TWI690755B - 畫素結構 - Google Patents

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朱公勍
張哲嘉
劉品妙
蘇松宇
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Abstract

一種畫素結構,包括基板、配置於基板上的訊號線及畫素單元。畫素單元具有位於訊號線兩側的第一區及第二區,且包括至少位於第一區的第一畫素電極、位於第一區且在第一畫素電極上的第一共電極、位於第二區的第二共電極、至少位於第二區且在第二共電極上的第二畫素電極、位於第一畫素電極與第一共電極之間及第二共電極與第二畫素電極之間的絕緣層、及位於第一區與第二區之間且貫穿絕緣層的連接洞。第一畫素電極與第二畫素電極經由連接洞電性連接。第一及第二共電極、第一及第二畫素電極包括透光導電材料。第一及第二共電極分別包括多個梳狀電極。

Description

畫素結構
本發明是有關於一種畫素結構,且特別是有關於一種有助於改善彎電效應(Flexoelectric Effect;FEE)的畫素結構。
具有空間利用效率佳、低消耗功率、無輻射等優越特性的液晶顯示面板已逐漸成為市場主流。為了讓液晶顯示面板有更好的顯示品質,目前市面上發展出了各種廣視角的液晶顯示面板,如共平面切換式(in-plane switching;IPS)液晶顯示面板、邊際場切換式(fringe field switching;FFS)液晶顯示面板與多域垂直配向式(multi-domain vertical alignment;MVA)液晶顯示面板等。以邊際場切換式液晶顯示面板為例,其具有廣視角(wide viewing angle)以及低色偏(color shift)等優點特性。
液晶顯示裝置可以藉由降低操作頻率的方式來降低使用時的功耗(power consumption),以提升使用時間。然而,在邊際場切換式液晶顯示面板的影像隨著頻率變換時,有可能會因為液晶分子在極性反轉時因為彎電效應而產生穿透率的差異,進而造成影像的閃爍(flicker)現象而降低顯示品質。因此,如何藉由畫素結構的設計降低因彎電效應造成的正負電荷的累積,以及降低彎電效應造成的閃爍影像,並且改善影像殘留(Image Sticking;IS)的亮度不均現象,使其具有更佳的顯示品質,實為研發者所欲達的目標之一。
本發明提供一種畫素結構,其具有較佳的顯示品質。
本發明的畫素結構包括基板、第一訊號線以及畫素單元。第一訊號線配置於基板上。畫素單元配置於基板上。畫素單元具有位於第一訊號線相對兩側的第一區及第二區。畫素單元包括第一畫素電極、第一共電極、第二共電極、第二畫素電極、絕緣層以及連接洞。第一畫素電極至少位於第一區。第一共電極位於第一區。第一共電極位於第一畫素電極上。第二共電極位於第二區。第二畫素電極至少位於第二區。第二畫素電極位於第二共電極上。絕緣層位於第一畫素電極與第一共電極之間。絕緣層位於第二共電極與第二畫素電極之間。連接洞位於第一區與第二區之間。連接洞至少貫穿絕緣層。第一畫素電極與第二畫素電極經由連接洞電性連接。第一共電極包括透光導電材料。第一畫素電極包括透光導電材料。第二畫素電極包括透光導電材料。第二共電極包括透光導電材料。第一共電極包括多個第一梳狀電極。第二畫素電極包括多個第二梳狀電極。
基於上述,在本發明的畫素結構中,藉由電場方向彼此相反的第一區與第二區,以降低因為電荷累積所可能造成的影響,而可以提升顯示品質。
為讓本發明的上述特徵和優點能更明顯易懂,下文特舉實施例,並配合所附圖式作詳細說明如下。
