TWI295344B - High-pressure device for operating closures of vessels for clean-room applications - Google Patents

Description

1295344 狄、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明係有關一種用於藉由與一導引氣缸結合之對稱 旋轉往復式活塞機構來操作容器閉合件的非常簡潔裝置和 方法，該往復式活塞機構的作動主要係藉由同時在壓力容 器内作為加工流體之介質。該液壓活塞的上側表面至少有 一部份會組成容器閉合件之一個部位，或是被提供有一個 被連接至該閉合件之固定連桿。被用來驅動液壓活塞和施 行加工程序的理想介質係一超臨界流體。 【先前技術】 由半導體製造、光學電子和其他工業所發展之產品範 圍正持續擴大中，而且該產品容許吾人瞭解到藉由微結構 或奈米結構之協助或是依據該微結構或奈米結構所得到的 重要功旎。以上該微結構和奈米結構亦對於在製造過程中 所產生的極少量不純物係特別敏感。於是，在該周圍環境 内所使狀元件的容許污染排纟速率會有更加i格要求。 採用傳統清潔劑係無法完成奈米結構表面所需的潔淨步驟 或疋適且使用的/月潔劑係難以取得。由於超臨界流體能 夠增加潮渔作用和潔淨效果，該超臨界流體已被大量使用 _段時間°以上這些操作狀況所需的加工壓力係、從150巴 到超過300巴，而且通常需要特別的設備。目前，具有適 ，機械性能之高壓設備係無法直接適用於潔淨室操作，或 是甚至不適合用於此種應用範圍。本發明描述了 _種非常 1295344 簡潔設計之高壓單元，此高壓單元係適合於潔淨室之應用 ’而且在當負載交替變換發生於高壓之狀況下時，僅會產 生極少量的污染排放。 使用於壓力超過150巴之狀況下的往復式活塞機構係 以廣泛、不同技術應用之方式而被採用，並且已被適宜地 描述於特定專利與一般技術文獻中。液壓介質為流體和氣 體’其中水以是被使用於超過大約160巴的壓力為較適宜 ，而且液壓油的工作壓力係超過160巴。惰性氣體和空氣 為最常使用之操作介質。液壓油事實上係能夠提供重要的 性能，尤其是確保滑動表面的潤滑效果、低可壓縮性和較 高工作溫度之潛力。 從活塞種類系統中無法完全除去的不利作用包括有特 別是材料腐蝕和液壓流體洩漏。摩擦和壓力作用所導引的 腐蝕（例如是磨耗）、蒸發和液化現象會產生一定程产， 甚至是發生於母體材料本身上，而且特別是發生於密二構 件中。在往復式活塞單元中所發生的材料腐敍現象基本上 係由滑動表面之品質，以及滑動材料元件之機械加工公差 和推封構件之徑向接㈣力與溫度等結果所導致的功能。 液a流體的任何㈣（特㈣漏量係被容納於每一個 在後行程）基本是依據在氣缸室 舻摇厭 至巧之表面品質、黏度、液 體靜壓，以及依據密封系統與 在封構件之設計和密封構件 ，、崔封糸統之徑向接觸壓力而定。 在操作壓力較高之狀況下必 面針的矣而4L 4 4要適宜地潤滑彼此相互 面對的表面和被此相互接觸運 的表面，結果導致產生相 1295344 對應的液壓流體洩漏量。藉由適宜密封系統與高品質表 處理之作用，液壓流體產生洩漏的狀況可以減到最少。妙 而’為了抑制液壓流體洩漏而增加接觸壓力的可能性會2 到密封材料隨著壓力增加而產生劣化與腐蝕之限制，進= 增加污染排放量與短期内產生更大的液壓流體洩漏現象而 此外，負荷承載能力和經濟操作模式的限制亦能夠達到。 從材料磨耗所產生的不純物和來自以上所提及之來源 的洩漏現象在製造區域内是非常不利，特別是在潔淨室加 工程序之應用實例中。潔淨室等級係在例如於din _ 口 聯㈣票準2_中被料。然而，任何種類的污染物對㈣ 上這些加工程序之產品品質係有直接影響，而且高等級的 設施和組織化輸入會被施加，用以將污染量降到最低，同 時所需的相關成本亦隨之提高。特別嚴重的不利狀況係污 染物具有油霧，由於在許多項雁 一 夕項應用實例中，包含有油霧的 污染物係具有化學活性和僅鲊釣 不彳ϊ此夠使用含有溶劑的介質才可 以再次清除該污染物，右關士 有關此點，在潔淨室中係並不需要 ，而且事實上是非常不利。 對於採用尚未充分適宜之、、^ l 之办/尹至元件的更加複雜製造 鏈而言，其區段空間會被分 &^。不適合於潔淨室使用之設 施是被容納在被稱為，，保養區 脣匕域的工作區域内，同時，適 合於潔淨室使用之設施則是祜 疋被女置在被稱為，，白色工作室，， 的工作區域内。該配置方式 Λ & ^具有複雜和昂貴的流體鎖 附種類輸送系統和組織化預防 识I万動作，用以確保來自，，保養區 域”的不純物已被排出。 1295344 已知油液壓往稽+β ^± 设式活塞糸統在潔淨室的使用上是有問 題存在’而且必須 、错由適且排氣糸統（SWISS污染控制5 ( 1 992年）第5號，第R百、> 〜 8頁）之作用，才能夠適合於潔淨室 的應用。當一個壓_ ra β丨，《 , 变^用鑄模是被用來製作空白光碟片時， 油氣沈積會產生於丰忐口 ^ ajl ^ ^ 干成印上。調查結果顯示液壓流體是不 純物的來源。提供、、參、玄h 彳，、4淨至设施使用之適宜處是藉由將密封 概套裝配至每模的遠p ^、也』 、幻連柃和藉由壓製外罩之排氣和來自襯套 之空氣排放的作用而得到。 另外一項更進一步之技術文獻揭示了一種不具有活塞 桿的氣壓氣缸（作者·Ρ v ., , 、扑有· Ε· Fntz博士；第一屆國際流體技 術jolloquium論壇之論文’第二卷，第頁）。提供潔 淨室工作使用之適合處是藉由於在覆蓋條與密封條中間之 空間内產生部份真空而得到。為了達到此項㈣，真空管 路疋被裝配至氣缸官’而且污染物會被排放和輸送出去。 以上所提及之結合排氣系統之往復式活塞機構的一項 缺點S必須採用額外之設備’用以確保得到最少量的微粒 濃度和提供連續操作。 美國專利5,314,574描述了 -種制於晶圓製造設備 中的處理裝置。該項專利文件說明一個活塞系統被提供用 來從加工室内分離出必要的活塞桿和氣虹，導致彈性風箱 被安置於往外突出活塞端板與加工容器底板之間，使得當 活塞施行往復行程時，活塞桿和氣缸均能夠被每一次都^ 展開來的金屬風箱所包覆，於是，確保在潔淨室設備内的 適用性。一種相當的組件亦被說明於該項專利中。然而， 1295344 此種系、统之缺.點是由於其折具有相冑大的表面區域 ，在風箱之外部側邊上的空氣位移主要是會與活塞桿之運 動保持交又，以及每當往復行程被施行時，該线的位移 會被加速。其他缺點則是與複雜的設計有關和由於風箱材 料產生磨耗所導致的適用性變差。 美國專利5, 169, 408描述了一種用於晶圓處理的對稱 旋轉容器，尤^是包含有一個氣壓往復式活塞系統和一個 被進給有晶圓晶片和被用來處理其本身的加工容器。此往 復式活塞系統是由若干個氣壓活塞，以及一個被配置於加 工容器之上側部位中央和被用來升高、降低該容器部位的 氣壓活塞所組成。下側加工容器部位是被連結至若干個被 配置於旋轉軸之外側和被用來升高、降低下側容器部位的 對稱旋轉活塞。在該項專利中所描述之被使用於該容器中 的主要清潔劑是氮氣和水。此項發明的缺點是複雜往復式 活塞系統被提供有若干個活塞來完成一項升高操作，而且 該活塞必須要同步作動。在此項應用實例中，較高壓力特 別是需要所有往復式活塞具有絕對同步的運動，因此，需 要一個複雜的控制單元。