JP5184808B2 - 露光方法及び露光装置 - Google Patents

露光方法及び露光装置

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本発明は、搬送装置及び露光装置に関し、例えば液晶ディスプレイやプラズマディスプレイ等の大型のフラットパネルディスプレイの基板上にマスクのマスクパターンを露光転写するのに好適な露光技術に関する。
大型の薄形テレビ等に用いられる液晶ディスプレイやプラズマディスプレイ等の大型のフラットパネルディスプレイは、基板上にマスクのパターンを分割逐次露光方式で近接露光転写することで製造される。従来のこの種の分割逐次露光装置としては、例えば、被露光材としての基板より小さいマスクを用い、該マスクをマスクステージで保持すると共に基板をワークステージで保持して両者を近接して対向配置し、この状態でワークステージをマスクに対してステップ移動させて各ステップ毎にマスク側から基板にパターン露光用の光を照射することにより、マスクに描かれた複数のマスクパターンを基板上に露光転写して一枚の基板に複数のディスプレイ等を作成するようにしたものが知られている(特許文献1,2参照)。
特許第2672535号明細書 特開平1−155354号公報
ところで、近接露光転写を行う場合においては、一般的に製品と同寸のパターンを有するマスクを用いている。しかるに、近年の薄形テレビ等はユーザーの嗜好に対応して画面が大型化する傾向があるが、それに応じて基板に露光転写されるパターン領域も大きくなるため、露光転写に用いるマスクも大型のものを用いる必要が生じている。ところが、マスクは大型化するにつれてコストが顕著に増大するという問題がある。加えて、マスクは石英などの脆性材料で形成されることが多く、取り扱いの不備等により破損を招きやすいため、それもコスト高を加速する要因となっている。
これに対し、マスクを細分化してライン状に配置し、基板を一方向に移動させつつ分割して露光を行う新規な分割露光方式が検討されている。かかる露光方式は、基板に形成されるパターンに、ある程度繰り返される部位があることを前提として、これをつなぎ合わせることで大きなパターンを形成できることを利用したものである。このような分割露光方式によれば、高価なマスクを採用する必要はなく、比較的安価なマスクを用いて、基板に大きなパターンを露光転写することができる。
ところで、かかる分割露光方式により露光された基板においては、露光により形成されたパターンのつなぎ目に露光ムラが生じることが確認された。かかる露光ムラは、複数の光源を用いる場合には、光源毎に照度が異なることが原因であり、また単一の光源を用いる場合でも、必ずしもその照度分布が均一にならないこと等が原因と考えられる。
そこで本発明は、かかる従来技術の課題に鑑み、マスクのパターンを分割露光する際に、露光ムラを抑えることができる露光方法及び露光装置を提供することを目的とする。
上述の目的を達成するために、第1の本発明の露光方法は、基板より面積の小さなマスクを前記基板に近接させた状態で、光源から照射された露光光を用いて、前記マスクのパターンをつなげて前記基板に露光する露光方法において、
前記マスクは、前記基板の搬送方向に対して交差するラインを挟んで千鳥状に配置されており、
前記マスクのパターンが露光される露光領域の端部を、それに隣接する露光領域の端部と重ね合わせ、
前記光源と前記マスクとの間の光路内に配置したアパーチャ部材により、前記マスクの一方の端部側と他方の端部側とで露光時間に差を与えるようになっており、これにより重ね合わせる露光領域の端部の露光量を調節することを特徴とする。
更に、第2の本発明の露光装置は、基板より面積の小さなマスクを前記基板に近接させた状態で、光源から照射された露光光を用いて、前記マスクのパターンをつなげて前記基板に露光する露光装置において、
前記マスクは、前記基板の搬送方向に対して交差するラインを挟んで千鳥状に配置されており、
前記マスクのパターンが露光される露光領域の端部を、それに隣接する露光領域の端部と重ね合わす際に、少なくとも前記端部の露光量を調整する露光量調整手段と、
少なくとも前記端部の露光量を検出する検出手段を有し、
前記露光量調整手段は、前記光源と前記マスクとの間の光路内に配置したアパーチャ部材であり、前記検出手段の検出結果に応じて、前記アパーチャ部材により、前記マスクの一方の端部側と他方の端部側とで露光時間に差を与えるようになっていることを特徴とする。
