JP2001003155A - 蒸着装置および蒸着方法 - Google Patents
蒸着装置および蒸着方法Info
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- JP2001003155A JP2001003155A JP11173449A JP17344999A JP2001003155A JP 2001003155 A JP2001003155 A JP 2001003155A JP 11173449 A JP11173449 A JP 11173449A JP 17344999 A JP17344999 A JP 17344999A JP 2001003155 A JP2001003155 A JP 2001003155A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 基板とマスクとの間の隙間に起因する蒸着膜
どうしの重なりや、スリットよりも幅広い蒸着膜の形成
を防止し、蒸着膜ピッチの微細化を可能とする。 【解決手段】 基板８に密着配置するマスク９を磁性材
料により形成し、このマスク９を吸引する磁石１１を基
板８の背面側に配置する。これにより、マスク９と基板
８とを全面的に十分に密着させることができる。
どうしの重なりや、スリットよりも幅広い蒸着膜の形成
を防止し、蒸着膜ピッチの微細化を可能とする。 【解決手段】 基板８に密着配置するマスク９を磁性材
料により形成し、このマスク９を吸引する磁石１１を基
板８の背面側に配置する。これにより、マスク９と基板
８とを全面的に十分に密着させることができる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は蒸着装置および蒸着
方法に関し、特に線状の蒸着膜を形成する蒸着装置およ
び蒸着方法に関する。
方法に関し、特に線状の蒸着膜を形成する蒸着装置およ
び蒸着方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来より、図５に示したように、真空容
器２１の内部において、加熱部（抵抗）２２に取付けた
有機物２３を加熱して蒸発させ、蒸発分子２４をステン
レス鋼などのマスク２５によりガラス基板２６の表面に
任意の形状に蒸着させる膜形成方法が行われている。そ
の中で、次世代ディスプレイとして開発が活発なカラー
有機ＥＬディスプレイ（Color Organic Emitting Light
Display）などでは、蒸着膜を線状に間隙（ピッチ）を
微細化して形成することが必要とされており、そのため
に、マスク開口部の幅（スリット幅）を狭くすること、
およびマスク開口部を通過した蒸発分子が基板表面まで
の空間で拡がらないようにマスクと基板との隙間をでき
る限り狭くすることが重要とされている。
器２１の内部において、加熱部（抵抗）２２に取付けた
有機物２３を加熱して蒸発させ、蒸発分子２４をステン
レス鋼などのマスク２５によりガラス基板２６の表面に
任意の形状に蒸着させる膜形成方法が行われている。そ
の中で、次世代ディスプレイとして開発が活発なカラー
有機ＥＬディスプレイ（Color Organic Emitting Light
Display）などでは、蒸着膜を線状に間隙（ピッチ）を
微細化して形成することが必要とされており、そのため
に、マスク開口部の幅（スリット幅）を狭くすること、
およびマスク開口部を通過した蒸発分子が基板表面まで
の空間で拡がらないようにマスクと基板との隙間をでき
る限り狭くすることが重要とされている。
【０００３】ところが従来の技術では、図６〜図７に示
したように、基板２６とマスク２５との間に、基板２６
の脱落を防止するための基板受け２７と、マスク２５を
マスク受け２８との間に挟持するマスク押え２９とが介
在するため、基板受け２７とマスク押え２９の厚み分だ
けの隙間Ｌ１が発生してしまう。そして、この隙間Ｌ１
が原因となって、図示したように、マスク２５のスリッ
ト２５ａを通過した蒸発分子３０がマスク２５・基板２
６間の空間３１で拡散し、スリット幅Ｌ２より大きな幅
の蒸着膜３２が形成されたり、図８に示すように、隣接
する蒸着膜３２ａ，３２ｂどうしが端部において幅Ｌ３
だけ重なってしまう。このような蒸着膜３２ａ，３２ｂ
どうしの重なりは、カラー有機ＥＬディスプレイのよう
に赤、青、緑の３色を蒸着させる場合に特に表示品位の
低下につながるため、極力無くす必要があり、そのため
に、隣接するスリット２５ａ，２５ａ間の間隔を大きく
すること、つまり蒸着膜ピッチを大きくすることが考え
られるが、その場合はディスプレイの画素ピッチを大き
くすることになり、解像度の低下につながる。
したように、基板２６とマスク２５との間に、基板２６
の脱落を防止するための基板受け２７と、マスク２５を
マスク受け２８との間に挟持するマスク押え２９とが介
在するため、基板受け２７とマスク押え２９の厚み分だ
けの隙間Ｌ１が発生してしまう。そして、この隙間Ｌ１
が原因となって、図示したように、マスク２５のスリッ
ト２５ａを通過した蒸発分子３０がマスク２５・基板２
６間の空間３１で拡散し、スリット幅Ｌ２より大きな幅
の蒸着膜３２が形成されたり、図８に示すように、隣接
する蒸着膜３２ａ，３２ｂどうしが端部において幅Ｌ３
だけ重なってしまう。このような蒸着膜３２ａ，３２ｂ
どうしの重なりは、カラー有機ＥＬディスプレイのよう
に赤、青、緑の３色を蒸着させる場合に特に表示品位の
低下につながるため、極力無くす必要があり、そのため
に、隣接するスリット２５ａ，２５ａ間の間隔を大きく
すること、つまり蒸着膜ピッチを大きくすることが考え
られるが、その場合はディスプレイの画素ピッチを大き
くすることになり、解像度の低下につながる。
【０００４】このため、蒸着膜の重なり防止と蒸着膜ピ
ッチの微細化という相反する条件を満足させるために、
たとえば図９〜図１０に示すように、マスク２５を、そ
のスリット２５ａ部分より大きな開口部２８ａを設けた
マスク受け２８に受け、基板受け２７よりも外側に位置
するマスク押え２９により固定して、蒸着を行う時に、
マスク受け２８に設けた上下機構によりマスク２５を上
方へ移動させて基板２６に密着させ、基板２６との間の
隙間を無くすようにしたものもある。
ッチの微細化という相反する条件を満足させるために、
たとえば図９〜図１０に示すように、マスク２５を、そ
のスリット２５ａ部分より大きな開口部２８ａを設けた
マスク受け２８に受け、基板受け２７よりも外側に位置
するマスク押え２９により固定して、蒸着を行う時に、
マスク受け２８に設けた上下機構によりマスク２５を上
方へ移動させて基板２６に密着させ、基板２６との間の
隙間を無くすようにしたものもある。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記し
た図９〜図１０に示したような装置でも、マスク２５自
体が厚み数十μｍと非常に薄く、機械的剛性も低いた
め、マスク受け２８と接触しているマスク周縁部は基板
２６と十分に密着するが、マスク受け２８の開口部２８
ａに対応するマスク中央部は基板２６と十分に密着せ
ず、図１１に示すようにマスク中央部が弛み、基板２６
との間に隙間が生じてしまうこともある。
た図９〜図１０に示したような装置でも、マスク２５自
体が厚み数十μｍと非常に薄く、機械的剛性も低いた
め、マスク受け２８と接触しているマスク周縁部は基板
２６と十分に密着するが、マスク受け２８の開口部２８
ａに対応するマスク中央部は基板２６と十分に密着せ
ず、図１１に示すようにマスク中央部が弛み、基板２６
との間に隙間が生じてしまうこともある。
【０００６】本発明は上記問題を解決するもので、基板
に対してマスクを全面的に十分に密着させることを目的
とする。
に対してマスクを全面的に十分に密着させることを目的
とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記問題を解決するため
に本発明は、基板の背面側に磁石を配置することによ
り、弛み易いマスク中央部を磁石で引き付けるようにし
たものである。すなわち、本発明の蒸着装置は、真空排
気手段を有した容器の内部に、膜材料を加熱し蒸発させ
る加熱部と、膜形成対象の基板をその周縁部において支
持して前記加熱部の上方に配置する基板支持部と、スリ
ットを形成したマスクと、前記マスクをその周縁部にお
いて支持して前記基板の蒸着面側に密着配置するマスク
支持部とを有し、前記マスクのスリットに対応する線状
の蒸着膜を基板に形成する蒸着装置において、前記マス
クは磁性材料により形成するとともに、基板の背面側に
配置する磁石を設けたことを特徴とする。
に本発明は、基板の背面側に磁石を配置することによ
り、弛み易いマスク中央部を磁石で引き付けるようにし
たものである。すなわち、本発明の蒸着装置は、真空排
気手段を有した容器の内部に、膜材料を加熱し蒸発させ
る加熱部と、膜形成対象の基板をその周縁部において支
持して前記加熱部の上方に配置する基板支持部と、スリ
ットを形成したマスクと、前記マスクをその周縁部にお
いて支持して前記基板の蒸着面側に密着配置するマスク
支持部とを有し、前記マスクのスリットに対応する線状
の蒸着膜を基板に形成する蒸着装置において、前記マス
クは磁性材料により形成するとともに、基板の背面側に
配置する磁石を設けたことを特徴とする。
【０００８】また本発明の蒸着方法は、真空状態にした
容器の内部において基板に線状の蒸着膜を形成するに際
し、膜材料の上方に配置した基板の蒸着面側に、スリッ
トを形成した磁性材料からなるマスクを密着配置すると
ともに、基板の背面側に磁石を配置して、配置した磁石
によりマスクを基板側に吸引する状態において、前記膜
材料を加熱して蒸発させ、マスクのスリットに対応する
線状の蒸着膜を形成することを特徴とする。
容器の内部において基板に線状の蒸着膜を形成するに際
し、膜材料の上方に配置した基板の蒸着面側に、スリッ
トを形成した磁性材料からなるマスクを密着配置すると
ともに、基板の背面側に磁石を配置して、配置した磁石
によりマスクを基板側に吸引する状態において、前記膜
材料を加熱して蒸発させ、マスクのスリットに対応する
線状の蒸着膜を形成することを特徴とする。
【０００９】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
を参照しながら説明する。図１に示したように、カラー
有機ＥＬディスプレイを製造するための蒸着装置は、先
に図５を用いて説明した従来の蒸着装置とほぼ同様の構
成を有しており、真空ポンプ１に排気口２を通じて接続
した容器３内の下部に、膜材料４を載置して加熱し蒸発
させる加熱部５が設けられており、この加熱部５にライ
ン６を通じて電力を供給する電源７は容器３外に設けら
れている。容器３内における加熱部５の上方には、膜形
成対象の基板８が設置されており、加熱部５と基板８と
の間にマスク９が設置されている。
を参照しながら説明する。図１に示したように、カラー
有機ＥＬディスプレイを製造するための蒸着装置は、先
に図５を用いて説明した従来の蒸着装置とほぼ同様の構
成を有しており、真空ポンプ１に排気口２を通じて接続
した容器３内の下部に、膜材料４を載置して加熱し蒸発
させる加熱部５が設けられており、この加熱部５にライ
ン６を通じて電力を供給する電源７は容器３外に設けら
れている。容器３内における加熱部５の上方には、膜形
成対象の基板８が設置されており、加熱部５と基板８と
の間にマスク９が設置されている。
【００１０】基板８はガラス材料からなり、その周縁部
は、図２にも示すように、容器内側面に取り付けられた
断面Ｌ字状の１対の基板受け１０（四角枠状のものでも
よい）の受け部１０ａに載置されている。基板８の上面
側には磁石１１が載置されている。この磁石１１は、基
板８上で移動することがないように、図示を省略した治
具に固定されている。
は、図２にも示すように、容器内側面に取り付けられた
断面Ｌ字状の１対の基板受け１０（四角枠状のものでも
よい）の受け部１０ａに載置されている。基板８の上面
側には磁石１１が載置されている。この磁石１１は、基
板８上で移動することがないように、図示を省略した治
具に固定されている。
【００１１】マスク９はチタンなどの磁性金属材料によ
り厚さ数十μｍ、基板受け１０の受け部１０ａ間の間隙
に進入可能な大きさに形成されていて、図３にも示すよ
うに、有機物膜材料４の蒸発分子４ａが通過する数十μ
ｍ幅の線状のスリット９ａを複数本並行に設けられてい
る。マスク９の周縁部は、基板８と並行に設けられたス
テンレス鋼などのマスク受け１２の開口部１２ａの周縁
部に載置され、基板受け１２より外方に設けられたマス
ク押え１３により押さえられている。マスク受け１２
は、容器３の内側面に支持されたマスク上下機構（図示
せず）に取り付けられていて、基板８に対して近接離間
自在である。マスク受け１２の開口部１２ａは、マスク
９の複数のスリット９ａの最外周部より大きく形成され
ていて、マスク受け１２が膜材料４の蒸発分子４ａのス
リット９ａの通過を妨げることはない。
り厚さ数十μｍ、基板受け１０の受け部１０ａ間の間隙
に進入可能な大きさに形成されていて、図３にも示すよ
