TWI422458B - Processing waste liquid processing device (a) - Google Patents

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Description

加工廢液處理裝置(一) 發明領域
本發明係有關於一種附設於用以切削半導體晶圓等被加工物之切削裝置等之加工裝置，並用以處理於加工時所供給之加工液之廢液的加工廢液處理裝置。
 發明背景
在半導體裝置製造工程中，係於略圓板狀之半導體晶圓之表面依排列成格子狀之稱為切割道的分割預定線區劃多數領域，並將IC、ISI等裝置形成於前述所區劃之領域內。接著，藉由沿著切割道切斷半導體晶圓，以分割形成有裝置之領域，而製造各個半導體裝置。又，藉由沿著切割道切斷於藍寶石基板表面積層有氮化鎵系化合物半導體等之光裝置晶圓，亦可分割成各個發光二極體、雷射二極體等光裝置，並可廣泛利用於電氣機器。
前述半導體晶圓或光裝置晶圓等之沿著切割道的切斷通常係透過稱為切塊機之切削裝置所進行。該切削裝置具有：用以固持半導體晶圓等被加工物之卡盤台；具有用以切削固持於前述卡盤台之被加工物之切削刀片的切削裝置；及將加工水供給至切削刀片之加工水供給裝置，藉由利用前述加工水供給裝置使加工水旋轉並供給至切削刀片，而可冷卻切削刀片，並且一面將加工水供給至因切削刀片而產生之被加工物之切削部一面實施切削作業。
前述切削時所供給之加工液混入有因切削矽或氮化鎵系化合物半導體而產生之切削屑。由於混入有由前述半導體素材所構成之切削屑的加工廢液會污染環境，因此在此係利用廢液處理裝置去除切削屑，再進行再利用或廢棄。(例如，參照專利文獻1)
【專利文獻1】特開2004-230527號公報
 發明揭示
而前述廢液處理裝置具有：用以收納在加工裝置之加工時所供給之加工液因加工而產生之加工廢液的廢液槽；用以供給收納於前述廢液槽之加工廢液的泵；用以過濾由前述泵所供給之加工廢液並將其精製成清水的廢液過濾裝置；用以貯存經前述廢液過濾裝置精製之清水的清水貯存槽；用以供給貯存於前述清水貯存槽之清水的清水供給泵；含有用以將由前述清水供給泵所供給之清水精製成純水之離子交換裝置的純水成生裝置；用以將經前述純水形成裝置精製之純水調整成預定溫度的純水溫度調整裝置；用以控制前述各結構裝置的控制裝置；及具有用以輸入處理資訊至前述控制裝置之輸入裝置及用以顯示前述控制裝置之動作狀況等之顯示裝置的操作盤。由於配置前述各結構裝置時需要適當的設置面積，因此無法有效利用維護成本高的無塵室。
本發明係鑑於前述事實而製成者，其主要的技術問題 在於提供一種可緊湊(compact)地構成裝置全體的廢液處理裝置。
為了解決前述主要的技術問題，本發明係提供一種加工廢液處理裝置，包含有：廢液收納槽，係用以收納在加工裝置之加工時所供給之加工液因加工而產生之加工廢液者；廢液供給泵，係用以供給收納於前述廢液收納槽之加工廢液者；廢液過濾裝置，係具有用以過濾由前述廢液供給泵所供給之加工廢液並將其精製成清水之過濾器及將前述過濾器支撐成可裝卸之清水接收盤者；清水貯存槽，係用以貯存經前述廢液過濾裝置精製之清水者；清水供給泵，係用以供給貯存於前述清水貯存槽之清水者；純水形成裝置，係具有用以將由前述清水供給泵所供給之清水精製成純水之離子交換裝置及將前述離子交換裝置支撐成可裝卸之支撐台者；純水溫度調整裝置，係用以將經前述純水形成裝置精製之純水調整成預定溫度者；控制裝置，係用以控制前述各結構裝置者；操作盤，係具有用以輸入處理資訊至前述控制裝置之輸入裝置及用以顯示前述控制裝置之動作狀況等之顯示裝置者；及裝置殼，係用以收納前述各結構裝置者；其特徵在於：前述裝置殼具有底壁、上壁、左側壁、右側壁、後壁及用以開關前側開口之開關門。