JPH05140794A - 眼鏡枠 - Google Patents
眼鏡枠Info
- Publication number
- JPH05140794A JPH05140794A JP32684191A JP32684191A JPH05140794A JP H05140794 A JPH05140794 A JP H05140794A JP 32684191 A JP32684191 A JP 32684191A JP 32684191 A JP32684191 A JP 32684191A JP H05140794 A JPH05140794 A JP H05140794A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- nickel
- seconds
- plating
- spectacle frame
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
- Eyeglasses (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 眼鏡枠基材に含まれるニッケルの溶出をパラ
ジウムメッキ層を基材により強固に成膜させることで防
ぐ。 【構成】 眼鏡枠は、ニッケルを含有した眼鏡枠基材と
メッキ層から構成される。そして、その眼鏡枠の外表面
のメッキ層には、０．５〜５μｍの厚みで純パラジウム
メッキ層１０が成膜されており、また、そのパラジウム
メッキ層１０と眼鏡枠基材の間には、ニッケルストライ
クメッキ処理層１１が形成されているを特徴とする。
ジウムメッキ層を基材により強固に成膜させることで防
ぐ。 【構成】 眼鏡枠は、ニッケルを含有した眼鏡枠基材と
メッキ層から構成される。そして、その眼鏡枠の外表面
のメッキ層には、０．５〜５μｍの厚みで純パラジウム
メッキ層１０が成膜されており、また、そのパラジウム
メッキ層１０と眼鏡枠基材の間には、ニッケルストライ
クメッキ処理層１１が形成されているを特徴とする。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、眼鏡枠基材もしくはそ
の基材を含む表面の、一部または全体が、ニッケルを含
有する眼鏡枠に関する。（以下、本明細書では「含有」
とは、一部または全部で、かつ「被覆」も含んだ意味で
使用する）
の基材を含む表面の、一部または全体が、ニッケルを含
有する眼鏡枠に関する。（以下、本明細書では「含有」
とは、一部または全部で、かつ「被覆」も含んだ意味で
使用する）
【０００２】
【従来の技術】眼鏡業界では、ニッケル（合金も含む）
は眼鏡枠基材の材料成分或いは眼鏡枠基材に施されるメ
ッキのメッキ成分として広く使用されている。一方、近
年、ニッケル合金及びそのニッケルを含有する物質が引
き起こす金属アレルギーについて注目されている。即
ち、人間の汗や分泌物等は金属と化学反応を引き起こ
し、金属が侵され、貴金属メッキの下のニッケル含有
の、母材やメッキ金属が表面に浮きだしてしまうもので
ある。そして、汗ばんだ皮膚の表面にこのニッケルが溶
けだした場合、汗でふやけた皮膚の表面の層から、その
ニッケルが体内に入り、アレルギー症状を引きおこすこ
ととなる。そこで、実開平１−７８１６６号公報には、
眼鏡枠のツルの母材に形成した貴金属メッキ層とその貴
金属メッキ層下に形成するニッケルメッキ層との間に、
パラジウムメッキ層を介在させることが提案されてい
る。
は眼鏡枠基材の材料成分或いは眼鏡枠基材に施されるメ
ッキのメッキ成分として広く使用されている。一方、近
年、ニッケル合金及びそのニッケルを含有する物質が引
き起こす金属アレルギーについて注目されている。即
ち、人間の汗や分泌物等は金属と化学反応を引き起こ
し、金属が侵され、貴金属メッキの下のニッケル含有
の、母材やメッキ金属が表面に浮きだしてしまうもので
ある。そして、汗ばんだ皮膚の表面にこのニッケルが溶
けだした場合、汗でふやけた皮膚の表面の層から、その
ニッケルが体内に入り、アレルギー症状を引きおこすこ
ととなる。そこで、実開平１−７８１６６号公報には、
眼鏡枠のツルの母材に形成した貴金属メッキ層とその貴
金属メッキ層下に形成するニッケルメッキ層との間に、
パラジウムメッキ層を介在させることが提案されてい
る。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記の実開平
１−７８１６６号公報に開示するパラジウムメッキ層
は、実際には、母材に対するパラジウムメッキ層の密着
が十分でなく、このパラジウム層が剥離し易いという問
題があるため、実質的には、ニッケル溶出を完全に抑制
できないという課題があった。また、眼鏡枠は、レンズ
の装着のための、保持枠としての機能のみでなく、ファ
ッション性が重視され、自由なカラーリング技術が必要
とされる。しかしながら、パラジウムメッキは白色系で
あるため、色調は単色系が主体となり、色彩の観点から
するとデザインが単調になるという問題があり、特定の
顧客層に限定されるという問題があった。更に、パラジ
ウムメッキは、非ニッケル系の眼鏡枠基材や他のメッキ
種との、密着性等を含む全体的な適合性についてや加飾
模様の加工についてよく知られていなかった。本発明
は、かかる課題を解決するためになされたものであり、
その目的は、密着性を改善したパラジウムメッキ層を有
する眼鏡枠を提供するものであり、更に第２の目的は、
パラジウムメッキを基本にした眼鏡枠基材や種々のメッ
キとの組合せによる、眼鏡枠の自由なカラーリング技術
を提供することである。
１−７８１６６号公報に開示するパラジウムメッキ層
は、実際には、母材に対するパラジウムメッキ層の密着
が十分でなく、このパラジウム層が剥離し易いという問
題があるため、実質的には、ニッケル溶出を完全に抑制
できないという課題があった。また、眼鏡枠は、レンズ
の装着のための、保持枠としての機能のみでなく、ファ
ッション性が重視され、自由なカラーリング技術が必要
とされる。しかしながら、パラジウムメッキは白色系で
あるため、色調は単色系が主体となり、色彩の観点から
するとデザインが単調になるという問題があり、特定の
顧客層に限定されるという問題があった。更に、パラジ
ウムメッキは、非ニッケル系の眼鏡枠基材や他のメッキ
種との、密着性等を含む全体的な適合性についてや加飾
模様の加工についてよく知られていなかった。本発明
は、かかる課題を解決するためになされたものであり、
その目的は、密着性を改善したパラジウムメッキ層を有
する眼鏡枠を提供するものであり、更に第２の目的は、
パラジウムメッキを基本にした眼鏡枠基材や種々のメッ
キとの組合せによる、眼鏡枠の自由なカラーリング技術
を提供することである。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明はかかる目的を解
決するためになされたものであり、ニッケルを含有する
眼鏡枠基材と、その基材表面にストライク処理を介して
成膜されたパラジウム層のメッキ層とを備えたことを特
徴とする眼鏡枠を提供するものである。また、好ましく
は、パラジウムのメッキ層を皮膚に接触する部分に用い
た眼鏡枠を提供するものである。また、好ましくは、ス
トライク処理がニッケルストライク、金ストライク、金
合金ストライクのすくなくとも１つから選択されたスト
ライク処理である。また、好ましくは、ニッケルを含有
する眼鏡枠基材のリム、ヨロイ、テンプルがニッケル−
クロム系金属材料であり、ブローチおよびヒンジが銅−
亜鉛−ニッケル系金属材料からなるものである。また、
最外層が金色の光沢を呈する眼鏡枠としては、好ましく
は、メッキ層が、ニッケルストライク処理を介してパラ
ジウム層、金合金ストライク処理、金合金層の順に成膜
されているものである。また、最外層が白色の光沢を呈
する眼鏡枠としては、好ましくは、メッキ層が、ニッケ
ルストライク処理を介して、パラジウム層、金合金層で
成膜されているものである。また、好ましくは、メッキ
層が、金ストライク処理を介して、金合金層、パラジウ
ム層の順に成膜されているものである。また、外観が白
色部分と金色部分との光沢を呈するコンビネーションカ
ラーを有するようにするには、好ましくは、メッキ層
が、ストライク処理を介してパラジウム層を成膜する工
程と、このパラジウムメッキ層の所定の表面部分にレジ
スト膜を成膜する工程と、該レジスト膜を含む表面にメ
ッキ層を成膜する工程、該レジスト膜をレジスト剥離手
段により除去する工程から得られたメッキ層である。好
ましくは、メッキ層が、金ストライク処理を介して、金
合金メッキ層を成膜する工程と、この金合金メッキ層の
所定の表面部分にレジスト膜を成膜する工程と、該レジ
スト膜を含む表面にパラジウム層を成膜する工程と、該
レジスト膜をレジスト剥離手段により除去する工程から
得られたメッキ層である。
決するためになされたものであり、ニッケルを含有する
眼鏡枠基材と、その基材表面にストライク処理を介して
