JP6330389B2 - 基板付蒸着マスク装置の製造方法および基板付蒸着マスク - Google Patents
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Description
以下、図面を参照して本発明の実施の形態について説明する。なお、本件明細書に添付する図面においては、図示と理解のしやすさの便宜上、適宜縮尺および縦横の寸法比等を、実物のそれらから変更し誇張してある。
まず基板付蒸着マスク20Aの製造方法について、主に図3(a)(b)(c)(d)〜図6(a)(b)(c)を用いて説明する。
1a 基板本体
1b ITO膜
2 めっき層
3 レジストパターン
3A ネガ型レジスト膜
5 露光マスク
10 蒸着マスク装置
10A 積層体
15 フレーム
16 開口
20 蒸着マスク
20A 基板付蒸着マスク
21 金属板
21a 第1面
21b 第2面
22 有孔領域
23 無孔領域
25 貫通孔
65 固着箇所
70 熱制御盤
Claims (4)
- ガラス製基板本体と、この基板本体上に形成された透明電極とを有する基板を準備する工程と、
基板上にめっき処理用のレジストパターンを形成する工程と、
レジストパターンが形成された基板上に、有孔領域と、この有孔領域を囲む無孔領域とを有する蒸着マスクをレジストパターンをマスクとしてめっき処理により形成する工程とを備え、レジストパターンの断面は基板に向って先細となるテーパ形状をもち、レジストパターン間の空間にめっき層を形成して蒸着マスクを作成し、レジストパターンはネガ型レジストを用いて露光マスクを介して施されるプロキシミティ露光により形成され、露光マスクとネガ型レジスト膜との間の間隙を変化させて、レジストパターンのテーパ角を調整することを特徴とする基板付蒸着マスクの製造方法。 - 透明電極の平均表面の粗さは、0.1nm〜20nmとなっていることを特徴とする請求項1記載の基板付蒸着マスクの製造方法。
- 基板本体は無アルカリガラス製となっていることを特徴とする請求項1または2記載の基板付蒸着マスクの製造方法。
- 基板本体はソーダガラス製となっていることを特徴とする請求項1または2記載の基板付蒸着マスクの製造方法。
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