WO2000008233A1 - Accessoire possedant un revetement colore et son procede de fabrication - Google Patents

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WO2000008233A1
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Takeshi Araki
Takeshi Inoue
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Definitions

  • a nitride paper formed by a dry plating method such as an ion plating method as an outermost layer on a base material made of a copper alloy or zinc.
  • the present invention relates to an accessory having a colored film such as a coating and a method for manufacturing the same.
  • Japanese Patent Publication No. 6-29353 describes a nickel layer having a thickness of 1 to 10 m formed by an electric plating method as a base layer on the surface of a jewelry made of a copper alloy, and an electric layer on the nickel layer.
  • an ornament which has a colored surface and has a colored coating layer of titanium or the like. Since this accessory does not require a thick nickel layer, it does not cause blurring or sagging of the pattern due to the thick plating, provides a high-grade appearance, and is excellent in corrosion resistance.
  • this accessory does not require a thick nickel layer, it does not cause blurring or sagging of the pattern due to the thick plating, provides a high-grade appearance, and is excellent in corrosion resistance.
  • palladium layer or a palladium-nickel layer and the price of palladium (Pd), a constituent component of these layers, has recently risen, leading to a manufacturing problem. Costs are becoming very high. By the way, the price of palladium was around 500 yen Zg in 1997, but it has risend to 140 yen Zg at present (1998).
  • ammonia gas generated during the electric plating performed to form the palladium-nickel layer adversely affects the other cyan plating (Au-Ag plating of 14K arat and 18K arat). It is easy to give, and because it easily absorbs hydrogen, cracks may occur, and the adhesion to the colored coating layer may be reduced or the durability (corrosion resistance) may be reduced.
  • Japanese Patent Application Laid-Open No. H04-30486 pertaining to the present applicant discloses that a base material made of a low melting point material such as brass, nickel silver, zinc die cast, etc. is used as an underlayer by a wet plating method.
  • a nickel layer formed, a nickel-lin alloy layer formed immediately above the nickel layer by an electric plating method, and a dry plating film layer formed on the nickel-lin alloy layer by a dry plating method (A colored coating layer) is disclosed.
  • This metal member has a very small amount of ammonia gas generated by electric plating performed to form a nickel-lin alloy layer.
  • Example 1 described in Japanese Patent Application Laid-Open No. Since the nickel-lin alloy alloy layer having a nickel content of about 10% is formed, the durability is excellent and there is no practical problem. Although not described in Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 4-304386, the nickel-lin alloy layer of Example 1 was made of nickel sulfate of 50 g Z1 in terms of nickel atoms and nickel atoms in terms of nickel atoms.
  • the present inventors have conducted intensive studies to obtain a high-grade jewelry having higher corrosion resistance than the jewelry or metal member disclosed in the above publication without using expensive palladium.
  • the accessory manufactured as described in (1) or (2) above has a nickel-lin alloy plated coating layer of amorphus having a phosphorus content of 11 to 16% by weight, and is disclosed in the above publication.
  • the present inventors have found that they have much better corrosion resistance than existing accessories or metal members, and have completed the present invention.
  • a nickel plating coating layer with a thickness of 1 to 5 m is formed on the surface of the ornamental base material made of copper alloy or zinc by the electric plating method, or a nickel plating coating layer with a thickness of 10 to 15 xm is formed by the electric plating method.
  • a nickel plating coating layer having a thickness of 1 to 10 m is formed on the surface of the copper plating coating layer by an electric plating method, and then the nickel plating coating layer is formed on the surface of the nickel plating coating layer.
  • an acidic plating solution with a pH of 3.0 to 3.5 containing 30 g of Z 1 a bath temperature of 50 to 60 ° C, and a current density (D k) of 1 to 3 AZ dm Electric plating was performed under the conditions of 2 to form an amorphous nickel-lin alloy plating coating layer (phosphorus content: 11 to 16% by weight) with a thickness of 3 to 10 m.
  • a nickel plating coating layer having a thickness of 1 to 1 O ⁇ m is formed on the surface of a decorative material base material made of a copper alloy or zinc by an electric plating method, or a thickness of 10 to 15 by an electric plating method.
  • a nickel plating film layer having a thickness of 1 to 10 m is formed on the surface of the copper plating film layer by an electric plating method, and then, the nickel plating film surface is converted to nickel atoms.
  • nickel salts such as nickel sulfate 1 to 151, sodium hypophosphite (reducing agent) 5 to 30 g / 1 in terms of phosphorus atom, complexing agent, buffer and pH adjuster.
  • a nickel-lin alloy plating film layer (phosphorus content: 11 to 16% by weight); An accessory obtained by forming a colored coating layer having a thickness of 0.1 to 2 / im on the surface of the nickel-lin alloy plated coating layer by a dry plating method.
  • An object of the present invention is to provide an inexpensive accessory having more excellent corrosion resistance than an accessory or a metal member disclosed in the above-mentioned publication without using expensive palladium, and a method of manufacturing the same. I have. Disclosure of the invention
  • a base material for jewelry made of copper alloy or zinc
  • At least one colored coating layer formed by a dry plating method on the surface of the nickel-lin alloy plating layer.
  • Embodiments of the accessory having a colored film according to the present invention include:
  • An accessory that has a colored coating formed on the surface by dry plating.
  • a base material for jewelry made of copper alloy or zinc
  • the surface of the nickel plating layer is coated with nickel sulfate in terms of nickel atoms.
  • At least one colored coating layer formed by a dry plating method on the surface of the nickel-phosphorus alloy plating coating layer
  • an accessory having a colored coating, wherein the colored coating is characterized by having a phosphorus content in the nickel-lin alloy plating layer of 11 to 16% by weight.
  • the nickel-lin alloy plating film layer is formed using the above plating solution, the pH of the plating solution is 3.0 to 3.5, the bath temperature is 50 to 60 ° C, and the current density (D k) is!
  • the complexing agent is at least one selected from citric acid, tartaric acid, malonic acid, lingic acid, glycine, dalconic acid and salts thereof. Further, as another aspect (a second mode) of the accessory having a colored film according to the present invention,
  • An accessory that has a colored coating formed on the surface by dry plating.
  • a base material for jewelry made of copper alloy or zinc
  • nickel salt 1 to 151 in Niger atom conversion, sodium hypophosphite (reducing agent) 5 to 30 g Zl in Lin atom conversion, complexing agent, buffering agent and Amorphous nickel formed by performing electroless plating with a plating solution containing a pH adjuster, or performing electroplating in the plating solution and then performing electroless plating in the plating solution.
  • At least one colored coating layer formed by a dry plating method on the surface of the nickel-phosphorus alloy plating coating layer
  • an accessory having a colored coating, wherein the colored coating is characterized by having a phosphorus content in the nickel-lin alloy plating layer of 11 to 16% by weight.
  • the pH of the electroless plating or the plating solution used in the electric plating and the electroless plating is 3.0 to 4.5, and the bath temperature is 50 to 95 ° C.
  • the colored coating layer includes a metal coating layer, a metal nitride coating layer, a metal carbide coating layer, a metal oxide coating layer, a metal carbonitride coating layer, a metal oxynitride coating layer, and a metal acid. At least one layer selected from a carbide coating layer and a metal oxycarbonitride coating layer.
  • the accessory having a colored film according to the present invention is characterized in that:
  • the thickness of the coating layer is 1 to 10 m
  • the thickness of the nickel-phosphorus alloy coating layer is 3 to 10 im
  • the thickness of the colored coating layer (the thickness of the entire colored coating layer). Is 0.1 to 2 ⁇ m.
  • the method for producing an ornament having a colored film according to the first aspect of the present invention is a method for producing an ornament having a colored film formed on a surface thereof by a dry plating method
  • a nickel plating film layer is formed on the surface of the ornamental base material made of a copper alloy or zinc by an electric plating method, or a copper plating film layer is formed by an electric plating method, and then the electric plating is applied to the copper plating film surface.
  • a nickel plating layer is formed by the method
  • At least one colored coating layer is formed on the surface of the nickel-alloy alloy plating coating layer by a dry plating method.
  • the bath temperature of the plating solution for forming the nickel-phosphorus alloy plating film layer is 50 to 60 ° C., and the current density (D k) is; ⁇ 3 AZdm 2 .
  • the complexing agent is at least one selected from citric acid, tartaric acid, malonic acid, lingic acid, glycine, dalconic acid and salts thereof.
  • a nickel plating film layer is formed on the surface of the ornamental base material made of a copper alloy or zinc by an electric plating method, or a copper plating film layer is formed by an electric plating method, and then the electric plating is applied to the copper plating film surface.
  • a nickel plating layer is formed by the method
  • At least one colored coating layer is formed on the surface of the nickel-phosphorus alloy plating film layer by a dry plating method.
  • the nickel-phosphorus alloy plating film is formed by using the plating solution, H 3.0 to 4.5, bath temperature 85 to 95 ° C, formed by electroless plating, or using the above plating solution, pH 3.0 to 4.5, bath temperature After performing electroplating under the conditions of 50 to 95 ° C, current density (D k) of 0.5 to 1.0 AZdm 2 , and energizing time of 5 to 30 seconds, electroless plating is performed using the plating solution. Is formed.
  • the accessory obtained by the method for producing an accessory having a colored coating according to the present invention has a phosphorus content in the nickel-lin alloy alloy coating layer of 11 to 16% by weight.
  • the colored coating layer may be a metal coating layer, a metal nitride coating layer, a metal carbide coating layer, a metal oxide coating layer, a metal carbonitride coating layer, a metal oxynitride coating layer, a metal It comprises at least one layer selected from an oxycarbide coating layer and a metal oxycarbonitride coating layer.
  • the nickel plating layer has a thickness of 1 to 10 m
  • the nickel-lin alloy coating layer has a thickness of 3 to 10 m. 10 ⁇ m
  • the thickness of the colored coating layer is 0.1 to 2 m.
  • FIG. 1 is a cross-sectional view of a main part showing an example of a personal ornament according to the present invention
  • FIG. 2 is a cross-sectional view of a main part showing another example of a personal ornament according to the present invention.
  • the accessory having a colored film according to the present invention is, as shown in FIGS. 1 and 2, an accessory 1 having a colored film formed on a surface by a dry plating method,
  • An accessory base material 2 made of copper alloy or zinc
  • the accessory base material used in the present invention is a copper alloy such as brass or nickel silver, or zinc such as zinc die cast.
