JP2008303419A - ワークの表面処理システム - Google Patents
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Abstract
【解決手段】ワークを収容した処理容器9を、一連の装置に順次搬送して各装置における作業に供することによって、表面処理されたワークを得る、ワークの表面処理システム1であって、処理容器9を、システム内の一連の装置に順次搬送する、搬送装置2と、処理容器を搬送装置に搬入したり搬出したりする、搬入搬出装置3と、搬送装置から処理容器を受け取り、処理容器を回転させながら処理容器内に表面処理液を供給して、ワークに表面処理を施す、表面処理装置4と、搬送装置から処理容器を受け取り、処理容器を上下反転させ、処理容器内に下方から水を吹きかけてワークを流し出して、ワークを捕集する、ワーク回収装置5と、を備えており、搬送装置による搬送順序が、表面処理装置、次いで、ワーク回収装置であることを特徴としている。
【選択図】図1
Description
(i)搬送装置から処理容器を受け取り、処理容器を回転させながら処理容器内に剥離液を供給して、処理容器内面に剥離処理を施す、剥離装置と、搬送装置から処理容器を受け取り、処理容器を上下反転させ、処理容器内に下方から水を吹きかけて、処理容器内を水洗する、水洗装置と、を更に備えており、搬送装置による搬送順序が、表面処理装置、ワーク回収装置、剥離装置、次いで、水洗装置である。
また、複数の表面処理装置で同時に処理できるので、1つの表面処理装置で処理する場合に比して、多量のワークを処理できる。
(1)全体構成
図1は本発明の第1実施形態のワークの表面処理システムを示す斜視図である。このシステム1は、搬送装置2と、搬入搬出装置3と、表面処理装置4と、ワーク回収装置5と、剥離装置6と、水洗装置7と、を備えている。ワークは、例えばチップコンデンサーである。表面処理は、例えばニッケルめっき処理である。
図3は搬入搬出装置3を示す斜視図である。搬入搬出装置3は、搬送装置2の一端に設けられた受取部32と、受取部32へ連結可能な搬送カート31と、を備えている。受取部32は、立設された支持柱33と、支持柱33に沿って上下動可能な載置部34と、搬送カート31を支持柱33近傍の所定位置へガイドするガイド部35と、を備えている。
図5は搬送装置2の斜視部分図である。搬送装置2は、作動部21及びレール部22を備えている。レール部22は、水平な下レール221と、水平な上レール222とを、有している。
図10は作動前の表面処理装置4の縦断面図である。表面処理装置4は、処理容器9を図11に示されように載せるための水平な受板411と、受板411を水平面内で回転させる回転駆動機構42と、受板411の下方に位置し、表面処理液及び洗浄水を受ける、受槽412と、受板411上の処理容器9を上方から覆うためのカバー体413と、カバー体413を図11に示されるように処理容器9に対して開閉させる開閉機構43と、受板411上の処理容器9に対して表面処理液と洗浄水とを別々に供給する供給機構44と、受槽412に連通したドレイン機構45と、を備えている。
(a)底板94、電極リング91、又はカバー95に、処理容器9の内から外へ通じる溝を形成する。この溝が上記間隙通路となる。溝の深さは、ワークの径よりも浅く設定する。この構成によれば、処理容器9を分解して洗浄することができ、したがって、処理容器9のメンテナンスを簡素化できる。
(b)電極リング91と底板94との間に、又は、電極リング91とカバー95との間に、多孔質材料でできたリングを挟む。リングの多数の孔が、上記間隙通路となる。この構成によれば、間隙通路の大きさが10μm程度であっても、表面処理液が流出するので、より小さなワークを扱うことができる。これに対して、上述したシート部材91を挟む場合、及び、上記構成(a)の場合には、間隙通路の大きさが30μm以下であると、表面処理液の流出が少なく、流出機構として機能しない。
