TWI482886B - 工件回收裝置 - Google Patents

工件回收裝置 Download PDF

Info

Publication number
TWI482886B
TWI482886B TW102128173A TW102128173A TWI482886B TW I482886 B TWI482886 B TW I482886B TW 102128173 A TW102128173 A TW 102128173A TW 102128173 A TW102128173 A TW 102128173A TW I482886 B TWI482886 B TW I482886B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
processing container
workpiece
surface treatment
funnel
receiving plate
Prior art date
Application number
TW102128173A
Other languages
English (en)
Other versions
TW201346075A (zh
Inventor
Yutaka Sugiura
Ryosuke Hamada
Tetsuro Uemura
Hideki Nakada
Original Assignee
Uyemura C & Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Uyemura C & Co Ltd filed Critical Uyemura C & Co Ltd
Publication of TW201346075A publication Critical patent/TW201346075A/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI482886B publication Critical patent/TWI482886B/zh

Links

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08—CLEANING
    • B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B9/00—Cleaning hollow articles by methods or apparatus specially adapted thereto 
    • B08B9/08—Cleaning containers, e.g. tanks
    • B08B9/0821—Handling or manipulating containers, e.g. moving or rotating containers in cleaning devices, conveying to or from cleaning devices
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08—CLEANING
    • B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B9/00—Cleaning hollow articles by methods or apparatus specially adapted thereto 
    • B08B9/08—Cleaning containers, e.g. tanks
    • B08B9/20—Cleaning containers, e.g. tanks by using apparatus into or on to which containers, e.g. bottles, jars, cans are brought
    • B08B9/28—Cleaning containers, e.g. tanks by using apparatus into or on to which containers, e.g. bottles, jars, cans are brought the apparatus cleaning by splash, spray, or jet application, with or without soaking
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D17/00—Constructional parts, or assemblies thereof, of cells for electrolytic coating
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D17/00—Constructional parts, or assemblies thereof, of cells for electrolytic coating
    • C25D17/16—Apparatus for electrolytic coating of small objects in bulk
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B65—CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
    • B65G—TRANSPORT OR STORAGE DEVICES, e.g. CONVEYORS FOR LOADING OR TIPPING, SHOP CONVEYOR SYSTEMS OR PNEUMATIC TUBE CONVEYORS
    • B65G37/00—Combinations of mechanical conveyors of the same kind, or of different kinds, of interest apart from their application in particular machines or use in particular manufacturing processes
    • B65G37/02—Flow-sheets for conveyor combinations in warehouses, magazines or workshops
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S134/00—Cleaning and liquid contact with solids
    • Y10S134/902—Semiconductor wafer