  • Jewelry including parts
  • the surface of the accessory base material is previously subjected to a conventionally known pretreatment.
  • a base material for an accessory is immersed in a commercially available immersion degreasing solution, a commercially available electrolytic degreasing solution, a cyanide solution, or a mixed solution of sulfuric acid and fluoride, and then washed with water. And the like.
  • Nickel plating layer Copper plating layer, Nickel plating layer
  • the nickel plating layer is formed on the surface of the accessory base material as described above when the accessory base material is a copper alloy.
  • the copper plating film layer and the nickel plating film layer are formed in this order on the surface of the accessory base material when the accessory base material is zinc.
  • the adhesion between the copper alloy substrate and the nickel plating layer is excellent, but the zinc substrate has cavities and cannot be coated with nickel plating alone, so corrosion resistance Is bad. Therefore, a copper plating layer is formed between the zinc substrate and the nickel layer in order to improve the corrosion resistance.
  • the thickness of the nickel plating layer in the present invention is usually 1 to 10 m, preferably 3 to 5 im.
  • a nickel coating layer having a thickness within this range has the effect of improving gloss and corrosion resistance.
  • the thickness of the copper plating layer is usually 10 to 15 / xm.
  • the copper plating layer as described above is formed on a zinc base material by a wet plating method. Specifically, it can be formed by using a plating solution containing copper metal ions.
  • the nickel plating layer is formed by a wet plating method on a copper alloy substrate or a copper plating layer.
  • the nickel plating layer may be formed by using a plating solution containing nickel metal ions. it can.
  • the nickel-lin alloy plating coating layer formed on the nickel coating layer is formed of an amorphous nickel-lin alloy.
  • the phosphorus content in the nickel-lin alloy plating film layer is 11 to 16% by weight, preferably 12 to 16% by weight.
  • the thickness of the nickel-phosphorus alloy plating layer is usually 3 to 10 m, preferably 3 to 5 c.
  • the nickel-lin alloy alloy plating film layer is further amorphized and the precipitated particles are finer, so that As a result, the obtained accessories can be provided with excellent corrosion resistance.
  • nickel-linium alloy plating film layer in the present invention 15 to 70 g, preferably 40 to 50 gZ of nickel sulfate is converted into nickel atoms on the surface of the nickel plating film layer.
  • An amorphous nickel-lin alloy plating layer having a phosphorus content of 11 to 16% by weight is exemplified.
  • the plating solution is an acidic solution having a pH of 3.0 to 3.5, preferably 3.0 to 3.2.
  • the nickel - Li emissions alloy plating film layer using plated solution as described above, a bath temperature 5 0 ⁇ 6 0 ° C, for electrical plated at a current density (D k) 1 ⁇ 3 A / dm 2 Can be formed.
  • conductive salt used in the present invention include ammonium chloride, sodium chloride, potassium chloride and the like. These conductive salts can be used alone or in combination of two or more.
  • PH buffer used in the present invention examples include boric acid, formic acid, acetic acid, and salts thereof.
  • salts include sodium salts such as sodium borate salts and potassium salts such as potassium acetate.
  • pH buffers can be used alone or in combination of two or more.
  • the complexing agent used in the present invention is at least one selected from cunic acid, tartaric acid, malonic acid, linoleic acid, glycine, dalconic acid and salts thereof.
  • the salts of these acids and amino acids include the sodium and potassium salts of the above acids and amino acids.
  • hypophosphorous acid concentration in the plating solution the type and concentration of the complexing agent constituting the plating solution, the pH of the plating solution, and the current density are selected as described above.
  • a nickel-phosphorus alloy plating film layer having a phosphorus content of 11 to 16% by weight can be formed.
  • An electroless plating was performed on the surface of the nickel plating coating layer with a plating solution containing a nickel salt, sodium hypophosphite, a complexing agent, a buffer and a pH adjuster.
  • An amorphous nickel-lin alloy plating layer having a phosphorus content of 11 to 16% by weight;
  • nickel salt constituting the plating solution of the above (1) and (2) include nickel sulfate, nickel chloride, nickel sulfamate, nickel citrate and the like. These nickel salts can be used alone or in combination of two or more.
  • the sodium hypophosphite is used as a reducing agent and is a source of phosphorus for forming a nickel-lin alloy alloy plating film layer.
  • the complexing agent examples include phosphate, lactate, citrate, tartrate, and amino acid salts such as glycine and dalconic acid. Specifically, examples thereof include sodium salts and potassium salts of lingic acid, lactic acid, citric acid, tartaric acid, glycine, and dalconic acid. These complexing agents can be used alone or in combination of two or more. Specific examples of the buffer include sodium and potassium salts such as acetic acid, succinic acid, and malonic acid.
  • pH adjuster examples include sodium hydroxide, ammonium hydroxide, nickel carbonate, nickel hydroxide, and the like.
  • the electroless plating performed when forming the nickel-lin alloy plating film layer of (1) and the electroplating and electroless plating performed for forming the nickel-lin alloy plating film layer of (2).
  • the plating liquid include the following plating liquids.
  • the plating conditions when this plating solution is used for electroless plating are also shown below. Adjustment of pH is performed using sodium hydroxide, ammonium hydroxide, nickel carbonate or nickel hydroxide.
  • a plating solution having the above composition is used, and the pH of the plating solution is 3.0 to 4.5, preferably 3.5 to 4 5, more preferably 3.5 to 4.0, and a bath temperature of 85 to 95 ° C by electroless plating.
  • the nickel-lin alloy alloy coating layer of the above (2) uses a plating solution having the above-mentioned components, and the pH of the plating solution is 3.0 to 4.5, preferably 3.5 to 4. 5, more preferably 3.5 ⁇ 4.0, bath temperature 85 ⁇ 95 °, current density 0.5 ⁇ 1 O AZdm 2 , energization time 5 ⁇ 30 seconds after conducting electric plating It can be obtained by stopping the energization and performing electroless plating. When the electric plating is performed first, nickel is deposited on the nickel plating coating layer, and then the electroless plating is performed only by stopping the energization.
  • nickel-lin alloy plating film layer of (2) a film layer formed from both nickel deposited by the first electric plating and nickel-lin alloy deposited by the electroless plating is coated with nickel. It shall be treated as a Kel-lin alloy plating film layer.
  • the optimum plating conditions for electroplating and electroless plating are, for example, that the bath temperature of the plating solution of the electrical plating is 50 to 60 ° (: pH is 3.0 to 3.5, Density (D k): ⁇ 3 A / dm 2 , and bath temperature of electroless plating solution is 85-95 ° (:, pH is 3.5-4.5) Is preferred.
  • the bath temperature of the plating solution of the electrical plating is 50 to 60 ° (: pH is 3.0 to 3.5, Density (D k): ⁇ 3 A / dm 2
  • bath temperature of electroless plating solution is 85-95 ° (:, pH is 3.5-4.5) Is preferred.
  • a method of performing the electroless plating following the above-mentioned electric plating there are a method of performing the electric plating and the electroless plating in the same plating bath, and a method of performing the plating in a separate plating bath.
  • the plating bath temperature When performing electroplating and electroless plating in the same plating bath, for example, set the plating bath temperature to 50 to 60 ° C, conduct electric plating, then throw the plating bath into the plating bath and turn on the heater to remove the plating fluid. Raise the temperature to 85-95 ° C and perform electroless plating at a bath temperature of 85-95 ° C.
  • a plating bath having a bath temperature of 50 to 60 ° C and another bath temperature of 85 to 95 ° C for the plating solution may be used.
  • the plating tubs side by side Arrange the plating tubs side by side, first conduct an electric plating in a bath tub of 50 to 6 (rc, then perform an electroless plating in another plating bath of a bath temperature of 85 to 95 ° C.
  • the plating liquid used for the electric plating and the electroless plating may have the same composition or different compositions.
  • the phosphorus content is determined by selecting the hypophosphorous acid concentration in the plating solution, the type and concentration of the complexing agent constituting the plating solution, and the pH of the plating solution as described above. Is 11 to 16% by weight.
  • the nickel-phosphorus alloy plating film layer formed by the electroless plating method has good uniformity in thickness even in a narrow gap between pieces of a watch band or the like, so that deterioration of corrosion resistance is extremely small.
  • the nickel-phosphorus alloy plating film layer formed by the electroless plating method has better adhesion to the adjacent nickel plating film layer than the nickel-phosphorus alloy plating film layer formed by the electric plating method. Is excellent.
  • one or more colored coating layers are formed on the nickel-phosphorus alloy plating coating layer.
  • the colored coating layer includes a metal coating layer, a metal nitride coating layer, a metal carbide coating layer, a metal oxide coating layer, a metal carbonitride coating layer, a metal oxynitride coating layer, and a metal acid coating layer. At least one layer selected from a carbide coating layer and a metal oxycarbonitride coating layer.
  • Examples of the metal forming the metal coating layer include metals belonging to Group IVA of the Periodic Table of the Elements (titanium, zirconium, hafnium), metals belonging to Group VA (vanadium, niobium, tantalum), and VI.
  • examples include silicon, germanium, gold, silver, copper, platinum, palladium, iron, cobalt, nickel, rhodium, and ruthenium. These metals may be of one type or an alloy of two or more types.
  • the metal nitride forming the metal nitride coating layer is a nitride of the above-mentioned metals (including alloys), and specifically, titanium nitride, zirconium nitride, hafnium nitride, vanadium nitride, nitride Niobium, chromium nitride, molybdenum nitride, tantalum nitride, tungsten nitride, silicon nitride, Examples include germanium nitride, gold nitride, silver nitride, copper nitride, iron nitride, cobalt nitride and nickel nitride.
  • the metal carbide forming the metal carbide coating layer is a carbide of the above-mentioned metals (including alloys), and specifically, titanium carbide, zirconium carbide, hafnium carbide, vanadium carbide, niobium carbide, and carbonization Examples include tantalum, chromium carbide, molybdenum carbide, tungsten carbide, gallium carbide, gold carbide, silver carbide, copper carbide, iron carbide, cobalt carbide, and nickel carbide.
  • the metal oxide forming the metal oxide coating layer is an oxide of the above-mentioned metals (including alloys), and specifically, titanium oxide, zirconium oxide, vanadium oxide, niobium oxide, and oxide Examples include tantalum, chromium oxide, molybdenum oxide, tungsten oxide, silicon oxide, germanium oxide, gold oxide, silver oxide, copper oxide, platinum oxide, palladium oxide, iron oxide, cobalt oxide, nickel oxide, and titanium oxide.