図16はワーク回収装置5の斜視図、図17は図16のXVII矢視図、図18は図16のXVIII矢視図である。ワーク回収装置5は、処理容器9が載せられる水平な受板51と、ホッパ52と、受板51上の処理容器9とホッパ52とを共に上下反転させる反転機構53と、ワークを回収するための回収槽54と、を備えている。なお、受板51には、処理容器9の凸部902が嵌合する凹部が形成されているので、処理容器9を受板51の中心に置くことができる。したがって、搬送装置2に対する処理容器9の位置を高精度で決めることができ、それ故、搬送装置2によって処理容器9を確実に把持できる。
剥離装置6は、一部のみが表面処理装置4と異なるだけである。すなわち、剥離装置6は、表面処理液供給管443の代わりに剥離液供給管443を備えている。
図19は水洗装置7の斜視図、図20は図19のXX矢視図である。水洗装置7は、処理容器9が載せられる水平な受板71と、受板71上に処理容器9を固定する固定機構72と、受板71と共に処理容器9を反転させる反転機構73と、ホッパ74と、を備えている。なお、受板71には、処理容器9の凸部902が嵌合する凹部が形成されているので、処理容器9を受板71の中心に置くことができる。したがって、搬送装置2に対する処理容器9の位置を高精度で決めることができ、それ故、搬送装置2によって処理容器9を確実に把持できる。
まず、搬送カート31の4本の支持片313上に処理容器9を載せる。次に、処理容器9にワークを入れる。そして、搬送カート31を、移動させて、受取部32へ連結させる。その後、システムの作動開始ボタンを押す。これにより、まず、受取部32が作動する。
受取部32が作動すると、載置部34が、搬送カート31に載せられている処理容器9を下方から支持して、図4において矢印Cで示されるように、上昇する。このとき、処理容器9は、凸部902が垂直アーム342の上端の凹部に嵌合するので、垂直アーム342の中央に案内される。そして、載置部34は、搬送装置2の保持部29の高さ位置で停止する。
次に、搬送装置2が作動を開始する。まず、保持部29が載置部34上の処理容器9を把持する。そして、作動部21が、図2の経路[1-1]に示されるように、レール部22に沿って横方向に移動する。
次に、作動部21の把持部26が、図2の経路[1-2]に示されるように、下降して、表面処理装置4の受板411に処理容器9を載せた後、処理容器9より低い位置まで下降して停止する。その停止位置は、把持部26の把持具293、294が水平移動する際に、ガイド板2932、2933、2942、2943が処理容器9に衝突しない高さ位置である。その後、作動部21は、図2の経路[1-3]に示されるように、レール部22に沿って横方向に少しだけ移動し、これにより、把持部26が待機位置となる。
(C-1)カバー体閉工程
把持部26が待機位置となると、表面処理装置4が作動を開始する。まず、開閉機構43が作動して、カバー体413が閉じる。すなわち、カバー体413が受板411上の処理容器9を覆う。
次に、ドレイン機構45が作動して、ホース452の先端部4521が、分別槽453の、洗浄水を回収する部屋4534上に、位置する。
次に、供給機構44において、垂直柱441が水平に移動した後、アーム442が下降して、ヘッド部445が、受板411上の処理容器9の開口951中に位置する。
次に、供給機構44の洗浄水供給管444から処理容器9内に洗浄水が投入されるとともに、回転駆動機構42が作動して、処理容器9が回転する。これにより、処理容器9内が洗浄される。一定時間後、洗浄水の供給は停止されるが、処理容器9は回転を続ける。これにより、脱水処理が行われる。
次に、カバー体413の洗浄機構47が作動する。これにより、カバー体413の内面及び処理容器9のカバー95の外面が、洗浄される。一定時間後、洗浄機構47は停止し、処理容器9の回転も停止する。
次に、ドレイン機構45が作動して、ホース452の先端部4521が、分別槽453の、表面処理液を回収する部屋4533上に、位置する。