第1の本発明の露光方法によれば、前記マスクのパターンが露光される露光領域の端部を、それに隣接する露光領域の端部と重ね合わすので、つなぎ目における露光量の変化が緩やかとなり、製品上で少なくとも人間の観察したときに、露光ムラに起因する差異を目立たなくさせることができる。尚、露光領域とは、マスクを透過した露光光が照射される基板の領域をいうものとする。
更に、重ね合わされる前記露光領域の端部の露光量を調節すると好ましい。露光量の調整としては、マスクの形状を変えること、スリットを間引くこと、フィルターを用いて光源からの照度を露光領域の端部と中央とで変化させること、照度の異なる複数の光源を用いること、などが考えられる。
第2の本発明の露光装置によれば、前記マスクのパターンが露光される露光領域の端部を、それに隣接する露光領域の端部と重ね合わす際に、少なくとも前記端部の露光量を調整する露光量調整手段を有するので、つなぎ目における露光量の変化が緩やかとなり、製品上で少なくとも人間の観察したときに、露光ムラに起因する差異を目立たなくさせることができる。露光量調整手段としては、マスクの形状を変えること、スリットを間引くこと、フィルターを用いて光源からの照度を露光領域の端部と中央とで変化させること、照度の異なる複数の光源を用いること、などが考えられる。又、露光量の調整は端部に限らず、露光領域全体であって良い。
更に、少なくとも前記端部の露光量を検出する検出手段を有すると、その検出結果に基づいて、より精度良く前記端部の露光量を調整することができる。
以下、図面を参照して、本発明の好適な実施の形態について説明する。図1は、本実施の形態にかかる露光装置の上面図であり、図2は、本実施の形態にかかる露光装置の露光時の状態を示す側面断面図である。尚、以下の実施の形態で、X軸方向とY軸方向とで水平面が規定され、Z軸方向が垂直方向を規定するものとする。
図1において、ベース1上で、大版薄板状の基板Wは基板チャック2により把持され、レール2aに沿って、基板チャック2と共に左から右に移動可能となっている。ベース1上には、基板Wより小面積のマスクMを吸着保持する保持装置10が、搬送ライン(搬送路ともいう)Lを挟んで左側(上流側)に7個、右側(下流側)に6個(計13個)配置されている。保持装置10により保持された基板Wに比較すると小型のマスクMは、搬送ラインLを挟んで千鳥状に交互に配置されるが、後述する理由により隣接して露光される領域の端部同士が重ね合うようにしている。なお、図1においては、左側の7個の保持装置10と、右側の上から3個の保持装置10は、露光位置にあり、右側の下から3個の保持装置10は、マスクの受け渡し位置にある。搬送ラインLの両側に配置された保持装置10により分配装置を構成する。
各保持装置10は、ベース1上でX軸方向となる図2の左右方向(図1の搬送ラインLに対して直交する方向であり、基板WはX軸方向に沿って左から右へと移動するものとする)に不図示のフレームに対して移動可能に配置されたアーム11と、アーム11の先端に配置され、下面にマスクMを吸着保持する保持部12と、アーム11に対して保持部12をZ軸方向(図2でZ軸方向となる上下方向)に駆動するZ軸移動装置13と、ベース1の上面の法線回りに保持部12を回転駆動するθ軸移動装置14と、アーム11に対して保持部12をY軸方向(図2で紙面垂直方向)に駆動するY軸移動装置15とを有する。保持部12は、矩形開口12aを有している。
ベース1には、基板Wの下面に対向して吐出吸引ユニット3を取り付けている。詳細は説明しないが、基板Wは、吐出吸引ユニット3によりベース1に対して浮上して支持される。
本実施の形態の露光装置を用いて行う分割露光動作について説明する。各保持装置10は、マスクストッカMS1からロボットRBTのアームAMを用いて取り出したマスクMを保持しているものとする。まず、不図示の駆動部より、レール2aに沿って、基板チャック2と共に基板Wを左から右に移動する。このとき、吐出吸引ユニット3から基板Wの下面側に空気吐出を行うことにより、基板Wはベース1の上面から浮上した状態でX軸方向により搬送されることになり、基板Wの下面側に傷等が付くことを防止でき、基板Wの下面保護を図ることができる。