在附圖中,為了清楚起見,放大了各元件等的厚度。在整個說明書中,相同的附圖標記表示相同的元件。應當理解,當諸如層、膜、區域或基板的元件被稱為在“另一元件上”、或“連接到另一元件”、“重疊於另一元件”時,其可以直接在另一元件上或與另一元件連接,或者中間元件可以也存在。相反,當元件被稱為“直接在另一元件上”或 “直接連接到”另一元件時,不存在中間元件。如本文所使用的,“連接”可以指物理及/或電連接。
應當理解,儘管術語“第一”、“第二”、“第三”等在本文中可以用於描述各種元件、部件、區域、層及/或部分,但是這些元件、部件、區域、及/或部分不應受這些術語的限制。這些術語僅用於將一個元件、部件、區域、層或部分與另一個元件、部件、區域、層或部分區分開。因此,下面討論的“第一元件”、“部件”、“區域”、“層”、或“部分”可以被稱為第二元件、部件、區域、層或部分而不脫離本文的教導。
這裡使用的術語僅僅是為了描述特定實施例的目的,而不是限制性的。如本文所使用的,除非內容清楚地指示,否則單數形式“一”、“一個”和“該”旨在包括複數形式,包括“至少一個”。“或”表示“及/或”。如本文所使用的,術語“及/或”包括一個或多個相關所列項目的任何和所有組合。還應當理解,當在本說明書中使用時,術語“包括”及/或“包括”指定所述特徵、區域、整體、步驟、操作、元件的存在及/或部件,但不排除一個或多個其它特徵、區域整體、步驟、操作、元件、部件及/或其組合的存在或添加。
此外,諸如“下”或“底部”和“上”或“頂部”的相對術語可在本文中用於描述一個元件與另一元件的關係,如圖所示。應當理解,相對術語旨在包括除了圖中所示的方位之外的裝置的不同方位。例如,如果一個附圖中的裝置翻轉,則被描述為在其他元件的“下”側的元件將被定向在其他元件的“上”側。因此,示例性術語“下”可以包括“下”和“上”的取向,取決於附圖的特定取向。類似地,如果一個附圖中的裝置翻轉,則被描述為在其它元件“下方”或“下方”的元件將被定向為在其它元件 “上方”。因此,示例性術語“下面”或“下面”可以包括上方和下方的取向。
本文使用的“約”、“基本上”、或“近似”包括所述值和在本領域普通技術人員確定的特定值的可接受的偏差範圍內的平均值,考慮到所討論的測量和與測量相關的誤差的特定數量(即,測量系統的限制)。例如,“約”可以表示在所述值的一個或多個標準偏差內,或±30%、±20%、±10%、±5%內。
除非另有定義,本文使用的所有術語(包括技術和科學術語)具有與本發明所屬領域的普通技術人員通常理解的相同的含義。將進一步理解的是,諸如在通常使用的字典中定義的那些術語應當被解釋為具有與它們在相關技術和本發明的上下文中的含義一致的含義,並且將不被解釋為理想化的或過度正式的意義,除非本文中明確地這樣定義。
本文參考作為理想化實施例的示意圖的截面圖來描述示例性實施例。因此,可以預期到作為例如製造技術及/或公差的結果的圖示的形狀變化。因此,本文所述的實施例不應被解釋為限於如本文所示的區域的特定形狀,而是包括例如由製造導致的形狀偏差。例如,示出或描述為平坦的區域通常可以具有粗糙及/或非線性特徵。此外,所示的銳角可以是圓的。因此,圖中所示的區域本質上是示意性的,並且它們的形狀不是旨在示出區域的精確形狀,並且不是旨在限制權利要求的範圍。
圖1是依照本發明的一實施例的一種畫素結構的上視示意圖。圖2為本發明一實施例的液晶顯示面板的剖面示意圖。圖2的顯示面板的剖面示意圖可以對應於圖1的畫素結構中A-A’剖線所繪示。為求清楚表示與便於說明,圖1以及圖2省略繪示部分的膜層。舉例而言,圖2省略繪示了畫素結構100的基板110。以下,將藉由圖1及圖2來詳細描述本發明的一實施例的畫素結構的實施方式。
