JP2007033953A - 露光装置 - Google Patents

Abstract

【課題】
様々な状況に応じてマスクを安定して保持できる露光装置を提供する
【解決手段】
マスク保持部ＭＨを基板保持部ＷＨから離隔させるように動作させると、薄いマスクＭは、間に介在する気体の圧力と慣性によりその中央が下方にたわむように変形する。そこで、マスク保持部ＭＨの移動に応じて正圧ポンプＰ＋から気体（空気）を供給し、ノズルＮのノズル孔ＮＡを介して吐出させる。その空気の圧力により、マスクＭの中央下面が上方に押し上げられるように変形し、より安定した状態でのマスクＭの移動が実現できる。又、ノズルＮのノズル孔ＮＡを介して吐出された気体は、基板Ｗ又は基板保持部ＷＨに近接する壁ＷＬによりシールされ、すなわちノズルから吐出した気体が外方に漏れ出ることが抑制されているので、マスクＭの変形抑制効果を高めることができる。
【選択図】 図１

Description

本発明は、例えば液晶ディスプレイやプラズマディスプレイ等の大型のフラットパネルディスプレイの基板上にマスクのマスクパターンを分割逐次露光方式で近接（プロキシミティ）露光転写するのに好適な露光装置に関する。

大型の薄形テレビ等に用いられる液晶ディスプレイやプラズマディスプレイ等の大型のフラットパネルディスプレイは、基板上にマスクのパターンを分割逐次露光方式で近接露光転写することで製造される。従来のこの種の分割逐次露光装置としては、例えば、被露光材としての基板より小さいマスクを用い、該マスクをマスクステージで保持すると共に基板をワークステージで保持して両者を近接して対向配置し、この状態でワークステージをマスクに対してステップ移動させて各ステップ毎にマスク側から基板にパターン露光用の光を照射することにより、マスクに描かれた複数のマスクパターンを基板上に露光転写して一枚の基板に複数のディスプレイ等を作成するようにしたものが知られている。

ところで、近接露光転写を行う場合の１つの問題は、マスクの厚さがその面積に対して薄いので、マスクの移動時に慣性や気圧の変化に起因する撓みが生じやすいということである。従って、撓みが収まるまで露光動作を行うことができず、露光工程に時間がかかる恐れがある。

これに対し、特許文献１に示す露光装置においては、複数のエアー孔から加圧された空気を吐出させ、マスクを浮上させることで、マスクの安定保持を実現している。
特開２０００−１７３８９８号公報

しかしながら、特許文献１の技術では、様々な状況に対して必ずしもマスクを安定して保持することができないという問題がある。

そこで本発明は、かかる従来技術の問題点に鑑み、様々な状況に応じてマスクを安定して保持できる露光装置を提供することを目的とする。

第１の本発明の露光装置は、パターンを形成したマスクを保持するマスク保持部と、基板を保持する基板保持部とを有し、光源からの光を前記マスクに照射することにより、前記パターンを前記基板に露光する露光装置において、
前記マスクの周囲から前記マスクと前記基板との間に気体を吐出するノズルと、前記ノズルより外側に配置され前記マスクの周囲を覆うシール手段とを有することを特徴とする。

本発明について、図１を参照して説明する。図１は、本発明の一例にかかる露光装置の要部断面図である。図において、露光装置は、パターンを形成したマスクＭを保持するマスク保持部ＭＨと、その下方に平行に設けられ、基板Ｗを保持する基板保持部ＷＨとを有し、図で上方に位置する不図示の光源からの光を、マスク保持部ＭＨに形成された開口Ａを介してマスクＭに照射することにより、そのパターンを基板Ｗに露光するようになっている。

ここで、マスク保持部ＭＨは、開口Ａの周囲に複数の気体供給路ＳＰを形成している。気体供給路ＳＰの上端は、外部の正圧ポンプＰ＋に接続されており、その下端は、ノズルＮのノズル孔ＮＡに接続されている。ノズルＮのノズル孔ＮＡの外方には、基板Ｗ又は基板保持部ＷＨに近接する位置まで延在する壁ＷＬが形成されている。壁ＷＬがシール手段を構成する。