成膜されたパラジウム層のメッキ層とを備えたことを特
徴とする眼鏡枠を提供するものである。また、好ましく
は、パラジウムのメッキ層を皮膚に接触する部分に用い
た眼鏡枠を提供するものである。また、好ましくは、ス
トライク処理がニッケルストライク、金ストライク、金
合金ストライクのすくなくとも１つから選択されたスト
ライク処理である。また、好ましくは、ニッケルを含有
する眼鏡枠基材のリム、ヨロイ、テンプルがニッケル−
クロム系金属材料であり、ブローチおよびヒンジが銅−
亜鉛−ニッケル系金属材料からなるものである。また、
最外層が金色の光沢を呈する眼鏡枠としては、好ましく
は、メッキ層が、ニッケルストライク処理を介してパラ
ジウム層、金合金ストライク処理、金合金層の順に成膜
されているものである。また、最外層が白色の光沢を呈
する眼鏡枠としては、好ましくは、メッキ層が、ニッケ
ルストライク処理を介して、パラジウム層、金合金層で
成膜されているものである。また、好ましくは、メッキ
層が、金ストライク処理を介して、金合金層、パラジウ
ム層の順に成膜されているものである。また、外観が白
色部分と金色部分との光沢を呈するコンビネーションカ
ラーを有するようにするには、好ましくは、メッキ層
が、ストライク処理を介してパラジウム層を成膜する工
程と、このパラジウムメッキ層の所定の表面部分にレジ
スト膜を成膜する工程と、該レジスト膜を含む表面にメ
ッキ層を成膜する工程、該レジスト膜をレジスト剥離手
段により除去する工程から得られたメッキ層である。好
ましくは、メッキ層が、金ストライク処理を介して、金
合金メッキ層を成膜する工程と、この金合金メッキ層の
所定の表面部分にレジスト膜を成膜する工程と、該レジ
スト膜を含む表面にパラジウム層を成膜する工程と、該
レジスト膜をレジスト剥離手段により除去する工程から
得られたメッキ層である。
【０００５】本願発明のストライク処理は、低濃度メッ
キ（処理）浴槽中で、大電流によって短時間処理するも
のであり、基材表面の清浄、活性化を効果的に行わせる
ものである。即ち、通常のメッキ被膜は基材組織の結晶
格子の影響を受けて、これを引き継いで析出する性質が
あるが、眼鏡枠のように強鍛造加工を受けた材料を使用
したものは、基材組織が加工集合組織と呼ばれる微細な
結晶の集合体となっている。そのため、上記メッキ被膜
の析出物が基材結晶を引き続いて析出できず、これが、
耐蝕力・密着力低下の原因となる。このような基材上に
ストライク処理を施すと、後工程のメッキ工程におい
て、基材表面にメッキされる物質が析出するための析出
核を強制的に多数発生させることができる。従って、本
発明のパラジウムメッキのためのストライク処理による
と前述の耐蝕力・密着力の低下を解消でき、このストラ
イク処理を施した後に、パラジウムメッキを施すことに
よって、緻密なパラジウム被膜を得ることができるよう
になるとともに、密着性及び被膜の基材遮蔽効果が改善
され、その結果、ニッケルの溶出防止効果も同様に改善
される。また、本願発明での、ストライク処理は、眼鏡
枠に適用される材料であれば、基本的に基材の種類を選
ばず、その効果を有する。
キ（処理）浴槽中で、大電流によって短時間処理するも
のであり、基材表面の清浄、活性化を効果的に行わせる
ものである。即ち、通常のメッキ被膜は基材組織の結晶
格子の影響を受けて、これを引き継いで析出する性質が
あるが、眼鏡枠のように強鍛造加工を受けた材料を使用
したものは、基材組織が加工集合組織と呼ばれる微細な
結晶の集合体となっている。そのため、上記メッキ被膜
の析出物が基材結晶を引き続いて析出できず、これが、
耐蝕力・密着力低下の原因となる。このような基材上に
ストライク処理を施すと、後工程のメッキ工程におい
て、基材表面にメッキされる物質が析出するための析出
核を強制的に多数発生させることができる。従って、本
発明のパラジウムメッキのためのストライク処理による
と前述の耐蝕力・密着力の低下を解消でき、このストラ
イク処理を施した後に、パラジウムメッキを施すことに
よって、緻密なパラジウム被膜を得ることができるよう
になるとともに、密着性及び被膜の基材遮蔽効果が改善
され、その結果、ニッケルの溶出防止効果も同様に改善
される。また、本願発明での、ストライク処理は、眼鏡
枠に適用される材料であれば、基本的に基材の種類を選
ばず、その効果を有する。
【０００６】ニッケル（Ｎｉ）を含有する眼鏡枠材とし
ては、例えば、Ｃｏ及びＣｒを含むＮｉ基合金、Ｎｉを
４〜２０％含むオーステナイト系あるいはマルテンサイ
ト系ステンレス鋼、少なくとも最外表面がＴｉまたはＴ
ｉ合金である材料（芯材の有無を問わない）等の種々の
部材があげられ、ニッケルメッキ層として、 Ｎｉ−Ｃ
ｒ合金にニッケルまたはニッケルを含有するメッキをし
たもの、ニッケルストライクメッキ、金ストライクメッ
キを施すまでに、洋白にニッケルまたはニッケルを含有
するメッキを施したもの、Ｃｕ−Ｂｅにニッケルまたは
ニッケルを含有するメッキを施したもの、少なくとも最
外表面がＴｉまたはＴｉ合金である材料（芯材の有無を
問わない）にニッケルまたはニッケルを含有するメッキ
を施したもの、Ｎｉ含有量４〜２０％のオーステナイト
系またはマルテンサイト系ステンレス鋼にＮｉまたはニ
ッケルを含有するメッキを施したもの等が挙げられる。
ては、例えば、Ｃｏ及びＣｒを含むＮｉ基合金、Ｎｉを
４〜２０％含むオーステナイト系あるいはマルテンサイ
ト系ステンレス鋼、少なくとも最外表面がＴｉまたはＴ
ｉ合金である材料（芯材の有無を問わない）等の種々の
部材があげられ、ニッケルメッキ層として、 Ｎｉ−Ｃ
ｒ合金にニッケルまたはニッケルを含有するメッキをし
たもの、ニッケルストライクメッキ、金ストライクメッ
キを施すまでに、洋白にニッケルまたはニッケルを含有
するメッキを施したもの、Ｃｕ−Ｂｅにニッケルまたは
ニッケルを含有するメッキを施したもの、少なくとも最
外表面がＴｉまたはＴｉ合金である材料（芯材の有無を
問わない）にニッケルまたはニッケルを含有するメッキ
を施したもの、Ｎｉ含有量４〜２０％のオーステナイト
系またはマルテンサイト系ステンレス鋼にＮｉまたはニ
ッケルを含有するメッキを施したもの等が挙げられる。
【０００７】そのストライク処理として、例えば、ニッ
ケルストライク処理、金ストライク処理、金合金ストラ
イク処理、パラジウムストライク処理、銅ストライク処
理、銀ストライク処理等を用いることができる。特に、
好ましくは、ニッケルストライク処理、金ストライク処
理、金合金ストライク処理である。ストライク処理液と
しては、種々のメッキ液をベースとして調整でき、低濃
度のものが使用できるが、ニッケルストライク処理の場
合、ストライク処理溶液としては、例えば、塩化ニッケ
ルに塩酸を含有したものを使用でき、金ストライク処理
の場合は、例えば、シアン化金カリウムメッキ液、金合
金ストライク処理の場合は、例えば、二シアン金カリウ
ム、二シアン銀カリウム、三シアン銅カリウム、シアン
化カリウムを含むアルカリシアン溶液を用いることがで
きる。それらの溶液中に例えば、補助成分として、目的
に応じて、光沢剤、ＰＨ調整剤、界面活性剤等も適量添
加することもできる。また、溶液中における処理条件
は、溶液の種類、温度によっても異なるが、前述のよう
に、大電流、短時間処理が好ましい。具体的には、電流
密度０．１Ａ（アンペア）／ｄｍ2 〜１５Ａ（アンペ
ア）／ｄｍ2 、処理温度が常温では、１秒〜１０分程
度、好ましくは、２秒〜２０秒程度が一般的基準として
用いることができるが、温度、電流密度、処理時間には
相関関係があり、これら関係に基づき、処理条件が決定
される。
ケルストライク処理、金ストライク処理、金合金ストラ
イク処理、パラジウムストライク処理、銅ストライク処
理、銀ストライク処理等を用いることができる。特に、
好ましくは、ニッケルストライク処理、金ストライク処
理、金合金ストライク処理である。ストライク処理液と
しては、種々のメッキ液をベースとして調整でき、低濃
度のものが使用できるが、ニッケルストライク処理の場
合、ストライク処理溶液としては、例えば、塩化ニッケ
ルに塩酸を含有したものを使用でき、金ストライク処理
の場合は、例えば、シアン化金カリウムメッキ液、金合
金ストライク処理の場合は、例えば、二シアン金カリウ
ム、二シアン銀カリウム、三シアン銅カリウム、シアン
化カリウムを含むアルカリシアン溶液を用いることがで
きる。それらの溶液中に例えば、補助成分として、目的
に応じて、光沢剤、ＰＨ調整剤、界面活性剤等も適量添
加することもできる。また、溶液中における処理条件
は、溶液の種類、温度によっても異なるが、前述のよう
に、大電流、短時間処理が好ましい。具体的には、電流
密度０．１Ａ（アンペア）／ｄｍ2 〜１５Ａ（アンペ
ア）／ｄｍ2 、処理温度が常温では、１秒〜１０分程
度、好ましくは、２秒〜２０秒程度が一般的基準として
用いることができるが、温度、電流密度、処理時間には