Description

工件回收裝置
本發明係關於一種工件之表面處理系統，其係將收納有工件之處理容器依次搬送至一系列的裝置中，以用於各裝置之作業，由此獲得經表面處理之工件。作為工件，具有例如：0.5~5000μm之粉體、晶片電容器、二極體、連接器、舌簧開關、釘子、螺栓、螺帽、墊圈等小物品(小型零件)。又，作為表面處理，具有：(1)電性電鍍處理；(2)無電解電鍍處理，例如：浸漬電鍍處理、化學電鍍處理；(3)複合電鍍處理、化學複合電鍍處理；(4)電鍍塗裝處理，例如：陰離子電鍍塗裝處理、陽離子電鍍塗裝處理；(5)前處理，例如：脫脂處理、電解脫脂處理、滾筒研磨處理、鹼性浸漬清洗處理、酸洗處理、酸電解處理、化學研磨處理、電解研磨處理、中和處理；(6)後處理，例如：控水防變色處理、水溶性樹脂處理、鉻酸鹽處理。
作為用以對工件進行表面處理之表面處理裝置，眾所周知有例如專利文獻1、2所示之裝置。該等裝置中，於將處理容器載置於承受板上之狀態下，進行工件之表面處理或水洗，又進行處理容器之清洗等。
【專利文獻1】日本專利特表平11-505295號公報
【專利文獻2】美國專利第5,879,520號公報
然而，於先前之上述裝置中，係利用1台裝置進行表面處理或水洗等之各種處理，故效率差，還可能導致各處理本身不充分。
因此，期望有一種表面處理系統，其可利用各不相同之裝置以流水作業之方式進行各處理。
本申請案之第1發明係一種工件之表面處理系統，其特徵在於：其係將收納有工件之處理容器依次搬送至一系列的裝置中以用於各裝置中之作業，由此獲得經表面處理之工件，該工件之表面處理系統包括：搬送裝置，其將處理容器依次搬送至系統內之一系列的裝置中；搬入搬出裝置，其將處理容器搬入至搬送裝置中，又將處理容器自搬送裝置搬出；表面處理裝置，其自搬送裝置中接受處理容器，且一面使該處理容器旋轉，一面向該處理容器內供給表面處理液，以對工件實施表面處理；以及工件回收裝置，其自搬送裝置中接受處理容器，使該處理容器上下反轉，自下方向該處理容器內噴水以使工件流出，並收集該工件；上述搬送裝置之搬送順序為，表面處理裝置、其次工件回收裝置。
上述第1發明較好的是，進一步採用如下的構成(i)、(ii)。
(i)進而包括：剝離裝置，其自搬送裝置中接受處理容器，且一面使該處理容器旋轉，一面向該處理容器內供給剝離液，以對該處理容器內面實施剝離處理；以及水洗裝置，其自搬送裝置中接受處理容器，使該處理容器上下反轉，並自下方向該處理容器內噴水，以對該處理容器內進行水洗；上述搬送裝置之搬送順序為，表面處理裝置、工件回收裝置、剝離裝置、其次水洗裝置。
(ii)包括複數個表面處理裝置。
本申請案之第2發明係一種搬送裝置，其特徵在於：包括水平的軌道部以及於軌道部上移動之作動部，上述作動部包括：於軌道部上 滑動之基台部；自上述基台部向上延伸之垂直的柱部；以及沿著上述柱部而上下移動之把持部；上述把持部把持處理容器或者放開處理容器。
本申請案之第3發明係一種工件回收裝置，其特徵在於：包括承受板，其載置處理容器；漏斗，其自上方覆蓋承受板上之處理容器；以及反轉機構，其使已覆蓋處理容器之漏斗與承受板及處理容器一起上下反轉；該工件回收裝置之構成係自設置於漏斗上之噴出部向經上下反轉之處理容器內噴水，以將處理容器內之工件洗出到漏斗內，並自漏斗向回收槽排出而收集。
本申請案之第4發明係一種水洗裝置，其特徵在於：包括承受板，其載置處理容器；固定機構，其將處理容器固定於承受板上；反轉機構，其使承受板及處理容器一起上下反轉；以及漏斗，其自下方覆蓋經上下反轉之處理容器；該水洗裝置之構成係自噴出部向經上下反轉之處理容器內噴水，以對該處理容器內進行水洗。
根據本申請案之第1發明，可利用各不相同之裝置以流水作業之方式進行工件之表面處理、以及對經表面處理之工件之回收處理。因此，可整體有效地獲得經表面處理之工件，又可使表面處理本身及回收處理本身充分地進行。
而且，表面處理後之工件因濡濕而黏附於處理容器之內面難以取出，但根據本發明，利用工件回收裝置，使處理容器上下反轉並自下方噴水，因此可使工件與水一起流出，從而可有效地回收工件。
根據上述構成(i)，可獲得清潔化的處理容器。又，當不使處理容器上下反轉而進行水洗時，會導致水貯留於處理容器內，但根據本發明，利用水洗裝置，使處理容器上下反轉並自下方噴水，故可使處理容器內之灰塵等與水一起輕易地流出。藉此，可使水直接噴射至處理 容器之內面之狀態持續，從而可提高水洗之清洗效果。
根據上述構成(ii)，可利用各表面處理裝置進行不同之表面處理。因此，可於工件之表面上形成2層以上之處理被覆膜。
又，可利用複數個表面處理裝置同時進行處理，因此與以1個表面處理裝置進行處理之情形相比，可處理大量的工件。
根據本申請案之第2發明，可利用簡單的作動而搬送處理容器。
根據本申請案之第3發明，可利用簡單的作動而回收經表面處理之工件。又，由於利用漏斗來接受處理容器內之工件，故可防止工件飛散，因此可將工件確實地收集於回收槽中。
根據本申請案之第4發明，可利用簡單的作動而清洗表面處理時所使用之處理容器。又，由於利用漏斗來接受自處理容器中流出之水，故可防止水飛散，從而可防止水洗裝置之周邊受到污染。尤其在自剝離裝置搬送出來的處理容器之內面上，附著有硝酸等有害的剝離液，故可防止含有剝離液之水飛散，從而防止水洗裝置之周邊受到剝離液污染。
1‧‧‧工件之表面處理系統
2‧‧‧搬送裝置
3‧‧‧搬入搬出裝置
4‧‧‧表面處理裝置
5‧‧‧工件回收裝置
6‧‧‧剝離裝置
7‧‧‧水洗裝置
9‧‧‧處理容器
21‧‧‧作動部
22‧‧‧軌道部
23‧‧‧基台部
24‧‧‧柱部
25‧‧‧支持部
26‧‧‧把持部
27‧‧‧連結部
27A、27B、27C、27D、27E、27F、236、237、238、435、562、4413、4414‧‧‧輥
28、291、292、431、434、442、554、4412、4542‧‧‧臂
29‧‧‧保持部
31、561‧‧‧搬送車
32‧‧‧接受部
33‧‧‧支持柱
34‧‧‧載置部
35‧‧‧引導部
40‧‧‧裝置本體
42‧‧‧旋轉驅動機構
43‧‧‧開閉機構
44‧‧‧供給機構
45‧‧‧排水機構
47‧‧‧清洗機構
48‧‧‧吸氣機構
51、71、411‧‧‧承受板
52、74、520‧‧‧漏斗
53、73‧‧‧反轉機構
54‧‧‧回收槽
55‧‧‧迴動機構
56‧‧‧籃
72‧‧‧固定機構
75、293‧‧‧升降機構
76、412‧‧‧接受槽
90‧‧‧固著脫落機構
91‧‧‧電極圈
92‧‧‧薄片構件
93‧‧‧基板
94、2711‧‧‧底板
95‧‧‧蓋體
96‧‧‧螺栓
221‧‧‧下軌道
222‧‧‧上軌道
231‧‧‧驅動輪
232、249、422、3325、4541‧‧‧馬達
233、247、248、4543‧‧‧驅動軸
234、235‧‧‧軸承
241、242‧‧‧縱板
243、2712‧‧‧頂板
244、245、4411‧‧‧軌道
246、332‧‧‧鏈條
271‧‧‧箱體
291‧‧‧動柱
293、294‧‧‧把持器具
311‧‧‧框體
312‧‧‧手柄
313‧‧‧支持片
314、4533、4534‧‧‧空間
315‧‧‧水平板
331‧‧‧軌道
341‧‧‧水平臂
342‧‧‧垂直臂
343‧‧‧棒
344‧‧‧端部
351‧‧‧引導板
352‧‧‧擋板
401、2715、2716‧‧‧凸緣
413‧‧‧覆蓋體
421‧‧‧垂直旋轉軸
432、446、553、721、722‧‧‧缸體機構
447、448‧‧‧水平軌道
433、571、5531、7211、7221‧‧‧桿
441‧‧‧垂直柱
443‧‧‧表面處理液供給管、剝離液供給管
444‧‧‧清洗水供給管
445‧‧‧頭部
451‧‧‧接受容器
452‧‧‧軟管
453‧‧‧區別槽
454‧‧‧移動機構
471‧‧‧給水管
472、473‧‧‧噴出口
481‧‧‧吸氣通路
482‧‧‧吸氣口
521‧‧‧受入部
522‧‧‧本體部
523、4121‧‧‧排出口
524‧‧‧蓋
525、742‧‧‧灑水器
526‧‧‧排出部
529、912‧‧‧彈簧
531、552、731‧‧‧迴動軸
541‧‧‧邊緣
551‧‧‧L形臂
901、911‧‧‧凹部
902‧‧‧凸部
903‧‧‧突部
904‧‧‧孔部
910‧‧‧上端面
913‧‧‧銷
951、4131‧‧‧開口
2211‧‧‧水平板部
2411、2421‧‧‧內面
2461‧‧‧固定部
2462‧‧‧貫通孔
2713、2714‧‧‧側板
2931、2941‧‧‧支持板
2932、2933、2942、2943‧‧‧引導板
3131‧‧‧上端部
3321‧‧‧驅動齒輪
3322、3324‧‧‧齒輪
3323‧‧‧鏈條
4421‧‧‧塊狀物
4451‧‧‧盒體
4452‧‧‧電極端子
4521‧‧‧前端部
4531‧‧‧長孔
4532‧‧‧間隔壁
4551、4552‧‧‧配管
5261‧‧‧旋轉接頭
7212、7222‧‧‧把持板