例えば、マスク保持部ＭＨを基板保持部ＷＨから離隔させるように動作させると、薄いマスクＭは、間に介在する気体の圧力と慣性によりその中央が下方にたわむように変形する。そこで、図１にかかる例では、マスク保持部ＭＨの移動に応じて正圧ポンプＰ＋から気体（空気）を供給し、ノズルＮのノズル孔ＮＡを介して吐出させる。その空気の圧力により、マスクＭの中央下面が上方に押し上げられるように変形し、より安定した状態でのマスクＭの移動が実現できる。又、ノズルＮのノズル孔ＮＡを介して吐出された気体は、基板Ｗ又は基板保持部ＷＨに近接する壁ＷＬによりシールされ、すなわちノズルから吐出した気体が外方に漏れ出ることが抑制されているので、マスクＭの変形抑制効果を高めることができる。

なお、シール手段としては、気体カーテンなどの非接触タイプでも良いし、接触式シールのようなものでも良いし、両者の組み合わせでも良い。更に、シール手段には部分的に切れ目があっても良い。

第２の本発明の露光装置は、パターンを形成したマスクを保持するマスク保持部と、基板を保持する基板保持部とを有し、光源からの光を前記マスクに照射することにより、前記パターンを前記基板に露光する露光装置において、
前記マスクの周囲から前記マスクと前記基板との間に気体を吐出する気体供給部を溝状とすることを特徴とする。

本発明について、図２を参照して説明する。図２（ａ）は、比較例として示す従来技術のマスク保持部の下面を示す図であり、図２（ｂ）は、本発明の一例にかかる露光装置のマスク保持部の下面を示す図であり、図２（ｃ）は、図２（ｂ）の構成をIIC-IIC線で切断して矢印方向に見た図である。図１と同様に、本発明の一例にかかる露光装置は、パターンを形成したマスクＭを保持するマスク保持部ＭＨと、その下方に平行に設けられ、基板Ｗを保持する基板保持部ＷＨとを有し、図で上方に位置する不図示の光源からの光を、マスク保持部ＭＨに形成された開口Ａを介してマスクＭに照射することにより、そのパターンを基板Ｗに露光するようになっている。

ここで、図２（ａ）に示すように、マスク保持部ＭＨにおいてマスクＭの周囲に気体の吐出孔ＮＡが周期的に配置された構成であると、隣接する吐出孔ＮＡの間から、吐出された気体が外部に洩れだしてしまい、マスクＭの下面の気体圧力を効果的に高めることができない。これに対し、図２（ｂ）に示すように、マスク保持部ＭＨにおいて、マスクＭの周囲からマスクＭと基板Ｗとの間に気体を吐出する気体供給部ＳＧを、溝状（マスクＭの周囲に連続的であると好ましいが、何カ所かで不連続でも良い）とすると、気体供給路ＳＰを介して外部から供給された気体を気体供給部ＳＧから吐出する際に、吐出された気体が外部に洩れだすことが抑制され、マスクＭの変形抑制効果を高めることができる。

第３の本発明の露光装置は、パターンを形成したマスクを保持するマスク保持部と、基板を保持する基板保持部とを有し、光源からの光を前記マスクに照射することにより、前記パターンを前記基板に露光する露光装置において、
前記マスクの周囲から前記マスクと前記基板との間に気体を吐出する複数のノズルを設けており、少なくとも１つのノズルの気体吐出方向は、他のノズルの気体吐出方向に対して異なっていることを特徴とする。

本発明について、図３を参照して説明する。図３は、本発明の一例にかかる露光装置の要部断面図である。図において、露光装置は、パターンを形成したマスクＭを保持するマスク保持部ＭＨと、その下方に平行に設けられ、基板Ｗを保持する基板保持部ＷＨとを有し、図で上方に位置する不図示の光源からの光を、マスク保持部ＭＨに形成された開口Ａを介してマスクＭに照射することにより、そのパターンを基板Ｗに露光するようになっている。

