JP5086124B2

JP5086124B2 - 加工廃液処理装置

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Publication number: JP5086124B2
Application number: JP2008037694A
Authority: JP
Inventors: 武風呂中; 幹吉田
Original assignee: Disco Corp
Current assignee: Disco Corp
Priority date: 2008-02-19
Filing date: 2008-02-19
Publication date: 2012-11-28
Anticipated expiration: 2028-02-19
Also published as: JP2009196006A

Description

本発明は、半導体ウエーハ等の被加工物を切削する切削装置等の加工装置に付設され、加工時に供給される加工液の廃液を処理する加工廃液液処理装置に関する。

半導体デバイス製造工程においては、略円板形状である半導体ウエーハの表面に格子状に配列されたストリートと呼ばれる分割予定ラインによって複数の領域が区画され、この区画された領域にＩＣ、ＬＳＩ等のデバイスを形成する。そして、半導体ウエーハをストリートに沿って切断することによりデバイスが形成された領域を分割して個々の半導体デバイスを製造している。また、サファイヤ基板の表面に窒化ガリウム系化合物半導体等が積層された光デバイスウエーハもストリートに沿って切断することにより個々の発光ダイオード、レーザーダイオード等の光デバイスに分割され、電気機器に広く利用されている。

上述した半導体ウエーハや光デバイスウエーハ等のストリートに沿った切断は、通常、ダイサーと呼ばれる切削装置によって行われている。この切削装置は、半導体ウエーハ等の被加工物を保持するチャックテーブルと、該チャックテーブルに保持された被加工物を切削するための切削ブレードを備えた切削手段と、切削ブレードに加工水を供給する加工水供給手段を具備し、該加工水供給手段によって切削水を回転する切削ブレードに供給することにより切削ブレードを冷却するとともに、切削ブレードによる被加工物の切削部に加工水を供給しつつ切削作業を実施する。

上述したように切削時に供給された加工液にはシリコンや窒化ガリウム系化合物半導体を切削することによって発生する切削屑が混入される。この半導体素材からなる切削屑が混入された加工廃液は環境を汚染することから、廃液処理装置を用いて切削屑を除去した後に、再利用したり廃棄している。（例えば、特許文献１参照。）
特開２００４−２３０５２７号公報

廃液処理装置は、加工装置の加工の際に供給された加工液が加工によって生成された加工廃液を収容する廃液収容タンクと、該廃液収容タンクに収容された加工廃液を送給するポンプと、該ポンプによって送給された加工廃液を濾過して清水にするフィルターおよび該フィルターを支持する清水受けパンを備えた廃液濾過手段と、該廃液濾過手段によって精製された清水を貯水する清水貯水タンクと、該清水貯水タンクに貯水された清水を送給する清水送給ポンプと、該清水送給ポンプによって送給された清水を純水に精製するイオン交換手段を含む純水生成手段と、該純水生成手段によって精製された純水を所定の温度に調整する純水温度調整手段と、上記各構成手段を制御する制御手段と、該制御手段に処理情報等を入力する入力手段および制御手段による作動状況等を表示する表示手段と具備する操作盤とを具備しており、これらの各構成手段は装置ハウジング内に配置される。
しかるに、加工廃液を濾過して清水にする廃液濾過手段のフィルターは加工屑等が堆積してフィルターとしての機能が失われると交換する必要があり、従って、フィルターを容易に交換できることが望ましい。

本発明は上記事実に鑑みてなされたものであり、その主たる技術課題は、加工廃液を濾過して清水に精製する廃液濾過手段のフィルターを容易に交換することができる廃液処理装置を提供することにある。