相関関係があり、これら関係に基づき、処理条件が決定
される。
【０００８】本発明で用いるパラジウムメッキは、ニッ
ケルを含まないもので、実質的にパラジウムの元素物性
の影響下に依存するもので、その含有量が少なく９０以
上含有されたもので、特に好ましくは、純パラジウムメ
ッキである。パラジウムメッキ液としては、例えば、酸
性塩化物溶液を用いることができる。メッキ工程では、
溶剤、超音波、アルカリ、酸、アルカリ陰極電解、アル
カリ陽極電解、流水、純水、温水等の各種の洗浄工程を
組み合わせて使用できる。パラジウムメッキの前後の処
理工程の陰極電解工程では、この時発生する水素の影響
を考慮することが好ましく、メッキしようとする材料の
中に、水素が内蔵されるようになり、パラジウムメッキ
膜が脆くなる傾向が見られる場合がある。その場合、陰
極電解の処理時間を通常の１０分の１程度（例えば、２
秒〜２０秒程度）にすることが好ましい。更に、パラジ
ウムメッキと併用するメッキには、ニッケルメッキ、金
メッキ、金合金メッキ、銅メッキ、銀メッキ等を１種ま
たは１種以上を組み合わせて使用できる。また、眼鏡枠
に色彩模様を形成する場合は、例えば、レジスト技術を
応用して、パラジウムメッキ層上に剥離可能な膜を形成
し、その膜の成膜技術と剥離技術を好ましく応用するこ
とができる。即ち、パラジウムメッキ層上に剥離可能の
レジスト膜を形成し、その膜の除去により、膜除去部分
が露出もしくは埋められ、周囲にメッキ部分とは異なる
色彩或いは模様を呈することとなり、審美感を持たせた
眼鏡枠を提供できる。
ケルを含まないもので、実質的にパラジウムの元素物性
の影響下に依存するもので、その含有量が少なく９０以
上含有されたもので、特に好ましくは、純パラジウムメ
ッキである。パラジウムメッキ液としては、例えば、酸
性塩化物溶液を用いることができる。メッキ工程では、
溶剤、超音波、アルカリ、酸、アルカリ陰極電解、アル
カリ陽極電解、流水、純水、温水等の各種の洗浄工程を
組み合わせて使用できる。パラジウムメッキの前後の処
理工程の陰極電解工程では、この時発生する水素の影響
を考慮することが好ましく、メッキしようとする材料の
中に、水素が内蔵されるようになり、パラジウムメッキ
膜が脆くなる傾向が見られる場合がある。その場合、陰
極電解の処理時間を通常の１０分の１程度（例えば、２
秒〜２０秒程度）にすることが好ましい。更に、パラジ
ウムメッキと併用するメッキには、ニッケルメッキ、金
メッキ、金合金メッキ、銅メッキ、銀メッキ等を１種ま
たは１種以上を組み合わせて使用できる。また、眼鏡枠
に色彩模様を形成する場合は、例えば、レジスト技術を
応用して、パラジウムメッキ層上に剥離可能な膜を形成
し、その膜の成膜技術と剥離技術を好ましく応用するこ
とができる。即ち、パラジウムメッキ層上に剥離可能の
レジスト膜を形成し、その膜の除去により、膜除去部分
が露出もしくは埋められ、周囲にメッキ部分とは異なる
色彩或いは模様を呈することとなり、審美感を持たせた
眼鏡枠を提供できる。
【０００９】
【作用】本発明の眼鏡枠材の表面には、ニッケルが含有
され、強鍛造加工を受けた材料となっており、その基材
組織が加工集合組織と呼ばれる微細な結晶の集合体とな
っている。そして、その表面に低濃度メッキ（処理）浴
槽中で、大電流によって短時間処理のストライク処理が
施され、基材表面の清浄、活性化が行われた後に、パラ
ジウムメッキ層が形成される。すると、このストライク
処理により、基材表面にパラジウムメッキされる物質が
析出するための析出核を強制的に多数発生させることが
でき、緻密なパラジウム被膜を得ることができるように
なるとともに、パラジウム被覆層はその下部の層との密
着が強化されるので、パラジウムメッキ層下のニッケル
成分の溶出を抑制する。
され、強鍛造加工を受けた材料となっており、その基材
組織が加工集合組織と呼ばれる微細な結晶の集合体とな
っている。そして、その表面に低濃度メッキ（処理）浴
槽中で、大電流によって短時間処理のストライク処理が
施され、基材表面の清浄、活性化が行われた後に、パラ
ジウムメッキ層が形成される。すると、このストライク
処理により、基材表面にパラジウムメッキされる物質が
析出するための析出核を強制的に多数発生させることが
でき、緻密なパラジウム被膜を得ることができるように
なるとともに、パラジウム被覆層はその下部の層との密
着が強化されるので、パラジウムメッキ層下のニッケル
成分の溶出を抑制する。
【００１０】
【実施例】以下、本発明の実施例について詳細に説明す
る。 （実施例１）図１は、実施例１の眼鏡枠１であり、眼鏡
枠材１ａに含有した、ニッケルの溶出を抑制した構造と
なっている。この眼鏡枠１を構成する各部品は、２種類
の異なる組成の眼鏡枠基材１ａから構成される。リム
２、ブリッジ３パッドアーム４、パッドボックス５、ヨ
ロイ６、テンプル７を構成している組成は、ニッケル−
クロム系からなり、ブローチ８及びヒンジ９は、銅−亜
鉛−ニッケル系からなる。前記ニッケル−クロム系のは
ニッケル（Ｎｉ）８７％、銅（Ｃｕ）約０．９％、クロ
ム（Ｃｒ）９．９％、鉄（Ｆｅ）０．６％、マンガン
（Ｍｎ）１．０％、炭素（Ｃ）０．１％、珪素（Ｓｉ）
０．３％、硫黄（Ｓ）０．２５％を含有するものであ
り、銅−亜鉛−ニッケル系は、ニッケル（Ｎｉ）１８
％、銅（Ｃｕ）５７％、亜鉛（Ｚｎ）少量、パラジウム
（Ｐｂ）０．１％、鉄（Ｆｅ）０．２５％、マンガン
（Ｍｎ）０．５％を含有している。本実施例において、
ブローチ８、ヒンジ９は、眼鏡枠として、部品の形状自
体複雑であり、構造上、曲げ性、弾性に優れた機能が要
求される。そこで、製造上では、切削加工性に優れ、一
方、機能上では、上記要求を満たす材料として、銅−亜
鉛−ニッケル系の基材を選択している。そして、この眼
鏡枠１の外表面には、全体に図２のリム２のＸ−Ｘ線断
面図に示すように、０．５〜５μｍの厚みで純パラジウ
ムメッキ層（以下、本明細書では単に、パラジウムメッ
キ層という）１０が形成されており、白色の光沢のある
外観をしている。また、そのパラジウムメッキ層１０と
眼鏡枠基材１ａとの間には、ニッケルストライクメッキ
処理層１１が施されている。以下、上記眼鏡枠１に使用
した表面処理としてのメッキ層の形成処理工程１）〜１
６）を示す。
る。 （実施例１）図１は、実施例１の眼鏡枠１であり、眼鏡
枠材１ａに含有した、ニッケルの溶出を抑制した構造と
なっている。この眼鏡枠１を構成する各部品は、２種類
の異なる組成の眼鏡枠基材１ａから構成される。リム
２、ブリッジ３パッドアーム４、パッドボックス５、ヨ
ロイ６、テンプル７を構成している組成は、ニッケル−
クロム系からなり、ブローチ８及びヒンジ９は、銅−亜
鉛−ニッケル系からなる。前記ニッケル−クロム系のは
ニッケル（Ｎｉ）８７％、銅（Ｃｕ）約０．９％、クロ
ム（Ｃｒ）９．９％、鉄（Ｆｅ）０．６％、マンガン
（Ｍｎ）１．０％、炭素（Ｃ）０．１％、珪素（Ｓｉ）
０．３％、硫黄（Ｓ）０．２５％を含有するものであ
り、銅−亜鉛−ニッケル系は、ニッケル（Ｎｉ）１８
％、銅（Ｃｕ）５７％、亜鉛（Ｚｎ）少量、パラジウム
（Ｐｂ）０．１％、鉄（Ｆｅ）０．２５％、マンガン
（Ｍｎ）０．５％を含有している。本実施例において、
ブローチ８、ヒンジ９は、眼鏡枠として、部品の形状自
体複雑であり、構造上、曲げ性、弾性に優れた機能が要
求される。そこで、製造上では、切削加工性に優れ、一
方、機能上では、上記要求を満たす材料として、銅−亜
鉛−ニッケル系の基材を選択している。そして、この眼
鏡枠１の外表面には、全体に図２のリム２のＸ−Ｘ線断
面図に示すように、０．５〜５μｍの厚みで純パラジウ
ムメッキ層（以下、本明細書では単に、パラジウムメッ
キ層という）１０が形成されており、白色の光沢のある
外観をしている。また、そのパラジウムメッキ層１０と
眼鏡枠基材１ａとの間には、ニッケルストライクメッキ
処理層１１が施されている。以下、上記眼鏡枠１に使用
した表面処理としてのメッキ層の形成処理工程１）〜１
６）を示す。
【００１１】１．溶剤洗浄 トリクレン溶液中
にて８０℃で１２０秒間超音波を行った。 ２．アルカリ浸漬 オルソ珪酸ソーダ・・・３０ｇ
／ｌ 炭酸ソーダ ・・・４０ｇ／ｌ 苛性ソーダ ・・・１５ｇ／ｌ 界面活性剤 ・・・ １ｇ／ｌ の溶液中に７０℃で３分間 超音波洗浄を行った。 ３．純水流水洗 常温で３０秒間 ４．アルカリ陰極電解 水酸化ナトリウム・・・ ５ｇ／ｌ 炭酸ナトリウム ・・・２０ｇ／ｌ リン塩酸 ・・・２０ｇ／ｌ 界面活性剤 ・・・微量 純水 ・・・１ｌ の溶液中で陰極電解を行った。その条件は、６０°Ｃで
５Ａ（アンペア）／ｄｍ2 （電流密度）１０ｓｅｃであ
る。 ５．アルカリ陰極電解 水酸化ナトリウム・・・５０ｇ／ｌ グルコン酸ソーダ・・・５０ｇ／ｌ 純水 ・・・１ｌ の溶液中で陰極電解を行った。その条件は、４５°Ｃで
４Ａ（アンペア）／ｄｍ2 （電流密度）１０ｓｅｃであ
る。 ６．流水洗 市水にて常温で３０秒間 ７．酸浸漬 ５％硫酸溶液中に２５°Ｃで２
