TWI320876B - Lithographic apparatus and device manufacturing method - Google Patents

Description

1320876 九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於一種微影裝置及一種用於製造元件之方 法0 【先前技術】 微影裝置係一可施加一所需的圖案於一基板（一般係該 基板之目標部分）上之機械。微影裝置可用於例如積體電 路（ic)的製造。在此情況下，可使用一圖案化元件（或稱為 遮罩或主遮罩）來產生欲形成於該IC之一個別層上的電路 圖案。此圖案可轉移至一基板（如矽晶圓）之一目標部分（如 包括部分、整個或數個晶粒）上。圖案通常經由成像轉移 至該基板上提供之輻射敏感材料（光阻）層上。一般而言， 單基板將包含連續圖案化之鄰近目標部分的一網路。已 知之微影裝置包括所謂的步進機，其中藉由一次將整個圖 案曝露於目標部分上而照射每一目標部分，以及所謂掃描 器，其中藉由沿一既定方向（「掃描」方向）透過輻射光束 掃也圖案，同時與此方向平行或反平行地同步掃描基板而 照射每一目標部分。藉由將圖案印於基板上，也可能將圖 案從圖案化元件轉移至基板。 已經有人提出將該微影投影裝置中之基板浸潰在一折射 率相對較兩的液體（例如水）中，以便填充介於該投影系統 之最後7L件與该基板間的空間。由於曝光輻射於該液體中 將具有較短的波長’故此點允許較小特徵之成像。（該液 體之衫響亦可視為提高該系統的有效NA ,且亦增加聚焦 106528.doc 丄训876 深度。）業經提出其他的浸潰液體，包括具有固態微粒（例 如石英）懸浮於其中的水。 然而，將該基板或基板與基板台沈入一液體池中（例 如，參見US 4,509,852，其全部内容係以引用方式併入本 文）意謂著必須於掃描曝光期間加速大量的液體。如此便 需要額外或功率更強的馬達，而且該液體中的擾動可能會 造成不合需求且無法預期的效應。 針對液體供應系統所提出的其中一種解決方式便係僅於 該基板的局部區域上及該投影系統之最後元件與該基板 (該基板的表面積通常大於該投影系統之最後元件）間提供 液體° PCT專利中請案W0 99M9504中揭示-種用於此配 置之方式，其全部内容以引用方式併入本文。如圖2及3所 不，液體係藉由至少—人口 IN而供應至該基板上（較佳的 係沿該基板相對於該最後元件移動之方向），且在穿過該 投影系統之下後藉由至少一出口 〇υτ而移走。即，隨著基 板在元件下以-X方向掃描，液體係在元件的+χ側處供應 並在該·Χ側取出。圓2示意性顯示該配置，其中液體係經 由入口IN供應’並藉由出口 〇υτ(其係連接至一低壓源）在 該元件的另-側取出。在圖2之說明巾，液體係沿著基板 相對於最後元件之運動方向供應，雖然實際情況不—定需 要如此。可有各種方位及數目的入口及出口被定位於該最 後凡件四圍’其一範例係顯示於圖3中，其中在任一側上 的四組入口及出口係以矩形圖案設置於最後元件四周。 誠然，在一浸潰裝置内處理液體會產生特定困難。尤其 106528.doc 疋’基板台之專用零件必多g b 千乂須防水’以防止浸潰液體進入。 【發明内容】 因此，例如在基拓A & 了 π Λ β ^的不同零件間密封係有利的。尤其 疋需求使密封件不會在兮望金^ 这專松封件延伸於其間之基板台不 同零件間傳送力。 本發明一方面提供一種微影投影裝置’其包括： 一基板台，其係配置以保持一基板； 忒基板口的第-零件，其係附接有一彈性突出部；及 ^〆土板。之第—零件，其具有_配置以吸引且保持該 犬出部之一自由端之决势生 . 緊兀件，以在該第一零件及該第二 零件間產生一密封。 本發明之—方面提供—種微影投影裝置，其包含： 一基板台，其係配置以保持一基板丨及 一密封突出部，其係右—姑& # ^ t 共加在細與基板台附接，且由基板台 上一夾緊件可活動地保持在該另一端處中。 本發明之一方面提供一種微影裝置，其包含·· 一基板台，其係配置以保持一基板； 一感應器，其係定位在該基板台上； -密封結構’其隸在錢^及絲Μ，該密封結構 在其-端歸至該感應器且另—端#著至該基板台。 