於是，在該項專利中所描述之氣 壓往復式活塞會限制住該裝置和方法使用於較低壓力之狀 況〇 美國專利6，〇67, 728揭示了一種使用超臨界二氧化碳 來乾燥晶圓的裝置和加工方法，此種裝置和加工方法亦結 合一個氣壓〜機械式關閉系統。容器蓋板的關閉是藉由— 氣壓活塞和連桿機構之作用而得到，預先施加壓力的作用 1295344 亦是藉由此種配置方式而完丨。上述之容器蓋板是被夾子 固定於定位。在加工室被氣機械式系統關閉之後，一 個或是更多個靜態夹子是以對稱之方式而被安置於該蓋板 的邊緣上。隨著其内部壓力的增#，以上這些關閉夾子是 以機械之方式而被推動㈣容器蓋板和$器底冑的邊緣， 而且能夠於加工過程中，確保提供所需的氣密功能予容器 移 往

以上所提及之發明的一項缺點是具有許多移動件，驾 動件可以被視為是污染物的來源，而且亦會嚴格限制ϋ 復行程的數目和/或每單位時間的加工循環次數。此外 許多操作狀況亦必須要具有複雜的控制裝置。 【發明内容】 本發明之目的是在避免採用額外的排氣和保護系統， 和/或藉由在往復式活塞單元上提供適宜技術與加工程序 相關之解決方案而於可應用的空間内完成特定隔間，和/ 或使用若干或不同方法與操作流體。此外，能夠滿足安全 潔淨室操作狀況之需求和容許具有少 、巧 > 里運動、最少可能數 目的移動件。 本發明提供了 一種符合主要專利由▲主— 寻矛】申δ肖範圍的解決方案 ，而且疋有關一種用於操作潔淨 广“ 以矛至應用之容器閉合件的高 壓裝置，該項裝置主要是由一個 w你座部位和一個具有一被 配置於該部位中間之密封構侔的 、 τβ ,'構件的閉合件所組成，相關的加 工方法則是以至少一種加工流體 矛藉由一個對稱旋轉往復 11 1295344 式活塞系統之作用而被施行，該系統包含至少—個帶有一 的對稱旋轉液麼活塞，液a活塞是於活塞末端處 被連結至該導引氣&，而且於其外側表面上且有至小一 :=和周圍補強材料，使得介於導…與液星活塞之 4的内部空間能夠被分隔成為至少一個下側氣紅室和一個 = 導致至少一個被提供於導引氣紅内的内孔能 句使用在母一個氣缸室1内孔是會與至少一

該和本身収直接㈣心或是經由管件來控制 内孔’用以將加工流體輸送至導引氣缸的氣紅室内和 引氣缸的氣缸室内排出加工流體，1 ^ ^ ^ ^ m w 八寺徵為用於驅動液壓 活基的〜體疋與使用於壓力容器内之加工流體的主要成份 相同’液壓活塞的上側表面是會組成—部份閉合件， 被提供有—個被連結至容器之該閉合件的固定連桿，並且 =:=要部位亦會沿著旋轉軸而移動，是被配 置於液壓活塞之上側表面的相對側邊處，而且該液 的下側表面是要比介;^ ^ , ι

間的接觸表底座部位與容器閉合件部位之 :外’至少有一個滑動表面是被安置於氣缸的内部壁 面側邊上和位於個別不同的活塞表面i，並且由於構件是 彼此相互面對和平行於旋轉軸而㈣，該氣 =相互接觸，且該滑動表面是具有6g%的支撐_ 支撑比例則是在表面結構中，波峰部位與波谷部位相對# =損和/或該滑動表面會被硬化，用以防止滑動表： 12 1295344 •μ 2/天斯田材料是可以被使用，但是，在本發明中所 w迷之该項梦番 " 並不限於是沃斯田材料的群組。 用於侍到鬲支撐比率的方法已被適宜地描述在相關文 府可如用的加工程序包括有例如是搪光、研光和滾筒 打磨。表面、、炎、凑^ 〃、/乡透的硬化作用是可以藉由下列方式而得到： 水虱化法、K〇lsterizing，或是硬鉻電鍍法。以上這些 方法亦為目前最佳的技術和在市面上是能夠由特定公 司來製作完成。 #為了要將控制方式予以最佳化，在本發明中所描述之 咸置的一項實施例提供有至少一個限制器步驟，和/或至 少一個在輸送管線和排放管線和/或出口管線内的額外閥 ^此種配置方式確保位於液壓活塞之上側表面處的接觸 壓力能夠-直超過在加工室内之壓力i，此時，不同的負 載循環與減壓循環在正常之狀況下，均是由閥門來啟動。、 、在此所揭示之裝置的功能使得閥門之切換能夠啟動位 於液壓活塞下側表面下方之空間的加壓作肖，並且藉由流 體之協助而經由輸送管線和内孔來作動容器，於是： •液壓活塞從，，容器開啟，，之位置處移至，，容器關閉，，之 位置處，使得容器被關閉，以及 •閥η被切換至在容器内之加工程序的末端處，使得 位於下側氣缸室和在加工室内的流體能夠被減壓，以及 .閥門的更進一步被切換可以確保在導引氣缸内之上 側氣缸室能夠藉由流體經過輸送管線和内孔而被加壓，使 得該液壓活塞能夠回復到其”容器開啟，，之啟始位置處。 13 1295344 如同以上所描述之内容，加工方法之較佳實施例的特 徵為加工室和下侧氣缸室是同時被進給流體，流到容器内 的進給氣流會被限制住或是延遲，使得在介於容器底座部 位與容器閉合件中間之密封區域内的接觸壓力一直會超過 容器内的壓力。 與先前所提及之加工方法最佳化相類似，其中是具有 一項組成加工方法之增強功能的特點，亦即是容器和下側 氣缸室的同時減壓作用會限制住或延遲從下側氣缸室流出 之流體排放氣流，使得在介於容器底座部位與容器閉合件 中間之密封區域内的接觸壓力一直會超過加工室内的壓力 〇 相較於在此項技術中已習知的系統，在加工室和氣缸 室内之壓力的直接耦合，以及在個別不同活塞運動中之流 體氣流的控制模式大致上是有助於該控制與調節之配置方 式並且亦谷°午在非常咼之壓力下得到較高數目的活塞行 程。 一項加工方法之配置方式所具有的特別優點是一超臨 界流體被用來作為介質，該超臨界流體例如是二氧化碳、 壓縮空氣、氮氣或惰性氣體或是其混合物。低比例的少量 清潔物質是可以被加入至該超臨界流體中。 加工方法提供予流體之更進一步的有利實施例是一種 從乙醇、甲醇、異丙醇和類似物質或其混合物所共同組成 之群體中所得到的高度揮發性介質，或是該高度揮發性介 質亦可以是一種主要是由二氧化碳、氧氣、氮氣、貴重氣 14 1295344 -或“匕口物所組成的氣體。低比例的少量清潔物質是可 以被加入至該流體中。 之加工方法和裝置是非常適合被用 面上和/或於加工室内提供超過16〇 在本發明t所描述 來於液壓活塞之上側表 巴的操作壓力，而且是在超過 裝置和加工方法。 160巴之壓力下，操作該項 另外一項優點的得到是藉由將該項裝置應用至一個與 在半導體卫業和/或在晶圓製造業中所採用之應用方式、 生產方式或加工程序有關的加工方法。 …在本發日月中所描述之裝置的其他應用範圍是在光學、 製杂和二或醫療m業中的加工程序、應用方式或製造 方去藉由在本發明中所描述之裝置的協助，特別是在採 用許多以高壓蒸氣鍋為主之加工程序、封裝和壓製操作的 西療/醫藥產品工業中，以上這些操作程序是能夠被簡化 和加強其功能。 /目，於已習知的往復式活塞系統，於是，在此所揭示 之裝置是特別適用於加工潔淨度要求嚴格的產業，同時， :能夠符合高生產速率和高壓之需求。參考在此所描述之 設計和所必須施行之極少量運動，本裝置為非常簡潔和強 健的型式’使得本裝置亦具有極佳的經濟效益。 【實施方式】 本凌置和加工方法係依據此種配置方式而被加以說明 圖1表示出一個往復式活塞系統和相關的控制單元（2〇 15 1295344 )-中所有的輸达管線、進給管線和排放管 至該控制單元（20) 。 圖2和圖3表示出一個其型式為閥門（20) '閥門（ 26)和限制器（27)的典型控制單元。此外，圖形中亦說 明本發明中所揭示之加工方法的施行和在本發明中所描述 之裝置的整合結果。控制循環的作動導致閥門（20)之切 換確保位於液Μ活塞⑴下側表面（⑴下方之空間和容 器（8)能夠被加Μ，此項加a作用的產生則是藉由流體 經過輸送管線和内H門（26)係制來關閉輸送管線 (2 3 )，使得： 移及 •液壓活塞（1 )從，，容器開啟 至’’容器關閉”之位置處（圖3 ) 之啟始位置處（圖 ，使得容器被關閉 2) ，以 •閥門（20)被切換至工作循環的末端處，使得位於 下側氣缸室（12)和在加工室⑺内的流體能夠被減壓， 以及 •閥門的更進一步被切換可以確保纟導引氣缸内之上 側氣缸至（13 )能夠藉由流體經過輪送管線（)和内孔 (6)而被加壓，使得該液壓活塞（1)能夠回復到其，，容器 開啟”之啟始位置處。 以下所描述之範例是被用來說明依照本發明的裝置和 加工方法。 圖2表示出本裝置係一個主要由一靜態底座部位和一 可移動式閉合件所共同組成之容器閉合件。一個密封構件 16 1295344 被配置於以上這些元件之間。被安置於 :係被用來以至少一種加工流體而施行該加工方=二 口件的#作係精由-個對稱旋轉往復式活塞系統之 此往復式活塞系統本身則是包含具有導弓丨氣缸（可 移動式對稱旋轉液壓活塞（1 )。 被安置於導引氣紅（4)内的活塞末端S被提供有—個 位於其外部表面上之徑向、周圍補強材料（3)，使得介 於導引氣缸與液壓活塞之間的内部空間能夠被分隔成為二 個工作室。該導引氣缸具有一個被連結至每一個該二工作 室的内孔’以上這些内孔本身則是經由輸送管線而被連砝 至閥門。進給管線（21)係被用來供應加工流體和液壓； 體，使得相同的流體能夠被用來驅動活塞和在加工室（7 )内作動。發生於加工t⑺内之加工方法所需要的添 加劑是可以被加入至流體中。 液壓活塞的上側表面係代表著容器（8)之閉合件，而 且是沿著旋轉軸做垂直方向移動。液壓活塞（丨）的下側 表面（11 )係大於在底座部位與閉合件部位之間的接觸表 面。 以上所描述之裝置係在圖2和圖3中被加以說明，而 且其中還包含有閥門（20)連同被配置於排放管線（22) 中的限制器（27 )，以及被安置於進給管線（23 )中的閥 門（26)。 •在往復式活塞循環啟動時，閥門（2 6 )會被關閉。 •閥門（20 )的個別不同設定值是會啟動下側氣缸室 17 1295344 Γ_______^Ί %年^月修(疼)正本^ w反 —— …......,.....,…_一.—. •閥門（20 )的個別不同設定值是會啟動下側氣缸室 (12 )連同流過輸送管線（25 )和内孔（5 )之流體的加 壓作用’於是，容許流體經由内孔（6 )和輸送管線（24 )而彳文上側氣缸室（丨3 )内被同時排出。在此初始階段， 官線（23、24)係藉由閥門（20、26)關閉。 •當在輸送管線（23 )内和在上側表面（1 〇 )處的預 疋壓力到達一段預設時間之後，閥門（26 )會開啟，並且 加工至（7 )經由内孔（9 )和管線（28 )而被充滿流體。 裝載完畢的加工流體則是經由内孔（30 )和管線（31 )而 被排放出去。 在加工至（7 )内之加工循環的末期，由於流體經由 内孔（9 )和官線（29 )而被排放出去，閥門（26 )的定 位將會造成加工室（7 )被減壓。 在減壓的過私中或是在減壓作用結束之後，閥門（ 2〇)的定位會確保流體經由輸送管線（24)和内孔（6) 而被進給至上側氣缸室（！ 3 )，而且同時經由管線⑺） 和内孔（5)來將下側氣缸室（12)減壓。此結果會導致 液壓活塞回復至其，，容器開啟，，之位置處，使得加工室能夠 被裝載流體或是排放流體。 