TWI673333B - 具有活體物質的附著抑制能之離子複合材料及其製造方法 - Google Patents

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Abstract

本發明為提供具有活體物質的附著抑制能之塗布膜、該塗布膜之製造方法、藉由聚合特定單體混合物所得之共聚物、具有特定組成之塗布膜形成用組成物、作為欲形成該膜之塗布膜形成用組成物的原料所使用之含有共聚物的塗漆之製造方法、以及欲形成塗布膜之溶膠。特別為提供含有以下步驟的方法所得之塗布膜，該步驟為將含有以下共聚物與溶劑的塗布膜形成用組成物塗布於基體的步驟、以及在溫度-200℃至200℃下進行乾燥之步驟，上述共聚物為含有具有式(a)所示有機基的重複單位與具有式(b)所示有機基的重複單位(式中，Ua1、Ua2、Ub1、Ub2及Ub3、以及An-如本說明書及申請專利範圍所定義者)。

Description

具有活體物質的附著抑制能之離子複合材料及其製造方法
本發明係關於具有活體物質之附著抑制能的離子複合材料及其製造方法。具體而言，本發明係關於具有活體物質之附著抑制能的塗布膜、該塗布膜之製造方法、藉由聚合特定單體混合物所得之共聚物、具有特定組成之塗布膜形成用組成物、作為欲形成該膜的塗布膜形成用組成物之原料所使用的含有共聚物之塗漆的製造方法、以及欲形成塗布膜之溶膠。
欲抑制人工透析器、人工臟器、醫療器具等醫療用器具、器材等對活體物質之附著，已有提出種種具有活體物質之附著抑制能的塗布材料。這些中已知有塗布具有乙二醇鏈之側鏈的聚合物而可阻礙活體物質之附著的材料，例如專利文獻1中已記載將2-甲氧基乙基丙烯酸酯之共聚物塗布於血液濾器或人工透析濾器等不織布的例子。又，非專利文獻1中已記載對於作為人工透析膜之基體而使用的聚碸(PSF)或聚迷碸(PES)等賦予活體物質之附 著抑制能時，塗布具有親水性之聚乙烯吡咯啶酮(PVP)。然而這些材料除因具有親水性等效果而期待其具有活體物質之附著抑制能以外，又因抑制聚合物本身對水之溶解性，而提高對醇或有機溶劑之溶解性，故已確認可藉由除菌用乙醇等進行洗淨、藉由高黏度活體物質等之對塗布膜的剪應力(剪斷應力)、以及因長期間使用等所造成的塗布膜本身的溶離，另外有著該溶離物可能引起過敏等顧慮。
另一方面，已知於表面具有側鏈上含有陽離子、負離子之高分子材料的材料中，藉由其靜電平衡，該表面因可保持電中性，而具有可防止活體物質(蛋白質、細胞等)之吸附的作用。又，亦有提出使用此等功能之塗布材料，有關對玻璃或聚合物基板等之固著．固定化方法亦有種種報告記載。例如，於非專利文獻2中記載將作為電荷中和單位且具有與磷脂質類似之分子結構的2-甲基丙烯醯氧乙基磷酸膽鹼(MPC)、與具有矽烷偶合基之甲基丙烯酸3-(三甲氧基矽基)丙基進行共聚合所得之聚合物，其與玻璃基板之藉由化學吸附之表面修飾已達成，另一方面，已有報告記載藉由共聚合於聚合物基板上以疏水性相互作用進行物理吸附為目的之甲基丙烯酸丁基所得的聚合物固定化於基板。然而這些方法必須依據基板種類而選擇聚合物種類。
又，專利文獻2中記載由具有磷酸酯基之含有聚合物的塗布液所形成之膜在200至450℃下進行加熱處理所得之塗布膜。欲抑制塗布膜於水系媒體之溶離，塗 布於基體後，必須在200至450℃之高溫下加熱處理，故必須要有使用於加熱處理之烤箱、加熱板等加熱裝置。又，有著不適用樹脂材料等耐熱性較低的基材等問題。且雖進一步聚合使用於製造形成該塗布膜之塗布液的種種聚合物，但在實施例中聚合反應係在乙醇中進行，在水中之聚合反應性並未清楚記載。
又，專利文獻3中記載，將丙烯酸系酸性磷酸酯單體在水存在下與胺類進行反應，選擇性地進行酸鹼反應所得之新穎丙烯酸系磷酸酯胺鹽單體(半鹽)以及該製造方法。其中記載該胺鹽(半鹽)為該單體作為橡膠彈性賦予或油溶性物質之變性劑，在感光性樹脂領域中有著廣泛用途及有用性，但對於該胺鹽(半鹽)單體本身在水中之聚合反應性或所得之聚合物對活體物質的附著抑制能則不清楚。又，其中記載在甲醇等極性溶劑中進行聚合時，總使用單體中之上述丙烯酸系酸性磷酸酯單體的使用比率主要以5%前後至1%前後的例子為多，若過多會有凝膠化現像產生。
又，專利文獻4中揭示具有含聚乙烯吡咯啶酮(PVP)的中空絲膜之血液淨化器，其中該中空絲中之PVP經動態光散射法所測定之粒徑分布中，最大粒徑側之吸收峰的模式徑為300nm以下，使用該PVP塗布液塗布於中空絲內。
[先行技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]特開2001-323030號公報
[專利文獻2]特開2007-63459號公報
[專利文獻3]特開平6-92979號公報
[專利文獻4]特開2010-233999號公報
[非專利文獻]
[非專利文獻1]人工臟器、39卷、1號、pp.77(2010)
[非專利文獻2]高分子論文集、Vol.65,No.3, pp.228, (2008)
本發明為克服下述課題者，(1)欲抑制對水系媒體之溶離，必須為藉由在200至450℃之高溫的加熱處理所得之塗布膜、(2)必須依據基材種類而適當地選擇塗布膜材料、(3)於上述塗布膜形成用組成物中所使用之共聚物在塗漆製造時容易凝膠化。本發明欲克服上述課題，提供特別僅在低溫乾燥步驟可容易形成之具有活體物質附著抑制能的塗布膜、該塗布膜之製造方法、藉由聚合特定單體混合物所得之共聚物、具有特定組成之塗布膜形成用組成物、作為欲形成該膜之塗布膜形成用組成物的原料所 使用的含共聚物之塗漆的製造方法、以及使用於形成塗布膜之溶膠。
本發明係關於，
作為第1觀點為一種塗布膜，其為藉由含有將含有以下共聚物與溶劑之塗布膜形成用組成物塗布於基體的步驟、及在溫度-200℃至200℃進行乾燥的步驟之方法所得者；該共聚物為含有具有下述式(a)所示有機基之重複單位與具有下述式(b)所示有機基之重複單位：
(式中，Ua1、Ua2、Ub1、Ub2及Ub3為各獨立表示氫原子或碳原子數1至5的直鏈或者分支烷基，An-表示選自鹵素化物離子、無機酸離子、氫氧化物離子及異硫氰酸酯離子所成群之陰離子)。
作為第2觀點，溶劑含有水或醇之第1觀點所記載的塗布膜。
作為第3觀點，塗布膜形成用組成物中之共聚物的濃度為0.01質量%至4質量%的第1觀點或第2觀點所記載 的塗布膜。
作為第4觀點，基體係選自玻璃、含有金屬之化合物、含有半金屬之化合物及樹脂所成群之第1觀點至第3觀點中任一所記載的塗布膜。
作為第5觀點，具有活體物質之附著抑制能的第1觀點至第4觀點中任一所記載的塗布膜。
作為第6觀點，共聚物為含有下述式(a1)及式(b1)的重複單位之第1觀點至第5觀點中任一所記載的塗布膜：
(式中，Ta、Tb、Ua1、Ua2、Ub1、Ub2及Ub3為各獨立表示氫原子或碳原子數1至5的直鏈或者分支烷基，Qa及Qb為各獨立表示單鍵、酯鍵或醯胺鍵，Ra及Rb為各獨立表示可由鹵素原子所取代之碳原子數1至10的直鏈或分支伸烷基，An-表示選自由鹵素化物離子、無機酸離子、氫氧化物離子及異硫氰酸酯離子所成群的陰離子，m表示0至6的整數)。
作為第7觀點，m為1，Ra及Rb為各獨立表示伸乙 基或伸丙基之第1觀點至第6觀點中任一所記載的塗布膜。
作為第8觀點，含有將塗布膜形成用組成物預先調整pH之步驟的第1觀點至第7觀點中任一所記載的塗布膜。
作為第9觀點，含有將乾燥步驟後所得之膜，進一步以選自由含有水及電解質之水溶液所成群的至少1種溶劑進行洗淨之步驟的第1觀點至第8觀點中任一所記載的塗布膜。
又，本發明係關於，
作為第10觀點為一種塗布膜的製造方法，其為含有將含有下述共聚物與溶劑的塗布膜形成用組成物塗布於基體之步驟、及在溫度-200℃至200℃進行乾燥之步驟者，其中共聚物為含有具有下述式(a)所示有機基之重複單位與具有下述式(b)所示有機基之重複單位：
(式中，Ua1、Ua2、Ub1、Ub2及Ub3為各獨立表示氫原子或碳原子數1至5的直鏈或者分支烷基，An-表示選自由鹵素化物離子、無機酸離子、氫氧化物離子及異 硫氰酸酯離子所成群的陰離子)。
作為第11觀點係關於一種共聚物，其係將至少含有下述式(A)及(B)：
(式中，Ta、Tb、Ua1、Ua2、Ub1、Ub2及Ub3為各獨立表示氫原子或碳原子數1至5的直鏈或者分支烷基，Qa及Qb為各獨立表示單鍵、酯鍵或醯胺鍵，Ra及Rb為各獨立表示可被鹵素原子取代之碳原子數1至10的直鏈或分支伸烷基，An-表示選自由鹵素化物離子、無機酸離子、氫氧化物離子及異硫氰酸酯離子所成群的陰離子，m表示0至6的整數)所示化合物與下述式(C)或(D)：
(式中，Tc、Td及Ud為各獨立表示氫原子或碳原子數1至5的直鏈或者分支烷基，Rc及Rd為各獨立表示可由鹵素原子所取代之碳原子數1至10的直鏈或分支伸烷基)所示化合物的單體混合物經聚合所得者。
又，本發明係關於，
作為第12觀點為含有(i)具有下述式(a)所示有機基之重複單位、與具有下述式(b)所示有機基之重複單位的共聚物：
(式中，Ua1、Ua2、Ub1、Ub2及Ub3為各獨立表示氫原子或碳原子數1至5的直鏈或者分支烷基，An-表 示選自由鹵素化物離子、無機酸離子、氫氧化物離子及異硫氰酸酯離子所成群之陰離子)、(ii)溶劑；及(iii)pH調整劑之塗布膜形成用組成物。
作為第13觀點係關於，該共聚物含有下述式(a1)及式(b1)：
(式中，Ta、Tb、Ua1、Ua2、Ub1、Ub2及Ub3為各獨立表示氫原子或碳原子數1至5的直鏈或者分支烷基，Qa及Qb為各獨立表示單鍵、酯鍵或醯胺鍵，Ra及Rb為各獨立表示可由鹵素原子所取代之碳原子數1至10的直鏈或分支伸烷基，An-表示選自由鹵素化物離子、無機酸離子、氫氧化物離子及異硫氰酸酯離子所成群之陰離子，m表示0至6的整數)之重複單位的第12觀點之塗布膜形成用組成物。
進一步本發明係關於，
作為第14觀點為含有將下述式(A)及(B)：
(式中，Ta、Tb、Ua1、Ua2、Ub1、Ub2及Ub3為各獨立表示氫原子或碳原子數1至5的直鏈或者分支烷基，Qa及Qb為各獨立表示單鍵、酯鍵或醯胺鍵，Ra及Rb為各獨立表示可由鹵素原子所取代之碳原子數1至10的直鏈或分支伸烷基，An-表示選自由鹵素化物離子、無機酸離子、氫氧化物離子及異硫氰酸酯離子所成群之陰離，m表示0至6的整數)所示化合物在溶劑中使兩化合物的合計濃度成為0.01質量%至4質量%進行反應之步驟的含有共聚物之塗漆的製造方法。
作為第15觀點，m為1，Ra及Rb各獨立表示伸乙基或伸丙基之第14觀點所記載的含有共聚物之塗漆的製造方法。
作為第16觀點，溶劑含有水或醇之第14觀點或第15觀點所記載的含有共聚物之塗漆的製造方法。
作為第17觀點，溶劑含有水10質量%至100質量%之第14觀點至第16觀點中任一所記載的含有共聚物之塗 漆的製造方法。
作為第18觀點，溶劑含有醇10質量%至100質量%之第14觀點至第16觀點中任一所記載的含有共聚物之塗漆的製造方法。
且，本發明係關於，
作為第19觀點，包含將含有下述式(A)及式(B)：
(式中，Ta、Tb、Ua1、Ua2、Ub1、Ub2及Ub3為各獨立表示氫原子或碳原子數1至5的直鏈或者分支烷基，Qa及Qb為各獨立表示單鍵、酯鍵或醯胺鍵，Ra與Rb為各獨立表示可由鹵素原子所取代之碳原子數1至10的直鏈或分支伸烷基，An-表示選自由鹵素化物離子、無機酸離子、氫氧化物離子及異硫氰酸酯離子所成群之陰離子，m表示0至6的整數)所示化合物、溶劑及聚合起始劑之混合物滴入於保持於比聚合起始劑之10小時半衰期溫度更高之溫度的溶劑中進行反應之步驟的含有共聚物之塗漆的製造方法。
進一步本發明係關於，
作為第20觀點，含有具有下述式(a)所示有機基之重複單位、與具有下述式(b)所示有機基之重複單位的共聚物：
(式中，Ua1、Ua2、Ub1、Ub2及Ub3為各獨立表示氫原子或碳原子數1至5的直鏈或者分支烷基，An-表示選自由鹵素化物離子、無機酸離子、氫氧化物離子及異硫氰酸酯離子所成群之陰離子)之溶膠。
作為第21觀點，於藉由動態光散射法所測定之粒徑分布中，平均粒徑為2nm以上500nm以下之第20觀點所記載的溶膠。
本發明之塗布膜為將含有具有式(a)所示負離子與式(b)所示陽離子之共聚物的塗布膜形成用組成物塗布於基體後，可經由低溫乾燥(-200℃至200℃)步驟後形成。本發明之塗布膜因式(a)所示負離子與式(b)所示陽離子形成離子鍵(離子複合)，故可無須選擇玻璃、含有金屬 之化合物或者含有半金屬之化合物或樹脂(合成樹脂及天然樹脂)等基體種類而可固著，又固著後成為對水系溶劑(水、磷酸緩衝生理食鹽水(PBS)、醇等)之耐久性優良的塗布膜。又，欲調節共聚物之離子平衡，將塗布膜形成用組成物預先藉由pH調整劑等調整pH，或將乾燥後之塗布膜以含有水及/或電解質之水溶液進行洗淨後，可成為活體物質之附著抑制能優良的塗布膜。
進一步合成含於本發明之塗布膜形成用組成物的共聚物時，已知該共聚物之側鏈的磷酸酯基，例如可藉由如專利文獻3所記載，藉由締合性強之聚合條件下會產生凝膠化，但本發明中，使用於合成共聚物之化合物因可將反應溶劑中之合計濃度控制在4質量%以下，或控制反應基質或試藥之添加順序或添加溫度，可提供不會產生凝膠化而可得到透明的含有共聚物之塗漆的製造方法。依據該方法，於有關本發明之共聚物中具有磷酸酯基的重複單位，例如即使為具有50莫耳%程度之聚合物，亦可無凝膠化下製造出透明之含有共聚物之塗漆。該含有共聚物之塗漆可作為使用於形成本發明之塗布膜的塗布膜形成用組成物，或可作為欲作成此等之原料使用。
[實施發明之形態]
本發明之塗布膜係由含有以下步驟的方法所得者，該步驟為將含有以下共聚物與溶劑之塗布膜形成用組成物塗布於基體之步驟、及在溫度-200℃至200℃下進 行乾燥之步驟；該共聚物為含有具有下述式(a)所示有機基之重複單位與具有下述式(b)所示有機基之重複單位者：
(式中，Ua1、Ua2、Ub1、Ub2及Ub3表示氫原子或碳原子數1至5的直鏈或分支烷基，An-表示選自由鹵素化物離子、無機酸離子、氫氧化物離子及異硫氰酸酯離子所成群之陰離子)。
有關本發明之共聚物若為含有具有上述式(a)所示有機基之重複單位、與具有上述式(b)所示有機基之重複單位的共聚物即可，並無特別限制。該聚合物係以將具有上述式(a)所示有機基之單體與具有上述式(b)所示有機基之單體進行自由基聚合所得者為佳，但亦可使用經聚縮合、加聚反應者。作為共聚物之例子，可舉出烯烴進行反應之乙烯基聚合聚合物、聚醯胺、聚酯、聚碳酸酯、聚氨酯等，但此等中，特別以烯烴進行反應之乙烯基聚合聚合物或使(甲基)丙烯酸酯化合物進行聚合之(甲基)丙烯酸聚合物為佳。且，本發明中，所謂(甲基)丙烯酸酯化合物表示丙烯酸酯化合物與甲基丙烯酸酯化合物之雙方意思。 例如(甲基)丙烯酸表示丙烯酸與甲基丙烯酸之意思。
所謂本發明中之「鹵素化物離子」表示氟化物離子、氯化物離子、溴化物離子或碘化物離子。
所謂本發明中之「無機酸離子」表示碳酸離子、硫酸離子、磷酸離子、磷酸氫離子、磷酸二氫離子、硝酸離子、過氯酸離子或硼酸離子。
作為上述An-，較佳為鹵素化物離子、硫酸離子、磷酸離子、氫氧化物離子及異硫氰酸酯離子，特佳為鹵素化物離子。
本發明中，作為「碳原子數1至5的直鏈或分支烷基」，例如可舉出甲基、乙基、n-丙基、異丙基、n-丁基、異丁基、s-丁基、t-丁基、n-戊基、1-甲基丁基、2-甲基丁基、3-甲基丁基、1,1-二甲基丙基、1,2-二甲基丙基、2,2-二甲基丙基或1-乙基丙基。作為Ua1、Ua2、Ub1、Ub2及Ub3，較佳可舉出氫原子、甲基或乙基，但式(a)之Ua1及Ua2中，以氫原子為較佳，式(b)之Ub1、Ub2及Ub3中以甲基為較佳。