上記主たる技術課題を解決するため、本発明によれば、加工装置の加工の際に供給された加工液が加工によって生成された加工廃液を収容する廃液収容タンクと、該廃液収容タンクに収容された加工廃液を送給する廃液送給ポンプと、該廃液送給ポンプによって送給された加工廃液を濾過して清水に精製するフィルターおよび該フィルターを着脱可能に支持する清水受けパンを備えた廃液濾過手段と、該廃液濾過手段によって精製された清水を貯水する清水貯水タンクと、該清水貯水タンクに貯水された清水を送給する清水送給ポンプと、該清水送給ポンプによって送給された清水を純水に精製するイオン交換手段を含む純水生成手段と、該純水生成手段によって精製された純水を所定の温度に調整する純水温度調整手段と、上記各構成手段を制御する制御手段と、該制御手段に処理情報を入力する入力手段および該制御手段による作動状況等を表示する表示手段とを具備する操作盤と、上記各構成手段を収容する装置ハウジングと、を具備する加工廃液処理装置において、
該装置ハウジングは、底壁と上壁と左側壁と右側壁と後壁および前側開口を具備しており、
該廃液濾過手段は、該前側開口側に配置され、該前側開口を通して引き出し可能に構成されている、
ことを特徴とする加工廃液処理装置が提供される。

上記装置ハウジングの左側壁と右側壁の内面には前後方向に延びるガイドレールが配設されており、該ガイドレール上に上記廃液濾過手段の清水受けパンが引き出し可能に載置される。
また、上記清水貯水タンクは上記廃液濾過手段の下側に配置され、廃液濾過手段の清水受けパンと清水貯水タンクがフレキシブルホースによって接続されており、廃液濾過手段の後壁側にはフレキシブルホースが自重により下方に湾曲するのを防止しフレキシブルホースを清水受けパン側が常に高い位置に位置付けられるように維持するホース支持板が配設されていることが望ましい。

本発明による加工廃液処理装置においては、廃液濾過手段は装置ハウジングの前側開口側に配置され、該前側開口を通して引き出し可能に構成されているので、廃液濾過手段を前側開口を通して引き出すことにより、廃液濾過手段を構成する清水受けパンに着脱可能に支持されたフィルターの交換が容易となる。

以下、本発明に従って構成された加工廃液処理装置の好適な実施形態について、添付図面を参照して詳細に説明する。

図１には本発明に従って構成された加工廃液処理装置の構成要素が加工廃液の流れに従って示されている。
図示の実施形態における加工廃液処理装置は、加工廃液を収容する廃液タンク２と、該廃液タンク２に収容された加工廃液を送給する廃液送給ポンプ３を具備している。廃液タンク２は、図示しない切削装置等の加工装置に装備される加工廃液送出手段に配管２０によって接続される。従って、廃液タンク２には図示しない切削装置等の加工装置に装備される加工廃液送出手段から送られる加工廃液が配管２０を介して導入される。この廃液タンク２の上壁に加工廃液を送給する廃液送給ポンプ３が配設されている。

上記廃液送給ポンプ３によって送給される加工廃液は、フレキシブルホースからなる配管３０を介して廃液濾過手段４に送られる。廃液濾過手段４は、清水受けパン４１と、該清水受けパン４１上に配置される第１のフィルター４２aおよび第２のフィルター４２bを具備している。この第１のフィルター４２aおよび第２のフィルター４２bは、清水受けパン４１上に着脱可能に配置される。なお、上記廃液送給ポンプ３と第１のフィルター４２aおよび第２のフィルター４２bとを接続する配管３０には電磁開閉弁４３aおよび電磁開閉弁４３ｂが配設されている。電磁開閉弁４３aが附勢(ON)して開路すると廃液送給ポンプ３によって送給された加工廃液が第１のフィルター４２aに導入され、電磁開閉弁４３bが附勢(ON)して開路すると廃液送給ポンプ３によって送給された加工廃液が第２のフィルター４２bに導入されるようになっている。第１のフィルター４２aおよび第２のフィルター４２bに導入された加工廃液は、第１のフィルター４２aおよび第２のフィルター４２bによって濾過され加工廃液に混入している切削屑が捕捉されて清水に精製され清水受けパン４１に流出する。この清水受けパン４１はフレキシブルホースからなる配管４４によって清水貯水タンク５に接続されており、従って清水受けパン４１に流出した清水はフレキシブルホースからなる配管４４を介して清水貯水タンク５に送られ貯留される。