液晶顯示面板200可以包括彩色濾光基板210、陣列基板220以及液晶層230。彩色濾光基板210可以包括基板211、遮光層212、彩色濾光層(color filter layer)213以及保護層(overcoat layer)214。陣列基板220可以包括多個畫素單元PU,且多個畫素單元PU可以是以陣列狀排列。
在陣列基板220中,基板110、第一訊號線120以及畫素單元PU可以構成畫素結構100。換句話說,畫素結構100包括基板110、第一訊號線120以及畫素單元PU。第一訊號線120配置於基板110上。畫素單元PU配置於基板110上。第一訊號線120具有彼此相對的第一側121與第二側122。畫素單元PU具有第一區A1及第二區A2。在上視狀態下,畫素單元PU的第一區A1位於第一訊號線120的第一側121,畫素單元PU的第二區A2位於第一訊號線120的第二側122。一般而言,基於導電性的考量,第一訊號線120可以使用金屬材料,但本發明未排除其他導電材料的使用。
畫素單元PU包括第一畫素電極140、第二畫素電極150、第一共電極160、第二共電極170、絕緣層180以及連接洞TH。第一畫素電極140至少位於第一區A1。第一共電極160位於第一區A1。第二畫素電極150至少位於第二區A2。第二共電極170位於第二區A2。連接洞TH位於第一區A1與第二區A2之間。第一共電極160位於第一畫素電極140上。也就是說,第一區A1可以被稱為上共電極(top com)區。第二畫素電極150位於第二共電極170上。也就是說,第二區A2可以被稱為上畫素電極(top pixel)區。絕緣層180位於第一畫素電極140與第一共電極160之間,且絕緣層180位於第二共電極170與第二畫素電極150之間。連接洞TH至少貫穿絕緣層180。第一畫素電極140與第二畫素電極150經由連接洞TH電性連接。換句話說,在畫素結構100的第一區A1與第二區A2的電場方向可以相反。如此一來,縱使在畫素結構100在運作過程中可能有電荷累積,也可以藉由電場方向彼此相反的第一區A1與第二區A2,而降低因為電荷累積所可能造成的影響。
在本實施例中,畫素單元PU也可包括其他的絕緣層以分隔不同的導電層。舉例而言,絕緣層181可以分隔閘極G與源極S以及分隔閘極G與汲極D。換句話說,絕緣層181可以被稱為閘絕緣層。又舉例而言,絕緣層182可以分隔第二共電極170以及汲極D或汲極D進一步延伸出的導電膜層,絕緣層182可以分隔第一畫素電極140以及汲極D或汲極D進一步延伸出的導電膜層。當然,被絕緣層所分隔的不同的導電層可藉由連接洞(如:類似於連接洞TH的連接洞)而彼此電性連接。舉例而言,連接洞TH可以更貫穿絕緣層182,而使第一畫素電極140、第二畫素電極150、汲極D以及汲極D進一步延伸出的導電膜層彼此電性連接。
在一實施例中,第一畫素電極140包括自第一區A1延伸至第二區A2的第一凸出部分143,且第二共電極170的側緣具有內凹部分175。第一凸出部分143可以覆蓋連接洞TH,以使第一畫素電極140與第二畫素電極150經由連接洞TH電性連接。在上視狀態下,連接洞TH位於第二共電極170的內凹部分175所包圍的內凹範圍內。如此一來,畫素結構100可以具有較佳的開口率(aperture ratio)。
在一實施例中,第二畫素電極150包括自第二區A2延伸至第一區A1的第二凸出部分153,且第二共電極170的側緣具有內凹部分175。第二凸出部分153可以覆蓋連接洞TH,以使第一畫素電極140與第二畫素電極150經由連接洞TH電性連接。在上視狀態下,連接洞TH位於第二共電極170的內凹部分175所包圍的內凹範圍內。如此一來,畫素結構100可以具有較佳的開口率。