有關本發明之共聚物中之具有式(a)所示有機基的重複單位之比例為20莫耳%至80莫耳%，較佳為30莫耳%至70莫耳%，更佳為40莫耳%至60莫耳%。且，有關本發明之共聚物可含具有2種以上之式(a)所示有機基的重複單位。
有關本發明的共聚物中之具有式(b)所示有機基的重複單位之比例可為對全共聚物減去上述式(a)之剩餘 全部，亦可為減去上述式(a)與下述所示第3成分之合計比例後之剩餘部分。且，有關本發明之共聚物可含有具有2種以上式(b)所示有機基之重複單位。
作為於本發明之塗布膜形成用組成物所含的溶劑，可舉出水、磷酸緩衝生理食鹽水(PBS)、醇。作為醇，可舉出碳數2至6的醇，例如可舉出乙醇、丙醇、異丙醇、1-丁醇、2-丁醇、異丁醇、t-丁醇、1-戊醇、2-戊醇、3-戊醇、1-庚醇、2-庚醇、2,2-二甲基-1-丙醇(新戊基醇)、2-甲基-1-丙醇、2-甲基-1-丁醇、2-甲基-2-丁醇(t-戊基醇)、3-甲基-1-丁醇、3-甲基-3-戊醇、環戊醇、1-己醇、2-己醇、3-己醇、2,3-二甲基-2-丁醇、3,3-二甲基-1-丁醇、3,3-二甲基-2-丁醇、2-乙基-1-丁醇、2-甲基-1-戊醇、2-甲基-2-戊醇、2-甲基-3-戊醇、3-甲基-1-戊醇、3-甲基-2-戊醇、3-甲基-3-戊醇、4-甲基-1-戊醇、4-甲基-2-戊醇、4-甲基-3-戊醇及環己醇，可單獨使用或使用彼等組合之混合溶劑，但共聚物之溶解的觀點來看，選自水、PBS及乙醇者為佳。
作為有關本發明之塗布膜形成用組成物中的固體成分之濃度，欲均勻地形成塗布膜，以0.01至50質量%為佳。又，作為塗布膜形成用組成物中之共聚物的濃度，以0.01至4質量%為佳，較佳為0.01至3質量%，特佳為0.01至2質量%，更佳為0.01至1質量%。共聚物的濃度若為0.01質量%以下時，所得之塗布膜形成用組成物的共聚物之濃度過低而無法形成充分膜厚之塗布膜，若4 質量%以上時，塗布膜形成用組成物之保存安定性會惡化，可能引起溶解物之析出或凝膠化。
且，本發明之塗布膜形成用組成物除含有上述共聚物與溶劑以外，配合所需以不損害所得塗布膜之性能得範圍下亦可添加其他物質。作為其他物質，可舉出防腐劑、界面活性劑、欲提高與基材之密著性的底漆、防黴菌劑及糖類等。
欲調節有關本發明的塗布膜形成用組成物中之共聚物的離子平衡，於得到本發明之塗布膜時，亦可進一步含有預先調整塗布膜形成用組成物中之pH的步驟。pH調整，例如於含有上述共聚物與溶劑之組成物中添加pH調整劑，亦可將該組成物的pH調整至3.5~8.5，更佳為調整至4.0~8.0而實施。所使用之pH調整劑的種類及其量可配合上述共聚物之濃度或該負離子與陽離子之存在比等做適宜選擇。作為pH調整劑之例子，可舉出氨、二乙醇胺、吡啶、N-甲基-D-葡糖胺、參(羥基甲基)胺基甲烷等有機胺；氫氧化鉀、氫氧化鈉等鹼金屬氫氧化物；氯化鉀、氯化鈉等鹼金屬鹵素化物；硫酸、磷酸、鹽酸、碳酸等無機酸或其鹼金屬鹽；膽鹼等4級銨陽離子、或者這些混合物(例如磷酸緩衝生理食鹽水等緩衝液)。彼等中亦以氨、二乙醇胺、氫氧化鈉、膽鹼、N-甲基-D-葡糖胺、參(羥基甲基)胺基甲烷為佳，特別以氨、二乙醇胺、氫氧化鈉及膽鹼為佳。
因此，本發明係關於含有(i)具有上述式(a)所 示有機基之重複單位與具有上述式(b)所示有機基之重複單位的共聚物、(ii)溶劑、及(iii)pH調整劑的塗布膜形成用組成物。共聚物、溶劑及pH調整劑之具體例子如上述所示。
本發明又關於含有具有上述式(a)所示有機基的重複單位與具有上述式(b)所示有機基的重複單位之共聚物的溶膠。含有溶膠之共聚物、溶劑之具體例子如上述所示。
較佳為本發明之溶膠中進一步含有pH調整劑。pH調整劑之具體例子如上述所示。更佳為本發明之溶膠為塗布膜形成用溶膠，其為塗布膜形成用組成物之一態樣。
將有關本發明之塗布膜形成用組成物塗布於基體後使其乾燥而形成塗布膜。
作為欲形成本發明之塗布膜的基體，可舉出玻璃、含有金屬之化合物或者含有半金屬之化合物、活性碳或樹脂。含有金屬之化合物或者含有半金屬之化合物，例如基本成分為金屬氧化物，藉由高溫的熱處理燒烤固化的燒結體之陶瓷、如矽之半導體、金屬氧化物或者半金屬氧化物(矽氧化物、氧化鋁等)、金屬碳化物或者半金屬碳化物、金屬氮化物或者半金屬氮化物(矽氮化物等)、金屬硼化物或者半金屬硼化物等之無機化合物的成形體等無機固體材料、鋁、鎳鈦、不銹鋼(SUS304、SUS316、SUS316L等)。
作為樹脂，可為天然樹脂或合成樹脂中任 一，作為天然樹脂使用纖維素、三乙酸纖維素(CTA)、固定化葡聚醣硫酸之纖維素等，作為合成樹脂使用聚丙烯腈(PAN)、聚酯系聚合物合體(PEPA)、聚苯乙烯(PS)、聚碸(PSF)、聚乙烯對苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚甲基甲基丙烯酸酯(PMMA)、聚乙烯醇(PVA)、聚氨酯(PU)、伸乙基乙烯醇(EVAL)、聚乙烯(PE)、聚酯(PE)、聚丙烯(PP)、聚氟化亞乙烯基(PVDF)、各種離子交換樹脂或聚迷碸(PES)等為佳。本發明之塗布膜可在低溫乾燥下形成，故亦適用耐熱性低之樹脂等。
形成本發明之塗布膜時，必須將上述塗布膜形成用組成物塗布於基體表面的至少一部分。作為塗佈方法，並無特別限定，可使用一般的旋塗、浸塗、溶劑澆鑄法等塗佈法。
有關本發明之塗布膜的乾燥步驟可在大氣下或真空下於溫度-200℃至200℃之範圍內進行。藉由乾燥步驟取出上述塗布膜形成用組成物中之溶劑的同時，有關本發明之共聚物的式(a)及式(b)彼此形成離子鍵而完全固著於基體。
塗布膜例如在室溫(10℃至35℃，例如25℃)的乾燥下亦可形成，欲更迅速地形成塗布膜，例如可在40℃至50℃進行乾燥。又，亦可使用藉由冷凍乾燥法之極低溫~低溫(-200℃至-30℃前後)的乾燥步驟。冷凍乾燥亦稱為真空冷凍乾燥，可將一般經乾燥者以冷媒冷卻，在真空狀態下藉由將溶劑昇華而除去之方法。使用於冷凍乾 燥之一般冷媒可舉出乾冰與甲醇之混合媒體(-78℃)、液體氮(-196℃)等。
乾燥溫度為-200℃以下時，必須使用非一般性冷媒，故欠缺泛用性，且在溶劑昇華之乾燥時必須花費更長時間故效率差。乾燥溫度若為200℃以上時，塗布膜表面之離子鍵反應過度進行，而使該表面失去親水性，無法發揮活體物質附著抑制能。較佳乾燥溫度為10℃至180℃，更佳乾燥溫度為25℃至150℃。
乾燥後，欲除去殘存於該塗布膜上之雜質及未反應單體等，進一步調節膜中之共聚物的離子平衡時，以選自含有水及電解質之水溶液的1種以上之溶劑進行流水洗淨或超音波洗淨等洗淨為佳。上述含有水及電解質之水溶液，例如亦可為在40℃至95℃之範圍內進行加溫者。含有電解質之水溶液以PBS、生理食鹽水(僅含有氯化鈉者)、達爾伯克氏磷酸緩衝生理食鹽水、Tris緩衝生理食鹽水、HEPES緩衝生理食鹽水及巴比妥緩衝生理食鹽水為佳，PBS為特佳。固著後即使以水、PBS及醇等洗淨，塗布膜不會溶離下而保持強力固定於基體上。所形成之塗布膜即使附著於活體物質上，其後可藉由水洗等而容易除去，形成本發明之塗布膜的基體表面具有活體物質之附著抑制能。
作為本發明之塗布膜的應用事例，例如有人工透析器之濾器用塗布膜，本發明之塗布膜對於使用於濾器之合成樹脂(例如PES、PS及PSF等)的塗布膜之固著 性、固著後之耐久性亦良好。基體的形態並無特別限定，可舉出基板、纖維、粒子、凝膠形態、多孔質形態等，形狀可為平板亦可為曲面。
例如作為人工透析器之濾器用塗布膜時，以上述素材所作成之例如直徑0.1至500μm的中空絲形狀之濾器內側裡通過有關本發明之塗布膜形成用組成物，其後可進行乾燥步驟、洗淨步驟(熱水(例如40℃至95℃)洗淨等)而製作。
視必要欲滅菌可進行γ線、環氧乙烷、高壓高溫釜等處理。
本發明之塗布膜的膜厚以10~1000Å為佳，更佳為10~500Å。
作為活體物質，可舉出蛋白質、糖、核酸及細胞或彼等組合。例如作為蛋白質，可舉出纖維蛋白原、牛血清白蛋白(BSA)、人類白蛋白、各種球蛋白、β-脂蛋白、各種抗體(IgG、IgA、IgM)、過氧化物酶、各種輔助體、各種凝集素、纖維連接蛋白、溶菌酶、血管性血友病因子(vWF)、血清γ-球蛋白、胃蛋白酶、卵白白蛋白、胰島素、組蛋白、核糖核酸酶、膠原、細胞色素c、例如作為糖之葡萄糖、半乳糖、甘露糖、果糖、肝素、玻尿酸、例如作為核酸之脫氧核糖核酸(DNA)、核糖核酸(RNA)、例如作為細胞可舉出纖維母細胞、骨髓細胞、B淋巴球、T淋巴球、嗜中性粒細胞、紅血球、血小板、巨噬細胞、單核細胞、骨細胞、骨髓細胞、週皮細胞、樹枝狀細胞、 角質形成細胞、脂肪細胞、間充質細胞、上皮細胞、表皮細胞、內皮細胞、血管內皮細胞、肝實質細胞、軟骨細胞、卵丘細胞、神經系細胞、神經膠基質細胞、神經元、少突膠基質細胞、小膠基質細胞、星狀膠細胞、心臟細胞、食道細胞、筋肉細胞(例如平滑筋細胞或骨格筋細胞)、胰臟β細胞、黑色素細胞、造血前驅細胞、單核細胞、胚性幹細胞(ES細胞)、胚性腫瘤細胞、胚性生殖幹細胞、誘導性多能幹細胞(iPS細胞)、神經幹細胞、造血幹細胞、間葉系幹細胞、肝幹細胞、胰腺幹細胞、肌肉幹細胞、生殖幹細胞、腸道幹細胞、腫瘤幹細胞、毛囊幹細胞、及各種細胞株(例如HCT116、Huh7、HEK293(人類胚胎腎細胞)、HeLa(人類子宮頸癌細胞株)、HepG2(人類肝癌細胞株)、UT7/TPO(人類白血病細胞株)、CHO(中國倉鼠卵巢細胞株)、MDCK、MDBK、BHK、C-33A、HT-29、AE-1、3D9、Ns0/1、Jurkat、NIH3T3、PC12、S2、Sf9、Sf21、High Five、Vero)等，本發明之塗布膜特別對血小板具有高附著抑制能。又本發明之塗布膜對於混合蛋白質、糖之血清具有特高附著抑制能。
本發明之塗布膜因具有活體物質之附著抑制能，故可適合使用於醫療用基材用塗布膜上。例如可適合使用於白血球除去濾器、輸血濾器、病毒除去濾器、微小凝血塊除去濾器、血液淨化用模組、人工心臟、人工肺、血液回路、人工血管、血管繞道試管、醫療用試管、人工瓣膜、套管、支架、導管、血管內導管、氣球導管、導 絲、縫合絲、滯留針、分流器、人工關節、人工股關節、血液袋、血液保存容器、手術用輔助器具、癒著防止膜、創傷被覆材等。其中，所謂血液淨化用模組表示可將血液於體外循環，具有取出血中之老廢物或有害物質之功能的模組，可舉出人工腎臟、毒素吸附濾器或管柱等。
又，本發明之塗布膜可作為燒瓶、碟子、平板等細胞培養容器或抑制蛋白質附著之各種研究用器具的塗布膜使用。
又，本發明之塗布膜可作為化粧品用材料、隱形眼鏡保養用品用材料、皮膚護理用纖維加工劑、生化學研究用診斷藥用材料、在臨床診斷法中廣泛被使用酵素免疫測定(ELISA)法或抑制膠乳凝集法中之非特異的吸附的封閉劑、安定化酵素或抗體等蛋白質之安定化劑使用。
且本發明之塗布膜可作為梳妝、個人護理用品、洗劑、醫藥品、準藥物、纖維、以防污材為目的之塗布膜使用。
有關本發明之塗布膜形成用組成物及溶膠所含之共聚物，特別以使用含有下述式(a1)及式(b1)之重複單位的共聚物為特佳。
式中，Ta、Tb、Ua1、Ua2、Ub1、Ub2及Ub3為各獨立表示氫原子或碳原子數1至5的直鏈或分支烷基，Qa及Qb為各獨立表示單鍵、酯鍵或醯胺鍵，Ra及Rb為各獨立表示可由鹵素原子所取代之碳原子數1至10的直鏈或分支伸烷基，An-表示選自由鹵素化物離子、無機酸離子、氫氧化物離子及異硫氰酸酯離子所成群之陰離子，m表示0至6的整數。
本發明中，所謂「酯鍵」表示-C(=O)-O-或者-O-C(=O)-，「醯胺鍵」表示-NHC(=O)-或者-C(=O)NH-。
本發明中，所謂「可由鹵素原子所取代之碳原子數1至10的直鏈或分支伸烷基」表示碳原子數1至10的直鏈或分支伸烷基、或者可由1個以上的鹵素原子所取代之碳原子數1至10的直鏈或分支伸烷基。其中，作為「碳原子數1至10的直鏈或分支伸烷基」為對應上述烷基之2價有機基，例如可舉出伸甲基、伸乙基、伸丙基、三伸甲基、四伸甲基、1-甲基伸丙基、2-甲基伸丙基、二甲基伸乙基、乙基伸乙基、五伸甲基、1-甲基-四 伸甲基、2-甲基-四伸甲基、1,1-二甲基-三伸甲基、1,2-二甲基-三伸甲基、2,2-二甲基-三伸甲基、1-乙基-三伸甲基、六伸甲基、八伸甲基及十伸甲基等，彼等中，以伸乙基、伸丙基、八伸甲基及十伸甲基為佳，碳原子數1至5的直鏈或分支伸烷基，例如伸乙基、伸丙基、三伸甲基、四伸甲基為較佳，特佳為伸乙基或伸丙基。所謂「可由1個以上鹵素原子所取代之碳原子數1至10的直鏈或分支伸烷基」表示上述伸烷基的1個以上任意氫原子可由取代為鹵素原子的意思，特別以伸乙基或伸丙基之氫原子的一部分或全部由鹵素原子所取代者為佳。
鹵素原子可舉出氟原子、氯原子、溴原子、碘原子。
式(a1)中，m表示0至6的整數，以表示0至3的整數為佳，較佳為表示1或2的整數，特佳為1。
有關本發明之共聚物中所含的式(a1)所示重複單位之比例為20莫耳%至80莫耳%，較佳為30莫耳%至70莫耳%，更佳為40莫耳%至60莫耳%。且，有關本發明之共聚物可含有2種以上的式(a1)所示重複單位。
有關本發明之共聚物所含之式(b1)所示重複單位的比例，可為對全共聚物減去上述式(a1)的剩餘部分全部，或可為減去上述式(a1)與下述所記載的第3成分的合計比例所得之剩餘部分。且，有關本發明之共聚物可含有2種以上之式(b1)所示重複單位。
欲形成本發明之塗布膜的塗布膜形成用組成 物中所含之共聚物較佳為將含有下述式(A)及式(B)：
(式中，Ta、Tb、Ua1、Ua2、Ub1、Ub2及Ub3為各獨立表示氫原子或碳原子數1至5的直鏈或者分支烷基，Qa及Qb為各獨立表示單鍵、酯鍵或醯胺鍵，Ra及Rb為各獨立表示可由鹵素原子所取代之碳原子數1至10的直鏈或分支伸烷基，An-表示選自由鹵素化物離子、無機酸離子、氫氧化物離子及異硫氰酸酯離子所成群之陰離子，m表示0至6的整數)所示化合物之單體混合物在溶劑中進行反應(聚合)而可合成。
作為上述式(A)之具體例子，雖可舉出乙烯基膦酸、酸磷氧基(acid phosphoxy)乙基(甲基)丙烯酸酯、3-氯-2-酸磷氧基(acid phosphoxy)丙基(甲基)丙烯酸酯、酸磷氧基(acid phosphoxy)丙基(甲基)丙烯酸酯、酸磷氧基(acid phosphoxy)甲基(甲基)丙烯酸酯、酸磷氧基(acid phosphoxy)聚氧乙二醇單(甲基)丙烯酸酯、酸磷氧基(acid phosphoxy)聚氧丙二醇單(甲基)丙烯酸酯等，但其中以使用乙烯基膦酸、酸磷氧基(acid phosphoxy)乙基甲基丙烯 酸酯(=磷酸2-(甲基丙烯醯氧)乙基)及酸磷氧基(acid phosphoxy)聚氧乙二醇單甲基丙烯酸酯為較佳。
乙烯基膦酸、酸磷氧基(acid phosphoxy)乙基甲基丙烯酸酯(=磷酸2-(甲基丙烯醯氧)乙基)及酸磷氧基(acid phosphoxy)聚氧乙二醇單甲基丙烯酸酯之結構式各以下述式(A-1)~式(A-3)所示。
這些化合物在合成時，有時含有具有如後述一般式(C)或(D)所示之2個官能基的(甲基)丙烯酸酯化合物。
作為上述式(B)之具體例子，可舉出二甲基胺基乙基(甲基)丙烯酸酯、二乙基胺基乙基(甲基)丙烯酸酯、二甲基胺基丙基(甲基)丙烯酸酯、2-(t-丁基胺基)乙基(甲基)丙烯酸酯、甲基丙烯醯基膽鹼氯化物等，其中亦以二甲基胺基乙基(甲基)丙烯酸酯、甲基丙烯醯基膽鹼氯化物或2-(t-丁基胺基)乙基(甲基)丙烯酸酯為佳。