次に、供給機構44の表面処理液供給管443から処理容器9内に表面処理液が投入されるとともに、回転駆動機構42が作動して、処理容器9が回転する。また、カバー体413の吸気機構48が作動して、吸気口482から吸気が行われる。このとき、表面処理液の成分を含んだミストが吸気口482から吸引されるので、表面処理装置4の周辺の空気が汚染されるのを防止できる。また、表面処理が電解処理である場合には、処理容器9の電極リング91への通電が行われる。そして、一定時間後、表面処理液の投入が停止され、更に、一定時間後、処理容器9の回転が停止される。これにより、脱液処理が行われる。
次に、ドレイン機構45が作動して、ホース452の先端部4521が、分別槽453の、洗浄水を回収する部屋4534上に、位置する。
次に、供給機構44の洗浄水供給管444から処理容器9内に洗浄水が投入されるとともに、回転駆動機構42が作動して、処理容器9が回転する。これにより、処理容器9内が洗浄される。一定時間後、洗浄水の供給は停止されるが、処理容器9は回転を続ける。これにより、脱水処理が行われる。
次に、カバー体413の洗浄機構47が作動する。これにより、カバー体413の内面及び処理容器9のカバー95の外面が、洗浄される。一定時間後、洗浄機構47は停止し、処理容器9の回転も停止する。
そして、吸気機構48も停止する。
そして、開閉機構43が作動して、カバー体413が開く。
次に、搬送装置2が作動する。まず、作動部21が、図2の経路[2-1]に示されるように、レール部22に沿って横方向に少しだけ移動する。すなわち、把持部26が、待機位置から受板411上の処理容器9の位置まで移動する。そして、把持部26が処理容器9を保持する。
次に、作動部21の把持部26が、図2の経路[2-2]に示されるように、上昇する。次に、作動部21が、図2の経路[2-3]に示されるように、レール部22に沿って横方向に移動し、ワーク回収装置5の位置で停止する。
次に、作動部21の把持部26が、図2の経路[2-4]に示されるように、下降して、ワーク回収装置5の受板51に処理容器9を載せた後、処理容器9より低い位置まで下降して停止する。その停止位置は、把持部26の把持具293、294が水平移動する際に、ガイド板2932、2933、2942、2943が処理容器9に衝突しない高さ位置である。このとき、処理容器9は、凸部902が受板51の凹部に嵌合するので、受板51の中央に案内される。その後、作動部21は、図2の経路[2-5]に示されるように、レール部22に沿って横方向に少しだけ移動し、これにより、把持部26が待機位置となる。
受板51上に処理容器9が載せられたこと、及び、バスケット56が所定の回収位置にあることが、センサー(図示せず)によって検知されると、回動機構55が作動して、ホッパ52が処理容器9に装着されるとともに、チャイムが鳴る。
次に、反転機構53が作動して、処理容器9及びホッパ52が反転される。
次に、スプリンクラー525から水が噴出され、その直後に、シリンダ機構57が作動して、蓋524が開かれる。このとき、水はスプリンクラー525から噴出されるので、処理容器9の内面全体に水を吹きかけることができ、したがって、処理容器9内のワークを確実に流れ落とすことができる。これにより、処理容器9内のワークが、水と共に処理容器9から流出し、ホッパ52の排出口523から排出される。排出されたワークは、バスケット56に貯まる。
一定時間後、スプリンクラー525が停止し、その後、シリンダ機構57が作動して、蓋524が閉じられる。
次に、反転機構53が作動して、処理容器9及びホッパ52が再び反転されて、元の状態に戻る。そして、回動機構55が作動して、ホッパ52が非装着状態となるとともに、チャイムが鳴る。
なお、ワークは、バスケット56をカート561によって手前に移動させて、バスケット56を取り出して、回収する。
次に、搬送装置2が作動する。まず、作動部21が、図2の経路[3-1]に示されるように、レール部22に沿って横方向に少しだけ移動する。すなわち、把持部26が、待機位置から受板51上の処理容器9の位置まで移動する。そして、把持部26が処理容器9を保持する。
次に、作動部21の把持部26が、図2の経路[3-2]に示されるように、上昇する。次に、作動部21が、図2の経路[3-3]に示されるように、レール部22に沿って横方向に移動し、剥離装置6の位置で停止する。