在本實施例中,畫素結構100可以更包括多條第二訊號線130。畫素單元PU可以位於相鄰的兩條第二訊號線130之間。前述相鄰的兩條第二訊號線130的其中之一可以與畫素單元PU電性連接,前述相鄰的兩條第二訊號線130的其中另一可以與另一畫素單元(未繪示,可於畫素單元PU的鄰側)電性連接。第一訊號線120與第二訊號線130彼此交錯。換句話說,第二訊號線130的延伸方向不同於第一訊號線120的延伸方向。一般而言,基於導電性的考量,第二訊號線130可以使用金屬材料,但本發明未排除其他導電材料的使用。
在本實施例中,畫素結構100可以更包括主動元件T。主動元件T包括源極S、汲極D、閘極G以及通道CH。源極S可以與第二訊號線130電性連接。閘極G可以與第一訊號線120電性連接。汲極D可以與畫素單元PU的第一畫素電極140及第二畫素電極150電性連接(例如:從汲極D進一步延伸出的導電膜層可以與第一畫素電極140及第二畫素電極150電性連接)。換句話說,在本實施例中,與閘極G電性連接的第一訊號線120可以為閘極線,且與源極S電性連接的第二訊號線130可以為源極線,但本發明不限於此。
在本實施例中,閘極G與第一訊號線120可以相同的膜層,且源極S、汲極D與第二訊號線130可以是相同的膜層,但本發明不限於此。並且,在本實施例中,閘極G可以位於通道CH與基板110之間,源極S與汲極D可以位於通道CH的上側,閘極G可以位於通道CH的下側。換句話說,本實施例的主動元件T是以底部閘極型薄膜電晶體(bottom gate TFT)為例來說明,但本發明不限於此。
在一實施例中,於由畫素結構100所構成的液晶顯示面板(如:液晶顯示面板200)中,液晶顯示面板(如:液晶顯示面板200)的遮光層(如:遮光層212)可以與畫素單元PU的第一訊號線120、第二訊號線130、主動元件T及/或連接洞TH重疊。
在本實施例中,畫素結構100可以更包括連接線190。連接線190可以交越第二訊號線130。畫素單元PU的第一共電極160可以電性連接於連接線190,以使第一共電極160可以藉由連接線190電性連接至其他的畫素單元(未繪示)的共電極(未繪示)及/或共用電壓源。
在本實施例中,連接線190的延伸方向基本上平行於第一訊號線120的延伸方向,但本發明不限於此。
在一未繪示的實施例中,第二共電極170可以藉由類似的構件(如:類似於連接線190的構件),而可以使第二共電極170電性連接至其他的畫素單元(未繪示)的共電極(未繪示)及/或共用電壓源。或是,從畫素單元PU的第二共電極170進一步延伸出的導電膜層可以進一步跨越第二訊號線130,而與另一畫素單元(未繪示,可於畫素單元PU的鄰側)的共電極(如:類似於畫素單元PU的第二共電極170)電性連接。
第一共電極160包括多個第一梳狀電極164。在本實施例中,第一梳狀電極164的線寬164L與線距164S的比值(line-to-space ratio;L/S)為大於或等於0.3且小於2.0,但本發明不限於此。
第二畫素電極150包括多個第二梳狀電極154。在本實施例中,第二梳狀電極154的線寬154L與線距154S的比值為大於或等於0.3且小於2.0,但本發明不限於此。
第一畫素電極140包括透光導電材料。第二畫素電極150包括透光導電材料。第一共電極160包括透光導電材料。第二共電極170包括透光導電材料。第一畫素電極140、第二畫素電極150、第一共電極160與第二共電極170的材質可以彼此相同、相似或不同,於本發明並不加以限制。前述的透光導電材料例如是銦錫氧化物(Indium Tin Oxide;ITO)、銦鋅氧化物(Indium Zinc Oxide;IZO)、鋁錫氧化物(Aluminum Tin Oxide;ATO)、鋁鋅氧化物(Aluminum Zinc Oxide;AZO)、或其他適宜的金屬氧化物、或者是上述至少二者之堆疊層,但本發明於此並不加以限制。