分間 ８．流水洗 常温で３０秒 ９．純水流水洗 常温で３０秒 １０．ニッケルストライク処理 塩化ニッケル ・・・２４０ｇ／ｌ 塩酸 ・・・１４０ｇ／ｌ の溶液中で、ニッケルストライク処理を行った。その条
件は、常温で１０Ａ／ｄｍ2 （電流密度） １５ｓｅｃ
である。 １１．流水洗 常温で３０秒 １２．パラジウムメッキ 酸性塩化物溶液（上村工業社製パラジウムメッキ溶液４
５０）中で電流密度０．８Ａ（アンペア）／ｄｍ2 の条
件下で常温にて１０分間メッキを行った。 １３．流水洗 ２５°Ｃで３０秒間超音波行っ
た。 １４．純水流水洗 ２５°Ｃで１２０秒 １５．温水流水洗 ８５°Ｃで１２０秒 １６．乾燥 温風５０°Ｃで５分 以上のような、構成により、ニッケルの溶出を防ぐこと
ができた。
にて８０℃で１２０秒間超音波を行った。 ２．アルカリ浸漬 オルソ珪酸ソーダ・・・３０ｇ
／ｌ 炭酸ソーダ ・・・４０ｇ／ｌ 苛性ソーダ ・・・１５ｇ／ｌ 界面活性剤 ・・・ １ｇ／ｌ の溶液中に７０℃で３分間 超音波洗浄を行った。 ３．純水流水洗 常温で３０秒間 ４．アルカリ陰極電解 水酸化ナトリウム・・・ ５ｇ／ｌ 炭酸ナトリウム ・・・２０ｇ／ｌ リン塩酸 ・・・２０ｇ／ｌ 界面活性剤 ・・・微量 純水 ・・・１ｌ の溶液中で陰極電解を行った。その条件は、６０°Ｃで
５Ａ（アンペア）／ｄｍ2 （電流密度）１０ｓｅｃであ
る。 ５．アルカリ陰極電解 水酸化ナトリウム・・・５０ｇ／ｌ グルコン酸ソーダ・・・５０ｇ／ｌ 純水 ・・・１ｌ の溶液中で陰極電解を行った。その条件は、４５°Ｃで
４Ａ（アンペア）／ｄｍ2 （電流密度）１０ｓｅｃであ
る。 ６．流水洗 市水にて常温で３０秒間 ７．酸浸漬 ５％硫酸溶液中に２５°Ｃで２
分間 ８．流水洗 常温で３０秒 ９．純水流水洗 常温で３０秒 １０．ニッケルストライク処理 塩化ニッケル ・・・２４０ｇ／ｌ 塩酸 ・・・１４０ｇ／ｌ の溶液中で、ニッケルストライク処理を行った。その条
件は、常温で１０Ａ／ｄｍ2 （電流密度） １５ｓｅｃ
である。 １１．流水洗 常温で３０秒 １２．パラジウムメッキ 酸性塩化物溶液（上村工業社製パラジウムメッキ溶液４
５０）中で電流密度０．８Ａ（アンペア）／ｄｍ2 の条
件下で常温にて１０分間メッキを行った。 １３．流水洗 ２５°Ｃで３０秒間超音波行っ
た。 １４．純水流水洗 ２５°Ｃで１２０秒 １５．温水流水洗 ８５°Ｃで１２０秒 １６．乾燥 温風５０°Ｃで５分 以上のような、構成により、ニッケルの溶出を防ぐこと
ができた。
【００１２】（実施例２）図３は、クラッド材の眼鏡枠
基材１２ｃとニッケルストライク処理とパラジウムメッ
キと金合金ストライク処理と金合金メッキとの組合せの
複合層の眼鏡枠１２のリムの断面図を示すもので、この
組合せにより、最外層に金色の光沢のある外観を奏する
眼鏡枠を得るものである。基材側は、ニッケル−クロム
合金１２ｂを表層にクラッドしたチタン（またはチタン
合金）を芯材１２ａとするクッラド材１２ｃ上にニッケ
ルストライク処理１３を施したのちパラジウムを０．５
〜５μｍの厚みでメッキし、そのメッキ層１４上に、さ
らに０．１〜２．０μｍの厚みの金合金メッキ層１５を
施したものである。特に、本実施例では、金色の光沢の
ある外観を奏する眼鏡枠を得るために、最外層に金合金
メッキ層を施すと共に、チタン−クロム合金１２ｂを表
層にクラッドしたチタンを芯材１２ａとするクラッド材
１２ｃを使用しているので、軽量で耐久性に優れた美観
を奏する眼鏡枠１２が得られる。更に、このクラッド材
と密着に適した、ニッケルストライク処理１３を施して
おり、加えて、パラジウムメッキ層１４のうえに、金合
金ストライク処理１５ａを介して金合金メッキ１５をを
用いている。従って、これらの構成による相乗効果によ
り、眼鏡枠基材のニッケルの溶出をより効果的に防ぐこ
とができる。以下に、メッキ層の形成処理工程１）〜２
２）を示す。
基材１２ｃとニッケルストライク処理とパラジウムメッ
キと金合金ストライク処理と金合金メッキとの組合せの
複合層の眼鏡枠１２のリムの断面図を示すもので、この
組合せにより、最外層に金色の光沢のある外観を奏する
眼鏡枠を得るものである。基材側は、ニッケル−クロム
合金１２ｂを表層にクラッドしたチタン（またはチタン
合金）を芯材１２ａとするクッラド材１２ｃ上にニッケ
ルストライク処理１３を施したのちパラジウムを０．５
〜５μｍの厚みでメッキし、そのメッキ層１４上に、さ
らに０．１〜２．０μｍの厚みの金合金メッキ層１５を
施したものである。特に、本実施例では、金色の光沢の
ある外観を奏する眼鏡枠を得るために、最外層に金合金
メッキ層を施すと共に、チタン−クロム合金１２ｂを表
層にクラッドしたチタンを芯材１２ａとするクラッド材
１２ｃを使用しているので、軽量で耐久性に優れた美観
を奏する眼鏡枠１２が得られる。更に、このクラッド材
と密着に適した、ニッケルストライク処理１３を施して
おり、加えて、パラジウムメッキ層１４のうえに、金合
金ストライク処理１５ａを介して金合金メッキ１５をを
用いている。従って、これらの構成による相乗効果によ
り、眼鏡枠基材のニッケルの溶出をより効果的に防ぐこ
とができる。以下に、メッキ層の形成処理工程１）〜２
２）を示す。
【００１３】１．溶剤洗浄 トリクレン溶液中
にて ８０℃で１２０秒間超音波を行った。 ２．アルカリ浸漬 オルソ珪酸ソーダ・・・３０ｇ
／ｌ 炭酸ソーダ ・・・４０ｇ／ｌ 苛性ソーダ ・・・１５ｇ／ｌ 界面活性剤 ・・・ １ｇ／ｌ の溶液中で、７０℃で３分間超音波洗浄を行った。 ３．純水流水洗 純水で流水にて３５℃で３０秒
間行った。 ４．アルカリ陰極電解 水酸化ナトリウム・・・ ５ｇ／ｌ 炭酸ナトリウム ・・・２０ｇ／ｌ リン塩酸 ・・・２０ｇ／ｌ 界面活性剤 ・・・微量 純水 ・・・１ｌ の溶液中で陰極電解を行った。その条件は、６０°Ｃで
５Ａ（アンペア）／ｄｍ2 （電流密度） ８ｓｅｃであ
る。 ５．アルカリ陰極電解 水酸化ナトリウム・・・５０ｇ／ｌ グルコン酸ソーダ・・・５０ｇ／ｌ 純水 ・・・１ｌ の溶液中で陰極電解を行った。その条件は、４５°Ｃで
４Ａ（アンペア）／ｄｍ2 （電流密度） ５ｓｅｃであ
る。 ６．流水洗 市水にて常温で３０秒間 ７．酸浸漬 ５％硫酸溶液中に ２５°Ｃで
２分間 ８．流水洗 常温で３０秒 純水流水洗 常温で３０秒 ９．ニッケルストライク処理 塩化ニッケル ・・・２４０ｇ／ｌ 塩酸 ・・・１４０ｇ／ｌ の溶液中で、ニッケルストライク処理を行った。その条
件は、常温で１０Ａ／ｄｍ2 （電流密度） １５ｓｅｃ
である。 １０. 流水洗 市水にて３０秒間 １１. 純水流水洗 常温で３０秒 １２．パラジウムメッキ 酸性塩化物溶液（上村工業社製パラジウムメッキ溶液４
５０）中で電流密度 ０．８Ａ（アンペア）／ｄｍ2 の
条件下で常温にて１０分間メッキを行った。 １３．流水洗 市水にて常温で３０秒間 １４. 純水流水洗 常温で３０秒
にて ８０℃で１２０秒間超音波を行った。 ２．アルカリ浸漬 オルソ珪酸ソーダ・・・３０ｇ
／ｌ 炭酸ソーダ ・・・４０ｇ／ｌ 苛性ソーダ ・・・１５ｇ／ｌ 界面活性剤 ・・・ １ｇ／ｌ の溶液中で、７０℃で３分間超音波洗浄を行った。 ３．純水流水洗 純水で流水にて３５℃で３０秒
間行った。 ４．アルカリ陰極電解 水酸化ナトリウム・・・ ５ｇ／ｌ 炭酸ナトリウム ・・・２０ｇ／ｌ リン塩酸 ・・・２０ｇ／ｌ 界面活性剤 ・・・微量 純水 ・・・１ｌ の溶液中で陰極電解を行った。その条件は、６０°Ｃで
５Ａ（アンペア）／ｄｍ2 （電流密度） ８ｓｅｃであ
る。 ５．アルカリ陰極電解 水酸化ナトリウム・・・５０ｇ／ｌ グルコン酸ソーダ・・・５０ｇ／ｌ 純水 ・・・１ｌ の溶液中で陰極電解を行った。その条件は、４５°Ｃで
４Ａ（アンペア）／ｄｍ2 （電流密度） ５ｓｅｃであ
る。 ６．流水洗 市水にて常温で３０秒間 ７．酸浸漬 ５％硫酸溶液中に ２５°Ｃで
２分間 ８．流水洗 常温で３０秒 純水流水洗 常温で３０秒 ９．ニッケルストライク処理 塩化ニッケル ・・・２４０ｇ／ｌ 塩酸 ・・・１４０ｇ／ｌ の溶液中で、ニッケルストライク処理を行った。その条
件は、常温で１０Ａ／ｄｍ2 （電流密度） １５ｓｅｃ
である。 １０. 流水洗 市水にて３０秒間 １１. 純水流水洗 常温で３０秒 １２．パラジウムメッキ 酸性塩化物溶液（上村工業社製パラジウムメッキ溶液４
５０）中で電流密度 ０．８Ａ（アンペア）／ｄｍ2 の
条件下で常温にて１０分間メッキを行った。 １３．流水洗 市水にて常温で３０秒間 １４. 純水流水洗 常温で３０秒
【００１４】１５．金合金ストライク処理 二シアン金カリウム ・・・・４ｇ／ｌ 二シアン銀カリウム ・・・・３ｇ／ｌ 三シアン銅カリウム ・・・・１ｇ／ｌ シアン化カリウム ・・・・６ｇ／ｌ 光沢剤 ・・・・１ｇ／ｌ からなるアルカリシアン溶液中で常温で１０Ａ（アンペ
ア）／ｄｍ2 （電流密度）、１５ｓｅｃ １６．流水洗浄 市水にて常温で３０秒間 １７. 純水流水洗 常温で３０秒 １８．金合金メッキ チオリンゴ酸金 ・・・