7213、7223‧‧‧前端邊緣
7421‧‧‧管
7422‧‧‧圈
7423‧‧‧支柱
圖1係表示本發明第1實施形態的工件之表面處理系統之立體圖。
圖2係表示圖1之系統的搬送裝置之作動路徑之示圖。
圖3係表示搬入搬出裝置之立體圖。
圖4係表示圖3之IV箭頭方向觀察之縱剖面圖。
圖5係表示搬送裝置之部分立體圖。
圖6係圖5之VI-VI剖面圖。
圖7係圖6之VII-VII箭頭方向觀察之剖面圖。
圖8係保持部之立體圖。
圖9係表示保持部之移動路徑之立體圖。
圖10係作動前之表面處理裝置之縱剖面圖。
圖11係作動時之表面處理裝置之縱剖面圖。
圖12係表示將處理容器載置於承受板之前的狀態之縱剖面圖。
圖13係表示將處理容器已載置於承受板上之狀態之縱剖面圖。
圖14係排水機構之立體圖。
圖15係覆蓋有處理容器之覆蓋體之縱剖面圖。
圖16係工件回收裝置之立體圖。
圖17係圖16之XVII箭頭方向觀察之示圖。
圖18係圖16之XVIII箭頭方向觀察之示圖。
圖19係水洗裝置之立體圖。
圖20係圖19之XX箭頭方向觀察之示圖。
圖21係第1變形例之表面處理系統之立體圖。
圖22係表示圖21之系統的搬送裝置之作動路徑之示圖。
圖23係表示第2變形例之表面處理系統的搬送裝置之作動路徑之示圖。
圖24係第3變形例之表面處理系統之平面圖。
圖25係表示圖24之系統所使用之搬送裝置之立體圖。
圖26係第4變形例之水洗裝置之縱剖面圖。
圖27係第5變形例之水洗裝置之縱剖面圖。
圖28係第6變形例之工件回收．水洗裝置之縱剖面圖。
圖29係第7變形例的工件回收裝置之相當於圖17之示圖。
圖30係第8變形例的搬入搬出裝置之相當於圖4之示圖。
 [第1實施形態]
(1)全體構成
圖1係表示本發明第1實施形態的工件之表面處理系統之立體 圖。該系統1包括：搬送裝置2、搬入搬出裝置3、表面處理裝置4、工件回收裝置5、剝離裝置6、以及水洗裝置7。工件例如係晶片電容器。表面處理例如係鍍鎳處理。
搬送裝置2將處理容器9依次搬送至系統1內之一系列的裝置4、5、6、7中。具體而言，如圖2所示，搬送裝置2將處理容器9依次搬送至表面處理裝置4、工件回收裝置5、剝離裝置6及水洗裝置7中。
搬入搬出裝置3將處理容器9搬入至搬送裝置2中，又將處理容器9自搬送裝置2中搬出。搬入搬出裝置3具備搬送車31。
表面處理裝置4自搬送裝置2中接受處理容器9，且一面使處理容器9旋轉，一面向處理容器9內供給表面處理液，以對工件實施表面處理。
工件回收裝置5自搬送裝置2中接受處理容器9，使處理容器9上下反轉，自下方向處理容器9內噴水以使工件流出，並收集工件。
剝離裝置6自搬送裝置2中接受處理容器9，且一面使處理容器9旋轉，一面向處理容器9內供給剝離液，以對處理容器9之內面實施剝離處理。
水洗裝置7自搬送裝置2中接受處理容器9，使處理容器9上下反轉，並自下方向處理容器9內噴水，以對處理容器9內進行水洗。
(2)搬入搬出裝置3
圖3係表示搬入搬出裝置3之立體圖。搬入搬出裝置3包括：設置於搬送裝置2之一端之接受部32，以及可連結於接受部32之搬送車31。接受部32包括：豎立設置之支持柱33、沿著支持柱33可上下移動之載置部34、以及將搬送車31向支持柱33附近之特定位置引導之引導部35。
搬送車31包括組裝為大致長方體狀之框體311，且具有手柄312。於搬送車31之上表面之4個部位，設置有支持處理容器9之支持片313。 支持片313之上端部3131向外側彎曲，處理容器9受到4根支持片313之上端部3131自下方的支持。由4根支持片313所包圍之部分中，其下方具有可上下移動地收納載置部34之空間314。
引導部35具有自兩側抵接於搬送車31之引導板351。引導部35引導搬送車31，直至搬送車31抵接於擋板352為止，且使空間314位於載置部34上下移動之範圍內。
載置部34係由如下部分而構成：水平臂341，其一端連結於支持柱33；垂直臂342，其自水平臂341之另一端向上方延伸；以及棒343，其自垂直臂342之上端邊緣水平地向十字方向延伸。棒343僅延伸可載置處理容器9之長度。如圖3之Ⅳ箭頭方向觀察之縱剖面圖即圖4所示，水平臂341之端部344一面於支持柱33之軌道331上滑動一面上下移動，以此連結於支持柱33。再者，於垂直臂342之上端形成有凹部，該凹部係為了嵌合處理容器9之凸部902，故可將處理容器9放置於垂直臂342之中心。因此，可對處理容器9相對於搬送裝置2之位置進行高精度地定位，從而可利用搬送裝置2而確實地把持處理容器9。
於支持柱33上，在上下方架設有鏈條332。水平臂341之端部344連結於鏈條332，鏈條332之驅動齒輪3321經由齒輪3322、鏈條3323及齒輪3324而連結於馬達3325。藉此，驅動鏈條332會與水平臂341之端部344一起上下移動。
(3)搬送裝置2
圖5係搬送裝置2之部分立體圖。搬送裝置2包括作動部21及軌道部22。軌道部22具有水平的下軌道221以及水平的上軌道222。
作動部21包括：於下軌道221上滑動之基台部23、自基台部23向上延伸之垂直的柱部24、以及沿著柱部24而上下移動之把持部26。再者，柱部24具備自柱部24橫向延伸且於上軌道222上滑動之支持部25。
圖6係圖5之VI-VI剖面圖。基台部23為一箱體。基台部23於內部具有驅動輪231，該驅動輪231自上方抵接於下軌道221之水平板部2211。驅動輪231連結於驅動軸233，該驅動軸233自外接在基台部23之馬達232而延伸。驅動軸233由2個軸承234、235支持著。於基台部23之下表面上，設置有自兩側抵接於水平板部2211之兩邊緣的輥236、237以及抵接於水平板部2211之下表面的輥238。若使馬達232作動，則基台部23在以輥236、237、238支持於下軌道221之狀態下，會藉由驅動輪231之旋轉而於下軌道221上滑動。
柱部24係由頂板243將空開間隔而配置之2塊垂直的縱板241、242連結而構成。2塊縱板241、242沿著下軌道221空開間隔而配置著，且相互平行並對向。縱板241於內面之寬度方向之中央處，具有縱向延伸之板狀之軌道244。縱板242亦同樣地具有板狀之軌道245。軌道244與軌道245對向著。於2塊縱板241、242之間，以縱向迴動之方式設置有鏈條246。鏈條246架設於上側之驅動軸247與下側之驅動軸248之間。驅動軸247連結於外接在柱部24上之馬達249。
把持部26包括：連結於柱部24之連結部27、自連結部27水平延伸之臂28、以及設置於臂28之前端且用以保持處理容器9之保持部29。
連結部27位於柱部24之內部空間，係由箱體271與多個輥而構成。圖7係圖6之VII-VII箭頭方向觀察之剖面圖。於箱體271之底板2711上，形成有固定有鏈條246之固定部2461、及鏈條246所通過之貫通孔2462。於箱體271之頂板2712上，形成有鏈條246所通過之2個貫通孔(未圖示)。於箱體271之兩個側板2713、2714上，分別設置有6個輥。於側板2713上，於上部設置有輥27A、27B、27C，於下部設置有輥27D、27E、27F。輥27A、27B自兩側抵接於軌道244。輥27C設置於箱體271之凸緣2715上，且抵接於縱板241之內面2411。輥27D、27E自兩側抵接於軌道244。輥27F設置於箱體271之凸緣2715上，且抵接於縱板241 之內面2411。於側板2714上，亦同樣設置有6個輥27A、27B、27C、27D、27E、27F。亦即，輥27A、27B自兩側抵接於軌道245。輥27C設置於箱體271之凸緣2716上，且抵接於縱板242之內面2421。輥27D、27E自兩側抵接於軌道245。輥27F設置於箱體271之凸緣2716上，且抵接於縱板242之內面2421。
圖8係保持部29之立體圖。保持部29包括自臂28之前端垂下的兩根臂291、292以及分別設置於上述兩根臂291、292之下端的把持器具293、294。兩根臂291、292空開較處理容器9之直徑稍大之間隔而設置著。把持器具293、294於兩根臂291、292之下端對向設置著。把持器具293包括：水平的支持板2931、以及於支持板2931之兩邊緣豎立之引導板2932、2933。把持器具294亦包括：水平的支持板2941、以及於支持板2941之兩邊緣豎立之引導板2942、2943。如圖9所示，保持部29使把持器具293、294自處理容器9之下方接近處理容器9，以將處理容器9載置於支持板2931及支持板2941之上，並且由引導板2932、2933及引導板2942、2943之端緣而支持處理容器9之周面。
(4)表面處理裝置4
圖10係作動前之表面處理裝置4之縱剖面圖。表面處理裝置4包括：水平的承受板411，其用以如圖11所示來載置處理容器9；旋轉驅動機構42，其使承受板411於水平面內旋轉；接受槽412，其位於承受板411之下方，接受表面處理液及清洗水；覆蓋體413，其用以自上方覆蓋承受板411上之處理容器9；開閉機構43，其使覆蓋體413如圖11所示相對於處理容器9而開閉；供給機構44，其對承受板411上之處理容器9分別供給表面處理液與清洗水；以及排水機構45，其連通於接受槽412。
