JP2014065964A - 成膜用治具、および、この成膜用治具を用いた成膜方法 - Google Patents
成膜用治具、および、この成膜用治具を用いた成膜方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2014065964A JP2014065964A JP2012214283A JP2012214283A JP2014065964A JP 2014065964 A JP2014065964 A JP 2014065964A JP 2012214283 A JP2012214283 A JP 2012214283A JP 2012214283 A JP2012214283 A JP 2012214283A JP 2014065964 A JP2014065964 A JP 2014065964A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- forming
- film forming
- temperature
- film formation
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/458—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for supporting substrates in the reaction chamber
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/1606—Coating the nozzle area or the ink chamber
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/04—Coating on selected surface areas, e.g. using masks
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/46—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for heating the substrate
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2202/00—Embodiments of or processes related to ink-jet or thermal heads
- B41J2202/01—Embodiments of or processes related to ink-jet heads
- B41J2202/21—Line printing
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
- Particle Formation And Scattering Control In Inkjet Printers (AREA)
Abstract
【解決手段】耐熱温度が異なる複数の部材から構成されるデバイスの、前記複数の部材の中で耐熱温度の高い部材への成膜に用いられる成膜用治具100において、成膜用治具100は、デバイスを保持する保持部材102と、デバイスの非成膜部分をマスクするマスク部材104とからなり、保持部材102のデバイスの被成膜部材と接触する部分は、被成膜部材の面に倣って形成されており、保持部材102およびマスク部材104の非成膜部分と接する部分は、突起物108、112が形成されている成膜用治具、および、この成膜用治具を用いた成膜方法である。
【選択図】図3
Description
まず、インクジェットヘッドの構成について説明する。図1は、インクジェットヘッドの斜視図であり、インクジェットヘッド10の下方(斜め下方向)から吐出面を見上げた様子が図示されている。このインクジェットヘッド10は、インクジェット記録装置の描画部に設置されるプリントヘッドであり、複数個のヘッドモジュール12を用紙幅方向に並べて繋ぎ合わせて長尺化したフルライン型のバーヘッド(シングルパス印字方式のページワイドヘッド)となっている。ここでは17個のヘッドモジュール12を繋ぎ合わせた例を示しているが、モジュールの構成、モジュールの個数及び配列形態については、図示の例に限定されない。符号14は、複数のヘッドモジュール12を固定するための枠体となるハウジング(バー状のラインヘッドを構成するためのハウジング)、符号16は、各ヘッドモジュール12に接続されたフレキシブル基板である。
図2は、被成膜物であるヘッドモジュールに成膜用治具100を取り付けた状態を示す斜視図であり、図3は、その断面図である。
次に、成膜用治具100を用いた成膜方法について説明する。成膜方法としては、例えば、次の方法により成膜することができる。
A:伝熱面積[m2]
σ:ステファンボルツマン係数[W/m2/K4]
T1:高温物体の温度[K]
T2:低温物体の温度[K]
熱輻射は、温度の4乗に比例し、高温になるほどその比率が大きくなる。250℃以下とすることで、輻射熱の影響を小さくすることができる。さらに、非成膜部分を熱することによりガスを発生する場合は、成膜温度をガスが発生する温度より低くする必要があるが、本発明の成膜用治具を用いることで、非成膜部分の温度を低くすることができるので、ガスが発生することを防止することができる。
上記実施形態においては、フレキシブル基板16を有するヘッドモジュール12に成膜を行っているが、例えば、液晶における薄膜トランジスタ素子(TFT)や薄膜シリコン太陽電池の製造において、polySiやアモルファスSi、Si3N4などを成膜する場合などに使用することができる。
一次イオン源;Bi
測定モード;高質量分解能
測定面積;30μm角
正イオン分析
成膜物の成分を分析したところ、比較例2においては、有機コンタミとして、直鎖の炭化水素起因のC4H9、C5H11や、フタル酸起因のC8H5O3が検出された。実施例1においては、有機物のコンタミは、検出されなかった。
Claims (10)
- 耐熱温度が異なる複数の部材から構成されるデバイスの、前記複数の部材の中で耐熱温度の高い部材への成膜に用いられる成膜用治具において、
前記成膜用治具は、前記デバイスを保持する保持部材と、前記デバイスの非成膜部分をマスクするマスク部材とからなり、