在本實施例中,第一畫素電極140與第二共電極170可以是相同的膜層(但,第一畫素電極140與第二共電極170並未彼此電性連接),但本發明不限於此。
在一實施例中,在上視狀態下,第一畫素電極140與該第二共電極170之間的間距L1大於5微米。如此一來,可以具有較佳的製程容許度(process window)。
在本實施例中,第一共電極160與第二畫素電極150可以是相同的膜層(但,第一共電極160與第二畫素電極150並未彼此電性連接),但本發明不限於此。
在本實施例中,位於第一區A1的第一畫素電極140與第一共電極160垂直投影於基板110上的範圍R1具有第一面積,位於第二區A2的第二共電極170與第二畫素電極150垂直投影於基板110上的範圍R2具有第二面積,且第二面積大於第一面積。因此,在藉由畫素結構100所構成的液晶顯示面板(如:液晶顯示面板200)中,對應於畫素單元PU的第一區A1的發光強度可以相同或相近於對應於畫素單元PU的第二區A2的發光強度。如此一來,藉由畫素結構100所構成的液晶顯示面板(如:液晶顯示面板200)可以具有較佳的廣視角,而可以提升顯示品質。
依據庫侖定律,點電荷產生的電場強度與其所帶的電量成正比,並且與距離的平方成反比。換句話說,電場的影響是無遠弗屆的,只是隨距離的增加而強度愈弱。也就是說,在由畫素結構100所構成的液晶顯示面板(如:液晶顯示面板200)中,只要可以被第一畫素電極140及第一共電極160之間所產生的電場而轉動或切換的液晶層(如:液晶層230)垂直投影於基板110上的範圍,皆可以被前述的第一面積均等涵蓋。類似地,在由畫素結構100所構成的液晶顯示面板(如:液晶顯示面板200)中,只要可以被第二畫素電極150及第二共電極170之間所產生的電場而轉動或切換的液晶層(如:液晶層230)垂直投影於基板110上的範圍,皆可以被前述的第二面積均等涵蓋。就畫素結構100的層面來看,第一面積的範圍R1可以是位於第一區A1的第一畫素電極140垂直投影於基板110上的範圍與第一共電極160垂直投影於基板110上的範圍的聯集,或是,前述的聯集範圍可向外擴張至本發明所屬領域的普通技術人員通常理解的範圍(如:不被其他的電子元件的電場實質地影響、干擾或遮蔽的範圍,或可藉由其他具體元件實質地定義的範圍)亦可以被前述的第一面積的範圍R1均等涵蓋。類似地,第二面積的範圍R2可以是位於第二區A2的第二畫素電極150垂直投影於基板110上的範圍與第二共電極170垂直投影於基板110上的範圍的聯集,或是,前述的聯集範圍可向外擴張至本發明所屬領域的普通技術人員通常理解的範圍(如:不被其他的電子元件的電場實質地影響、干擾或遮蔽的範圍,或可被其他具體元件實質地定義的範圍)亦可以被前述的第二面積的範圍R2均等涵蓋。
舉例而言,如圖1所示,第一面積的範圍R1可以是位於第一區A1的第一畫素電極140與第一共電極160垂直投影於基板110上,以及在相鄰的兩個第二訊號線130分別的中線投影於基板110上所構成的封閉輪廓的範圍R1。又舉例而言,如圖1所示,第二面積的範圍R2可以是位於第二區A2的第二畫素電極150與第二共電極170垂直投影於基板110上,以及在相鄰的兩條第二訊號線130分別的中線投影於基板110上所構成的封閉輪廓的範圍R2。當然,如前段所述,第一面積的範圍R1與第二面積的範圍R2是可以依據本發明所屬領域的普通技術人員通常理解的範圍或依據被電場影響的液晶層(如:液晶層230)的投影於基板110上的範圍而均等擴張且涵蓋。
