JP2003257811A - 露光方法 - Google Patents
露光方法Info
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- JP2003257811A JP2003257811A JP2002051671A JP2002051671A JP2003257811A JP 2003257811 A JP2003257811 A JP 2003257811A JP 2002051671 A JP2002051671 A JP 2002051671A JP 2002051671 A JP2002051671 A JP 2002051671A JP 2003257811 A JP2003257811 A JP 2003257811A
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- projection
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 光エネルギロスが少なく、感光層の感光度が
均一化された走査露光方法を提供する。 【解決手段】 基板上の投影８は円形であるが、投影８
が重なる領域の位置に、長円形の減光域３ａを設け、部
分的に照度を変化させることにより、基板表面に形成さ
れた感光層の感光度の均一化を可能としている。
均一化された走査露光方法を提供する。 【解決手段】 基板上の投影８は円形であるが、投影８
が重なる領域の位置に、長円形の減光域３ａを設け、部
分的に照度を変化させることにより、基板表面に形成さ
れた感光層の感光度の均一化を可能としている。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、フォトマスクに
描かれたパターンを複数の投影光学系を用いて基板に転
写する走査型の露光方法に関する。
描かれたパターンを複数の投影光学系を用いて基板に転
写する走査型の露光方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】比較的面積の大きな基板にフォトマスク
に描かれたパターンを、投影光学系を用いて基板に転写
する方法として適している走査型の露光方法は、一般的
に複数の等倍正立像の投影光学系が走査方向と直交する
方向に所定の間隔で互いに千鳥状に複数列設けられて走
査露光されるか、または、上記複数の投影光学系を走査
方向と直交する方向に所定の間隔で１列に並べて、一回
目の走査露光を行ない、上記複数の投影光学系を走査方
向と直交する方向に上記所定の間隔の１／２の距離を移
動させて二回目の走査露光を行なうかの何れかである
が、いずれの場合でも、基板面上の隣り合う各投影光学
系による投影領域は、フォトマスクに描かれたパターン
を基板面上に隙間無く転写するために、互いに部分的に
重なるように配置されている。このように配置された個
々の投影光学系は通常円形のレンズを用いているので、
基板面上の投影形状も円形となる。
に描かれたパターンを、投影光学系を用いて基板に転写
する方法として適している走査型の露光方法は、一般的
に複数の等倍正立像の投影光学系が走査方向と直交する
方向に所定の間隔で互いに千鳥状に複数列設けられて走
査露光されるか、または、上記複数の投影光学系を走査
方向と直交する方向に所定の間隔で１列に並べて、一回
目の走査露光を行ない、上記複数の投影光学系を走査方
向と直交する方向に上記所定の間隔の１／２の距離を移
動させて二回目の走査露光を行なうかの何れかである
が、いずれの場合でも、基板面上の隣り合う各投影光学
系による投影領域は、フォトマスクに描かれたパターン
を基板面上に隙間無く転写するために、互いに部分的に
重なるように配置されている。このように配置された個
々の投影光学系は通常円形のレンズを用いているので、
基板面上の投影形状も円形となる。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、投影形
状を円形として互いに部分的に重ねて走査露光を行なう
と、重ねられた部分の光量が異常に増大するため露光に
は適さなかった。このため、投影形状を円形以外の形状