本發明之-方面提供一種元件製造方法，該方法包含： 使用一夾緊元件夾緊-彈性突出部之一端，該夹緊元件 位於該基板台的一第一零件上， 卞 以在該基板台之該第一零 件及第一零件間形成一密封；及 ]06528.doc 1320876 將一已圖案化之輻射光束投影在一保持於該基板台上之 基板上。 本發明之一方面提供一種元件製造方法，該方法包含： 將一輻射光束投影在-感應器上，其中_密封結構係位 在該感應器及-配置以保持一基板之基板台間，該密封结 構在其-端黏著至該感應器且另一端黏著至該基板台。、，° 【實施方式】 圖I示意性說明依據本發明一具體實施例之微影裝置。 該裝置包含： -一照明系統（照明器）IL，其係配置用以調節一輻射光束 B(如UV輻射或DUV輻射）； •一支推結構（如遮罩台）MT，其係構造用以支揮圖案化元 件（如遮罩）MA，並連接至一配置第一定位器m，其係用 以依據某些參數來精確地定位圖案化元件； -一基板台（如晶圓台）WT，其係構成以保持一基板（如已 塗布光阻的晶SDW，並連接至一第二定位器歸，其係配 置用以依據某些參數來精確地定位基板；及 -一投影系統（如折射式投影透鏡系統）PS，其係配置用以 藉由圖案化元件MA將賦予於輻射光束B之一圖 板W的一目標部分c(如包含一或更多晶粒）上。〜土 該照明系統可包括各種類型的光學組件’如折射、反 射、磁性、電磁、靜電或其他類型的光 組合，用於…成型或控制輕射。 夂、任何 該支撲結構可依照圖案化元件的方位、微影裝置的設計 I06528.doc 丄训8/6 及其他條件（如該圖案化元 保持圖案化元件。該支樓灶構可/持於真空環境幻來 甘从丄 支沒結構可使用機械、真办、㈣七 '、夾緊技術來保持圖案化元件。該支#&二 " 平△，a丨， Λ久保結構可為框架或 + 口，例如’其可視需要為固 木次 可確保圖宰 了移式。該支撐結構 投影“：Γ 求之位置，例如相對於該 白可視為與更普通之名詞「圖案化元件J同義] 」 二=所==詞「圖案化元件」應廣泛地解釋成表 板的目標部”產生一圖案^注：：以”於該基 括相位偏移特徽卞所冲认A 右》玄圖案包 偏移特徵或所㈣協助特徵，被賦予於 的圖案可能不會確切對應於基板 案。-般而言，被賦予於該輻射光：=中的所需圖 尤果中的圖案將會對庳於 右產生於該目標部分中之一 " 體電路。 ”的-特殊功能層’如積 包=1化元件可為透射型或反射型。圓案化裝置之範例 聲技術中程式鏡陣列以及可程式LCD面板。遮罩在微 知’並且包含(例如)二元式、交替式相 和及衣減式相料料類型，以及各㈣合料型。 二 =::範?採用小鏡的矩陣配置，每-鏡可單獨地 f賦予一Μ不同方向中反射—進入輻射光束。該等傾斜 ^ -㈣光束-圖案，該輻射光束係藉由該鏡 反射。 1 本文使用的名6司「投影系統」應廣義地解釋為包含任何 106528.doc 1320876 類型的投影系統，如折射、反射、反折射、磁性、電磁及 靜電光學系統’或其任何組合，其適合於所使用的曝光輻 射’或其他諸如使用浸漬液體或真空等因素。本文所使用 的名詞「投影透鏡」可視為與更普遍之名詞「投影系統」 同義。 如此處所述’該裝置係透射型（例如採用透射遮罩）。或

者，該裝置可為反射型（如指以上類型的可程式鏡陣列， 或採用反射遮罩）。 該微影裝置可以為具有二（雙級式）或更多基板台（及/或 一或更多支撐結構）之一類型。在此類「多級式」機器 中’可平订使用額外的基板台，或可在—或多個台上實施 預備步驟，而將一或多個其他平台曝光。

參考圖1，器江接收來自輕射源吣的輕射光束。該 輕射源及微影裝置可能係分離之實體，例如當該輻射源為 生刀子雷射時。在此等情況下，該轉射源不被視為形 成微影裝置之零件，且輻射光束會借助包含如適合導引鏡 及/或先束擴張器之光束輸送系統BD，從輕射源犯通到照 在其他情形下’輻射源可為微影裝置的整合零 二如’當輕射源為水銀燈時。該輕射源_明器 :，連同需要時的光束輸送系統BD， 一 強度分布的調整 光瞳平面中強度 別稱為σ-外與σ- 照明器IL可包括周於調整輕射光束之角 器AD。一般而言，可調整該照明器之一 分布之至少外徑及/或内徑範圍（通常分 106528.doc 1320876 内）。此外，該照明器IL可包括各種其他組件，諸如一整 合器IN及一聚光器CO。該照明器可用以調節輻射光束， 以在其斷面中具有所需之均勻度及強度分布。 輻射光束B係入射至圖案化元件（如遮罩MA)上’並藉由 該圖案化元件來圖案化，該遮罩MA係保持於支撐結構（如 遮罩台MT)上。在行經圖案化元件隐後，輕射光束b穿過 投影系統ps，其將光束聚焦在基板w之目標部分c上。借 助於第二定位器PW及位置感應器IF(如，一干涉元件、線 性編碼器或電容式感應器），基板台WT能準確地移動，如 以致在輻射光束B之路徑中定位不同目標部分c。同樣 地，第一定位器PM及另—位置感應器（未明示於圖1中）可 用以相對於光束B之路徑準確地定位圖案化元件河八，如在 自一遮罩庫以機械方式取得後或在掃描期間。一般而言， 支樓結構MT的運動可藉由長衝程模組（粗略定位）及短衝程 模組（精細定位）來實現，該等模組形成第_定位^pM之部 分。同樣’基板WT的運動可藉由長衝程模組及短衝程 模組來實現’ 1玄等模組形成第二定位器PW之部分。在步 進機的情形中（與掃描器相反），支揮結構府可能僅連接至 短衝程驅動器，或為固定。可使用圖案化元件對準標記 、M2及基板對準標，' p2來對準遮罩與基板w。 雖然所述料基板對準標記會佔用專門的目標部分，但其 可位於目標部分之空間内（其係稱為劃線道對準標記）。^ 樣地’在其中圖案^件祖上提供多於—晶粒的情形 中，該等圖案化it件對準標記可位於該等晶粒間。 106528.doc 12 所述裝置可用於以下至少一模式中： 在步進模式中，支撐結構MT及基板台WT係實質上保 持靜止’同時賦予於輻射光束的整個圖案係一次（即單一 靜態曝光）投影至一目標部分^上。接著讓該基板台琛丁係 在X及/或Y方向上偏移’以便可以使不同目標部分C曝 光。在步進模式中’該曝光場之最大尺寸會限於單一靜態 曝光中成像的目標部分C尺寸。 2. 在掃描模式中’係同步掃描支撐結構MT及基板台 WT，同時一賦予於輻射光束的圖案係投影至一目標部分匸 上（即單一動態曝光）。該基板台WT相對於支撐結構河丁的 速度及方向可取決於投影系統ps之放大（縮小）倍數及影像 類倒特徵。在掃描模式中，該曝光場之最大尺寸限制單一 動態曝光中之目標部分之寬度（在非掃描方向中），而掃描 動作之長度決定該目標部分之高度（在掃描方向中）。 3. 在另一模式中’支撐結構MT基本上係靜止地保持—可 程式圖案化元件，且基板台WT係移動或掃描，同時—賦 予輻射光束之圖案係投影到一目標部分C上。在此模式 中，大體上會利用一具脈衝之輻射源，且該可程式圖案化 70件係在掃描期間基板台WT之每一次運動後或連續輻射 脈衝間視需要更新。此操作之模式可易於應用至利用可程 式圖案化元件（例如上述類型的可程式鏡陣列）的無遮罩微 影中》 亦可使用上述模式之組合及/或變化或使用完全不同的 模式。 106528.doc -13- 1320876 一具有局部液體供應系統之進一步浸潰微影解決方法係 顯示於圖4中。液體係藉由在投影系統pLs 一側上之二溝 槽入口 IN供應’且係由配置在入口 IN徑向向外之複數個分 散出口 OUT移走。入口 IN和出口 〇ϋΤ係可配置在一板中， 該板在其中心具有一孔並且投影光束透過該孔投影❶液體 係藉由在投影系統PL其一側上之一溝槽入口以供應，且係 由配置在投影系統PL另一側上之複數個分散出口 〇11丁移 走，造成在投影系統PL及基板W之間一液體薄膜的流動。 選擇使用入口 IN及出口 OUT的哪些組合，可取決於基板w 的運動方向（入口 IN及出口 〇UT之另一組合係無作用）。 已提出具有一局部液體供應系統解決方法之另一浸潰微 影解決方法，其係提供液體供應系統一液體限制結構，其 沿投影系統最後元件及基板台間之空間的邊界之至少一部 分延伸。此一系統係顯示於圖5中。雖然在z方向（該光軸 方向）中可能有某些相對運動，但該液體限制結構相對於 XY平面中之投影系統係實質上靜止。一密封件係形成在 該液體限制結構和基板表面之間。在一具體實施例中，該 密封件係一無接觸密封件，例如一氣體密封件。此一具有 氣體饴封件之糸統係揭示於美國專利申請案us 10/705,783號中，其全部内容係以引用方式併入本文。 圖5 D兒明一儲存池丨〇之配置，其針對基板形成圍繞投影 系統影像場之非接觸密封件，以致液體係受限以填充基板 表面與投影系統最後元件間的空間。位於投影系統卩：最後 兀件下及四周之液體限制結構12形成該儲存池。液體被引 I06528.doc 1320876 入投影系統下之空間且進入液體限制結構12中。