在一實施例中,第一梳狀電極164的線寬164L與線距164S的比值可以為0.3,第二梳狀電極154的線寬154L與線距154S的比值可以為0.3,且第一面積可以與第二面積相同或近似,但本發明不限於此。
在一實施例中,第一梳狀電極164的線寬164L與線距164S的比值為大於0.3且小於2.0,第二梳狀電極154的線寬154L與線距154S的比值為大於0.3且小於2.0,且第二面積可以為第一面積的2.4倍至3.5倍,但本發明不限於此。 測試例
為了證明本發明的畫素結構可改善彎電效應,特別以下列測試例作為說明。然而,這些測試例在任何意義上均不解釋為限制本發明之範疇。請參考圖3,在下列的測試例中,例如可以是以本領域常用的模擬軟體對不同的畫素結構的彎電效應進行模擬,其中各個測試例的畫素結構與前述實施例的畫素結構類似,差別在於不同測試例中,第一梳狀電極或第二梳狀電極的線寬與線距的比值不同。在圖3中,橫軸為第一梳狀電極或第二梳狀電極的線寬與線距的比值,縱軸為彎電效應相對比值(relative FEE ratio),實線為具有不同的線寬與線距的比值的第一梳狀電極及所對應的彎電效應相對比值,虛線為具有不同的線寬與線距的比值的第二梳狀電極及所對應的彎電效應相對比值。
在以下對於測試例的敘述中,第一畫素電極可以類似但不限於前述的第一畫素電極140,第二畫素電極可以類似但不限於前述的第二畫素電極150,第二梳狀電極可以類似但不限於前述的第二梳狀電極154,第二梳狀電極的線寬可以類似但不限於前述的線寬154L,第二梳狀電極的線距可以類似但不限於前述的線距154S,第一共電極可以類似但不限於前述的第一共電極160,第一梳狀電極可以類似但不限於前述的第一梳狀電極164,第一梳狀電極的線寬可以類似但不限於前述的線寬164L,第一梳狀電極的線距可以類似但不限於前述的線距164S,第二共電極可以類似但不限於前述的第二共電極170,第一面積可以類似但不限於前述的範圍R1的第一面積,且第二面積可以類似但不限於前述的範圍R2的第二面積。
請參照圖3,在第一梳狀電極的線寬與線距的比值約為0.3之處,且在第二梳狀電極的線寬與線距的比值約為0.3之處,可以藉由將第一面積與第二面積的面積比例調整為1:1,以達到顯示補償效果,而可以使藉由畫素結構所構成的顯示面板可以具有較佳的廣視角,且提升顯示品質。
請參照圖3,在第一梳狀電極的線寬與線距的比值小於0.3之範圍內,彎電效應的對應值波動(fluctuation)較大。其原因很有可能是因為雖然電極之間(如:第一畫素電極與第一共電極之間)在切換過程中的正負電荷累積較小,但由於操作電壓相對較大,而可能呈現電荷累積差異的反效果。並且,若要使線寬與線距的比值小於0.3,則相對的製程容許度較小,且較容易因為製程中的問題而造成線寬與線距的實際比值有些微偏移,進而影響到其彎電效應的對應值,而使得佈線(layout)的設計較難。
請參照圖3,在第二梳狀電極的線寬與線距的比值小於0.3之範圍內,彎電效應的對應值波動較大。其原因很有可能是因為雖然電極之間(如:第二畫素電極與第二共電極之間)在切換過程中的正負電荷累積較小,但由於操作電壓相對較大,而可能呈現電荷累積差異的反效果。並且,若要使線寬與線距的比值小於0.3,則相對的製程容許度較小,且較容易因為製程中的問題而造成線寬與線距的實際比值有些微偏移,進而影響到其彎電效應的對應值,而使得佈線的設計較難。
請參照圖3,在第一梳狀電極的線寬與線距的比值大於2.0之範圍內,由於線寬相對於線距的比較較大,因此可能降低液晶效率。另外,也很有可能因為電極之間(如:第一畫素電極與第一共電極之間)在切換過程中的正負電荷累積較大,而使彎電效應的影響提升,而影響到顯示品質。
