録媒体基板には、その凸部ないしは凹部に上述したサブ卜レンチによる形状乱れが発生する。このため、このようにして形成した凹凸に対して情報記録層を構成する反射膜、記録層等を成膜した場合、成膜の力バレ一ジの低下、不均一性を来たし、エラ一レー卜の增加、ディスクノイズを高めるなどの支障を来す。発明の開示

本発明は、目的とする光記録媒体を作製するに供する原盤の作製において、反応性ィオンエツチングを適用した場合において問題となるディスクノイズ、ジッタ等の改善を図ることができるようにするものである。

すなわち、本発明においては、凹凸を有する光記録媒体作製用原盤の製造方法にあって、原盤を構成する基板の表面に、上記凹凸に対応する微細パターンによるフォトレジスト層を形成するェ程と、このフォトレジスト層をマスクとして、基板表面に反応性イオンエッチングによって凹凸を形成する第 1のエツチング工程と、この第 1 のエツチング工程後に、フォトレジスト層を除去してあるいは除去することなく、基板に対し酸素イオンエッチシグを行う第 2 のエツチング工程と採って目的とす光記録媒体作製用原盤を作製するものである。

また、この原盤の製造方法において、その第 2のエッチングェ程によって、原盤の基板の表面粗さ、すなわち凹部の側壁、底面、上面の粗さを、 r m s ( root mean square：自乗平均）（以下単に表面粗さという）で 0 . 3 n m以下とするものである。

また、本発明による凹凸を有する光記録媒体作製用スタンパの製造方法は、原盤を構成する基板の表面に、上記凹凸に対応する微細パターンによるフォ卜レジスト層を形成する工程と、このフオトレジス卜層をマスクとして、基板表面に反応性ィオンエッチングによって凹凸を形成する第 1 のエッチング工程と、この第 1 のェッチング工程後に、基板に対し酸素イオンエッチングを行う第 2 のエツチング工程とを経て凹凸を有する原盤を作製する。そして、この原盤の凹凸を 1 回以上転写して、すなわち 1 回の転写で目的とする光記録媒体作製用スタンパを作製するとか、あるいは複数回のス夕ンパを作製するためのマスタースタンパ、マザ一スタンパを作製して目的とする光記録媒体作製用スタンパを作製するものである。

また、本発明による凹凸を有する光記録媒体の製造方法は、原盤を構成する基板の表面に上記凹凸に対応する微細パターンによるフォ卜レジス卜層を形成する工程と、このフォトレジスト層をマスクとして、基板表面に反応性ィォンエッチングによって凹凸を形成する第 1 のエツチング工程と、この第 1 のエツチング工程後に、基板に対し酸素イオンエッチングを行う第 2 のエッチング工程とを経て光記録媒体作製用の原盤を作製し、この原盤の 1 回以上の転写によってスタンパを作製し、このスタンパによって、凹凸を有する光記録媒体基板を成形する工程と、この光記録媒体基板の凹凸を有する面に情報記録層を成膜する工程とを採って光記録媒体を作製するものである。

すなわち、本発明においては、原盤、ないしはスタンパの作製において、フォトレジスト層のパターンを作製し、これをマスクとして、制御性にすぐれたドライエッチングによる第 1 のエッチングを行うものであるが、その後に、フォトレジストを除去することなく、あるいはフォトレジス卜を除去して酸素ィォンエッチングを行うものであり、この第 2 のエッチングによって、第 1 のエツチングで発生した図 6 で説明したサブトレンチを排除することができることを見出したものであり、これにより表面粗さを改善することができるようにするものである。すなわち、本発明においては、従来、酸素イオンによってはェッチングがなされないと考えられていた常識にいわば逆らつた方法を採ったときに、サブトレンチが排除されて、トレンチ底部のコーナ部が尖鋭形状となることを回避できることを見出し、形状性、表面性にすぐれた原盤を作製する。

そして、この原盤からの転写によって光記録媒体を成形するスタンパ、あるいはこのスタンパを転写作製するマスタースタンパ、マザ一スタンパを作製することができる。したがって、最終的に形状性、表面性にすぐれた光記録媒体を射出成形、あるいは 2 P法等によって作製することができ、エラーレートの改善、メディァノィズの改善が図られた光記録媒体を得ることができるもの "、ある。

尚、本発明によって得る光記録媒体作製用の原盤は、スタンパの作製に用いることができるが、この原盤自体を光記録媒体作製のスタンパ、あるいはこのスタンパを作製するマスタ一スタンパやマザ一スタンパとすることができる。図面の簡単な説明