基板Wを所定位置に移動させた後、上方の露光ユニットOPUから露光用光ELを投射すると、かかる露光用光ELは、保持装置10により保持されたマスクMを通過し、そのパターンを基板Wに露光転写する。一つのマスクMでの露光転写が終了すると、ワンステップだけ基板Wを移動させた後、同様にして次の露光転写を行うことができる。このとき、基板Wの移動誤差によるパターンのズレは、保持装置10のZ軸移動装置13、θ軸移動装置14,X軸移動装置15、及びZ軸方向に可動のアーム11により、マスクMの位置を微調整することで補正することができる。同様にして、分割露光転写を繰り返し行うことで、基板W全体にパターンの露光を行うことができる。なお、本実施の形態において、搬送ラインLの両側で保持されたマスクMが千鳥状に配置されているので、上流側の列のマスクMを透過して形成されるパターンと、下流側の列のマスクMを透過して形成されるパターンとを、時間差をおいて基板W上に隙間なくつなぎ合わせ、それにより大パターンを形成することができる。又、基板Wを静止させることなく、動かしながら連続して露光することもある。
次に、露光パターンの端部同士を重ね合わせる理由について説明する。図3(a)は、比較例にかかるマスクM1〜M4(ここでは4枚)の配置を光源側から見た図であり、図3(b)は、図3(a)に示すマスクM1〜M4の配置により得られる露光量と位置との関係を示す図である。図4は、実施例にかかるマスクM1〜M4(ここでは4枚)の配置を光源側から見た図である。不図示の基板は、マスクM1〜M4の下方を矢印の方向に通過する。尚、マスクと露光領域とは一対一の関係にあるものとする。
まず、図3(a)に示す比較例においては、隣接する(ここでは千鳥状に隣接の意味、以下同じ)マスクの端部同士が一致するようにして露光を行っている。かかる場合、マスクM1,M3を透過する光量が、マスクM2,M4を通過する光量よりも低い場合、特定の位置(点A、B、C)で急激に変化するようになる。従って、このような露光を行って形成されたパネルを薄形テレビなどに用いた場合、点A、B、Cの位置で、映像の色や明るさなどが急激に変化するため、観察者の目で認識しやすくなり違和感を与える恐れがある。
図4(a)は、実施例にかかるマスクM1〜M4(ここでは4枚)の配置を光源側から見た図であり、図4(b)は、図4(a)に示すマスクM1〜M4の配置により得られる露光量と位置との関係を示す図である。本実施例においては、各マスクの形状を端部側でテーパ状となるようにしている。かかるマスクを用いて露光を行うと、マスクの端部側に向かうにつれて露光量が減少する(図4(b)の点線参照)から、隣接するマスクを透過する露光光を重畳することで、露光領域の端部であっても適切な露光量を得ることができる。
図5は、変形例にかかるマスクの形状を示す図であり、図4に示す実施例と同様に用いることができる。図5(a)において、マスクM1の端部は円弧状に突出しており、それに隣接するマスクM2の端部は円弧状にくぼんでいる。又、図5(b)において、マスクM1の端部は三角形状に突出しており、それに隣接するマスクM2の端部は三角形状にくぼんでいる。更に、図5(c)において、マスクM1は端部に向かうにつれて透過率が漸次減少し、それに隣接するマスクM2も端部に向かうにつれて透過率が漸次減少している。
図6(a)は、別な実施の形態にかかるマスクM1〜M4(ここでは4枚)の配置を光源側から見た図であり、図6(b)は、図6(a)に示すマスクM1〜M4の配置により得られる露光量と位置との関係を示す図であり、図6(c)は、アパーチャ部材の形状を示す図であり、図6(d)は、アパーチャ部材により補正された露光量と位置との関係を示す図である。
本実施の形態では、照射された露光光の照度を検出する検出手段としての照度センサS1〜S8を設けている。このような照度センサS1〜S8は、基板を支持するベース1(図2)の上面に、露光領域の端部に対応して埋設することができる。ここで、不図示の光源の特性や、マスクの透過率のバラツキなどにより、照度センサS3の検出した照度に対して、照度センサS4の検出した照度が顕著に高かった場合、図6(b)に示すように、点Dの位置で露光量が増大し、露光量の過度な変化が生じる場合がある。
そこで、本実施の形態においては、光源とマスクM2との間に、図6(c)に示すようにテーパ形状のアパーチャ部材(露光量調整手段)APを配置して、基板に同期させて移動させる。これによりマスクM2の左側の端部は、時間T1だけ露光され、マスクM2の右側の端部は、時間T2だけ露光され、ここでT1>T2とすれば、図6(d)に示すように、点D(端部)の位置での露光量が低下し、これに隣接するマスクM3にかかる露光領域の露光量に対する変化が小さくなり、同時にマスクM2にかかる露光領域内の露光量のバランスが向上する(露光量が均一となる)こととなる。
尚、露光量調整手段としては、アパーチャ部材に限らず、光源への駆動電流を変化させて照度を調整したり、マスクの開口面積を変えたり、光源とマスクとの間にNDフィルタ、液晶シャッタ等を挿入したりすることもできる。