請參照圖3,在第二梳狀電極的線寬與線距的比值大於2.0之範圍內,由於線寬相對於線距的比較較大,因此可能降低液晶效率。另外,雖然彎電效應的影響降低,但由於可能需使第二區的範圍提升較多,以降低因為電荷累積所可能造成的影響。因此,仍可能影響到顯示品質。
綜上所述,在本發明的畫素結構中,藉由電場方向彼此相反的第一區與第二區,以降低因為電荷累積所可能造成的影響,而可以提升顯示品質。進一步,更可以藉由使第一梳狀電極的線寬與線距的比值為大於或等於0.3且小於2.0,且使第二梳狀電極的線寬與線距的比值為大於0.3且小於2.0,而可以降低因彎電效應的影響,以可以進一步降低在低頻率操作時產生閃爍的可能,並更進一步地提升顯示品質。
前述實施例中,可將前述實施例之主動元件(例如:主動元件T)與另一主動元件(未繪示)與電容(未繪示)電性連接,而可以簡稱為二個主動元件與一個電容(可表示為2T1C)。於其他實施例中,每個畫素結構的主動元件(例如:主動元件T)以及其他的主動元件與電容之個數可依設計變更,而可例如被簡稱為三個主動元件和一個或兩個電容(可表示為3T1C/2C)、四個主動元件和一個或兩個電容(可表示為4T1C/2C)、五個主動元件和一個或兩個電容(可表示為5T1C/2C)、六個主動元件和一個或兩個電容(可表示為6T1C/2C)、或是其他適宜的電路配置。
前述實施例中,主動元件(例如:主動元件T)其中至少一者可採用薄膜電晶體(TFT),例如底閘型電晶體、頂閘型電晶體、立體型電晶體、或其他適宜的電晶體。底閘型的電晶體之閘極或位於通道(如:通道CH)之下方,頂閘型電晶體之閘極或位於通道(未繪示)之上方,而立體型電晶體之通道(未繪示)延伸非位於一平面。通道(如:通道CH,但不限)可為單層或多層結構,且其材料包含非晶矽、微晶矽、奈米晶矽、多晶矽、單晶矽、有機半導體材料、氧化物半導體材料、奈米碳管/桿、鈣鈦礦材料、或其他適宜的材料或前述之組合。
前述實施例中,導電層可為單層或多層結構。而若為多層結構的導電層,則前述的多層結構之間可以不具有絕緣材質。
前述實施例中,絕緣層可為單層或多層結構。而若為多層結構的絕緣層,則前述的多層結構之間可以不具有導電材質。
雖然本發明已以實施例揭露如上,然其並非用以限定本發明,任何所屬技術領域中具有通常知識者,在不脫離本發明的精神和範圍內,當可作些許的更動與潤飾,故本發明的保護範圍當視後附的申請專利範圍所界定者為準。
100:畫素結構 200:液晶顯示面板 110:基板 120:第一訊號線 121:第一側 122:第二側 130:第二訊號線 140:第一畫素電極 143:第一凸出部分 150:第二畫素電極 153:第二凸出部分 154:第二梳狀電極 154L:線寬 154S:線距 160:第一共電極 164:第一梳狀電極 164L:線寬 164S:線距 170:第二共電極 175:內凹部分 180、181、182:絕緣層 190:連接線 210:彩色濾光基板 220:陣列基板 230:液晶層 211:基板 212:遮光層 213:彩色濾光層 214:保護層 TH:連接洞 T:主動元件 S:源極 D:汲極 G:閘極 CH:通道 PU:畫素單元 A1:第一區 A2:第二區 R1:第一面積的範圍 R2:第二面積的範圍 L1:間距
圖1是依照本發明的一實施例的一種畫素結構的上視示意圖。 圖2為本發明一實施例的顯示面板的剖面示意圖。 圖3繪示本發明的測試例的畫素結構的第一區與第二區的彎電效應相對比值(relative FEE ratio)的關係圖。