二甲基胺基乙基丙烯酸酯(=丙烯酸2-(二甲基 胺基)乙基)、二甲基胺基乙基甲基丙烯酸酯(=甲基丙烯酸2-(二甲基胺基)乙基)、甲基丙烯醯基膽鹼氯化物及2-(t-丁基胺基)乙基甲基丙烯酸酯(=甲基丙烯酸2-(t-丁基胺基)乙基的結構式各如下述式(B-1)~式(B-4)所示。
有關本發明之共聚物可進一步與任意第3成分進行共聚合。例如與作為第3成分之具有2個以上官能基之(甲基)丙烯酸酯化合物進行共聚合，聚合物之一部分可進行部分性3次元交聯。作為如此第3成分，例如可舉出下述式(C)或(D)：
(式中，Tc、Td及Ud為各獨立表示氫原子或碳原子數1至5的直鏈或者分支烷基，Rc及Rd為各獨立表示可由鹵素原子所取代之碳原子數1至10的直鏈或分支伸烷基)所示2官能性單體。即有關本發明之共聚物較佳為含有由如此2官能性單體所衍生的交聯結構者。
式(C)及(D)中，Tc及Td較佳為各獨立表示氫原子、甲基或乙基，更佳為各獨立表示氫原子或甲基。
式(C)及(D)中，Ud較佳為氫原子、甲基或乙基，更佳為氫原子。
式(C)及(D)中，Rc及Rd較佳為各獨立表示可由鹵素原子所取代之碳原子數1至3的直鏈或分支伸烷基，更佳為各獨立表示伸乙基或者伸丙基，或者由1個氯原子所取代之伸乙基或者伸丙基，特佳為伸乙基或者伸丙基。
式(C)所示2官能性單體較佳為可舉出乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、丙二醇二(甲基)丙烯酸酯等。式(D)所示2官能性單體較佳為可舉出磷酸雙〔(2-甲基丙烯醯氧)甲基〕、磷酸雙〔(2-甲基丙烯醯氧)乙基〕、磷酸雙〔(2-甲基丙烯醯氧)丙基〕等。
又，作為3官能(甲基)丙烯酸酯化合物，可舉出三丙烯酸氧次膦基參(氧基-2,1-乙烷二基)。
這些第3成分之中，特別以乙二醇二(甲基)丙烯酸酯及磷酸雙〔2-(甲基丙烯醯氧)乙基〕為佳，該結構式各為下述式(C-1)及式(D-1)所示。
於共聚物中，可含有這些第3成分之1種或2種以上。上述中亦以式(D)所示2官能性單體為佳，特別以式(D-1)所示2官能性單體為佳。
上述共聚物中之第3成分，例如由上述式(C)或(D)所示2官能性單體所衍生的交聯結構之比例為0莫耳%至50莫耳%。
式(A)所示化合物對於形成上述共聚物之單體全體的比例為20莫耳%至80莫耳%，較佳為30莫耳%至70莫耳%，更佳為40莫耳%至60莫耳%。又，式(A)所示化合物可為2種以上。
式(B)所示化合物對於上述共聚物之單體全體的比例可為減去上述式(A)的比例之剩餘全部，亦可為減去上述式(A)與上述第3成分之合計比例的剩餘部分。又，式(B)所示化合物亦可為2種以上。
作為有關本發明之共聚物的合成方法，可藉由一般之丙烯酸聚合物或甲基丙烯酸聚合物等合成方法的自由基聚合、負離子聚合、陽離子聚合等之方法而合成。 該形態可為溶液聚合、懸浮聚合、乳化聚合、塊狀聚合等種種方法。
有關本發明之塗布膜形成用組成物可藉由將所望共聚物在所望溶劑稀釋至所定濃度而調製。
且，有關本發明之塗布膜形成用組成物可由本發明之含有共聚物之塗漆所調製。其中一實施態樣中，本發明的含有共聚物之塗漆可藉由含有將上述式(A)及(B)所示化合物在溶劑中以兩化合物之合計濃度為0.01質量%至4質量%下進行反應(聚合)的步驟之製造方法所調製。
作為聚合反應中之溶劑，可為水、磷酸緩衝液或乙醇等醇或組合此等之混合溶劑，以含有水或乙醇者為佳。且含有水或乙醇10質量%以上100質量%以下者為佳。含有水或乙醇50質量%以上100質量%以下者為較佳。含有水或乙醇80質量%以上100質量%以下者為更佳。含有水或乙醇90質量%以上100質量%以下者為特佳。最佳為水與乙醇之合計為100質量%。
作為反應濃度，例如將上述式(A)或式(B)所示化合物之反應溶劑中的濃度成為0.01質量%至4質量%者為佳。濃度若為4質量%以上時，例如會有藉由式(A)所示磷酸基所具有的強力締合性會使共聚物在反應溶劑中凝膠化之情況。濃度若為0.01質量%以下時，所得之塗漆濃度因過低，欲得到充分膜厚之塗布膜的塗布膜形成用組成物之作成為困難。濃度為0.01質量%至3質量%，例如以3質量%或2質量%為佳。
又，對於有關本發明之共聚物的合成，例如亦可作成式(1)所記載的酸性磷酸酯單體(半鹽)後經聚合製作共聚物。
因為含有磷酸基之單體為容易締合之單體，故滴入反應系中時，欲使其快速分散，於反應溶劑中以少量徐徐滴入。
反應溶劑在進一步提高單體及聚合物之溶解性時可進行加溫(例如40℃至100℃)。
欲有效率地進行聚合反應，使用聚合起始劑為佳。作為聚合起始劑之例子，可使用2,2’-偶氮雙(異丁腈)、2,2’-偶氮雙(2-甲基丁腈)、2,2’-偶氮雙(2,4-二甲基戊腈)、4,4’-偶氮雙(4-氰基吉草酸)、2,2’-偶氮雙(2,4-二甲基戊腈)、2,2’-偶氮雙(4-甲氧基-2,4-二甲基戊腈)、2,2’-偶氮雙(異丁腈)、1,1’-偶氮雙(環己烷-1-甲腈)、1-〔(1-氰基-1-甲基乙基)偶氮〕甲醯胺、2,2’-偶氮雙〔2-(2-咪唑啉-2-基)丙烷〕二鹽酸鹽、2,2’-偶氮雙〔2-(2-咪唑啉-2-基)丙烷〕、2,2’-偶氮雙(2-甲基丙脒)二鹽酸鹽、2,2’-偶氮(2-甲基-N-(2-羥基乙基)丙醯胺(和光純藥公司製品名；VA- 086、10小時半衰期溫度；86℃)、過酸化苯甲醯基(BPO)、2,2’-偶氮雙(N-(2-羧基乙基)-2-甲基丙脒)n-水合物(和光純藥公司製品名；VA-057、10小時半衰期溫度；57℃)、4,4’-偶氮雙(4-氰基戊酸)(和光純藥公司製品名；VA-501)、2,2’-偶氮雙〔2-(2-咪唑烷-2-基)丙烷〕二氫氯化物(和光純藥公司製品名；VA-044、10小時半衰期溫度；44℃)、2,2’-偶氮雙〔2-(2-咪唑烷-2-基)丙烷〕二亞硫酸酯二氫氧化物(和光純藥公司製品名；VA-046B、10小時半衰期溫度；46℃)、2,2’-偶氮雙〔2-(2-咪唑烷-2-基)丙烷〕(和光純藥公司製品名；VA-061、10小時半衰期溫度；61℃)、2,2’-偶氮雙(2-脒丙烷)二氫氯化物(和光純藥公司製品名；V-50、10小時半衰期溫度；56℃)、過氧二硫酸或t-丁基過氧化氫等，但其中亦以考慮到離子平衡、對水之溶解性時，以使用2,2’-偶氮(2-甲基-N-(2-羥基乙基)丙醯胺、2,2’-偶氮雙(N-(2-羧基乙基)-2-甲基丙脒)n-水合物、4,4’-偶氮雙(4-氰基戊酸)、2,2’-偶氮雙〔2-(2-咪唑烷-2-基)丙烷〕二氫氯化物、2,2’-偶氮雙〔2-(2-咪唑烷-2-基)丙烷〕二亞硫酸酯二氫氧化物、2,2’-偶氮雙〔2-(2-咪唑烷-2-基)丙烷〕或2,2’-偶氮雙(2-脒丙烷)二氫氯化物或過氧二硫酸中任一者為佳。
作為聚合起始劑之添加量，對於使用於聚合之單體合計重量而言為0.05質量%~10質量%。
反應條件為將反應容器以油浴等進行50℃至200℃加熱1小時至48小時，較佳為以80℃至150℃進行 5小時至30小時攪拌進行聚合反應，得到本發明之共聚物。反應環境以氮環境為佳。
作為反應程序，可將全反應物質全部放入室溫之反應溶劑後，於上述溫度下進行加熱而使其聚合，或亦可於預先加溫之溶劑中徐徐地滴入反應物質之混合物全部或一部分。
依據後者反應程序，本發明的含有共聚物之塗漆係可藉由包含將含有上述式(A)及(B)所示化合物、溶劑及聚合起始劑的混合物，滴入於保持於比聚合起始劑之10小時半衰期溫度更高之溫度的溶劑中，使其進行反應(聚合)之步驟的製造方法所調製。
該實施態樣中，藉由採用上述反應程序與溫度條件，可將上述式(A)或式(B)所示化合物的反應溶劑中之濃度，例如可成為0.01質量%至10質量%。該實施態樣中，即使濃度超過4質量%，於反應前滴入相及反應相呈現透明均勻溶液，可抑制反應後之共聚物的反應溶劑中之凝膠化。該實施態樣中之其他條件與上述相同。
有關本發明之共聚物的分子量為數千至數百萬程度即可，較佳為5,000至5,000,000。更佳為10,000至2,000,000。又，無規共聚物、嵌段共聚物、接枝共聚物中任一種皆可，欲製造該共聚物之共聚合反應本身並無特別限定，可使用利用自由基聚合或離子聚合或光聚合、大分子單體、乳化聚合的聚合等在公知溶液中進行合成之方法。這些依據目的之用途，可單獨使用本發明之共聚物 中任一種，或亦可混合複數種共聚物，且改變其比率後使用。
又，如此所製造之種種共聚物可為2次元聚合物，亦可為3次元聚合物，其為分散於含有水之溶液的狀態。換言之，在含有這些聚合物之塗漆中，若形成不均勻凝膠化或白濁沈殿時表示不佳，以透明塗漆、分散膠體狀之塗漆、或者溶膠者為佳。
有關本發明之共聚物因為於該分子內具有陽離子、負離子之雙方，故有時藉由離子鍵結合共聚物彼此而成為溶膠。又，如前述，例如在作為第3成分之具有2個以上官能基的(甲基)丙烯酸酯化合物進行共聚合之共聚物時，有時共聚物的一部分會進行部分性3次元交聯而成為溶膠。
本發明之溶膠對於藉由動態光散射法所測定之粒徑分布為平均粒徑2nm以上500nm以下。較佳之平均粒徑為2nm以上400nm以下，更佳之平均粒徑為2nm以上300nm以下，最佳之平均粒徑為2nm以上200nm以下。
本發明係進一步關於含有基體之塗布中塗布膜形成用組成物之使用，該塗布膜形成用組成物為含有共聚物與溶劑，該共聚物為含有具有上述式(a)所示有機基之重複單位與具有上述式(b)所示有機基之重複單位。又，本發明又關於含有欲抑制活體物質之附著時塗布膜形成用組成物之使用，該塗布膜形成用組成物為含有共聚物與溶 劑，該共聚物為含有具有上述式(a)所示有機基之重複單位與具有上述式(b)所示有機基之重複單位。共聚物、溶劑及基體等具體例子及組成物之使用具體態樣如上述所示。
[實施例]
以下依據合成例、實施例對本發明做進一步詳細說明，但本發明並未限定於此等。
下述合成例所示重量平均分子量為藉由Gel Filtration Chromatography(以下簡稱為GFC)之測定結果。測定條件等如以下所示。
．裝置：Prominence(島津製作所製)
．GFC管柱：TSKgel GMPWXL(7.8mmI.D.×30cm)×2根
．流速：1.0ml/min
．溶離液：離子性水溶液
．管柱溫度：40℃
．檢測器：RI
．注入濃度：聚合物固體成分0.1質量%
．注入量：100uL
．檢量線：三次近似曲線
．標準試料：聚氧化乙烯(Agilent公司製)×10種
<原料組成之測定方法>
具有含有磷的化合物之原料的各含有磷的化合物之濃 度(質量%)測定藉由31P-NMR進行。使用下述標準物質算出於原料中所含之各含有磷的化合物之絕對濃度(絕對質量%)。
(測定條件)
．模式：反向門脫鉤模式(定量模式)
．裝置：varian 400MHz
．溶劑：CD3OD(重甲醇)(30重量%)
．轉數：0Hz
．數據點：64000
．傾倒角：90°
．等待時間：70s
．積算次數：16次，n=4，
．標準物質：三甲基磷酸+D2O(調製75%TMP溶液)
<合成例1>
將酸磷氧基(acid phosphoxy)乙基甲基丙烯酸酯(式(A-2)之化合物，製品名；PhosmerM、Uni-Chemical(股)製，在乾固法100℃．1小時中之不揮發部份：91.8%、酸磷氧基(acid phosphoxy)乙基甲基丙烯酸酯(44.2質量%)、磷酸雙〔2-(甲基丙烯醯氧)乙基〕(28.6質量%)、其他物質(27.2質量%)的混合物)6.00g與甲基丙烯酸2-(二甲基胺基)乙基(式(B-2)之化合物，東京化成工業(股)公司製)4.12g與2,2’-偶氮(2-甲基-N-(2-羥基乙基)丙醯胺)(製品名；VA- 086、和光純藥工業(股)製)0.24g溶解於純水446.34g與乙醇49.59g，放於茄形燒瓶，吹入氮氣由氮氣取代後，在100℃之油浴中進行24小時聚合反應後得到固體成分2質量%的含有共聚物之塗漆506.05g。
<合成例2>
將酸磷氧基(acid phosphoxy)乙基甲基丙烯酸酯(製品名；PhosmerM、Uni-Chemical(股)製之在乾固法100℃．1小時中之不揮發部份：91.8%、酸磷氧基(acid phosphoxy)乙基甲基丙烯酸酯(44.2質量%)、磷酸雙〔2-(甲基丙烯醯氧)乙基〕(28.6質量%)、其他物質(27.2質量%)的混合物)6.00g與甲基丙烯酸2-(二甲基胺基)乙基(東京化成工業(股)公司製)4.12g與2,2’-偶氮(2-甲基-N-(2-羥基乙基)丙醯胺)(製品名；VA-086、和光純藥工業(股)製)0.24g溶解於純水490.87g，放於茄形燒瓶，吹入氮氣由氮氣取代後，在100℃之油浴中進行24小時聚合反應後得到固體成分3質量%的含有共聚物之塗漆506.05g。
<合成例3>
將酸磷氧基(acid phosphoxy)乙基甲基丙烯酸酯(製品名；PhosmerM、Uni-Chemical(股)製之在乾固法100℃．1小時中之不揮發部份：91.8%、酸磷氧基(acid phosphoxy)乙基甲基丙烯酸酯(44.2質量%)、磷酸雙〔2-(甲基丙烯醯氧)乙基〕(28.6質量%)、其他物質(27.2質量%)的混合 物)6.00g與甲基丙烯酸2-(二甲基胺基)乙基(東京化成工業(股)公司製)4.12g與2,2’-偶氮(2-甲基-N-(2-羥基乙基)丙醯胺)(製品名；VA-086、和光純藥工業(股)製)0.24g溶解於PBS(磷酸緩衝生理食鹽水，Sigma-Aldrich公司製)490.87g，放於茄形燒瓶，吹入氮氣並取代後，在100℃之油浴中進行24小時聚合反應後得到固體成分3質量%的含有共聚物之塗漆506.05g。
<合成例4>
於酸磷氧基(acid phosphoxy)乙基甲基丙烯酸酯(製品名；PhosmerM、Uni-Chemical(股)製之在乾固法100℃．1小時中之不揮發部份：91.8%、酸磷氧基(acid phosphoxy)乙基甲基丙烯酸酯(44.2質量%)、磷酸雙〔2-(甲基丙烯醯氧)乙基〕(28.6質量%)、其他物質(27.2質量%)的混合物)1.50g中加入純水0.3g並在60℃攪拌中，將甲基丙烯酸2-(二甲基胺基)乙基(東京化成工業(股)製)1.03g經3小時滴入，其後在70℃進行12小時攪拌後調製出半鹽水合物。將上述半鹽水合物在蒸發器一邊加熱至60℃一邊使水揮發，將含水率成為1%以下者作為酸磷氧基(acid phosphoxy)乙基甲基丙烯酸酯的甲基丙烯酸2-(二甲基胺基)乙基半鹽(式(1)之化合物)。於該半鹽中將2,2’-偶氮(2-甲基-N-(2-羥基乙基)丙醯胺(製品名；VA-086、和光純藥工業(股)製)0.03g溶解於純水73.63g與乙醇8.18g中，放於茄形燒瓶中，吹入氮氣由氮氣取代後，在100℃之油浴 中進行24小時聚合反應後得到固體成分3質量%的含有共聚物之塗漆84.34g。
<合成例5>