圖12及圖13係表示承受板411與處理容器9之關係之縱剖面圖。處 理容器9上，自下方依次重疊有導電性之基板93、非導電性之底板94、電極圈91及蓋體95，藉由貫通電極圈91之螺栓96而一體化構成，並且處理容器9具有使表面處理液自處理容器9內向其外流出之流出機構。電極圈91經垂直旋轉軸421、基板93、及螺栓96而可通電。亦即，構成有用以藉由垂直旋轉軸421、基板93及螺栓96而使電極圈91通電之通電機構。而且，表面處理裝置4一面使收納有工件之處理容器9旋轉以便工件接觸到電極圈91，一面經由流出機構而使表面處理液自處理容器9內向其外流通，同時自電極(未圖示)對處理容器9內之表面處理液通電，藉此對工件實施表面處理。採用在底板94與電極圈91之間所構成之間隙通路作為流出機構。上述間隙通路係以如下方式而構成：在底板94與電極圈91之間的圓周方向上空開適當間隔而配置相同大小之樹脂製的薄片構件92，並以底板94與電極圈91而夾持該薄片構件92，藉此於鄰接之薄片構件92之間構成間隙通路。
再者，作為處理容器9之流出機構，亦可採用如下這構成(a)、(b)。
(a)於底板94、電極圈91或蓋體95上，形成自處理容器9內通向其外的槽。該槽成為上述間隙通路。槽之深度設定為較工件之直徑淺。根據該構成，可將處理容器9分解而清洗，因此，可使處理容器9之維護簡單化。
(b)在電極圈91與底板94之間，或者在電極圈91與蓋體95之間，夾持有由多孔質材料而形成之圈。圈之多個孔成為上述間隙通路。根據該構成，即使間隙通路之大小為10μm左右，表面處理液亦會流出，故可處理更小的工件。相對於此，在夾持有上述薄片構件91之情形以及上述構成(a)之情形時，若間隙通路之大小為30μm以下，則表面處理液之流出較少，故不作為流出機構而發揮作用。
處理容器9經由固著脫落機構90而載置於承受板411上。固著脫落 機構90係用以使處理容器9相對於垂直旋轉軸421而固著或脫落自如地固定之機構。承受板411固定於垂直旋轉軸421之上端。固著脫落機構90係由如下部分而構成：凹部901，其形成於承受板411之旋轉中心；凸部902，其設置於處理容器9之基板93之下表面的旋轉中心；突部903，其設置於承受板411之複數個部位；以及孔部904，其形成於處理容器9之基板93及底板94上。凹部901具有錐狀地變窄之形態。凸部902具有嵌合於凹部901之形態。突部903以可自承受板411之上表面突出之方式而設置著。孔部904具有嵌合有自承受板411之上表面突出之突部903的形態。再者，突部903較好的是，於圓周方向空開相等間隔而位於承受板411上，其數量例如為2個、4個、5個、6個、8個等。孔部904與突部903相同地配置著，且設為相同數量。此處孔部904設為4個。
更具體而言，突部903在以銷913所支持的彈簧912而向上賦能之狀態下，設置於承受板411上所設的凹部911內。突部903之上端面910為球面。而且，當基板93之下表面之平坦部分朝向凹部911時，突部903藉由該平坦部分而向下方擠壓，並被擠入至凹部911內。又，當基板93及底板94上所形成之孔部904朝向凹部911時，突部903藉由彈簧912而向上擠壓，並嵌合於孔部904內。
在上述固著脫落機構90之作用下，凸部902嵌合於承受板411之凹部901且承受板411之突部903嵌合於孔部904，於此狀態下，處理容器9經由承受板411而固定於垂直旋轉軸421。而且，垂直旋轉軸421之旋轉力經由承受板411而傳達至已被固定之處理容器9。因此，處理容器9可於經由承受板411而固定於垂直旋轉軸421之狀態下，與垂直旋轉軸421一起旋轉。
旋轉驅動機構42藉由馬達422而使垂直旋轉軸421旋轉。
覆蓋體413於中央具有開口4131。開閉機構43係由以下部分構成：自覆蓋體413之側部延伸之臂431、以及使臂431移動之缸體機構 432。臂431迴動自如地連結於桿433。缸體機構432使桿433上下移動。於臂431之中途，形成有自臂431向正交方向分支的臂434，且於臂434之前端設置有輥435。輥435旋轉自如地固定於裝置本體40之凸緣401之前端部。開閉機構43於圖10之狀態下，若桿433向上方移動，則臂431會以輥435作為支點而向箭頭A方向迴動，其結果為，使覆蓋體413自圖10之垂直狀態向圖11之水平狀態改變。亦即，開閉機構43將覆蓋體413關閉。當打開覆蓋體413時，與上述情形相反，可使桿433向下方移動。
如圖11所示，供給機構44包括：垂直柱441、自垂直柱441水平延伸之臂442、表面處理液供給管443、以及清洗水供給管444。臂442於前端具有頭部445。於頭部445上，設置有盒體4451以及電極端子4452。又，表面處理液供給管443之供給口及清洗水供給管444之供給口位於頭部445上。臂442之基端部經由塊狀物4421，於沿著垂直柱441而延伸之軌道4411上滑動。因此，臂442於缸體機構446之作用下，沿著垂直柱441而可上下移動。垂直柱441設置成圖11中在向圖紙的表面背面方向延伸之水平軌道447上可移動。再者，於自垂直柱441向正交方向分支之臂4412之前端上，設置有2個輥4413、4414。2個輥4413、4414自兩側抵接於裝置本體40之水平軌道448，藉此，垂直柱441於裝置本體40中得以支持。水平軌道448係與水平軌道447平行。
排水機構45連通於接受槽412之排出口4121而設置著。圖14係排水機構45之立體圖。排水機構45包括：接受容器451，其連通於排出口4121；可撓性軟管452，其連通於接受容器451且向下方延伸；區別槽453，其中插入有軟管452之前端部4521；以及移動機構454，其使軟管452之前端部4521於水平面內之特定範圍內移動。區別槽453於上表面上，具有插入有軟管452之前端部4521之長孔4531。區別槽453之內部藉由間隔壁4532而分隔為兩個空間4533、4534。移動機構454包括馬達 4541以及臂4542。臂4542之一端連結於軟管452之前端部4521，臂4542之另一端連結於馬達4541之驅動軸4543。移動機構454可藉由使馬達4541作動，而使臂4542以驅動軸4543作為支點而迴動。由此，軟管452之前端部4521會於長孔4531之兩端之間移動。於排水機構45中，當軟管452之前端部4521位於長孔4531之一端時，前端部4521位於區別槽453之一個空間4533中，且當軟管452之前端部4521位於長孔4531之另一端時，前端部4521位於區別槽453之另一個空間4534中。自兩個空間4533、4534之底面分別延伸有配管4551、4552。
如圖15所示，覆蓋體413包括清洗機構47及吸氣機構48。清洗機構47係由環狀地設置於覆蓋體413之內面之給水管471而構成。給水管471具有：朝向覆蓋體413之內面之多個噴出口472、以及朝向處理容器9之蓋體95之外表面的多個噴出口473。吸氣機構48係由沿著覆蓋體413之開口4131之周緣而設置的吸氣通路481而構成。吸氣通路481具有朝向開口4131之中心而打開之多個吸氣口482。
(5)工件回收裝置5
圖16係工件回收裝置5之立體圖，圖17係圖16之XVII箭頭方向觀察之示圖，圖18係圖16之XVIII箭頭方向觀察之示圖。工件回收裝置5包括：水平的承受板51，其載置處理容器9；漏斗52；反轉機構53，其使承受板51上之處理容器9與漏斗52一起上下反轉；以及回收槽54，其用以回收工件。再者，於承受板51形成有嵌合有處理容器9之凸部902的凹部，故可將處理容器9放置於承受板51之中心。因此，可對處理容器9相對於搬送裝置2之位置進行高精度地定位，從而可利用搬送裝置2而確實地把持處理容器9。
漏斗52具有擴開之受入部521、筒狀之本體部522、傾斜之排出部526、排出口523、以及灑水器525。排出口523自外側藉由蓋524而開閉 自如地堵塞著。蓋524形成為以設置於排出部526之軸作為中心而迴動並開閉。蓋524藉由架設於蓋524與本體部522之間的彈簧529而賦能，以成為始終關閉狀態。由於蓋524被賦能而成為始終關閉狀態，故直至打開蓋524為止工件不會自漏斗52露出，因此，可將所有工件確實地回收至回收槽54中。灑水器525設置成自本體部522側向受入部521側噴出清洗水。漏斗52包括迴動機構55，其用以使漏斗52如箭頭(圖17)所示迴動90度而安裝於處理容器9上。圖17表示非安裝狀態之漏斗52，圖18表示安裝狀態之漏斗52。漏斗52於安裝狀態下，自上方輕微地擠壓載置於承受板51上之處理容器9。再者，受入部521、本體部522、及排出部526之內面受到鏡面研磨，故可使所有工件自漏斗52內順利地滑落，由此可將所有工件確實地回收至回收槽54中。