ここで、マスク保持部ＭＨは、開口Ａの周囲に複数の気体供給路ＳＰ１，ＳＰ２を形成している。気体供給路ＳＰ１，ＳＰ２の上端は、外部の正圧ポンプＰ＋に接続されており、その下端はノズルＮ１，Ｎ２に接続されている。ノズルＮ１，Ｎ２は、内部が気体供給路ＳＰ１，ＳＰ２に連通した、開口Ａを取り巻いてなる中空の部材からなり、それぞれノズル孔ＮＡ１，ＮＡ２を有している。図３に示すように、内側に配置されたノズルＮ１のノズル孔ＮＡ１は、マスクＭと基板Ｗの間に内側に斜めに向いており、外側に配置されたノズルＮ２のノズル孔ＮＡ２は、基板Ｗに直交する方向に向いている。即ち、１つのノズルＮ１の気体吐出方向は、他のノズルＮ２の気体吐出方向に対して異なっている。

図３にかかる例では、マスク保持部ＭＨの移動に応じて正圧ポンプＰ＋から気体（空気）を供給し、ノズルＮ１のノズル孔ＮＡ１を介して吐出させる。その空気の圧力により、マスクＭの中央下面が上方に押し上げられるように変形し、より安定した状態でのマスクＭの移動が実現できる。同時に、ノズルＮ２のノズル孔ＮＡ２を介して吐出された気体は、基板Ｗに向かい、ここでエアーシールを形成するようになっており、すなわちノズルＮ１から吐出した気体が外方に漏れ出ることが抑制されるので、マスクＭの変形抑制効果を高めることができる。

従って、前記少なくとも１つのノズルの気体吐出方向は、前記マスクの内側に向いており、前記他のノズルから吐出される気体によりシール効果を与えると好ましい。

第４の本発明の露光装置は、パターンを形成したマスクを保持するマスク保持部と、基板を保持する基板保持部とを有し、光源からの光を前記マスクに照射することにより、前記パターンを前記基板に露光する露光装置において、
前記マスクの周囲から前記マスクと前記基板との間に気体を吐出するノズルを設けており、前記ノズルの気体吐出方向は、前記マスクの外側に向いていることを特徴とする。

本発明について、図４を参照して説明する。図４は、本発明の一例にかかる露光装置の要部断面図である。図において、露光装置は、パターンを形成したマスクＭを保持するマスク保持部ＭＨと、その下方に平行に設けられ、基板Ｗを保持する基板保持部ＷＨとを有し、図で上方に位置する不図示の光源からの光を、マスク保持部ＭＨに形成された開口Ａを介してマスクＭに照射することにより、そのパターンを基板Ｗに露光するようになっている。

例えば、マスク保持部ＭＨを基板保持部ＷＨに近接させるように動作させると、薄いマスクＭは、間に介在する気体の圧力と慣性によりその中央が上方にたわむように変形する。そこで、図１にかかる例では、マスク保持部ＭＨの移動に応じて正圧ポンプＰ＋から気体（空気）を供給し、ノズルＮのノズル孔ＮＡを介して吐出させる。このとき、ノズルＮのノズル孔ＮＡは、マスクＭに対して外方を向いているので、ノズルＮから勢いよく吐出した気体が外方に向かうことで、マスクＭと基板Ｗとの間に滞る気体を外方に排出することが促進され、マスクＭの変形抑制効果を高めることができる。

第５の本発明の露光装置は、パターンを形成したマスクを保持するマスク保持部と、基板を保持する基板保持部とを有し、光源からの光を前記マスクに照射することにより、前記パターンを前記基板に露光する露光装置において、
前記マスクの周囲から前記マスクと前記基板との間の気体を吸引する吸気口と、前記ノズルより外側に配置され前記マスクの周囲を覆うシール手段とを有することを特徴とする。

本発明について、図５を参照して説明する。図５は、本発明の一例にかかる露光装置の要部断面図である。図において、露光装置は、パターンを形成したマスクＭを保持するマスク保持部ＭＨと、その下方に平行に設けられ、基板Ｗを保持する基板保持部ＷＨとを有し、図で上方に位置する不図示の光源からの光を、マスク保持部ＭＨに形成された開口Ａを介してマスクＭに照射することにより、そのパターンを基板Ｗに露光するようになっている。

ここで、マスク保持部ＭＨは、開口Ａの周囲に複数の気体供給路ＳＰを形成している。気体供給路ＳＰの上端は、外部の負圧ポンプＰ−に接続されており、その下端は、部材Ｎの吸気口ＮＡに接続されている。部材Ｎの吸気口ＮＡの外方には、基板Ｗ又は基板保持部ＷＨに近接する位置まで延在する壁ＷＬが形成されている。壁ＷＬがシール手段を構成する。