於酸磷氧基(acid phosphoxy)乙基甲基丙烯酸酯(製品名；PhosmerM、Uni-Chemical(股)製之在乾固法100℃．1小時中之不揮發部份：91.8%、酸磷氧基(acid phosphoxy)乙基甲基丙烯酸酯(44.2質量%)、磷酸雙〔2-(甲基丙烯醯氧)乙基〕(28.6質量%)、其他物質(27.2質量%)的混合物)6.00g加入純水12.40g並充分溶解後，進一步一邊將乙醇12.40g、甲基丙烯酸2-(二甲基胺基)乙基4.12g(東京化成工業(股)製)、2,2’-偶氮(2-甲基-N-(2-羥基乙基)丙醯胺)(製品名；VA-086、和光純藥工業(股)製)0.10g保持在20℃以下，一邊依序加於PhosmerM的水溶液。將放有經充分攪拌成為均勻之上述所有成分之混合液，導入於滴定漏斗。另一方面，另外將純水471.13g、乙醇37.20g放於附有冷卻管之3口燒瓶中，將此吹入氮氣，一邊攪拌一邊升溫至迴流溫度。維持該狀態下，將導入上述混合液之滴定漏斗安裝於3口燒瓶，經0.5小時，將混合液滴入於純水與乙醇之沸騰液內。滴入後24小時維持上述環境之狀態下進行加熱攪拌，得到固體成分約2質量%之透明聚合液506.05g。所得之透明液體的GFC中之重量平均分子量約810,000。
<合成例6>
於酸磷氧基(acid phosphoxy)乙基甲基丙烯酸酯(製品名；PhosmerM、Uni-Chemical(股)製之在乾固法100℃．1小時中之不揮發部份：91.8%、酸磷氧基(acid phosphoxy)乙基甲基丙烯酸酯(44.2質量%)、磷酸雙〔2-(甲基丙烯醯氧)乙基〕(28.6質量%)、其他物質(27.2質量%)的混合物)10.00g加入純水68.88g並充分溶解，進一步一邊將乙醇29.52g、甲基丙烯酸2-(二甲基胺基)乙基7.63g(東京化成工業(股)製)、2,2’-偶氮雙〔N-(2-羧基乙基)-2-甲基丙脒〕(製品名；VA-057、和光純藥工業(股)製)0.09g保持在20℃以下，一邊依序加於PhosmerM之水溶液。將放有經充分攪拌成為均勻之上述所有成分之混合液，導入於滴定漏斗。另一方面，另外將純水373.89g、乙醇29.52g放入於附有冷卻管之3口燒瓶，將此吹入氮氣，一邊攪拌一邊升溫至迴流溫度。維持該狀態下，將導入上述混合液之滴定漏斗安裝於3口燒瓶，經0.5小時將混合液滴入於純水與醇之沸騰液內。滴入後，維持24小時上述環境之狀態下，藉由加熱攪拌後得到固體成分約3.5質量%的透明聚合液509.60g。所得之透明液體的GFC中之重量平均分子量約280,000。
<合成例7>
於酸磷氧基(acid phosphoxy)乙基甲基丙烯酸酯(製品名；PhosmerM、Uni-Chemical(股)製之在乾固法100℃．1 小時中之不揮發部份：91.8%、酸磷氧基(acid phosphoxy)乙基甲基丙烯酸酯(44.2質量%)、磷酸雙〔2-(甲基丙烯醯氧)乙基〕(28.6質量%)、其他物質(27.2質量%)的混合物)12.00g中加入純水56.56g並充分溶解，進一步一邊將乙醇24.24g、甲基丙烯酸2-(二甲基胺基)乙基9.16g(東京化成工業(股)製)、2,2’-偶氮雙〔N-(2-羧基乙基)-2-甲基丙脒〕(製品名；VA-057、和光純藥工業(股)製)0.11g保持於20℃以下，一邊依序加入於PhosmerM的水溶液。將放有經充分攪拌成為均勻之上述所有成分之混合液，導入於滴定漏斗。另一方面，另外將純水307.05g、乙醇16.16g放入於附有冷卻管之3口燒瓶，將此吹入氮氣，一邊攪拌一邊升溫至迴流溫度。維持該狀態下，將導入上述混合液之滴定漏斗安裝於3口燒瓶，經0.5小時將混合液滴入於純水與醇之沸騰液內。滴入後，維持24小時上述環境之狀態下，藉由加熱攪拌後得到固體成分約5質量%的透明聚合液425.28g。所得之透明液體的GFC中之重量平均分子量約610,000。
<合成例8>
於酸磷氧基(acid phosphoxy)乙基甲基丙烯酸酯(製品名；PhosmerM、Uni-Chemical(股)製之在乾固法100℃．1小時中之不揮發部份：91.8%、酸磷氧基(acid phosphoxy)乙基甲基丙烯酸酯(44.2質量%)、磷酸雙〔2-(甲基丙烯醯氧)乙基〕(28.6質量%)、其他物質(27.2質量%)的混合 物)14.00g加入純水54.41g並充分溶解，進一步一邊將乙醇23.32g、甲基丙烯酸2-(二甲基胺基)乙基10.68g(東京化成工業(股)製)、2,2’-偶氮雙〔N-(2-羧基乙基)-2-甲基丙脒〕(製品名；VA-057、和光純藥工業(股)公司製)0.12g保持在20℃以下，一邊依序加入於PhosmerM的水溶液。將放有經充分攪拌成為均勻之上述所有成分之混合液，導入於滴定漏斗。另一方面，另外將純水295.38g、乙醇15.55g放入於附有冷卻管之3口燒瓶，將此吹入氮氣，一邊攪拌一邊升溫至迴流溫度。維持該狀態下，將導入上述混合液之滴定漏斗安裝於3口燒瓶，經0.5小時將混合液滴入於純水與醇之沸騰液內。滴入後，維持24小時上述環境之狀態下，藉由加熱攪拌後得到固體成分約6質量%的透明聚合液413.47g。所得之透明液體的GFC中之重量平均分子量約1,010,000。
<合成例9>
於酸磷氧基(acid phosphoxy)乙基甲基丙烯酸酯(製品名；PhosmerM、Uni-Chemical(股)製之在乾固法100℃．1小時中之不揮發部份：91.8%、酸磷氧基(acid phosphoxy)乙基甲基丙烯酸酯(44.2質量%)、磷酸雙〔2-(甲基丙烯醯氧)乙基〕(28.6質量%)、其他物質(27.2質量%)的混合物)10.00g加入甲基丙烯酸2-(二甲基胺基)乙基7.63g(東京化成工業(股)製)並在室溫經約1小時攪拌至30℃以下。於此一邊將純水59.24g、乙醇25.39g、2,2’-偶氮雙〔 N-(2-羧基乙基)-2-甲基丙脒〕(製品名；VA-057、和光純藥工業(股)製)0.09g保持在20℃以下，一邊依序加入於PhosmerM的水溶液。將放有經充分攪拌成為均勻之上述所有成分之混合液，導入於滴定漏斗。另一方面，另外將純水321.61g、乙醇16.93g放入於附有冷卻管之3口燒瓶，將此吹入氮氣，一邊攪拌一邊升溫至迴流溫度。維持該狀態下，將導入上述混合液之滴定漏斗安裝於3口燒瓶，經0.5小時將混合液滴入於純水與醇之沸騰液內。滴入後，維持24小時上述環境之狀態下，藉由加熱攪拌後得到固體成分約4質量%的透明聚合液440.80g。所得之透明液體的GFC中之重量平均分子量約500,000。
<合成例10>
於酸磷氧基(acid phosphoxy)乙基甲基丙烯酸酯(製品名；PhosmerM、Uni-Chemical(股)製之在乾固法100℃．1小時中之不揮發部份：91.8%、酸磷氧基(acid phosphoxy)乙基甲基丙烯酸酯(44.2質量%)、磷酸雙〔2-(甲基丙烯醯氧)乙基〕(28.6質量%)、其他物質(27.2質量%)的混合物)2.00g，加入純水51.32g並充分溶解，進一步一邊將乙醇21.99g、甲基丙烯酸2-(二甲基胺基)乙基1.53g(東京化成工業(股)製)、2,2’-偶氮雙〔N-(2-羧基乙基)-2-甲基丙脒〕(製品名；VA-057、和光純藥工業(股)製)0.18g保持在20℃以下，一邊依序加入於PhosmerM的水溶液。將放有經充分攪拌成為均勻之上述所有成分之混合液，導入於 滴定漏斗。另一方面，另外將純水278.59g、乙醇14.66g放入於附有冷卻管之3口燒瓶，將此吹入氮氣，一邊攪拌一邊升溫至迴流溫度。維持該狀態下，將導入上述混合液之滴定漏斗安裝於3口燒瓶，經0.5小時將混合液滴入於純水與醇之沸騰液內。滴入後，維持24小時上述環境之狀態下，藉由加熱攪拌後得到固體成分約1質量%的透明聚合液370.10g。所得之透明液體的GFC中之重量平均分子量約38,000。
<合成例11>
於酸磷氧基(acid phosphoxy)乙基甲基丙烯酸酯(製品名；PhosmerM、Uni-Chemical(股)製之在乾固法100℃．1小時中之不揮發部份：91.8%、酸磷氧基(acid phosphoxy)乙基甲基丙烯酸酯(44.2質量%)、磷酸雙〔2-(甲基丙烯醯氧)乙基〕(28.6質量%)、其他物質(27.2質量%)的混合物)6.00g中加入純水50.93g，並充分溶解，進一步一邊將乙醇21.83g、甲基丙烯酸2-(二甲基胺基)乙基9.16g(東京化成工業(股)製)、2,2’-偶氮雙〔N-(2-羧基乙基)-2-甲基丙脒〕(製品名；VA-057、和光純藥工業(股)製)0.08g保持在20℃以下，一邊依序加入於PhosmerM的水溶液。將放有經充分攪拌成為均勻之上述所有成分之混合液，導入於滴定漏斗。另一方面，另外將純水276.49g、乙醇14.55g放入於附有冷卻管之3口燒瓶，將此吹入氮氣，一邊攪拌一邊升溫至迴流溫度。維持該狀態下，將導入上述混合液 之滴定漏斗安裝於3口燒瓶，經0.5小時將混合液滴入於純水與醇之沸騰液內。滴入後，維持24小時上述環境之狀態下，藉由加熱攪拌後得到固體成分約4質量%的透明聚合液378.96g。所得之透明液體的GFC中之重量平均分子量約720,000。
<合成例12>
於酸磷氧基(acid phosphoxy)乙基甲基丙烯酸酯(製品名；PhosmerM、Uni-Chemical(股)製之在乾固法100℃．1小時中之不揮發部份：91.8%、酸磷氧基(acid phosphoxy)乙基甲基丙烯酸酯(44.2質量%)、磷酸雙〔2-(甲基丙烯醯氧)乙基〕(28.6質量%)、其他物質(27.2質量%)的混合物)10.00g中加入純水64.03g，並充分溶解，進一步一邊將乙醇27.44g、甲基丙烯酸2-(二乙基胺基)乙基8.96g(東京化成工業(股)製)、2,2’-偶氮雙〔N-(2-羧基乙基)-2-甲基丙脒〕(製品名；VA-057、和光純藥工業(股)製)0.09g保持在20℃以下，一邊依序加入於PhosmerM的水溶液。將放有經充分攪拌成為均勻之上述所有成分之混合液，導入於滴定漏斗。另一方面，另外將純水347.60g、乙醇18.29g放入於附有冷卻管之3口燒瓶，將此吹入氮氣，一邊攪拌一邊升溫至迴流溫度。維持該狀態下，將導入上述混合液之滴定漏斗安裝於3口燒瓶，經0.5小時將混合液滴入於純水與醇之沸騰液內。滴入後在維持24小時環境之狀態下進行加熱攪拌後得到固體成分約4質量%的透明 聚合液476.33g。所得之透明液體的GFC中之重量平均分子量約290,000。
<合成例13>
於酸磷氧基(acid phosphoxy)乙基甲基丙烯酸酯(製品名；PhosmerM、Uni-Chemical(股)製之在乾固法100℃．1小時中之不揮發部份：91.8%、酸磷氧基(acid phosphoxy)乙基甲基丙烯酸酯(44.2質量%)、磷酸雙〔2-(甲基丙烯醯氧)乙基〕(28.6質量%)、其他物質(27.2質量%)的混合物)7.00g中加入純水56.58g，並充分溶解，進一步一邊將乙醇47.15g、甲基丙烯酸2-(二乙基胺基)乙基12.55g(東京化成工業(股)製)、2,2’-偶氮雙〔N-(2-羧基乙基)-2-甲基丙脒〕(製品名；VA-057、和光純藥工業(股)製)0.10g保持在20℃以下，一邊依序加入於PhosmerM的水溶液。將放有經充分攪拌成為均勻之上述所有成分之混合液，導入於滴定漏斗。另一方面，另外將純水367.75g放入於附有冷卻管之3口燒瓶，將此吹入氮氣，一邊攪拌一邊升溫至迴流溫度。維持該狀態下，將導入上述混合液之滴定漏斗安裝於3口燒瓶，經0.5小時將混合液滴入於純水與醇之沸騰液內。滴入後，維持24小時上述環境之狀態下，藉由加熱攪拌後得到固體成分約4質量%的稍白濁之聚合液491.02g。所得之液體的過濾後GFC中之重量平均分子量為約300,000。
<合成例14>
於酸磷氧基(acid phosphoxy)乙基甲基丙烯酸酯(製品名；PhosmerM、Uni-Chemical(股)製之在乾固法100℃．1小時中之不揮發部份：91.8%、酸磷氧基(acid phosphoxy)乙基甲基丙烯酸酯(44.2質量%)、磷酸雙〔2-(甲基丙烯醯氧)乙基〕(28.6質量%)、其他物質(27.2質量%)的混合物)9.00g中加入純水60.64g，並充分溶解，進一步一邊將乙醇17.33g、甲基丙烯醯基膽鹼氯化物80%水溶液(東京化成工業(股)製)11.31g、2,2’-偶氮雙〔N-(2-羧基乙基)-2-甲基丙脒〕(製品名；VA-057、和光純藥工業(股)製)0.10g保持在20℃以下，一邊依序加入於PhosmerM的水溶液。將放有經充分攪拌成為均勻之上述所有成分之混合液，導入於滴定漏斗。另一方面，另外將純水326.94g、乙醇17.33g放入於附有冷卻管之3口燒瓶，將此吹入氮氣，一邊攪拌一邊升溫至迴流溫度。維持該狀態下，將導入混合液之滴定漏斗安裝於3口燒瓶，經0.5小時將混合液滴入於純水與醇之沸騰液內。滴入後，維持24小時上述環境之狀態下，藉由加熱攪拌後得到固體成分約4質量%的透明聚合液453.48g。所得之透明液體的GFC中之重量平均分子量約130,000。
<合成例15>
於酸磷氧基(acid phosphoxy)乙基甲基丙烯酸酯(製品名；PhosmerM、Uni-Chemical(股)製之在乾固法100℃．1 小時中之不揮發部份：91.8%、酸磷氧基(acid phosphoxy)乙基甲基丙烯酸酯(44.2質量%)、磷酸雙〔2-(甲基丙烯醯氧)乙基〕(28.6質量%)、其他物質(27.2質量%)的混合物)10.00g中加入純水56.95g，並充分溶解，進一步一邊將乙醇24.41g、丙烯酸2-(二甲基胺基)乙基6.95g(式(B-1)之化合物，東京化成工業(股)製)、2,2’-偶氮雙〔N-(2-羧基乙基)-2-甲基丙脒〕(製品名；VA-057、和光純藥工業(股)公司製)0.0848g保持在20℃以下，一邊依序加入於PhosmerM的水溶液。將放有經充分攪拌成為均勻之上述所有成分之混合液，導入於滴定漏斗。另一方面，另外將純水56.95g、乙醇16.27g放入於附有冷卻管之3口燒瓶，將此吹入氮氣，一邊攪拌一邊升溫至迴流溫度。維持該狀態下，安裝導入上述混合液之滴定漏斗，經0.5小時將混合液滴入於純水與醇之沸騰液內。滴入後，維持24小時上述環境之狀態下，藉由加熱攪拌後得到固體成分約4質量%的透明聚合液423.77g。所得之透明液體的GFC中之重量平均分子量約150,000。
<合成例16>
於酸磷氧基(acid phosphoxy)乙基甲基丙烯酸酯(製品名；lite esterP-1M、共榮社化學(股)製、酸磷氧基(acid phosphoxy)乙基甲基丙烯酸酯(42.2質量%)、磷酸雙〔2-(甲基丙烯醯氧)乙基〕(16.9質量%)、其他物質(40.9質量%)的混合物)10.00g中加入純水59.89g，並充分溶解，進 一步一邊將乙醇25.67g、甲基丙烯酸2-(二甲基胺基)乙基7.83g(東京化成工業(股)公司製)、2,2’-偶氮雙〔N-(2-羧基乙基)-2-甲基丙脒〕(製品名；VA-057，和光純藥工業(股)製)0.09g保持在20℃以下，一邊依序加入於lite esterP-1M的水溶液。將放有經充分攪拌成為均勻之上述所有成分之混合液，導入於滴定漏斗。另一方面，另外將純水325.13g、乙醇17.11g放入於附有冷卻管之3口燒瓶，將此吹入氮氣，一邊攪拌一邊升溫至迴流溫度。維持該狀態下，將導入上述混合液之滴定漏斗安裝於3口燒瓶，經0.5小時將混合液滴入於純水與醇之沸騰液內。滴入後，維持24小時上述環境之狀態下，藉由加熱攪拌後得到固體成分約4質量%的透明聚合液445.63g。所得之透明液體的GFC中之重量平均分子量約410,000。
<合成例17>