迴動機構55包括：L形臂551、水平的迴動軸552、以及使迴動軸552迴動之缸體機構553。L形臂551之一端自側方連結於漏斗52，L形臂551之另一端固定於迴動軸552。迴動軸552經由臂554而連結於缸體機構553之桿5531之前端。臂554迴動自如地連結於桿5531。於圖17中，桿5531處於後退之狀態。使桿5531前進，藉此，迴動機構55經由臂554而使迴動軸552迴動，並隨此使漏斗52如箭頭所示迴動。再者，於漏斗52迴動時，漏斗52之受入部521密著於處理容器9之開口951。由此，可防止處理容器9及漏斗52反轉時工件漏出，故可將所有工件確實地回收至回收槽54中。
反轉機構53包括：迴動軸531以及驅動迴動軸531之馬達(未圖示)。上述的漏斗52及迴動機構55與承受板51固定於迴動軸531上。使迴動軸531迴動，藉此，反轉機構53使承受板51、處理容器9及安裝狀態之漏斗52如箭頭(圖18)所示反轉。
回收槽54在相對於反轉機構53之迴動軸531而正交之方向(Y方向)上具有較長形狀。於回收槽54內，設置有用以收集工件之籃56。籃56 藉由搬送車561而可移動地支持於Y方向。搬送車561在輥562之作用下，於回收槽54之邊緣541上移動。籃56位於回收槽54內之水中。由此可防止已回收之工件與空氣接觸，故可防止由表面處理而形成之被覆膜被氧化，從而可將表面處理後之工件之品質較高地保持。回收槽54之一端側位於經反轉之漏斗52之排出口523之下方。於回收槽54之一端側上，設置有缸體機構57。如圖18所示，缸體機構57使桿571於水平方向移動，從而於桿571之前端之作用下，使堵塞漏斗52之排出口523的蓋524抵抗彈簧529之力而打開。
(6)剝離裝置6
剝離裝置6僅一部分與表面處理裝置4不同。亦即，剝離裝置6包括剝離液供給管443，以取代表面處理液供給管443。
(7)水洗裝置7
圖19係水洗裝置7之立體圖，圖20係圖19之XX箭頭方向觀察之示圖。水洗裝置7包括：水平的承受板71，其載置處理容器9；固定機構72，其將處理容器9固定於承受板71上；反轉機構73，其使處理容器9與承受板71一起反轉；以及漏斗74。再者，於承受板71上形成有嵌合有處理容器9之凸部902的凹部，故可將處理容器9放置於承受板71之中心。因此，可對處理容器9相對於搬送裝置2之位置進行高精度地定位，從而可利用搬送裝置2而確實地把持處理容器9。。
反轉機構73包括：水平的迴動軸731以及使迴動軸731迴動之馬達(未圖示)。
承受板71固定於迴動軸731上。
固定機構72係由固定於承受板71之下表面之2個缸體機構721、722而構成。缸體機構721、722並列設置於承受板71之直徑方向上，且設置成使桿7211、7221向外進退。桿7211、7221於前端具有把持板 7212、7222。固定機構72使缸體機構721、722之桿7211、7221進退，藉此而放大或縮小把持板7212、7222之間隔，當縮小把持板7212、7222之間隔時，成為自兩側夾持處理容器9。把持板7212、7222之前端邊緣7213、7223呈圓弧狀。把持板7212、7222之前端邊緣7213、7223抵接於直徑小於處理容器9之最大直徑之部分，因此把持板7212、7222亦具有將處理容器9擠壓至承受板71之作用。
漏斗74通向下方之接受槽76。漏斗74之入口741係自下方對向於經反轉之處理容器9之蓋體95之開口951。於漏斗74內，設置有向上噴出清洗水之灑水器742。灑水器742經由可撓性之軟管743而連接於清洗水供給源(未圖示)。
漏斗74包括升降機構75。升降機構75包括臂751以及缸體機構752。臂751中，其一端連結於漏斗74，其另一端連結於缸體機構752之桿7521之前端。升降機構75藉由使桿7521上下移動而使漏斗74上下移動。再者，當漏斗74上升時，漏斗74之入口741密著於處理容器9之開口951。由此可防止水飛散至水洗裝置7之周圍，從而可防止水洗裝置7之周圍受到污染。
(8)其次，對上述構成之表面處理系統1之作動情況進行說明。
(A)搬入步驟
首先，將處理容器9載置於搬送車31之4根支持片313上。其次，將工件放入處理容器9中。然後，使搬送車31移動，以連結於接受部32。之後，按下系統之作動開始按鈕。藉此，首先，接受部32進行作動。
當接受部32作動後，載置部34自下方支持載置於搬送車31上之處理容器9，並如圖4中箭頭C所示上升。此時，由於處理容器9之凸部902嵌合於垂直臂342之上端之凹部，故處理容器9被引導至垂直臂342之中央。然後，載置部34於搬送裝置2之保持部29之高度位置停止。
(B)搬送步驟[1]
其次，搬送裝置2開始作動。首先，保持部29把持載置部34上之處理容器9。然後，作動部21如圖2之路徑[1-1]所示，沿著軌道部22而橫向移動。
其次，作動部21之把持部26如圖2之路徑[1-2]所示下降，以使處理容器9載置於表面處理裝置4之承受板411上之後，一直下降至較處理容器9更低之位置而停止。該停止位置係於把持部26之把持器具293、294水平移動時，引導板2932、2933、2942、2943不會與處理容器9產生衝突之高度位置。之後，作動部21如圖2之路徑[1-3]所示，沿著軌道部22而橫向稍微移動，藉此，把持部26處於等待位置。
(C)表面處理步驟 (C-1)覆蓋體關閉步驟
當把持部26處於等待位置後，表面處理裝置4開始作動。首先，開閉機構43作動，覆蓋體413關閉。亦即，覆蓋體413覆蓋承受板411上之處理容器9。
(C-2)排水作動步驟[1]
其次，排水機構45作動，軟管452之前端部4521位於區別槽453之回收清洗水之空間4534中。
(C-3)清洗步驟[1]
其次，於供給機構44中，垂直柱441水平移動之後，臂442下降，頭部445位於承受板411上之處理容器9之開口951中。
其次，自供給機構44之清洗水供給管444向處理容器9內投入清洗水，並且旋轉驅動機構42作動，從而處理容器9旋轉。藉此對處理容器9內進行清洗。經固定時間後，停止供給清洗水，但處理容器9繼續旋轉。由此進行脫水處理。
其次，覆蓋體413之清洗機構47作動。藉此對覆蓋體413之內面及處理容器9之蓋體95之外表面進行清洗。經固定時間後，清洗機構47停止，處理容器9之旋轉亦停止。
(C-4)排水作動步驟[2]
其次，排水機構45作動，軟管452之前端部4521位於區別槽453之回收表面處理液之空間4533中。
(C-5)處理步驟
其次，自供給機構44之表面處理液供給管443向處理容器9內投入表面處理液，並且旋轉驅動機構42作動，從而處理容器9旋轉。又，覆蓋體413之吸氣機構48作動，自吸氣口482進行吸氣。此時，由於含有表面處理液之成分之輕霧自吸氣口482被吸引，故可防止表面處理裝置4之周邊之空氣受到污染。又，當表面處理為電解處理時，對處理容器9之電極圈91通電。然後，經固定時間後，停止投入表面處理液，再經固定時間後，停止處理容器9之旋轉。藉此，進行脫液處理。
(C-6)排水作動步驟[3]
其次，排水機構45作動，軟管452之前端部4521位於區別槽453之回收清洗之空間4534中。
(C-7)清洗步驟[2]
其次，自供給機構44之清洗水供給管444向處理容器9內投入清洗水，並且旋轉驅動機構42作動，從而處理容器9旋轉。藉此對處理容器9內進行清洗。經固定時間後，停止供給清洗水，但處理容器9繼續旋轉。由此進行脫水處理。
其次，覆蓋體413之清洗機構47作動。藉此對覆蓋體413之內面及處理容器9之蓋體95之外表面進行清洗。經固定時間後，清洗機構47停止，處理容器9之旋轉亦停止。
然後，亦停止吸氣機構48。
(C-8)覆蓋體步驟
然後，開閉機構43作動，覆蓋體413打開。
(D)搬送步驟[2]
其次，搬送裝置2作動。首先，作動部21如圖2之路徑[2-1]所示，沿著軌道部22而橫向稍微移動。亦即，把持部26自等待位置移動至承受板411上之處理容器9之位置為止。然後，把持部26保持處理容器9。
其次，作動部21之把持部26如圖2之路徑[2-2]所示上升。然後，作動部21如圖2之路徑[2-3]所示，沿著軌道部22而橫向移動，並於工件回收裝置5之位置停止。
其次，作動部21之把持部26如圖2之路徑[2-4]所示下降，以使處理容器9載置於工件回收裝置5之承受板51上之後，一直下降至較處理容器9更低之位置而停止。該停止位置係於把持部26之把持器具293、294水平移動時，引導板2932、2933、2942、2943不會與處理容器9產生衝突之高度位置。此時，處理容器9之凸部902嵌合於承受板51之凹部，故處理容器9被引導至承受板51之中央。之後，作動部21如圖2之路徑[2-5]所示，沿著軌道部22而橫向稍微移動，藉此，把持部26成為等待位置。
(E)工件回收步驟
當感測器(未圖示)檢測出處理容器9已載置於承受板51上以及籃56位於特定之回收位置時，迴動機構55作動，以將漏斗52安裝於處理容器9上，並且蜂鳴器鳴響。
其次，反轉機構53作動，處理容器9及漏斗52被反轉。