５ｇ／ｌ ジアミノ亜硝酸パラジウム・・・５ｇ／ｌ エチレンジアミン ・・・１０ｇ／ｌ パラアミノ安息香酸 ・・・１００ｇ／ｌ 水酸化カリウム ・・・１０ｇ／ｌ の非シアン溶液中（ＰＨ１２）で電流密度 ０．５Ａ
（アンペア）／ｄｍ2 の条件下で４０℃にて６分間金合
金メッキを行った。 １９．流水洗 市水で２５℃で３０秒間超音波
を行った。 ２０．純水流水洗 ２５℃で１２０秒間 ２１．温水流水洗 ８５℃の温水で１２０秒間 ２２．乾燥 ４５℃の温風で５分
ア）／ｄｍ2 （電流密度）、１５ｓｅｃ １６．流水洗浄 市水にて常温で３０秒間 １７. 純水流水洗 常温で３０秒 １８．金合金メッキ チオリンゴ酸金 ・・・
５ｇ／ｌ ジアミノ亜硝酸パラジウム・・・５ｇ／ｌ エチレンジアミン ・・・１０ｇ／ｌ パラアミノ安息香酸 ・・・１００ｇ／ｌ 水酸化カリウム ・・・１０ｇ／ｌ の非シアン溶液中（ＰＨ１２）で電流密度 ０．５Ａ
（アンペア）／ｄｍ2 の条件下で４０℃にて６分間金合
金メッキを行った。 １９．流水洗 市水で２５℃で３０秒間超音波
を行った。 ２０．純水流水洗 ２５℃で１２０秒間 ２１．温水流水洗 ８５℃の温水で１２０秒間 ２２．乾燥 ４５℃の温風で５分
【００１５】（実施例３）図４はテンプルに本実施例の
メッキ層を形成した眼鏡枠１６の断面図を示している。
外観が金色と白色の光沢のある模様の眼鏡枠を得るため
に用いたもので、その方法は、まず、ニッケル含有量４
１％の眼鏡枠部材１６ａ上にニッケルストライク処理を
施す。そして、そのニッケルストライク処理層１７上に
０．５〜５μｍの厚みでパラジウムメッキ膜１８を成膜
する。次に、最終製品となる場合の模様を想定し、白色
の模様を施す部分にウレタン系レジスト膜１９を形成す
る。そして、このまま全体に０．１〜２．０μｍの厚み
で金合金メッキ層２０を成膜する。すると、レジスト膜
１９は反応しないため、このレジスト膜１９の部分に
は、金合金メッキ層２０は付着しないので、前記眼鏡枠
部品の表面はレジスト膜の付着している部分と、金合金
メッキされた部分とが存在することになる。そして、こ
の表面をレジスト膜剥離液に浸漬し、前記レジスト膜１
９を除去する。すると、レジスト膜が除去された部分は
白色のパラジウム層が露出し、外観が金色と白色の光沢
のある模様の眼鏡枠を得ることができる。即ち、本実施
例では、パラジウムメッキ層を利用して、金色ベース色
中にパラジウムの白色メッキ部が存在するコンビネーシ
ョンフレームが作られる。そして、この眼鏡枠は上記構
成によりニッケルの溶出を防ぐことができた。以下に、
上記のメッキ層の形成処理工程１）〜３５）を示す。
メッキ層を形成した眼鏡枠１６の断面図を示している。
外観が金色と白色の光沢のある模様の眼鏡枠を得るため
に用いたもので、その方法は、まず、ニッケル含有量４
１％の眼鏡枠部材１６ａ上にニッケルストライク処理を
施す。そして、そのニッケルストライク処理層１７上に
０．５〜５μｍの厚みでパラジウムメッキ膜１８を成膜
する。次に、最終製品となる場合の模様を想定し、白色
の模様を施す部分にウレタン系レジスト膜１９を形成す
る。そして、このまま全体に０．１〜２．０μｍの厚み
で金合金メッキ層２０を成膜する。すると、レジスト膜
１９は反応しないため、このレジスト膜１９の部分に
は、金合金メッキ層２０は付着しないので、前記眼鏡枠
部品の表面はレジスト膜の付着している部分と、金合金
メッキされた部分とが存在することになる。そして、こ
の表面をレジスト膜剥離液に浸漬し、前記レジスト膜１
９を除去する。すると、レジスト膜が除去された部分は
白色のパラジウム層が露出し、外観が金色と白色の光沢
のある模様の眼鏡枠を得ることができる。即ち、本実施
例では、パラジウムメッキ層を利用して、金色ベース色
中にパラジウムの白色メッキ部が存在するコンビネーシ
ョンフレームが作られる。そして、この眼鏡枠は上記構
成によりニッケルの溶出を防ぐことができた。以下に、
上記のメッキ層の形成処理工程１）〜３５）を示す。
【００１６】１．溶剤洗浄 トリクレン溶液中
にて８０℃で１２０秒間超音波を行った。 ２．アルカリ浸漬 オルソ珪酸ソーダ・・・３０ｇ
／ｌ 炭酸ソーダ ・・・４０ｇ／ｌ 苛性ソーダ ・・・１５ｇ／ｌ 界面活性剤 ・・・ １ｇ／ｌ ７０℃３分 超音波洗浄 ３．純水流水洗 純水を流水状態にして３５℃で
２４０秒間洗浄した。 ４．アルカリ陰極電解 水酸化ナトリウム・・・ ５ｇ／ｌ 炭酸ナトリウム ・・・２０ｇ／ｌ リン塩酸 ・・・２０ｇ／ｌ 界面活性剤 ・・・微量 純水 ・・・１ｌ の溶液中で陰極電解を６０°Ｃで５Ａ（アンペア）／ｄ
ｍ2 （電流密度）１５ｓｅｃの条件下で行った。 ５．アルカリ陰極電解 水酸化ナトリウム・・・５０ｇ／ｌ グルコン酸ソーダ・・・５０ｇ／ｌ 純水 ・・・１１ の溶液中にて陰極電解を４５°Ｃで４Ａ（アンペア）／
ｄｍ2 （電流密度）２ｓｅｃの条件下で行った。 ６．流水洗 市水にて常温で３０秒間流水で
洗浄を行った。 ７．酸浸漬 ５％硫酸溶液中にて２５°Ｃで
２分間浸漬した。 ８．流水洗 市水にて常温で３０秒間流水洗
浄を行った。 純水流水洗 常温で３０秒 ９．ニッケルストライク処理 塩化ニッケル ・・・２４０ｇ／ｌ 塩酸 ・・・１４０ｇ／ｌ の溶液中で、ニッケルストライク処理を行った。その条
件は、常温で１０Ａ／ｄｍ2 （電流密度） １５ｓｅｃ
である。 １０．流水洗 市水にて常温で３０秒間流水洗
浄を行った。 １１．パラジウムメッキ 酸性塩化物溶液（上村工
業社製パラジウムメッキ溶液４５０）中で電流密度０．
８Ａ（アンペア）／ｄｍ2 の条件下で常温にて１０分間
メッキを行った。 １２．流水洗 市水にて２５℃で３０秒間超音
波洗浄を行った。 １３．純水流水洗 純水にて２５℃で１２０秒間流
水洗浄を行った。 １４．温水流水洗 ８５℃の温水にて１２０秒間流
水洗浄を行った。 １５．乾燥 ５０℃の温風にて５分間乾燥さ
せた。 １６．レジスト膜形成 ウレタン系のレジスト膜溶液を
フレーム表面の一部に塗布し、硬化してレジスト膜を形
成させた。 １７．アルカリ浸漬 オルソ珪酸ソーダ・・・３０ｇ
／ｌ 炭酸ソーダ ・・・４０ｇ／ｌ 苛性ソーダ ・・・１５ｇ／ｌ 界面活性剤 ・・・ １ｇ／ｌ ７０℃３分 超音波洗浄 １８．流水洗 市水にて常温で３０秒間流水で
洗浄した。 １９．硫酸浸漬 ５％硫酸溶液中にて２５℃で１
０秒間浸漬した。 ２０．流水洗 市水にて常温で３０秒間流水で
洗浄した。
にて８０℃で１２０秒間超音波を行った。 ２．アルカリ浸漬 オルソ珪酸ソーダ・・・３０ｇ
／ｌ 炭酸ソーダ ・・・４０ｇ／ｌ 苛性ソーダ ・・・１５ｇ／ｌ 界面活性剤 ・・・ １ｇ／ｌ ７０℃３分 超音波洗浄 ３．純水流水洗 純水を流水状態にして３５℃で
２４０秒間洗浄した。 ４．アルカリ陰極電解 水酸化ナトリウム・・・ ５ｇ／ｌ 炭酸ナトリウム ・・・２０ｇ／ｌ リン塩酸 ・・・２０ｇ／ｌ 界面活性剤 ・・・微量 純水 ・・・１ｌ の溶液中で陰極電解を６０°Ｃで５Ａ（アンペア）／ｄ
ｍ2 （電流密度）１５ｓｅｃの条件下で行った。 ５．アルカリ陰極電解 水酸化ナトリウム・・・５０ｇ／ｌ グルコン酸ソーダ・・・５０ｇ／ｌ 純水 ・・・１１ の溶液中にて陰極電解を４５°Ｃで４Ａ（アンペア）／
ｄｍ2 （電流密度）２ｓｅｃの条件下で行った。 ６．流水洗 市水にて常温で３０秒間流水で
洗浄を行った。 ７．酸浸漬 ５％硫酸溶液中にて２５°Ｃで
２分間浸漬した。 ８．流水洗 市水にて常温で３０秒間流水洗
浄を行った。 純水流水洗 常温で３０秒 ９．ニッケルストライク処理 塩化ニッケル ・・・２４０ｇ／ｌ 塩酸 ・・・１４０ｇ／ｌ の溶液中で、ニッケルストライク処理を行った。その条
件は、常温で１０Ａ／ｄｍ2 （電流密度） １５ｓｅｃ
である。 １０．流水洗 市水にて常温で３０秒間流水洗
浄を行った。 １１．パラジウムメッキ 酸性塩化物溶液（上村工
業社製パラジウムメッキ溶液４５０）中で電流密度０．
８Ａ（アンペア）／ｄｍ2 の条件下で常温にて１０分間
メッキを行った。 １２．流水洗 市水にて２５℃で３０秒間超音
波洗浄を行った。 １３．純水流水洗 純水にて２５℃で１２０秒間流
水洗浄を行った。 １４．温水流水洗 ８５℃の温水にて１２０秒間流
水洗浄を行った。 １５．乾燥 ５０℃の温風にて５分間乾燥さ
せた。 １６．レジスト膜形成 ウレタン系のレジスト膜溶液を
フレーム表面の一部に塗布し、硬化してレジスト膜を形
成させた。 １７．アルカリ浸漬 オルソ珪酸ソーダ・・・３０ｇ
／ｌ 炭酸ソーダ ・・・４０ｇ／ｌ 苛性ソーダ ・・・１５ｇ／ｌ 界面活性剤 ・・・ １ｇ／ｌ ７０℃３分 超音波洗浄 １８．流水洗 市水にて常温で３０秒間流水で
洗浄した。 １９．硫酸浸漬 ５％硫酸溶液中にて２５℃で１
０秒間浸漬した。 ２０．流水洗 市水にて常温で３０秒間流水で
洗浄した。
【００１７】２１．アルカリ陰極電解 水酸化ナトリウム・・・５０ｇ／ｌ グルコン酸ソーダ・・・５０ｇ／ｌ 純水 ・・・１ｌ の溶液中にて陰極電解を６０°Ｃで電流密度５Ａ（アン