  • the metal carbonitride forming the metal carbonitride coating layer is a carbonitride of the above-mentioned metals (including alloys). Specifically, titanium, zirconium, hafnium, vanadium, Niobium and tantalum carbonitrides.
  • the metal oxynitride forming the metal oxynitride coating layer is an oxynitride of the above-mentioned metals (including alloys), and specifically, titanium, zirconium, hafnium, vanadium, Niobium, tantalum oxynitride and the like.
  • the metal oxycarbide forming the metal oxycarbide coating layer is the oxycarbide of the above-mentioned metals (including alloys), and specifically, titanium, zirconium, and the like.
  • Oxygenated carbides such as dium, hafnium, vanadium, niobium, and tantalum.
  • the metal oxycarbonitride that forms the metal oxycarbonitride coating layer is an oxycarbonitride of the above-mentioned metals (including alloys), specifically, titanium, zirconium, hafnium, vanadium, Niobium and tantalum oxycarbonitrides.
  • the colored coating layer in the present invention is composed of one layer or two or more layers, and the total thickness of the colored coating layer is from 0.3 to 1.0 m, and preferably from 0.3 to 1.0 m.
  • the colored coating layer as described above is formed by a conventionally known dry plating method.
  • the dry plating method include a physical vapor deposition method (PVD) and a CVD method such as an ion plating method, an ion beam method, and a sputtering method.
  • the ion plating method is preferably used.
  • the accessory having a colored film according to the present invention has more excellent corrosion resistance than the above-described conventional accessory or metal member.
  • This accessory is inexpensive because it does not use expensive palladium in layers other than the colored coating layer.
  • the sample surface was determined to pass if it did not change before and after the test, and was rejected if it changed.
  • the sample was judged as acceptable if no corrosion or cracks occurred on the sample surface, and was rejected if corrosion or cracks occurred.
  • a watch band base made of brass was immersed in cyan liquid, and then washed with water.
  • the watchband base material was immersed in a plating solution having the following composition, and electroplated under the following plating conditions to form a nickel plating layer having a thickness of 5 am on the surface of the substrate.
  • the watch band base material having the nickel plating layer was immersed in plating solution, and the plating solution pH 3.5, bath temperature 90 ° C, current density (D k) l AZdm 2 After 5 seconds of electric plating, the power was turned off and electroless plating was performed to form a nickel-phosphorus alloy coating layer with a thickness of 5 Xm (12% by weight of phosphorus) on the nickel plating layer surface.
  • the plating solution used here consists of a nickel salt, sodium hypophosphite, a complexing agent, a buffer and a pH adjuster.
  • Nickel sulfate (converted to nickel atom) 8 gZ l Sodium hypophosphite (converted to phosphorus atom) 15 gZ 1 Sodium sodium phosphate 30 g / 1 Sodium succinate 20 gZl ⁇ Metting conditions>
  • a titanium nitride coating layer having a thickness of 0.6 was formed on the nickel-lin alloy alloy coating layer surface by an ion plating method to obtain a watch band having a gold colored coating.
  • This watch band was subjected to an artificial sweat immersion test and a corrosion and crack test with ammonia gas in accordance with the above-mentioned methods. Table 1 shows the results.
  • Example 2 In the same manner as in Example 1, a nickel metal coating layer having a thickness of 5 m was formed on the surface of the base material for a watch band.
  • the watch band base material having the nickel plating film layer is immersed in the plating solution described below, and an electric plating is performed under the following plating conditions to obtain a nickel-lin alloy alloy coating layer (containing phosphorus) having a thickness of 5 m. (Amount of 14% by weight) was formed on the surface of the nickel plating layer.
  • Nickel sulfate (converted to nickel atom) 50 g /
  • Ammonium chloride (conductive salt) 70 g /
  • This watch band was subjected to an artificial sweat immersion test and a corrosion and crack test with ammonia gas in accordance with the above-mentioned methods. Table 1 shows the results.
  • a watch case base made of a zinc die-cast was immersed in a cyan liquid and then washed with water.
  • the watch case base material was immersed in a plating solution having the following composition, and electroplated under the following plating conditions to form a copper plating layer having a thickness of 15 x m on the surface of the base material.