前記保持部材の前記デバイスの被成膜部材と接触する部分は、前記被成膜部材の面に倣って形成されており、
前記保持部材および前記マスク部材の前記非成膜部分と接する部分は、突起物が形成されている成膜用治具。 - 前記非成膜部分と前記保持部材の前記突起物との接触面積、および、前記非成膜部分と前記マスク部材の前記突起物との接触面積が、前記非成膜部分の面積に対して1%以下である請求項1に記載の成膜用治具。
- 成膜温度が250℃以下の成膜に使用される請求項1または2に記載の成膜用治具。
- CVD法による成膜に使用される請求項1から3のいずれか1項に記載の成膜用治具。
- 減圧下による成膜に使用される請求項1から4のいずれか1項に記載の成膜用治具。
- 前記被成膜部材の成膜面と、前記マスク部材と、の高さが等しい請求項1から5のいずれか1項に記載の成膜用治具。
- 前記マスク部材は、チタン(Ti)、クロム(Cr)で形成されている請求項1から6のいずれか1項に記載の成膜用治具。
- 前記マスク部材はセラミックスで形成されている請求項1から6のいずれか1項に記載の成膜用治具。
- インクジェットヘッドへの成膜に使用される請求項1から8のいずれか1項に記載の成膜用治具。
- 請求項1から9のいずれか1項に記載の成膜用治具を用いて前記デバイスを保持し、
減圧下で、前記保持部材側から加熱を行い、前記被成膜部材に成膜を行う成膜方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012214283A JP5594851B2 (ja) | 2012-09-27 | 2012-09-27 | 成膜用治具、および、この成膜用治具を用いた成膜方法 |
US14/037,113 US20140087074A1 (en) | 2012-09-27 | 2013-09-25 | Film formation jig and film formation method using the same |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012214283A JP5594851B2 (ja) | 2012-09-27 | 2012-09-27 | 成膜用治具、および、この成膜用治具を用いた成膜方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014065964A true JP2014065964A (ja) | 2014-04-17 |
JP5594851B2 JP5594851B2 (ja) | 2014-09-24 |
Family
ID=50339114
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012214283A Expired - Fee Related JP5594851B2 (ja) | 2012-09-27 | 2012-09-27 | 成膜用治具、および、この成膜用治具を用いた成膜方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20140087074A1 (ja) |
JP (1) | JP5594851B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2019012829A1 (ja) * | 2017-07-10 | 2019-01-17 | コニカミノルタ株式会社 | インクジェットヘッド、インクジェット記録装置及びインクジェットヘッドの製造方法 |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102017009177A1 (de) * | 2017-09-29 | 2019-04-04 | Maag Automatik Gmbh | Schneidkammergehäuse für Unterwassergranulator |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03146672A (ja) * | 1989-11-02 | 1991-06-21 | Denki Kagaku Kogyo Kk | Cvd用サセプター |
JPH10204615A (ja) * | 1997-01-21 | 1998-08-04 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 電子部品の製造装置 |
JP2001003155A (ja) * | 1999-06-21 | 2001-01-09 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 蒸着装置および蒸着方法 |
JP2001063043A (ja) * | 1999-08-25 | 2001-03-13 | Brother Ind Ltd | インク噴射装置、及び、インク噴射装置のノズルプレートの製造方法 |
JP2003170352A (ja) * | 2001-12-05 | 2003-06-17 | Alps Engineering Co Ltd | 有機分子蒸着用マスク及びその製造方法 |
JP2007095411A (ja) * | 2005-09-28 | 2007-04-12 | Toppan Printing Co Ltd | 有機el用メタルマスク及び有機el素子の製造方法 |
JP2007194319A (ja) * | 2006-01-18 | 2007-08-02 | Toyota Motor Corp | はんだ付け用マスクおよびはんだ付け方法 |
-
2012
- 2012-09-27 JP JP2012214283A patent/JP5594851B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2013
- 2013-09-25 US US14/037,113 patent/US20140087074A1/en not_active Abandoned
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03146672A (ja) * | 1989-11-02 | 1991-06-21 | Denki Kagaku Kogyo Kk | Cvd用サセプター |