以上、本発明を実施の形態を参照して説明してきたが、本発明は上記実施の形態に限定して解釈されるべきではなく、適宜変更・改良が可能であることはもちろんである。例えば、露光方式は、スキャン方式、ならい方式など各種の方式が適用できる。
第1の実施の形態にかかる露光装置の上面図である。 第1の実施の形態にかかる露光装置の露光時の状態を示す側面断面図である。 図3(a)は、比較例にかかるマスクM1〜M4(ここでは4枚)の配置を光源側から見た図であり、図3(b)は、図3(a)に示すマスクM1〜M4の配置により得られる露光量と位置との関係を示す図である。 図4(a)は、実施例にかかるマスクM1〜M4(ここでは4枚)の配置を光源側から見た図であり、図4(b)は、図4(a)に示すマスクM1〜M4の配置により得られる露光量と位置との関係を示す図である。 変形例にかかるマスクの形状を示す図であり、図4に示す実施例と同様に用いることができる。 図6(a)は、別な実施の形態にかかるマスクM1〜M4(ここでは4枚)の配置を光源側から見た図であり、図6(b)は、図6(a)に示すマスクM1〜M4の配置により得られる露光量と位置との関係を示す図であり、図6(c)は、アパーチャ部材の形状を示す図であり、図6(d)は、アパーチャ部材により補正された露光量と位置との関係を示す図である。
符号の説明
1 ベース
1a 搬送路
2 基板チャック
2a レール
3 吐出吸引ユニット
4 ユニット本体
5 吐出孔
6 凹溝
7 吸引孔
10 保持装置
11 アーム
12 保持部
12a 矩形開口
12b 下部
13 Z軸移動装置
14 θ軸移動装置
15 Y軸移動装置
30 搬送装置
AM アーム
AP アパーチャ部材
EL 露光用光
H1 配管群
H2 配管群
L 搬送ライン
M、M1〜M4 マスク
MS1 マスクストッカ
MS2 マスクストッカ
OPU 露光ユニット
P1 吐出用ポンプ
P2 吸引用ポンプ
RBT ロボット
S1〜S8 照度センサ
W 基板

Claims (10)

  1. 基板より面積の小さなマスクを前記基板に近接させた状態で、光源から照射された露光光を用いて、前記マスクのパターンをつなげて前記基板に露光する露光方法において、
    前記マスクは、前記基板の搬送方向に対して交差するラインを挟んで千鳥状に配置されており、
    前記マスクのパターンが露光される露光領域の端部を、それに隣接する露光領域の端部と重ね合わせ、
    前記光源と前記マスクとの間の光路内に配置したアパーチャ部材により、前記マスクの一方の端部側と他方の端部側とで露光時間に差を与えるようになっており、これにより重ね合わせる露光領域の端部の露光量を調節することを特徴とする露光方法。
  2. 前記マスクの端部は、テーパ形状であることを特徴とする請求項1に記載の露光方法。
  3. 前記マスクの端部は、円弧形状であることを特徴とする請求項1に記載の露光方法。
  4. 前記マスクの端部は、三角形状であることを特徴とする請求項1に記載の露光方法。
  5. 前記マスクは、端部に向かうに連れて漸次透過率を減少させるようになっていることを特徴とする請求項1に記載の露光方法。
  6. 基板より面積の小さなマスクを前記基板に近接させた状態で、光源から照射された露光光を用いて、前記マスクのパターンをつなげて前記基板に露光する露光装置において、
    前記マスクは、前記基板の搬送方向に対して交差するラインを挟んで千鳥状に配置されており、
    前記マスクのパターンが露光される露光領域の端部を、それに隣接する露光領域の端部と重ね合わす際に、少なくとも前記端部の露光量を調整する露光量調整手段と、
    少なくとも前記端部の露光量を検出する検出手段を有し、
    前記露光量調整手段は、前記光源と前記マスクとの間の光路内に配置したアパーチャ部材であり、前記検出手段の検出結果に応じて、前記アパーチャ部材により、前記マスクの一方の端部側と他方の端部側とで露光時間に差を与えるようになっていることを特徴とする露光装置。
  7. 前記マスクの端部は、テーパ形状であることを特徴とする請求項6に記載の露光装置。
  8. 前記マスクの端部は、円弧形状であることを特徴とする請求項6に記載の露光装置。
  9. 前記マスクの端部は、三角形状であることを特徴とする請求項6に記載の露光装置。
  10. 前記マスクは、端部に向かうに連れて漸次透過率を減少させるようになっていることを請求項6に記載の露光装置。
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