例えば、マスク保持部ＭＨを基板保持部ＷＨに近接させるように動作させると、薄いマスクＭは、間に介在する気体の圧力と慣性によりその中央が上方にたわむように変形する。そこで、図５にかかる例では、マスク保持部ＭＨの移動に応じて負圧ポンプＰ−により気体（空気）を吸引し、部材Ｎの吸気口ＮＡを介して吸引する。即ち、吸気口ＮＡを介してマスクＭと基板Ｗとの間に介在する空気が吸引されるので、マスクＭの中央の変形を抑えて、より安定した状態でのマスクＭの移動が実現できる。又、基板Ｗ又は基板保持部ＷＨに近接する壁ＷＬによりシールされることで、外部からマスクＭと基板Ｗとの間に気体が侵入することが抑制されるので、マスクＭの変形抑制効果を高めることができる。

第６の本発明の露光装置は、パターンを形成したマスクを保持するマスク保持部と、基板を保持する基板保持部とを有し、光源からの光を前記マスクに照射することにより、前記パターンを前記基板に露光する露光装置において、
前記マスク又は前記基板には帯状の突起が設けられ、
更に、前記マスクの周囲から前記マスクと前記基板との間の気体を吸引する吸気口が設けられていることを特徴とする。

本発明について、図６を参照して説明する。図６は、本発明の一例にかかる露光装置の要部断面図である。図において、露光装置は、パターンを形成したマスクＭを保持するマスク保持部ＭＨと、その下方に平行に設けられ、基板Ｗを保持する基板保持部ＷＨとを有し、図で上方に位置する不図示の光源からの光を、マスク保持部ＭＨに形成された開口Ａを介してマスクＭに照射することにより、そのパターンを基板Ｗに露光するようになっている。

ここで、マスクＭには、複数の気体通路ＭＰが形成されている。１群の気体通路ＭＰの上端は、外部の負圧ポンプＰ−に接続されており、その下端は、マスクＭの下面で開放している。別の群の気体通路ＭＰの上端は、外部の正圧ポンプＰ＋に接続されており、その下端は、マスクＭの下面で開放している。気体通路ＭＰの外側において、マスクＭの下面には連続する突起ＰＪが形成されている。

例えば、マスク保持部ＭＨを基板保持部ＷＨに近接させるように動作させると、薄いマスクＭは、間に介在する気体の圧力と慣性によりその中央が上方にたわむように変形する。そこで、図６にかかる例では、マスク保持部ＭＨの移動に応じて負圧ポンプＰ−により気体（空気）を吸引し、気体通路ＭＰを介して吸引する。それによりマスクＭと基板Ｗとの間に介在する空気が吸引されるので、マスクＭの中央の変形を抑えて、より安定した状態でのマスクＭの移動が実現できる。又、連続してマスクＭと基板Ｗとの間の空間を囲う突起ＰＪによりシールされることで、外部からマスクＭと基板Ｗとの間に気体が侵入することが抑制されるので、マスクＭの変形抑制効果を高めることができる。

一方、マスク保持部ＭＨを基板保持部ＷＨに離隔させるように動作させると、薄いマスクＭは、間に介在する気体の圧力と慣性によりその中央が下方にたわむように変形する。そこで、図６にかかる例では、マスク保持部ＭＨの移動に応じて正圧ポンプＰ＋により気体（空気）を供給し、気体通路ＭＰを介して吐出する。それによりマスクＭと基板Ｗとの間に空気を吐出するので、マスクＭの中央の変形を抑えて、より安定した状態でのマスクＭの移動が実現できる。又、連続してマスクＭと基板Ｗとの間の空間を囲う突起ＰＪによりシールされることで、マスクＭと基板Ｗとの間から外部へと気体が洩れ出すことが抑制されるので、マスクＭの変形抑制効果を高めることができる。

更に本発明について、図７，８を参照して説明する。図７は、本発明の一例にかかる露光装置の要部断面図である。図８は、かかる露光装置に用いる基板Ｗの上面図である。図７において、露光装置は、パターンを形成したマスクＭを保持するマスク保持部ＭＨと、その下方に平行に設けられ、基板Ｗを保持する基板保持部ＷＨとを有し、図で上方に位置する不図示の光源からの光を、マスク保持部ＭＨに形成された開口Ａを介してマスクＭに照射することにより、そのパターンを基板Ｗに露光するようになっている。