JPH10204615A (ja) * | 1997-01-21 | 1998-08-04 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 電子部品の製造装置 |
JP2001003155A (ja) * | 1999-06-21 | 2001-01-09 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 蒸着装置および蒸着方法 |
JP2001063043A (ja) * | 1999-08-25 | 2001-03-13 | Brother Ind Ltd | インク噴射装置、及び、インク噴射装置のノズルプレートの製造方法 |
JP2003170352A (ja) * | 2001-12-05 | 2003-06-17 | Alps Engineering Co Ltd | 有機分子蒸着用マスク及びその製造方法 |
JP2007095411A (ja) * | 2005-09-28 | 2007-04-12 | Toppan Printing Co Ltd | 有機el用メタルマスク及び有機el素子の製造方法 |
JP2007194319A (ja) * | 2006-01-18 | 2007-08-02 | Toyota Motor Corp | はんだ付け用マスクおよびはんだ付け方法 |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2019012829A1 (ja) * | 2017-07-10 | 2019-01-17 | コニカミノルタ株式会社 | インクジェットヘッド、インクジェット記録装置及びインクジェットヘッドの製造方法 |
CN110869213A (zh) * | 2017-07-10 | 2020-03-06 | 柯尼卡美能达株式会社 | 喷墨头、喷墨记录装置及喷墨头的制造方法 |
JPWO2019012829A1 (ja) * | 2017-07-10 | 2020-05-21 | コニカミノルタ株式会社 | インクジェットヘッド、インクジェット記録装置及びインクジェットヘッドの製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20140087074A1 (en) | 2014-03-27 |
JP5594851B2 (ja) | 2014-09-24 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2022062123A (ja) | 加熱基板に印刷するための方法及び装置 | |
JP5690596B2 (ja) | フォーカスリング及び該フォーカスリングを備える基板処理装置 | |
EP1869228B1 (en) | Plasma confinement ring assemblies having reduced polymer deposition characteristics | |
US11049755B2 (en) | Semiconductor substrate supports with embedded RF shield | |
TWI471963B (zh) | 用於電漿處理腔室之低傾斜度邊緣環 | |
JP2012146743A (ja) | 基板処理装置 | |
US20220336192A1 (en) | Metal component and manufacturing method thereof and process chamber having the metal component | |
TW201519362A (zh) | 用於薄基板搬運的靜電載體 | |
TW201731132A (zh) | 表面塗佈處理 | |
JP4997141B2 (ja) | 真空処理装置、基板の温度制御方法 | |
JP5594851B2 (ja) | 成膜用治具、および、この成膜用治具を用いた成膜方法 | |
JP2004095953A (ja) | 窒化シリコンの堆積膜形成方法 | |
US11670492B2 (en) | Chamber configurations and processes for particle control | |
JP2007080898A (ja) | 静電チャック、これを備える薄膜製造装置、薄膜製造方法、並びに基板表面処理方法 | |
CN104369543B (zh) | 喷墨打印头及其制造方法和装配有喷墨打印头的绘图设备 | |
RU2011103924A (ru) | Способ нанесения покрытия для пассивации кремневых пластин | |
JP5335421B2 (ja) | 真空処理装置 | |
JP2004342834A (ja) | 基板載置トレイ | |
JP6024417B2 (ja) | サンプルホルダ | |
JP5920462B2 (ja) | 基板移載装置及び基板移載方法 | |
KR20080076432A (ko) | 플라즈마 처리 장치 | |
WO2022060665A1 (en) | High conductance process kit | |
JP5950110B2 (ja) | サンプルホルダ | |
JP5889083B2 (ja) | 鉄合金からなる部材の洗浄方法および太陽電池素子の製造方法 | |
JP2008010579A (ja) | 半導体装置製造装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20140226 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20140710 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20140731 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20140801 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5594851 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |