JP5086123B2 - 加工廃液処理装置 - Google Patents

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Description

本発明は、半導体ウエーハ等の被加工物を切削する切削装置等の加工装置に付設され、加工時に供給される加工液の廃液を処理する加工廃液液処理装置に関する。
半導体デバイス製造工程においては、略円板形状である半導体ウエーハの表面に格子状に配列されたストリートと呼ばれる分割予定ラインによって複数の領域が区画され、この区画された領域にIC、LSI等のデバイスを形成する。そして、半導体ウエーハをストリートに沿って切断することによりデバイスが形成された領域を分割して個々の半導体デバイスを製造している。また、サファイヤ基板の表面に窒化ガリウム系化合物半導体等が積層された光デバイスウエーハもストリートに沿って切断することにより個々の発光ダイオード、レーザーダイオード等の光デバイスに分割され、電気機器に広く利用されている。
上述した半導体ウエーハや光デバイスウエーハ等のストリートに沿った切断は、通常、ダイサーと呼ばれる切削装置によって行われている。この切削装置は、半導体ウエーハ等の被加工物を保持するチャックテーブルと、該チャックテーブルに保持された被加工物を切削するための切削ブレードを備えた切削手段と、切削ブレードに加工水を供給する加工水供給手段を具備し、該加工水供給手段によって切削水を回転する切削ブレードに供給することにより切削ブレードを冷却するとともに、切削ブレードによる被加工物の切削部に加工水を供給しつつ切削作業を実施する。
上述したように切削時に供給された加工液にはシリコンや窒化ガリウム系化合物半導体を切削することによって発生する切削屑が混入される。この半導体素材からなる切削屑が混入された加工廃液は環境を汚染することから、廃液処理装置を用いて切削屑を除去した後に、再利用したり廃棄している。(例えば、特許文献1参照。)
特開2004−230527号公報
而して、加工装置の加工の際に供給された加工液が加工によって生成された加工廃液を収容する廃液収容タンクと、該廃液収容タンクに収容された加工廃液を送給するポンプと、該ポンプによって送給された加工廃液を濾過して清水に精製する廃液濾過手段と、該廃液濾過手段によって精製された清水を貯水する清水貯水タンクと、該清水貯水タンクに貯水された清水を送給する清水送給ポンプと、該清水送給ポンプによって送給された清水を純水に精製するイオン交換手段を含む純水生成手段と、該純水生成手段によって精製された純水を所定の温度に調整する純水温度調整手段と、上記各構成手段を制御する制御手段と、該制御手段に処理情報等を入力する入力手段および制御手段による作動状況等を表示する表示手段を具備する操作盤とを具備しており、これら各構成手段を配置するには相当の設置面積を要し、維持コストの高いクリーンルームを有効利用することができない。
本発明は上記事実に鑑みてなされたものであり、その主たる技術課題は、装置全体をコンパクトに構成することができる廃液処理装置を提供することにある。
上記主たる技術課題を解決するため、本発明によれば、加工装置の加工の際に供給された加工液が加工によって生成された加工廃液を収容する廃液収容タンクと、該廃液収容タンクに収容された加工廃液を送給する廃液送給ポンプと、該廃液送給ポンプによって送給された加工廃液を濾過して清水に精製するフィルターおよび該フェイルターを着脱可能に支持する清水受けパンを備えた廃液濾過手段と、該廃液濾過手段によって精製された清水を貯水する清水貯水タンクと、該清水貯水タンクに貯水された清水を送給する清水送給ポンプと、該清水送給ポンプによって送給された清水を純水に精製するイオン交換手段および該イオン交換手段を着脱可能に支持する支持台を備えた純水生成手段と、該純水生成手段によって精製された純水を所定の温度に調整する純水温度調整手段と、上記各構成手段を制御する制御手段と、該制御手段に処理情報を入力する入力手段および該制御手段による作動状況等を表示する表示手段とを具備する操作盤と、上記各構成手段を収容する装置ハウジングと、を具備する加工廃液処理装置において、
該装置ハウジングは、底壁と上壁と左側壁と右側壁と後壁および前側開口を開閉する開閉扉を具備しており、
該底壁における該後壁側に該廃液タンクが配置され、該廃液タンクに隣接して該底壁の中央部に該清水貯水タンクが配置され、該清水貯水タンクに隣接して該底壁における該前側開口側に該純水生成手段が配置され、