にして光量の均一化を図る方法が考えられるが、光量の
均一化と、露光において究極的に求められる基板表面に
形成された感光層の感光度の均一化とは、必ずしも同一
ではない。
状を円形として互いに部分的に重ねて走査露光を行なう
と、重ねられた部分の光量が異常に増大するため露光に
は適さなかった。このため、投影形状を円形以外の形状
にして光量の均一化を図る方法が考えられるが、光量の
均一化と、露光において究極的に求められる基板表面に
形成された感光層の感光度の均一化とは、必ずしも同一
ではない。
【０００４】すなわち、前述のように投影領域が重なら
ない部分は一回の露光であり、投影領域が重なる部分
は、時間をおいて二回露光されることになる。この場
合、光量の均一化として考えれば、二回露光は一回露光
の光量の１／２となるが、二回露光では、基板表面に形
成された感光層の光合成が二回に分けて行なわれるた
め、感光層の感光度が一回露光とは異なる。このため、
光量の均一化だけでは、フォトマスクに描かれたパター
ンを基板面上に忠実に転写することができない問題があ
った。
ない部分は一回の露光であり、投影領域が重なる部分
は、時間をおいて二回露光されることになる。この場
合、光量の均一化として考えれば、二回露光は一回露光
の光量の１／２となるが、二回露光では、基板表面に形
成された感光層の光合成が二回に分けて行なわれるた
め、感光層の感光度が一回露光とは異なる。このため、
光量の均一化だけでは、フォトマスクに描かれたパター
ンを基板面上に忠実に転写することができない問題があ
った。
【０００５】したがって、この発明は上記問題を改善
し、少なくとも投影領域が重ならない部分と、投影領域
が重なる部分とで光量を変えて、感光層の感光度を均一
化することが可能な、露光方法を提供することを目的と
する。
し、少なくとも投影領域が重ならない部分と、投影領域
が重なる部分とで光量を変えて、感光層の感光度を均一
化することが可能な、露光方法を提供することを目的と
する。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明においては、フォトマスクと感光層が表面に
形成された基板とを平行で、かつ、間隔を空けて対向す
る位置に配置し、上記フォトマスクと上記基板との間に
複数の投影光学系を設け、複数の上記投影光学系に対し
て、上記フォトマスクと上記基板とが予め位置合せされ
た状態を保持して、一定方向に所定速度で相対移動させ
ながら、上記フォトマスクの基板側と反対側から投影光
学系に向かって光を照射することによって上記フォトマ
スクに描かれたパターンを上記基板に投影して転写する
走査露光を行なう露光方法であって、上記走査露光で、
上記基板表面に形成された上記感光層の感光度を均一化
するために、上記各投影光学系の投影領域内の全域、ま
たは、部分的領域の光量を変化させて走査露光を行なう
ことを特徴とする。
め、本発明においては、フォトマスクと感光層が表面に
形成された基板とを平行で、かつ、間隔を空けて対向す
る位置に配置し、上記フォトマスクと上記基板との間に
複数の投影光学系を設け、複数の上記投影光学系に対し
て、上記フォトマスクと上記基板とが予め位置合せされ
た状態を保持して、一定方向に所定速度で相対移動させ
ながら、上記フォトマスクの基板側と反対側から投影光
学系に向かって光を照射することによって上記フォトマ
スクに描かれたパターンを上記基板に投影して転写する
走査露光を行なう露光方法であって、上記走査露光で、
上記基板表面に形成された上記感光層の感光度を均一化
するために、上記各投影光学系の投影領域内の全域、ま
たは、部分的領域の光量を変化させて走査露光を行なう
ことを特徴とする。
【０００７】この露光方法によれば、投影領域が重なら
ない部分と、投影領域が重なる部分とにおいて、各投影
光学系の投影領域内の全域、または、部分的領域の光量
を変えて走査露光を行ない、基板上に設けられた感光層
の感光度の均一化を図るように走査露光を行なってい
る。その結果、フォトマスクに描かれたパターンを基板
面上に忠実に転写することを可能としている。
ない部分と、投影領域が重なる部分とにおいて、各投影