液體限制 結構12在投影系統之最後元件稍微上方處延伸，且液面提 升至最後兀件上，以提供液體之緩衝。液體限制結構12於 上端處具有一内周邊，較佳係與該投影系統之形狀或其最 後元件之形狀緊密吻合，而且可能例如係圓形。在底部， 内周邊與影像場之形狀（例如矩形）緊密吻合，儘管不一定 需要如此情況。 液體係藉由一在液體限制結構12底部及基板曹表面間之 氣體密封件1 6限制於儲存池内。該氣體密封件係由氣體， 如空氣、合成空氣、氮氣或鈍氣形成，其係在壓力下經由 入口 15到達在液體限制結構12及基板間之間隙，且經由出 口 14抽出。氣體入口 15上之超壓、出口 14上的真空位準及 間隙的幾何形狀係經配置以限制液體之高速氣體向内流 動。熟習此項技術人士應瞭解，能用其他類型之密封件來 包含氣體，例如僅用一出口以移走液體及/或氣體。 圖6顯示一基板台WT。基板台WT包括一基板台本體 MB，其在一具體實施例中係一具有用於運載干涉儀系統 之一或多個鏡之鏡組塊，以致基板w的位置得以計算出。 基板台本體MB亦可容置一或多個配置以定位基板w的驅 動器。基板W係由一位於基板台本體％3頂部表面其一凹 處80内的基板支撐件ss保持。基板支撐件ss習知是一在上 下表面上包含複數個突出部的所謂丘狀或瘤狀台。一真空 或負屢係把加於丘狀間之區域中，以將基板支掉件s s保持 在基板台本體MB，且將基板貿保持至基板支撐件ss。在 I06528.doc -具體實施例中’基板支撐件88可與基板台本體⑽整合 為一體。 由於基板台WT係欲用於一浸潰微影裝置，其中液體係 在投影系統PS和基板…之間提供，該基板台進一步包括一 放置在基板台本體MB頂部表面上的蓋板1〇〇β蓋板1〇〇設 置一平坦且連續的上表面，以致可使用局部區類型之液體 供應系統（即，一次僅提供液體到基板w之一局部區因 此蓋板100頂部表面係實質上與基板w頂部表面共面（且亦 與可能位於基板台本體MB頂部表面之凹處中的任何感應 器頂部表面共面，如在圖8顯示且描述於下）。在一具體實 施例中，蓋板100可與基板台本體％6整合成一體。 為減少或防止液體進入基板支撐件ss及基板台本體MB 間之凹處80内’可設置一密封突出部2〇〇以在蓋板丨〇〇底部 内緣和基板支撐件SS頂部表面之間延伸。該配置可在圖7 中詳見。 在一具體實施例中’可在不大幅拆卸基板台WT下將基 板支撐件SS移離基板台本體MB係有用的。由於此原因， 例如可在蓋板100及基板支撐件ss間提供一可移式及/或可 不作用之密封突出部200。蓋板！ 00亦係可移地安裝在基板 台本體MB頂部表面’使得由蓋板1〇〇保護之基板台冒丁的 兀件才可易於進行維修。蓋板1〇〇包括蓋板突出部11〇，其 係如歐洲專利申請案第04253354 7號中描述之所謂邊緣密 封部件。此邊緣密封部件的最基本形式係顯示在圖7中。 亦可使用其他類型之邊緣密封部件及/或不同組態。 106528.doc 16 1320876 根據本發明的替代或者附加具體實施例，密封突出部 200係設有大體上半圓形之基端211。此更詳細地顯示於圖 7入中。藉由設置具有半圓形斷面之基端211，曝露於壓力 差中的密封突出部200之總表面會增加，尤其是在其一底 部側的基端2 11係曝露低壓入口 85 »此將導致一有助於在 基板支撐件SS上夾緊密封突出部2〇〇之較大力量。基端211 可由與密封突出部件200相同的材料製造，然而其亦可由 任何其他適合材料製成。 本發明的進一步替代或額外具體實施例提供一分離之施 力部件212 ’其可在密封突出部件2〇〇上施加力。此更詳細 顯不在圖7B中。施力部件212係附接於基板支撐件ss且其 自由端接觸密封突出部2〇〇。 以施力部件2 12(其可由一例如與密封突出部2〇〇材料類 似的彈性材料製成）接觸密封突出部2〇〇，其可施加一有助 於將密封突出部200夾緊在基板支撐件ss上之額外夾緊 力。 密封突出部200係在蓋板1〇〇底部表面（如一具體實施例 中顯不在蓋板突出部11〇下方）及基板支撐件ss頂部表面之 間延伸。在一具體實施例中，密封突出部2〇〇以單件形式 圍繞基板支#件SS周邊延伸。此可為用於液密性之最佳配 置。密肖突出部200的材料係具有㈣，以致在所有方向 ㈠特另J在Z方肖）中之力皆無法在基板支樓件3§及蓋板⑽ 間傳运，即密封件係使蓋板100及基板支撐件SS實質上在 微影裝置之光軸方向中解耦合。在一具體實施例中，該彈 106528.doc 17 I3208/0 性密封件將施加-少於密封之約i編的最大力。密封突 出部200之一端係藉由一珠狀黏著物22〇附接至蓋板。亦可 使用其他方法以液密方式附接該密封件。密封突出部2〇〇 之另一端係被吸引至基板支撐件88且由一夾緊元件（在所 不之範例中係依低壓入口 85的形式）以可釋放的方式保 持。該夾緊元件可為任何類型，包括（例如）一電磁夾緊元 件、一靜電夾緊元件及/或一可移式黏著物。因此，可移 走盖板並且可遠端地啟用或停用密封突出部2〇〇。 為了在彈性密封突出部200及基板支撐件ss間達到良好 雀封，一實質上非彈性部分21〇(一至少比彈性密封突出部 200更不具彈性之部分）係位於密封突出部2〇〇的自由端 處，其從蓋板100突出。該非彈性部分可例如是一黏著至 彈性密封突出部200之彈性材料頂部表面的金屬部分。因 此，€低壓入口 8 5啟動時，彈性密封突出部2 〇 〇將下彎， 因此該彈性材料係被夾緊在非彈性部件21〇及低壓入口 85 間，且此產生良好密封。依此方式，夾緊元件之低壓入口 85可為一完全乾燥的低壓入口，因為可避免液體進入其 中。此很可能與由基板支撐件ss使用的低壓入口相反，其 可旎為一濕式低壓入口（未顯示），因為此一良好密封可能 不谷易在蓋板10 0及此基板W間達到’且結果液體可能進 入基板W及基板支撐件s S間之間隙。非彈性部分21 〇部分 地填充在彈性部分、基板支撐件SS、蓋板100及此基板貿 間之間隙。在一具體實施例中，此間隙係最小化，用於使 液體供應系統之效能最佳化。 i06528.doc -18- 1320876 在一具體實施例中，密封突出部2〇〇及/或非彈性部分 210係由一聚合物彈性或彈性材料製成，其對於微影裝1 的輻射具有抵抗性。密封突出部200及/或非彈性部分210 亦可由金屬製成。例如，若蓋板突出部110保護密封突出 部200及/或非彈性部分21〇防止投影光束B的照射，則甚至 可使用橡膠。 在一具體實施例中，非彈性部分21〇、半圓形基端211及 φ 施力部件212，可遮蔽密封突出部200防止投影光束B的輻 射，以致可為密封突出部200選擇一不具有抵抗投影系統 - 之輻射的材料。 ； 在一具體實施例中，夾緊元件（具體實施例中的低壓夾 緊元件85)的強度係約25 N/m，以用係橡膠之彈性密封突 出部200的材料產生液密密封。 根據本發明一具體實施例之基板台WT的細節係參考圖8 及9說明。圖8係是基板台WT頂部表面之平面圖。可看見 書 具有各種孔口之蓋板100的頂部表面。中央圓形孔口是用 於基板支撐件SS定位之凹處80的孔口。各種組件係定位在 中央孔口四周，並且能夠由投影系統PS的投影光束B照 明。此等各種組件可為一或多個感應器，包括例如二傳輸 影像感應器（TIS)3 10、一點感應器330及積體化透鏡干涉儀 (ILIAS)320。在一具體實施例中，需求蓋板100可易於從 基板台本體MB移走，但在蓋板100、一或多個感應器 310、320、330及基板台本體MB間可具有良好密封。顯示 在圖9中之配置係透過鄰近感應器310、320、330及基板台 106528.doc -19· 1320876 本體MB之蓋板100邊緣的斷面圖。在一具體實施例中並非 可維修性（即，蓋板的可移性）的代價下，可建立一在蓋板 100及感應器310、32〇、33〇間的良好密封。同樣地，在蓋 板1〇〇、基板台本體mb及/或感應器310、320、33〇間行進 之干擾應該減到最少。由於此原因，已顯示一種雙層密封 構造，其中底層作用為一液密密封件而上層係建構為一壓 縮物，其具有移走確實進入壓縮物之任何液體的能力。 φ 犹封件之底層具有定位在感應器310、320、330及基板 σ本體MB間之一密封結構400，在此種情況下則不一定需 - 係彈性，而是可為彈性或硬質。一或多個段差係由基板台 ; 本體MB及感應器310、320、330加工成，密封結構4〇〇係 定位在其一上。密封結構400在其每一端係用一珠狀黏著 物410、420黏著至基板台本體MB及感應器31〇、32〇、 330。黏著物係僅塗敷在密封結構4〇〇之末端，以致密封結 構400可在其每一末端處經歷小樞軸運動。因此，密封結 # 構400之尺寸係經過設計，以致其比基板台本體MB及其黏 著的感應器3 10、320、330之壁間的間隙更窄。