ここで、マスクＭには、複数の気体通路ＭＰが形成されている。１群の気体通路ＭＰの上端は、外部の負圧ポンプＰ−に接続されており、その下端は、マスクＭの下面で開放している。別の群の気体通路ＭＰの上端は、外部の正圧ポンプＰ＋に接続されており、その下端は、マスクＭの下面で開放している。気体通路ＭＰの外側において、基板Ｗの上面には連続する突起ＰＪが形成されている。

例えば、マスク保持部ＭＨを基板保持部ＷＨに近接させるように動作させると、薄いマスクＭは、間に介在する気体の圧力と慣性によりその中央が上方にたわむように変形する。そこで、図７にかかる例では、マスク保持部ＭＨの移動に応じて負圧ポンプＰ−により気体（空気）を吸引し、気体通路ＭＰを介して吸引する。それによりマスクＭと基板Ｗとの間に介在する空気が吸引されるので、マスクＭの中央の変形を抑えて、より安定した状態でのマスクＭの移動が実現できる。又、連続してマスクＭと基板Ｗとの間の空間を囲う突起ＰＪによりシールされることで、外部からマスクＭと基板Ｗとの間に気体が侵入することが抑制されるので、マスクＭの変形抑制効果を高めることができる。

一方、マスク保持部ＭＨを基板保持部ＷＨに離隔させるように動作させると、薄いマスクＭは、間に介在する気体の圧力と慣性によりその中央が下方にたわむように変形する。そこで、図７にかかる例では、マスク保持部ＭＨの移動に応じて正圧ポンプＰ＋により気体（空気）を供給し、気体通路ＭＰを介して吐出する。それによりマスクＭと基板Ｗとの間に空気を吐出するので、マスクＭの中央の変形を抑えて、より安定した状態でのマスクＭの移動が実現できる。又、連続してマスクＭと基板Ｗとの間の空間を囲う突起ＰＪによりシールされることで、マスクＭと基板Ｗとの間から外部へと気体が洩れ出すことが抑制されるので、マスクＭの変形抑制効果を高めることができる。

前記マスクの上面側に圧力を与えることで前記マスクを変形させる変形手段が設けられていると好ましい。

前記変形手段は、前記マスクの上面に接する気体の圧力と、前記マスクの下面に接する気体の圧力との差圧を制御すると好ましい。

前記変形手段は、前記マスク保持部を変形させると好ましい。

本発明を、図９、１０を参照して説明する。図９、１０は、上述の発明と組み合わせて用いられると好適な変形手段を含む露光装置の一部を示す断面図である。図９において、マスクＭを下面で保持するマスク保持部ＭＨは、その上面に透明板ＰＴを配置しており、従ってマスク保持部ＭＨの開口ＭＨ１内の空間は密閉された状態となっている。更に、開口ＭＨ１内の空間は、外部へとのびる配管ＨによりバルブＶ＋を介して正圧ポンプＰ＋に接続され、また外部へとのびる配管ＨによりバルブＶ−を介して負圧ポンプＰ−に接続されている。バルブＶ＋、Ｖ−及びポンプＰ＋、Ｐ−が変形手段を構成し、これらは不図示の制御回路により、基板Ｗの歪みに応じて駆動される。

更に、図９、１０において、マスク保持部ＭＨの開口ＭＨ１の周縁は、角度付け可能となっている。開口ＭＨ１の周縁が、変形手段を構成する。

ここで、バルブＶ＋を開放して、バルブＶ−を閉止すると、開口ＭＨ１内の空間内が正圧ポンプＰ＋により加圧され、その圧力Ｐｉは、マスクＭの下面の圧力Ｐｏよりも高くなる。従って、マスクＭの上下面の圧力差により、マスクＭは中央が下方にたわむように変形する。又、開口ＭＨ１の周縁を下方に向かうように傾けることで、同様にマスクＭは中央が下方にたわむように変形する（９（ａ）参照）。