接著，自灑水器525噴出水，之後隨即缸體機構57作動，蓋524打開。此時，由於水自灑水器525噴出，故可向處理容器9之整個內面噴 水，從而可使處理容器9內之工件確實地流出。藉此，處理容器9內之工件與水一起自處理容器9流出，並自漏斗52之排出口523排出。所排出之工件儲存於籃56中。
經固定時間後，灑水器525停止，之後，缸體機構57作動，蓋524關閉。
其次，反轉機構53作動，處理容器9及漏斗52再次反轉而返回至原始狀態。而且，迴動機構55作動，漏斗52成為非安裝狀態，並且蜂鳴器鳴響。
再者，藉由搬送車561而使籃56移動至跟前，取出籃56，回收工件。
(F)搬送步驟[3]
其次，搬送裝置2作動。首先，作動部21如圖2之路徑[3-1]所示，沿著軌道部22而橫向稍微移動。亦即，把持部26自等待位置移動至承受板51上之處理容器9之位置為止。然後，把持部26保持處理容器9。
其次，作動部21之把持部26如圖2之路徑[3-2]所示上升。然後，作動部21如圖2之路徑[3-3]所示，沿著軌道部22而橫向移動，並於剝離裝置6之位置停止。
其次，作動部21之把持部26如圖2之路徑[3-4]所示下降，以使處理容器9載置於剝離裝置6之承受板411上之後，一直下降至較處理容器9更低之位置而停止。於把持部26之把持器具293、294水平移動時，該停止位置係引導板2932、2933、2942、2943不會與處理容器9產生衝突之高度位置。之後，作動部21如圖2之路徑[3-5]所示，沿著軌道部22而橫向稍微移動，藉此，把持部26處於等待位置。
(G)剝離處理步驟 (G-1)覆蓋體關閉步驟
當把持部26處於等待位置後，剝離裝置6開始作動。首先，開閉機構43作動，覆蓋體413關閉。亦即，覆蓋體413覆蓋承受板411上之處理容器9。
(G-2)排水作動步驟[1]
其次，排水機構45作動，軟管452之前端部4521位於區別槽453之回收剝離液之空間(未圖示)中。
(G-3)處理步驟
其次，於供給機構44中，垂直柱441水平移動之後，臂442下降，頭部445位於承受板411上之處理容器9之開口951中。
其次，自供給機構44之剝離液供給管443向處理容器9內投入剝離液，並且旋轉驅動機構42作動，從而處理容器9旋轉。又，覆蓋體413之吸氣機構48作動，自吸氣口482進行吸氣。藉此，處理容器9之內面上之附著物(例如電鍍被覆膜)被剝離。經固定時間後，停止供給剝離液，但處理容器9繼續旋轉。由此進行脫液處理。然後，處理容器9之旋轉停止。
(G-4)排水作動步驟[2]
其次，排水機構45作動，軟管452之前端部4521位於區別槽453之回收清洗水之空間4534中。
(G-5)清洗步驟
其次，自供給機構44之清洗水供給管444向處理容器9內投入清洗水，並且旋轉驅動機構42作動，處理容器9旋轉。藉此對處理容器9內進行清洗。經固定時間後，停止供給清洗水，但處理容器9繼續旋轉。由此進行脫水處理。
其次，覆蓋體413之清洗機構47作動。藉此對覆蓋體413之內面及處理容器9之蓋體95之外表面進行清洗。經固定時間後，清洗機構47 停止，處理容器9之旋轉亦停止。
然後，亦停止吸氣機構48。
(G-6)覆蓋體打開步驟
接著，開閉機構43作動，覆蓋體413打開。
(H)搬送步驟[4]
其次，搬送裝置2作動。首先，作動部21如圖2之路徑[4-1]所示，沿著軌道部22而橫向稍微移動。亦即，把持部26自等待位置移動至承受板411上之處理容器9之位置為止。然後，把持部26保持處理容器9。
其次，作動部21之把持部26如圖2之路徑[4-2]所示上升。然後，作動部21如圖2之路徑[4-3]所示，沿著軌道部22而橫向移動，並於水洗裝置7之位置停止。
其次，作動部21之把持部26如圖2之路徑[4-4]所示下降，使處理容器9載置於水洗裝置7之承受板71上之後，下降至低於處理容器9之位置為止而停止。於把持部26之把持器具293、294水平移動時，該停止位置為引導板2932、2933、2942、2943不與處理容器9衝突之高度位置。此時，處理容器9之凸部902嵌合於承受板71之凹部，因此將處理容器9引導至承受板71之中央。之後，作動部21如圖2之路徑[4-5]所示，沿著軌道部22而橫向稍微移動，藉此，把持部26處於等待位置。
(I)水洗步驟
當把持部26處於等待位置時，水洗裝置7開始作動。首先，固定機構72作動，而將處理容器9固定於承受板71上。
其次，反轉機構73作動，使得處理容器9與承受板71一起反轉。
接著，升降機構75作動，漏斗74上升至最接近處理容器9為止。
其次，自灑水器742噴出水。藉此，對處理容器9之整個內面噴水，從而殘留於處理容器9內之所有剝離液或附著物確實地自處理容器9流 出，並透過漏斗74而向接受槽76回收。
經固定時間後，灑水器742停止。
其次，升降機構75作動，漏斗74下降。
接著，反轉機構73作動，使得處理容器9與承受板71一起再次反轉，而返回至原來之狀態。
然後，固定機構72作動，而解除處理容器9之固定。
(J)搬送步驟[5]
其次，搬送裝置2作動。首先，作動部21如圖2之路徑[5-1]所示，沿著軌道部22而橫向稍微移動。亦即，把持部26自等待位置移動至承受板71上之處理容器9之位置為止。然後，把持部26保持處理容器9。
其次，作動部21之把持部26如圖2之路徑[5-2]所示上升。然後，作動部21如圖2之路徑[5-3]所示，沿著軌道部22而橫向移動，並於接受部32之位置停止。
(K)搬出步驟
接著，接受部32作動。首先，載置部34上升，以使搬送裝置2之保持部29自下方支持處理容器9。
其次，搬送裝置2之作動部21橫向稍微移動，從而保持部29自載置部34退避。
然後，載置部34保持載置處理容器9之狀態而下降。於下降之中途，處理容器9載置於搬送車31之4根支持片313上。
然後，使搬送車31自接受部32移動，自搬送車31上取出處理容器9，並將新的處理容器9載置於搬送車31上。
接著，執行與上述相同之作動。
利用以上之作動，根據上述構成之表面處理系統，可將收納有工件之處理容器9自動地依次供給至表面處理裝置4、工件回收裝置5、剝 離裝置6、以及水洗裝置7，因此可獲得作業效率良好的經表面處理之工件，進而，亦可獲得被洗淨之處理容器9。
[其它實施形態]
本發明亦可採用如下之變形構成。
(1)如圖21所示，於第1實施形態之系統中，亦可省略剝離裝置6及水洗裝置7。圖22表示該情形時的處理容器9之搬送路徑。根據該系統，亦可獲得經表面處理之工件。
(2)如圖23所示，於第1實施形態之系統中，亦可不將處理容器9搬送至剝離裝置6及水洗裝置7而結束處理。
(3)如圖24所示，亦可將第1實施形態之各裝置3、4、5、6、7配置成俯視為圓形。該情形時之搬送裝置2如圖25所示，包括：迴動柱291、臂292、臂292之升降機構293、以及設置於臂292之前端且用以保持處理容器9之保持部29。搬送裝置2使迴動柱291迴動，以使臂292迴動，藉此將保持於保持部29上之處理容器9搬送至各裝置3、4、5、6、7。升降機構293使臂292升降，藉此使保持於保持部29上之處理容器9升降。
(4)如圖26所示，於第1實施形態之水洗裝置7中，亦可將灑水器742固定設置於接受槽76上。具體而言，使管7421自灑水器742鉛直地延伸，且由圈7422及支柱7423支持並橫向延伸。
(5)如圖27所示，亦可將漏斗74設為大直徑之大型，以兼作接受槽76。
(6)如圖28所示，亦可將第1實施形態之工件回收裝置5與水洗裝置7一體地設置著。於該情形時，於第1實施形態之工件回收裝置5中，回收槽54與接受槽76並列設置著。又，於漏斗52中，排出部526相對於本體部522，可經由旋轉接頭5261而迴動。又，缸體機構57與排出部526 一體地設置著。該裝置於工件回收步驟中，排出部526向回收槽54側作動，於水洗步驟中，排出部526向接受槽76側作動。
(7)亦可設置複數個表面處理裝置4。藉此，可由各表面處理裝置4進行不同之表面處理，因而可於工件之表面形成2層以上之處理被覆膜。
(8)如圖29所示，亦可於回收槽54之上方設置大口之漏斗520，以取代第1實施形態之工件回收裝置5中之漏斗52。藉此，可利用與水洗裝置7之反轉機構73共通之零件而構成工件回收裝置5之反轉機構53，從而可減少零件之種類並提高生產性。
(9)如圖30所示，亦可分別於第1實施形態之搬送車31之支持片313上設置朝向內側之水平板315。處理容器9載置於水平板315上。藉此，支持片313會接觸到載置於水平板315上之處理容器9之側面，由此可確實地防止處理容器9於水平方向移動。
[產業上之可利用性]
本發明之表面處理系統可藉由流水作業之方式而有效地進行對工件之表面處理、工件之回收、處理容器之清洗等，因此產業上之利用價值較大。
1‧‧‧工件之表面處理系統
2‧‧‧搬送裝置
3‧‧‧搬入搬出裝置
4‧‧‧表面處理裝置
5‧‧‧工件回收裝置
6‧‧‧剝離裝置
7‧‧‧水洗裝置
9‧‧‧處理容器
21‧‧‧作動部
22‧‧‧軌道部
26‧‧‧把持部
31‧‧‧搬送車
44‧‧‧供給機構
51、71‧‧‧承受板
413‧‧‧覆蓋體
441‧‧‧垂直柱