ペア）／ｄｍ2 （電流密度）１０ｓｅｃの条件下で行っ
た。 ２２．アルカリ陽極電解 水酸化ナトリウム・・・５０ｇ／ｌ グルコン酸ソーダ・・・５０ｇ／ｌ 純水 ・・・１ｌ の溶液中にて陽極電解を４５°Ｃで電流密度３Ａ（アン
ペア）／ｄｍ2 （電流密度）１０ｓｅｃの条件下で行っ
た。 ２３．流水洗 市水にて常温で３０秒間流水洗
浄を行った。 純水流水洗 常温で３０秒 ２４．酸浸漬 ５％硫酸溶液中にて２５℃で２
分間浸漬した。 ２５．流水洗 市水にて常温で３０秒間流水洗
浄を行った。 純水流水洗 常温で３０秒 ２６．金合金メッキ チオリンゴ酸金 ・・・
５ｇ／ｌ ジアミノ亜硝酸パラジウム・・・ ５ｇ／ｌ エチレンジアミン ・・・ １０ｇ／ｌ パラアミノ安息香酸 ・・・１００ｇ／ｌ 水酸化カリウム ・・・ １０ｇ／ｌ の非シアン溶液中（ＰＨ１２）で電流密度 ０．５Ａ
（アンペア）／ｄｍ2 の条件下で４０℃にて６分間金合
金メッキを行った。 ２７．流水洗 市水にて２５°Ｃで３０秒間超
音波洗浄を行った。 ２８．純水流水洗 純水にて２５°Ｃで１２０秒間
流水洗浄を行った。 ２９．温水流水洗 ８５°Ｃの温水で１２０秒間流
水洗浄を行った。 ３０．レジスト膜除去 太陽化（株）サンエコンＲ−５１２のレジスト膜剥離液
中にて常温で３０分間浸漬してレジスト膜を除去した。 ３１．溶剤浸漬 トリクレン液中にて８０°Ｃで
１２０秒間超音波の条件で浸漬した。 ３２．流水洗 市水にて２５°Ｃで３０秒間超
音波洗浄を行った。 ３３．純水流水洗 純水にて２５°Ｃで１２０秒間
流水洗浄を行った。 ３４．温水流水洗 ８５°Ｃの温水で１２０秒間流
水洗浄を行った。 ３５．乾燥 ５０°Ｃの温風にて５分間乾燥
させた。
ペア）／ｄｍ2 （電流密度）１０ｓｅｃの条件下で行っ
た。 ２２．アルカリ陽極電解 水酸化ナトリウム・・・５０ｇ／ｌ グルコン酸ソーダ・・・５０ｇ／ｌ 純水 ・・・１ｌ の溶液中にて陽極電解を４５°Ｃで電流密度３Ａ（アン
ペア）／ｄｍ2 （電流密度）１０ｓｅｃの条件下で行っ
た。 ２３．流水洗 市水にて常温で３０秒間流水洗
浄を行った。 純水流水洗 常温で３０秒 ２４．酸浸漬 ５％硫酸溶液中にて２５℃で２
分間浸漬した。 ２５．流水洗 市水にて常温で３０秒間流水洗
浄を行った。 純水流水洗 常温で３０秒 ２６．金合金メッキ チオリンゴ酸金 ・・・
５ｇ／ｌ ジアミノ亜硝酸パラジウム・・・ ５ｇ／ｌ エチレンジアミン ・・・ １０ｇ／ｌ パラアミノ安息香酸 ・・・１００ｇ／ｌ 水酸化カリウム ・・・ １０ｇ／ｌ の非シアン溶液中（ＰＨ１２）で電流密度 ０．５Ａ
（アンペア）／ｄｍ2 の条件下で４０℃にて６分間金合
金メッキを行った。 ２７．流水洗 市水にて２５°Ｃで３０秒間超
音波洗浄を行った。 ２８．純水流水洗 純水にて２５°Ｃで１２０秒間
流水洗浄を行った。 ２９．温水流水洗 ８５°Ｃの温水で１２０秒間流
水洗浄を行った。 ３０．レジスト膜除去 太陽化（株）サンエコンＲ−５１２のレジスト膜剥離液
中にて常温で３０分間浸漬してレジスト膜を除去した。 ３１．溶剤浸漬 トリクレン液中にて８０°Ｃで
１２０秒間超音波の条件で浸漬した。 ３２．流水洗 市水にて２５°Ｃで３０秒間超
音波洗浄を行った。 ３３．純水流水洗 純水にて２５°Ｃで１２０秒間
流水洗浄を行った。 ３４．温水流水洗 ８５°Ｃの温水で１２０秒間流
水洗浄を行った。 ３５．乾燥 ５０°Ｃの温風にて５分間乾燥
させた。
【００１８】（実施例４）図５は本実施例のメッキ層を
形成した眼鏡枠２１のテンプルの断面図を示している。
本実施例では、外観が白色の光沢のある模様の眼鏡枠を
得るために用いたもので、その方法は、まず、眼鏡枠基
材２１ａ上に金ストライク処理をを施し、その金ストラ
イク処理層２２上に、金合金メッキ層２３を成膜し、さ
らに０．５〜５μｍの厚みでパラジウムメッキ層２４を
成膜した。特に、ニッケルを含まない金合金メッキ層２
３上に、パラジウムメッキ層２４が形成されているの
で、より効果的にニッケルの溶出を防ぐことができるよ
うになっている。以下に、メッキ層の形成処理工程１）
〜１７）を示す。
形成した眼鏡枠２１のテンプルの断面図を示している。
本実施例では、外観が白色の光沢のある模様の眼鏡枠を
得るために用いたもので、その方法は、まず、眼鏡枠基
材２１ａ上に金ストライク処理をを施し、その金ストラ
イク処理層２２上に、金合金メッキ層２３を成膜し、さ
らに０．５〜５μｍの厚みでパラジウムメッキ層２４を
成膜した。特に、ニッケルを含まない金合金メッキ層２
３上に、パラジウムメッキ層２４が形成されているの
で、より効果的にニッケルの溶出を防ぐことができるよ
うになっている。以下に、メッキ層の形成処理工程１）
〜１７）を示す。
【００１９】１．溶剤洗浄 トリクレン溶液中
にて８０℃で１２０秒間超音波を行った。 ２．アルカリ浸漬 オルソ珪酸ソーダ・・・３０ｇ
／ｌ 炭酸ソーダ ・・・４０ｇ／ｌ 苛性ソーダ ・・・１５ｇ／ｌ 界面活性剤 ・・・ １ｇ／ｌ ７０℃３分 超音波洗浄 ３．純水流水洗 純水で流水にて３５℃で３０秒
間行った。 ４．アルカリ陰極電解 水酸化ナトリウム・・・ ５ｇ／ｌ 炭酸ナトリウム ・・・２０ｇ／ｌ リン塩酸 ・・・２０ｇ／ｌ 界面活性剤 ・・・微量 純水 ・・・１１／ｌ の溶液中で陰極電解を行った。その条件は６０°Ｃで５
Ａ（アンペア）／ｄｍ2 （電流密度）２０ｓｅｃであ
る。 ５．アルカリ陰極電解 水酸化ナトリウム・・・ ５ｇ／ｌ グルコン酸ソーダ・・・５０ｇ／ｌ 純水 ・・・１１／ｌ の溶液中にて陰極電解を行った。その条件は４５°Ｃで
４Ａ（アンペア）／ｄｍ2 （電流密度） ５ｓｅｃであ
る。 ６．流水洗 市水にて常温で３０秒間 ７．酸浸漬 ５％硫酸溶液中にて２５°Ｃで
２分間 ８．流水洗 市水にて常温で３０秒間 純水流水洗 常温で３０秒 ９．金ストライク処理 シアン化カリウムメッキ溶液中に電流密度 ０．５Ａ
（アンペア）／ｄｍ2 の条件下で４０℃にて１５秒間金
メッキを行った。 １０．流水洗 市水にて常温で３０秒間 １１．金合金メッキ チオリンゴ酸金 ・・・
５ｇ／ｌ ジアミノ亜硝酸パラジウム・・・５ｇ／ｌ エチレンジアミン ・・・ １０ｇ／ｌ パラアミノ安息香酸 ・・・１００ｇ／ｌ 水酸化カリウム ・・・ １０ｇ／ｌ の非シアン溶液中（ＰＨ１２）で電流密度 ０．５Ａ
（アンペア）／ｄｍ2 の条件下で４０℃にて６分間金合
金メッキを行った。 １２．流水洗 市水にて常温で３０秒間 純水流水洗 常温で３０秒 １３．パラジウムメッキ 酸性塩化物溶液（上村工業社製パラジウムメッキ溶液４
５０）中で電流密度０．８Ａ（アンペア）／ｄｍ2 の条
件下で常温にて１０分間メッキを行った。 １４．流水洗浄 市水にて常温で３０秒間 １５．純水流水洗 ２５℃で１２０秒間 １６．温水流水洗 ８５℃の温水で１２０秒間 １７．乾燥 ５０℃の温風で５分
にて８０℃で１２０秒間超音波を行った。 ２．アルカリ浸漬 オルソ珪酸ソーダ・・・３０ｇ
／ｌ 炭酸ソーダ ・・・４０ｇ／ｌ 苛性ソーダ ・・・１５ｇ／ｌ 界面活性剤 ・・・ １ｇ／ｌ ７０℃３分 超音波洗浄 ３．純水流水洗 純水で流水にて３５℃で３０秒
間行った。 ４．アルカリ陰極電解 水酸化ナトリウム・・・ ５ｇ／ｌ 炭酸ナトリウム ・・・２０ｇ／ｌ リン塩酸 ・・・２０ｇ／ｌ 界面活性剤 ・・・微量 純水 ・・・１１／ｌ の溶液中で陰極電解を行った。その条件は６０°Ｃで５
Ａ（アンペア）／ｄｍ2 （電流密度）２０ｓｅｃであ
る。 ５．アルカリ陰極電解 水酸化ナトリウム・・・ ５ｇ／ｌ グルコン酸ソーダ・・・５０ｇ／ｌ 純水 ・・・１１／ｌ の溶液中にて陰極電解を行った。その条件は４５°Ｃで
４Ａ（アンペア）／ｄｍ2 （電流密度） ５ｓｅｃであ
る。 ６．流水洗 市水にて常温で３０秒間 ７．酸浸漬 ５％硫酸溶液中にて２５°Ｃで
２分間 ８．流水洗 市水にて常温で３０秒間 純水流水洗 常温で３０秒 ９．金ストライク処理 シアン化カリウムメッキ溶液中に電流密度 ０．５Ａ
（アンペア）／ｄｍ2 の条件下で４０℃にて１５秒間金
メッキを行った。 １０．流水洗 市水にて常温で３０秒間 １１．金合金メッキ チオリンゴ酸金 ・・・
５ｇ／ｌ ジアミノ亜硝酸パラジウム・・・５ｇ／ｌ エチレンジアミン ・・・ １０ｇ／ｌ パラアミノ安息香酸 ・・・１００ｇ／ｌ 水酸化カリウム ・・・ １０ｇ／ｌ の非シアン溶液中（ＰＨ１２）で電流密度 ０．５Ａ
（アンペア）／ｄｍ2 の条件下で４０℃にて６分間金合
金メッキを行った。 １２．流水洗 市水にて常温で３０秒間 純水流水洗 常温で３０秒 １３．パラジウムメッキ 酸性塩化物溶液（上村工業社製パラジウムメッキ溶液４
５０）中で電流密度０．８Ａ（アンペア）／ｄｍ2 の条
件下で常温にて１０分間メッキを行った。 １４．流水洗浄 市水にて常温で３０秒間 １５．純水流水洗 ２５℃で１２０秒間 １６．温水流水洗 ８５℃の温水で１２０秒間 １７．乾燥 ５０℃の温風で５分