上記配管３０には、廃液濾過手段４の第１のフィルター４２aおよび第２のフィルター４２bに送給される加工廃液の圧力を検出する圧力検出手段３１が配設されており、この圧力検出手段３１は検出信号を後述する制御手段に送る。例えば、上記電磁開閉弁４３aを附勢(ON)して加工廃液を第１のフィルター４２aによって濾過している状態において、圧力検出手段３１からの検出信号が所定圧力値以上に達したならば、後述する制御手段は第１のフィルター４２aに加工屑が堆積してフィルターとしての機能が失われたと判断し、電磁開閉弁４３bを除勢(OFF)して、電磁開閉弁４３bを附勢(ON)する。そして、後述する制御手段は、第１のフィルター４２aから第２のフィルター４２bに切り換えたことを後述する操作盤に設けられた表示手段に表示する。このように表示手段に表示されたメッセージに基いてオペレータは第１のフィルター４２aが寿命に達したことを感知し、フィルターを交換することができる。また、上記電磁開閉弁４３bを附勢(ON)して加工廃液を第２のフィルター４２bによって濾過している状態において、圧力検出手段３１からの検出信号が所定圧力値以上に達したならば、後述する制御手段は第２のフィルター４２bに加工屑が堆積してフィルターとしての機能が失われたと判断し、電磁開閉弁４３bを除勢(OFF)して、電磁開閉弁４３aを附勢(ON)する。そして、後述する制御手段は、第２のフィルター４２bから第１のフィルター４２aに切り換えたことを後述する操作盤に設けられた表示手段に表示する。

上記廃液濾過手段４からフレキシブルホースからなる配管４４を介して送られ清水貯水タンク５に貯留された清水は、清水送給ポンプ５０によって送給されフレキシブルホースからなる配管５１を介して純水生成手段６に送られる。図示の実施形態における純水生成手段６は、支持台６１と、該支持台６１に立設された仕切り板６１１と、支持台６１における仕切り板６１１の後側に配置された紫外線照射手段６２と、支持台６１における仕切り板６１１の前側に配置されたイオン交換樹脂を備えた第１のイオン交換手段６３aおよび第２のイオン交換手段６３bと、支持台６１における仕切り板６１１の後側に配置された精密フィルター６４を具備している。この第１のイオン交換手段６３aおよび第２のイオン交換手段６３bと精密フィルター６４は、支持台６１上に着脱可能に配置される。上記清水送給ポンプ５０によって送給されフレキシブルホースからなる配管５１を介して送られた清水は、紫外線照射手段６２に導入され、ここで紫外線(UV)が照射されることによって殺菌される。紫外線照射手段６２において殺菌処理された清水は、配管６５を介して第１のイオン交換手段６３aまたは第２のイオン交換手段６３bに導入される。なお、配管６５には電磁開閉弁６６aおよび電磁開閉弁６６ｂが配設されている。電磁開閉弁６６aが附勢(ON)して開路すると殺菌処理された清水が第１のイオン交換手段６３aに導入され、電磁開閉弁６６bが附勢(ON)して開路すると殺菌処理された清水が第２のイオン交換手段６３bに導入されるようになっている。第１のイオン交換手段６３aまたは第２のイオン交換手段６３bに導入された清水は、イオンが交換されて純水に精製される。このようにして清水がイオン交換されて精製された純水には、第１のイオン交換手段６３aおよび第２のイオン交換手段６３bを構成するイオン交換樹脂の樹脂屑等の微細な物質が混入されている場合がある。このため、図示の実施形態においては上述したように第１のイオン交換手段６３aおよび第２のイオン交換手段６３bによって清水がイオン交換されて精製された純水を配管６７を介して精密フィルター６４に導入し、この精密フィルター６４によって純水に混入されているイオン交換樹脂の樹脂屑等の微細な物質を捕捉する。

