JPH05282713A - 情報記録基板の製造方法 - Google Patents
情報記録基板の製造方法Info
- Publication number
- JPH05282713A JPH05282713A JP4105719A JP10571992A JPH05282713A JP H05282713 A JPH05282713 A JP H05282713A JP 4105719 A JP4105719 A JP 4105719A JP 10571992 A JP10571992 A JP 10571992A JP H05282713 A JPH05282713 A JP H05282713A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- etching
- resist
- glass substrate
- substrate
- information recording
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 壁面がテーパー状のピットを有する情報記録
基板の製造方法を提供するものである。 【構成】 ガラス基板（１）上に情報に応じたレジスト
パターン（２）を形成し、レジストパターンをマスクと
して酸素を含むプラズマガス（エッチングガス）中でガ
ラス基板をエッチングする。ガラス基板とともにレジス
トパターン自体もエッチングされて、壁面がテーパー状
のピット（３）がガラス基板に形成される。 酸素濃度
が高くなるにつれて、レジスト（パターン）のエッチン
グレートが大きくなり、テーパーが付いていく。
基板の製造方法を提供するものである。 【構成】 ガラス基板（１）上に情報に応じたレジスト
パターン（２）を形成し、レジストパターンをマスクと
して酸素を含むプラズマガス（エッチングガス）中でガ
ラス基板をエッチングする。ガラス基板とともにレジス
トパターン自体もエッチングされて、壁面がテーパー状
のピット（３）がガラス基板に形成される。 酸素濃度
が高くなるにつれて、レジスト（パターン）のエッチン
グレートが大きくなり、テーパーが付いていく。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は情報記録基板の製造方法
に係り、特に、例えばオーディオ用またはビデオ用ディ
スクといった光ディスク及びその複製用原盤の製造方法
に関するものである。
に係り、特に、例えばオーディオ用またはビデオ用ディ
スクといった光ディスク及びその複製用原盤の製造方法
に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】光ディスクの再生において、その（凹凸
の）ピット形状は再生信号の特性に影響する。例えば、
ＣＤ（コンパクト・ディスク）やＬＤ（レーザ・ディス
ク）のような再生専用光ディスクの場合、信号の変調度
は再生レーザーの波長をλとすると、ピットの深さをλ
／４としたときに最大となる。また、トラッキングエラ
ー信号はピットの深さをλ／８としたときに最大とな
る。信号（変調度）とトラッキングエラー信号とは、一
方が極大の時、他方が極小となるような関係にある。
実際には両信号とも高いレベルで必要なため、ピットの
壁面（側面）にテーパーを付けるという工夫がされてい
る。このような事情は記録再生ディスクでも同じで、ト
ラッキングエラー信号を大きく得るために案内溝にテー
パーを付けている。
の）ピット形状は再生信号の特性に影響する。例えば、
ＣＤ（コンパクト・ディスク）やＬＤ（レーザ・ディス
ク）のような再生専用光ディスクの場合、信号の変調度
は再生レーザーの波長をλとすると、ピットの深さをλ
／４としたときに最大となる。また、トラッキングエラ
ー信号はピットの深さをλ／８としたときに最大とな
る。信号（変調度）とトラッキングエラー信号とは、一
方が極大の時、他方が極小となるような関係にある。
実際には両信号とも高いレベルで必要なため、ピットの
壁面（側面）にテーパーを付けるという工夫がされてい
る。このような事情は記録再生ディスクでも同じで、ト
ラッキングエラー信号を大きく得るために案内溝にテー
パーを付けている。
【０００３】ところで、光ディスク及びその複製用原盤
をガラス基板で作成することは広く行われている。この
場合、ピットや案内溝の壁面（断面形状）は垂直に切立
ったものになりがちである。これらのピットや案内溝は
ドライエッチングにより形成されるがここにテーパーを
付ける手法が幾つか提案されている。特開昭62-60146号