又，前述底壁之前述後壁側配置有前述廢液槽，且與前述廢液槽相鄰地於前述底壁的中央部配置有前述清水貯存槽，而與前述清水貯存槽相鄰地於前述底壁的前述前側開 口側配置有前述純水形成裝置。再者，前述純水形成裝置之上側配置有廢液過濾裝置，前述廢液槽之上方配置有純水溫度調整裝置，而前述廢液過濾裝置之上側配置有前述控制裝置及前述操作盤，且前述操作盤配置於前述裝置殼之前側。
在本發明之加工廢液處理裝置中，由於構成裝置殼之底壁之後壁側配置有廢液槽，底壁的中央部配置有清水貯存槽並與廢液槽相鄰，前側開口側配置有純水形成裝置並與清水貯存槽相鄰，純水形成裝置之上側配置有廢液過濾裝置，廢液收納槽之上方配置有純水溫度調整裝置，而廢液過濾裝置之上側配置有控制裝置及操作盤，且操作盤配置於裝置殼之前側，因此可在不損害操作人員之操作性的情況下緊湊地構成裝置全體，並可有效利用維護成本高的無塵室。
 用以實施發明之最佳形態
以下，一面參照附加圖式一面詳細地說明根據本發明所構成之加工廢液處理裝置之最佳的實施型態。
第1圖中隨著加工廢液之流動顯示有根據本發明所構成之加工廢液處理裝置的構成要素。
圖示之實施型態之加工廢液處理裝置包含有：用以收納加工廢液之廢液槽2；及用以供給收納於前述廢液槽2之加工廢液的廢液供給泵3。廢液槽2係由配管20連接於裝配 置等之加工裝置的加工廢液送出裝置送出之加工廢液。前述廢液槽2之上壁配設有用以供給加工廢液之廢液供給泵3。
由前述廢液供給泵3所供給之加工廢液係透過由可撓軟管所構成之配管30送至廢液過濾裝置4。廢液過濾裝置4具有清水接收盤41、配置於前述清水接收盤41上之第1過濾器42a及第2過濾器42b。又，第1過濾器42a及第2過濾器42b配置於清水接收盤41上，並可自由裝卸。又，連接前述廢液供給泵3與第1過濾器42a及第2過濾器42b之配管30配設有電磁開關閥43a及電磁開關閥43b。當電磁開關閥43a經賦與勢能(ON)而呈開路狀態時，由廢液供給泵3所供給之加工廢液便導入第1過濾器42a，而當電磁開關閥43b經賦與勢能(ON)而呈開路狀態時，由廢液供給泵3所供給之加工廢液便導入第2過濾器42b。由第1過濾器42a及第2過濾器42b導入之加工廢液係經第1過濾器42a及第2過濾器42b過濾並捕集混入加工廢液之切削屑並且精製成清水再流出至清水接收盤41。前述清水接收盤41係透過由可撓軟管所構成之配管44連接於清水貯存槽5，因此流出至清水接收盤41係透過由可撓軟管所構成之配管44送至清水貯存槽5並貯存於該處。
前述配管30配設有用以檢測供給至廢液過濾裝置4之第1過濾器42a及第2過濾器42b之加工廢液之壓力的壓力檢測裝置31，而該壓力檢測裝置31可將檢測信號傳送至後述控制裝置。例如，在賦與前述電磁開關閥43a勢能(ON)並利用第1過濾器42a過濾加工廢液的狀態中，若來自壓力檢測裝置31之檢測信號在預定壓力值以上的話，後述控制裝置 便判斷第1過濾器42a堆積有加工屑且失去過濾器之功能，而解除電磁開關閥43a之勢能(OFF)，並賦與電磁開關閥43b勢能(ON)。接著，後述控制裝置便將從第1過濾器42a更換成第2過濾器42b之訊息顯示於設於後述操作盤之顯示裝置。根據前述顯示於顯示裝置之訊息，操作人員便可察覺第1過濾器42a已達到壽命極限，而更換過濾器。又，在賦與前述電磁開關閥43b勢能(ON)並利用第2過濾器42b過濾加工廢液的狀態中，若來自壓力檢測裝置31之檢測信號在預定壓力值以上的話，後述控制裝置便判斷第2過濾器42b堆積有加工屑且失去過濾器之功能，而解除電磁開關閥43b之勢能(OFF)，並賦與電磁開關閥43a勢能(ON)。接著，後述控制裝置便將從第2過濾器42b更換成第1過濾器42a之訊息顯示於設於後述操作盤之顯示裝置。
從前述廢液過濾裝置4透過由可撓軟管所構成之配管44傳送並貯存於清水貯存槽5的清水係由清水供給泵50所供給並透過由可撓軟管所構成之配管51傳送至純水形成裝置6。圖示之實施型態之純水形成裝置6包含有：支撐台61；直立設置於前述支撐台61之間隔板611；配置於支撐台61之間隔板611之後側的紫外線照射裝置62；配置於支撐台61之間隔板611之前側且具有離子交換樹脂的第1離子交換裝置63a及第2離子交換裝置63b；及配置於支撐台61之間隔板611之後側的精密過濾器64。前述第1離子交換裝置63a、第2離子交換裝置63b及精密過濾器64係可裝卸地配置於支撐台61上。由前述清水供給泵50所供給且透過由可撓軟管所 構成之配管51傳送之清水係導入紫外線照射裝置62，並在該處藉由照射紫外線(UV)而殺菌。在紫外線照射裝置62業經殺菌處理之清水係透過配管65導入第1離子交換裝置63a或第2離子交換裝置63b。又，配管65配設有電磁開關閥66a及電磁開關閥66b。當電磁開關閥66a經賦與勢能(ON)而呈開路狀態時，業經殺菌處理之清水便導入第1離子交換裝置63a，而當電磁開關閥66b經賦與勢能(ON)而呈開路狀態時，業經殺菌處理之清水便導入第2離子交換裝置63b。導入第1離子交換裝置63a或第2離子交換裝置63b之清水係進行離子之交換而精製成純水。這樣一來，則有清水進行離子交換而精製成之純水中混入有構成第1離子交換裝置63a及第2離子交換裝置63b之離子交換樹脂之樹脂屑等細微之物質的情況。故，在圖示之實施型態中，係透過配管67將純水導入精密過濾器64，並藉由前述精密過濾器64補集混入純水中之離子交換樹脂之樹脂屑等細微的物質，而該純水係如前所述清水經前述第1離子交換裝置63a及第2離子交換裝置63b進行離子交換而精製成者。
又，前述配管67配設有用以檢測從第1離子交換裝置63a及第2離子交換裝置63b供給至精密過濾器64之純水之壓力的壓力檢測裝置68，而該壓力檢測裝置68可將檢測信號傳送至後述控制裝置。例如，若來自壓力檢測裝置68之檢測信號在預定壓力值以上的話，後述控制裝置便判斷精密過濾器64堆積有樹脂屑等細微的物質且失去過濾器之功能，並顯示於設於後述操作盤之顯示裝置。根據前述顯示 於顯示裝置之訊息，操作人員便可察覺精密過濾器64已達到壽命極限，而更換過濾器。