  • the watch case base material having the copper plating film is immersed in a plating solution having the following composition, and subjected to electric plating under the following plating conditions to form a nickel plating coating layer having a thickness of 10 m into the copper plating film. It was formed on the layer surface.
  • the watch case base material having the nickel plating film layer is immersed in the plating solution described below, and subjected to electric plating under the following plating conditions to obtain a nickel-lin alloy alloy coating layer having a thickness of 7 mm (phosphorus content). (14% by weight) on the surface of the nickel plating layer.
  • Nickel sulfate (converted to nickel atoms) 40 gZl Sodium hypophosphite (converted to phosphorus atoms) 30 gZl Ammonium chloride (conductive salt) 60 gZl Boric acid (pH buffer) 30 g / 1 Lingoic acid (complexing agent) 10 g / 1
  • a watch band base made of brass was immersed in a cyan liquid and then washed with water.
  • the watch band base material was immersed in a plating solution having the following composition, and electroplated under the following plating conditions to form a nickel plating layer having a thickness of 5 m on the surface of the substrate.
  • the base material for a watch band having the nickel plating coating layer is immersed in a plating solution having the following composition, and subjected to electric plating under the following plating conditions to form a 3 m-thick palladium-nickel plating coating layer (Palladium Corporation). Was formed on the surface of the nickel plating film layer.
  • Ammonium chloride (conductive salt) 60 g / 1
  • the above brightener and anti-pitting agent are commercially available from Chuo Chemical Industry Co., Ltd. under the trade names “Precious SCX53” and “Precious SCX55”, respectively.

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Description

有色被膜を有する装身具およびその製造方法
技 術 分 野
本発明は、 銅合金または亜鉛からなる基材の上に、 最外層として、 イオンプレーティ ング法等の乾式メツキ法により形成された窒化チ夕 書
ン等の有色被膜を有する装身具およびその製造方法に関する。
背 景 技 術 従来、 銅合金または亜鉛からなる基材の上に、 最外層として、 ィォ ンプレーティ ング法により形成された窒化チタン等の有色被膜を有す る装身具として、 たとえば本願特許出願人に係る特公平 6— 2 9 3 5 号公報には、 銅合金からなる装身具の表面に下地層として電気メツキ 法により形成された厚み 1〜 1 0 mのニッケル層と、 このニッケル 層の上に電気メツキ法により形成された厚み 0 . 5〜 5 mのパラジ ゥムまたはパラジウム合金 (たとえばパラジウム一ニッケル) 層と、 このパラジウム層またはパラジウム合金層の上にイオンプレーティ ン グ法により形成された窒化チタン等の有色被膜層とを有してなること を特徴とする表面に有色を呈する装身具が開示されている。 この装身 具は、 ニッケル層を厚くする必要がないため、 厚メツキによる模様の ぼけ及びダレがなくなり高級感のある外観が得られ、 しかも耐食性に 優れている。 しかしながら、 このような装身具は、 実用上問題はないものの、 パ ラジウム層またはパラジウム一ニッケル層を有しており、 最近これら の層の構成成分であるパラジウム (P d ) の価格が高騰し、 製造コス 卜が非常に高くなつてきている。 因みに、 パラジウムの価格は 1 9 9 7年では 5 0 0円 Zg程度であつたが、 現在 ( 1 9 9 8年) では 1 4 0 0円 Zgにまで高騰している。 また、 このパラジウム一ニッケル層 を形成するために行なわれる電気メツキの際に生じるアンモニアガス が他のシアン系のメツキ ( 1 4 K a r a t、 1 8 K a r a tの A u— A gメツキ) に悪影響を与えやすく、 また、 水素を吸蔵し易いためク ラックが生じて、 有色被膜層との密着性が低下したり耐久性 (耐食性 ) が低下するおそれがある。
また、 本願特許出願人に係る特開平 4 - 3 0 4 3 8 6号公報には、 黄銅、 洋白、 亜鉛ダイキャス ト等の低融点材料からなる基材表面に湿 式メツキ法により下地層として形成されたニッケル層と、 このニッケ ル層の直上に電気メツキ法により形成されたニッケル一リ ン合金層と、 このニッケル—リ ン合金層上に乾式メツキ法により形成された乾式メ ツキ被膜層 (有色被膜層) とを有してなる金属部材が開示されている この金属部材は、 ニッケル一リ ン合金層を形成するために行なわれる 電気メツキにより発生するアンモニアガスの量が非常に少ないため、 アンモニアガスによる他のメツキ (イオンプレーティ ング法 (乾式メ ツキ法) ) に悪影響を与えることは殆どなく、 また、 水素を殆ど吸蔵 せずクラックが生じることがないため、 乾式メツキ被膜層 (有色被膜 層) との密着性および耐久性が低下するおそれはない。 また、 特開平 4 - 3 0 4 3 8 6号公報に記載されている実施例 1 の金属部材は、 リ ン含有量約 1 0 %のニッケル一リ ン合金層が形成されているので、 耐 久性に優れ、 実用上全く問題はない。 なお、 この特開平 4 一 3 0 4 3 8 6号公報には記載されていないが、 実施例 1 のニッケルーリ ン合金 層は、 ニッケル原子換算で硫酸ニッケル 5 0 g Z 1 、 ニッケル原子換 算で塩化ニッケル 1 5 g Z 1 、 リ ン原子換算で次亜リ ン酸ナ卜リゥム 3 5 8 1 を含有してなる 11 4 . 0の酸性のメツキ液を用いて、 浴 温 5 5 °C、 電流密度 (D k ) 5 A / d m 2 の条件で電気メッキして形 成している。 このようなメツキ液およびメツキ条件で通電時間を長く して電気メツキを行なっても、 リン含有量が 1 1重量%以上のァモル ファスのニッケルーリ ン合金層を形成することはできない。
本願発明者らは、 高価格のパラジウムを用いることなく、 上記公報 に開示されている装身具ないし金属部材に比べ、 より一層優れた耐食 性を有するグレー ドの高い装身具を得るべく鋭意研究し、 以下の ( 1 ) または ( 2 ) のようにして製造された装身具は、 リ ン含有量が 1 1 〜 1 6重量%であるァモルファスのニッケルーリ ン合金メッキ被膜層 を有し、 上記公報に開示されている装身具ないし金属部材に比べ、 よ り一層優れた耐食性を有することを見出し、 本発明を完成するに至つ た。
( 1 ) 銅合金または亜鉛からなる装身具用基材表面に、 電気メツキ法 により厚み 1 〜 5 mのニッケルメツキ被膜層を形成するか、 あるい は電気メツキ法により厚み 1 0〜 1 5 x mの銅メツキ被膜層を形成し た後、 この銅メツキ被膜層表面に電気メツキ法により厚み 1 〜 1 0 mのニッケルメツキ被膜層を形成し、 次いで、 このニッケルメツキ被 膜層表面に、 二ッケル原子換算で硫酸ニッケル 1 5〜 7 0 g Z 1 、 リ ン原子換算で次亜リ ン酸ナ トリウム 1 0〜50 gZ l、 電導塩 (塩化 アンモニゥム) 5 0〜 9 0 gZ し p H緩衝剤 2 0〜 5 0 g Z 1 およ び錯化剤 5〜 3 0 g Z 1 を含有してなる、 p H 3. 0〜 3. 5の酸性 のメツキ液を用い、 浴温 5 0〜 6 0 °C、 電流密度 (D k) 1〜 3 AZ dm2 の条件で電気メツキして厚み 3〜 1 0 mのアモルファスの二 ッケルーリ ン合金メッキ被膜層 (リ ン含有量 1 1〜 1 6重量%) を形 成し、 次いで、 このニッケル一リ ン合金メッキ被膜層表面に、 乾式メ ツキ法により厚み 0. 1〜 2 mの有色被膜層を形成して得られた装 身具。
( 2 ) 銅合金または亜鉛からなる装身具用基材表面に、 電気メツキ法 により厚み 1〜 1 O ^mのニッケルメツキ被膜層を形成するか、 ある いは電気メツキ法により厚み 1 0〜 1 5 i mの銅メツキ被膜層を形成 した後、 この銅メツキ被膜層表面に電気メツキ法により厚み 1〜 1 0 mのニッケルメツキ被膜層を形成し、 次いで、 このニッケルメツキ 被膜層表面に、 ニッケル原子換算で硫酸ニッケル等のニッケル塩 1〜 1 5 1 、 リ ン原子換算で次亜リ ン酸ナ 卜リゥム (還元剤) 5〜 3 0 g/ 1 , 錯化剤、 緩衝剤および p H調整剤を含有してなるメツキ液 を用い、 p H 3. 0〜 4. 5、 浴温 8 5〜 9 5°Cの条件で無電解メッ キを行なう力 あるいはこのメツキ液を用い、 p H 3. 0〜4. 5、 浴温 5 0〜 9 5 °C、 電流密度 (D k) 0. 5〜 1. O AZdm2 、 通 電時間 5〜 3 0秒の条件で電気メツキを行なった後引き続きこのメッ キ液を用い、 p H 3. 0〜 4. 5、 浴温 8 5〜 9 5 °Cの条件で無電解 メツキを行なって厚み 3〜 1 0 mのアモルファスのニッケルーリ ン 合金メッキ被膜層 (リ ン含有量 1 1〜 1 6重量%) を形成し、 次いで、 このニッケル—リ ン合金メッキ被膜層表面に、 乾式メツキ法により厚 み 0 . 1〜 2 /i mの有色被膜層を形成して得られた装身具。
本発明は、 高価格のパラジウムを用いることなく、 上記公報に開示 されている装身具ないし金属部材に比べ、 より一層優れた耐食性を有 する安価な装身具、 およびその製造方法を提供することを目的として いる。 発明の開示
本発明に係る有色被膜を有する装身具は、
表面に乾式メツキ法により形成された有色被膜を有する装身具であ つて、
銅合金または亜鉛からなる装身具用基材と、
該基材表面に形成されたニッケルメツキ被膜層、 または銅メツキ被 膜層および該銅メツキ被膜層表面に形成されたニッケルメツキ被膜層 と、
該ニッケルメツキ層表面に形成されたアモルファスのニッケルーリ ン合金メツキ被膜層と、
該ニッケル一リ ン合金メッキ被膜層表面に乾式メツキ法により形成 された少なく とも 1 層の有色被膜層と
からなり、 かつ、 該ニッケル一リ ン合金メッキ被膜層中におけるリ ン 含有量が 1 1〜 1 6重量%であることを特徴としている。
本発明に係る有色被膜を有する装身具の態様 (第 1 の態様) として は、
表面に乾式メツキ法により形成された有色被膜を有する装身具であ つて、
銅合金または亜鉛からなる装身具用基材と、
該基材表面に形成されたニッケルメツキ被膜層、 または銅メツキ被 膜層および該銅メツキ被膜層表面に形成されたニッケルメツキ被膜層 と、
該ニッケルメツキ被膜層表面に、 ニッケル原子換算で硫酸ニッケル
1 5〜 7 0 g I 、 リン原子換算で次亜リン酸ナ ト リウム 1 0〜 5 0 g / I , 電導塩 5 0〜 9 0 8 / 1 、 p H緩衝剤 2 0〜 5 0 g Z 1 およ び錯化剤 5〜 3 0 g / 1 を含有してなるメツキ液中で形成されたァモ ルファスのニッケル—リ ン合金メッキ被膜層と、
該ニッケル一リ ン合金メッキ被膜層表面に乾式メツキ法により形成 された少なく とも 1層の有色被膜層と
からなり、 かつ、 該ニッケル一リ ン合金メッキ被膜層中におけるリ ン 含有量が 1 1〜 1 6重量%であることを特徴とする有色被膜を有する 装身具がある。
前記ニッケル一リ ン合金メッキ被膜層は、 前記メツキ液を用い、 メ ツキ液の p H 3 . 0〜 3 . 5、 浴温 5 0〜 6 0 °C、 電流密度 (D k ) :!〜 3 A Z d m 2 の条件で電気メツキを行なって得られたニッケル一 リ ン合金メツキ被膜層である。
前記錯化剤は、 クェン酸、 酒石酸、 マロン酸、 リ ンゴ酸、 グリ シン, ダルコン酸およびこれらの塩から選ばれる少なく とも 1種である。 また、 本発明に係る有色被膜を有する装身具の他の態様 (第 2の態 様) としては、
表面に乾式メツキ法により形成された有色被膜を有する装身具であ つて、
銅合金または亜鉛からなる装身具用基材と、
該基材表面に形成されたニッケルメツキ被膜層、 または銅メツキ被 膜層および該銅メツキ被膜層表面に形成されたニッケルメツキ被膜層 と、
該ニッケルメツキ被膜層表面に、 ニッゲル原子換算でニッケル塩 1 〜 1 5 1 、 リ ン原子換算で次亜リ ン酸ナトリゥム (還元剤) 5〜 3 0 g Z l 、 錯化剤、 緩衝剤および p H調整剤を含有してなるメツキ 液で無電解メツキを行なって、 または該メツキ液中で電気メツキを行 なった後引き続き該メツキ液中で無電解メツキを行なって形成された アモルファスのニッケル—リ ン合金メッキ被膜層と、
該ニッケル一リ ン合金メッキ被膜層表面に乾式メツキ法により形成 された少なく とも 1層の有色被膜層と
からなり、 かつ、 該ニッケル一リ ン合金メッキ被膜層中におけるリ ン 含有量が 1 1〜 1 6重量%であることを特徴とする有色被膜を有する 装身具がある。
前記無電解メツキ、 または電気メツキおよび無電解メツキで用いら れるメツキ液の p Hは、 3 . 0〜 4 . 5であり、 かつ、 浴温が 5 0〜 9 5 °Cである。
前記有色被膜層は、 金属被膜層、 金属の窒化物被膜層、 金属の炭化 物被膜層、 金属の酸化物被膜層、 金属の炭窒化物被膜層、 金属の酸窒 化物被膜層、 金属の酸炭化物被膜層および金属の酸炭窒化物被膜層か ら選ばれる少なく とも 1層からなる。
また、 本発明に係る有色被膜を有する装身具は、 前記ニッケルメッ キ被膜層の厚みが 1〜 1 0 mであり、 前記ニッケル一リン合金メッ キ被膜層の厚みが 3〜 1 0 i mであり、 かつ、 前記有色被膜層の厚み (有色被膜層全体の厚み) が 0. l〜 2 ^mである。
本発明に係る第 1の態様の有色被膜を有する装身具の製造方法は、 表面に乾式メツキ法により形成された有色被膜を有する装身具の製 造方法であって、
銅合金または亜鉛からなる装身具用基材表面に、 電気メツキ法によ りニッケルメツキ被膜層を形成するか、 あるいは電気メツキ法により 銅メツキ被膜層を形成した後該銅メツキ被膜層表面に電気メツキ法に よりニッケルメツキ被膜層を形成し、
次いで、 該ニッケルメツキ被膜層表面に、 ニッケル原子換算で硫酸 二ッケル 1 5〜 7 0 g Z 1 、 リン原子換算で次亜リ ン酸ナトリウム 1 0〜 5 0 g Zし 電導塩 5 0〜 9 0 g/ し H緩衝剤 2 0〜 5 0 g / 1 および錯化剤 5〜 3 0 g Z 1 を含有してなるメツキ液を用いて電 気メツキしてリン含有量が 1 1〜 1 6重量%のァモルファスのニッケ ルーリ ン合金メッキ被膜層を形成し、
次いで、 該ニッケル一リ ン合金メッキ被膜層表面に、 乾式メツキ法 により少なく とも 1層の有色被膜層を形成することを特徴としている。 前記ニッケル一リ ン合金メツキ被膜層を形成する際のメッキ液の浴 温は 5 0〜 6 0 °Cであり、 かつ電流密度 (D k ) は;! 〜 3 AZdm2 である。
前記錯化剤は、 クェン酸、 酒石酸、 マロン酸、 リ ンゴ酸、 グリ シン、 ダルコン酸およびこれらの塩から選ばれる少なく とも 1種である。 本発明に係る第 2の態様の有色被膜を有する装身具の製造方法は、 表面が乾式メツキ法により形成された有色被膜を有する装身具の製 造方法であって、
銅合金または亜鉛からなる装身具用基材表面に、 電気メツキ法によ りニッケルメツキ被膜層を形成するか、 あるいは電気メツキ法により 銅メツキ被膜層を形成した後該銅メツキ被膜層表面に電気メツキ法に よりニッケルメツキ被膜層を形成し、
次いで、 該ニッケルメツキ被膜層表面に、 ニッケル原子換算でニッ ケル塩 1〜 1 5 gZ 1 、 リ ン原子換算で次亜リン酸ナ 卜リゥム (還元 剤) 5〜 3 0 gZ l 、 錯化剤、 緩衝剤および p H調整剤を含有してな るメッキ液で無電解メツキを行なって、 または該メッキ液中で電気メ ツキを行なった後引き続き該メツキ液中で無電解メツキを行なってリ ン含有量が 1 1〜 1 6重量%のアモルファスのニッケル—リン合金メ ツキ被膜層を形成し、
次いで、 該ニッケル一リン合金メッキ被膜層表面に、 乾式メツキ法 により少なく とも 1層の有色被膜層を形成することを特徴としている c 前記ニッケル—リン合金メッキ被膜は、 前記メツキ液を用い、 p H 3. 0〜 4. 5、 浴温 8 5〜 9 5°Cの条件で無電解メツキを行なって 形成するか、 あるいは前記メツキ液を用い、 p H 3. 0〜4. 5、 浴 温 5 0〜 9 5 °C、 電流密度 (D k ) 0. 5〜 1. 0 AZdm2 、 通電 時間 5〜 3 0秒の条件で電気メツキを行なった後、 該メツキ液を用い て無電解メツキを行なって形成する。
本発明に係る有色被膜を有する装身具の製造方法により得られる装 身具は、 前記ニッケル一リ ン合金被膜層中におけるリ ン含有量が 1 1 〜 1 6重量%である。 また、 前記有色被膜層は、 金属被膜層、 金属の窒化物被膜層、 金属 の炭化物被膜層、 金属の酸化物被膜層、 金属の炭窒化物被膜層、 金属 の酸窒化物被膜層、 金属の酸炭化物被膜層および金属の酸炭窒化物被 膜層から選ばれる少なく とも 1層からなる。
本発明に係る有色被膜を有する装身具の製造方法により得られる装 身具は、 前記ニッケルメツキ被膜層の厚みが 1〜 1 0 mであり、 前 記ニッケル一リ ン合金被膜層の厚みが 3〜 1 0 ^ mであり、 かつ、 前 記有色被膜層の厚み (有色被膜層全体の厚み) が 0 . l 〜 2 mであ る。 図面の簡単な説明
図 1 は、 本発明に係る装身具の一例を示す要部断面図であり、 図 2 は、 本発明に係る装身具の他の例を示す要部断面図である。 発明を実施するための最良の形態
以下、 本発明に係る有色被膜を有する装身具およびその製造方法に ついて具体的に説明する。
本発明に係る有色被膜を有する装身具は、 図 1および図 2 に示すよ うに、 表面に乾式メツキ法により形成された有色被膜を有する装身具 1であって、
銅合金または亜鉛からなる装身具用基材 2 と、
該基材 2表面に形成されたニッケルメツキ被膜層 3、 または銅メッ キ被膜層 4および該銅メツキ被膜層 4表面に形成されたニッケルメッ キ被膜層 3 と、 該ニッケルメツキ層 3表面に形成されたリ ン含有量が 1 1 〜 1 6重 量%のアモルファスのニッケル一リン合金メッキ被膜層 5 と、
該ニッケル一リ ン合金メッキ被膜層 5表面に乾式メツキ法により形 成された少なく とも 1層の有色被膜層 6 と
からなる。
装身具用基材
本発明で用いられる装身具用基材は、 黄銅、 洋白等の銅合金、 亜鉛 ダイキャス ト等の亜鉛である。 装身具 (部品も含む) としては、 たと えば時計ケース、 時計バン ド、 時計のリューズ、 時計の裏蓋、 ベルト のバックル、 指輪、 ネックレス、 ブレスレッ ト、 イヤリ ング、 ベンダ ン卜、 ブローチ、 カフスボタン、 ネクタイ止め、 ノ ッジ、 メダル、 眼 鏡などが挙げられる。
なお、 装身具用基材の表面は、 予め従来公知の前処理を施しておく ことが好ましい。
このような前処理方法としては、 たとえば市販の浸漬脱脂液、 市販 の電解脱脂液、 シアン液、 あるいは硫酸とフッ化物との混合液の中に、 装身具用基材を浸漬し、 その後水洗する方法などが挙げられる。
銅メツキ被膜層、 ニッケルメツキ被膜層
上記のような装身具用基材表面にニッケルメツキ被膜層が形成され るのは、 装身具用基材が銅合金の場合である。 また、 装身具用基材表 面に銅メツキ被膜層およびニッケルメッキ被膜層がこの順に形成され るのは、 装身具用基材が亜鉛の場合である。 銅合金からなる基材とニ ッケルメツキ被膜層との密着性は優れているが、 亜鉛からなる基材に は巣が存在し、 ニッケルメツキだけでは十分被覆できないので耐食性 が悪い。 したがって、 耐食性を向上させるために、 亜鉛からなる基材 とニッケル被膜層との間に銅メツキ被膜層が形成される。
本発明におけるニッケルメツキ被膜層の厚みは、 通常 1〜 1 0 m . 好ましくは 3〜 5 i mである。 この範囲内の厚みを有するニッケル被 膜層は光沢性と防食性を向上させる効果がある。
また、 銅メツキ被膜層の厚みは、 通常 1 0〜 1 5 /x mである。
上記のような銅メツキ被覆層は、 亜鉛からなる基材上に湿式メツキ 法によって形成されるが、 具体的には、 銅金属イオンを含むメツキ液 を用いて形成することができる。
また、 上記ニッケルメツキ被膜層は、 銅合金からなる基材または銅 メツキ被膜層上に湿式メツキ法によって形成されるが、 具体的には、 ニッケル金属イオンを含むメツキ液を用いて形成することができる。
ニッケル一リ ン合金メッキ被膜層
上記のニッケル被膜層上に形成されたニッケル—リ ン合金メッキ被 膜層は、 アモルファスのニッケル—リ ン合金から形成されている。 二 ッケル—リ ン合金メッキ被膜層中のリ ン含有量は 1 1〜 1 6重量%、 好ましくは 1 2〜 1 6重量%である。 また、 ニッケル一リン合金メッ キ被膜層の厚みは、 通常 3〜 1 0 m、 好ましくは 3〜 5 である c リ ン含有量および厚みがそれぞれ上記範囲内にあるニッケル一リ ン合 金メッキ被膜層は、 従来の 1 0重量%程度のリ ン含有量を有するニッ ケルーリ ン合金メッキ被膜層に比し、 このニッケル一リ ン合金メッキ 被膜層は、 アモルファス化が更に進み析出粒子が微細化し、 ピンホー ルが少なくなるため、 得られる装身具に優れた耐食性を付与すること ができる。 ぐ第ェ の態様 >
本発明におけるニッケル一リ ン合金メッキ被膜層の第 1の態様とし て、 上記ニッケルメツキ被膜層表面に、 ニッケル原子換算で硫酸ニッ ケル 1 5〜 7 0 g 、 好ましくは 4 0〜 5 0 gZし リン原子換算 で次亜リ ン酸ナトリウム 1 0〜 5 0 8ノ し 好ましくは 3 0〜 4 0 g ノ 1 、 電導塩 5 0〜 9 0 gノ し 好ましくは 6 0〜 8 0 gZし p H 緩衝剤 2 0〜 5 0 g/ l 、 好ましくは 3 0〜40 gZ l、 および錯化 剤 5〜 3 0 gZ し 好ましくは 1 0〜 2 0 gZ l を含有してなるメッ キ液中で形成された、 リ ン含有量 1 1〜 1 6重量%のアモルファスの ニッケル一リ ン合金メッキ被膜層が挙げられる。
このメツキ液は、 p Hが 3. 0〜 3. 5、 好ましくは 3. 0〜 3. 2の酸性溶液である。 このニッケル—リ ン合金メッキ被膜層は、 上記 のようなメツキ液を用い、 浴温 5 0〜 6 0 °C、 電流密度 ( D k ) 1〜 3 A/ dm2 の条件で電気メツキを行なう ことにより形成することが できる。
本発明で用いられる電導塩としては、 具体的には、 塩化アンモニゥ ム、 塩化ナ トリウム、 塩化カリウムなどが挙げられる。 これらの電導 塩は、 1種単独で、 あるいは 2種以上組み合わせて用いることができ る。
本発明で用いられる P H緩衝剤としては、 具体的には、 ホウ酸、 ギ 酸、 酢酸およびこれらの塩などが挙げられる。 このような塩としては、 ホウ酸ナ トリウム塩等のナ トリウム塩、 酢酸カリウム等のカリウム塩 などが挙げられる。 これらの p H緩衝剤は、 1種単独で、 あるいは 2 種以上組み合わせて用いることができる。 本発明で用いられる錯化剤は、 クェン酸、 酒石酸、 マロン酸、 リ ン ゴ酸、 グリ シン、 ダルコン酸およびこれらの塩から選ばれる少なく と も 1種である。 これらの酸およびアミ ノ酸の塩としては、 たとえば上 記酸およびアミノ酸のナト リウム塩、 カリウム塩などが挙げられる。 本発明においては、 メツキ液中の次亜リ ン酸濃度、 メツキ液を構成 する錯化剤の種類とその濃度、 メツキ液の p H、 および電流密度を上 記のように選択することにより、 リン含有量が 1 1 〜 1 6重量%であ るニッケル一リ ン合金メツキ被膜層を形成することができる。
ぐ第 2の態様 >
本発明におけるニッケル一リ ン合金メッキ被膜層の第 2の態様とし て、
( 1 ) 上記ニッケルメツキ被膜層表面に、 ニッケル塩、 次亜リン酸ナ トリウム、 錯化剤、 緩衝剤および p H調整剤を含有してなるメツキ液 で無電解メツキを行なって形成された、 リ ン含有量 1 1 〜 1 6重量% のアモルファスのニッケル一リ ン合金メッキ被膜層と、
( 2 ) ニッケルメツキ被膜層表面に、 ニッケル塩、 次亜リ ン酸ナ トリ ゥム (還元剤) 、 錯化剤、 緩衝剤および p H調整剤を含有してなるメ ツキ液中で電気メツキを行なった後、 通電を止めてこのメツキ液中で 無電解メツキを行なって形成された、 リ ン含有量 1 1 〜 1 6重量%の アモルファスのニッケル—リ ン合金メッキ被膜層が挙げられる。
上記 ( 1 ) 、 ( 2 ) のメツキ液を構成するニッケル塩としては、 具 体的には、 硫酸ニッケル、 塩化ニッケル、 スルファミン酸ニッケル、 クェン酸ニッケルなどが挙げられる。 これらのニッケル塩は、 1種単 独で、 あるいは 2種以上組み合わせて用いることができる。 上記次亜リ ン酸ナ トリウムは、 還元剤として用いられ、 ニッケル一 リ ン合金メッキ被膜層を構成するリ ン供給源である。
上記錯化剤としては、 リ ンゴ酸塩、 乳酸塩、 クェン酸塩、 酒石酸塩 およびグリシン、 ダルコン酸等のアミノ酸塩などが用いられる。 具体 的には、 リ ンゴ酸、 乳酸、 クェン酸、 酒石酸、 グリシン、 ダルコン酸 のナトリウム塩、 カリウム塩などが挙げられる。 これらの錯化剤は、 1種単独で、 あるいは 2種以上組み合わせて用いることができる。 上記緩衝剤としては、 具体的には、 酢酸、 コハク酸、 マロン酸等の ナトリウム塩、 カリウム塩などが用いられる。
上記 p H調整剤としては、 具体的には、 水酸化ナトリウム、 水酸化 アンモニゥム、 炭酸ニッケル、 および水酸化ニッケルなどが挙げられ る。
上記 ( 1 ) のニッケル一リ ン合金メッキ被膜層形成に際して行なう 無電解メツキ、 および上記 ( 2 ) のニッケル一リ ン合金メッキ被膜層 形成に際して行なう電気メッキと無電解メツキで使用することができ るメツキ液としては、 たとえば下記のようなメツキ液が挙げられる。 このメツキ液を無電解メツキに使用する場合のメツキ条件も併せて下 記に示す。 なお、 p Hの調整は、 水酸化ナトリウム、 水酸化アンモニ ゥム、 炭酸ニッケルまたは水酸化ニッケルを用いて行なう。
ぐメツキ液組成 >
(使用範囲) (最適範囲) 硫酸ニッケル 1 〜 1 5 gノ 1 5 ~ 1 0 g 1 次亜リ ン酸ナ ト リウム 5〜 3 0 g / 1 1 0 〜 2 0 g 1 リ ンゴ酸ナ トリウム 1 5 〜 4 0 gノ 1 2 0 〜 3 5 g コハク酸ナ トリウム 5〜 3 0 gZ l 1 0〜 2 5 g 1 <メツキ条件 >
p H 3. 0〜 4. 5
浴温 5 0〜 9 5 °C
上記 ( 1 ) のニッケル—リ ン合金メッキ被膜層は、 上記のような成 分を有するメツキ液を用い、 メツキ液の p H 3. 0〜 4. 5、 好まし くは 3. 5〜 4. 5、 さらに好ましくは 3. 5〜 4. 0、 浴温 8 5〜 9 5 °Cの条件で無電解メツキを行なう ことにより得られる。
また、 上記 ( 2 ) のニッケル一リ ン合金メッキ被膜層は、 上記のよ うな成分を有するメツキ液を用い、 メツキ液の p H 3. 0〜 4. 5、 好ましくは 3. 5〜 4. 5、 さらに好ましくは 3. 5〜 4. 0、 浴温 8 5〜 9 5 ° 、 電流密度 0. 5〜 1. O AZdm2 、 通電時間 5〜 3 0秒の条件で電気メツキを行なった後、 通電を止めて無電解メツキを 行なう ことにより得られる。 最初に電気メツキを行なうと、 ニッケル がニッケルメツキ被膜層上に析出し、 その後、 通電を止めだけで無電 解メツキが行なわれる。 ( 2 ) のニッケル一リ ン合金メッキ被膜層に おいては、 最初の電気メツキで析出したニッケルと無電解メツキで析 出してくるニッケル一リ ン合金の両方から形成される被膜層を、 ニッ ケル—リ ン合金メッキ被膜層として扱うものとする。
なお、 電気メッキと無電解メツキを行なう場合の最適なメツキ条件 としては、 たとえば電気メツキのメツキ液の浴温が 5 0〜 6 0 ° (:、 p Hが 3. 0〜 3. 5、 電流密度 (D k ) が:!〜 3 A/dm2 であり、 かつ、 無電解メツキのメツキ液の浴温が 8 5〜 9 5 ° (:、 p Hが 3. 5 〜 4. 5であることが好ましい。 上記の電気メツキに引き続き無電解メツキを行なう方法としては、 具体的には、 電気メツキと無電解メツキを同じメツキ浴槽で行なう方 法と別個のメツキ浴槽で行なう方法とがある。 電気メツキと無電解メ ツキを同じメツキ浴槽で行なう場合、 たとえばメツキ液の浴温を 5 0 〜 6 0 °Cにして電気メツキを行なった後、 このメツキ浴槽に投げ込み ヒーターを入れてメツキ液の温度を 8 5〜 9 5 °Cに急上昇させ、 8 5 〜 9 5 °Cの浴温で無電解メツキを行なう。 また、 電気メツキと無電解 メツキを別個のメツキ浴槽で行なう場合、 たとえばメツキ液の浴温 5 0〜 6 0 °Cのメツキ浴槽と、 メツキ液の浴温 8 5〜 9 5 °Cの他のメッ キ浴槽を横に並べて、 まず浴温 5 0〜 6 (rcのメツキ浴槽で電気メッ キを行ない、 続いて浴温 8 5〜 9 5 °Cの他のメツキ浴槽で無電解メッ キを行なう。 この場合、 電気メツキと無電解メツキで用いられるメッ キ液は、 組成が同一でも、 また異なっていてもよい。
本発明においては、 メツキ液中の次亜リ ン酸濃度、 メツキ液を構成 する錯化剤の種類とその濃度、 およびメツキ液の p Hを上記のように 選択することにより、 リ ン含有量が 1 1 〜 1 6重量%であるニッケル 一リ ン合金メツキ被膜層を形成することができる。
無電解メツキ法により形成されるニッケル一リ ン合金メッキ被膜層 は、 時計バンド等の駒間の狭い隙間でも、 厚さの均一性が良好である ため、 耐食性の劣化が極めて少ない。 また、 無電解メツキ法により形 成されるニッケル一リン合金メッキ被膜層は、 電気メツキ法により形 成されるニッケル一リ ン合金メッキ被膜層に比し、 隣接するニッケル メツキ被膜層との密着性に優れている。