光学系の投影領域内の全域、または、部分的領域の光量
を変えて走査露光を行ない、基板上に設けられた感光層
の感光度の均一化を図るように走査露光を行なってい
る。その結果、フォトマスクに描かれたパターンを基板
面上に忠実に転写することを可能としている。
【０００８】なお、上記露光方法においてさらに好まし
い作用効果を得るために、以下に示す方法の採用も可能
である。好ましくは、上記走査露光で、上記基板表面に
形成された上記感光層の感光度を均一化するために、上
記投影領域を円形以外の形状として走査露光を行なう。
い作用効果を得るために、以下に示す方法の採用も可能
である。好ましくは、上記走査露光で、上記基板表面に
形成された上記感光層の感光度を均一化するために、上
記投影領域を円形以外の形状として走査露光を行なう。
【０００９】また、好ましくは、上記フォトマスクの基
板側と反対側から前記投影光学系に向かって光を照射す
る光の光源を含む投影光学系に、減光板または減光ミラ
ーを設けて、前記各投影光学系の投影領域内の全域、ま
たは、部分的領域の照度を変化させる。
板側と反対側から前記投影光学系に向かって光を照射す
る光の光源を含む投影光学系に、減光板または減光ミラ
ーを設けて、前記各投影光学系の投影領域内の全域、ま
たは、部分的領域の照度を変化させる。
【００１０】また、好ましくは、上記複数の投影光学系
を、走査方向と直交する方向に所定の間隔で互いに千鳥
状に２列設ける。
を、走査方向と直交する方向に所定の間隔で互いに千鳥
状に２列設ける。
【００１１】また、好ましくは、上記複数の投影光学系
を走査方向と直交する方向に所定の間隔で互いに千鳥状
に２列設けた内、いずれか一列の上記各投影領域内の光
量を変化させて走査露光を行なう。
を走査方向と直交する方向に所定の間隔で互いに千鳥状
に２列設けた内、いずれか一列の上記各投影領域内の光
量を変化させて走査露光を行なう。
【００１２】また、好ましくは、上記複数の投影光学系
を、走査方向と直交する方向に所定間隔で１列に並べ
て、１回目の走査露光を行ない、上記複数の投影光学系
を走査方向と直交する方向に上記所定間隔の１／２の距
離を移動させて２回目の走査露光を行なう。
を、走査方向と直交する方向に所定間隔で１列に並べ
て、１回目の走査露光を行ない、上記複数の投影光学系
を走査方向と直交する方向に上記所定間隔の１／２の距
離を移動させて２回目の走査露光を行なう。
【００１３】また、好ましくは、上記１回目の走査露光
および上記２回目の走査露光のいずれか一方の走査露光
においては、上記各投影領域の光量を変化させずに走査
露光を行ない、いずれか他方の走査露光においては、上
記各投影領域の光量を変化させて走査露光を行なう。
および上記２回目の走査露光のいずれか一方の走査露光
においては、上記各投影領域の光量を変化させずに走査
露光を行ない、いずれか他方の走査露光においては、上
記各投影領域の光量を変化させて走査露光を行なう。
【００１４】
【発明の実施の形態】以下、この発明に基づいた走査型
の露光方法について、図１および図２を参照しながら説
明する。なお、図１は、本実施の形態における走査露光
方法の一例を示す平面模式図であり、図２はその側面模
式図である。
の露光方法について、図１および図２を参照しながら説
明する。なお、図１は、本実施の形態における走査露光
方法の一例を示す平面模式図であり、図２はその側面模
式図である。
【００１５】この走査型露光方法においては、両図を参
照して、照射光７、減光板３を含む複数の投影光学系４
は、走査方向Ｘと直交するＹ方向に所定の間隔で１列に
並べられて固定されている。フォトマスク１と感光層が
表面に形成された基板２とは、上記投影光学系４を間に
挟んだ状態で、走査露光に十分な距離を、Ｘ方向に移動
可能とし、かつ、Ｙ方向にも移動可能としている。
照して、照射光７、減光板３を含む複数の投影光学系４
は、走査方向Ｘと直交するＹ方向に所定の間隔で１列に
並べられて固定されている。フォトマスク１と感光層が
表面に形成された基板２とは、上記投影光学系４を間に
挟んだ状態で、走査露光に十分な距離を、Ｘ方向に移動
可能とし、かつ、Ｙ方向にも移動可能としている。
【００１６】フォトマスク１と基板２とは平行で、か
つ、間隔を空けて対向する位置に配置され、フォトマス
ク１の位置合せマーク５と、基板２の位置合せマーク６
とによって、両者は予め位置合せされている。
つ、間隔を空けて対向する位置に配置され、フォトマス
ク１の位置合せマーク５と、基板２の位置合せマーク６
とによって、両者は予め位置合せされている。
【００１７】まず、フォトマスク１と基板２とが位置合
せされた状態を保持して、両者を−Ｘ方向（図１中左方
向）に一定速度で移動させて投影光学系３を通過させ、
１回目の走査露光を行なう。次に、フォトマスク１と基
板２とを投影光学系間隔（Ｌ）の１／２の距離（Ｌ／
２）を−Ｙ方向に移動させた後、Ｘ方向に一定速度で移
動させて投影光学系３を通過させ、２回目の走査露光を
行なう。
せされた状態を保持して、両者を−Ｘ方向（図１中左方
向）に一定速度で移動させて投影光学系３を通過させ、
１回目の走査露光を行なう。次に、フォトマスク１と基
板２とを投影光学系間隔（Ｌ）の１／２の距離（Ｌ／
２）を−Ｙ方向に移動させた後、Ｘ方向に一定速度で移
動させて投影光学系３を通過させ、２回目の走査露光を
行なう。
【００１８】この走査露光においては、減光板３を使用
することによって、投影領域内の全域、または、部分的
領域の照度を変化させることにより、基板２の表面に形
成された感光層の感光度の均一化を可能とする結果、光
エネルギロスの少ない走査露光を実現し、２回の走査露
光によってフォトマスク１に描かれたパターンを、基板
２の所定全域にわたり転写することが可能となる。
することによって、投影領域内の全域、または、部分的
領域の照度を変化させることにより、基板２の表面に形
成された感光層の感光度の均一化を可能とする結果、光
エネルギロスの少ない走査露光を実現し、２回の走査露
光によってフォトマスク１に描かれたパターンを、基板
２の所定全域にわたり転写することが可能となる。
【００１９】次に、図３（Ａ），（Ｂ），（Ｃ）に、走
査方向（図中の矢印方向）と直交する方向に所定の間隔
で互いに千鳥状に２列設けた複数の投影光学系４による
基板２上の投影８と光量の関係を示す図である。図３
（Ａ）は、基板上の投影８が円形であり、走査露光する
と重なった領域の光量が相当大きくなっている（領域
Ａ）。図３（Ｂ）は、基板上の投影８は円形であるが、
投影８が重なる投影領域の一部分に、長円形の減光域３
ａを設け、部分的に照度を減じさせた場合を示してい
る。図３（Ｃ）は、上記（Ｂ）の場合と同様に、長円形
の減光域３ａを設けた場合の光量分布を示しているが、
減光域３ａの面積または減光率を変えることにより、上
記（Ｂ）の場合よりも、投影８が重なる投影領域の照度
を部分的に増加（上記（Ａ）の場合よりも小さい）させ
た場合を示している。
査方向（図中の矢印方向）と直交する方向に所定の間隔
で互いに千鳥状に２列設けた複数の投影光学系４による
基板２上の投影８と光量の関係を示す図である。図３
（Ａ）は、基板上の投影８が円形であり、走査露光する
と重なった領域の光量が相当大きくなっている（領域
Ａ）。図３（Ｂ）は、基板上の投影８は円形であるが、
投影８が重なる投影領域の一部分に、長円形の減光域３
ａを設け、部分的に照度を減じさせた場合を示してい
る。図３（Ｃ）は、上記（Ｂ）の場合と同様に、長円形
の減光域３ａを設けた場合の光量分布を示しているが、
減光域３ａの面積または減光率を変えることにより、上
記（Ｂ）の場合よりも、投影８が重なる投影領域の照度
を部分的に増加（上記（Ａ）の場合よりも小さい）させ
た場合を示している。
【００２０】また、図３（Ｂ），（Ｃ）に示すように、
図３（Ａ）の場合と比較して、投影８が重なる領域で光
量をコントロールできることが示されている。
図３（Ａ）の場合と比較して、投影８が重なる領域で光
量をコントロールできることが示されている。
【００２１】次に、図４（Ａ），（Ｂ），（Ｃ）は、図
１に示した減光板３の光量分布を変化させるための減光
域３ａの形状を示す例である。図３（Ａ）で示したよう
に、円形投影領域が部分的に重なる領域において光量が
大きくなるが、この部分を主に減光することによって、
一度露光と二度露光とによっても、感光層の感光度の均
一化を可能としている。なお、減光域３ａの減光率は、
いずれも３０〜６０％が望ましい。
１に示した減光板３の光量分布を変化させるための減光
域３ａの形状を示す例である。図３（Ａ）で示したよう
に、円形投影領域が部分的に重なる領域において光量が
大きくなるが、この部分を主に減光することによって、
一度露光と二度露光とによっても、感光層の感光度の均
一化を可能としている。なお、減光域３ａの減光率は、
いずれも３０〜６０％が望ましい。
【００２２】図４（Ａ）に示す減光域３ａは、図３
（Ｂ）に示す減光域３ａの形状と同じ長円形を示し、図
４（Ｂ）に示す減光域３ａは、円を重ねた形状を示し、
図４（Ｃ）に示す減光域３ａは、減光域３ａを設けると
ともに、投影８を円形以外の形状にした例を示す。この
ように、本実施の形態においては、投影領域の光量を変
化させて、基板２の表面に形成された感光層の感光度の
均一化を図っている。なお、投影領域を円形以外の形状
として走査露光してもよい。
（Ｂ）に示す減光域３ａの形状と同じ長円形を示し、図
４（Ｂ）に示す減光域３ａは、円を重ねた形状を示し、
図４（Ｃ）に示す減光域３ａは、減光域３ａを設けると
ともに、投影８を円形以外の形状にした例を示す。この
ように、本実施の形態においては、投影領域の光量を変
化させて、基板２の表面に形成された感光層の感光度の
均一化を図っている。なお、投影領域を円形以外の形状
として走査露光してもよい。
【００２３】また、投影領域内の照度を変化させる方法
として、フォトマスクの基板側と反対側から投影光学系
に向かって光を照射する光の光源を含む投影光学系に、
減光板または減光ミラーを設けてもよい。さらに、投影
領域内の減光される部分の減光率を変えてもよい。
として、フォトマスクの基板側と反対側から投影光学系
に向かって光を照射する光の光源を含む投影光学系に、
減光板または減光ミラーを設けてもよい。さらに、投影
領域内の減光される部分の減光率を変えてもよい。
【００２４】また、複数の投影光学系を走査方向と直交
する方向に所定の間隔で互いに千鳥状に２列設けて、走
査露光を１回とすることも可能であり、図１に示したよ
うに、複数の投影光学系を走査方向と直交する方向に所
定の間隔で１列に並べ、フォトマスクと基板とを投影光
学系に対して走査させて１回目の走査露光を行ない、次
に、フォトマスクと基板とを複数の投影光学系に対して
走査方向と直交する方向に所定間隔の１／２の距離を移
動させて同様に２回目の走査露光を行なってもよい。ま
た、複数の投影光学系を走査方向と直交する方向に所定
の間隔で互いに千鳥状に２列設けた内、いずれか一列の
各投影領域内の光量を変化させて走査露光を行なうこと
も可能である。
する方向に所定の間隔で互いに千鳥状に２列設けて、走
査露光を１回とすることも可能であり、図１に示したよ
うに、複数の投影光学系を走査方向と直交する方向に所
定の間隔で１列に並べ、フォトマスクと基板とを投影光
学系に対して走査させて１回目の走査露光を行ない、次
に、フォトマスクと基板とを複数の投影光学系に対して
走査方向と直交する方向に所定間隔の１／２の距離を移
動させて同様に２回目の走査露光を行なってもよい。ま
た、複数の投影光学系を走査方向と直交する方向に所定
の間隔で互いに千鳥状に２列設けた内、いずれか一列の
各投影領域内の光量を変化させて走査露光を行なうこと
も可能である。
【００２５】さらに、上記複数の投影光学系を、走査方
向と直交する方向に所定の間隔で１列に並べ、各投影領
域の光量を変化させずにフォトマスクと基板とを投影光
学系に対して走査させて１回目の走査露光を行ない、フ
ォトマスクと基板とを複数の投影光学系に対して走査方
向と直交する方向に上記所定間隔の１／２の距離を移動
させ、各投影領域の光量を変化させて同様に２回目の走
査露光を行なうことも可能である。なお、１回目の走査
露光において各投影領域の光量を変化させ、２回目の走
査露光において、各投影領域の光量を変化させない走査
露光の採用も可能である。
向と直交する方向に所定の間隔で１列に並べ、各投影領
域の光量を変化させずにフォトマスクと基板とを投影光
学系に対して走査させて１回目の走査露光を行ない、フ