一方、バルブＶ−を開放して、バルブＶ＋を閉止すると、開口ＭＨ１内の空間内が負圧ポンプＰ−により吸引され、その圧力Ｐｉは、マスクＭの下面の圧力Ｐｏよりも低くなる。従って、マスクＭの上下面の圧力差により、マスクＭは中央が上方にたわむように変形する。又、開口ＭＨ１の周縁を下方に向かうように傾けることで、同様にマスクＭは中央が上方にたわむように変形する（図９（ｂ）参照）。

なお、マスクの厚さが０．９〜１ｍｍであり、その寸法が７００ｍｍを超えると、本発明の効果をより発揮しやすい。更に、前記シール手段及び前記ノズルは、マスクのパターンの近傍外側に配置されると望ましい。

本発明により、様々な状況に応じてマスクを安定して保持できる露光装置を提供することができる。

以下、図面を参照して本発明の実施の形態を詳細に説明する。図１１は、本実施の形態にかかる露光装置の側面図である。図１１において、本実施形態に係る露光装置１００は、ベース１１２、基板ステージ１１４及びマスクステージ１２２を備えている。基板ステージ（基板保持部）１１４はベース１１２の上方に設けられており、ベース１１２と基板ステージ１１４との間には、基板ステージ１１４を上下方向に昇降駆動する基板ステージ昇降機構１１６、基板ステージ昇降機構１１６を介して基板ステージ１１４を揺動駆動する基板ステージチルト機構１１８、基板ステージチルト機構１１８及び基板ステージ昇降機構１１６を介して基板ステージ１１４を図中Ｘ軸方向とＹ軸方向（紙面に対して垂直な方向）に送り駆動する基板ステージ送り機構１２０が設けられている。

マスクステージ１２２はベース１１２の上面に立設された複数本の支柱１２４により基板ステージ１１４の上方に支持されており、マスクステージ１２２の下面には、プレート状のマスク保持部１２６が水平レベル調整用の間座１２８を介して取り付けられている。また、マスクステージ１２２は矩形状の開口窓１２２ａを中央部に有しており、図示しない光源装置から出射された露光用の光はマスク保持部１２６に吸着保持されたマスクＭに、上記開口窓１２２ａを通して照射されるようになっている。

マスク保持部１２６は、マスクステージ１２２の開口窓１２２ａを通過した光をマスクＭに当てるための開口窓１２６ａを有している。この開口窓１２６ａはマスク保持部１２６の中央部に形成されている。

マスク保持部１２６は、間座１２８のボルト通し孔を挿通するマスクホルダ固定用ボルト（不図示）によりマスク保持部１２６の下面に取り付けられている。

図１２は、本実施の形態にかかる露光装置の要部断面図である。図において、マスク保持部１２６は、開口窓１２６ａの周囲に複数の気体供給路１２６ｂ、１２６ｃ、１２６ｄを形成している。気体供給路１２６ｂ、１２６ｃ、１２６ｄの上端は、外部のポンプＰ１，Ｐ２，Ｐ３に接続されている。ポンプＰ１，Ｐ２，Ｐ３は、それぞれ正圧ポンプとしても作用し、また負圧ポンプとしても作用する。

更に、気体供給路１２６ｂ、１２６ｃ、１２６ｄの下端は、ノズルＮ１，Ｎ２，Ｎ３に接続されている。ノズルＮ１，Ｎ２、Ｎ３は、内部が気体供給路１２６ｂ、１２６ｃ、１２６ｄに連通した、開口窓１２６ａの周囲を取り巻いてなる中空の部材からなり、それぞれノズル孔ＮＡ１，ＮＡ２，ＮＡ３を有している。図１２に示すように、内側に配置されたノズルＮ１のノズル孔ＮＡ１は、マスクＭと基板Ｗの間に内側に斜めに向いており、中央に配置されたノズルＮ２のノズル孔ＮＡ２は、基板Ｗに直交する方向に向いており、外側に配置されたノズルＮ３のノズル孔ＮＡ３は、外側に斜めに向いている。即ち、３つのノズルの気体吐出方向は、それぞれ異なっている。