ニッケル一リ ン合金メッキ被膜層中におけるリ ン含有量が多くなる に従って、 電気メツキ法であるか無電解メツキ法であるかに関わらず この被膜層の結晶粒が微細化し、 結晶質からアモルファスに変化する, このアモルファス化は、 リ ン含有量 8重量%ぐらいから始まり、 1 1 重量%を超えると完全なァモルファスの状態になる。 結晶粒が微細化 することにより、 ピンホールが無くなり耐食性に優れたニッケル—リ ン合金メッキ被膜層が得られる。
有色被膜層
本発明では、 上記ニッケル一リン合金メッキ被膜層上に形成される 有色被膜層は 1層または 2層以上である。
この有色被膜層は、 金属被膜層、 金属の窒化物被膜層、 金属の炭化 物被膜層、 金属の酸化物被膜層、 金属の炭窒化物被膜層、 金属の酸窒 化物被膜層、 金属の酸炭化物被膜層および金属の酸炭窒化物被膜層か ら選ばれる少なく とも 1層からなる。
金属被膜層を形成する金属としては、 具体的には、 元素の周期律表 第 IVA族に属する金属 (チタン、 ジルコニウム、 ハフニウム) 、 第 V A族に属する金属 (バナジウム、 ニオブ、 タンタル) 、 第 VI A族に属 する金属 (クロム、 モリブデン、 タングステン) の他、 ケィ素、 ゲル マニウム、 金、 銀、 銅、 白金、 パラジウム、 鉄、 コバルト、 ニッケル、 ロジウム、 ルテニウムなどが挙げられる。 これらの金属は、 1種類で あってもよい、 また 2種以上組合せた合金でもよい。
金属の窒化物被膜層を形成する金属の窒化物は、 上記のような金属 (合金も含む) の窒化物であり、 具体的には、 窒化チタン、 窒化ジル コニゥム、 窒化ハフニウム、 窒化バナジウム、 窒化ニオブ、 窒化クロ ム、 窒化モリブデン、 窒化タンタル、 窒化タングステン、 窒化ケィ素、 窒化ゲルマニウム、 窒化金、 窒化銀、 窒化銅、 窒化鉄、 窒化コバルト 窒化ニッケルなどが挙げられる。
金属の炭化物被膜層を形成する金属の炭化物は、 上記のような金属 (合金も含む) の炭化物であり、 具体的には、 炭化チタン、 炭化ジル コニゥム、 炭化ハフニウム、 炭化バナジウム、 炭化ニオブ、 炭化タン タル、 炭化クロム、 炭化モリブデン、 炭化タングステン、 炭化ゲイ素 炭化金、 炭化銀、 炭化銅、 炭化鉄、 炭化コバルト、 炭化ニッケルなど が挙げられる。
金属の酸化物被膜層を形成する金属の酸化物は、 上記のような金属 (合金も含む) の酸化物であり、 具体的には、 酸化チタン、 酸化ジル コニゥム、 酸化バナジウム、 酸化ニオブ、 酸化タンタル、 酸化クロム, 酸化モリブデン、 酸化タングステン、 酸化ケィ素、 酸化ゲルマニウム, 酸化金、 酸化銀、 酸化銅、 酸化白金、 酸化パラジウム、 酸化鉄、 酸化 コバルト、 酸化ニッケル、 酸化チタン鉄などが挙げられる。
金属の炭窒化物被膜層を形成する金属の炭窒化物は、 上記のような 金属 (合金も含む) の炭窒化物であり、 具体的には、 チタン、 ジルコ 二ゥム、 ハフニウム、 バナジウム、 ニオブ、 タンタルの炭窒化物など が挙げられる。
金属の酸窒化物被膜層を形成する金属の酸窒化物は、 上記のような 金属 (合金も含む) の酸窒化物であり、 具体的には、 チタン、 ジルコ 二ゥム、 ハフニウム、 バナジウム、 ニオブ、 タンタルの酸窒化物など が挙げられる。
金属の酸炭化物被膜層を形成する金属の酸炭化物は、 上記のような 金属 (合金も含む) の酸炭化物であり、 具体的には、 チタン、 ジルコ 二ゥム、 ハフニウム、 バナジウム、 ニオブ、 タンタルの酸炭化物など が挙げられる。
金属の酸炭窒化物被膜層を形成する金属の酸炭窒化物は、 上記のよ うな金属 (合金も含む) の酸炭窒化物であり、 具体的には、 チタン、 ジルコニウム、 ハフニウム、 バナジウム、 ニオブ、 タンタルの酸炭窒 化物などが挙げられる。
本発明における有色被膜層は、 1層または 2層以上からなり、 有色 被膜層全体の厚みが 0 . :!〜 、 好ましくは 0 . 3〜 1 . 0 m である。
上記のような有色被膜層は、 従来公知の乾式メツキ法によって形成 される。 乾式メツキ法としては、 具体的には、 イオンプレーティ ング 法、 イオンビーム法、 スパッタリング法等の物理的蒸着法 (P V D ) . C V D法などが挙げられる。 中でも、 イオンプレーティ ング法が好ま しく用いられる。 発明の効果
本発明に係る有色被膜を有する装身具は、 上述した従来の装身具な いし金属部材に比べ、 より一層優れた耐食性を有する。 この装身具は、 有色被膜層以外の層で、 価格の高いパラジウムを用いることがないの で、 その分安価である。
本発明に係る装身具の製造方法によれば、 上記のような、 本発明に 係る有色被膜を有する装身具を提供することができる。 実施例 以下に、 本発明を実施例により説明するが、 本発明は、 これら実施 例により何ら限定されるものではない。
なお、 実施例等で行なった人工汗浸漬試験、 並びにアンモニアガス による腐蝕及びクラック試験は、 下記の方法に従つて行なった。 ( 1 ) 人工汗浸漬試験
下記に示す人工汗試験液中に、 試料 (装身具) を 4 8時間浸漬した 後、 この試料を取り出して試料表面を肉眼で観察した。
ぐ人工汗試験液 >
塩化ナトリウム 9 - 9 g 1
硫化ナ トリゥム 0 . 8 g / ]
尿素 1 . 7 g / 1
乳酸 1 . 7 m 1 / 1
p H (アンモニアで調整) 3 . 6
温度 4 0 °C
試料表面が試験前後で変化していない場合を合格とし、 変化してい る場合を不合格とした。
( 2 ) アンモニアガスによる腐蝕及びクラック試験
2 8 %濃度のアンモニアガス雰囲気中に、 試料 (装身具) を 4 8時 間入れた後、 この試料を取り出して試料表面を肉眼で観察した。
試料表面に腐蝕及びクラックが発生していない場合を合格とし、 腐 蝕及びクラックが発生している場合を不合格とした。
実施例 1
まず、 黄銅からなる時計バンド用基材をシアン液に浸潰した後、 水 洗した。 次いで、 この時計バン ド用基材を、 下記の組成を有するメツキ液中 に浸潰し、 下記のメツキ条件で電気メツキして厚み 5 ; amのニッケル メツキ被膜層をこの基材表面に形成した。
《ニッケルメツキ》
<メツキ液組成 >
硫酸ニッケル 3 0 0 1
塩化ニッケル 5 0 gZ 1
ホウ酸 3 0 g/ 1
<メツキ条件 >
p H 4. 0
浴温 6 0
電流密度 (D k ) 5 A/ d m2
次いで、 このニッケルメツキ被膜層を有する時計用バンド基材をメ ツキ液中に浸潰し、 メツキ液の p H 3. 5、 浴温 9 0°C、 電流密度 (D k ) l AZdm2 の条件で 5秒間電気メツキを行なった後、 通電 を止め無電解メツキを行ない、 厚み 5 X mのニッケル一リ ン合金被膜 層 (リ ン含有量 1 2重量%) をニッケルメツキ被膜層表面に形成した c ここで用いたメツキ液は、 ニッケル塩、 次亜リ ン酸ナ ト リウム、 錯化 剤、 緩衝剤および p H調整剤からなる。
《無電解ニッケル—リ ンメツキ》
<メツキ液組成 >
硫酸ニッケル (ニッケル原子換算) 8 gZ l 次亜リ ン酸ナトリゥム (リ ン原子換算) 1 5 gZ 1 リ ンゴ酸ナ トリウム 3 0 g / 1 コハク酸ナ トリウム 2 0 gZ l <メツキ条件 >
p H 3. 5
浴温 9 0 °C
次いで、 イオンプレーティ ング法により、 上記ニッケル—リ ン合金 メツキ被膜層表面に、 厚み 0. 6 の窒化チタン被膜層を形成して 金色の有色被膜を有する時計バンドを得た。
この時計バンドについて、 人工汗浸漬試験とアンモニアガスによる 腐蝕及びクラック試験を上記方法に従って行なった。 その結果を第 1 表に示す。
実施例 2
実施例 1 と同様にして、 時計バンド用基材表面に、 厚み 5 ^mの二 ッケルメツキ被膜層を形成した。
次いで、 このニッケルメツキ被膜層を有する時計用バンド基材を下 記のメツキ液中に浸漬し、 下記のメツキ条件で電気メツキを行ない、 厚み 5 mのニッケル一リ ン合金被膜層 (リ ン含有量 1 4重量%) を ニッケルメツキ被膜層表面に形成した。
《ニッケル—リ ン合金メッキ》
ツキ液組成 >
硫酸ニッケル (ニッケル原子換算) 5 0 g/
次亜リ ン酸ナ トリウム (リ ン原子換算) 4 0 g /
塩化アンモニゥム (電導塩) 7 0 g /
ホウ酸 ( P H緩衝剤) 3 5 g /
リ ンゴ酸 (錯化剤) 1 5 g / ぐメツキ条件 >
P H 3 . 2
浴温 5 0 °C
電流密度 ( D k ) 2 . 5 A / d m 次いで、 イオンプレーティ ング法により、 上記ニッケル一リ ン合金 メツキ被膜層表面に、 厚み 1 . 0 の炭窒化チタン被膜層を形成し て、 グレー色の有色被膜を有する時計バンドを得た。
この時計バンドについて、 人工汗浸漬試験とアンモニアガスによる 腐蝕及びクラック試験を上記方法に従って行なった。 その結果を第 1 表に示す。
実施例 3
まず、 亜鉛ダイキャス 卜からなる時計ケース用基材をシアン液に浸 漬した後、 水洗した。
次いで、 この時計ケース用基材を、 下記の組成を有するメツキ液中 に浸漬し、 下記のメツキ条件で電気メツキして厚み 1 5 x mの銅メッ キ被膜層をこの基材表面に形成した。
《銅メツキ》
<メツキ液組成 >
ピロリ ン酸銅 1 0 0 g
ピロリ ン酸カリウム 3 4 0 g
クェン酸アンモニゥム 1 0 g
アンモニア 3 g
<メツキ条件 >
P H 8 . 5 浴温 5 0 °C
電流密度 (D k ) 3 A/ d m2
次いで、 この銅メツキ被膜を有する時計ケース用基材を、 下記の組 成を有するメツキ液中に浸漬し、 下記のメツキ条件で電気メツキして 厚み 1 0 mのニッケルメツキ被膜層を銅メツキ被膜層表面に形成し た。
《ニッケルメッキ》
<メツキ液組成 >
硫酸二ッケル 3 0 0 g / 1
塩化ニッケル 5 0 g / 1
ホウ酸 3 0 g Z 1
<メツキ条件 >
P H 4. 0
浴温 6 0。C
電流密度 ( D k ) 5 A/ d m
次いで、 このニッケルメツキ被膜層を有する時計用ケース基材を下 記のメツキ液中に浸漬し、 下記のメツキ条件で電気メツキを行ない、 厚み 7 ΠΊのニッケル一リ ン合金被膜層 (リン含有量 1 4重量%) を ニッケルメツキ被膜層表面に形成した。
《ニッケル—リ ン合金メッキ》
<メツキ液組成 >
硫酸ニッケル (ニッケル原子換算) 40 gZ l 次亜リ ン酸ナ トリウム (リ ン原子換算) 3 0 gZ l 塩化アンモニゥム (電導塩) 6 0 gZ l ホウ酸 ( p H緩衝剤) 3 0 g / 1 リ ンゴ酸 (錯化剤) 1 0 g / 1 ぐメツキ条件 >
P H 3 . 0
浴温 5 0 °C 電流密度 ( D k ) 1 . 5 A / d m 次いで、 イオンプレーティ ング法により、 上記ニッケル一リン合金 メツキ被膜層表面に、 厚み 1 . 0 ^ mの炭窒化チタン被膜層を形成し て、 ローズ色の有色被膜を有する時計ケースを得た。
この時計ケースについて、 人工汗浸漬試験とアンモニアガスによる 腐蝕及びクラック試験を上記方法に従って行なった。 その結果を第 1 表に示す。