Claims (1)

  1. 一種工件回收裝置，其特徵在於：包括：承受板，其載置處理容器；漏斗，其自上方覆蓋承受板上之處理容器；以及反轉機構，其使已覆蓋處理容器之漏斗與承受板及處理容器一起上下反轉；且該工件回收裝置之構成係自設置於漏斗上之噴出部向經上下反轉之處理容器內噴水，以將處理容器內之工件洗出到漏斗內，並自漏斗向回收槽排出而收集。
TW102128173A 2007-06-06 2008-05-26 工件回收裝置 TWI482886B (zh)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007150494A JP5038024B2 (ja) 2007-06-06 2007-06-06 ワークの表面処理システム

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TW201346075A TW201346075A (zh) 2013-11-16
TWI482886B true TWI482886B (zh) 2015-05-01

Family

ID=39820947

Family Applications (3)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW102128173A TWI482886B (zh) 2007-06-06 2008-05-26 工件回收裝置
TW097119436A TWI431168B (zh) 2007-06-06 2008-05-26 工件之表面處理系統
TW102128172A TWI482885B (zh) 2007-06-06 2008-05-26 水洗裝置

Family Applications After (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW097119436A TWI431168B (zh) 2007-06-06 2008-05-26 工件之表面處理系統
TW102128172A TWI482885B (zh) 2007-06-06 2008-05-26 水洗裝置

Country Status (7)

Country Link
US (3) US7938914B2 (zh)
EP (1) EP2000564B1 (zh)
JP (1) JP5038024B2 (zh)
KR (1) KR101485603B1 (zh)
CN (3) CN102127797B (zh)
DE (1) DE602008004689D1 (zh)
TW (3) TWI482886B (zh)

Families Citing this family (27)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5121481B2 (ja) * 2008-02-01 2013-01-16 上村工業株式会社 表面処理装置
JP5602553B2 (ja) * 2010-09-17 2014-10-08 アルメックスＰｅ株式会社 表面処理装置
JP5651657B2 (ja) * 2012-08-31 2015-01-14 上村工業株式会社 表面処理機
JP2012229495A (ja) * 2012-08-31 2012-11-22 C Uyemura & Co Ltd 供給機
JP5651658B2 (ja) * 2012-08-31 2015-01-14 上村工業株式会社 乾燥機
JP5579805B2 (ja) * 2012-08-31 2014-08-27 上村工業株式会社 ワーク回収機
CN103510146B (zh) * 2013-10-31 2016-04-20 广东保迪环保电镀设备有限公司 铝长件和普通件复合电镀生产线
JP2015120952A (ja) * 2013-12-21 2015-07-02 睦技研株式会社 めっき装置
CN104451845A (zh) * 2014-11-13 2015-03-25 深圳国宝造币有限公司 一种贵金属币自动化镀膜系统及方法
CN106319595B (zh) * 2016-10-21 2018-11-27 南京鸿发有色金属制造股份有限公司 铝型材表面处理槽液稳定性控制系统及其控制方法
CN106555216A (zh) * 2016-11-30 2017-04-05 合肥亿福自动化科技有限公司 一种槽液稳定性控制系统
TWI648434B (zh) * 2016-12-28 2019-01-21 黃愽道 小型零件的電鍍裝置
CN107130229B (zh) * 2017-05-17 2018-10-19 齐鲁理工学院 一种化学镀装置
CN109281893A (zh) * 2017-09-06 2019-01-29 合肥智慧龙图腾知识产权股份有限公司 一种液压系统组合密封垫机械化回收处理装置
CN108103556B (zh) * 2017-11-30 2019-07-12 苏州中藤机电科技有限公司 一种汽车座椅电泳线悬架上挂装置及上挂方法
WO2019127014A1 (zh) * 2017-12-26 2019-07-04 汉玛科技股份有限公司 电镀组合机构
CN108070896B (zh) * 2018-01-17 2024-03-19 南京海创表面处理技术有限公司 铸造镁合金产品表面处理设备及其工艺
CN108636913A (zh) * 2018-07-26 2018-10-12 天津鹏宇兴业五金制品有限公司 一种钢钉清洗装置
CN109127617B (zh) * 2018-07-30 2020-04-21 安徽佰瑞特日用品有限公司 一种自动化保温瓶胆循环清洗装置
KR102194014B1 (ko) * 2018-12-07 2020-12-23 인하대학교 산학협력단 전기화학 융합 장치
JP6793761B2 (ja) * 2019-01-10 2020-12-02 上村工業株式会社 表面処理装置およびその方法
CN109898124B (zh) * 2019-03-28 2020-12-01 昆山世冠金属塑料制品有限公司 一种电镀机构
CN112570367A (zh) * 2020-11-12 2021-03-30 董立喜 一种可循环式电路板超声波清洗装置
CN112547679A (zh) * 2020-12-22 2021-03-26 丁学武 一种陶瓷产品超声波清洗装置
KR102502442B1 (ko) * 2021-04-29 2023-02-23 (주) 탑스 회전식 도금장치
CN113458944A (zh) * 2021-08-02 2021-10-01 德清泰鑫金属制品有限公司 一种废旧钢铁回收用除锈流水线
CN114703518A (zh) * 2021-12-29 2022-07-05 龙南骏亚电子科技有限公司 一种沉铜电镀一体化系统及装置