該純水生成手段の上側に廃液濾過手段が配置され、
該廃液タンクの上方に純水温度調整手段が配置され、
該廃液濾過手段の上側に該制御手段および該操作盤が配置されるとともに該操作盤が該装置ハウジングの前側に配置される、
ことを特徴とする加工廃液処理装置が提供される。
本発明による加工廃液処理装置においては、装置ハウジングを構成する底壁における後壁側に廃液タンクが配置され、廃液タンクに隣接して底壁の中央部に清水貯水タンクが配置され、清水貯水タンクに隣接して前側開口側に純水生成手段が配置され、純水生成手段の上側に廃液濾過手段が配置され、廃液タンクの上方に純水温度調整手段が配置され、廃液濾過手段の上側に制御手段および操作盤が配置されるとともに操作盤が装置ハウジングの前側に配置されるので、オペレータによる操作性を損なうことなく装置全体をコンパクトに構成することができ、維持コストの高いクリーンルームを有効利用することができる。
以下、本発明に従って構成された加工廃液処理装置の好適な実施形態について、添付図面を参照して詳細に説明する。
図1には本発明に従って構成された加工廃液処理装置の構成要素が加工廃液の流れに従って示されている。
図示の実施形態における加工廃液処理装置は、加工廃液を収容する廃液タンク2と、該廃液タンク2に収容された加工廃液を送給する廃液送給ポンプ3を具備している。廃液タンク2は、図示しない切削装置等の加工装置に装備される加工廃液送出手段に配管20によって接続される。従って、廃液タンク2には図示しない切削装置等の加工装置に装備される加工廃液送出手段から送られる加工廃液が配管20を介して導入される。この廃液タンク2の上壁に加工廃液を送給する廃液送給ポンプ3が配設されている。
上記廃液送給ポンプ3によって送給される加工廃液は、フレキシブルホースからなる配管30を介して廃液濾過手段4に送られる。廃液濾過手段4は、清水受けパン41と、該清水受けパン41上に配置される第1のフィルター42aおよび第2のフィルター42bを具備している。この第1のフィルター42aおよび第2のフィルター42bは、清水受けパン41上に着脱可能に配置される。なお、上記廃液送給ポンプ3と第1のフィルター42aおよび第2のフィルター42bとを接続する配管30には電磁開閉弁43aおよび電磁開閉弁43bが配設されている。電磁開閉弁43aが附勢(ON)して開路すると廃液送給ポンプ3によって送給された加工廃液が第1のフィルター42aに導入され、電磁開閉弁43bが附勢(ON)して開路すると廃液送給ポンプ3によって送給された加工廃液が第2のフィルター42bに導入されるようになっている。第1のフィルター42aおよび第2のフィルター42bに導入された加工廃液は、第1のフィルター42aおよび第2のフィルター42bによって濾過され加工廃液に混入している切削屑が捕捉されて清水に精製され清水受けパン41に流出する。この清水受けパン41はフレキシブルホースからなる配管44によって清水貯水タンク5に接続されており、従って清水受けパン41に流出した清水はフレキシブルホースからなる配管44を介して清水貯水タンク5に送られ貯留される。
上記配管30には、廃液濾過手段4の第1のフィルター42aおよび第2のフィルター42bに送給される加工廃液の圧力を検出する圧力検出手段31が配設されており、この圧力検出手段31は検出信号を後述する制御手段に送る。例えば、上記電磁開閉弁43aを附勢(ON)して加工廃液を第1のフィルター42aによって濾過している状態において、圧力検出手段31からの検出信号が所定圧力値以上に達したならば、後述する制御手段は第1のフィルター42aに加工屑が堆積してフィルターとしての機能が失われたと判断し、電磁開閉弁43bを除勢(OFF)して、電磁開閉弁43bを附勢(ON)する。そして、後述する制御手段は、第1のフィルター42aから第2のフィルター42bに切り換えたことを後述する操作盤に設けられた表示手段に表示する。このように表示手段に表示されたメッセージに基いてオペレータは第1のフィルター42aが寿命に達したことを感知し、フィルターを交換することができる。また、上記電磁開閉弁43bを附勢(ON)して加工廃液を第2のフィルター42bによって濾過している状態において、圧力検出手段31からの検出信号が所定圧力値以上に達したならば、後述する制御手段は第2のフィルター42bに加工屑が堆積してフィルターとしての機能が失われたと判断し、電磁開閉弁43bを除勢(OFF)して、電磁開閉弁43aを附勢(ON)する。そして、後述する制御手段は、第2のフィルター42bから第1のフィルター42aに切り換えたことを後述する操作盤に設けられた表示手段に表示する。
上記廃液濾過手段4からフレキシブルホースからなる配管44を介して送られ清水貯水タンク5に貯留された清水は、清水送給ポンプ50によって送給されフレキシブルホースからなる配管51を介して純水生成手段6に送られる。図示の実施形態における純水生成手段6は、支持台61と、該支持台61に立設された仕切り板611と、支持台61における仕切り板611の後側に配置された紫外線照射手段62と、支持台61における仕切り板611の前側に配置されたイオン交換樹脂を備えた第1のイオン交換手段63aおよび第2のイオン交換手段63bと、支持台61における仕切り板611の後側に配置された精密フィルター64を具備している。この第1のイオン交換手段63aおよび第2のイオン交換手段63bと精密フィルター64は、支持台61上に着脱可能に配置される。上記清水送給ポンプ50によって送給されフレキシブルホースからなる配管51を介して送られた清水は、紫外線照射手段62に導入され、ここで紫外線(UV)が照射されることによって殺菌される。紫外線照射手段62において殺菌処理された清水は、配管65を介して第1のイオン交換手段63aまたは第2のイオン交換手段63bに導入される。なお、配管65には電磁開閉弁66aおよび電磁開閉弁66bが配設されている。電磁開閉弁66aが附勢(ON)して開路すると殺菌処理された清水が第1のイオン交換手段63aに導入され、電磁開閉弁66bが附勢(ON)して開路すると殺菌処理された清水が第2のイオン交換手段63bに導入されるようになっている。第1のイオン交換手段63aまたは第2のイオン交換手段63bに導入された清水は、イオンが交換されて純水に精製される。このようにして清水がイオン交換されて精製された純水には、第1のイオン交換手段63aおよび第2のイオン交換手段63bを構成するイオン交換樹脂の樹脂屑等の微細な物質が混入されている場合がある。このため、図示の実施形態においては上述したように第1のイオン交換手段63aおよび第2のイオン交換手段63bによって清水がイオン交換されて精製された純水を配管67を介して精密フィルター64に導入し、この精密フィルター64によって純水に混入されているイオン交換樹脂の樹脂屑等の微細な物質を捕捉する。
なお、上記配管67には、第1のイオン交換手段63aおよび第2のイオン交換手段63bから精密フィルター64に送給される純水の圧力を検出する圧力検出手段68が配設されており、この圧力検出手段68は検出信号を後述する制御手段に送る。例えば、圧力検出手段68からの検出信号が所定圧力値以上に達したならば、後述する制御手段は精密フィルター64に樹脂屑等の微細な物質が堆積してフィルターとしての機能が失われたと判断し、後述する操作盤に設けられた表示手段に表示する。このように表示手段に表示されたメッセージに基いてオペレータは精密フィルター64が寿命に達したことを感知し、フィルターを交換することができる。
また、上記配管67には、第1のイオン交換手段63aまたは第2のイオン交換手段63bから精密フィルター64に送給される純水の比抵抗を検出するための比抵抗計69が配設されており、この比抵抗計69は検出信号を後述する制御手段に送る。後述する制御手段は、上記電磁開閉弁66aを附勢(ON)して清水を第1のイオン交換手段63aによって純水に精製している状態において、比抵抗計69からの検出信号が所定値(例えば10MΩ・cm)以下に達したならば、後述する制御手段は第1のイオン交換手段63aによる純水精製能力が低下したと判断し、電磁開閉弁66aを除勢(OFF)して、電磁開閉弁66bを附勢(ON)する。そして、後述する制御手段は、第1のイオン交換手段63aから第2のイオン交換手段63bに切り換えたことを後述する操作盤に設けられた表示手段に表示する。このように表示手段に表示されたメッセージに基いてオペレータは第1のイオン交換手段63aが寿命に達したことを感知し、第1のイオン交換手段63aのイオン交換樹脂を交換することができる。また、上記電磁開閉弁66bを附勢(ON)して第2のイオン交換手段63bによって清水を純水に精製している状態において、比抵抗計69からの検出信号が所定値(例えば10MΩ・cm)以下に達したならば、後述する制御手段は第2のイオン交換手段63bによる純水精製能力が低下したと判断し、電磁開閉弁66bを除勢(OFF)して、電磁開閉弁66aを附勢(ON)する。そして、後述する制御手段は、第2のイオン交換手段63bから第1のイオン交換手段63aに切り換えたことを後述する操作盤に設けられた表示手段に表示する。
上記純水生成手段6によって精製された純水は、フレキシブルホースからなる配管60を介して純水温度調整手段7に送られる。純水温度調整手段7に送られた純水は、ここで所定温度(例えば23℃)に調整され配管70を介して図示しない切削装置等の加工装置に装備される加工液供給手段に循環せしめられる。
上述した廃液タンク2、廃液濾過手段4、純水生成手段6、純水温度調整手段7および各配管等は、図2および図3に示す装置ハウジング10内に配置される。図2には装置ハウジング10の斜視図が示されており、図3には装置ハウジング10を構成する後述する各壁を透視し装置ハウジング10内に上記廃液タンク2、廃液濾過手段4、純水生成手段6、純水温度調整手段7および各配管等が配置された状態が示されている。図示の実施形態における装置ハウジング10は、直方体状の収容室を形成する枠体110と、該枠体110に装着される底壁121と上壁122と左側壁123と右側壁124と後壁125および枠体110の前側に装着され枠体110の前側に形成される前側開口101を開閉する開閉扉126とからなっている。
このように構成された装置ハウジング10の底壁121上には、上記廃液タンク2と清水貯水タンク5および純水生成手段6が配置される。廃液タンク2は装置ハウジング10の底壁121における後壁125側に配置され、清水貯水タンク5は廃液タンク2に隣接して底壁121の中央部に配置され、純水生成手段6は清水貯水タンク5に隣接して底壁121における前側開口101側(開閉扉126側)に配置される。
上記純水生成手段6は、図示の実施形態においては装置ハウジング10の前側開口101を通して引き出し可能に配置されている。即ち、装置ハウジング10を構成する左側壁123と右側壁124の内面下端部には、互いに対向して配設され底壁121の上面と平行に前後方向に延びる一対のガイドレール130、130が配設されている。この一対のガイドレール130、130上に純水生成手段6の支持台61を載置することにより、純水生成手段6は一対のガイドレール130、130に沿って装置ハウジング10の前側開口101を通して引き出し可能に支持される。従って、図4に示すように純水生成手段6を一対のガイドレール130、130に沿って装置ハウジング10の前側開口101を通して引き出すことにより、純水生成手段6を構成する支持台61に配置された第1のイオン交換手段63aおよび第2のイオン交換手段63bと精密フィルター64の交換を容易に実施することができる。
図示の実施形態における加工廃液処理装置においては、装置ハウジング10内における上記純水生成手段6および清水貯水タンク5の上側に上記廃液濾過手段4が装置ハウジング10の前側開口101を通して引き出し可能に配置されている。即ち、装置ハウジング10を構成する左側壁123と右側壁124の内面中間部には、互いに対向して配設され上記底壁121の上面と平行(一対のガイドレール130、130と平行)に前後方向に延びる一対のガイドレール140、140が配設されている。この一対のガイドレール140、140上に廃液濾過手段4の清水受けパン41を載置することにより、廃液濾過手段4は一対のガイドレール140、140に沿って装置ハウジング10の前側開口101を通して引き出し可能に支持される。なお、廃液濾過手段4の引き出し操作を容易にするために、廃液濾過手段4を構成する清水受けパン41の前端には下方に突出する把手411が設けられている。従って、図5に示すように廃液濾過手段4を一対のガイドレール140、140に沿って装置ハウジング10の前側開口101を通して引き出すことにより、廃液濾過手段4を構成する清水受けパン41に着脱可能に配置された第1のフィルター42aおよび第2のフィルター42bの交換を容易に実施することができる。このように廃液濾過手段4が引き出し可能に配置されているために、廃液濾過手段4の清水受けパン41と上記清水貯水タンク5とを接続する配管はフレキシブルホースからなる配管44によって接続されている。
上述したように廃液濾過手段4の清水受けパン41と上記清水貯水タンク5とをフレキシブルホースからなる配管44によって接続することに関連して、装置ハウジング10における廃液濾過手段4の後壁125側にはフレキシブルホースからなる配管44を支持するホース支持板150が配設されている。このホース支持板150は、後壁125側に向けて高くなるように傾斜するとともに右側壁124側に向けて高くなるように傾斜する形状に構成されており、フレキシブルホースからなる配管44が自重により下方に湾曲するのを防止し、フレキシブルホースからなる配管44を清水受けパン41側が常に高い位置に位置付けられるように維持する。従って、清水受けパン41に流出した清水は、自重によりフレキシブルホースからなる配管44を通して清水貯水タンク5に流入することができる。
図示の実施形態における加工廃液処理装置においては、装置ハウジング10内における上記ホース支持板150の上側に上記純水温度調整手段7が配置される。即ち、装置ハウジング10を構成する左側壁123と右側壁124に装着された図示しない支持部材上に純水温度調整手段7が載置され、適宜の固定手段によって固定される。
図示の実施形態における加工廃液処理装置は、上記各構成手段の作動を制御する制御手段8と、該制御手段8に廃液処理開始情報等の処理情報を入力する操作盤9を具備している。この制御手段8と操作盤9は、図示の実施形態においては一体的に構成されている。このように構成された制御手段8および操作盤9は、装置ハウジング10における廃液濾過手段4の上側に配置される。即ち、装置ハウジング10を構成する左側壁123と右側壁124に装着された図示しない支持部材上に制御手段8と、該制御手段8および操作盤9が載置され、適宜の固定手段によって固定される。このとき、操作盤9が装置ハウジング10前側(開閉扉126側に配置されている側)に位置付けられる。なお、操作盤9には処理情報等を入力する入力手段91と、制御手段8による処理情報を表示する表示手段92等が配設されている。
図示の実施形態における加工廃液処理装置は以上のように構成されており、オペレータが操作盤9から廃液処理開始情報を入力すると、制御手段8は上記各構成手段を制御して上述したように廃液処理作業を実行する。そして、上述した廃液処理作業を実行している際に制御手段8は、上述したように廃液濾過手段4の電磁開閉弁43aを除勢(OFF)して電磁開閉弁43bを附勢(ON)した場合または電磁開閉弁43bを除勢(OFF)して電磁開閉弁43a附勢(ON)した場合には、第1のフィルター42aから第2のフィルター42bまたは第2のフィルター42bから第1のフィルター42aに切り換えたことを操作盤9の表示手段92に表示する。このように表示手段92に表示されたメッセージに基いてオペレータは、第1のフィルター42aまたは第2のフィルター42bが寿命に達したことを感知し、装置ハウジング10の開閉扉126を開け、廃液濾過手段4を一対のガイドレール140、140に沿って装置ハウジング10の前側開口101を通して引き出す。このとき、オペレータは廃液濾過手段4を構成する清水受けパン41に設けられた把手411を把持して引き出す。そして、オペレータは、表示手段92に表示されたメッセージに従って第1のフィルター42aまたは第2のフィルター42bを交換する。
また、上述した廃液処理作業を実行している際に制御手段8は、上記圧力検出手段68からの検出信号が所定圧力値以上に達したならば、精密フィルター64の機能が失われたと判断し、操作盤9の表示手段92に表示する。このように表示手段に表示されたメッセージに基いてオペレータは、精密フィルター64が寿命に達したことを感知し、装置ハウジング10の開閉扉126を開け、純水生成手段6を一対のガイドレール130、130に沿って装置ハウジング10の前側開口101を通して引き出す。このとき、オペレータは純水生成手段6を構成する支持台61に立設された仕切り板611に設けられた把手612を把持して引き出す。そして、オペレータは、表示手段92に表示されたメッセージに従って精密フィルター64を交換する。
更に、上述した廃液処理作業を実行している際に制御手段8は、上記比抵抗計69からの検出信号が所定値(例えば10MΩ・cm)以下に達し、純水生成手段6の電磁開閉弁66aを除勢(OFF)して電磁開閉弁66bを附勢(ON)した場合または電磁開閉弁66bを除勢(OFF)して電磁開閉弁66aを附勢(ON)した場合には、第1のイオン交換手段63aから第2のイオン交換手段63bまたは第2のイオン交換手段63bから第1のイオン交換手段63aに切り換えたことを操作盤9の表示手段92に表示する。このように表示手段92に表示されたメッセージに基いてオペレータは、第1のイオン交換手段63aまたは第2のイオン交換手段63bが寿命に達したことを感知し、装置ハウジング10の開閉扉126を開け、純水生成手段6を一対のガイドレール130、130に沿って装置ハウジング10の前側開口101を通して引き出す。このとき、オペレータは上述したように純水生成手段6を構成する支持台61に立設された仕切り板611に設けられた把手612を把持して引き出す。そして、オペレータは、表示手段92に表示されたメッセージに従って第1のイオン交換手段63aまたは第2のイオン交換手段63bのイオン交換樹脂を交換する。