於酸磷氧基(acid phosphoxy)乙基甲基丙烯酸酯(製品名；PhosmerM、Uni-Chemical(股)製之在乾固法100℃．1小時中之不揮發部份：91.8%、酸磷氧基(acid phosphoxy)乙基甲基丙烯酸酯(44.2質量%)、磷酸雙〔2-(甲基丙烯醯氧)乙基〕(28.6質量%)、其他物質(27.2質量%)的混合物)10.00g中加入純水47.84g，並充分溶解，進一步一邊將乙醇15.95g、甲基丙烯酸2-(二甲基胺基)乙基7.63g(東京化成工業(股)製)、2,2’-偶氮雙〔N-(2-羧基乙基)-2-甲基丙脒〕(製品名；VA-057、和光純藥工業(股)製)0.09g保 持在20℃以下，一邊依序加入於PhosmerM的水溶液。將放有經充分攪拌成為均勻之上述所有成分之混合液，導入於滴定漏斗。另一方面，另外將純水95.69g放入於附有冷卻管之3口燒瓶，將此吹入氮氣，一邊攪拌一邊升溫至迴流溫度。維持該狀態下，將導入上述混合液之滴定漏斗安裝於3口燒瓶，經1小時將混合液滴入於純水與乙醇之沸騰液內。滴入後，維持24小時上述環境之狀態下，藉由加熱攪拌後得到固體成分約10質量%的透明聚合液177.11g。所得之透明液體的GFC中之重量平均分子量約582,000。
<合成例18>
於酸磷氧基(acid phosphoxy)乙基甲基丙烯酸酯(製品名；PhosmerM、Uni-Chemical(股)製之在乾固法100℃．1小時中之不揮發部份：91.8%、酸磷氧基(acid phosphoxy)乙基甲基丙烯酸酯(44.2質量%)、磷酸雙〔2-(甲基丙烯醯氧)乙基〕(28.6質量%)、其他物質(27.2質量%)的混合物)5.00g中加入純水25.39g，並充分溶解，進一步一邊將乙醇10.88g、甲基丙烯酸2-((t-丁基胺基)乙基4.50g(Sigma-Aldrich(股)製)、2,2’-偶氮雙〔N-(2-羧基乙基)-2-甲基丙脒〕(製品名；VA-057、和光純藥工業(股)製)0.05g保持在20℃以下，一邊依序加入於PhosmerM的水溶液。將放有經充分攪拌成為均勻之上述所有成分之混合液，導入於滴定漏斗。另一方面，另外將純水 137.82g、乙醇7.25g放入於附有冷卻管之3口燒瓶，將此吹入氮氣，一邊攪拌一邊升溫至迴流溫度。維持該狀態下，將導入上述混合液之滴定漏斗安裝於3口燒瓶，經0.5小時將混合液滴入於純水與醇之沸騰液內。滴入後，維持24小時上述環境之狀態下，藉由加熱攪拌後得到固體成分約5質量%的透明聚合液190.84g。所得之透明液體的GFC中之重量平均分子量約225,000。
<合成例19>
於酸磷氧基(acid phosphoxy)聚氧乙二醇單甲基丙烯酸酯(製品名；Hosmer PE、Uni-Chemical(股)製之在乾固法100℃．1小時中之不揮發部份：94.9%)5.00g中加入純水19.54g，並充分溶解，進一步一邊將乙醇8.37g、甲基丙烯酸2-(二甲基胺基)乙基2.31g(東京化成工業(股)公司製)、2,2’-偶氮雙〔N-(2-羧基乙基)-2-甲基丙脒〕(製品名；VA-057、和光純藥工業(股)製)0.04g保持在20℃以下，一邊依序加入於Hosmer PE之水溶液。將放有經充分攪拌成為均勻之上述所有成分之混合液，導入於滴定漏斗。另一方面，另外將純水106.05g、乙醇5.58g放入於附有冷卻管之3口燒瓶，將此吹入氮氣，一邊攪拌一邊升溫至迴流溫度。維持該狀態下，將導入上述混合液之滴定漏斗安裝於3口燒瓶，經0.5小時將混合液滴入於純水與醇之沸騰液內。滴入後，維持24小時上述環境之狀態下，藉由加熱攪拌後得到固體成分約5質量%的透明聚合 液146.84g。所得之透明液體的GFC中之重量平均分子量約146,000。
<合成例20>
將2,2’-偶氮雙〔N-(2-羧基乙基)-2-甲基丙脒〕(製品名；VA-057、和光純藥工業(股)製)0.12g保持於20℃以下，加入於純水43.73g，將充分攪拌均勻的VA-057水溶液導入於滴定漏斗。另一方面，另外將於乙烯基膦酸10.00g(式(A-1)之化合物，東京化成工業(股)公司製)中加入純水174.92g，並充分溶解，進一步將甲基丙烯酸2-(二甲基胺基)乙基14.17g(東京化成工業(股)製)加入並充分攪拌溶解。將該混合液放入於附有冷卻管之3口燒瓶，將此吹入氮氣，一邊攪拌一邊升溫至60℃。維持該狀態下，安裝導入上述VA-057水溶液之滴定漏斗，經0.5小時將混合液滴入於純水與醇之沸騰液內。滴入後，維持24小時上述環境之狀態下，藉由加熱攪拌後得到固體成分約10質量%的透明聚合液242.83g。所得之透明液體的GFC中之重量平均分子量約535,000。
<比較合成例1>
將2-甲基丙烯醯氧乙基磷酸膽鹼(東京化成工業(股)製)2.00g與2,2’-偶氮(2-甲基-N-(2-羥基乙基)丙醯胺)(製品名；VA-086、和光純藥工業(股)製)0.02g溶解於純水58.20g與乙醇6.47g，並放於茄形燒瓶，吹入氮氣並取代 後，在100℃之油浴中進行24小時聚合反應後得到固體成分3質量%的含有共聚物之塗漆506.05g。
<比較合成例2>
將酸磷氧基(acid phosphoxy)乙基甲基丙烯酸酯(式(A-2)之化合物、製品名；PhosmerM、Uni-Chemical(股)製之在乾固法100℃．1小時中之不揮發部份：91.8%、酸磷氧基(acid phosphoxy)乙基甲基丙烯酸酯(44.2質量%)、磷酸雙〔2-(甲基丙烯醯氧)乙基〕(28.6質量%)、其他物質(27.2質量%)的混合物)6.00g與甲基丙烯酸2-(二甲基胺基)乙基(式(B-2)之化合物，東京化成工業(股)公司製)4.12g與2,2’-偶氮(2-甲基-N-(2-羥基乙基)丙醯胺(製品名；VA-086、和光純藥工業(股)製)0.24g溶解於純水173.07g與乙醇19.23g並放於茄形燒瓶，吹入氮氣並取代後，在100℃的油浴中進行24小時聚合反應後，雖期待得到固體成分5質量%的含有共聚物之塗漆，但所得者為白濁，且固體附著於燒瓶深底的凝膠狀溶液。
<比較合成例3>
於酸磷氧基(acid phosphoxy)乙基甲基丙烯酸酯(製品名；PhosmerM、Uni-Chemical(股)製之在乾固法100℃．1小時中之不揮發部份：91.8%、酸磷氧基(acid phosphoxy)乙基甲基丙烯酸酯(44.2質量%)、磷酸雙〔2-(甲基丙烯醯氧)乙基〕(28.6質量%)、其他物質(27.2質量%)的混合 物)1.50g中加入純水0.3g，並在60℃進行攪拌中將甲基丙烯酸2-(二甲基胺基)乙基(東京化成工業(股)製)1.03g經3小時滴入，其後在70℃進行12小時攪拌後調製出半鹽水合物。將上述半鹽水合物在蒸發器一邊加熱至60℃一邊使水揮發，將含水率到達1%以下者作為酸磷氧基(acid phosphoxy)乙基甲基丙烯酸酯的甲基丙烯酸2-(二甲基胺基)乙基半鹽(式(1)之化合物)。於該半鹽2.53g將2,2’-偶氮(2-甲基-N-(2-羥基乙基)丙醯胺)(製品名；VA-086、和光純藥工業(股)製)0.03g溶解於純水43.27g與乙醇4.81g後放入於茄形燒瓶，吹入氮氣由氮氣取代後，在100℃之油浴中進行24小時聚合反應後期待得到固體成分5質量%的含有共聚物之塗漆，但所得者為白濁，且固體附著於燒瓶深底的凝膠狀溶液。
<比較合成例4>
於酸磷氧基(acid phosphoxy)乙基甲基丙烯酸酯(製品名；PhosmerM、Uni-Chemical(股)製之在乾固法100℃．1小時中之不揮發部份：91.8%、酸磷氧基(acid phosphoxy)乙基甲基丙烯酸酯(44.2質量%)、磷酸雙〔2-(甲基丙烯醯氧)乙基〕(28.6質量%)、其他物質(27.2質量%)的混合物)10.00g中加入純水38.98g，並充分溶解，進一步一邊將乙醇12.99g、甲基丙烯酸2-(二甲基胺基)乙基7.63g(東京化成工業(股)製)、2,2’-偶氮雙〔N-(2-羧基乙基)-2-甲基丙脒〕(製品名；VA-057、和光純藥工業(股)製)0.09g保 持在20℃以下，依序加入於PhosmerM的水溶液。將放有經充分攪拌成為均勻之上述所有成分之混合液，導入於滴定漏斗。另一方面，另外將純水77.97g加入於附有冷卻管之3口燒瓶，並吹入氮氣，一邊攪拌一邊升溫至迴流溫度。維持該狀態下，將導入上述混合液之滴定漏斗安裝於3口燒瓶，經1小時將混合液滴入於純水與乙醇之沸騰液內。滴下後在維持環境的狀態下進行加熱攪拌後10分鐘成為凝膠化之固體。
<比較合成例5>
於酸磷氧基(acid phosphoxy)乙基甲基丙烯酸酯(製品名；PhosmerM、Uni-Chemical(股)製之在乾固法100℃．1小時中之不揮發部份：91.8%、酸磷氧基(acid phosphoxy)乙基甲基丙烯酸酯(44.2質量%)、磷酸雙〔2-(甲基丙烯醯氧)乙基〕(28.6質量%)、其他物質(27.2質量%)的混合物)5.00g中加入純水151.51g，並充分溶解，進一步一邊將乙醇16.83g、甲基丙烯酸2-(二甲基胺基)乙基3.82g(東京化成工業(股)製)、2,2’-偶氮雙〔N-(2-羧基乙基)-2-甲基丙脒〕(製品名；VA-057、和光純藥工業(股)公司製)0.04g保持於20℃以下，一邊加入並攪拌均勻混合。將該混合液放入於附有冷卻管之燒瓶，將此吹入氮氣，一邊攪拌一邊經0.5小時升溫至迴流溫度，經迴流後10分鐘成為凝膠化之固體。
(使用在合成例1所得的含有共聚物之塗漆的塗布膜形成用組成物(A)之調製)
於在上述合成例1所得的含有共聚物之塗漆1.00g加入純水0.90g、乙醇0.10g並充分攪拌，調製出塗布膜形成用組成物(A)。
(矽晶圓之準備)
直接使用半導體評估用的市售矽晶圓。
(血小板附著實驗用玻璃基板(G)之準備)
將玻璃基板(TEMPAX Float〔註冊商標〕=12mm)以UV/臭氧洗淨裝置(UV253E、Filgen股份有限公司製)經10分鐘洗淨後得到表面經清淨化之玻璃基板(G)。
<實施例1>
將上述塗布膜形成用組成物(A)於矽晶圓或上述玻璃基板(G)進行旋轉塗布，在烤箱進行45℃、12小時乾燥。其後將附著於塗布膜上之未硬化膜形成用組成物在純水中進行5分鐘超音波洗淨，進一步充分洗淨PBS與純水，得到形成塗布膜之矽晶圓或玻璃基板。使用上述矽晶圓以光學式干涉膜厚計確認塗布膜之膜厚為25Å。
<實施例2>
於在上述合成例2所得的含有共聚物之塗漆1.00g中 加入純水2.00g並充分攪拌，調製出塗布膜形成用組成物。使用所得之塗布膜形成用組成物，以與實施例1之同樣方法得到形成塗布膜之矽晶圓或玻璃基板。使用上述矽晶圓以光學式干涉膜厚計確認塗布膜之膜厚為21Å。
<實施例3>
於上述合成例3所得的含有共聚物之塗漆1.00g加入PBS2.00g並充分攪拌，調製出塗布膜形成用組成物。使用所得之膜形成用組成物，以與實施例1之同樣方法得到形成塗布膜之矽晶圓或玻璃基板。使用上述矽晶圓以光學式干涉膜厚計確認塗布膜之膜厚為12Å。
<實施例4>
於上述塗布膜形成用組成物(A)將經24小時傾斜的矽晶圓或上述玻璃基板(G)之過剩組成物以Air刷除去後，作為乾燥步驟在45℃之烤箱中進行12小時燒烤。其後作為洗淨步驟將過剩之未硬化的塗布膜形成用組成物在純水中進行5分鐘超音波洗淨，以PBS與純水充分洗淨後，得到形成塗布膜之矽晶圓或玻璃基板。使用上述矽晶圓以光學式干涉膜厚計確認塗布膜之膜厚為21Å。
<實施例5>
於上述塗布膜形成用組成物(A)將經24小時傾斜的矽晶圓或上述玻璃基板(G)之過剩組成物以Air刷除去後， 作為乾燥步驟在室溫25℃/濕度40%的環境下放置24小時。其後作為洗淨步驟將過剩之未硬化塗布膜形成用組成物在純水中進行5分鐘超音波洗淨，以PBS與純水充分洗淨後，得到形成塗布膜之矽晶圓或玻璃基板。使用上述矽晶圓以光學式干涉膜厚計確認塗布膜之膜厚為22Å。
<實施例6>
除改為於加熱板之乾燥溫度150℃、乾燥時間0.5小時以外，進行與實施例1之同樣方法得到形成塗布膜之矽晶圓或玻璃基板。使用上述矽晶圓以光學式干涉膜厚計確認塗布膜之膜厚為62Å。
<實施例7>
將實施例1之上述玻璃基板(G)變更為下述聚苯乙烯(PS)基板以外，進行與實施例1之同樣方法得到形成矽晶圓或PS基板之塗布膜。使用上述矽晶圓以光學式干涉膜厚計確認塗布膜之膜厚為25Å。
(PS基板之製作)
將聚苯乙烯(平均分子量35,000)(Aldrich公司製)0.01g溶解於甲苯0.99g，攪拌至呈現透明，調製出PS溶液。將上述PS溶液於上述玻璃基板(G)進行旋轉塗布，在150℃之加熱板進行5分鐘燒烤者作為PS基板。
<實施例8>
將實施例1的上述玻璃基板(G)變更為下述聚迷碸(PES)基板以外，進行與實施例1之同樣方法得到形成矽晶圓或PES基板之塗布膜。使用上述矽晶圓以光學式干涉膜厚計確認塗布膜之膜厚為25Å。
(PES基板之製作)
將聚(氧基-1,4-伸苯基磺醯基-1,4-伸苯基)(Aldrich公司製)0.01g溶解於1,1,2,2-四氯乙烷(東京化成工業(股)製)0.99g，攪拌至呈現透明後調製出PES溶液。將上述PES溶液於上述玻璃基板(G)進行旋轉塗布，將在200℃之加熱板進行5分鐘燒烤者作為PES基板。
(PES薄膜)
將藉由棒塗布法所作成之市售聚迷碸(PES)的薄膜(約0.1mm)切出約邊長1cm者作為PES薄膜。
(聚乙烯(PE)樹脂基板、聚丙烯(PP)樹脂基板、聚乙烯對苯二甲酸乙二醇酯(PET)樹脂基板及聚四氟伸乙基(PTFE)樹脂基板)
使用由http：//www.cutpla.com/購入之各種基板。
<實施例9>
將經SiO2蒸鍍的水晶振盪器(Q-Sense,QSX304)使用 UV/臭氧洗淨裝置(UV253E、Filgen股份有限公司製)進行10分鐘洗淨。將上述塗布膜形成用組成物(A)進行旋轉塗布，作為乾燥步驟在45℃的烤箱進行12小時燒烤。其後作為洗淨步驟將過剩之未硬化塗布膜形成用組成物在純水中進行5分鐘超音波洗淨，進一步以PBS與純水充分洗淨，得到經表面處理之QCM傳感器(SiO2)。
<實施例10>
將上述塗布膜形成用組成物(A)於3片矽晶圓3上各進行旋轉塗布，以加熱板各進行50℃之10分鐘、12小時、24小時乾燥。其後將附著於塗布膜上之未硬化膜形成用組成物在純水中進行5分鐘超音波洗淨，進一步以PBS與純水充分洗淨，的到形成塗布膜之矽晶圓。使用上述矽晶圓以光學式干涉膜厚計確認塗布膜之膜厚為乾燥時間10分鐘22Å，乾燥時間12小時為21Å，乾燥時間24小時為36Å。
<實施例11>
將上述塗布膜形成用組成物(A)於2片矽晶圓2上各進行旋轉塗布，以加熱板在100℃各進行10分鐘、12小時乾燥。其後將附著於塗布膜上的未硬化膜形成用組成物在純水中進行5分鐘超音波洗淨，進一步以PBS與純水充分洗淨，得到形成塗布膜之矽晶圓。使用上述矽晶圓以光學式干涉膜厚計確認塗布膜之膜厚為乾燥時間10分鐘 為30Å，乾燥時間12小時為89Å。
<實施例12>
將上述塗布膜形成用組成物(A)於矽晶圓進行旋轉塗布，以加熱板在200℃進行10分鐘乾燥。其後將附著於塗布膜上之未硬化膜形成用組成物以純水中進行5分鐘超音波洗淨，進一步以PBS與純水充分洗淨，得到形成塗布膜之矽晶圓。使用上述矽晶圓以光學式干涉膜厚計確認塗布膜之膜厚為145Å。
<實施例13>