次に、作動部21の把持部26が、図2の経路[3-4]に示されるように、下降して、剥離装置6の受板411に処理容器9を載せた後、処理容器9より低い位置まで下降して停止する。その停止位置は、把持部26の把持具293、294が水平移動する際に、ガイド板2932、2933、2942、2943が処理容器9に衝突しない高さ位置である。その後、作動部21は、図2の経路[3-5]に示されるように、レール部22に沿って横方向に少しだけ移動し、これにより、把持部26が待機位置となる。
(G-1)カバー体閉工程
把持部26が待機位置となると、剥離装置6が作動を開始する。まず、開閉機構43が作動して、カバー体413が閉じる。すなわち、カバー体413が受板411上の処理容器9を覆う。
次に、ドレイン機構45が作動して、ホース452の先端部4521が、分別槽453の、剥離液を回収する部屋(図示せず)上に位置する。
次に、供給機構44において、垂直柱441が水平に移動した後、アーム442が下降して、ヘッド部445が、受板411上の処理容器9の開口951中に位置する。
次に、供給機構44の剥離液供給管444から処理容器9内に剥離液が投入されるとともに、回転駆動機構42が作動して、処理容器9が回転する。また、カバー体413の吸気機構48が作動して、吸気口482から吸気が行われる。これにより、処理容器9の内面への付着物(例えばめっき被膜)が剥離される。一定時間後、剥離液の供給は停止されるが、処理容器9は回転を続ける。これにより、脱液処理が行われる。そして、処理容器9の回転が停止する。
次に、ドレイン機構45が作動して、ホース452の先端部4521が、分別槽453の、洗浄水を回収する部屋4534上に、位置する。
次に、供給機構44の洗浄水供給管444から処理容器9内に洗浄水が投入されるとともに、回転駆動機構42が作動して、処理容器9が回転する。これにより、処理容器9内が洗浄される。一定時間後、洗浄水の供給は停止されるが、処理容器9は回転を続ける。これにより、脱水処理が行われる。
次に、カバー体413の洗浄機構47が作動する。これにより、カバー体413の内面及び処理容器9のカバー95の外面が、洗浄される。一定時間後、洗浄機構47は停止し、処理容器9の回転も停止する。
そして、吸気機構48も停止する。
そして、開閉機構43が作動して、カバー体413が開く。
次に、搬送装置2が作動する。まず、作動部21が、図2の経路[4-1]に示されるように、レール部22に沿って横方向に少しだけ移動する。すなわち、把持部26が、待機位置から受板411上の処理容器9の位置まで移動する。そして、把持部26が処理容器9を保持する。
次に、作動部21の把持部26が、図2の経路[4-2]に示されるように、上昇する。次に、作動部21が、図2の経路[4-3]に示されるように、レール部22に沿って横方向に移動し、水洗装置7の位置で停止する。
次に、作動部21の把持部26が、図2の経路[4-4]に示されるように、下降して、水洗装置7の受板71に処理容器9を載せた後、処理容器9より低い位置まで下降して停止する。その停止位置は、把持部26の把持具293、294が水平移動する際に、ガイド板2932、2933、2942、2943が処理容器9に衝突しない高さ位置である。このとき、処理容器9は、凸部902が受板71の凹部に嵌合するので、受板71の中央に案内される。その後、作動部21は、図2の経路[4-5]に示されるように、レール部22に沿って横方向に少しだけ移動し、これにより、把持部26が待機位置となる。
把持部26が待機位置となると、水洗装置7が作動を開始する。まず、固定機構72が作動して、受板71上に処理容器9が固定される。
次に、反転機構73が作動して、受板71と共に処理容器9が反転される。
次に、昇降機構75が作動して、ホッパ74が処理容器9の直近まで上昇する。
次に、スプリンクラー742から水が噴出される。これにより、処理容器9の内面全体に水が吹きかけられ、処理容器9内に残留している剥離液や付着物の全てが、確実に、処理容器9から流出して、ホッパ74を通って受槽76へ回収される。