又，前述配管67配設有用以檢測從第1離子交換裝置63a或第2離子交換裝置63b供給至精密過濾器64之純水之電阻率的電阻率計69，而該電阻率計69可將檢測信號傳送至後述控制裝置。在賦與前述電磁開關閥66a勢能(ON)並利用第1離子交換裝置63a將清水精製成純水之狀態中，若來自電阻率計69之檢測信號在預定值(例如10MΩ．cm)以下的話，後述控制裝置便判斷第1離子交換裝置63a之純水精製能力下降，而解除電磁開關閥66a之勢能(OFF)，並賦與電磁開關閥66b勢能(ON)。接著，後述控制裝置便將從第1離子交換裝置63a更換成第2離子交換裝置63b之訊息顯示於設於後述操作盤之顯示裝置。根據前述顯示於顯示裝置之訊息，操作人員便可察覺第1離子交換裝置63a已達到壽命極限，而更換第1離子交換裝置63a之離子交換樹脂。又，在賦與前述電磁開關閥66b勢能(ON)並利用第2離子交換裝置63b將清水精製成純水之狀態中，若來自電阻率計69之檢測信號在預定值(例如10MΩ．cm)以下的話，後述控制裝置便判斷第2離子交換裝置63b之純水精製能力下降，而解除電磁開關閥66b之勢能(OFF)，並賦與電磁開關閥66a勢能(ON)。接著，後述控制裝置便將從第2離子交換裝置63b更換成第1離子更換裝置63a之訊息顯示於設於後述操作盤之顯示裝置。
經前述純水形成裝置6精製之純水係透過由可撓軟管 所構成之配管60送至純水溫度調整裝置7。送至純水溫度調整裝置7之純水係在該處調整成預定溫度(例如23℃)，並透過配管70循環於裝配在圖未示之切削裝置等加工裝置之加工液供給裝置。
前述廢液槽2、廢液過濾裝置4、純水形成裝置6、純水溫度調整裝置7及各配管等配置於第2圖及第3圖所示之裝置殼10內。第2圖係顯示裝置殼10之透視圖，而第3圖顯示有裝置殼10內配置有前述廢液槽2、廢液過濾裝置4、純水形成裝置6、純水溫度調整裝置7及各配管等之狀態，且該圖係透視後述構成裝置殼10之各壁者。圖示之實施形態之裝置殼10係由形成直方體狀之收納室的框體110、安裝於前述框體110之底壁121、上壁122、左側壁123、右側壁124、後壁125及安裝於框體110前側並可開關形成於框體110前側之前側開口101之開關門126所構成。
具有前述結構之裝置殼10之底壁121上配置有前述廢液槽2、清水貯存槽5及純水形成裝置6。廢液槽2配置於裝置殼10之底壁121之後壁125側，清水貯存槽5與廢液槽2相鄰並配置於底壁121之中央部，而純水形成裝置6與清水貯存槽相鄰5並配置於底壁121之前側開口101側(開關門126側)。
前述純水形成裝置6在圖示之實施型態中配置成可從裝置殼10之前側開口101拉出。即，在構成裝置殼10之左側壁123與右側壁124之內面下端部配設有一對配置成互相相對並與底壁121之上面平行並且延伸於前後方向之引導軌 130、130。藉由將純水形成裝置6之支撐台61放置於前述一對引導軌130、130上，而可將純水形成裝置6支撐成可沿著一對引導軌130、130從裝置殼10之前側開口101拉出。因此，如第4圖所示，藉由沿著一對引導軌130、130將純水形成裝置6從裝置殼10之前側開口101拉出，可輕易實施配置於構成純水形成裝置6之支撐台61之第1離子交換裝置63a及第2離子交換裝置63b與精密過濾器64的更換。