ォトマスクと基板とを複数の投影光学系に対して走査方
向と直交する方向に上記所定間隔の１／２の距離を移動
させ、各投影領域の光量を変化させて同様に２回目の走
査露光を行なうことも可能である。なお、１回目の走査
露光において各投影領域の光量を変化させ、２回目の走
査露光において、各投影領域の光量を変化させない走査
露光の採用も可能である。
【００２６】（作用・効果）以上、本実施の形態によれ
ば、少なくとも投影領域が重ならない部分と、投影領域
が重なる部分とにおいて、各投影光学系の投影領域内の
全域、または、部分的領域の光量を変えて走査露光を行
なうことで、基板上に設けられた感光層の感光度の均一
化を図ることを可能としている。その結果、フォトマス
クに描かれたパターンを基板面上に忠実に転写すること
を可能とし、光エネルギロスが少なく、高精度の走査型
の露光を実現することが可能となる。
ば、少なくとも投影領域が重ならない部分と、投影領域
が重なる部分とにおいて、各投影光学系の投影領域内の
全域、または、部分的領域の光量を変えて走査露光を行
なうことで、基板上に設けられた感光層の感光度の均一
化を図ることを可能としている。その結果、フォトマス
クに描かれたパターンを基板面上に忠実に転写すること
を可能とし、光エネルギロスが少なく、高精度の走査型
の露光を実現することが可能となる。
【００２７】なお、今回開示された実施の形態はすべて
の点で例示であって制限的なものではないと考えられる
べきである。本発明の範囲は上記した説明ではなくて特
許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の
意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意
図される。
の点で例示であって制限的なものではないと考えられる
べきである。本発明の範囲は上記した説明ではなくて特
許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の
意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意
図される。
【００２８】
【発明の効果】この発明に基づいた露光方法によれば、
走査型の露光方法において、光エネルギロスが少なく、
感光層の感光度の均一化が図られ、高精度の走査型の露
光を実現することが可能となる。
走査型の露光方法において、光エネルギロスが少なく、
感光層の感光度の均一化が図られ、高精度の走査型の露
光を実現することが可能となる。
【図１】 本実施の形態における走査露光方法の一例を
示す平面模式図である。
示す平面模式図である。
【図２】 本実施の形態における走査露光方法の一例を
示す側面模式図である。
示す側面模式図である。
【図３】 （Ａ），（Ｂ），（Ｃ）は、走査方向と直交
する方向に所定の間隔で互いに千鳥状に２列設けた複数
の投影光学系４による基板２上の投影８と光量の関係を
示す図である。
する方向に所定の間隔で互いに千鳥状に２列設けた複数
の投影光学系４による基板２上の投影８と光量の関係を
示す図である。
【図４】 （Ａ），（Ｂ），（Ｃ）は、図１に示した減
光板３の減光域３ａの形状を示す平面図である。
光板３の減光域３ａの形状を示す平面図である。
１ フォトマスク、２ 基板、３ 減光板、３ａ 減光
域、４ 投影光学系、５，６ 位置合せマーク、７ 照
射光。
域、４ 投影光学系、５，６ 位置合せマーク、７ 照
射光。
Claims (7)
- 【請求項１】 フォトマスクと感光層が表面に形成され
た基板とを平行で、かつ、間隔を空けて対向する位置に
配置し、前記フォトマスクと前記基板との間に複数の投
影光学系を設け、複数の前記投影光学系に対して、前記
フォトマスクと前記基板とが予め位置合せされた状態を
保持して、一定方向に所定速度で相対移動させながら、
前記フォトマスクの基板側と反対側から投影光学系に向
かって光を照射することによって前記フォトマスクに描
かれたパターンを前記基板に投影して転写する走査露光
を行なう露光方法であって、 前記走査露光で、前記基板表面に形成された前記感光層
の感光度を均一化するために、前記各投影光学系の投影