うに、有機物膜材料４の蒸発分子４ａが通過する数十μ
ｍ幅の線状のスリット９ａを複数本並行に設けられてい
る。マスク９の周縁部は、基板８と並行に設けられたス
テンレス鋼などのマスク受け１２の開口部１２ａの周縁
部に載置され、基板受け１２より外方に設けられたマス
ク押え１３により押さえられている。マスク受け１２
は、容器３の内側面に支持されたマスク上下機構（図示
せず）に取り付けられていて、基板８に対して近接離間
自在である。マスク受け１２の開口部１２ａは、マスク
９の複数のスリット９ａの最外周部より大きく形成され
ていて、マスク受け１２が膜材料４の蒸発分子４ａのス
リット９ａの通過を妨げることはない。
【００１２】上記構成の蒸着装置による蒸着方法を説明
する。マスク上下機構によりマスク受け１２を上昇させ
て、マスク９を基板受け１０の受け部１０ａ間の間隙に
進入させ、基板８に押し付ける。このようにすることよ
り、マスク受け１２と接触しているマスク周縁部はマス
ク受け１２のバックアップによって基板８と十分に密着
するとともに、マスク受け１２の開口部１２ａに対応す
るマスク中央部は磁石１１によって基板８側に引き付け
られ、マスク９は前面にわたって基板８に十分に密着す
る。
する。マスク上下機構によりマスク受け１２を上昇させ
て、マスク９を基板受け１０の受け部１０ａ間の間隙に
進入させ、基板８に押し付ける。このようにすることよ
り、マスク受け１２と接触しているマスク周縁部はマス
ク受け１２のバックアップによって基板８と十分に密着
するとともに、マスク受け１２の開口部１２ａに対応す
るマスク中央部は磁石１１によって基板８側に引き付け
られ、マスク９は前面にわたって基板８に十分に密着す
る。
【００１３】次いで、真空ポンプ１の駆動によって容器
３の内部を高真空状態とし、その状態で電源７からの電
力により加熱部５を発熱させる。このようにすることよ
り、膜材料４が加熱され、膜材料４固有の蒸発温度に達
した時点で蒸発分子４ａとなって上方へ飛び出す。飛び
出した蒸発分子４ａはマスク９のスリット９ａを通過し
て基板８の表面に付着し、次第に堆積する。その際に、
上記したようにマスク９が前面にわたって基板８に十分
に密着しているため、スリット９ａを通過した蒸発分子
４ａが拡散することはなく、スリット９ａ幅と同一幅の
線状の蒸着膜１４が形成される。
３の内部を高真空状態とし、その状態で電源７からの電
力により加熱部５を発熱させる。このようにすることよ
り、膜材料４が加熱され、膜材料４固有の蒸発温度に達
した時点で蒸発分子４ａとなって上方へ飛び出す。飛び
出した蒸発分子４ａはマスク９のスリット９ａを通過し
て基板８の表面に付着し、次第に堆積する。その際に、
上記したようにマスク９が前面にわたって基板８に十分
に密着しているため、スリット９ａを通過した蒸発分子
４ａが拡散することはなく、スリット９ａ幅と同一幅の
線状の蒸着膜１４が形成される。
【００１４】したがって、上記した蒸着装置および蒸着
方法によれば、線状の蒸着膜を蒸着膜ピッチを微細化し
て形成することが可能である。
方法によれば、線状の蒸着膜を蒸着膜ピッチを微細化し
て形成することが可能である。
【００１５】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、マスクを
磁性材料により形成し、このマスクを引き付ける磁石を
基板の背面側に配置するようにしたことにより、基板に
対してマスクを全面的に十分に密着させた状態で蒸着を
行うことができ、基板とマスクとの間の隙間に起因する
蒸着膜どうしの重なりや、スリットよりも幅広い蒸着膜
の形成をなくせるので、蒸着膜ピッチの微細化が可能で
ある。
磁性材料により形成し、このマスクを引き付ける磁石を
基板の背面側に配置するようにしたことにより、基板に
対してマスクを全面的に十分に密着させた状態で蒸着を
行うことができ、基板とマスクとの間の隙間に起因する
蒸着膜どうしの重なりや、スリットよりも幅広い蒸着膜
の形成をなくせるので、蒸着膜ピッチの微細化が可能で
ある。
【図１】本発明の一実施形態における蒸着装置の概略構
成図
成図
【図２】図１の蒸着装置における基板および基板支持部
を示した斜視図
を示した斜視図
【図３】図１の蒸着装置におけるマスクおよびマスク支
持部を示した斜視図
持部を示した斜視図
【図４】図１の蒸着装置における蒸着時の状態を示した
説明図
説明図