なお、上記配管６７には、第１のイオン交換手段６３aおよび第２のイオン交換手段６３bから精密フィルター６４に送給される純水の圧力を検出する圧力検出手段６８が配設されており、この圧力検出手段６８は検出信号を後述する制御手段に送る。例えば、圧力検出手段６８からの検出信号が所定圧力値以上に達したならば、後述する制御手段は精密フィルター６４に樹脂屑等の微細な物質が堆積してフィルターとしての機能が失われたと判断し、後述する操作盤に設けられた表示手段に表示する。このように表示手段に表示されたメッセージに基いてオペレータは精密フィルター６４が寿命に達したことを感知し、フィルターを交換することができる。

また、上記配管６７には、第１のイオン交換手段６３aまたは第２のイオン交換手段６３bから精密フィルター６４に送給される純水の比抵抗を検出するための比抵抗計６９が配設されており、この比抵抗計６９は検出信号を後述する制御手段に送る。後述する制御手段は、上記電磁開閉弁６６aを附勢(ON)して清水を第１のイオン交換手段６３aによって純水に精製している状態において、比抵抗計６９からの検出信号が所定値（例えば１０MΩ・cm）以下に達したならば、後述する制御手段は第１のイオン交換手段６３aによる純水精製能力が低下したと判断し、電磁開閉弁６６aを除勢(OFF)して、電磁開閉弁６６bを附勢(ON)する。そして、後述する制御手段は、第１のイオン交換手段６３aから第２のイオン交換手段６３bに切り換えたことを後述する操作盤に設けられた表示手段に表示する。このように表示手段に表示されたメッセージに基いてオペレータは第１のイオン交換手段６３aが寿命に達したことを感知し、第１のイオン交換手段６３aのイオン交換樹脂を交換することができる。また、上記電磁開閉弁６６bを附勢(ON)して第２のイオン交換手段６３bによって清水を純水に精製している状態において、比抵抗計６９からの検出信号が所定値（例えば１０MΩ・cm）以下に達したならば、後述する制御手段は第２のイオン交換手段６３bによる純水精製能力が低下したと判断し、電磁開閉弁６６bを除勢(OFF)して、電磁開閉弁６６aを附勢(ON)する。そして、後述する制御手段は、第２のイオン交換手段６３bから第１のイオン交換手段６３aに切り換えたことを後述する操作盤に設けられた表示手段に表示する。

上記純水生成手段６によって精製された純水は、フレキシブルホースからなる配管６０を介して純水温度調整手段７に送られる。純水温度調整手段７に送られた純水は、ここで所定温度（例えば２３℃）に調整され配管７０を介して図示しない切削装置等の加工装置に装備される加工液供給手段に循環せしめられる。

上述した廃液タンク２、廃液濾過手段４、純水生成手段６、純水温度調整手段７および各配管等は、図２および図３に示す装置ハウジング１０内に配置される。図２には装置ハウジング１０の斜視図が示されており、図３には装置ハウジング１０を構成する後述する各壁を透視し装置ハウジング１０内に上記廃液タンク２、廃液濾過手段４、純水生成手段６、純水温度調整手段７および各配管等が配置された状態が示されている。図示の実施形態における装置ハウジング１０は、直方体状の収容室を形成する枠体１１０と、該枠体１１０に装着される底壁１２１と上壁１２２と左側壁１２３と右側壁１２４と後壁１２５および枠体１１０の前側に装着され枠体１１０の前側に形成される前側開口１０１を開閉する開閉扉１２６とからなっている。

このように構成された装置ハウジング１０の底壁１２１上には、上記廃液タンク２と清水貯水タンク５および純水生成手段６が配置される。廃液タンク２は装置ハウジング１０の底壁１２１における後壁１２５側に配置され、清水貯水タンク５は廃液タンク２に隣接して底壁１２１の中央部に配置され、純水生成手段６は清水貯水タンク５に隣接して底壁１２１における前側開口１０１側（開閉扉１２６側）に配置される。