100:畫素結構 120:第一訊號線 121:第一側 122:第二側 130:第二訊號線 140:第一畫素電極 143:第一凸出部分 150:第二畫素電極 153:第二凸出部分 154:第二梳狀電極 154L:線寬 154S:線距 160:第一共電極 164:第一梳狀電極 164L:線寬 164S:線距 170:第二共電極 175:內凹部分 190:連接線 T:主動元件 S:源極 D:汲極 G:閘極 CH:通道 PU:畫素單元 A1:第一區 A2:第二區 R1:第一面積的範圍 R2:第二面積的範圍 L1:間距

Claims (10)

  1. 一種畫素結構,包括:一基板;一第一訊號線,配置於該基板上;以及一畫素單元,配置於該基板上,且具有位於該第一訊號線相對兩側的一第一區及一第二區,該畫素單元包括:一第一畫素電極,至少位於該第一區;一第一共電極,位於該第一區且於該第一畫素電極上;一第二共電極,位於該第二區;一第二畫素電極,至少位於該第二區且於該第二共電極上;一絕緣層,位於該第一畫素電極與該第一共電極之間以及該第二共電極與該第二畫素電極之間;以及一連接洞,位於該第一區與該第二區之間且至少貫穿該絕緣層,該第一畫素電極與該第二畫素電極經由該連接洞電性連接,其中:該第一共電極包括透光導電材料;該第一畫素電極包括透光導電材料;該第二畫素電極包括透光導電材料;該第二共電極包括透光導電材料;該第一共電極包括多個第一梳狀電極;該第二畫素電極包括多個第二梳狀電極; 該第一畫素電極包括自該第一區延伸至該第二區的一第一凸出部分;該第二共電極具有一內凹部分;且該連接洞位於該內凹部分內。
  2. 如申請專利範圍第1項所述的畫素結構,其中:該些第一梳狀電極的線寬與線距的比值為大於或等於0.3且小於2.0;且該些第二梳狀電極的線寬與線距的比值為大於或等於0.3且小於2.0。
  3. 如申請專利範圍第1項所述的畫素結構,更包括:多條第二訊號線,其中該畫素單元位於相鄰的該些第二訊號線之間,且該些第二訊號線的延伸方向不同於該第一訊號線的延伸方向,其中:位於該第一區的該第一畫素電極與該第一共電極垂直投影於該基板上的範圍具有第一面積;位於該第二區的該第二共電極與該第二畫素電極垂直投影於該基板上的範圍具有第二面積;且該第二面積大於或等於該第一面積。
  4. 如申請專利範圍第3項所述的畫素結構,其中:該些第一梳狀電極的線寬與線距的比值為大於0.3且小於2.0;該些第二梳狀電極的線寬與線距的比值為大於0.3且小於 2.0;且該第二面積為該第一面積的2.4倍至3.5倍。
  5. 如申請專利範圍第1項所述的畫素結構,更包括:多條第二訊號線,其中該畫素單元位於相鄰的該些第二訊號線之間,且該些第二訊號線的延伸方向不同於該第一訊號線的延伸方向;以及一連接線,電性連接於該畫素單元的該第一共電極且交越該些第二訊號線。
  6. 如申請專利範圍第5項所述的畫素結構,其中該連接線的延伸方向基本上平行於該第一訊號線。
  7. 如申請專利範圍第1項所述的畫素結構,其中:該第一凸出部分覆蓋該連接洞,以使該第一畫素電極與該第二畫素電極經由該連接洞電性連接。
  8. 如申請專利範圍第7項所述的畫素結構,其中該第一畫素電極與該第二共電極之間的間距大於5微米。
  9. 如申請專利範圍第1項所述的畫素結構,其中:該第二畫素電極包括自該第二區延伸至該第一區的一第二凸出部分;且該第二凸出部分覆蓋該連接洞,以使該第一畫素電極與該第二畫素電極經由該連接洞電性連接。
  10. 如申請專利範圍第1項所述的畫素結構,更包括:一主動元件,包括一閘極、一汲極以及一源極,其中該閘極 與該第一訊號線電性連接,該汲極與該第一畫素電極及該第二畫素電極電性連接。
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