図示の実施形態における加工廃液処理装置は以上のように構成されており、上記装置ハウジング10の底壁121上に廃液タンク2と清水貯水タンク5と純水生成手段6が配置され、純水生成手段6の上側に廃液濾過手段4が配置され、ホース支持板150の上側(廃液タンク2の上方)に純水温度調整手段7が配置され、純水温度調整手段7の上側に制御手段8および操作盤9が配置されているので、オペレータによる操作性を損なうことなく装置全体をコンパクトに構成することができ、維持コストの高いクリーンルームを有効利用することができる。また、純水生成手段6は装置ハウジング10の前側開口101側に配置され、該前側開口101を通して引き出し可能に構成されているので、第1のイオン交換手段63aおよび第2のイオン交換手段63bと精密フィルター64の交換を容易に実施することができる。更に、廃液濾過手段4も装置ハウジング10の前側開口101を通して引き出し可能に構成されているので、第1のフィルター42aおよび第2のフィルター42bの交換を容易に実施することができる。
本発明に本発明に従って構成された加工廃液処理装置の構成要素を加工廃液の流れに従って示す説明図。 図1に示す加工廃液処理装置の構成要素を配置する装置ハウジングの斜視図。 図2に示す装置ハウジングを構成する各壁を透視し装置ハウジング内に加工廃液処理装置の構成要素を配置した状態を示す斜視図。 図3に示す加工廃液処理装置を構成する純水生成手段を装置ハウジングの前側開口を通して引き出した状態を示す斜視図。 図3に示す加工廃液処理装置を構成する廃液濾過手段を装置ハウジングの前側開口を通して引き出した状態を示す斜視図。
符号の説明
2:廃液タンク
3:廃液送給ポンプ
31:圧力検出手段
4:廃液濾過手段
41:清水受けパン
42a:第1のフィルター
42b:第2のフィルター
43a、43b:電磁開閉弁
5:清水貯水タンク
50:清水送給ポンプ
6:純水生成手段
61:支持台
62:紫外線照射手段
63a:第1のイオン交換手段
63b:第2のイオン交換手段
64:精密フィルター
66a、66b:電磁開閉弁
68:圧力検出手段
69:比抵抗計
7:純水温度調整手段
8:制御手段
9:操作盤
91:入力手段
92:表示手段
10:装置ハウジング
126:開閉蓋

Claims (1)

  1. 加工装置の加工の際に供給された加工液が加工によって生成された加工廃液を収容する廃液収容タンクと、該廃液収容タンクに収容された加工廃液を送給する廃液送給ポンプと、該廃液送給ポンプによって送給された加工廃液を濾過して清水に精製するフィルターおよび該フェイルターを着脱可能に支持する清水受けパンを備えた廃液濾過手段と、該廃液濾過手段によって精製された清水を貯水する清水貯水タンクと、該清水貯水タンクに貯水された清水を送給する清水送給ポンプと、該清水送給ポンプによって送給された清水を純水に精製するイオン交換手段および該イオン交換手段を着脱可能に支持する支持台を備えた純水生成手段と、該純水生成手段によって精製された純水を所定の温度に調整する純水温度調整手段と、上記各構成手段を制御する制御手段と、該制御手段に処理情報を入力する入力手段および該制御手段による作動状況等を表示する表示手段とを具備する操作盤と、上記各構成手段を収容する装置ハウジングと、を具備する加工廃液処理装置において、
    該装置ハウジングは、底壁と上壁と左側壁と右側壁と後壁および前側開口を開閉する開閉扉を具備しており、
    該底壁における該後壁側に該廃液タンクが配置され、該廃液タンクに隣接して該底壁の中央部に該清水貯水タンクが配置され、該清水貯水タンクに隣接して該底壁における該前側開口側に該純水生成手段が配置され、
    該純水生成手段の上側に廃液濾過手段が配置され、
    該廃液タンクの上方に純水温度調整手段が配置され、
    該廃液濾過手段の上側に該制御手段および該操作盤が配置されるとともに該操作盤が該装置ハウジングの前側に配置される
    ことを特徴とする加工廃液処理装置。
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