上記純水生成手段６は、図示の実施形態においては装置ハウジング１０の前側開口１０１を通して引き出し可能に配置されている。即ち、装置ハウジング１０を構成する左側壁１２３と右側壁１２４の内面下端部には、互いに対向して配設され底壁１２１の上面と平行に前後方向に延びる一対のガイドレール１３０、１３０が配設されている。この一対のガイドレール１３０、１３０上に純水生成手段６の支持台６１を載置することにより、純水生成手段６は一対のガイドレール１３０、１３０に沿って装置ハウジング１０の前側開口１０１を通して引き出し可能に支持される。従って、図４に示すように純水生成手段６を一対のガイドレール１３０、１３０に沿って装置ハウジング１０の前側開口１０１を通して引き出すことにより、純水生成手段６を構成する支持台６１に配置された第１のイオン交換手段６３aおよび第２のイオン交換手段６３bと精密フィルター６４の交換を容易に実施することができる。

図示の実施形態における加工廃液処理装置においては、装置ハウジング１０内における上記純水生成手段６および清水貯水タンク５の上側に上記廃液濾過手段４が装置ハウジング１０の前側開口１０１を通して引き出し可能に配置されている。即ち、装置ハウジング１０を構成する左側壁１２３と右側壁１２４の内面中間部には、互いに対向して配設され上記底壁１２１の上面と平行（一対のガイドレール１３０、１３０と平行）に前後方向に延びる一対のガイドレール１４０、１４０が配設されている。この一対のガイドレール１４０、１４０上に廃液濾過手段４の清水受けパン４１を載置することにより、廃液濾過手段４は一対のガイドレール１４０、１４０に沿って装置ハウジング１０の前側開口１０１を通して引き出し可能に支持される。なお、廃液濾過手段４の引き出し操作を容易にするために、廃液濾過手段４を構成する清水受けパン４１の前端には下方に突出する把手４１１が設けられている。従って、図５に示すように廃液濾過手段４を一対のガイドレール１４０、１４０に沿って装置ハウジング１０の前側開口１０１を通して引き出すことにより、廃液濾過手段４を構成する清水受けパン４１に着脱可能に配置された第１のフィルター４２aおよび第２のフィルター４２bの交換を容易に実施することができる。このように廃液濾過手段４が引き出し可能に配置されているために、廃液濾過手段４の清水受けパン４１と上記清水貯水タンク５とを接続する配管はフレキシブルホースからなる配管４４によって接続されている。

上述したように廃液濾過手段４の清水受けパン４１と上記清水貯水タンク５とをフレキシブルホースからなる配管４４によって接続することに関連して、装置ハウジング１０における廃液濾過手段４の後壁１２５側にはフレキシブルホースからなる配管４４を支持するホース支持板１５０が配設されている。このホース支持板１５０は、後壁１２５側に向けて高くなるように傾斜するとともに右側壁１２４側に向けて高くなるように傾斜する形状に構成されており、フレキシブルホースからなる配管４４が自重により下方に湾曲するのを防止し、フレキシブルホースからなる配管４４を清水受けパン４１側が常に高い位置に位置付けられるように維持する。従って、清水受けパン４１に流出した清水は、自重によりフレキシブルホースからなる配管４４を通して清水貯水タンク５に流入することができる。

図示の実施形態における加工廃液処理装置においては、装置ハウジング１０内における上記ホース支持板１５０の上側に上記純水温度調整手段７が配置される。即ち、装置ハウジング１０を構成する左側壁１２３と右側壁１２４に装着された図示しない支持部材上に純水温度調整手段７が載置され、適宜の固定手段によって固定される。

図示の実施形態における加工廃液処理装置は、上記各構成手段の作動を制御する制御手段８と、該制御手段８に廃液処理開始情報等の処理情報を入力する操作盤９を具備している。この制御手段８と操作盤９は、図示の実施形態においては一体的に構成されている。このように構成された制御手段８および操作盤９は、装置ハウジング１０における廃液濾過手段４の上側に配置される。即ち、装置ハウジング１０を構成する左側壁１２３と右側壁１２４に装着された図示しない支持部材上に制御手段８と、該制御手段８および操作盤９が載置され、適宜の固定手段によって固定される。このとき、操作盤９が装置ハウジング１０前側（開閉扉１２６側に配置されている側）に位置付けられる。なお、操作盤９には処理情報等を入力する入力手段９１と、制御手段８による処理情報を表示する表示手段９２等が配設されている。