在圖示之實施型態之加工廢液處理裝置中，裝置殼10內之前述純水形成裝置6及清水貯存槽5之上側配置有前述廢液過濾裝置4，且該廢液過濾裝置4配置成可從裝置殼10之前側開口101拉出。即，在構成裝置殼10之左側壁123與右側壁124之內面中間部配設有一對配置成互相相對並與前述底壁121之上面平行(與一對引導軌130、130平行)並且延伸於前後方向之引導軌140、140。藉由將廢液過濾裝置4之清水接收盤41放置於前述一對引導軌140、140上，而可將廢液過濾裝置4支撐成可沿著一對引導軌140、140從裝置殼10之前側開口101拉出。又，構成廢液過濾裝置4之清水接收盤41之前端設有朝下方突出之把手411，以易於進行廢液過濾裝置4之拉出操作。因此，如第5圖所示，藉由沿著一對引導軌140、140將廢液過濾裝置4從裝置殼10之前側開口101拉出，可輕易實施可裝卸地配置於構成廢液過濾裝置4之清水接收盤41之第1過濾器42a及第2過濾器42b的更換。又，連接廢液過濾裝置4之清水接收盤41與前述清水貯存槽5之配管係由可撓軟管所構成之配管44，以將前述廢液 過濾裝置4配置成可從裝置殼10之前側開口101拉出。
關於前述之廢液過濾裝置4之清水接收盤41與前述清水貯存槽5係透過由可撓軟管所構成之配管44所連接，裝置殼10之廢液過濾裝置4之後壁側125配設有用以支撐由可撓軟管所構成之配管44的軟管支撐板150。前述軟管支撐板150係構成朝後壁側125變高般地傾斜並朝右側壁124變高般地傾斜的形狀，並可防止由可撓軟管構成之配管44因自重而朝下方彎曲，並且可將由可撓軟管所構成之配管44維持成清水接收盤41側經常位於較高之位置。因此，流出至清水接收盤41之清水可因自重而通過由可撓軟管所構成之配管44流入清水貯存槽5。
在圖示之實施型態之加工廢液處理裝置中，裝置殼10內之前述軟管支撐板150之上側配置有前述純水溫度調整裝置7。即，安裝於構成裝置殼10之左側壁123與右側壁124之圖未示之支撐構件上放置有純水溫度調整裝置7，並由適當的固定裝置所固定。
圖示之實施型態之加工廢液處理裝置包含有：用以控制前述各結構裝置之動作的控制裝置8；及用以輸入廢液處理開始資訊至前述控制裝置8之操作盤9。前述控制裝置8與操作盤9於圖示之實施型態中係一體形成的。具有前述結構之控制裝置8及操作盤9係配置於裝置殼10之廢液過濾裝置4之上側。即，安裝於構成裝置殼10之左側壁123與右側壁124之圖未示之支撐構件上放置有控制裝置8及操作盤9，並由適當的固定裝置所固定。此時，係將操作盤9定位於裝置 殼10前側(配置有開關門126之側)。又，操作盤9配置有用以輸入處理資訊等之輸入裝置91及用以顯示控制裝置8之處理資訊之顯示裝置92等。
圖示之實施型態之加工廢液處理裝置之結構如上所述，當操作人員從操作盤9輸入廢液處理開始資訊時，控制裝置8便控制前述各結構裝置實行前述廢液處理作業。接著，在實行前述廢液處理作業時，控制裝置8係在除去廢液過濾裝置4之電磁開關閥43a之勢能(OFF)並賦與電磁開關閥43b勢能(ON)之情況下，或除去電磁開關閥43b之勢能(OFF)並賦與電磁開關閥43a勢能(ON)之情況下，將從第1過濾器42a更換成第2過濾器42b或從第2過濾器42b更換成第1過濾器42a之訊息顯示於操作盤9之顯示裝置92。根據前述顯示於顯示裝置92之訊息，操作人員便會察覺第1過濾器42a或第2過濾器42b已達到壽命極限，而將裝置殼10之開關門126打開，並沿著一對引導軌140、140將廢液過濾裝置4從裝置殼10之前側開口101拉出。此時，操作人員係握住設於構成廢液過濾裝置4之清水接收盤41之把手拉出。接著，操作人員便根據顯示於顯示裝置之訊息更換第1過濾器42a或第2過濾器42b。
