JP6035548B2 - 蒸着マスク - Google Patents
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Description
先ず、図3(a)に示すように、上記マスク用部材12をX軸、Y軸方向に一定のテンションをかけた状態で枠状のフレーム4に架張し、同図(b)に示すようにマスク用部材12の周縁部にレーザ光Lを照射して磁性金属部材2とフレーム4とを溶接する。
先ず、図4(a)に示すように、レーザ加工装置のXYステージ13上にマスク用部材12を、フィルム3を下側にして載置する。このXYステージ13は、ガラスプレート14の表面を載置面とし、ガラスプレート14の裏面側に磁石15(例えば電磁石)を配置した構造を有し、X軸及びY軸方向に移動可能に構成されている。したがって、マスク用部材12は、上記磁石15により磁性金属部材2が吸着されてガラスプレート14に密着固定される。このとき、同図に示すように、ガラスプレート14上に例えばエタノール等の液体16を塗布し、液体16の表面張力によりフィルム3をガラスプレート14上に密着させるとよい。
先ず、図5(a)に示すように、裏面に磁石15(例えば電磁石)を配置した状態で基板17が基板ホルダー19に保持される。
2…磁性金属部材
3…フィルム
4…フレーム
5…貫通孔
6…開口パターン
7…開口
17…基板(被蒸着基板)
20…蒸着源
Claims (6)
- スリット状の複数の貫通孔を並列に並べて有するシート状の磁性金属部材の一面に樹脂製のフィルムを密接させた構造を有し、前記各貫通孔内の前記フィルムの部分に貫通する複数の開口パターンを設けた蒸着マスクであって、
前記フィルムは、線膨張係数が直交二軸で異なる異方性を有し、
前記磁性金属部材の前記貫通孔の長軸に交差する方向に前記フィルムの線膨張係数の小さい軸を合わせたことを特徴とする蒸着マスク。 - 前記磁性金属部材の線膨張係数と、前記フィルムの係数の小さい線膨張係数とを合わせたことを特徴とする請求項1記載の蒸着マスク。
- 前記各線膨張係数を被蒸着基板の線膨張係数に合わせたことを特徴とする請求項2に記載の蒸着マスク。
- 前記フィルムは、ポリイミドであることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の蒸着マスク。
- 被蒸着基板の蒸着面に密接させて使用され、前記貫通孔の長軸に交差する方向に前記被蒸着基板と蒸着源とを相対的に移動しながら蒸着する蒸着装置に適用されることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の蒸着マスク。
- 前記磁性金属部材の周縁部に接合して、前記複数の貫通孔を内包する大きさの開口を有する枠状のフレームを備えたことを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載の蒸着マスク。
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