TWI485273B - Film forming device - Google Patents

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TWI485273B
TWI485273B TW097147402A TW97147402A TWI485273B TW I485273 B TWI485273 B TW I485273B TW 097147402 A TW097147402 A TW 097147402A TW 97147402 A TW97147402 A TW 97147402A TW I485273 B TWI485273 B TW I485273B
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Yoshinari Kondo
Kentaro Suzuki
Eichi Matsumoto
Miyuki Tajima
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Tokki Kk
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    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/04—Coating on selected surface areas, e.g. using masks
    • C23C14/042—Coating on selected surface areas, e.g. using masks using masks
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Description

成膜裝置
本發明係關於成膜裝置。
近年來，例如專利文獻1所揭示般，作為由具有容許成膜材料通過之開口圖案的遮罩本體，和保持該遮罩本體之保持框所構成的成膜用遮罩，提案有如第1圖所示般，以框狀支架42包圍遮罩本體41之四邊，一面藉由該框狀支架42自四邊不施加張力或是施加極弱之張力，一面保持遮罩本體41之所謂的四邊固定軟張力遮罩。
該四邊固定軟張力遮罩具有溫度變化小且輕量之優點，因溫度變化小，所以在利用蒸鍍裝置執行蒸鍍中難以引起圖案偏差，再者因輕量，故能夠抑制搬運系統之成本。
[專利文獻1]日本特開2007-138256號公報
但是，上述四邊固定軟張力遮罩，有如與基板之密接性差，且於以例如蒸鍍等執行成膜之時，無法如同遮罩本體之開口圖案般地執行成膜，基板上之成膜圖案為模糊之問題點。
再者，例如第2圖所示般，雖然也提案有使條紋狀之遮罩本體51不撓曲之方式，在從兩邊施加張力之狀態下 保持於保持框體52之構成，但是在如此之構成中，如第3圖所示般，由於張力使得遮罩本體51之中央部53變形，與基板之接合性仍差，難以良好執行成膜。
除此之外，通常成膜用遮罩和基板係在藉由對準機構(定位機構)被精密定位之適當重疊位置被重疊，於在該基板上重疊例如強制性使基板撓曲之薄片狀之配重構件，或是使遮罩靠近至基板表面側之磁鐵體等之時，由於該配重構件等與基板接觸，有折角精密定位之基板和成膜用遮罩偏離之可能性。
本發明係鑑於上述現狀而所研究出，提供一種能夠容易形成精密成膜圖案之實用性優秀之成膜裝置，該成膜裝置係採用成膜用遮罩，且該成膜用遮罩係藉由僅將例如遮罩本體之相向的兩邊在能夠自然撓曲之狀態下固定於保持框之保持部，可以解除遮罩本體撓曲不均勻而成為能夠與基板良好密接，以如溫度變化小並且輕量般之優點直接與基板良好接合使得基板上之蒸鍍圖案不會模糊能夠如開口圖案般良好成膜，並且一邊確實維持該成膜用遮罩和基板之定位重疊狀態，一邊採用能夠將該基板和重疊構件或磁鐵體良好重疊固定之重疊固定機構，依此可以不會導致成膜圖案之精度劣化或作業性下降，可以提升成膜用遮罩和基板之密接性。
參照附件圖面說明本發明之主旨。
一種成膜裝置，具備有成膜遮罩5，和藉由在重疊該成膜遮罩5之基板6表面隔著上述成膜用遮罩5使成膜材料附著而形成所欲圖案之薄膜之成膜手段，該成膜裝置之特徵為具備：定位機構，其係用以使上述成膜用遮罩5和上述基板6相對性移動而執行該成膜用遮罩5和基板6之定位；和第一重疊固定機構，其係在上述成膜用遮罩之四邊中之相向的一對之邊部，重疊固定藉由該定位機構重疊定位之上述成膜用遮罩5和上述基板6，和第二重疊固定機構，其係在上述第一重疊固定機構進行重疊固定的上述成膜用遮罩之上述一對之邊部，重疊固定藉由第一重疊固定機構而被重疊固定於上述成膜用遮罩5之上述基板6，和被配設在該基板6之背面側使上述基板6撓曲而令上述基板6密接重疊於上述成膜用遮罩5之薄片狀的配重構件8或是在上述基板6之表面側磁性吸引上述成膜用遮罩5而使上述成膜用遮罩5密接重疊於上述基板6之磁鐵體14。
再者，如申請專利範圍第1項所記載之成膜裝置，其中，上述成膜用遮罩5係由具有容許成膜材料通過之開口圖案的遮罩本體1，和保持該遮罩本體1之保持框2所構成，上述保持框2具備分別沿著上述遮罩本體1之四邊中之相向的一對之邊部3而被配置且分別保持該一對之邊部3的一對保持部4，構成僅藉由該一對保持部4保持上述遮罩本體1，以上述遮罩本體在藉由上述一對保持部4所保持之上述一對邊部3間由於自重而撓曲，並且上述撓曲 量在該一對邊部3之相向方向產生變化之方式，將該一對邊部3固定於上述一對保持部4而形成。
再者，如申請專利範圍第2項所記載之成膜裝置，其中，具備有支撐重疊上述成膜用遮罩5之基板6之支撐面部的支撐體13，和相對於該支撐體13之支撐面部起伏自如的推壓部15a、15b，藉由該支撐體13之支撐面和推壓部15a、15b夾持上述成膜用遮罩5和上述基板6或是上述基板6和上述配重構件8或者上述磁鐵體14，依此以執行上述成膜用遮罩5和上述基板6之重疊固定或是上述基板6和上述配重構件8或上述磁鐵體14之重疊固定之方式，構成上述第一重疊固定機構或是上述第二重疊固定機構。
如申請專利範圍第2項所記載之成膜裝置，其中，具備有支撐機構，係於執行上述成膜用遮罩5和上述基板6之定位之時，以成為略水平之方式分別支撐成為上述成膜用遮罩5之遮罩本體1而未藉由上述保持框2之保持部4所保持之其他一對邊部12。
再者，如申請專利範圍第3項所記載之成膜裝置，其中，具備有支撐機構，係於執行上述成膜用遮罩5和上述基板6之定位之時，以成為略水平之方式分別支撐成為上述成膜用遮罩5之遮罩本體1而未藉由上述保持框2之保持部4所保持之其他一對邊部12。
再者，如申請專利範圍第2項所記載之成膜裝置，其中，具備配重構件搬運機構，該配重構件搬運機構具有能 夠夾持上述配重構件8之靜電夾具機構或是具有能夠與被設置在配重構件8之卡止部16卡合之卡止體17，一邊將上述配重構件8保持略水平狀態一邊予以搬運。
再者，如申請專利範圍第3項所記載之成膜裝置，其中，具備配重構件搬運機構，該配重構件搬運機構具有能夠夾持上述配重構件8之靜電夾具機構或是具有能夠與被設置在配重構件8之卡止部16卡合之卡止體17，一邊將上述配重構件8保持略水平狀態一邊予以搬運。
再者，如申請專利範圍第4項所記載之成膜裝置，其中，具備配重構件搬運機構，該配重構件搬運機構具有能夠夾持上述配重構件8之靜電夾具機構或是具有能夠與被設置在配重構件8之卡止部16卡合之卡止體17，一邊將上述配重構件8保持略水平狀態一邊予以搬運。
再者，如申請專利範圍第5項所記載之成膜裝置，其中，具備配重構件搬運機構，該配重構件搬運機構具有能夠夾持上述配重構件8之靜電夾具機構或是具有能夠與被設置在配重構件8之卡止部16卡合之卡止體17，一邊將上述配重構件8保持略水平狀態一邊予以搬運。
本發明由於係如上述般構成，故成為能夠一邊確實維持精密定位之基板和遮罩之重疊狀態，一邊良好重疊固定該基板和配重構件或磁鐵體之實用性極優的成膜裝置。
根據圖面表示本發明之作用而簡單說明本發明之較佳實施型態(如何實施發明)。
藉由第一重疊固定機構重疊固定藉由定位機構定位之成膜用遮罩5和基板6，且在藉由該第一重疊固定機構與成膜用遮罩5重疊固定之基板6上(基板6之背面側)，藉由第二重疊固定機構重疊固定使該基板6密接重疊於成膜用遮罩5之配重構件8或是使成膜用遮罩5密接重疊於基板6之磁鐵體14。
即是，並不係匯集所有成膜用遮罩5、基板6以及配重構件8或是磁鐵體14而予以重疊固定，係藉由分成重疊固定依據定位機構之精密定位所需之成膜用遮罩5和基板6之第一重疊固定機構，和使被重疊於與成膜用遮罩5重疊固定之基板6上的配重構件8或是磁鐵體14重疊固定於該基板6之第二重疊固定機構，於將配重構件8或是磁鐵體14重疊於基板6之時，則能夠事先重疊固定成膜用遮罩5和基板6，即使配重構件8或是磁鐵體14接觸於該基板6亦可以確實阻止成膜用遮罩5和基板6自適當重疊位置偏離。
因此，對於使用例如申請專利範圍第2項所記載之成膜用遮罩5，於將配重構件8或磁鐵體14重疊於基板6上之時，成膜用遮罩5和基板6不會偏離，不會導致成膜圖案之精度劣化或作業性下降，可以更加提升成膜用遮罩5和基板6之密接性，並可容易形成精密之成膜圖案。
並且，配重構件8以及磁鐵體14即使各單獨使用亦可取得基板6和成膜遮罩5之密接性提升效果，但是於使用雙方之時，則可取得更提升良好密接性之效果。具體而言，於使用配重構件8之時，可以使基板6強制性密接重疊成沿著成膜用遮罩5撓曲，於使用磁鐵體14之時，則可以在基板6之表面側吸附成膜用遮罩5。
再者，於使用申請專利範圍第2項所記載之成膜用5之時，因一對邊部3各固定於一對保持部4，被保持框2所保持之遮罩本體1藉由自重而撓曲，故當例如為了執行成膜而疊層基板6(以及磁鐵體)之時，追隨著該基板6和遮罩本體1之撓曲，使兩者更良好密接。
例如四邊固定軟張力遮罩因不施加張力(或是非常小)，故乍看應該係追隨著基板之撓曲而撓曲彎曲，而成為良好密接，但是由於固定四邊，使得撓曲量在縱方向以及橫方向之兩方向產生變化，干涉雙方之撓曲而使遮罩之撓曲產生不均勻，遮罩本體成為變形，再者因該變形為複雜，故無取得良好之密接性。
該點，申請專利範圍第2項所記載之成膜用遮罩5為將對向之一對之邊部3(兩邊)固定於一對保持部4之構成，遮罩本體1藉由遮罩本體1在該一對邊部3間由於自重而撓曲，並且上述撓曲量僅在該一對邊部3之對向方向(1方向)變化，因不干涉撓曲，故難以產生不均勻，因此，遮罩本體1之變形單純且小，可以良好追隨基板6之撓曲而良好密接。
即是，因可以實現更自然之撓曲，故即使基板6大型化，撓曲變大，遮罩本體1亦可追隨基板6之撓曲而密接。因此，於使與基板6等疊層而執行成膜之時，藉由與基板6良好密接，則基板6上之成膜圖案不會產生模糊能夠如同開口圖案般執行成膜。
再者，比起將張力維持在遮罩本體1不會撓曲之程度時，則可以縮小保持部4所需之強度，僅藉由此可以將保持框2設為薄且輕量。因此，搬運等成為容易，僅藉由此提高作業性。
尤其，依據遮罩本體1之變形而使得密接性下降或保持框2之厚壁化或重量化，隨著遮罩(基板)之大型化而成為顯著，但是若藉由本發明時，即使大型之遮罩，亦為薄壁、輕量且能夠與基板良好密接。
再者，例如，具備有支撐重疊上述成膜用遮罩5之基板6之支撐面部的支撐體13，和相對於該支撐體13之支撐面部起伏自如的推壓部15a、15b，藉由該支撐體13之支撐面和推壓部15a、15b夾持上述成膜用遮罩5和上述基板6或是上述基板6和上述配重構件8或者上述磁鐵體14，依此以執行上述成膜用遮罩5和上述基板6之重疊固定或是上述基板6和上述配重構件8或上述磁鐵體14之重疊固定之方式，構成上述第一重疊固定機構或是上述第二重疊固定機構之時能夠執行上述重疊固定使成膜用遮罩5不產生撓曲之曲折點，能夠使遮罩本體1更自然撓曲。
即是，設為將相對於上述支撐面部起伏自如之推壓部 15a、15b，不與基板面方向平行，倒伏於略俯角方向，與推壓部15a、15b之基板6對向之下面朝向內方(推壓部15a、15b之前端側)略朝下傾斜之狀態，最突出於基板側之推壓部15a、15b之一部份(前端部)強力推壓於基板6之端部而夾持固定成膜用遮罩5和基板6，依此比起在與基板面方向平行之狀態下使推壓部(之成為推壓面之下面)將推壓部以寬廣範圍水平推壓於基板之端部之時，能夠以沿著遮罩本體1之撓曲彎曲形狀至成膜用遮罩5之端部為止的形式重疊固定成膜用遮罩5和基板6。
再者，例如於執行上述成膜用遮罩5和上述基板6之定位時，具備有以成為略水平之方式支撐成為上述成膜用遮罩5之遮罩本體1而未藉由上述保持框2之保持部4所保持之其他一對邊部12的支撐機構時，於藉由定位機構執行成膜用遮罩5和基板6之定位時，能夠消除遮罩本體1之撓曲而執行更精密之定位。
再者，例如於具備有配重構件搬運機構之時，該配重機構搬運機構具有能夠夾持上述配重構件8之靜電夾具機構或是具有能夠與被設置在配重構件8之卡止部16卡合之卡止體17，在略水平狀態保持上述配重構件8而予以搬運，則成為能夠簡易搬運例如鎢片等之搬運較為難對付之配重構件8。
[實施例]
針對本發明之具體實施例，根據第4圖至第14圖予 以說明。
本實施例係屬於一種成膜裝置，具備有成膜用遮罩5，和在重疊該成膜用遮罩5之基板6表面隔著成膜用遮罩5使成膜材料附著而形成所欲圖案之薄膜的成膜手段，其特徵為具備：定位機構，用以使上述成膜用遮罩5和上述基板6相對性移動而執行該成膜用遮罩5和基板6之定位；和第一重疊固定機構，用以重疊固定藉由該定位機構定位之上述成膜用遮罩5和上述基板6，和第二重疊固定機構，用以重疊固定藉由第一重疊固定機構而被重疊固定於上述成膜用遮罩5之上述基板6，和被配設在該基板6之背面側使上述基板6撓曲而令上述基板6密接重疊於上述成膜用遮罩5之薄片狀的配重構件8或是在上述基板6之表面側磁性吸引上述成膜用遮罩5而使上述成膜用遮罩5密接重疊於上述基板6之磁鐵體14。
在本實施例中所使用之成膜用遮罩5係如第4圖、第5圖所示般，屬於由具有容許成膜材料通過之開口圖案的遮罩本體1，和保持該遮罩本體1之保持框2所構成，疊層經上述開口圖案而使上述成膜材料附著之基板6的成膜用遮罩，上述保持框2具備分別沿著上述遮罩本體1之四邊中之相向的一對之邊部3而被配置且分別保持該一對之邊部3的一對保持部4，構成僅藉由該一對保持部4保持上述遮罩本體1，以上述遮罩本體1在藉由上述一對保持部4所保持之上述一對邊部3間由於自重而撓曲，並且上述撓曲量在該一對邊部3之相向方向產生變化之方式，將 該一對邊部3固定於上述一對保持部4而形成。
遮罩本體1為將銦鋼材等之金屬材料當作素材之一般性方形狀之金屬遮罩。該遮罩本體1係由開口圖案(省略圖示)和開口圖案以外之框架部份(省略圖式)所形成，具有配設在成膜裝置內之成膜材料之通過區域的成膜區域，和被設置在該成膜區域之外側(外周)之非成膜區域。
具體而言，在成膜區域之左右各設置成為非成膜區域之耳部9，該耳部9被固定於保持框2之保持部4。並且，耳部9即使連設在遮罩本體1之成膜區域之長邊側、短邊側中之任一側亦可。
保持框2為由銦鋼材等之金屬材料所構成之框體。在本實施型態中，將該框體之對向的一對對向邊部10設定於保持部4。再者，保持部以外之另外一對對向邊部11係被配設成不與遮罩本體1之(未藉由保持部4所保持)另外一對邊部12接觸。該對向邊部10和對向邊部11係經角部而被連設。
該保持框2係以不覆蓋遮罩本體1之成膜區域之方式，使開口部至少大於遮罩本體1之成膜區域，構成遮罩本體1之耳部9被固定於成為保持部4之一對對向邊部10。
在本實施例中，將遮罩本體1之一對邊部3，以不對該遮罩本體1施加張力且遮罩本體1藉由自重自然撓曲之方式，固定於保持框2之一對保持部4。
具體而言，以遮罩本體1還未固定於保持部4略平行 之狀態下的自然最大撓曲量B為基準，以在略平行支撐遮罩本體1之狀態下，將左右之耳部9之一側固定於一方之保持部4，不使另一側之固定位置太近於一側之固定位置時而強制性凹彎曲並且於過遠時不拉伸之方式(不使中央部變形)，適當設定調整該另一側之固定位置而固定於其他保持部4。
該遮罩本體1之一對邊部3(耳部9)和保持部4(對向邊部10)係藉由接合劑而強固接合。
具體而言，框體之一對對向邊部10係接觸整個遮罩本體1之耳部9之全長，藉由接合劑在整個長度方向之略全區域大略一樣地固定該遮罩本體1之耳部9之下面和框體之對向邊部10之上面。
並且，耳部9之下面和對向邊部10之上面即使全面接合亦可，即使僅一部分接合亦可。再者，在本實施例中，雖然耳部9和保持部4係在整個長度方向之略全區域大略一樣地接合，但是即使隔著間隔而接合亦可(即使隔著間隔設置多數接合部份亦可)。再者，並不限於藉由接合劑之接合，即使藉由熔接等之其他方法，將遮罩本體1之邊部3固定於保持部4亦可。
再者，因以張力(拉伸力及推壓力)不作用於遮罩本體1之方式，在不施加張力之狀態下，將上述一對邊部3固定於保持部4，故遮罩本體1在上述一對邊部3(耳部9)間由於自重自然撓曲成成彎曲圓弧形，撓曲量在一對邊部3之對向方向產變化。因此，在本實施例中，以等距 離各離一對邊部3之位置成為撓曲最下點位置，撓曲量成為最大。
並且，撓曲量B因在圖面上為了說明而誇張描畫，但是實際上係非常小，通常對厚度數mm之遮罩本體1為數十~數百μm左右。再者，雖然保持框2之厚度也以撓曲量B為基準而誇張描畫，但是實際上為數mm左右。
再者，在本實施例中，在遮罩本體1中與密接於上述基板表面之背面相反之表面側上，設置與被固定於上述保持部4之一對邊部3大略平行之棒體7，補正上述遮罩本體1之撓曲。
具體而言，上述棒體7為與保持框2相同之銦鋼等之金屬材料製，在上述遮罩本體1中於撓曲之最下點部位置(撓曲量成為最大之位置)設置有1根。