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1638732A2 (en) * 2003-06-06 2006-03-29 Semitool, Inc. Methods and systems for processing microfeature workpieces with flow agitators and/or multiple electrodes
CN1960799A (zh) * 2003-06-06 2007-05-09 塞米用具公司 用于处理微特征工件的、具有流动搅拌器和/或多个电极的方法和系统

Family Cites Families (34)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US1914144A (en) * 1930-04-17 1933-06-13 Borden Co Machine for washing cans and the like
US1914146A (en) * 1931-09-22 1933-06-13 Borden Co Machine for washing cans and the like
US2351453A (en) * 1942-05-23 1944-06-13 Whiting Corp Apparatus for cleaning castings or metal parts
US3335839A (en) * 1966-09-26 1967-08-15 Udylite Corp Conveying machine
DE1771713A1 (de) 1968-06-28 1972-02-10 Ernst Wenzel Automatisierte Fertigungseinrichtung fuer galvanotechnische und artverwandte Bearbeitungen mit Behandlungsstationen fuer nacheinander ablaufende kurzzeitige chemische Bearbeitungen und Spuelvorgaenge
GB1283049A (en) * 1968-10-07 1972-07-26 Castan Ltd Apparatus for emptying and cleaning bed pans
US3664355A (en) * 1970-07-20 1972-05-23 Robert J Adams Container washing apparatus
US4411357A (en) * 1980-10-10 1983-10-25 Systems Engineering And Manufacturing Corp. Safety device for use in conveyor-type apparatus
JPS61194198A (ja) * 1985-02-23 1986-08-28 Takashi Kobayashi 表面処理に於ける被処理物の移送装置
US4665655A (en) * 1985-07-17 1987-05-19 Ampro Equipment, Inc. Apparatus for cleaning of engine cylinder heads, blocks and other components
US4653518A (en) * 1985-07-23 1987-03-31 Shiro Adachi Washing apparatus for containers used to hold urine
US5240686A (en) * 1986-08-25 1993-08-31 S I C Ag Arrangement for emptying and cleaning hygienic vessels
US4775357A (en) * 1987-03-06 1988-10-04 The Goodyear Tire & Rubber Company Positive drive belt
US4772357A (en) * 1987-06-08 1988-09-20 Robbins & Craig Welding & Mfg. Co. System for automatically etching pieces
US5025280A (en) * 1987-12-17 1991-06-18 Texas Instruments Incorporated Immersion development and rinse machine and process
US5168886A (en) * 1988-05-25 1992-12-08 Semitool, Inc. Single wafer processor
IT1230888B (it) * 1989-06-21 1991-11-08 Guerinat Daniel Impianto per il trattamento di pezzi in vasca di lavaggio
JPH0356692A (ja) * 1989-07-25 1991-03-12 Trinity Ind Corp 電着塗装装置
JPH0379792A (ja) * 1989-08-23 1991-04-04 Rohm Co Ltd 連続加工処理ラインにおける段取り装置
US6375741B2 (en) * 1991-03-06 2002-04-23 Timothy J. Reardon Semiconductor processing spray coating apparatus
JP2593237B2 (ja) * 1990-07-31 1997-03-26 三菱電機株式会社 浸漬洗浄装置
US5565079A (en) 1993-08-31 1996-10-15 Griego; Thomas P. Fine particle microencapsulation and electroforming
US5879520A (en) 1994-08-26 1999-03-09 Griego; Thomas P. Rotary electrodeposition apparatus
JPH1027770A (ja) * 1996-07-09 1998-01-27 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 基板処理装置
US6358388B1 (en) * 1996-07-15 2002-03-19 Semitool, Inc. Plating system workpiece support having workpiece-engaging electrodes with distal contact-part and dielectric cover
JP3850952B2 (ja) * 1997-05-15 2006-11-29 東京エレクトロン株式会社 基板搬送装置及び基板搬送方法
US6090711A (en) * 1997-09-30 2000-07-18 Semitool, Inc. Methods for controlling semiconductor workpiece surface exposure to processing liquids
IT1298983B1 (it) * 1998-03-31 2000-02-07 Gala Francesco Impianto galvanico per la placcatura di pezzi
DE19834245B4 (de) * 1998-07-29 2007-05-03 Nütro Maschinen- und Anlagenbau GmbH & Co. KG Vorrichtung zum elektrolytischen Beschichten
JP2000135476A (ja) * 1999-10-21 2000-05-16 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 基板表面処理装置
US6263887B1 (en) * 2000-01-14 2001-07-24 Dornoch Medical Systems, Inc. Liquid waste disposal and canister flushing system and method
JP3687744B2 (ja) * 2001-03-19 2005-08-24 Ｔｄｋ株式会社 連続搬送バレルメッキ装置
JP2003171798A (ja) * 2001-07-16 2003-06-20 Tdk Corp バレルメッキ方法及び装置
US7025862B2 (en) * 2002-10-22 2006-04-11 Applied Materials Plating uniformity control by contact ring shaping

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1638732A2 (en) * 2003-06-06 2006-03-29 Semitool, Inc. Methods and systems for processing microfeature workpieces with flow agitators and/or multiple electrodes
CN1960799A (zh) * 2003-06-06 2007-05-09 塞米用具公司 用于处理微特征工件的、具有流动搅拌器和/或多个电极的方法和系统

Also Published As

Publication number Publication date
US20110146732A1 (en) 2011-06-23
CN102127797B (zh) 2015-02-11
TW200916611A (en) 2009-04-16
KR20080107269A (ko) 2008-12-10
US20080302396A1 (en) 2008-12-11
CN101319345B (zh) 2011-07-27
EP2000564A1 (en) 2008-12-10
CN102127796B (zh) 2013-11-06
JP2008303419A (ja) 2008-12-18
JP5038024B2 (ja) 2012-10-03
KR101485603B1 (ko) 2015-01-22
EP2000564B1 (en) 2011-01-26
US20140230858A1 (en) 2014-08-21
TW201346074A (zh) 2013-11-16
CN102127796A (zh) 2011-07-20
US7938914B2 (en) 2011-05-10
CN101319345A (zh) 2008-12-10
DE602008004689D1 (de) 2011-03-10
TW201346075A (zh) 2013-11-16
TWI482885B (zh) 2015-05-01
CN102127797A (zh) 2011-07-20
US9242281B2 (en) 2016-01-26
TWI431168B (zh) 2014-03-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI482886B (zh) 工件回收裝置
JP5121481B2 (ja) 表面処理装置
JP2008303419A5 (zh)
CN107541767A (zh) 一种全自动智能表面处理环保生产系统
JPH08155406A (ja) 洗浄装置
JP5462907B2 (ja) 水洗装置
JP5512742B2 (ja) ワーク回収装置
KR101904645B1 (ko) 세정 및 린스공정을 수행할 수 있는 산업용 세척기
CN214052841U (zh) 一种pvd生产用入料清洗装置
JPH08100296A (ja) メッキ装置
JP2704694B2 (ja) 洗浄装置
CN215236274U (zh) 一种电机壳清洗机的清洗机构
CN217451200U (zh) 一种用于汽车钣金冲压机器人维护保养的自适应清理装置
CN115649788B (zh) 金属件回收用酸洗输送系统及其工作方法
JP5651658B2 (ja) 乾燥機
CN216696177U (zh) 一种快速成像探伤装置
CN215085222U (zh) 一种废液处理机构
CN215543331U (zh) 一种电机壳清洗机的吹气装置
CN115739748A (zh) 一种全自动刷板清洁方法
CN115672815A (zh) 下料旋转模组以及全自动刷板清洁设备
JP5579805B2 (ja) ワーク回収機
CN115744226A (zh) 自动补料模组以及全自动刷板清洁设备
CN115744227A (zh) 空料盒存储箱以及全自动刷板清洁设备
CN115872147A (zh) 下料机械手模组及其下料方法、以及全自动刷板清洁设备
CN115958001A (zh) 全自动刷板清洁设备以及方法