公報には、基板を10〜80度の角度で平行平板型ドライエ
ッチング装置に装着して、エッチングする方法が開示記
載されている。このように構成すると、基板に対するイ
オンの入射角度が斜めとなりテーパーが付く。テーパー
角は基板の角度によって決まるので制御しやすいが、装
置が大掛かりになり、また放電のマッチングがとりにく
いという欠点がある。さらに、特開昭62-66445号公報に
は、マスクとなっているレジストパターンをレジストの
熱変形温度以下でポストベークし、レジストを丸みの帯
びた形状に変形させ、エッチングする方法が開示記載さ
れている。この方法は、工程が極めて簡単ですむと言う
利点がある反面、テーパー角の再現性が極めて難しいと
いう欠点がある。また、パターンの大小によりテーパー
角が変わる、近接するパターンの影響を受けるなどの欠
点もある。
をガラス基板で作成することは広く行われている。この
場合、ピットや案内溝の壁面（断面形状）は垂直に切立
ったものになりがちである。これらのピットや案内溝は
ドライエッチングにより形成されるがここにテーパーを
付ける手法が幾つか提案されている。特開昭62-60146号
公報には、基板を10〜80度の角度で平行平板型ドライエ
ッチング装置に装着して、エッチングする方法が開示記
載されている。このように構成すると、基板に対するイ
オンの入射角度が斜めとなりテーパーが付く。テーパー
角は基板の角度によって決まるので制御しやすいが、装
置が大掛かりになり、また放電のマッチングがとりにく
いという欠点がある。さらに、特開昭62-66445号公報に
は、マスクとなっているレジストパターンをレジストの
熱変形温度以下でポストベークし、レジストを丸みの帯
びた形状に変形させ、エッチングする方法が開示記載さ
れている。この方法は、工程が極めて簡単ですむと言う
利点がある反面、テーパー角の再現性が極めて難しいと
いう欠点がある。また、パターンの大小によりテーパー
角が変わる、近接するパターンの影響を受けるなどの欠
点もある。
【０００４】これらの欠点を克服するためには、平行平
板型ドライエッチング装置を用い、イオンを垂直に入射
させ、ガラスエッチングと同時にレジストもエッチング
する方法がある。特開昭61-26952号公報はこのような観
点から提案されたものである。この方法では、ソーダラ
イムガラス（青板ガラス）をＣＦ4 ガスプラズマでエッ
チングすると、レジストもほぼ同速度でエッチングされ
るので、レジストが徐々に後退し、ピットに４５度のテ
ーパーが付くとされている。さらに、「Dry Process Sy
mposium 」1986年 予稿集 p53にもこれと同様の報告が
ある。これは、ソーダライムガラスのエッチングでＣＨ
Ｆ3 とＡｒガスの混合でテーパー角を制御するものであ
る。
板型ドライエッチング装置を用い、イオンを垂直に入射
させ、ガラスエッチングと同時にレジストもエッチング
する方法がある。特開昭61-26952号公報はこのような観
点から提案されたものである。この方法では、ソーダラ
イムガラス（青板ガラス）をＣＦ4 ガスプラズマでエッ
チングすると、レジストもほぼ同速度でエッチングされ
るので、レジストが徐々に後退し、ピットに４５度のテ
ーパーが付くとされている。さらに、「Dry Process Sy
mposium 」1986年 予稿集 p53にもこれと同様の報告が
ある。これは、ソーダライムガラスのエッチングでＣＨ
Ｆ3 とＡｒガスの混合でテーパー角を制御するものであ
る。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかし、これらの方法
ではガラスの材質とエッチングガスの種類、及びエッチ
ング条件という複数のパラメータの制御によりテーパー
角が決ってくる。例えば、ガラスの材質をソーダライム
から石英に変更すると、ガラスのエッチングレートが上
り、相対的にレジストの後退が遅くなるため、テーパー
がほとんど付かなくなる。すなわち、前述の方法では使
用できる材料が限定されてしまうという問題が残ってい
た。
ではガラスの材質とエッチングガスの種類、及びエッチ
ング条件という複数のパラメータの制御によりテーパー
角が決ってくる。例えば、ガラスの材質をソーダライム
から石英に変更すると、ガラスのエッチングレートが上
り、相対的にレジストの後退が遅くなるため、テーパー
がほとんど付かなくなる。すなわち、前述の方法では使
用できる材料が限定されてしまうという問題が残ってい
た。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明は上記課題を解決
するために、ガラス基板１上に情報に応じたレジストパ
ターン２を形成し、前記レジストパターンをマスクとし
て酸素を含むプラズマガス中で前記ガラス基板をエッチ
ングして、前記ガラス基板に前記レジストパターンに応
じ、かつ、壁面がテーパー状のピット３（テーパー角
α）を形成したことを特徴とする情報記録基板の製造方
法を提供するものである。
するために、ガラス基板１上に情報に応じたレジストパ
ターン２を形成し、前記レジストパターンをマスクとし
て酸素を含むプラズマガス中で前記ガラス基板をエッチ
ングして、前記ガラス基板に前記レジストパターンに応
じ、かつ、壁面がテーパー状のピット３（テーパー角
α）を形成したことを特徴とする情報記録基板の製造方
法を提供するものである。
【０００７】
【作用】上記した情報記録基板の製造方法によれば、酸
素のプラズマがレジストをエッチングするため、積極的
なテーパーエッチングができる。酸素の添加量の増減に
より、テーパー角が変わる。
素のプラズマがレジストをエッチングするため、積極的
なテーパーエッチングができる。酸素の添加量の増減に
より、テーパー角が変わる。
【０００８】
【実施例】本発明になる情報記録基板の製造方法の一実
施例を以下図面と共に詳述する。本実施例では、エッチ
ングガスとしてはＣＨＦ3 ガスを用い、基板としては石
英ガラス（石英）をエッチングする例で説明する。
施例を以下図面と共に詳述する。本実施例では、エッチ
ングガスとしてはＣＨＦ3 ガスを用い、基板としては石
英ガラス（石英）をエッチングする例で説明する。
【０００９】（酸素の添加量とエッチングレート）平行
平板型エッチング装置を用い、 2×10-2torr、ＲＦ電力
200wの条件下で石英及びレジストをエッチングした。レ
ジストはヘキスト・ジャパン社のＡＺ５２０６Ｅ、ガス
はＣＨＦ3 とＯ2 の各流量を調整して酸素濃度を変えて
エッチングした。
平板型エッチング装置を用い、 2×10-2torr、ＲＦ電力
200wの条件下で石英及びレジストをエッチングした。レ
ジストはヘキスト・ジャパン社のＡＺ５２０６Ｅ、ガス
はＣＨＦ3 とＯ2 の各流量を調整して酸素濃度を変えて
エッチングした。
【００１０】図１は、エッチングガス中の酸素濃度とエ
ッチングレートとの関係を示す実験結果である。同図か
ら明らかなように、石英のエッチングレートは酸素の添
加量が増すと少し減少する程度だが、レジストのエッチ
ングレートは酸素の添加量と共に急激に増加している。
レジストは、一般的に炭素，水素，酸素，窒素などから
構成されており、これらがエッチングガス中の酸素と反
応して、二酸化炭素，水，二酸化窒素が生成されてガス
として排気され、レジストエッチングが進む。さらに、
両材料のエッチングレート（選択比）を次式のよう定義
すると、酸素の添加と共に急激に選択比は減少してい
く。
ッチングレートとの関係を示す実験結果である。同図か
ら明らかなように、石英のエッチングレートは酸素の添
加量が増すと少し減少する程度だが、レジストのエッチ
ングレートは酸素の添加量と共に急激に増加している。
レジストは、一般的に炭素，水素，酸素，窒素などから
構成されており、これらがエッチングガス中の酸素と反
応して、二酸化炭素，水，二酸化窒素が生成されてガス
として排気され、レジストエッチングが進む。さらに、
両材料のエッチングレート（選択比）を次式のよう定義
すると、酸素の添加と共に急激に選択比は減少してい
く。
【００１１】
【数１】
【００１２】（酸素の添加量とテーパー角α）前記実験
結果をふまえ、石英製のＣＤガラススタンパー（基板）
を種々の酸素濃度でエッチング作成した。石英製の基板
１上に情報に応じたレジストパターン２を、例えば周知
のフォトレジストの手法で形成し（図２のＡ）、このレ
ジストパターン２をマスクとして酸素を含むプラズマガ
ス中で基板１をエッチングした。エッチングは平行平板
型エッチング装置を用いて、 2×10-2torr，ＲＦ電力20
0wの条件下で、レジストはヘキスト・ジャパン社のＡＺ
５２０６Ｅ、エッチングガスはＣＨＦ3 とＯ2 の各流量
を調整した混合ガスとした。なお、レジストの厚さは26
00オングストローム、エッチングの深さは1150オングス
トロームと一定とした。
結果をふまえ、石英製のＣＤガラススタンパー（基板）
を種々の酸素濃度でエッチング作成した。石英製の基板
１上に情報に応じたレジストパターン２を、例えば周知
のフォトレジストの手法で形成し（図２のＡ）、このレ
ジストパターン２をマスクとして酸素を含むプラズマガ
ス中で基板１をエッチングした。エッチングは平行平板
型エッチング装置を用いて、 2×10-2torr，ＲＦ電力20
0wの条件下で、レジストはヘキスト・ジャパン社のＡＺ
５２０６Ｅ、エッチングガスはＣＨＦ3 とＯ2 の各流量
を調整した混合ガスとした。なお、レジストの厚さは26
00オングストローム、エッチングの深さは1150オングス
トロームと一定とした。
【００１３】上述したように、基板１だけでなくレジス
トパターン２自体も徐々にエッチングされ（図２の
Ｂ）、基板１にレジストパターン２に応じ、かつ、壁面
がテーパー状（テーパー角α）のピット３が形成された
（図２のＣ）。この作成した基板（ガラススタンパー）
のテーパー角αを測定した。さらに、このガラススタン
パー（複製用の原盤）をからディスクを成型し、マグニ
チュードを測定した。測定結果を表１に示す。
トパターン２自体も徐々にエッチングされ（図２の
Ｂ）、基板１にレジストパターン２に応じ、かつ、壁面
がテーパー状（テーパー角α）のピット３が形成された
（図２のＣ）。この作成した基板（ガラススタンパー）
のテーパー角αを測定した。さらに、このガラススタン
パー（複製用の原盤）をからディスクを成型し、マグニ
チュードを測定した。測定結果を表１に示す。
【００１４】
【表１】
【００１５】測定結果から明らかなように、酸素濃度の
上昇と共に、テーパーが付いていくのが分かる。また、
これに対応してトラッキングエラー信号が増大し、マグ
ニチュードが大きくなった。酸素濃度が20パーセントで
はマグニチュードがＣＤ（コンパクトディスク）の規格
（マグニチュード＞0.04）に入り、十分なトラッキング
・エラー信号が得られた。
上昇と共に、テーパーが付いていくのが分かる。また、
これに対応してトラッキングエラー信号が増大し、マグ
ニチュードが大きくなった。酸素濃度が20パーセントで
はマグニチュードがＣＤ（コンパクトディスク）の規格
（マグニチュード＞0.04）に入り、十分なトラッキング
・エラー信号が得られた。
【００１６】なお、本発明は上記実施例に示したＣＨＦ
3 とＯ2 とのエッチングガスに限定されるものではな
い。エッチングガスは、ＣＨＦ3 以外にＣＨＦ4 ，Ｃ2
Ｆ6 ，Ｃ3 Ｆ8 ，ＮＦ3 ，ＳＦ6 などでも良く、酸素を
含む混合ガスあれば良い。また、基板をガラススタンパ
ー（複製用の原盤）とすることなく、そのまま情報記録
担体としても良い。
3 とＯ2 とのエッチングガスに限定されるものではな
い。エッチングガスは、ＣＨＦ3 以外にＣＨＦ4 ，Ｃ2
Ｆ6 ，Ｃ3 Ｆ8 ，ＮＦ3 ，ＳＦ6 などでも良く、酸素を
含む混合ガスあれば良い。また、基板をガラススタンパ
ー（複製用の原盤）とすることなく、そのまま情報記録
担体としても良い。
【００１７】
【発明の効果】以上説明したように、本発明になる情報
記録基板の製造方法は、レジストパターンをマスクとし
て酸素を含むプラズマガス中でガラス基板をエッチング
するので、レジストパターン自体も徐々にエッチングさ
れることとなり、ピットにテーパーを自由に形成でき
る。特に、石英基板のようなエッチングレートの速いガ
ラス材に対しても、酸素濃度の調整でテーパーエッチン
グを行える。この結果、光ディスクのトラッキング性能
を良好にすることができ、より高密度光ディスクも作成
可能となる。
記録基板の製造方法は、レジストパターンをマスクとし
て酸素を含むプラズマガス中でガラス基板をエッチング
するので、レジストパターン自体も徐々にエッチングさ
れることとなり、ピットにテーパーを自由に形成でき
る。特に、石英基板のようなエッチングレートの速いガ
ラス材に対しても、酸素濃度の調整でテーパーエッチン
グを行える。この結果、光ディスクのトラッキング性能
を良好にすることができ、より高密度光ディスクも作成
可能となる。
【図１】本発明になる情報記録基板の製造方法の一実施
例を示すで、エッチングガスの酸素濃度とエッチングレ
ート（比）の関係を示す図である。
例を示すで、エッチングガスの酸素濃度とエッチングレ
ート（比）の関係を示す図である。
【図２】本発明になる情報記録基板の製造方法の一実施
例を示す工程図である。
例を示す工程図である。
１ ガラス製基板 ２ レジストパターン ３ ピット（凹凸） α テーパー角
Claims (1)
- 【請求項１】ガラス基板上に情報に応じたレジストパタ
ーンを形成し、前記レジストパターンをマスクとして酸
素を含むプラズマガス中で前記ガラス基板をエッチング
して、前記ガラス基板に前記レジストパターンに応じ、
かつ、壁面がテーパー状のピットを形成したことを特徴
とする情報記録基板の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4105719A JPH05282713A (ja) | 1992-03-31 | 1992-03-31 | 情報記録基板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4105719A JPH05282713A (ja) | 1992-03-31 | 1992-03-31 | 情報記録基板の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05282713A true JPH05282713A (ja) | 1993-10-29 |
Family
ID=14415143
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4105719A Pending JPH05282713A (ja) | 1992-03-31 | 1992-03-31 | 情報記録基板の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05282713A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2002067253A1 (fr) * | 2001-02-21 | 2002-08-29 | Sony Corporation | Procede de production de l'original d'un support d'enregistrement optique |
| WO2002101738A1 (fr) * | 2001-06-11 | 2002-12-19 | Sony Corporation | Procede de fabrication d'un disque-maitre destine a la fabrication de support d'enregistrement optique presentant des depressions regulieres et des saillies, matrice de pressage et support d'enregistrement optique |
| JP2003066234A (ja) * | 2001-08-30 | 2003-03-05 | Sharp Corp | スタンパおよびその製造方法並びに光学素子 |
| JP2009135188A (ja) * | 2007-11-29 | 2009-06-18 | Sony Corp | 光センサーおよび表示装置 |
-
1992
- 1992-03-31 JP JP4105719A patent/JPH05282713A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2002067253A1 (fr) * | 2001-02-21 | 2002-08-29 | Sony Corporation | Procede de production de l'original d'un support d'enregistrement optique |
| WO2002101738A1 (fr) * | 2001-06-11 | 2002-12-19 | Sony Corporation | Procede de fabrication d'un disque-maitre destine a la fabrication de support d'enregistrement optique presentant des depressions regulieres et des saillies, matrice de pressage et support d'enregistrement optique |
| JP2003066234A (ja) * | 2001-08-30 | 2003-03-05 | Sharp Corp | スタンパおよびその製造方法並びに光学素子 |
| JP2009135188A (ja) * | 2007-11-29 | 2009-06-18 | Sony Corp | 光センサーおよび表示装置 |
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