比較例 1
まず、 黄銅からなる時計バンド用基材をシアン液に浸漬した後、 水 洗した。
次いで、 この時計バンド用基材を、 下記の組成を有するメツキ液中 に浸漬し、 下記のメツキ条件で電気メツキして厚み 5 mのニッケル メツキ被膜層をこの基材表面に形成した。
《ニッケルメツキ》
<メツキ液組成 >
硫酸ニッケル 3 0 0 g / 1
塩化ニッケル 5 0 g Z 1
ホウ酸 3 0 g / 1
<メツキ条件 > P H 4. 0
浴温 5 0 °C
電流密度 (D k ) 5 A/ d m
次いで、 このニッケルメツキ被膜層を有する時計バンド用基材を、 下記の組成を有するメツキ液中に浸潰し、 下記のメツキ条件で電気メ ツキして厚み 3 mのパラジウム一ニッケルメツキ被膜層 (パラジゥ ム含有量 6 5重量%) をニッケルメツキ被膜層表面に形成した。
《パラジウム一ニッケル合金メツキ》
くメツキ液組成〉
塩化パラジウム 1 0 g/ 1
スルファミン酸ニッケル 1 5 g/ 1
塩化アンモニゥム (電導塩) 6 0 g/ 1
光沢剤 1 0 m 1 / 1
ピッ 卜防止剤 3 m 1 / 1
<メツキ条件 >
P H 8. 2
浴温 3 5 °C
電流密度 (D k ) 1 A/ d m
上記光沢剤およびピッ ト防止剤は、 中央化学産業 (株) より、 それ ぞれ 「プレシャス S C X 5 3」 、 「プレシャス S C X 5 5」 の商品名 で市販されている。
次いで、 イオンプレーティ ング法により、 上記パラジウム一二ッケ ル合金メッキ被膜層表面に、 厚み 0. 3 mの窒化チタン被膜層を形 成して、 金色の有色被膜を有する時計バン ドを得た。 この時計バンドについて、 人工汗浸漬試験とアンモニアガスによる 腐蝕及びクラック試験を上記方法に従って行なった。 その結果を第 1 表に示す。 第 1表 実 施 例 比較例
1 2 3 1
N i 一 Pメツキ被膜層中の
P含有量 [重量%] 1 2 1 4 1 4
P d— N i メッキ被膜層中
の P d含有量 [重量%] 6 5 人工汗浸漬試験 合格 合格 合格 合格 アンモニアガスによる腐蝕
及びクラック試験 合格 合格 合格 不合格

Claims

請求の範囲
1. 表面に乾式メツキ法により形成された有色被膜を有する装身具で あって、
銅合金または亜鉛からなる装身具用基材と、
該基材表面に形成されたニッケルメツキ被膜層、 または銅メツキ被 膜層および該銅メツキ被膜層表面に形成されたニッケルメツキ被膜層 と、
該ニッケルメツキ層表面に形成されたアモルファスのニッケルーリ ン合金メツキ被膜層と、
該ニッケル一リ ン合金メツキ被膜層表面に乾式メツキ法により形成 された少なく とも 1層の有色被膜層と
からなり、 かつ、 該ニッケル一リ ン合金メッキ被膜層中におけるリ ン 含有量が 1 1〜 1 6重量%であることを特徴とする有色被膜を有する 装身具。
2. 表面に乾式メツキ法により形成された有色被膜を有する装身具で あって、
銅合金または亜鉛からなる装身具用基材と、
該基材表面に形成されたニッケルメツキ被膜層、 または銅メツキ被 膜層および該銅メツキ被膜層表面に形成されたニッケルメツキ被膜層 と、
該ニッケルメツキ被膜層表面に、 ニッケル原子換算で硫酸ニッケル 1 5〜 7 0 g / 1 、 リ ン原子換算で次亜リ ン酸ナ トリウム 1 0〜 5 0 g / 電導塩 5 0〜 9 0 gZ し p H緩衝剤 2 0〜 5 0 gZ l およ び錯化剤 5〜 3 0 g / 1含有してなるメツキ液中で形成されたァモル ファスのニッケル—リ ン合金メッキ被膜層と、
該ニッケル一リ ン合金メッキ被膜層表面に乾式メツキ法により形成 された少なく とも 1層の有色被膜層と
からなり、 かつ、 該ニッケル—リ ン合金メッキ被膜層中におけるリン 含有量が 1 1〜 1 6重量%であることを特徴とする有色被膜を有する 装身具。
3. 前記ニッケル一リ ン合金メッキ被膜層が、 前記メツキ液を用い、 メツキ液の P H 3. 0〜 3. 5、 浴温 5 0〜 6 0 °C、 電流密度 ( D k ) ;!〜 3 AZdm2 の条件で電気メツキを行なって得られたニッケル 一リ ン合金メッキ被膜層であることを特徴とする請求の範囲第 2項に 記載の有色被膜を有する装身具。
4. 前記錯化剤が、 クェン酸、 酒石酸、 マロン酸、 リ ンゴ酸、 グリシ ン、 ダルコン酸およびこれらの塩から選ばれる少なく とも 1種である ことを特徴とする請求の範囲第 2項に記載の有色被膜を有する装身具。
5. 表面に乾式メツキ法により形成された有色被膜を有する装身具で あって、
銅合金または亜鉛からなる装身具用基材と、
該基材表面に形成されたニッケルメツキ被膜層、 または銅メツキ被 膜層および該銅メツキ被膜層表面に形成されたニッケルメツキ被膜層 と、
該ニッケルメツキ被膜層表面に、 二ッケル原子換算でニッケル塩 1 〜 1 5 gZ l 、 リ ン原子換算で次亜リ ン酸ナトリウム (還元剤) 5〜 3 0 g/ l 、 錯化剤、 緩衝剤、 および p H調整剤を含有してなるメッ キ液で無電解メツキを行なって、 または該メツキ液中で電気メツキを 行なった後引き続き該メツキ液中で無電解メツキを行なって形成され たアモルファスのニッケル一リ ン合金メッキ被膜層と、
該ニッケル一リ ン合金メッキ被膜層表面に乾式メツキ法により形成 された少なく とも 1層の有色被膜層と
からなり、 かつ、 該ニッケル一リ ン合金メッキ被膜層中におけるリ ン 含有量が 1 1 ~ 1 6重量%であることを特徴とする有色被膜を有する 装身具。
6 . 前記無電解メツキ、 または電気メツキおよび無電解メツキで用い られるメツキ液の P Hが 3 . 0〜 4 . 5であり、 かつ、 浴温が 5 0〜 9 5 °Cであることを特徴とする請求の範囲第 5項に記載の有色被膜を 有する装身具。
7 . 前記有色被膜層は、 金属被膜層、 金属の窒化物被膜層、 金属の炭 化物被膜層、 金属の酸化物被膜層、 金属の炭窒化物被膜層、 金属の酸 窒化物被膜層、 金属の酸炭化物被膜層および金属の酸炭窒化物被膜層 から選ばれる少なく とも 1層からなることを特徴とする請求の範囲第 1項、 第 2項および第 5項のいずれかに記載の有色被膜を有する装身 具。
8 . 前記ニッケルメツキ被膜層の厚みが 1 〜 1 0 ^ mであり、 前記二 ッケル—リ ン合金メッキ被膜層の厚みが 3〜 1 0 mであり、 かつ、 前記有色被膜層の厚みが 0 . 1 〜 2 Z mであることを特徴とする請求 の範囲第 1項、 第 2項および第 5項のいずれかに記載の有色被膜を有 する装身具。
9 . 表面に乾式メツキ法により形成された有色被膜を有する装身具の 製造方法であって、
銅合金または亜鉛からなる装身具用基材表面に、 電気メツキ法によ りニッケルメツキ被膜層を形成するか、 あるいは電気メツキ法により 銅メツキ被膜層を形成した後該銅メツキ被膜層表面に電気メツキ法に よりニッケルメツキ被膜層を形成し、
次いで、 該ニッケルメツキ被膜層表面に、 ニッケル原子換算で硫酸 二ッケル 1 5〜 7 0 g Z 1 、 リ ン原子換算で次亜リ ン酸ナトリウム 1 0〜 5 0 g Z 1 、 電導塩 5 0〜 9 0 g Z し p H緩衝剤 2 0〜 5 0 g / 1 および錯化剤 5〜 3 0 g Z 1 を含有してなるメッキ液を用いて電 気メツキしてリ ン含有量が 1 1〜 1 6重量%のアモルファスのニッケ ルーリ ン合金メッキ被膜層を形成し、
次いで、 該ニッケル一リン合金メッキ被膜層表面に、 乾式メツキ法 により少なく とも 1層の有色被膜層を形成することを特徴とする有色 被膜を有する装身具の製造方法。
1 0 . 前記ニッケル一リ ン合金メツキ被膜層を形成する際のメツキ液 の浴温が 5 0〜 6 0 °Cであり、 かつ、 電流密度 ( D k ) が 1〜 3 A / d m 2 であることを特徴とする請求の範囲第 9項に記載の有色被膜を 有する装身具の製造方法。
1 1 . 前記錯化剤が、 クェン酸、 酒石酸、 マロン酸、 リ ンゴ酸、 ダリ シン、 ダルコン酸およびこれらの塩から選ばれる少なく とも 1種であ ることを特徴とする請求の範囲第 9項に記載の有色被膜を有する装身 具の製造方法。
1 2 . 表面が乾式メツキ法により形成された有色被膜を有する装身具 の製造方法であって、 銅合金または亜鉛からなる装身具用基材表面に、 電気メツキ法によ りニッケルメツキ被膜層を形成するか、 あるいは電気メツキ法により 銅メツキ被膜層を形成した後該銅メツキ被膜層表面に電気メツキ法に よりニッケルメツキ被膜層を形成し、
次いで、 該ニッケルメツキ被膜層表面に、 ニッケル原子換算でニッ ゲル塩 l〜 1 5 gZ l 、 リ ン原子換算で次亜リ ン酸ナトリウム (還元 剤) 5〜 3 0 1 、 錯化剤、 緩衝剤、 および p H調整剤を含有して なるメッキ液で無電解メツキを行なって、 または該メッキ液中で電気 メツキを行なった後引き続き該メツキ液中で無電解メツキを行なって リ ン含有量が 1 1〜 1 6重量%のアモルファスのニッケル—リ ン合金 メツキ被膜層を形成し、
次いで、 該ニッケル一リ ン合金メッキ被膜層表面に、 乾式メツキ法 により少なく とも 1層の有色被膜層を形成することを特徴とする有色 被膜を有する装身具の製造方法。
1 3. 前記ニッケル一リ ン合金メッキ被膜は、 前記メツキ液を用い、 p H 3. 0〜 4. 5、 浴温 5 0〜 9 5 °Cの条件で無電解メツキを行な つて形成することを特徴とする請求の範囲第 1 2項に記載の有色被膜 を有する装身具の製造方法。
1 4. 前記ニッケル一リ ン合金メッキ被膜は、 前記メツキ液を用い、 p H 3. 0〜 4. 5、 浴温 5 0〜 9 5 °C、 電流密度 (D k ) 1〜 3 A /dm2 、 通電時間 5〜 3 0秒の条件で電気メツキを行なった後、 該 メツキ液を用いて無電解メツキを行なって形成することを特徴とする 請求の範囲第 1 2項に記載の有色被膜を有する装身具の製造方法。
1 5. 前記有色被膜層は、 金属被膜層、 金属の窒化物被膜層、 金属の 炭化物被膜層、 金属の酸化物被膜層、 金属の炭窒化物被膜層、 金属の 酸窒化物被膜層、 金属の酸炭化物被膜層および金属の酸炭窒化物被膜 層から選ばれる少なく とも 1層からなることを特徴とする請求の範囲 第 9項または第 1 2項に記載の有色被膜を有する装身具の製造方法。
1 6. 前記ニッケルメツキ被膜層の厚みが 1〜 1 0 X mであり、 前記 ニッケル一リ ン合金メッキ被膜層の厚みが 3〜 1 0 //mであり、 かつ, 前記有色被膜層の厚みが 0. 1〜 2 mであることを特徴とする請求 の範囲第 9項または第 1 2項に記載の有色被膜を有する装身具の製造 方法。
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