図示の実施形態における加工廃液処理装置は以上のように構成されており、オペレータが操作盤９から廃液処理開始情報を入力すると、制御手段８は上記各構成手段を制御して上述したように廃液処理作業を実行する。そして、上述した廃液処理作業を実行している際に制御手段８は、上述したように廃液濾過手段４の電磁開閉弁４３aを除勢(OFF)して電磁開閉弁４３bを附勢(ON)した場合または電磁開閉弁４３bを除勢(OFF)して電磁開閉弁４３a附勢(ON)した場合には、第１のフィルター４２aから第２のフィルター４２bまたは第２のフィルター４２bから第１のフィルター４２aに切り換えたことを操作盤９の表示手段９２に表示する。このように表示手段９２に表示されたメッセージに基いてオペレータは、第１のフィルター４２aまたは第２のフィルター４２bが寿命に達したことを感知し、装置ハウジング１０の開閉扉１２６を開け、廃液濾過手段４を一対のガイドレール１４０、１４０に沿って装置ハウジング１０の前側開口１０１を通して引き出す。このとき、オペレータは廃液濾過手段４を構成する清水受けパン４１に設けられた把手４１１を把持して引き出す。そして、オペレータは、表示手段９２に表示されたメッセージに従って第１のフィルター４２aまたは第２のフィルター４２bを交換する。

また、上述した廃液処理作業を実行している際に制御手段８は、上記圧力検出手段６８からの検出信号が所定圧力値以上に達したならば、精密フィルター６４の機能が失われたと判断し、操作盤９の表示手段９２に表示する。このように表示手段に表示されたメッセージに基いてオペレータは、精密フィルター６４が寿命に達したことを感知し、装置ハウジング１０の開閉扉１２６を開け、純水生成手段６を一対のガイドレール１３０、１３０に沿って装置ハウジング１０の前側開口１０１を通して引き出す。このとき、オペレータは純水生成手段６を構成する支持台６１に立設された仕切り板６１１に設けられた把手６１２を把持して引き出す。そして、オペレータは、表示手段９２に表示されたメッセージに従って精密フィルター６４を交換する。

更に、上述した廃液処理作業を実行している際に制御手段８は、上記比抵抗計６９からの検出信号が所定値（例えば１０MΩ・cm）以下に達し、純水生成手段６の電磁開閉弁６６aを除勢(OFF)して電磁開閉弁６６bを附勢(ON)した場合または電磁開閉弁６６ｂを除勢(OFF)して電磁開閉弁６６aを附勢(ON)した場合には、第１のイオン交換手段６３aから第２のイオン交換手段６３bまたは第２のイオン交換手段６３bから第１のイオン交換手段６３aに切り換えたことを操作盤９の表示手段９２に表示する。このように表示手段９２に表示されたメッセージに基いてオペレータは、第１のイオン交換手段６３aまたは第２のイオン交換手段６３bが寿命に達したことを感知し、装置ハウジング１０の開閉扉１２６を開け、純水生成手段６を一対のガイドレール１３０、１３０に沿って装置ハウジング１０の前側開口１０１を通して引き出す。このとき、オペレータは上述したように純水生成手段６を構成する支持台６１に立設された仕切り板６１１に設けられた把手６１２を把持して引き出す。そして、オペレータは、表示手段９２に表示されたメッセージに従って第１のイオン交換手段６３aまたは第２のイオン交換手段６３bのイオン交換樹脂を交換する。