該係因為遮罩本體1之本體中，在與該遮罩本體1之耳部9平行之方向中，於遮罩本體1之撓曲產生不均勻，故由於在不阻礙自然撓曲範圍之程度的重物拉伸撓曲量小之部份而補正撓曲之不均勻之故。藉由該棒體7，遮罩本體1和基板表面之密接性成為更良好。即是，本實施例係構成撓曲量僅在一對邊部3之相向方向變化，撓曲量在平行方向不變化。
並且，在本實施例中，雖然在遮罩本體1之撓曲最下點位置配設1根棒體7，但是並不限定於最下點部，即使配設於其他部位亦可，即使多數根配設亦可。再者，即使藉由棒體7不使遮罩本體1之撓曲形狀變形成彎曲圓弧形 ，而使變形成波狀等之其他形狀亦可。再者，棒體7即使設置於固定於上述保持部4之一對邊部3之對向方向亦可。並且，在上述實施例中，雖然舉出棒體7以作為撓曲補正體之具體例，但是並不限定於此，即使為板狀或網目狀亦可。但是，因不阻礙成膜，故必須以至少不阻塞開口圖案之方式設置在框架部份。
再者，在本實施例中，雖然不施加張力，將遮罩本體1固定於保持部4，但是即使施加張力予以固定亦可(當作所謂的軟張力遮罩亦可)。
本實施例係將以上之構成之成膜用遮罩5(之保持框2)，設置在當作設置於成膜裝置之成膜室內之支撐體13的遮罩保持器上(即使僅有支撐亦可，即使藉由適當固定構件予以固定亦可)，在該成膜用遮罩5上疊層玻璃基板6而重疊固定兩者，並且在該玻璃基板6上疊層具有柔軟性的薄片狀之配重構件8，而藉由該配重構件8強制性使玻璃基板6撓曲而使上述成膜用遮罩5與基板表面密接重疊，並且在配重構件8上疊層能夠將遮罩本體1磁性吸引密接於基板表面之磁鐵體14，藉由該磁鐵體14使成膜用遮罩5和玻璃基板6更加密接重疊(參照第6圖)，重疊固定成膜用遮罩5及基板6和配重構件8以及磁鐵體14，藉由蒸鍍、CVD或是濺鍍等之成膜手段使成膜材料從下方飛濺而在玻璃基板6上執行成膜。
並且，本實施例具備有裝入室、取出室、前處理室、成膜室、遮罩存放室、遮罩清潔室等之多種處理室，和能 夠將基板或是遮罩搬運至各處理室之搬運室。再者，支撐體13即使構成支撐保持框2之下面全表面亦可，但是在本實施例中，係構成僅支撐固定上述一對邊部3之保持部4之下面。
具體說明各部。
上述第一重疊固定機構以及上述第二重疊固定機構係由支撐重疊成膜用遮罩5之基板6之支撐面部的支撐體13，和相對於支撐面部起伏自如地設置在支撐體13之推壓部15a、15b所構成，藉由該支撐體13之支撐面和推壓部15a、15b夾持上述成膜用遮罩5和上述基板6或是上述基板6和上述配重構件8或者上述磁鐵體14，依此構成執行上述成膜用遮罩5和上述基板6之重疊固定或是上述基板6和上述配重構件8或上述磁鐵體14之重疊固定。
具體而言，第一重疊固定機構之推壓部15a以及第二重疊固定機構之推壓部15b係經由絞鏈部(省略圖示)而起伏轉動自如地連設在被豎立設置於上述支撐體13之基部18。再者，推壓部15a、15b係構成相對於被支撐面部支撐之成膜用遮罩之表面方向，能夠豎立成打開90°以上之程度。
該第一重疊固定機構以及第二重疊固定機構之推壓部15a、15b在豎立狀態中，成為與上述基部18大略平行之立起狀態(仰角90°或是大於90°些許之角度)，支撐或是固定於支撐體13之成膜用遮罩5上疊層基板6，構成 可在該基板6上疊層配重構件8或磁鐵體14，並且構成藉由使成為倒伏狀態，可利用支撐體13和推壓部15a、15b夾持成膜用遮罩5和基板6或是該成膜用遮罩5及基板6和配重構件8及磁鐵體14，將兩者予以重疊固定。
具體而言，推壓部15a、15b構成能夠倒伏於與基板面方向非呈平行而係略微俯角方向，即是構成與推壓部15a、15b之基板6相向之下面能夠朝向內方(推壓部15a、15b之前端側)而略微向下傾斜之狀態，且構成強力推壓最突出於基板側之推壓部15a、15b之前端部而至基板6等之端部可以夾持固定例如成膜用遮罩5和基板6(配重構件8以及磁鐵體14也相同)。即是，第一重疊固定機構之推壓部15a和基部18之連設部(鉸鏈部)之位置，設定成至少高於在支撐體13上的成膜用遮罩5和基板6之重疊高度高的位置，第二重疊固定機構之推壓部15b和基部18之連設部(鉸鏈部)之位置，設定成至少高於在支撐體13上之成膜用遮罩5、基板6、配重構件8以及磁鐵體14之配重高度高的位置。
因此，比起在與基板面內方向平行之狀態下使例如推壓部(的成為推壓面之下面)下降而將該推壓部之下面寬廣地推壓至基板之端部之時，能夠以沿著遮罩本體1之撓曲彎曲形狀至成膜用遮罩5等之端部為止的形式，重疊固定成膜用遮罩5和基板6等。即是，解除藉由後述支撐機構支撐其他一對邊部12而使遮罩本體1自然撓曲之時，因應該撓曲，成膜用遮罩5等之端部(較藉由推壓部15a 、15b之前端部被推壓之位置靠近外方端部之部分)僅沿著上述推壓部15a、15b之傾斜下面翹起。因此，能夠以在成膜遮罩5不產生撓曲之曲折點之方式執行上述重疊，能夠使光罩本體1更自然撓曲。
再者，在本實施例中，第一重疊固定機構之推壓部15a和第二重疊固定機構之推壓部15b係以在立起狀態下內外面成為略平頂狀態之方式，設為略相同厚度，上述推壓部15a係在各支撐體13(左右之支撐體13)各設置兩個俯視觀看呈四方形狀之板狀，上述推壓部15b係設為具有上述推壓部15a能夠插通之缺口部19之俯視觀看呈M字形狀之板體，使推壓部15a、15b之起伏動作不會互相干涉，並且雙方在立起狀態下成為上述推壓部15a位於上述推壓部15b之缺口部19而可以儘可能縮小設置空間的構成。
並且，藉由支撐體13和推壓部15a、15b所產生之夾持部位，為設置有保持部4之一側的一對邊部側的靠外側位置，且該保持部4係固定上述遮罩本體1。即是，無固定遮罩本體1之其他一對邊部側(於成膜時)為分離。
再者，本實施例具備有支撐機構，係於執行上述成膜用遮罩5和上述基板6之定位之時，以成為略水平之方式支撐成為上述成膜用遮罩5之遮罩本體1而未藉由上述保持框2之保持部4所保持之其他一對邊部12。
即是，於執行成膜用遮罩5和基板6之定位時，因遮罩本體1撓曲，故於基板6和成膜用遮罩5之撓曲量不同 時，以攝影機20辨認定位用之對準標記而執行定位之時，因有無法執行精密定位之情形，故構成於執行定位作業之時，藉由支撐機構以成為略水平之方式支撐成為遮罩本體1而未藉由保持部4所保持之其他一對邊部12，可以改善上述不佳狀況而良好執行定位。
具體而言，支撐機構係藉由進退自如設置在上下方向之一對支撐體21而構成，該支撐體21係構成於執行定位作業之時，使進出移動至上方，各支撐上述其他一對邊部12，並且於完成定位作業及重疊固定作業之後，退避移動至下方(即是於成膜時退避至不影響成膜之位置)。
作為配重構件8係以具有柔軟性且具有某程度重量之構件為佳。具體而言，採用由鎢和彈性體所構成之鎢片。於使用鎢片之時，基板6藉由該鎢薄片隨著該鎢片之彎曲而彎曲，被推壓至遮罩本體而與該遮罩本體1良好密接(參照第7圖(b))。
該點即使將例如鋁或玻璃等之堅固物質當作配重構件8’，亦如第7圖(a)所示般，不會良好撓曲，無法使基板6’撓曲，基板6’與成膜用遮罩5’之密接性成為不良。並且，配重構件8不僅限於鎢片，亦可以使用氟橡膠或矽片。
再者，當具備配重構件搬運機構時，則能夠容易執行配重構件8之搬運，該配重構件搬運機構具有能夠夾持上述配重構件8之靜電夾具機構或是具有能夠與被設置在配重構件8之卡止部16卡合之卡止體17，一邊將上述配重 構件8保持略水平狀態一邊予以搬運。
具體而言，如第8圖所示般，使用具有與配重構件8大略相同面積或更大之面積的靜電夾具體22而設置靜電夾持配重構件8之靜電夾具機構之時，則如第9圖所示般，自其他室藉由機械手23將配重構件8搬運至成膜室內(第9圖(a))，使OFF狀態之靜電夾具體22下降至配重構件8上(第9圖(b))，使該靜電夾具呈ON以靜電夾具體22夾持配重構件8並使上升(第9圖(c))，藉由使該靜電夾具體22移動搬運配重構件8(第9圖(d))。
再者，如第10圖所示般，在配重構件8之上面多數突出設置具有當作卡止部16之大直徑卡止端部的取手體24，於多數具備該卡止端部和能夠卡止之卡止體17(以取手體24之直徑小軀幹為能夠插通並且直徑大之卡止端部不能夠插通之間隔將一對卡止爪25設置在基體而所構成之搬運用把手)之時，則如第11圖所示般，自其他室藉由機械手23將配重構件8搬運至成膜室內(第11圖(a))，以插通至取手體24之身軀之方式將各卡止體17之卡止爪25插入於卡止端部和配重構件8之上面之間(第11圖(b))，使機械手23下降，使卡止爪25和卡止端部卡止(第11圖(c)，並使該卡止體17移動而搬運配重構件8(第11圖(d))。
再者，作為磁鐵體14採用橡膠磁鐵。此時，成膜用遮罩5、基板6、配重構件8、磁鐵體14各良好撓曲而密 接，為較佳。
並且，在配重構件8以及磁鐵體14於對應於推壓部15a的合計4處上設置有使上述推壓部15a退避之缺口溝。再者，於推壓部15a薄不造成障礙之時，即使在磁鐵體14不設置缺口溝亦可。
作為基板6並不限於玻璃基板6，即使為塑膠或是金屬(箔)等之其他基板同樣可以良好成膜。
針對使用本實施例之基板予以成膜之成膜方法詳細敘述。
在成膜室內之遮罩保持器(在第12圖至第14圖中省略)設置成膜用遮罩5，使支撐機構之支撐體21從退避狀態進出移動至上方而藉由該支撐體支撐成膜用遮罩5之遮罩本體1之其他一對邊部12(第12圖(a))。並且，圖中，符號31為設置在遮罩本體1上面之對準標記。
接著，在藉由支撐體21支撐其他一對邊部12之狀態下，將基板6疊層於成膜用遮罩5之時(第12圖(b))，藉由攝影機20經基板6之窗部26一面辨識對準標記31一面藉由定位機構執行定位使成膜遮罩5和基板6成為適當重疊位置(第12圖(c))。
接著，於執行成膜用遮罩5和基板6之定位作業之後，藉由第一重疊固定機構重疊固定被遮罩保持器支撐之成膜用遮罩5和基板6。具體而言，使第一重疊固定機構之推壓部15a倒伏而利用支撐體13之支撐面部和推壓部15a(之前端部)挾持成膜用遮罩5之保持框2之保持部 4之下面端部和基板6之上面端部而固定兩者(第12圖(d))。
接著，將配重構件8疊層在基板6上(第13圖(a))，接著將磁鐵體14疊層在配重構件8上(第13圖(b))。並且，在配重構件8及磁鐵體14之兩端部設置有缺口27、28以避開重疊固定上述成膜用遮罩5和基板6之第一重疊固定機構之推壓部15a。
接著，藉由第二重疊固定機構重疊固定成膜用遮罩5及基板6和配重構件8及磁鐵體14。具體而言，使第二重疊固定機構之推壓部15b倒伏而利用支撐體13之支撐面部和推壓部15a(之前端部)挾持成膜用遮罩5之保持框2之保持部4之下面端部和基板14之上面端部而固定成膜用遮罩5以及基板6和配重構件8及磁鐵體14(第13圖(c))。
接著，藉由攝影機20經基板6之窗部一面辨識對準標記31，一面執行成膜用遮罩5和基板6是否成為適當重疊位置的確認，並且於需要位置修正之時，藉由定位機構執行適當定位(第13圖(d))。並且，該工程係藉由配重構件8或磁鐵體14，於使成膜用遮罩5及基板6更加密接重疊之時，雖然可能性極小但在成膜用遮罩5和基板6會有產生位置偏離之可能性，其確認係為了更加慎重起見而執行。再者，在位於配重構件8及磁鐵體14之對準標記31之正上方的部位，以不影響對準之方式設置有窗部29、30。
接著，使支撐體21退避移動，在遮罩本體1自然撓曲之狀態下(第14圖)，藉由適當之成膜手段使上述材料飛濺，依此可以藉由因應遮罩開口之圖案在基板6上(基板表面)形成薄膜。
本實施例由於構成上述般，並不係匯集所有成膜用遮罩5、基板6以及配重構件8及磁鐵體14而予以重疊固定，係藉由分成重疊固定依據定位機構之精密定位所需之成膜用遮罩5和基板6之第一重疊固定機構，和在該基板6上重疊固定使被重疊於與成膜用遮罩5重疊固定之基板6上的配重構件8及磁鐵體14的第二重疊固定機構，於將配重構件8及磁鐵體14重疊於基板6之時，則能夠事先重疊固定成膜用遮罩5和基板6，即使配重構件8等接觸於該基板6亦可以確實阻止成膜用遮罩5和基板6自適當重疊位置偏離。
因此，對於使用上述成膜用遮罩5，於將配重構件8或磁鐵體14重疊於基板6上之時，成膜用遮罩5和基板6不會偏離，不會導致成膜圖案之精度劣化或作業性下降，可以更加提升成膜用遮罩5和基板6之密接性，並可容易形成精密之成膜圖案。
依此，本實施例成為能夠一邊確實維持精密定位之基板和遮罩之重疊狀態，一邊良好重疊固定該基板和配重構件或磁鐵體之實用性極優的成膜裝置。
本發明並不限定於本實施例，各構成要件之具體構成能夠適當予以設計。
1‧‧‧遮罩本體
2‧‧‧保持框
3‧‧‧(一對的)邊部
4‧‧‧保持部
5‧‧‧成膜用遮罩
6‧‧‧基板
8‧‧‧配重構件
12‧‧‧(其他一對的)邊部
13‧‧‧支撐體
14‧‧‧磁鐵體
15a、15b‧‧‧推壓部
16‧‧‧卡止部
17‧‧‧卡止體
第1圖為以往之成膜用遮罩之概略說明圖。
第2圖為以往之成膜用遮罩之概略說明圖。
第3圖為第2圖之重要部位之放大概略說明剖面圖。
第4圖為本實施例之成膜用遮罩之遮罩本體之概略說明斜視圖。
第5圖為本實施例之成膜用遮罩之概略說明斜視圖。
第6圖為表示本實施例之成膜用遮罩之使用狀態的概略說明剖面圖。