將上述塗布膜形成用組成物(A)於上述2片PES基板2各進行旋轉塗布，以加熱板於50℃各進行12小時、24小時乾燥。其後將附著於塗布膜上之未硬化膜形成用組成物在純水中進行5分鐘超音波洗淨，進一步以PBS與純水充分洗淨，得到形成塗布膜之PES基板。在上述PES基板以光學式干涉膜厚計確認塗布膜之膜厚時，乾燥時間12小時為29Å，乾燥時間24小時為29Å。
(QCM傳感器(PES)之作成)
將經Au蒸鍍之水晶振盪器(Q-Sense,QSX304)，使用UV/臭氧洗淨裝置(UV253E、Filgen股份有限公司製)進行10分鐘洗淨後，馬上將1-癸烷硫醇(東京化成工業(股)製)0.1012g溶解於乙醇100ml之溶液中浸漬24小時。以 乙醇將傳感器表面洗淨後自然乾燥，將聚(氧基-1,4-伸苯基磺醯基-1,4-伸苯基)(Aldrich公司製)1.00g溶解於1,1,2,2-四氯乙烷99.00g之塗漆使用旋轉塗佈機以3500rpm/30sec對膜傳感器側進行旋塗，經205℃/1min乾燥後得到QCM傳感器(PES)。
<實施例14>
於在上述合成例5所得的含有共聚物之塗漆1.00g中，加入純水5.10g、乙醇0.57g並充分攪拌，調製出塗布膜形成用組成物。於所得之塗布膜形成用組成物中，將上述PES薄膜、矽晶圓或上述玻璃基板(G)傾斜，於烤箱進行45℃之12小時。其後將附著於塗布膜上之未硬化膜形成用組成物以PBS與純水充分洗淨，得到形成塗布膜之矽晶圓、PES薄膜或玻璃基板。使用上述矽晶圓以光學式干涉膜厚計確認塗布膜之膜厚為65Å。又，將上述塗布膜形成用組成物以3500rpm/30sec旋塗於QCM傳感器(PES)，作為乾燥步驟在45℃的烤箱進行12小時燒烤。其後作為洗淨步驟，將過剩之未硬化塗布膜形成用組成物以PBS與超純水各洗淨2次，得到經表面處理之QCM傳感器(PES)。
<實施例15>
於上述合成例6所得的含有共聚物之塗漆1.00g，加入純水7.27g、乙醇3.39g並充分攪拌，調製出塗布膜形 成用組成物。以與實施例14之同樣方法，得到形成塗布膜之矽晶圓、玻璃基板、PES薄膜、聚乙烯(PE)樹脂基板、聚丙烯(PP)樹脂基板、聚乙烯對苯二甲酸乙二醇酯(PET)樹脂基板、聚四氟伸乙基(PTFE)樹脂基板、或經表面處理之QCM傳感器(PES)。使用上述矽晶圓以光學式干涉膜厚計確認塗布膜之膜厚為44Å。
<實施例16>
於上述合成例7所得的含有共聚物之塗漆1.00g，加入純水10.78g、乙醇4.89g並充分攪拌，調製出塗布膜形成用組成物。以與實施例14之同樣方法，得到形成塗布膜之矽晶圓、玻璃基板、或PES薄膜。使用上述矽晶圓以光學式干涉膜厚計確認塗布膜之膜厚為59Å。
<實施例17>
於上述合成例8所得的含有共聚物之塗漆1.00g中加入純水13.11g、乙醇5.89g並充分攪拌，調製出塗布膜形成用組成物。以與實施例14之同樣方法，得到形成塗布膜之矽晶圓、玻璃基板、或PES薄膜。使用上述矽晶圓以光學式干涉膜厚計確認塗布膜之膜厚為62Å。
<實施例18>
於上述合成例9所得的含有共聚物之塗漆1.00g中加入純水8.44g、乙醇3.89g並充分攪拌，調製出塗布膜形 成用組成物。以與實施例14之同樣方法，得到形成塗布膜之矽晶圓、玻璃基板、或PES薄膜。使用上述矽晶圓以光學式干涉膜厚計確認塗布膜之膜厚為55Å。
<實施例19>
於上述合成例10所得的含有共聚物之塗漆1.00g加入純水14.35g、乙醇0.90g並充分攪拌，調製出塗布膜形成用組成物。以與實施例14之同樣方法，得到形成塗布膜之矽晶圓、玻璃基板、或PES薄膜。使用上述矽晶圓以光學式干涉膜厚計確認塗布膜之膜厚為13Å。
<實施例20>
於上述合成例11所得的含有共聚物之塗漆1.00g中加入純水11.10g、乙醇1.23g並充分攪拌，調製出塗布膜形成用組成物。以與實施例14之同樣方法，得到形成塗布膜之矽晶圓、玻璃基板、PES薄膜、或經表面處理之QCM傳感器(PES)。使用上述矽晶圓以光學式干涉膜厚計確認塗布膜之膜厚為68Å。
<實施例21>
於上述合成例12所得的含有共聚物之塗漆1.00g中加入純水8.44g、乙醇3.89g並充分攪拌，調製出塗布膜形成用組成物。以與實施例14之同樣方法，得到形成塗布膜之矽晶圓、玻璃基板、或PES薄膜。使用上述矽晶圓 以光學式干涉膜厚計確認塗布膜之膜厚為49Å。
<實施例22>
於上述合成例13所得的含有共聚物之塗漆1.00g中加入純水8.44g、乙醇3.89g並充分攪拌，調製出塗布膜形成用組成物。以與實施例14之同樣方法，得到形成塗布膜之矽晶圓、PES薄膜或玻璃基板。使用上述矽晶圓以光學式干涉膜厚計確認塗布膜之膜厚為49Å。
<實施例23>
於上述合成例14所得的含有共聚物之塗漆1.00g中加入純水8.44g、乙醇3.89g並充分攪拌，調製出塗布膜形成用組成物。以與實施例14之同樣方法，得到形成塗布膜之矽晶圓、玻璃基板、或PES薄膜。使用上述矽晶圓以光學式干涉膜厚計確認塗布膜之膜厚為50Å。
<實施例24>
於上述合成例15所得的含有共聚物之塗漆1.00g中加入純水8.44g、乙醇3.89g並充分攪拌，調製出塗布膜形成用組成物。以與實施例14之同樣方法，得到形成塗布膜之矽晶圓、玻璃基板、或PES薄膜。使用上述矽晶圓以光學式干涉膜厚計確認塗布膜之膜厚為22Å。
<實施例25>
於上述合成例16所得的含有共聚物之塗漆1.00g中加入純水8.44g、乙醇3.89g並充分攪拌，調製出塗布膜形成用組成物。以與實施例14之同樣方法，得到形成塗布膜之矽晶圓、玻璃基板、或PES薄膜。使用上述矽晶圓以光學式干涉膜厚計確認塗布膜之膜厚為22Å。
<實施例26>
於上述合成例6所得的含有共聚物之塗漆1.00g中加入純水4.85g、乙醇5.72g、1mol/L氨水0.095g並充分攪拌，調製出塗布膜形成用組成物。以與實施例14之同樣方法，得到形成塗布膜之矽晶圓、玻璃基板、或PES薄膜。使用上述矽晶圓以光學式干涉膜厚計確認塗布膜之膜厚為39Å。
<實施例27>
於上述合成例6所得的含有共聚物之塗漆1.00g中加入純水4.95g、乙醇5.72g、二乙醇胺0.02g(東京化成工業(股)公司製)並充分攪拌，調製出塗布膜形成用組成物。以與實施例14之同樣方法，得到形成塗布膜之矽晶圓、玻璃基板、PES薄膜、或經表面處理之QCM傳感器(PES)。使用上述矽晶圓以光學式干涉膜厚計確認塗布膜之膜厚為45Å。
<實施例28>
於上述合成例6所得的含有共聚物之塗漆1.00g中加入純水0.06g、乙醇10.60g、二乙醇胺0.20g(東京化成工業(股)公司製)並充分攪拌，調製出塗布膜形成用組成物。以與實施例14之同樣方法，得到形成塗布膜之矽晶圓、玻璃基板、PES薄膜、或經表面處理之QCM傳感器(PES)。使用上述矽晶圓以光學式干涉膜厚計確認塗布膜之膜厚為68Å。
<實施例29>
於上述合成例6所得的含有共聚物之塗漆1.00g中加入純水0.02g、乙醇10.60g、膽鹼(48-50%水溶液)(東京化成工業(股)製)0.07g並充分攪拌，調製出塗布膜形成用組成物。以與實施例14之同樣方法，得到形成塗布膜之矽晶圓、玻璃基板、PES薄膜、或經表面處理之QCM傳感器(PES)。使用上述矽晶圓以光學式干涉膜厚計確認塗布膜之膜厚為122Å。
<實施例30>
於上述合成例6所得的含有共聚物之塗漆1.00g中加入純水4.99g、乙醇5.74g、氫氧化鈉0.05g並充分攪拌，調製出塗布膜形成用組成物。以與實施例14之同樣方法，得到形成塗布膜之矽晶圓、玻璃基板、或PES薄膜。使用上述矽晶圓以光學式干涉膜厚計確認塗布膜之膜厚為38Å。
<實施例31>
於上述合成例6所得的含有共聚物之塗漆1.00g中加入純水4.01g、乙醇5.72g、1mol/L氨水0.95g並充分攪拌，調製出塗布膜形成用組成物。以與實施例14之同樣方法，得到形成塗布膜之矽晶圓、玻璃基板、PES薄膜、或經表面處理之QCM傳感器(PES)。使用上述矽晶圓以光學式干涉膜厚計確認塗布膜之膜厚為40Å。
<實施例32>
於上述合成例6所得的含有共聚物之塗漆1.00g中加入PBS7.27g、乙醇3.39g並充分攪拌，調製出塗布膜形成用組成物。以與實施例14之同樣方法，得到形成塗布膜之矽晶圓、玻璃基板、或PES薄膜。使用上述矽晶圓以光學式干涉膜厚計確認塗布膜之膜厚為55Å。
<實施例33>
於上述合成例17所得的含有共聚物之塗漆1.00g中加入純水22.45g、乙醇9.88g並充分攪拌，調製出塗布膜形成用組成物。以與實施例14之同樣方法，得到形成塗布膜之矽晶圓、玻璃基板、或PES薄膜。使用上述矽晶圓以光學式干涉膜厚計確認塗布膜之膜厚為79Å。
<實施例34>
於上述合成例18所得的含有共聚物之塗漆1.00g中加入純水10.78g、乙醇4.89g並充分攪拌，調製出塗布膜形成用組成物。以與實施例14之同樣方法，得到形成塗布膜之矽晶圓、玻璃基板、或PES薄膜。使用上述矽晶圓以光學式干涉膜厚計確認塗布膜之膜厚為28Å。
<實施例35>
於上述合成例19所得的含有共聚物之塗漆1.00g中加入純水10.78g、乙醇4.89g並充分攪拌，調製出塗布膜形成用組成物。以與實施例14之同樣方法，得到形成塗布膜之矽晶圓、玻璃基板、或PES薄膜。使用上述矽晶圓以光學式干涉膜厚計確認塗布膜之膜厚為82Å。
<實施例36>
於上述合成例20所得的含有共聚物之塗漆1.00g中加入純水22.45g、乙醇9.88g並充分攪拌，調製出塗布膜形成用組成物。以與實施例14之同樣方法，得到形成塗布膜之矽晶圓、玻璃基板、或PES薄膜。使用上述矽晶圓以光學式干涉膜厚計確認塗布膜之膜厚為11Å。
<比較例1>
於在上述比較合成例1所得的聚合液1.00g中加入純水1.80g、乙醇0.20g並充分攪拌，調製出塗布膜形成用組成物。將所得之塗布膜形成用組成物以與實施例1之同 樣方法進行處理得到玻璃基板或矽晶圓。將左記矽晶圓以光學式干涉膜厚計確認膜厚時，發現無法製造塗布膜(膜厚0Å)。
<比較例2>
使用上述塗布膜形成用組成物(A)，不進行乾燥步驟以外，以與實施例4之同樣方法進行處理得到矽晶圓或玻璃基板。將左記矽晶圓以光學式干涉膜厚計確認膜厚時，發現無法製造塗布膜(膜厚0Å)。
<比較例3>
除乾燥溫度205℃、乾燥時間12小時以外，以與實施例1之同樣方法得到形成矽晶圓或玻璃基板之塗布膜。以光學式干涉膜厚計確認塗布膜之膜厚時為78Å。
<比較例4>
除不使用塗布膜形成用組成物以外，進行與實施例1之相同方法之處理後，得到玻璃基板。
<比較例5>
除不使用塗布膜形成用組成物以外，進行與實施例7之相同方法之處理，得到PS基板。
<比較例6>
除不使用塗布膜形成用組成物以外，進行與實施例8之相同方法之處理，得到PES基板。
<比較例7>
除不進行乾燥步驟以外，以與實施例9之相同方法得到經表面處理之QCM傳感器。
<比較例8>
除不將塗布膜形成用組成物成膜以外，以與實施例9之相同方法得到經表面處理之QCM傳感器。
<比較例9>
將PES薄膜、聚乙烯(PE)樹脂基板、聚丙烯(PP)樹脂基板、聚乙烯對苯二甲酸乙二醇酯(PET)樹脂基板、聚四氟伸乙基(PTFE)樹脂基板、或上述QCM傳感器(PES)在烤箱中，進行45℃之12小時乾燥。其後，進一步以PBS與純水充分洗淨，得到PES薄膜、聚乙烯(PE)樹脂基板、聚丙烯(PP)樹脂基板、聚乙烯對苯二甲酸乙二醇酯(PET)樹脂基板、聚四氟伸乙基(PTFE)樹脂基板或經表面處理之QCM傳感器(PES)。
<比較例10>
於上述比較合成例1所得的聚合液1.00g中加入純水1.80g、乙醇0.20g並充分攪拌，調製出塗布膜形成用組成 物。於所得之塗布膜形成用組成物中，將上述PES薄膜、矽晶圓或上述玻璃基板(G)傾斜，於烤箱進行45℃之12小時乾燥。其後將附著於塗布膜上之未硬化膜形成用組成物以PBS與純水進行充分洗淨，得到形成塗布膜之矽晶圓、玻璃基板或PES薄膜。使用上述矽晶圓以光學式干涉膜厚計確認膜厚時，發現無法製造塗布膜(膜厚0Å)。
又，將上述塗布膜形成用組成物以3500rpm/30sec對QCM傳感器(PES)進行旋塗，作為乾燥步驟在45℃之烤箱進行12小時燒烤。其後作為洗淨步驟將過剩之未硬化塗布膜形成用組成物以PBS與超純水進行各2次洗淨，作為經表面處理之QCM傳感器(PES)。
<比較例11>
於聚乙烯吡咯啶酮(K90)1.00g(東京化成工業(股)公司製)中加入純水59.40g、乙醇39.60g並充分攪拌，調製出塗布膜形成用組成物。於所得之塗布膜形成用組成物中，將上述PES薄膜、矽晶圓或上述玻璃基板(G)傾斜，在烤箱進行45℃之12小時乾燥。其後將附著於塗布膜上之未硬化膜形成用組成物以PBS與純水充分洗淨，得到形成塗布膜之矽晶圓、玻璃基板或PES薄膜。使用上述矽晶圓以光學式干涉膜厚計確認膜厚時，發現無法製造塗布膜(膜厚22Å)。
又，將上述塗布膜形成用組成物以3500rpm/30sec旋塗於QCM傳感器(PES)，作為乾燥步驟在45℃之烤箱進 行12小時燒烤。其後作為洗淨步驟將過剩之未硬化塗布膜形成用組成物以PBS與超純水各洗淨2次，得到經表面處理之QCM傳感器(PES)。
〔血小板附著實驗〕
(血小板溶液之調製)
對於3.8質量%檸檬酸鈉溶液0.5mL，與由健康志願者採血之血液4.5mL混合後進行離心分離，回收〔冷卻離心機5900((股)久保田製作所製)，1000rpm/10分，室溫〕上層之多血小板血漿(PRP)。繼續對於下層進行離心分離(上述離心機，3500rpm/10分，室溫)，回收上層貧血小板血漿(PPP)。以多項目自動紅血球分析裝置(XT-2000i、Sysmex(股)製)測定PRP之血小板數後，使用PPP將PRP之血小板濃度調製至30×104cells/μL。
(血小板附著實驗)
將實施例1至8、實施例14至23、實施例25至35、比較例1至6、比較例9及比較例10之玻璃基板、PS基板、PES基板、PP樹脂基板、PET樹脂基板、PTFE樹脂基板或PES薄膜配置餘24穴平底微孔板(Corning公司製)。於配置此等基板的板子的孔內，添加調製至上述血小板濃度之PRP溶液300μL。在保持5%二氧化碳濃度之狀態下，進行37℃，24小時之CO2恆溫培養內靜置。經過所定靜置時間後，除去板子內之PRP，以PBS3mL洗 淨5次。其後添加2.5體積%戊二醛之PBS溶液2mL，在4℃靜置一整天後，除去戊二醛之PBS溶液，以超純水(Milli-Q水)3mL進行5次洗淨。再以70%乙醇水(v/v)1mL進行3次洗淨後風乾。
〔血小板附著數之測定〕
於進行上述血小板附著實驗之實施例1至8、實施例14至23、實施例25至38、比較例1至6、比較例9及比較例10之玻璃基板、PS基板、PES基板、PP樹脂基板、PET樹脂基板、PTFE樹脂基板或PES薄膜上，以離子濺鍍器(E-1030、(股)Hitachi High-Technologies製)將Pt-Pd進行1分鐘蒸鍍。其後使用電子顯微鏡(S-4800、(股)Hitachi High-Technologies製)以1000倍觀察血小板之附著。以電子顯微鏡計量出自玻璃板的中心部自半徑2mm以內之5處的血小板附著數。平均各處的計算值後作為血小板附著數。該結果如下述表1~4所示。
〔蛋白質附著試驗；QCM-D測定〕