図１３は、本実施の形態の露光装置１００の制御回路を示すブロック図である。図１３において、ギャップ制御部Ｃ１の主演算部は、ステージ制御装置Ｃ２よりＰＬＣを介して制御され、監視回数や監視間隔などを含む制御データを読みとり、又、ギャップ検出器Ｃ３を介してマスクＭと基板Ｗとのギャップを検出し、圧力検出器Ｃ４を介してマスクＭと基板Ｗとの間の気体圧力を直接もしくは間接的に検出し、それらに基づいて気体圧力制御部を駆動制御し、フィードバック制御により、ポンプＰ１〜Ｐ３の圧力を制御する圧力調整弁Ｃ５を調整するようになっている。

次に、本実施の形態の動作について説明する。図１４は、本実施の形態の露光装置において、基板Ｗを搬入し露光後に搬出するまでの工程を示す図である。まず、図１４のステップＳ１０１において、不図示の搬送装置により基板Ｗを搬送し、基板ステージ１１４の上に載置する。ステップＳ１０２で、基板ステージ１１４をＸＹ方向に移動する。続くステップＳ１０３で、基板ステージ１１４をＺ方向に粗動する。更にステップＳ１０４で、マスク保持部１２６を微動させて、マスクＭと基板Ｗとが露光に最適な位置関係となるようにするが、このときノズＮＡ１，ＮＡ２，ＮＡ３から気体を吐出もしくは吸引する。

マスク保持部１２６を基板ステージ１１４に接近させるに当たっては、マスクＭの中央部が上方に変形するため、ノズルＮ１から気体の吸引を行い、ノズルＮ２から気体の吐出を行うことでシール効果が得られるようにする。或いは、ノズルＮ１から気体の吸引を行い、ノズルＮ２から気体の吐出を行うことで、マスクＭと基板Ｗとの間の気体を迅速に排出させるようにしても良い。

気圧制御によりマスクＭが安定した状態で、ステップＳ１０５で露光を行う。露光後に、ステップＳ１０６で、マスク保持部１２６を基板ステージ１１４から遠ざける。このときノズＮＡ１，ＮＡ２，ＮＡ３から気体を吐出もしくは吸引する。

マスク保持部１２６を基板ステージ１１４から遠ざけるに当たっては、マスクＭの中央部が下方に変形するため、ノズルＮ１から気体の吐出を行い、ノズルＮ２から気体の吐出を行うことでシール効果が得られるようにする。

更にステップＳ１０７で基板ステージ１１４をＺ方向に粗動させる。ステップＳ１０８で、同一基板Ｗにおける別の領域に露光を行うと判断した場合、ステップＳ１０２〜Ｓ１０７の工程を繰り返す。一方、同一基板Ｗにおける全ての領域で露光が完了したと判断した場合、ステップＳ１０９で基板Ｗを搬出する。

以上、本発明を実施の形態を参照して説明してきたが、本発明は上記実施の形態に限定して解釈されるべきではなく、適宜変更・改良が可能であることはもちろんである。

本発明の一例にかかる露光装置の要部断面図である。 図２（ａ）は、比較例として示す従来技術のマスク保持部の下面を示す図であり、図２（ｂ）は、本発明の一例にかかる露光装置のマスク保持部の下面を示す図であり、図２（ｃ）は、図２（ｂ）の構成をIIC-IIC線で切断して矢印方向に見た図である。 本発明の一例にかかる露光装置の要部断面図である。 本発明の一例にかかる露光装置の要部断面図である。 本発明の一例にかかる露光装置の要部断面図である。 本発明の一例にかかる露光装置の要部断面図である。 本発明の一例にかかる露光装置の要部断面図である。 かかる露光装置に用いる基板Ｗの上面図である。 本発明の一例にかかる露光装置の一部を示す断面図である。 本発明の一例にかかる露光装置の一部を示す断面図である。 本実施の形態にかかる露光装置の側面図である。 本実施の形態にかかる露光装置の要部断面図である。 本実施の形態の露光装置１００の制御回路を示すブロック図である。 本実施の形態の露光装置において、基板Ｗを搬入し露光後に搬出するまでの工程を示す図である。