又，在實行前述廢液處理作業時，若來自前述壓力檢測裝置68之檢測信號在預定壓力值以上的話，前述控制裝置8便判斷精密過濾器64之功能喪失，並將其顯示於操作盤9之顯示裝置92。根據前述顯示於顯示裝置之訊息，操作人員便察覺精密過濾器64已達到壽命極限，而將裝置殼10之 開關門126打開，並沿著一對引導軌130、130將純水形成裝置6從裝置殼10之前側開口101拉出。此時，操作人員係握住設於直立設於構成純水形成裝置6之支撐台61之間隔板611的把手612拉出。接著，操作人員便根據顯示於顯示裝置92之訊息更換精密過濾器64。
再者，在實行前述廢液處理作業時，控制裝置8係在來自前述電阻率計69之檢測信號在預定值(例如10MΩ．cm)以下，並除去純水形成裝置6之電磁開關閥66a之勢能(OFF)並賦與電磁開關閥66b勢能(ON)之情況下，或除去電磁開關閥66b之勢能(OFF)並賦與電磁開關閥66a勢能(ON)之情況下，將從第1離子交換裝置63a更換成第2離子交換裝置63b或從第2離子交換裝置63b更換成第1離子交換裝置63a之訊息顯示於操作盤9之顯示裝置92。根據前述顯示於顯示裝置92之訊息，操作人員便察覺第1離子交換裝置63a或第2離子交換裝置63b已達到壽命極限，而將裝置殼10之開關門126打開，並沿著一對引導軌130、130將純水形成裝置6從裝置殼10之前側開口101拉出。此時，操作人員係握住如前所述設於直立設於構成純水形成裝置6之支撐台61之間隔板611的把手612拉出。接著，操作人員便根據顯示於顯示裝置92之訊息更換第1離子交換裝置63a或第2離子交換裝置63b之離子交換樹脂。
圖示之實施型態之加工廢液處理裝置之結構如上所述。由於前述裝置殼10之底壁121上配置有廢液槽2、清水貯存槽5及純水形成裝置6，純水形成裝置6之上側配置有廢 述。由於前述裝置殼10之底壁121上配置有廢液槽2、清水貯存槽5及純水形成裝置6，純水形成裝置6之上側配置有廢液過濾裝置4，軟管支撐板150之上側(廢液槽2之上方)配置有純水溫度調整裝置7，並且純水溫度調整裝置7之上側配置有控制裝置8及操作盤9，因此可在不損害操作人員之操作性的情況下緊湊地構成裝置全體，並可有效利用維護成本高的無塵室。又，由於純水形成裝置6配置於裝置殼10之前側開口101側，並為可從前述前側開口101拉出之結構，因此可輕易實施第1離子交換裝置63a及第2離子交換裝置63b與精密過濾器64的更換。再者，由於廢液過濾裝置4亦為可從裝置殼10之前側開口101拉出之結構，因此可輕易實施第1過濾器42a及第2過濾器42b的更換。
2‧‧‧廢液槽
3‧‧‧廢液供給泵
4‧‧‧廢液過濾裝置
5‧‧‧清水貯存槽
6‧‧‧純水形成裝置
7‧‧‧純水溫度調整裝置
8‧‧‧控制裝置
9‧‧‧操作盤
10‧‧‧裝置殼
20,30,44,51,60,65,67,70‧‧‧配管
31,68‧‧‧壓力檢測裝置
41‧‧‧清水接收盤
42a‧‧‧第1過濾器
42b‧‧‧第2過濾器
43a,43b,66a,66b‧‧‧電磁開關閥
50‧‧‧清水供給泵
61‧‧‧支撐台
62‧‧‧紫外線照射裝置
63a‧‧‧第1離子交換裝置
63b‧‧‧第2離子交換裝置