在一具體 實施例中，密封結構400係從一單件材料加工成，其在感 應器310' 320、330整個周邊延伸。密封件的此底層係液 岔的。依此方式’密封結構400係順應於z方向中，且允許 感應器310、320、330與基板台本體MB或蓋板100獨立地 在Z方向中移動。 在一具體實施例中，感應器3 1 〇、320、330中之底部段 差係在一使得感應器310、320、330之中性轴35〇位於密封 106528.doc • 20· 1320876 結構400之平面中的位置。感應器310、320、330的中性轴 係大約其可施加力而不引發感應器310、320、330之位移 及變形的一軸。依此方法，透過密封結構400施加於感應 器310、320、330的任何力不會作用而使感應器310、 320、330傾斜。 為保護珠狀黏著物410、420(尤其是内部珠件410)防止 投影光束B的照射且因而產生可能的退化（因為感應器 3 10、320、3 30中一或多個可透過液體被投影光束b照 射）’ 一突出部120係設置圍繞蓋板1〇〇之感應器孔口的内 部周邊。此依段差形式之突出部12〇，與感應器31〇、 3 20、3 30中一互補段差34〇相互作用。在蓋板1〇〇的突出部 12〇及感應器310、320、330的段差340間係設置一間隙 5〇〇，以致在感應器310、320、330及蓋板100間不會傳送 干擾力。然而’間隙500的尺寸應較小（在一具體實施例中 少於0.3毫米、少於〇.1毫米或少於0 05毫米）以提供壓縮， 透過其使液體不能容易透過。確實穿過壓縮5 〇〇的液體可 藉由位於密封結構400上之低壓入口 140抽取。蓋板1〇〇及 感應器310、320、330的互補聯鎖段差係使得一自基板台 頂部到密封結構400的路徑係迂迴的，以致使液體難以通 過。

雖然已在此討論有關在蓋板100及基板支撐件ss與基板 台本體MB及一感應器310、320、330間之密封的二種類塑 之密封件，但此等僅係範例並且在此討論之類型密封件可 用以在基板台上或其内的二零件間及/或在基板台及基板W 10652S.doc 21 丄J厶υδ/ο 間密封。 於歐洲專利申請案第03257072.3號中揭示一種雙級浸潰 式微〜裝置的概念。此等裝置設有二平台，用來支撐一基 板。水平測量可利用第一位置處之一平台來實施，其不具 有浸潰液體；而曝光則可利用第二位置處之一平台來實 施，其中出現浸潰液體。或者，該裝置僅具有一平台。 雖然本文特定參考製造1C時使用的微影裝置，但應了解 φ 此處所述之微影裝置可有其他應用，例如製造整合型光學 系統、導引和偵測圖案用於磁域記憶體、平面面板顯示 . 器、液晶顯示器（LCD)、薄膜磁頭等等。熟習此項技術人 ； 士應了解就此等替代應用而言，可將本文使用的名詞「晶 圓」或「晶粒」分別視為更普通名詞「基板」或「目標部 分」的同義詞。本文所參考的基板可在曝光之前或後，在 如一軌跡工具（通常可將一光阻層塗到基板上並顯影已曝 光光阻的工具）、度量衡工具及/或檢驗工具中進行處理。 # 在可應用情況下，本文之揭示可應用於此等及其他基板處 理工具。此外，例如為產生多層IC，可對基板進行一次以 上的處理，以致本文所用名詞「基板」亦可指已包含多處 理層的基板。 雖然以上特別參考本發明之具體實施例在光微影之背景 中的使用，但應明白，本發明可用在其他應用中，例如壓 印微影，且若情況允許，並不限定於光微影。在壓印微影 中’一圖案化元件中的布局可定義在基板上所產生的圖 案❶可將該圖案化元件之布局壓製成一層供應於基板的光 106528.doc -22· 阻，其中該光阻係藉由施加電磁賴射、熱、壓力或其组合 來固化。在光阻固化後將圖案化元件±的光阻移除，在其 中留下一圖案。 本文所用名詞「輻射」及「光束」涵蓋所有類型的電磁 幸*射包括.紫外線（uv)輕射（如，波長為約365、⑽、 193、157或！26奈米）及遠紫外線（EUV)輻射（如波長在^ 至20奈米範圍間），以及如離子束或電子束之微粒束。 若允許夺名硐「透鏡」可指任一光學組件或各種類型 光學、’且件之組合’包括折射、反射、磁性、電磁及靜電光 學組件》 雖然以上已描述本發明之特定具體實施例，但應明白本 灸明可用以上未描述的其他方式來實施。