符号の説明

１００ 露光装置
１１２ ベース
１１４ 基板ステージ
１１６ 基板ステージ昇降機構
１１８ 基板ステージチルト機構
１２０ 基板ステージ送り機構
１２２ マスクステージ
１２２ａ 開口窓
１２４ 支柱
１２６ マスク保持部
１２６ａ 開口窓
１２６ｂ 気体供給路
１２８ 間座
Ａ 開口
Ｃ１ ギャップ制御部
Ｃ２ ステージ制御装置
Ｃ３ ギャップ検出器
Ｃ４ 圧力検出器
Ｃ５ 圧力調整弁
Ｈ 配管
Ｍ マスク
ＭＨ マスク保持部
ＭＨ１ 開口
ＭＰ 気体通路
Ｎ ノズル
Ｎ１ ノズル
Ｎ２ ノズル
Ｎ３ ノズル
ＮＡ ノズル孔
ＮＡ 吐出孔
ＮＡ 吸気口
ＮＡ１ ノズル孔
ＮＡ２ ノズル孔
ＮＡ３ ノズル孔
Ｐ ポンプ
Ｐ＋ 正圧ポンプ
Ｐー 負圧ポンプ
Ｐ１〜Ｐ３ ポンプ
ＰＪ 突起
ＰＴ 透明板
ＳＧ 気体供給部
ＳＰ 気体供給路
ＳＰ１，ＳＰ２ 気体供給路
Ｖ バルブ
Ｗ 基板
ＷＨ 基板保持部
ＷＬ 壁

Claims (10)

1. パターンを形成したマスクを保持するマスク保持部と、基板を保持する基板保持部とを有し、光源からの光を前記マスクに照射することにより、前記パターンを前記基板に露光する露光装置において、
   前記マスクの周囲から前記マスクと前記基板との間に気体を吐出するノズルと、前記ノズルより外側に配置され前記マスクの周囲を覆うシール手段とを有することを特徴とする露光装置。
2. パターンを形成したマスクを保持するマスク保持部と、基板を保持する基板保持部とを有し、光源からの光を前記マスクに照射することにより、前記パターンを前記基板に露光する露光装置において、
   前記マスクの周囲から前記マスクと前記基板との間に気体を吐出する気体供給部を溝状とすることを特徴とする露光装置。
3. パターンを形成したマスクを保持するマスク保持部と、基板を保持する基板保持部とを有し、光源からの光を前記マスクに照射することにより、前記パターンを前記基板に露光する露光装置において、
   前記マスクの周囲から前記マスクと前記基板との間に気体を吐出する複数のノズルを設けており、少なくとも１つのノズルの気体吐出方向は、他のノズルの気体吐出方向に対して異なっていることを特徴とする露光装置。
4. 前記少なくとも１つのノズルの気体吐出方向は、前記マスクの内側に向いており、前記他のノズルから吐出される気体によりシール効果を与えることを特徴とする請求項３に記載の露光装置。
5. パターンを形成したマスクを保持するマスク保持部と、基板を保持する基板保持部とを有し、光源からの光を前記マスクに照射することにより、前記パターンを前記基板に露光する露光装置において、
   前記マスクの周囲から前記マスクと前記基板との間に気体を吐出するノズルを設けており、前記ノズルの気体吐出方向は、前記マスクの外側に向いていることを特徴とする露光装置。
6. パターンを形成したマスクを保持するマスク保持部と、基板を保持する基板保持部とを有し、光源からの光を前記マスクに照射することにより、前記パターンを前記基板に露光する露光装置において、
   前記マスクの周囲から前記マスクと前記基板との間の気体を吸引する吸気口と、前記ノズルより外側に配置され前記マスクの周囲を覆うシール手段とを有することを特徴とする露光装置。
7. パターンを形成したマスクを保持するマスク保持部と、基板を保持する基板保持部とを有し、光源からの光を前記マスクに照射することにより、前記パターンを前記基板に露光する露光装置において、
   前記マスク又は前記基板には帯状の突起が設けられ、
   更に、前記マスクの周囲から前記マスクと前記基板との間の気体を吸引する吸気口が設けられていることを特徴とする露光装置。
8. 前記マスクの上面側に圧力を与えることで前記マスクを変形させる変形手段が設けられていることを特徴とする請求項１〜７のいずれかに記載の露光装置。
9. 前記変形手段は、前記マスクの上面に接する気体の圧力と、前記マスクの下面に接する気体の圧力との差圧を制御することを特徴とする請求項８に記載の露光装置。
10. 前記変形手段は、前記マスク保持部を変形させることを特徴とする請求項８に記載の露光装置。
    
    

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