第7圖為說明由於本實施例之成膜用之配重構件之差異所使得疊層狀態產生差異之概略說明剖面圖。
第8圖為配重構件搬運機構之概略說明斜視圖。
第9圖為說明配重構件搬運機構之使用程序的概略說明圖。
第10圖為配重構件搬運機構之概略說明斜視圖。
第11圖為說明配重構件搬運機構之使用程序的概略說明圖。
第12圖為說明按本實施例之成膜程序的概略說明圖。
第13圖為說明按本實施例之成膜程序的概略說明圖。
第14圖為說明按本實施例之成膜程序的概略說明圖。
1‧‧‧遮罩本體
2‧‧‧保持框
5‧‧‧成膜用遮罩
6‧‧‧基板
8‧‧‧配重構件
14‧‧‧磁鐵體
15a、15b‧‧‧推壓部
18‧‧‧基部
19‧‧‧缺口部
21‧‧‧支撐體
30‧‧‧窗部
31‧‧‧對準標記

Claims (9)

  1. 一種成膜裝置，具備有成膜用遮罩，和在重疊該成膜遮罩之基板表面隔著上述成膜用遮罩使成膜材料附著而形成所欲圖案之薄膜的成膜手段，該成膜裝置之特徵為具備：定位機構，其係用以使上述成膜用遮罩和上述基板相對性移動而執行該成膜用遮罩和基板之定位；和第一重疊固定機構，其係在上述成膜用遮罩之四邊中之相向的一對之邊部，重疊固定藉由該定位機構定位之上述成膜用遮罩和上述基板；和第二重疊固定機構，其係在上述第一重疊固定機構進行重疊固定的上述成膜用遮罩之上述一對之邊部，重疊固定藉由該第一重疊固定機構而被重疊固定於上述成膜用遮罩之上述基板，和被配設在該基板之背面側使上述基板撓曲而令上述基板密接重疊於上述成膜遮罩之薄片狀的配重構件或是在上述基板之表面側磁性吸引上述成膜用遮罩而使上述成膜用遮罩密接重疊於上述基板之磁鐵體。
  2. 如申請專利範圍第1項所記載之成膜裝置，其中，上述成膜用遮罩係由具有容許成膜材料通過之開口圖案的遮罩本體，和保持該遮罩本體之保持框所構成，上述保持框具備分別沿著上述遮罩本體之四邊中之相向的一對之邊部而被配置且分別保持該一對之邊部的一對保持部，構成僅藉由該一對保持部保持上述遮罩本體，以上述遮罩 本體在藉由上述一對保持部所保持之上述一對邊部間由於自重而撓曲，並且上述撓曲量在該一對邊部之相向方向產生變化之方式，將該一對邊部固定於上述一對保持部而形成。
  3. 如申請專利範圍第2項所記載之成膜裝置，其中，具備有支撐重疊上述成膜用遮罩之基板之支撐面部的支撐體，和相對於該支撐體之支撐面部起伏自如的推壓部，藉由該支撐體之支撐面部和推壓部挾持上述成膜用遮罩和上述基板或是上述基板和上述配重構件或者上述磁鐵體，依此以執行上述成膜用遮罩和上述基板之重疊固定或是上述基板和上述配重構件或上述磁鐵體之重疊固定之方式，構成上述第一重疊固定機構或是上述第二重疊固定機構。
  4. 如申請專利範圍第2項所記載之成膜裝置，其中，具備有支撐機構，係於執行上述成膜用遮罩和上述基板之定位之時，以成為略水平之方式分別支撐成為上述成膜用遮罩之遮罩本體而未藉由上述保持框之保持部所保持之其他一對邊部。
  5. 如申請專利範圍第3項所記載之成膜裝置，其中，具備有支撐機構，係於執行上述成膜用遮罩和上述基板之定位之時，以成為略水平之方式分別支撐成為上述成 膜用遮罩之遮罩本體而未藉由上述保持框之保持部所保持之其他一對邊部。
  6. 如申請專利範圍第2項所記載之成膜裝置，其中，具備配重構件搬運機構，該配重構件搬運機構具有能夠夾持上述配重構件之靜電夾具機構或是具有能夠與被設置在該配重構件之卡止部卡合之卡止體，一邊將上述配重構件保持略水平狀態一邊予以搬運。
  7. 如申請專利範圍第3項所記載之成膜裝置，其中，具備配重構件搬運機構，該配重構件搬運機構具有能夠夾持上述配重構件之靜電夾具機構或是具有能夠與被設置在該配重構件之卡止部卡合之卡止體，一邊將上述配重構件保持略水平狀態一邊予以搬運。
  8. 如申請專利範圍第4項所記載之成膜裝置，其中，具備配重構件搬運機構，該配重構件搬運機構具有能夠夾持上述配重構件之靜電夾具機構或是具有能夠與被設置在該配重構件之卡止部卡合之卡止體，一邊將上述配重構件保持略水平狀態一邊予以搬運。
  9. 如申請專利範圍第5項所記載之成膜裝置，其中，具備配重構件搬運機構，該配重構件搬運機構具有能夠夾持上述配重構件之靜電夾具機構或是具有能夠與被設 置在該配重構件之卡止部卡合之卡止體，一邊將上述配重構件保持略水平狀態一邊予以搬運。
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