例如，本發明可 採取電腦程式之形式，該電腦程式含有機器可讀取指令的 2多個序列，其說明如上揭之方法，或其中儲存有此電 肊程式於其内之資料儲存媒體(如，半導體記憶體、磁碟 或光碟卜 ” 本發明之一或多個具體實施例可應用於任何浸潰微影裝 置，諸如以上所揭之該等類型，以及浸潰液體係設置於槽 之形式中，或僅在基板之局部表面積上…液體供應系統 係任何提供液體至投影系統和基板及/或基板台間之機 可13或多個結構、一或多個液體入口、一或多 個礼體入口、—或多個氣體出口及/或-或多個液體出α 4何組合，该組合提供且限制液體到達該空間。在—具 體““列中’肖空間的一表面可限於基板及/或基板台的 106528.doc •23· 1320876 一部分’該空間的一表面可完全覆蓋基板及/或基板台的 一表面，或該空間可包圍該基板及/或基板台。 以上描述為說明性而非限制性的。因此，熟習技術人士 將明白，可對本發明進行修改，而不會脫離下列申請專利 範圍之範疇。 【圖式簡單說明】 以上已僅藉由舉例方式並參考隨附示意圖描述本發明之 具體實施例，其中對應的參考符號指示對應的零件，且其 中： ’、 圖1說明依據本發明一具體實施例之一微影裝置； 圖2及3說明用於微影投影襞置之液體供應系統； 圖4說明用於微影投影裝置之另一液體供應系統； 圖5說明用於微影投影裝置之進一步液體供應系統； 圖6以斷面圖說明依據本發明一具體實施例的基板台； 圖7以斷面圖說明依據本發明一具體實施例的基板台之 一蓋板及一基板支撐件間的—密封件； 圖7A以斷面圖說明依據本發明一具體實施例的基板台之 一蓋板及一基板支撐件間的進一步密封件； 圖7B以斷面圖說明依據本發明一具體實施例的基板台之 一蓋板及一基板支撐件間的進一步密封件； 圖8係俯視一基板台之平面圖；及 圖9以斷面圖說明形成在圖8的基板台之一基板台本體及 一感應器間的一密封件。 【主要元件符號說明】 106528.doc •24· 1320876 10 儲存池 12 液體限制結構 14 出口 15 入口 16 氣體密封件 80 凹件 85 低壓入口 100 蓋板 110 蓋板突出部 120 突出部 140 低壓入口 200 密封突出部 210 非彈性部分 211 基端 212 施力部件 220 珠狀黏著物 3 10 傳輸影像感應器/TIS 320 積體化透鏡干涉儀/ILIAS 330 點感應器 340 互補段差 350 中性軸 400 密封件結構 410 珠狀黏著物 420 珠狀黏著物 •25- 106528.doc 1320876 500 間隙/壓縮 AD 調整器 B 輻射光束 BD 光束輸送系統 C 目標部分 CO 聚光器 IL 照明器 IF 位置感應器 IN 整合器/入口 Ml 圖案化元件對準標記 M2 圖案化元件對準標記 MA 遮罩/圖案化元件 MB 基板台本體 MT 支撐結構/遮罩台 OUT 出口 PI 基板對準標記 P2 基板對準標記 PL 投影糸統 PM 第一定位器 PS 投影糸統 PW 第二定位器 SO 輻射來源 ss 基板支撐件 w 晶圓 WT 晶圓台 106528.doc -26-

Claims (1)

1. 第094141634號專利申請案 中文申清專利範圍替換本(98年7月） 十、申請專利範圍： 評年。f月作曰修正本 1· 一種微影投影裝置，其包含： 一基板台’其係配置以保持一基板； 彈性突出 該基板台的一筐—φ M U ^ 弟 零件，其係附接有 部，及 '•亥基板台之一第二零#，tit 仵其具有一配置以吸引且保持 5亥突出部之—山> 油一 自由鈿之夾緊元件，以在該第一零件及該 第一零件間產生一密封。 2·如請求項丨之裝置，其 ^ /、r。豕灭緊兀件包含一低壓入口。 3·如凊求項1之裝詈，. /、中该彈性大出部包含一接近該自 由鳊之實質上非彈性部分。 4. :凊求項3之裝置’其中該實質上非彈性部分係由一實 質2抵抗來自該裝置之輻射的損害之材料製成。 5. 求項1之裝置’其中該彈性突出部係黏著至該第- 零件。 6. 如請求項1 _ 、1之裝置’其中該第一零件係一配置以覆蓋該 土 α之一頂部表面的一部分之蓋板。 7. 如請求項1之裝置，豆中該箆-贲处於 衣置，、甲。系弟一零件係一配置以支撐該 土板於該基板台上之基板支撐件。 8. 如請求jg·^ 件， 裝置，/、中該彈性突出部圍繞該第二零 且邊第一零件包括一通過其可接取該第二零件之孔 〇 〇 m項1之裝置’其中該彈性突出部係由-實質上抵 几自遠裝置之輻射的損害之材料製成。 