【００２０】（実施例５）図６は本実施例のメッキ層を
形成した眼鏡枠２５のテンプルの断面図を示している。
外観が金色と白色の光沢のある模様の眼鏡枠を得るため
に用いたもので、その方法は、まず、眼鏡枠基材２５ａ
上に金ストライク処理を施す。次に、その金ストライク
処理層２６上に、金合金メッキ層２７を成膜し、金色の
模様を施す部分にウレタン系のレジスト膜２８を形成
し、そして、レジスト膜とレジスト膜が形成されていな
い部分の全表面に、金ストライク処理２９を介してパラ
ジウムメッキ層３０を成膜する。すると、レジスト膜の
部分には、パラジウムメッキ層３０は付着しないので、
表面はレジスト膜の付着している部分と、パラジウムメ
ッキされた部分とが存在することになる。そして、レジ
スト膜剥離液に浸漬し、前記レジスト膜２９を除去す
る。すると、レジスト膜が除去された部分は金色の金合
金メッキ層２７が露出し、外観が金色と白色の光沢のあ
る模様の眼鏡枠が得られ、ニッケルの溶出を防ぐことが
できた。以下に、メッキ層の形成処理工程１）〜３５）
を示す。
形成した眼鏡枠２５のテンプルの断面図を示している。
外観が金色と白色の光沢のある模様の眼鏡枠を得るため
に用いたもので、その方法は、まず、眼鏡枠基材２５ａ
上に金ストライク処理を施す。次に、その金ストライク
処理層２６上に、金合金メッキ層２７を成膜し、金色の
模様を施す部分にウレタン系のレジスト膜２８を形成
し、そして、レジスト膜とレジスト膜が形成されていな
い部分の全表面に、金ストライク処理２９を介してパラ
ジウムメッキ層３０を成膜する。すると、レジスト膜の
部分には、パラジウムメッキ層３０は付着しないので、
表面はレジスト膜の付着している部分と、パラジウムメ
ッキされた部分とが存在することになる。そして、レジ
スト膜剥離液に浸漬し、前記レジスト膜２９を除去す
る。すると、レジスト膜が除去された部分は金色の金合
金メッキ層２７が露出し、外観が金色と白色の光沢のあ
る模様の眼鏡枠が得られ、ニッケルの溶出を防ぐことが
できた。以下に、メッキ層の形成処理工程１）〜３５）
を示す。
【００２１】１．溶剤洗浄 トリクレン溶液中
にて ８０℃で１２０秒間超音波を行った。 ２．アルカリ浸漬 オルソ珪酸ソーダ・・・３０ｇ
／ｌ 炭酸ソーダ ・・・４０ｇ／ｌ 苛性ソーダ ・・・１５ｇ／ｌ 界面活性剤 ・・・ １ｇ／ｌ ７０℃３分 超音波洗浄 ３．純水流水洗 純水を流水状態にして３５℃で
２４０秒間洗浄した。 ４．アルカリ陰極電解 水酸化ナトリウム・・・ ５ｇ／ｌ 炭酸ナトリウム ・・・２０ｇ／ｌ リン塩酸 ・・・２０ｇ／ｌ 界面活性剤 ・・・微量 純水 ・・・１ｌ の溶液中で６０°Ｃ、電流密度 ５Ａ（アンペア）／ｄ
ｍ2 、時間１２ｓｅｃの条件下で陰極電解を行った。 ５．アルカリ陰極電解 水酸化ナトリウム・・・５０ｇ／ｌ グルコン酸ソーダ・・・５０ｇ／ｌ 純水 ・・・１ｌ の溶液中にて４５°Ｃで電流密度 ４Ａ（アンペア）／
ｄｍ2 ７ｓｅｃの条件下で陰極電解を行った。 ６．流水洗 市水にて常温で３０秒間流水で
洗浄を行った。 ７．酸浸漬 ５％硫酸溶液中にて２５°Ｃで
２０秒間浸漬した。 ８．流水洗 市水にて常温で３０秒間流水洗
浄を行った。 純水流水洗 常温で３０秒 ９．金ストライク処理 シアン化カリウムメッキ溶液中に電流密度 ０．５Ａ
（アンペア）／ｄｍ2 の条件下で４０℃にて１５秒間金
メッキを行った。 １０．流水洗 市水にて常温で３０秒間 純水流水洗 常温で３０秒 １１．金合金メッキ チオリンゴ酸金 ・・
・ ５ｇ／ｌ ジアミノ亜硝酸パラジウム・・・ ５ｇ／ｌ エチレンジアミン ・・・ １０ｇ／ｌ パラアミノ安息香酸 ・・・１００ｇ／ｌ 水酸化カリウム ・・・ １０ｇ／ｌ の非シアン溶液中（ＰＨ１２）で電流密度 ０．５Ａ
（アンペア）／ｄｍ2 の条件下で４０℃にて６分間、金
合金メッキを行った。 １２．流水洗 市水にて常温で３０秒間 純水流水洗 常温で３０秒 １３．レジスト膜形成 ウレタン系のレジスト膜溶液をフレーム表面の一部に塗
布し、硬化してレジスト膜を形成させた。 １４．アルカリ浸漬 オルソ珪酸ソーダ・・・３０ｇ
／ｌ 炭酸ソーダ ・・・４０ｇ／ｌ 苛性ソーダ ・・・１５ｇ／ｌ 界面活性剤 ・・・ １ｇ／ｌ ７０℃３分 超音波洗浄 １５．流水洗 市水にて常温で３０秒間流水で
洗浄を行った。 １６．硫酸浸漬 ５％硫酸溶液中にて ２５°Ｃ
で１０秒間浸漬した。 １７．流水洗 市水にて常温で３０秒間流水洗
浄を行った。 １８．アルカリ陰極電解 水酸化ナトリウム・・・ ５ｇ／ｌ 炭酸ナトリウム ・・・２０ｇ／ｌ リン塩酸 ・・・２０ｇ／ｌ 界面活性剤 ・・・微量 純水 ・・・１１ の溶液中にて陰極電解を６０℃で電流密度４Ａ（アンペ
ア）／ｄｍ2 １０秒の条件下で行った。 １９．アルカリ陰極電解 水酸化ナトリウム・・・ ５ｇ／ｌ グルコン酸ソーダ・・・５０ｇ／ｌ 純水 ・・・１１ の溶液中にて陰極電解を４５℃で電流密度３Ａ（アンペ
ア）／ｄｍ2 １０秒の条件下で行った。 ２０．流水洗 市水にて常温で３０秒間 ２１. 純水流水洗 常温で３０秒
にて ８０℃で１２０秒間超音波を行った。 ２．アルカリ浸漬 オルソ珪酸ソーダ・・・３０ｇ
／ｌ 炭酸ソーダ ・・・４０ｇ／ｌ 苛性ソーダ ・・・１５ｇ／ｌ 界面活性剤 ・・・ １ｇ／ｌ ７０℃３分 超音波洗浄 ３．純水流水洗 純水を流水状態にして３５℃で
２４０秒間洗浄した。 ４．アルカリ陰極電解 水酸化ナトリウム・・・ ５ｇ／ｌ 炭酸ナトリウム ・・・２０ｇ／ｌ リン塩酸 ・・・２０ｇ／ｌ 界面活性剤 ・・・微量 純水 ・・・１ｌ の溶液中で６０°Ｃ、電流密度 ５Ａ（アンペア）／ｄ
ｍ2 、時間１２ｓｅｃの条件下で陰極電解を行った。 ５．アルカリ陰極電解 水酸化ナトリウム・・・５０ｇ／ｌ グルコン酸ソーダ・・・５０ｇ／ｌ 純水 ・・・１ｌ の溶液中にて４５°Ｃで電流密度 ４Ａ（アンペア）／
ｄｍ2 ７ｓｅｃの条件下で陰極電解を行った。 ６．流水洗 市水にて常温で３０秒間流水で
洗浄を行った。 ７．酸浸漬 ５％硫酸溶液中にて２５°Ｃで
２０秒間浸漬した。 ８．流水洗 市水にて常温で３０秒間流水洗
浄を行った。 純水流水洗 常温で３０秒 ９．金ストライク処理 シアン化カリウムメッキ溶液中に電流密度 ０．５Ａ
（アンペア）／ｄｍ2 の条件下で４０℃にて１５秒間金
メッキを行った。 １０．流水洗 市水にて常温で３０秒間 純水流水洗 常温で３０秒 １１．金合金メッキ チオリンゴ酸金 ・・
・ ５ｇ／ｌ ジアミノ亜硝酸パラジウム・・・ ５ｇ／ｌ エチレンジアミン ・・・ １０ｇ／ｌ パラアミノ安息香酸 ・・・１００ｇ／ｌ 水酸化カリウム ・・・ １０ｇ／ｌ の非シアン溶液中（ＰＨ１２）で電流密度 ０．５Ａ
（アンペア）／ｄｍ2 の条件下で４０℃にて６分間、金
合金メッキを行った。 １２．流水洗 市水にて常温で３０秒間 純水流水洗 常温で３０秒 １３．レジスト膜形成 ウレタン系のレジスト膜溶液をフレーム表面の一部に塗
布し、硬化してレジスト膜を形成させた。 １４．アルカリ浸漬 オルソ珪酸ソーダ・・・３０ｇ
／ｌ 炭酸ソーダ ・・・４０ｇ／ｌ 苛性ソーダ ・・・１５ｇ／ｌ 界面活性剤 ・・・ １ｇ／ｌ ７０℃３分 超音波洗浄 １５．流水洗 市水にて常温で３０秒間流水で
洗浄を行った。 １６．硫酸浸漬 ５％硫酸溶液中にて ２５°Ｃ
で１０秒間浸漬した。 １７．流水洗 市水にて常温で３０秒間流水洗
浄を行った。 １８．アルカリ陰極電解 水酸化ナトリウム・・・ ５ｇ／ｌ 炭酸ナトリウム ・・・２０ｇ／ｌ リン塩酸 ・・・２０ｇ／ｌ 界面活性剤 ・・・微量 純水 ・・・１１ の溶液中にて陰極電解を６０℃で電流密度４Ａ（アンペ
ア）／ｄｍ2 １０秒の条件下で行った。 １９．アルカリ陰極電解 水酸化ナトリウム・・・ ５ｇ／ｌ グルコン酸ソーダ・・・５０ｇ／ｌ 純水 ・・・１１ の溶液中にて陰極電解を４５℃で電流密度３Ａ（アンペ
ア）／ｄｍ2 １０秒の条件下で行った。 ２０．流水洗 市水にて常温で３０秒間 ２１. 純水流水洗 常温で３０秒
【００２２】２２．金ストライク処理 シアン化カリウムメッキ溶液中に電流密度 ０．５Ａ
（アンペア）／ｄｍ2 の条件下で４０℃にて１５秒間金
メッキを行った。 ２３．流水洗 市水にて常温で３０秒間流水洗
浄を行った。 ２４．酸浸漬 ５％硫酸溶液中にて２５℃で２
分間浸漬した。 ２５．流水洗 市水にて常温で３０秒間流水洗
浄を行った。 純水流水洗 常温３０秒 ２６．パラジウムメッキ 酸性塩化物溶液（上村工
業社製パラジウムメッキ溶液４５０）中で電流密度０．
８Ａ（アンペア）／ｄｍ2 の条件下で常温にて１０分間
メッキを行った。 ２７．流水洗 市水にて２５℃で３０秒間超音
波洗浄を行った。 ２８．純水流水洗 純水にて２５℃で１２０秒間流
水洗浄を行った。 ２９．温水流水洗 ８５℃の温水で１２０秒間流水
洗浄を行った。 ３０．レジスト膜除去 太陽化（株）サンエコンＲ−５
１２のレジスト膜剥離液中にて常温で３０分間浸漬して
レジスト膜を除去した。 ３１. 溶剤浸漬 トリクレン液中にて８０℃で１