將藉由實施例9、比較例7及比較例8進行表面處理之QCM傳感器安裝於散逸型水晶振盪器微平衡QCM-D(E4、Q-Sense公司製)，流入PBS至確定頻率變化在1小時成為1Hz以下之安定底線。其次將安定之底線頻率作為0Hz，流入約10分鐘之PBS。繼續將人類血清(Aldrich公司製)以PBS稀釋至10%的溶液流入約30分鐘，其後再次將PBS流入，讀取約20分鐘後的11次諧波之吸附誘發頻率的位移(△f)。該測定值如表5所示。在實施例9位移值接近0，雖未吸附人類血清，但在比較例7及比較例8與實施例9比較下，顯示人類血清成分之吸附。
〔蛋白質附著試驗；QCM-D測定(2)〕
將藉由實施例14、15、20、27~29、31、比較例9及比較例11進行表面處理之PES傳感器安裝於散逸型水晶振盪器微平衡QCM-D(E4、Q-Sense公司製)，流入PBS至確定頻率變化在1小時成為1Hz以下之安定底線。其次將安定之底線的頻率作為0Hz，流入PBS約10分鐘。繼續流入將纖維蛋白原、來自人類之血漿(和光純藥工業(股)公司製)或纖維連接蛋白、來自人類之血漿(Sigma-Aldrich公司製)以PBS稀釋至100μg/ml的溶液約30分鐘後，再次流入PBS約20分鐘後，讀取11次諧波的吸附誘發頻率之位移(△f)。使用Q-Tools(Q-Sense公司製)進行分析，將吸附誘發頻率之位移(△f)、將以Sauerbrey式所說明之吸附誘發頻率的位移(△f)換算為每單位面積之質量(ng/cm2)者作為活體物質之附著量而表示於表6。與比較例比較，實施例顯示多出1個位數之各種蛋白質吸附量。
〔液中接觸角測定〕
測定在PBS中之CH2I2(二碘甲烷)的液中接觸角。測定結果如表7所示。
對於未塗布之矽晶圓、PES基板，以與實施例10至實施例13之同條件下測定液中接觸角時，矽晶圓；144度、PES基板(PES膜厚300Å)；60度。
由以上結果得知，對於液中表面接觸角測定法，對於PBS中之CH2I2的塗布膜之接觸角為137度至151度，較佳為139度至149度。
〔藉由動態光散射法之粒徑測定〕
實施例14、15、16、18、19、20、21、26、30、33及35之各塗布膜形成用組成物中的溶膠粒子徑之測定為使用、動態光散射光度計(DLS，大塚電子公司製，製品名：DLS-8000DLTKY)進行測定。
[產業上可利用性]
使用本發明之離子複合物之塗布膜可在簡便乾燥步驟下，可強力固著於所有基板，該膜具有活體物質附著抑制能。可期待應用於對人工透析器、人工臟器、醫療器具等之活體物質附著抑制塗布膜。

Claims (21)

  1. 一種塗布膜，其特徵為藉由含有將含有下述共聚物與溶劑之塗布膜形成用組成物塗布於基體之步驟，及在溫度-200℃以上，未達200℃下進行乾燥之步驟的方法所得者；該共聚物含有具有下述式(a)所示有機基之重複單位、與具有下述式(b)所示有機基之重複單位，該共聚物中含有式(a)所示有機基的重複單位之比例為20莫耳%至80莫耳%； 式中，Ua1、Ua2、Ub1、Ub2及Ub3為各獨立表示氫原子或碳原子數1至5的直鏈或者分支烷基，An-表示選自由鹵素化物離子、無機酸離子、氫氧化物離子及異硫氰酸酯離子所成群之陰離子。
  2. 如請求項1之塗布膜，其中溶劑為含有水或醇。
  3. 如請求項1或2之塗布膜，其中塗布膜形成用組成物中之共聚物的濃度為0.01質量%至4質量%。
  4. 如請求項1或2之塗布膜，其中基體為選自由玻璃、含有金屬之化合物、含有半金屬之化合物及樹脂所成 群者。
  5. 如請求項1或2之塗布膜，其為具有活體物質之附著抑制能者。
  6. 如請求項1或2之塗布膜，其中共聚物為含有下述式(a1)及式(b1)所示重複單位； 式中，Ta、Tb、Ua1、Ua2、Ub1、Ub2及Ub3為各獨立表示氫原子或碳原子數1至5的直鏈或者分支烷基，Qa及Qb為各獨立表示單鍵、酯鍵或醯胺鍵Ra及Rb為各獨立表示可由鹵素原子所取代之碳原子數1至10的直鏈或分支伸烷基，An-表示選自由鹵素化物離子、無機酸離子、氫氧化物離子及異硫氰酸酯離子所成群之陰離子，m表示0至6的整數。
  7. 如請求項1或2之塗布膜，其中m為1，Ra及Rb為各獨立表示伸乙基或伸丙基。
  8. 如請求項1或2之塗布膜，其中含有預先調整塗布膜形成用組成物之pH的步驟。
  9. 如請求項1或2之塗布膜，其中含有將乾燥步驟後所得之膜進一步以選自由含有水及電解質之水溶液所成群的至少1種溶劑進行洗淨的步驟。
  10. 一種塗布膜的製造方法，其特徵為含有將含有下述共聚物與溶劑之塗布膜形成用組成物塗布於基體之步驟，及在溫度-200℃以上，未達200℃下進行乾燥的步驟者；該共聚物為含有具有下述式(a)所示有機基之重複單位與具有下述式(b)所示有機基之重複單位者，該共聚物中含有式(a)所示有機基的重複單位之比例為20莫耳%至80莫耳%； 式中，Ua1、Ua2、Ub1、Ub2及Ub3為各獨立表示氫原子或碳原子數1至5的直鏈或者分支烷基，An-表示選自由鹵素化物離子、無機酸離子、氫氧化物離子及異硫氰酸酯離子所成群之陰離子。
  11. 一種共聚物，其特徵為藉由聚合至少含有下述式(A)及(B)，與下述式(C)或(D)所示化合物的單體混合物而得者，對於形成該共聚物的單體全體的式(A)所示化合物之比例為20莫耳%至80莫耳%； 式中，Ta、Tb、Ua1、Ua2、Ub1、Ub2及Ub3為各獨立表示氫原子或碳原子數1至5的直鏈或者分支烷基，Qa及Qb為各獨立表示單鍵、酯鍵或醯胺鍵，Ra及Rb為各獨立表示可由鹵素原子所取代之碳原子數1至10的直鏈或分支伸烷基，An-表示選自由鹵素化物離子、無機酸離子、氫氧化物離子及異硫氰酸酯離子所成群之陰離子，m表示0至6的整數所示化合物； 式中，Tc、Td及Ud為各獨立表示氫原子或碳原子數1至5 的直鏈或者分支烷基Rc及Rd為各獨立表示可由鹵素原子所取代之碳原子數1至10的直鏈或分支伸烷基。
  12. 一種塗布膜形成用組成物，其特徵為含有(i)含有具有下述式(a)所示有機基之重複單位、與具有下述式(b)所示有機基之重複單位的共聚物，該共聚物中含有式(a)所示有機基的重複單位之比例為20莫耳%至80莫耳%； 式中，Ua1、Ua2、Ub1、Ub2及Ub3為各獨立表示氫原子或碳原子數1至5的直鏈或者分支烷基，An-表示選自由鹵素化物離子、無機酸離子、氫氧化物離子及異硫氰酸酯離子所成群之陰離子；(ii)溶劑；及(iii)pH調整劑者。
  13. 如請求項12之組成物，其中共聚物為含有下述式(a1)及式(b1)之重複單位； 式中，Ta、Tb、Ua1、Ua2、Ub1、Ub2及Ub3為各獨立表示氫原子或碳原子數1至5的直鏈或者分支烷基，Qa及Qb為各獨立表示單鍵、酯鍵或醯胺鍵，Ra及Rb為各獨立表示可由鹵素原子所取代之碳原子數1至10的直鏈或分支伸烷基，An-表示選自由鹵素化物離子、無機酸離子、氫氧化物離子及異硫氰酸酯離子所成群之陰離子，m表示0至6的整數。
  14. 一種含有共聚物之塗漆的製造方法，其特徵為含有將下述式(A)及式(B)所示化合物在溶劑中，以兩化合物的合計濃度為0.01質量%至4質量%下進行反應之步驟者； 式中，Ta、Tb、Ua1、Ua2、Ub1、Ub2及Ub3為各獨立表示氫原子或碳原子數1至5的直鏈或者分支烷基，Qa及Qb為各獨立表示單鍵、酯鍵或醯胺鍵，Ra及Rb為各獨立表示可由鹵素原子所取代之碳原子數1至10的直鏈或分支伸烷基，An-表示選自由鹵素化物離子、無機酸離子、氫氧化物離子及異硫氰酸酯離子所成群之陰離子，m表示0至6的整數。
  15. 如請求項14的含有共聚物之塗漆的製造方法，其中m為1，Ra及Rb為各獨立表示伸乙基或伸丙基。
  16. 如請求項14或15的含有共聚物之塗漆的製造方法，其中溶劑含有水或醇。
  17. 如請求項14或15的含有共聚物之塗漆的製造方法，其中溶劑為含有水10質量%至100質量%者。
  18. 如請求項14或15的含有共聚物之塗漆的製造方法，其中溶劑為含有醇10質量%至100質量%者。
  19. 一種含有共聚物之塗漆的製造方法，其特徵為含有將含有下述式(A)及式(B)所示化合物、溶劑及聚合起 始劑的混合物滴入於保持在比聚合起始劑之10小時半衰期溫度更高溫度的溶劑中，進行反應的步驟，對於形成該共聚物的單體全體的式(A)所示化合物之比例為20莫耳%至80莫耳%； 式中，Ta、Tb、Ua1、Ua2、Ub1、Ub2及Ub3為各獨立表示氫原子或碳原子數1至5的直鏈或者分支烷基，Qa及Qb為各獨立表示單鍵、酯鍵或醯胺鍵，Ra及Rb為各獨立表示可由鹵素原子所取代之碳原子數1至10的直鏈或分支伸烷基，An-表示選自由鹵素化物離子、無機酸離子、氫氧化物離子及異硫氰酸酯離子所成群之陰離子，m表示0至6的整數。
  20. 一種溶膠，其特徵為含有以下共聚物者，該共聚物為含有具有下述式(a)所示有機基之重複單位、與具有下述式(b)所示有機基之重複單位者，該共聚物中含有式(a)所示有機基的重複單位之比例為20莫耳%至80莫耳%； 式中，Ua1、Ua2、Ub1、Ub2及Ub3為各獨立表示氫原子或碳原子數1至5的直鏈或者分支烷基，An-表示選自由鹵素化物離子、無機酸離子、氫氧化物離子及異硫氰酸酯離子所成群之陰離子。
  21. 如請求項20之溶膠，其中藉由動態光散射法所測定之粒徑分布中，其平均粒徑為2nm以上500nm以下。
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Families Citing this family (28)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105308137B (zh) * 2013-06-07 2021-01-01 日产化学工业株式会社 具有抑制生物物质附着的能力的离子络合材料及其制造方法
US10669445B2 (en) 2014-12-10 2020-06-02 Nissan Chemical Industries, Ltd. Ion complex material having function of inhibiting adhesion of biological substance and method for manufacturing the same
CN107531851A (zh) * 2015-07-03 2018-01-02 日产化学工业株式会社 具有抑制生物材料附着的能力的离子复合物材料及其制造方法
WO2017022815A1 (ja) * 2015-08-04 2017-02-09 Jsr株式会社 重合体組成物、物品、メディカルデバイス、物品の製造方法および細胞塊の製造方法
JP6969380B2 (ja) * 2015-10-16 2021-11-24 日産化学株式会社 流路用コーティング剤
WO2017204201A1 (ja) * 2016-05-27 2017-11-30 日産化学工業株式会社 細胞培養容器
JP6911852B2 (ja) * 2016-06-15 2021-07-28 日産化学株式会社 凍結保存用容器
KR102463944B1 (ko) * 2016-07-20 2022-11-04 닛산 가가쿠 가부시키가이샤 박막 단차 피복성을 갖는 코팅막, 그 막을 구비하는 구조 기체
EP3690019A4 (en) * 2017-09-26 2020-11-18 Nissan Chemical Corporation TINY VOLUME CELL CULTURE CONTAINER
EP3708648A4 (en) * 2017-11-10 2021-01-13 Nissan Chemical Corporation CELL CULTURE CONTAINER
WO2019107503A1 (ja) 2017-11-29 2019-06-06 日産化学株式会社 長期培養可能な細胞培養容器及びその製造方法
JPWO2019151114A1 (ja) * 2018-02-01 2021-01-28 Ａｇｃ株式会社 細胞培養容器
SG11202101895YA (en) 2018-08-24 2021-03-30 Nissan Chemical Corp Method for producing polymer used as base film for cell culture and cell culture container
WO2020100957A1 (ja) 2018-11-14 2020-05-22 日産化学株式会社 生体材料の保存、前処理、分析のための容器及び方法
JP7501374B2 (ja) 2019-02-12 2024-06-18 日産化学株式会社 生体物質への適合性を有するポリマーの製造方法
US20230106591A1 (en) * 2020-02-19 2023-04-06 Nissan Chemical Corporation Biological material adhesion inhibitor
US20230116517A1 (en) 2020-02-21 2023-04-13 Nissan Chemical Corporation Method for producing cell aggregates
EP4108759A4 (en) 2020-02-21 2023-08-16 Nissan Chemical Corporation CELL INCUBATOR CAPABLE OF CONTROL OF CELL AGGREGATION
AU2021242828A1 (en) 2020-03-25 2022-10-20 Nissan Chemical Corporation Irradiated resin molding
JPWO2021251417A1 (zh) 2020-06-12 2021-12-16
TW202214726A (zh) 2020-06-19 2022-04-16 日商日產化學股份有限公司 包含含有磷酸基之聚合物之塗佈膜形成組成物
CN115997007A (zh) 2020-07-03 2023-04-21 国立大学法人冈山大学 软骨组织体的制造方法
EP4234236A4 (en) 2020-10-23 2024-04-17 Nissan Chemical Corporation LOW ADHESION MATERIAL MADE FROM A BIOLOGICAL SUBSTANCE WITH COPOLYMER
KR20240017812A (ko) 2021-06-07 2024-02-08 닛산 가가쿠 가부시키가이샤 코팅막 형성용 조성물, 코팅막, 및 세포 배양 용기
JP7089710B1 (ja) 2021-07-05 2022-06-23 日産化学株式会社 無血清培地中での細胞培養用下地材料
CN117597434A (zh) 2021-07-05 2024-02-23 日产化学株式会社 无血清培养基中的细胞培养用基底材料
WO2023282273A1 (ja) * 2021-07-05 2023-01-12 慶應義塾 細胞培養方法
KR20240104128A (ko) 2021-11-02 2024-07-04 닛산 가가쿠 가부시키가이샤 생체 물질 부착 억제재

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007063459A (ja) * 2005-09-01 2007-03-15 Nof Corp コーティング膜、コーティング膜被覆基体、及びその製造方法