【図５】従来の蒸着装置の概略構成図
【図６】図５の蒸着装置において基板を支持した基板支
持部とマスクを支持したマスク支持部とをそれぞれ示し
た斜視図
持部とマスクを支持したマスク支持部とをそれぞれ示し
た斜視図
【図７】図６の基板支持部およびマスク支持部を備えた
蒸着装置における蒸着時の状態を示した説明図
蒸着装置における蒸着時の状態を示した説明図
【図８】図６の基板支持部およびマスク支持部を備えた
蒸着装置における蒸着時の他の状態を示した説明図
蒸着装置における蒸着時の他の状態を示した説明図
【図９】図５の蒸着装置に配置される基板支持部とマス
ク支持部とをそれぞれ示した説明図
ク支持部とをそれぞれ示した説明図
【図１０】図９の基板支持部とマスク支持部とを別の方
向から示した説明図
向から示した説明図
【図１１】図９、図１０の基板支持部とマスク支持部と
を備えた蒸着装置における蒸着時の状態を示した説明図
を備えた蒸着装置における蒸着時の状態を示した説明図
１ 真空ポンプ ３ 容器 ４ 膜材料 4a 蒸発分子 ５ 加熱部 ８ 基板 ９ マスク 9a スリット 10 基板受け 11 磁石 12 マスク受け 12a 開口部 13 マスク押え 14 蒸着膜
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 雙木 茂 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 佐藤 徹哉 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 Ｆターム(参考） 4K029 CA01 HA02
Claims (2)
- 【請求項１】 真空排気手段を有した容器の内部に、膜
材料を加熱し蒸発させる加熱部と、膜形成対象の基板を
その周縁部において支持して前記加熱部の上方に配置す
る基板支持部と、スリットを形成したマスクと、前記マ
スクをその周縁部において支持して前記基板の蒸着面側
に密着配置するマスク支持部とを有し、前記マスクのス
リットに対応する線状の蒸着膜を基板に形成する蒸着装
置において、 前記マスクは磁性材料により形成するとともに、基板の
背面側に配置する磁石を設けたことを特徴とする蒸着装
置。 - 【請求項２】 真空状態にした容器の内部において基板
に線状の蒸着膜を形成するに際し、 膜材料の上方に配置した基板の蒸着面側に、スリットを
形成した磁性材料からなるマスクを密着配置するととも
に、基板の背面側に磁石を配置して、配置した磁石によ
りマスクを基板側に吸引する状態において、前記膜材料
を加熱して蒸発させ、マスクのスリットに対応する線状
の蒸着膜を形成することを特徴とする蒸着方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11173449A JP2001003155A (ja) | 1999-06-21 | 1999-06-21 | 蒸着装置および蒸着方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11173449A JP2001003155A (ja) | 1999-06-21 | 1999-06-21 | 蒸着装置および蒸着方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001003155A true JP2001003155A (ja) | 2001-01-09 |
Family
ID=15960687
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11173449A Pending JP2001003155A (ja) | 1999-06-21 | 1999-06-21 | 蒸着装置および蒸着方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001003155A (ja) |
Cited By (12)
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-
1999
- 1999-06-21 JP JP11173449A patent/JP2001003155A/ja active Pending
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