図示の実施形態における加工廃液処理装置は以上のように構成されており、上記装置ハウジング１０の底壁１２１上に廃液タンク２と清水貯水タンク５と純水生成手段６が配置され、純水生成手段６の上側に廃液濾過手段４が配置され、ホース支持板１５０の上側（廃液タンク２の上方）に純水温度調整手段７が配置され、純水温度調整手段７の上側に制御手段８および操作盤９が配置されているので、オペレータによる操作性を損なうことなく装置全体をコンパクトに構成することができ、維持コストの高いクリーンルームを有効利用することができる。また、純水生成手段６は装置ハウジング１０の前側開口１０１側に配置され、該前側開口１０１を通して引き出し可能に構成されているので、第１のイオン交換手段６３aおよび第２のイオン交換手段６３bと精密フィルター６４の交換を容易に実施することができる。更に、廃液濾過手段４も装置ハウジング１０の前側開口１０１を通して引き出し可能に構成されているので、第１のフィルター４２aおよび第２のフィルター４２bの交換を容易に実施することができる。

本発明に本発明に従って構成された加工廃液処理装置の構成要素を加工廃液の流れに従って示す説明図。図１に示す加工廃液処理装置の構成要素を配置する装置ハウジングの斜視図。図２に示す装置ハウジングを構成する各壁を透視し装置ハウジング内に加工廃液処理装置の構成要素を配置した状態を示す斜視図。図３に示す加工廃液処理装置を構成する純水生成手段を装置ハウジングの前側開口を通して引き出した状態を示す斜視図。図３に示す加工廃液処理装置を構成する廃液濾過手段を装置ハウジングの前側開口を通して引き出した状態を示す斜視図。

符号の説明

２：廃液タンク
３：廃液送給ポンプ
３１：圧力検出手段
４：廃液濾過手段
４１：清水受けパン
４２a：第１のフィルター
４２b：第２のフィルター
４３a、４３ｂ：電磁開閉弁
５：清水貯水タンク
５０：清水送給ポンプ
６：純水生成手段
６１：支持台
６２：紫外線照射手段
６３a：第１のイオン交換手段
６３b：第２のイオン交換手段
６４：精密フィルター
６６a、６６ｂ：電磁開閉弁
６８：圧力検出手段
６９：比抵抗計
７：純水温度調整手段
８：制御手段
９：操作盤
９１：入力手段
９２：表示手段
１０：装置ハウジング
１２６：開閉蓋

Claims

加工装置の加工の際に供給された加工液が加工によって生成された加工廃液を収容する廃液収容タンクと、該廃液収容タンクに収容された加工廃液を送給する廃液送給ポンプと、該廃液送給ポンプによって送給された加工廃液を濾過して清水に精製するフィルターおよび該フィルターを着脱可能に支持する清水受けパンを備えた廃液濾過手段と、該廃液濾過手段によって精製された清水を貯水する清水貯水タンクと、該清水貯水タンクに貯水された清水を送給する清水送給ポンプと、該清水送給ポンプによって送給された清水を純水に精製するイオン交換手段を含む純水生成手段と、該純水生成手段によって精製された純水を所定の温度に調整する純水温度調整手段と、上記各構成手段を制御する制御手段と、該制御手段に処理情報を入力する入力手段および該制御手段による作動状況等を表示する表示手段とを具備する操作盤と、上記各構成手段を収容する装置ハウジングと、を具備する加工廃液処理装置において、
該装置ハウジングは、底壁と上壁と左側壁と右側壁と後壁および前側開口を具備しており、
該廃液濾過手段は、該前側開口側に配置され、該前側開口を通して引き出し可能に構成されている、
ことを特徴とする加工廃液処理装置。
該装置ハウジングの該左側壁と該右側壁の内面には前後方向に延びるガイドレールが配設されており、該ガイドレール上に該廃液濾過手段の該清水受けパンが引き出し可能に載置される、請求項１記載の加工廃液処理装置。
該清水貯水タンクは該廃液濾過手段の下側に配置され、該廃液濾過手段の該清水受けパンと該清水貯水タンクがフレキシブルホースによって接続されており、該廃液濾過手段の該後壁側には該フレキシブルホースが自重により下方に湾曲するのを防止し該フレキシブルホースを該清水受けパン側が常に高い位置に位置付けられるように維持するホース支持板が配設されている、請求項１又は２記載の加工廃液処理装置。