領域内の全域、または、部分的領域の光量を変化させて
走査露光を行なうことを特徴とする、露光方法。 - 【請求項２】 前記走査露光で、前記基板表面に形成さ
れた前記感光層の感光度を均一化するために、前記投影
領域を円形以外の形状として走査露光を行なうことを特
徴とする、請求項１に記載の露光方法。 - 【請求項３】 前記フォトマスクの基板側と反対側から
前記投影光学系に向かって光を照射する光の光源を含む
投影光学系に、減光板または減光ミラーを設けて、前記
各投影光学系の投影領域内の全域、または、部分的領域
の照度を変化させることを特徴とする、請求項１または
２に記載の露光方法。 - 【請求項４】 前記複数の投影光学系を、走査方向と直
交する方向に所定の間隔で互いに千鳥状に２列設けたこ
とを特徴とする、請求項１〜３のいずれかに記載の露光
方法。 - 【請求項５】 前記複数の投影光学系を走査方向と直交
する方向に所定の間隔で互いに千鳥状に２列設けた内、
いずれか一列の前記各投影領域内の光量を変化させて走
査露光を行なう、請求項４に記載の露光方法。 - 【請求項６】 前記複数の投影光学系を、走査方向と直
交する方向に所定間隔で１列に並べて、１回目の走査露
光を行ない、前記複数の投影光学系を走査方向と直交す
る方向に前記所定間隔の１／２の距離を移動させて２回
目の走査露光を行なう、請求項１〜３のいずれかに記載
の露光方法。 - 【請求項７】 前記１回目の走査露光および前記２回目
の走査露光のいずれか一方の走査露光においては、前記
各投影領域の光量を変化させずに走査露光を行ない、い
ずれか他方の走査露光においては、前記各投影領域の光
量を変化させて走査露光を行なう、請求項６に記載の露
光方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002051671A JP2003257811A (ja) | 2002-02-27 | 2002-02-27 | 露光方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002051671A JP2003257811A (ja) | 2002-02-27 | 2002-02-27 | 露光方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003257811A true JP2003257811A (ja) | 2003-09-12 |
Family
ID=28663587
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002051671A Withdrawn JP2003257811A (ja) | 2002-02-27 | 2002-02-27 | 露光方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2003257811A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008256810A (ja) * | 2007-04-03 | 2008-10-23 | Nsk Ltd | 露光方法及び露光装置 |
-
2002
- 2002-02-27 JP JP2002051671A patent/JP2003257811A/ja not_active Withdrawn
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008256810A (ja) * | 2007-04-03 | 2008-10-23 | Nsk Ltd | 露光方法及び露光装置 |
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Legal Events
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|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
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