64‧‧‧精密過濾器
69‧‧‧電阻率計
91‧‧‧輸入裝置
92‧‧‧顯示裝置
101‧‧‧前側開口
110‧‧‧框體
121‧‧‧底壁
122‧‧‧上壁
123‧‧‧左側壁
124‧‧‧右側壁
125‧‧‧後壁
126‧‧‧開關門
130,140‧‧‧引導軌
150‧‧‧軟管支撐板
411,612‧‧‧把手
611‧‧‧間隔板
第1圖係隨著加工廢液之流動顯示根據本發明所構成之加工廢液處理裝置之構成要素的說明圖。
第2圖係配置有第1圖所示之加工廢液處理裝置之構成要素之裝置殼的透視圖。
第3圖係顯示裝置殼內配置有加工廢液處理裝置之構成要素之狀態的透視圖，且該圖係透視第2圖所示之構成裝置殼之各壁者。
第4圖係顯示將構成第3圖所示之加工廢液處理裝置之純水形成裝置從裝置殼之前側開口拉出之狀態的透視圖。
第5圖係顯示將構成第3圖所示之加工廢液處理裝置之廢液過濾裝置從裝置殼之前側開口拉出之狀態的透視圖。
2‧‧‧廢液槽
3‧‧‧廢液供給泵
4‧‧‧廢液過濾裝置
5‧‧‧清水貯存槽
6‧‧‧純水形成裝置
7‧‧‧純水溫度調整裝置
8‧‧‧控制裝置
9‧‧‧操作盤
10‧‧‧裝置殼
41‧‧‧清水接收盤
42a‧‧‧第1過濾器
42b‧‧‧第2過濾器
44‧‧‧配管
61‧‧‧支撐台
62‧‧‧紫外線照射裝置
63a‧‧‧第1離子交換裝置
63b‧‧‧第2離子交換裝置
64‧‧‧精密過濾器
91‧‧‧輸入裝置
92‧‧‧顯示裝置
101‧‧‧前側開口
110‧‧‧框體
121‧‧‧底壁
122‧‧‧上壁
123‧‧‧左側壁
124‧‧‧右側壁
125‧‧‧後壁
130,140‧‧‧引導軌
150‧‧‧軟管支撐板
411,612‧‧‧把手
611‧‧‧間隔板

Claims (1)

  1. 一種加工廢液處理裝置，包含有：廢液槽，係用以收納在加工裝置之加工時所供給之加工液因加工而產生之加工廢液者；廢液供給泵，係用以供給收納於前述廢液槽之加工廢液者；廢液過濾裝置，係具有用以過濾由前述廢液供給泵所供給之加工廢液並將其精製成清水之過濾器及將前述過濾器支撐成可裝卸之清水接收盤者；清水貯存槽，係用以貯存經前述廢液過濾裝置精製之清水者；清水供給泵，係用以供給貯存於前述清水貯存槽之清水者；純水形成裝置，係具有用以將由前述清水供給泵所供給之清水精製成純水之離子交換裝置及將前述離子交換裝置支撐成可裝卸之支撐台者；純水溫度調整裝置，係用以將經前述純水形成裝置精製之純水調整成預定溫度者；控制裝置，係用以控制前述各結構裝置者；操作盤，係具有用以輸入處理資訊至前述控制裝置之輸入裝置及用以顯示前述控制裝置之動作狀況等之顯示裝置者；及裝置殼，係用以收納前述各結構裝置者；其特徵在於： 前述裝置殼具有底壁、上壁、左側壁、右側壁、後壁及用以開關前側開口之開關門，又，前述底壁之前述後壁側配置有前述廢液槽，且與前述廢液槽相鄰地於前述底壁的中央部配置有前述清水貯存槽，而與前述清水貯存槽相鄰地於前述底壁的前述前側開口側配置有前述純水形成裝置，前述純水形成裝置之上側配置有前述廢液過濾裝置，前述廢液槽之上方配置有前述純水溫度調整裝置，前述廢液過濾裝置之上側配置有前述控制裝置及前述操作盤，且前述操作盤配置於前述裝置殼之前側。
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