２０秒間超音波の条件下で浸漬した。 ３２．流水洗 市水にて２５℃で３０秒間超音
波洗浄を行った。 ３３．純水流水洗 純水にて２５℃で１２０秒間流
水洗浄を行った。 ３４．温水流水洗 ８５℃の温水で１２０秒間流水
洗浄を行った。 ３５．乾燥 ５０℃の温風にて５分間乾燥さ
せた。 以上、本実施例について説明したが、本発明は実施例に
のみ限定されるものではない。例えば、眼鏡枠基材、ス
トライク処理、メッキ層の種類は適宜組合せを変えるこ
とができる。また、本発明では、眼鏡枠とは、眼鏡枠部
品及び眼鏡枠の構造の一部または全部を含めた総称とし
て使用しており、本願発明のメッキ層が実施例の眼鏡枠
部品に限らず眼鏡枠の他部分にも適用可能であることは
いうまでもない。
（アンペア）／ｄｍ2 の条件下で４０℃にて１５秒間金
メッキを行った。 ２３．流水洗 市水にて常温で３０秒間流水洗
浄を行った。 ２４．酸浸漬 ５％硫酸溶液中にて２５℃で２
分間浸漬した。 ２５．流水洗 市水にて常温で３０秒間流水洗
浄を行った。 純水流水洗 常温３０秒 ２６．パラジウムメッキ 酸性塩化物溶液（上村工
業社製パラジウムメッキ溶液４５０）中で電流密度０．
８Ａ（アンペア）／ｄｍ2 の条件下で常温にて１０分間
メッキを行った。 ２７．流水洗 市水にて２５℃で３０秒間超音
波洗浄を行った。 ２８．純水流水洗 純水にて２５℃で１２０秒間流
水洗浄を行った。 ２９．温水流水洗 ８５℃の温水で１２０秒間流水
洗浄を行った。 ３０．レジスト膜除去 太陽化（株）サンエコンＲ−５
１２のレジスト膜剥離液中にて常温で３０分間浸漬して
レジスト膜を除去した。 ３１. 溶剤浸漬 トリクレン液中にて８０℃で１
２０秒間超音波の条件下で浸漬した。 ３２．流水洗 市水にて２５℃で３０秒間超音
波洗浄を行った。 ３３．純水流水洗 純水にて２５℃で１２０秒間流
水洗浄を行った。 ３４．温水流水洗 ８５℃の温水で１２０秒間流水
洗浄を行った。 ３５．乾燥 ５０℃の温風にて５分間乾燥さ
せた。 以上、本実施例について説明したが、本発明は実施例に
のみ限定されるものではない。例えば、眼鏡枠基材、ス
トライク処理、メッキ層の種類は適宜組合せを変えるこ
とができる。また、本発明では、眼鏡枠とは、眼鏡枠部
品及び眼鏡枠の構造の一部または全部を含めた総称とし
て使用しており、本願発明のメッキ層が実施例の眼鏡枠
部品に限らず眼鏡枠の他部分にも適用可能であることは
いうまでもない。
【００２３】
【発明の効果】以上、説明したように、本願発明の眼鏡
枠は、眼鏡枠として必要な耐食性、耐クラック性、耐摩
耗性を満たした状態でニッケルの溶出量を抑制させるこ
とができ、他のメッキ種とパラジウムメッキとを組み合
わせた表面処理技術の豊富化により、顧客層を広げるこ
とができる。また、本願発明に用いられるパラジウムメ
ッキは下地に、ストライク処理を施すので、眼鏡枠基材
との密着に優れ、一般的に眼鏡業界で使用されているパ
ラジウム−ニッケルメッキと異なり、メッキ層がわれに
くく、膜厚を厚くでき、かつ他のメッキ種と比較して
も、この耐食性、耐クラック性は良好である。
枠は、眼鏡枠として必要な耐食性、耐クラック性、耐摩
耗性を満たした状態でニッケルの溶出量を抑制させるこ
とができ、他のメッキ種とパラジウムメッキとを組み合
わせた表面処理技術の豊富化により、顧客層を広げるこ
とができる。また、本願発明に用いられるパラジウムメ
ッキは下地に、ストライク処理を施すので、眼鏡枠基材
との密着に優れ、一般的に眼鏡業界で使用されているパ
ラジウム−ニッケルメッキと異なり、メッキ層がわれに
くく、膜厚を厚くでき、かつ他のメッキ種と比較して
も、この耐食性、耐クラック性は良好である。
【図１】実施例１の眼鏡枠の斜視図である。
【図２】図１の眼鏡枠のリムのＸ−Ｘ線断面図である。
【図３】実施例２の眼鏡枠のリム断面図である。
【図４】実施例３の眼鏡枠のテンプルの断面図である。
【図５】実施例４の眼鏡枠のテンプルの断面図である。
【図６】実施例５の眼鏡枠のテンプルの断面図である。
１ 眼鏡枠 １ａ 眼鏡枠基材 １０ パラジウムメッキ層 １１ ニッケルストライク処理層
Claims (9)
- 【請求項１】 ニッケルを含有する眼鏡枠基材と、その
基材表面にストライク処理を介して成膜されたパラジウ
ム層のメッキ層とを備えたことを特徴とする眼鏡枠。 - 【請求項２】 パラジウム層を皮膚に接触する部分に用
いたことを特徴とする請求項１記載の眼鏡枠。 - 【請求項３】 ストライク処理がニッケルストライク処
理、金ストライク処理、金合金ストライク処理の少なく
とも１つから選択されたストライク処理であることを特
徴とする請求項１の眼鏡枠。 - 【請求項４】 眼鏡枠を構成する部品のリム、ヨロイ及
びテンプルの眼鏡枠基材がニッケル−クロム系金属材料
からなり、ブローチおよびヒンジの眼鏡枠基材が銅−亜
鉛−ニッケル系金属材料からなることを特徴とする請求
項１記載の眼鏡枠。 - 【請求項５】 メッキ層が、ニッケルストライク処理を
介してパラジウム層、金合金ストライク処理、金合金層
の順に成膜されたことを特徴とする請求項１記載の眼鏡
枠。 - 【請求項６】 メッキ層が、ニッケルストライク処理を
介して、パラジウム層、金合金層で成膜されたことを特
徴とする請求項１記載の眼鏡枠。 - 【請求項７】 メッキ層が、金ストライク処理を介し
て、金合金層、パラジウム層の順に成膜されていること
を特徴とする請求項１記載の眼鏡枠。 - 【請求項８】 メッキ層が、ストライク処理を介してパ
ラジウム層を成膜する工程と、このパラジウムメッキ層
の所定の表面部分にレジスト膜を成膜する工程と、該レ
ジスト膜を含む表面にメッキ層を成膜する工程、該レジ
スト膜をレジスト剥離手段により除去する工程から得ら
れたメッキ層であることを特徴とする請求項１記載の眼
鏡枠。 - 【請求項９】 メッキ層が、金ストライク処理を介し
て、金合金メッキ層を成膜する工程と、この金合金メッ
キ層の所定の表面部分にレジスト膜を成膜する工程と、
該レジスト膜を含む表面にパラジウム層を成膜する工程
と、該レジスト膜をレジスト剥離手段により除去する工
程から得られたメッキ層であることを特徴とする請求項
１記載の眼鏡枠。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32684191A JPH05140794A (ja) | 1991-11-15 | 1991-11-15 | 眼鏡枠 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32684191A JPH05140794A (ja) | 1991-11-15 | 1991-11-15 | 眼鏡枠 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05140794A true JPH05140794A (ja) | 1993-06-08 |
Family
ID=18192313
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP32684191A Pending JPH05140794A (ja) | 1991-11-15 | 1991-11-15 | 眼鏡枠 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05140794A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0551957U (ja) * | 1991-11-22 | 1993-07-09 | 高松メッキ工業株式会社 | ニッケルアレルギ防止装飾品 |
| CN105839160A (zh) * | 2016-04-08 | 2016-08-10 | 浙江金泽金属表面处理有限公司 | 一种眼镜架的电镀加工工艺 |
| CN113341587A (zh) * | 2021-06-30 | 2021-09-03 | 温州柏康眼镜制造有限公司 | 一种电镀眼镜及其注塑电镀工艺 |
-
1991
- 1991-11-15 JP JP32684191A patent/JPH05140794A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0551957U (ja) * | 1991-11-22 | 1993-07-09 | 高松メッキ工業株式会社 | ニッケルアレルギ防止装飾品 |
| CN105839160A (zh) * | 2016-04-08 | 2016-08-10 | 浙江金泽金属表面处理有限公司 | 一种眼镜架的电镀加工工艺 |
| CN113341587A (zh) * | 2021-06-30 | 2021-09-03 | 温州柏康眼镜制造有限公司 | 一种电镀眼镜及其注塑电镀工艺 |
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