106528-980724.do. 10. 如請求们之裝置，其中該第_ “ 部，該彈性突出部及該第 3 令件突出 用中，Μ ☆ 4部係配置以致在使 該裝置的輻射。 遮蚊该彈性突出部防止 11. 如請求項1之裝置，其進一步包含： =影线，其㈣置以將—圖案化輻射Μ投影至 遏暴扳之一目標部分上；及 液體供應系統，其係配置以用 _ 用夜體至少部分填充 I投影系統及該基板間之空間。 12. 一種微影投影裝置，其包含： 一基板台’其係配置以保持一基板；及 13. 14. 15. 一密封突出H端與該基板台附接，且該基板台 上一失緊元件可移動地以吸引且保持另—端。 如請求们2之裝置，其中該夾緊件包括—低壓入口。 ^請求項12之裝置，其中該密封突出部係具彈性，且該 ㈣突出部包含-接近該密封突出部之該另—端的實質 上非彈性部分。 如請求項12之裝置，其進一步包含： 7投影系統，其係配置用以將一圖案化輻射光束投影 至該基板之一目標部分上；及 一液體供應系統，其係配置以用一液體至少部分填充 一在該投影系統及該基板間之空間。 16. 一種微影裝置，其包含： 一基板台，其係配置以保持一基板； I06528-980724.doc •2- 1320876 一感應器’其係位在該基板台上； 费封結構’其係位在該感應器及該基板台間，該密 才、·構端黏著至該感應器且該基板台上一夾緊元件可 移動地吸引且保持其另一端。 17, 如請求項16之裝置’其包含一位在該密封結構上的低壓 入Ο 〇 18. 如請求項16之裝置，其中該感應器之-邊緣及該基板台 的一邊緣具有—互補的聯鎖段差，其係配置於該密封結 使知自该基板台頂部至該密封結構之路徑係迁 迴的。 如β求項1 8之裝置，進一步包含一蓋板，其係配置以覆 蓋該基板台一頂部表面之一部分，其中該基板台之一邊 緣係a玄蓋板中一孔口之邊緣。 如。月炙項1 9之裝置’其中該密封結構置於該感應器的一 段差上。 .如請求項16之褒置’其中該密封結構係實質上在該感應 器之一中性軸處黏著至該感應器。 22.如請求項16之裝置，進一步包含： 一投影系統，其係配置以將一圖案化輻射光束投影至 該基板之一目標部分上；及 液體供應系、统，其係、配置以用一液體至少部分填充 一在s玄投影系統及該基板間之空間。 23_ —種元件製造方法，該方法包含·· 使用位於一基板A夕—骑 *17 \ 岙敬口之第一部分之一夾緊元件吸引一 106528-980724.doc 1320876 彈性突出部之一端，該夾緊元件位於該基板台之一第一 零件上，以在該基板台之該第一零件及一第二零件間形 成一密封；及 將一圖案化輻射光束投影在一保持於該基板台上之基 板上。 24. 如請求項23之方法，其中該夾緊元件之夾緊動作係使用 ~~低Μ入口執行。 25. 如請求項23之方法，其中該該彈性突出部包含接近該彈 性大·出部之末端的一貫質上非彈性部分。 26. 如請求項23之方法，其中該彈性突出部係黏著至該第一 零件。 27. 如請求項23之方法，其中該第二零件係一基板支撐件， 其係配置以支樓該基板在該基板台上。 28. 如請求項23之方法，其進一步包含使用第一零件突出部 貫吳上遮蔽該彈性突出部防止該圖案化輻射光束之輕 射。 29. 如請求項23之方法，其包含透過一液體投影該圖案化輻 射光束在該基板的一目標部分上。 3 0. —種元件製造方法，該方法包含： 將一輻射光束投影在一感應器上，其中一密封結構係 位在该感應器及一配置以保持一基板之基板台間，該密 封結構一端黏著至該感應器且該基板台上一夾緊元件可 移動地吸引且保持其另一端。 31.如請求項30之方法，包含使用一位於該密封結構上之低 l06528-980724.doc 丄320876 壓入口來排放液體β 32.如請求項30之方法，其中該感應器之一邊緣及該基板台 的一邊緣具有一互補的聯鎖段差，該段差係配置於該密 構上’使得_自該基板台頂部到該密封之 係迂迴的。 33·如請求項3〇之方法，盆 ^ ^ ，、Τ μ 4封構係實質上在該感應 ° 中性軸處黏著至該感應器。 34_如請求項30之方法，包含透 應器上。 匕3迓、夜體投影該光束於該感

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