一定時間後、スプリンクラー742が停止する。
次に、昇降機構75が作動して、ホッパ74が下降する。
次に、反転機構73が作動して、受板71と共に処理容器9が再び反転されて、元の状態に戻る。
そして、固定機構72が作動して、処理容器9の固定が解除される。
次に、搬送装置2が作動する。まず、作動部21が、図2の経路[5-1]に示されるように、レール部22に沿って横方向に少しだけ移動する。すなわち、把持部26が、待機位置から受板71上の処理容器9の位置まで移動する。そして、把持部26が処理容器9を保持する。
次に、作動部21の把持部26が、図2の経路[5-2]に示されるように、上昇する。次に、作動部21が、図2の経路[5-3]に示されるように、レール部22に沿って横方向に移動し、受取部32の位置で停止する。
そして、受取部32が作動する。まず、載置部34が、搬送装置2の保持部29の処理容器9を下方から支持するよう、上昇する。
次に、搬送装置2の作動部21が少しだけ横方向に移動して、保持部29が載置部34から退避する。
次に、載置部34が、処理容器9を載せたまま下降していく。この途中、処理容器9は、搬送カート31の4本の支持片313上に載る。
そして、搬送カート31を、受取部32から移動させて、処理容器9を搬送カート31から取り外し、新たな処理容器9を搬送カート31に載せる。
そして、上述したのと同様の作動を行う。
本発明は、次のような変形構成を採用してもよい。
(1)図21に示されるように、第1実施形態のシステムにおいて、剥離装置6及び水洗装置7を省略してもよい。図22は、その場合における処理容器9の搬送経路を示している。このシステムによっても、表面処理されたワークを得ることができる。
Claims (6)
- ワークを収容した処理容器を、一連の装置に順次搬送して各装置における作業に供することによって、表面処理されたワークを得る、ワークの表面処理システムであって、
処理容器を、システム内の一連の装置に順次搬送する、搬送装置と、
処理容器を搬送装置に搬入し、また、処理容器を搬送装置から搬出する、搬入搬出装置と、
搬送装置から処理容器を受け取り、処理容器を回転させながら処理容器内に表面処理液を供給して、ワークに表面処理を施す、表面処理装置と、
搬送装置から処理容器を受け取り、処理容器を上下反転させ、処理容器内に下方から水を吹きかけてワークを流し出して、ワークを捕集する、ワーク回収装置と、を備えていることを特徴とするワークの表面処理システム。 - 搬送装置から処理容器を受け取り、処理容器を回転させながら処理容器内に剥離液を供給して、処理容器内面に剥離処理を施す、剥離装置と、
搬送装置から処理容器を受け取り、処理容器を上下反転させ、処理容器内に下方から水を吹きかけて、処理容器内を水洗する、水洗装置と、を更に備えている、請求項1記載のワークの表面処理システム。 - 表面処理装置を複数備えている、請求項1記載のワークの表面処理システム。
- 水平なレール部と、レール部上を移動する作動部と、を備えており、
作動部が、レール部上を摺動する基台部と、基台部から上に延びた垂直な柱部と、柱部に沿って上下動する把持部と、を備えており、
把持部が、処理容器を把持したり離したりするようになっていることを特徴とする搬送装置。 - 処理容器を載せる受板と、
受板上の処理容器を上方から覆うホッパと、
処理容器を覆ったホッパを受板及び処理容器と共に上下反転させる反転機構と、を備えており、
上下反転された処理容器内に、ホッパに設けられた噴出部から水を吹きかけて、処理容器内のワークを、ホッパ内へ洗い出してホッパから回収槽へ排出させて捕集するよう、構成されていることを特徴とするワーク回収装置。 - 処理容器を載せる受板と、
受板に処理容器を固定する固定機構と、
受板及び処理容器を共に上下反転させる反転機構と、
上下反転された処理容器を下方から覆うホッパと、を備えており、
上下反転された処理容器内に、噴出部から水を吹きかけて、処理容器内を水洗するよう、構成されていることを特徴とする水洗装置。
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