図 1 A、図 1 B、図 1 Cは、本発明による光記録媒体作製用スタンパの製造方法の一例の各工程図（その 1 ) であり、図 2 A、図 2 B、図 2 C、図 2 Dは、本発明による光記録媒体作製用の製造方法の一例の各工程図（その 2 ) であり、図 3 Aは、酸素ィォンエッチングのエッチングレー卜とイオン入射角との関係を示す図であり、図 3 Bは、酸素イオンエッチングのエツチング態様を説明する概略断面図であり、図 4は、酸素イオンエッチングの表面粗さと、酸素イオンエツチング時間との関係の測定結果を示す図であり、図 5 は、原盤作製におけるフォトレジストに対する露光光源の波長； I と、この原盤によって作製した光ディスクにおける最小ピッ卜長およびトラックピッチとの関係を示す図であり、図 6 は、反応性イオンエッチングによるドライエッチングによつて形成された凹部の概略断面図である。発明を実施するための最良の形態

先ず、本発明による光記録媒体作製用スタンパを得る原盤の製造方法の実施の形態の一例を、図 1 を参照して説明する。

図 1 Aに示すように、例えばアルカリ含有ガラス基板、石英基板、 S i 基板、または金属基板より成る原盤作製の基板 1 を用意する。この基板 1 は、その表面が平滑面として形成されて成る。この基板 1 の平滑表面上に、目的とする光記録媒体の凹凸パ夕 ―ンに対応するパターンのフォトレジス卜層 2 を形成する。

このフォ卜レジスト層 2 のパターンの形成は、フォトレジス卜層の塗布形成、パターン露光、および現像処理を行うことによつて形成することができる。

このフォトレジス卜層に対する露光は、例えばレーザ光、電子ビーム、 X線など周知の方法によって、露光マスクを通じて所定のパ夕一ンに露光するとか、これら露光光をォン · オフ変調し、フォトレジスト層上に走査することによつて所定のパターンに露光することができる。

その後、このパターン露光されたフォ卜レジスト層 2 を例えば有機または無機アル力リ現像液によって現像して、所要のパターンの開口 2 Wを形成する。

例えばフォトレジスト層 2 がポジ型のフォトレジストである場合は、露光部に開口 2 Wが形成される。

次に、図 1 Bに示すように、フォトレジス卜層 2 をエッチングマスクとして、フォトレジス卜層 2 の開口 2 Wを通じて、例えば C H F 3 , C F 4 , C 3 F s , C 4 F ₈ ， C ₅ F ₈ 等による反応性ガスや、これらガスと酸素、アルゴン等との混合ガスを用いて、基板 1 の表面に対してドライエッチングによる第 1のエツチングを行う。この第 1のエッチングによって、基板表面に凹部 3 G が形成された凹凸 3が形成される。

このようにして形成された凹凸 3の凹部 3 Gの底部には、サブ卜レンチ 3 sが発生する。 .

その後、図 1 Cに示すように、フォトレジスト層 2を除去し、ドライエッチング装置のチヤンバ一内に、上述した第 1のエッチングによって凹凸 3が形成された基板 1を配置し、チャンバ一内に酸素ガスを流し、高周波パワーを設定し、プラズマを形成して第 2 のエッチングを行う。

このようにすると、サブ卜レンチ 3 sによる尖鋭部分が消失し、更に、凹部側壁面、底面、上面における表面性にすぐれた凹凸が形成される。これは、チャンバ一内の酸素ガスが、 0 ₂ + の形にイオン化し、これがカソ一ド電位側の基板 1に衝突し、基板 1 のイオン衝突面の構成原子、例えばガラス基板、石英基板、 S i 0 2 基板等においては S i をスパッタさせてィォンの衝突面の原子をそぎ取ることによるためと思われる。

このようにして、形状性にすぐれ、表面粗さ 0 . 3 n m以下の表面性にすぐれた凹凸が形成された原盤 4が形成される。

次に、本発明によるスタンパの製造方法と凹凸を有する光記録媒体の製造方法の一実施形態の一例を、図 2を参照して説明するこの実施形態においては、上述したと同様の図 1 A〜Cの方法によって原盤 4を作製し、図 2 Aに示すように、この原盤 4上に、例えば N i の無電解メツキおよび電気メツキによるスタンパ材 5を形成する。図 2 Bに示すように、このスタンパ材 5を、原盤 4から剝離する。このようにして原盤 4 の凹凸 3が転写された、すなわち凹凸 3 の反転パタ一ンによる凹凸 1 3が形成されたスタンパ 6がを形成される。

そして、この本発明方法によって形成したスタンパ 6の凹凸 1

3 は、原盤 4の凹凸 3においてサブトレンチが排除され、またその凹凸表面性にすぐれていることから、同様にすぐれた均一な形状と表面粗さ 0 . 3 n m以下の高い表面性を有する凹凸 1 3 として形成される。

そして、本発明においては、このようにして形成されスタンパ

6 を用いて光記録媒体を作製する。

このために、先ず、図 2 Cに示すように、射出成形あるいは 2 P法によって、スタンパ 6の凹凸 1 3が転写された、すなわち凹凸 3を有する光記録媒体基板 7、例えば光ディスク基板を作製する。

このようにして形成した光記録媒体基板 7の凹凸 3の形成面に、図 2 Dに示すように、例えば C D - R 0 Mによる光記録媒体の形成においては、例えば A 1反射膜をスパッ夕して情報記録層 8 を形成し、また例えば追記型の C D、光磁気記録媒体、相変化光記録媒体等においては、色素層、光磁気記録層、相変化材料層、誘電体層、反射膜等を成膜して情報記録層 8を形成する。また、この情報記録層 8上には、例えば透明樹脂のスピンコー卜によつて保護膜 9を形成して目的とする光記録媒体 1 0を作製する。

このようにして形成された光記録媒体 1 0 は、その光記録媒体基板 7の凹凸に、サブトレンチ等が存在しないことから、この凹凸に対して形成される情報記録層は、カバレージにすぐれた状態で形成され、また形状の均一性、表面性にすぐれていいることから、エラーレ— 卜、ノイズの改善が図られ、ディスクノイズ— 7 0 d B以下の光記録媒体として形成される。

上述した実施形態においては、スタンパ 6 を、上述した原盤 4 の転写によつて形成した場合であるが、他の 1 の実施形態においては、原盤 4 からマスタ一スタンパを転写形成し、これを更に転写することによってマザ一スタンパを形成し、これからの転写によってスタンパ 6 を作製する方法をとることもできる。

また、上述した実施形態においては、原盤 4を作製して、これを用いてスタンパ 6 の作製を行った場合であるが、図 1で示した原盤 4の手順で、いわば、原盤自体をもって直接的にスタンパ 6 とするとか、あるいはスタンパ 6 を形成する、マスタスタンパもしくはマザースタンパとすることもできる。これらの場合においては、適宜上述した凹凸 3 、あるいはこの凹凸が反転した凹凸 1 3 が形成されるように、フォトレジスト層 2 に対する露光パ夕一ンの選定がなされる。

上述したように、本発明においては、酸素イオン照射による第

2 のエッチングを行うことに特徵を有するものであり、この酸素イオンエッチングによって凹凸がすぐれた表面性と形状性をもつて形成される。

これは次のような現象によって生じると考えられる。すなわち、この酸素イオンによるスノ、 °ッ夕のエッチングレ一卜は、図 3 A に示すように、酸素イオン入射角に依存し、入射角 4 5 ° でエツチングレー卜が最大を示す。

したがって、今、図 3 Bに示すように、破線図示の断面形状が直方形状の初期形状を有する例えば S i 0 ₂ に対して酸素イオンエッチングを行う場合についてみると、このエッチングは、上面からエッチングが進行し、ほぼ上面に平行な面 aが形成されるが、尖鋭な肩部においては、側面においてもエッチングが進行し、 4 5 ° のエッチングレ一卜が最大であることから、ほぼ 4 5 ° の斜面 bが発生する。しかしながら、凹凸の凹部の急峻な側壁面 c においては、酸素イオンの衝突がなされにくいことから、殆どェッチングが進行しない。

図 3 Aにおける各 a〜 c は、図 3 Bにおける各面 a〜 cに対応したエッチングレートを指示したものである。

このことから、図 6で説明したサブ卜レンチの肩部および尖鋭底部において酸素イオン照射によるエッチングが良好になされ、このサブ卜レンチは消失して滑らかな角部（コーナ一部）が形成され、また粗面においても同様にエツチングがなされて表面性が改善されるものである。

次に、この酸素イオンエツチングについて実施例を挙げて説明する。

〔実施例 1〕

直径 2 0 O mm、厚さ 6 mmの石英基板に、フォ卜レジスト（ G X 2 5 0 E S L : J S R) 層を、厚さ l O O n mをもって塗布し、対物レンズ N. A. 0. 9、波長 4 1 3の K r レーザ光によつてパターン露光し、現像して所要のパターンとする。

このフォ卜レジスト層をエッチングマスクとして、基板 1表面から、 C F ₄ ガスを用いたドライエッチングによる第 1のエッチングを行って、凹部、この場合においては、トラッキング案内溝に対応するグループを形成した o

その後、アツシングによってフォトレジスト層を除去し、グル —ブが形成された基板 1を、ィンダクティブスーパ一マグネトロン方式によるドライエッチング装置（N E 7 3 0 ：日本真空技術）内に挿入し、酸素イオンエッチングを行った。このときのエッチング時間経過に伴う基板 1の凹凸の平坦上端面における表面粗さ（ r m s ： 2乗平均）の測定結果を図 4に示す。

この表面粗さの測定は、 A F M (原子間力顕微鏡）によって測定したもので、基板 1 の表面で、それぞれタンジヱンシャル方向 1 m、ラディアル方向 3 0 0 n m範囲の 1 0箇所測定し r m s 値を得た。

この場合、初期粗さ 0 . 4 8 n mが、 0 . 3 n m以下、すなわち 1 2 0 0秒（ 2 0分）後には 0 . 2 8 n mとなり、 3 6 0 0秒 ( 6 0分）後には 0 . 2 2 n mに減少した。

また、グループ内においても同様の傾向を示し、初期の r m s 値は 0 . 5 1 n mであったが、酸素プラズマエッチングによって 0 . 3 n m以下、すなわち 2 0分間の酸素プラズマェッチング後には、 r m s値力、' 0 . 2 4 n mに低下した。

このようにして形成した原盤から、図 2 で説明した N i スタンパを作製し、このス夕ンパを用いて射出成形によってディスク厚さ 0 . 5 m mの、ポリカーボネート（ P C ) 樹脂によるディスク基板を作製し、この上になんらの成膜を行うことなく、再生評価装置によってディスクノイズの評価を行った。

この実施例 1 における凹凸に対する酸素イオンエッチング条件、グループの配置パターン、再生評価装置系を次に示す。

酸素ィオンエツチング条件：

アンテナパワー 2 0 0 W

ノ、ィァスパヮ一 2 0 W

酸素流 2 5 s c c m

圧力 1 . 0 P a

基板冷却温度 2 0 。C

グルーブ配置バタ一ン：

グル一ブピッチ 0 . 7 6 ^ m

グノレ一ブデューティ 5 0 %

グルーブ深さ 3 5 n m

再生評価系：レーザ波長 4 0 3 n m

レーザパワー 2. 5 m W

光学系の開口数 N A 0. 6 0

線速 4 mZ秒

積算周波数 5 0 0 H z 1 0 M H z このときの、表面粗さとディスクノィズは、次のように測定された。

すなわち、酸素イオンエッチング前の初期において、ランド部 (グループ間の表面）における表面粗さ r m s力 0. 4 8 n m 、ディスクノイズが一 6 8. 2 d Bと測定され、グループにおける表面粗さ r m s 力、 0. 5 1 n m、ディスクノィズが— 6 3. 7 d B と測定された。

このディスクに対して上記条件による酸素プラズマエッチングを 2 0分間行った第 2 のエッチング後では、ランド部における表面粗さ r m s 力'、 0. 2 8 n m、ディスクノイズが— 7 8. 4 d B と測定され、グループにおける表面粗さ r m sが、 0. 2 4 n m、ディスクノイズが— 8 1. 5 d B となり、表面粗さおよびデイスクノィズが大きく改善されることが確認された。

〔実施例 2〕

実施例 1 と同様の石英基板にフォトレジス卜を 1 O O n mの厚さに塗布し、 N. A. 0. 9 、波長 4 1 3の K r レーザを用いてパ夕一ン露光し、現像処理を行つてフォトレジストバタ一ンを形成した。

このフォトレジスト層をエッチングマスクとして、基板の表面を C F ₄ によってドライエッチングして、実施例 1 と同様の凹凸としてのグループを形成した。

その後、フォトレジスト層を有機レジス卜除去剤（東京応化：剝離液 1 0 5 ) によつて除去した。

その後、実施例 1 と同様のドライエッチング装置によって、酸素イオンエッチングを行った。このエッチング条件は、

アンテナパワー 3 0 0 W

バイアスパヮ― 1 0 W

酸素流量 5 0 s c c m

圧力 1 . 0 P a

基板冷却温度 1 5 。C

とし、この酸素イオンエッチングを行った。

このようにして形成したスタンパを用いて実施例 1 と同様に、射出成形によってディスク厚さ 0 . 5 m mの、ポリカーボネート ( P C ) 樹脂によるディスク基板を作製した。

この実施例 2 における原盤の、酸素ィオンエツチングを 5分行つた場合と、 2 5分行った場合のグループの形状変化、すなわちグループの上端側、底部側の各側面の傾斜角、グルーブデュ一ティ、サブトレンチの高さの各測定結果を表 1に示す。

[表 1】

上述したように、本発明方法によって作製した原盤は、凹凸の形状性の改善が図られる。上述したように、本発明によれば、特性に優れた原盤、スタンパが作製されることから、これによつて作製する本発明によるデイスクは、ディスクノイズの改善が図られる。これは、スタンパにおける凹凸、上述した例ではグループおよびランドの各側面、底面、上面の表面性が改善され、またグループおよびランドの各エッジ、サブトレンチの排除によるなめらかな屈曲が形成されることにより特性改善がなされるものである。

また、このようにして、ディスクノイズの改善されたディスク上に、図 2 で説明した反射膜の形成による情報記録層 8、あるいは色素層、光磁気記録層、相変化材料層、誘電体層、反射膜等を成膜して情報記録層 8 や、保護膜 9等の形成を行って、光記録媒体 1 0 を作製する。このようにして作製した光記録媒体 1 0 は、記録、ないしは再生特性のすぐれ、ひいては歩留りの改善が図られ。

このようにして作製した光記録媒体 1 0 は、その保護膜 9が、例えば 1 0 0 mの光透過性層に形成され、この保護膜 9側から青紫色光の例えばレーザ光照射がなされて記録再生がなされる。上述した例では、ディスクを作製した場合であるが、カード、その他、各種記録媒体に本発明を適用して同様の効果を奏することができることはいうまでもない。

上述したように、本発明による凹凸を有する光記録媒体作製用を得るための原盤の作製において、通常における反応イオンエツチングによるドライエッチングに加えて酸素イオンエッチングを行うのみで、形状性、表面性にすぐれた原盤を作製することがでさ O

また、本発明による光記録媒体の製造方法は、上述した本発明方法による光記録媒体作製用ス夕ンパ、あるいはこのスタンパを得るための原盤の製造方法を経て光記録媒体を製造することから、記録、ないしは再生特性にすぐれた光記録媒体を製造することができる。したがって、歩留りの向上が図られ、量産性の向上が図られるという工業的に大きな効果を奏するものである。

Claims

請求の範囲

1 . 凹凸を有する光記録媒体作製用原盤の製造方法にあって、基板表面に、上記凹凸に対応する微細パターンによるフォトレジス卜層を形成する工程と、

該フォトレジスト層をマスクとして、上記基板表面に反応性イオンエッチングによって凹凸を形成する第 1のエッチングェ程と、

該第 1 のエッチング工程後に、上記基板に対し酸素イオンェツチングを行う第 2のエッチング工程とを有することを特徴とする凹凸を有する光記録媒体作製用原盤の製造方法。

2 . 上記第 2 のエツチング工程により、上記基板の表面粗さを r m s ( root mean square：自乗平均）で 0 . 3 n m以にすることを特徴とする請求の範囲第 1項に記載の凹凸を有する光記録媒体作製用原盤の製造方法。

3 . 上記基板が、石英基板であることを特徴とする請求の範囲第

1項または第 2項に記載の凹凸を有する光記録媒体作製用原盤の製造方法。

4 . 凹凸を有する光記録媒体作製用スタンパの製造方法にあって基板表面に、上記凹凸に対応する微細パターンによるフォトレジス卜層を形成する工程と、

該第 1 のエツチング工程後に、上記基板に対し酸素イオンェツチングを行う第 2のエッチング工程とを経て原盤を作製し、該原盤の凹凸を 1回以上転写して光記録媒体作製用スタンパを作製することを特徴とする凹凸を有する光記録媒体作製用ス夕ンパの製造方法。

. 凹凸を有する光記録媒体の製造方法にあって、

基板表面に、上記凹凸に対応する微細パターンによるフォ卜レジス卜層を形成する工程と、

該フォトレジス卜層をマスクとして、上記基板表面に反応性イオンエッチングによって凹凸を形成する第 1のエツチングェ程と、 '

該第 1 のエツチング工程後に、上記基板に対し酸素ィォンェツチングを行う第 2 のエッチング工程とを経て光記録媒体作製用の原盤を作製する工程と、

この原盤の 1回以上の転写によるスタンパを作製する工程と該スタンパによって、凹凸を有する光記録媒体基板を成形する工程と、

該光記録媒体基板の上記凹凸を有する面に情報記録層を成膜する工程とを有することを特徵とする凹凸を有する光記録媒体の製造方法。