Family Cites Families (61)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5316042A (en) * 1976-07-30 1978-02-14 Toyo Soda Mfg Co Ltd Cold-setting water-based coating composition
JPS5377292A (en) * 1976-12-20 1978-07-08 Toyo Soda Mfg Co Ltd Preparation of novel resin
JPS5424945A (en) * 1977-07-26 1979-02-24 Hitachi Chem Co Ltd Aqueous coating composition
JPS609662B2 (ja) * 1979-08-08 1985-03-12 三菱電機株式会社 半導体ウエハの打抜き方法
JPS56127671A (en) * 1980-03-13 1981-10-06 Dainippon Ink & Chem Inc Coating resin composition
JPS5984964A (ja) * 1982-11-05 1984-05-16 Konishi Kk 亜鉛処理基材用接着剤組成物
JPH01266126A (ja) * 1988-04-19 1989-10-24 Dainippon Ink & Chem Inc 硬化性樹脂組成物
JPH0815772B2 (ja) * 1988-12-27 1996-02-21 新王子製紙株式会社 シート
JPH04117276A (ja) * 1990-09-06 1992-04-17 Sekisui Chem Co Ltd 微生物発育培地用器具
CA2277953C (en) 1991-07-05 2001-01-16 Biocompatibles Limited Polymeric surface coatings
JP2684912B2 (ja) * 1991-12-06 1997-12-03 株式会社日本触媒 被覆用樹脂の製造方法
EP0567886A3 (en) 1992-04-21 1994-11-02 Kurashiki Boseki Kk Composition for a layer for culturing animal adhesive cells and method for culturing cells in a serum-free medium.
JPH05292957A (ja) * 1992-04-21 1993-11-09 Kurabo Ind Ltd 接着性細胞培養用被覆組成物
JPH0616734A (ja) * 1992-07-03 1994-01-25 Nkk Corp 帯電防止用紫外線硬化型樹脂組成物及びそれを被覆して成る光ディスク
JP3131664B2 (ja) 1992-08-07 2001-02-05 ユニケミカル株式会社 ジアクリル環状リン酸エステル単量体及びその製造方法
DE69314154T2 (de) * 1992-12-28 1998-04-30 Asahi Medical Co Filtermaterial, Vorrichtung und Verfahren zum Abtrennen von Leukozyten
JPH07109394A (ja) * 1993-10-13 1995-04-25 Sekisui Chem Co Ltd 塩化ビニル系樹脂組成物及びそれを用いた磁気記録媒体
JPH08140673A (ja) * 1994-11-17 1996-06-04 W R Grace & Co スフェロイドの作製方法
JPH11271502A (ja) * 1998-03-24 1999-10-08 Kureha Chem Ind Co Ltd 光学材料およびその製造方法並びに応用機器
JP2001002791A (ja) * 1999-06-21 2001-01-09 Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd 高粘度樹脂溶液中への粉体の添加方法
JP4717980B2 (ja) 2000-03-30 2011-07-06 関西ペイント株式会社 塗料組成物
JP4404445B2 (ja) 2000-05-17 2010-01-27 テルモ株式会社 血液フィルターおよび血液フィルターの製造方法
JP2003040937A (ja) 2001-07-27 2003-02-13 Ipposha Oil Ind Co Ltd 高分子光安定剤
FR2837209B1 (fr) * 2002-03-13 2004-06-18 Rhodia Chimie Sa Utilisation de copolymers a blocs portant des fonctions phosphates et/ou phosphonates comme promoteurs d'adhesion ou comme agents de protection contre la corrosion d'une surface metallique
JP4231952B2 (ja) * 2002-05-23 2009-03-04 株式会社トクヤマ 接着キット
KR101095400B1 (ko) * 2002-11-25 2011-12-16 가부시키가이샤 시세이도 소재의 표면 개질 방법
JP4411108B2 (ja) * 2003-03-14 2010-02-10 関西ペイント株式会社 塗装仕上げ方法
US20040180146A1 (en) * 2003-03-14 2004-09-16 Keiichiro Saikawa Coating finishing method
JP4481034B2 (ja) * 2004-02-24 2010-06-16 株式会社トクヤマ 接着性組成物及び接着キット
JP4204615B2 (ja) * 2004-02-24 2009-01-07 ユニケミカル株式会社 無水リン酸の加水分解残基を有する（メタ）アクリルアミド系の単量体及び重合体の製造方法、及びその重合体の用途
US7244443B2 (en) * 2004-08-31 2007-07-17 Advanced Cardiovascular Systems, Inc. Polymers of fluorinated monomers and hydrophilic monomers
JP2006076973A (ja) * 2004-09-13 2006-03-23 Tokuyama Corp 歯質接着用の光重合型接着剤
US8017394B2 (en) 2004-10-01 2011-09-13 Isto Technologies, Inc. Method for chondrocyte expansion with phenotype retention
WO2007070801A2 (en) * 2005-12-12 2007-06-21 Allaccem, Inc. Methods and systems for preparing antimicrobial films and coatings
FR2895251B1 (fr) * 2005-12-22 2008-04-04 Oreal Composition cosmetique comprenant au moins un poly(vinyllactame) cationique, au moins un alcool gras et au moins une silicone aminee, procede de traitement cosmetique et utilisation de la composition
JP2007231174A (ja) 2006-03-01 2007-09-13 Shinnakamura Kagaku Kogyo Kk 紫外線硬化型コーティング剤
JP4843353B2 (ja) * 2006-04-07 2011-12-21 高知県 生物防汚剤、防汚処理方法および防汚処理物品
JP2008061609A (ja) 2006-09-08 2008-03-21 Sumitomo Bakelite Co Ltd 細胞培養容器の製造方法および細胞培養容器。
WO2008112163A1 (en) 2007-03-09 2008-09-18 Corning Incorporated Gum coatings for cell culture, methods of manufacture and methods of use
JP5125170B2 (ja) * 2007-03-28 2013-01-23 Ｄｉｃ株式会社 ポリマーコート顔料およびその製造方法
WO2009020220A1 (en) * 2007-08-06 2009-02-12 Canon Kabushiki Kaisha Structural member and method of producing the structural member
JP5294619B2 (ja) * 2007-12-14 2013-09-18 株式会社トクヤマデンタル 酸化物セラミックスからなる歯科用補綴物の前処理材
US20100028286A1 (en) * 2008-07-31 2010-02-04 Jose Antonio Carballada Method and Composition for Stabilizing Hair Moisture Levels
US20100193745A1 (en) * 2009-01-30 2010-08-05 Sanyo Electric Co., Ltd. Conductive polymer film, conductive polymeric material and electronic device
JP2010233999A (ja) 2009-03-31 2010-10-21 Asahi Kasei Kuraray Medical Co Ltd 血液浄化器
US9347031B2 (en) * 2009-06-15 2016-05-24 Shiseido Company, Ltd. Container for forming a cell aggregate and a method for forming a cell aggregate
JP2013507959A (ja) 2009-10-22 2013-03-07 ジーイー・ヘルスケア・バイオサイエンス・アクチボラグ 細胞培養／処理用製品、並びにそれらの製造及び使用方法
DE102010032780A1 (de) * 2010-07-26 2012-01-26 Helfried Haufe Hydrophile Schicht und Beschichtungszusammensetzung zur Herstellung der Schicht sowie Verfahren zur Herstellung der Beschichtungszusammensetzung
JP5095855B2 (ja) * 2010-12-13 2012-12-12 株式会社 資生堂 細胞凝集塊の形成方法
BR112013030897B1 (pt) * 2011-06-02 2020-06-23 Rohm And Haas Company Composição compreendendo um polímero anfotérico e composição aquosa
GB201110042D0 (en) 2011-06-14 2011-07-27 Univ Edinburgh Growth of cells
JP2014237731A (ja) * 2011-09-29 2014-12-18 関西ペイント株式会社 顔料分散ペースト及び塗料組成物
WO2013047385A1 (ja) * 2011-09-29 2013-04-04 関西ペイント株式会社 顔料分散ペースト、塗料組成物、塗膜形成方法及び塗装物品
GB2500721A (en) 2012-03-30 2013-10-02 Provost Fellows & Scholars College Of The Holy Undivided Trinity Of Queen Elizabeth Near Dublin Cell culture medium additive comprising a xanthan polysaccharide and a mannan polysaccharide
AU2013294057B2 (en) 2012-07-24 2019-07-04 Kyoto University Culture medium composition, and method for culturing cell or tissue using said composition
WO2014093412A1 (en) * 2012-12-13 2014-06-19 Dow Global Technologies Llc Amphoteric polymer particles and compositions thereof
CN105308137B (zh) * 2013-06-07 2021-01-01 日产化学工业株式会社 具有抑制生物物质附着的能力的离子络合材料及其制造方法
US10669445B2 (en) * 2014-12-10 2020-06-02 Nissan Chemical Industries, Ltd. Ion complex material having function of inhibiting adhesion of biological substance and method for manufacturing the same
JP6969380B2 (ja) * 2015-10-16 2021-11-24 日産化学株式会社 流路用コーティング剤
WO2017204201A1 (ja) * 2016-05-27 2017-11-30 日産化学工業株式会社 細胞培養容器
KR102463944B1 (ko) * 2016-07-20 2022-11-04 닛산 가가쿠 가부시키가이샤 박막 단차 피복성을 갖는 코팅막, 그 막을 구비하는 구조 기체

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007063459A (ja) * 2005-09-01 2007-03-15 Nof Corp コーティング膜、コーティング膜被覆基体、及びその製造方法

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