則會回復到整個工作循環之啟始位置處 如同以上所描述之内容，谪人a、切 ^ 迥口於春淨室應用之裝置 具有的優點係能夠以流體來同時將加工室（7 )和下側 缸室（12)加壓，並且經由瞢飧r9q、 且左由&線（23)而將流到容器（ 18 1295344 )内的進給氣流加以限制或是延遲，使得在介於容器底座 部位與容器閉合件部位中間之密封表面内的接觸壓力一直 - 會超過容器内的壓力。 與先前所提及之最佳化作用相類似的另外一項實施例 亦具有-項優點，Φ即是容器（8)和下侧氣缸室（12) · 的同時減壓作用會限制住或延遲從下側氣缸室（12)流出 - 之流體排放氣流，使得在介於容器（8)底座部位與容器 (8)閉合件部位中間之密封表面内的接觸壓力一直會超 過加工室（7)内的壓力。 ^ 【圖式簡單說明】 (一）圖式部分 圖1到圖3表示出本裝置之剖面圖。 圖1 ··具有控制單元之往復式活塞系統。 圖2:在啟始位置處（”容器開啟”）之往復式活塞 統。 / 圖3 :往復式活塞系統（，，容器關閉”。 φ (二）元件代表符號 1 ·液壓活塞 3·徑向周圍補強材料 内孔 7·壓力容器加工室 内孔 2·液壓活塞衝柱 4.導引氣缸 6.内孔 8.壓力容器 10.液壓活塞上側表面 19 1295344 11.液壓活塞下側表面 13.上側氣缸室 15.滑動表面 17.密封構件 19.密封構件 21.進給管線 23.輸送管線 25.連結下側氣缸室之輸 送管線 27.閥門/限制器 29.管線 31.管線 12.下側氣缸室 14.滑動表面 16.滑動表面 18.密封構件 20.控制單元/閥門 22.排放管線 24.連結上側氣缸室之輸 送管線 26.閥門/限制器 2 8.輸送管線 30.内孔

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Claims (1)

1295344 拾、申請專利範圍： 1· 一種用於操作容器⑴之閉合件和適合於潔淨室應 用的高壓裝置’該高壓裝置係由一個底座部位和一個且： -被配置於該部位中間之密封構件的閉合件所組成，相關 的：工方法則是以至少一種加工流體和藉由一個對稱旋轉 在復式活塞系統之作用而被施行，該系統包含至少—個帶 有導引氣缸（4)的對稱旋轉液壓活塞⑴，液壓活塞 ⑴係於活塞末端處而被連結至該導引氣缸⑷，而且 於其外側表面上具有至少一個徑向和周圍補強材料㈠） ’使侍介於導引氣缸（4 )與液壓活塞⑴之間的内部空 :能夠被分隔成為至少一個下側氣缸室⑴“。一個上側 孔缸至（13)，導致至少—個被提供於導引氣缸⑷内 的内孔（5、6)能夠被使用在每—個氣缸室（12、13)， 及内孔（5、6 )係會與至少一個控制單元（2〇 )相連結， 6亥控制早兀本身則是直接控制内孔或是經由管線（Μ、託 )來控制Θ孔，該可設定單元控制輸送至導引氣缸（4) 的氣缸室（12、13)内和從導弓丨氣缸⑷的氣缸室（12 、13 )内排出加工流體， 其特徵為： 用於驅動液壓活塞（丨）的流體係與使用於壓力容器 (8 )内之加工流體的主要成份相同，而且該加工流體為 一超臨界氣體或是一高度揮發性流體， 该液壓活塞的上側表面會組成一部份閉合件，或是 被提供有一個被連結至容器之該閉合件的固定連桿，並且 21 1295344 该閉合件的主要部位亦會沿著與液壓活塞相關之旋轉轴而 移動’該容器係被配置於係液壓活塞之上側表面的相對側 邊處，而且該液壓活塞的下側表面係要比介於該容器底座 部位與容器閉合件部位之間的接觸表面還要大，以及 一至少有一個滑動表面（14、15、16)係被安置於該 氣缸的内部壁面側邊上和位於個別不同的活塞表面上，並 且由於構件係彼此相互面對和平行於旋轉轴而移動，該氣 缸與活塞表面則會相互接觸，且該滑動表面具有6〇%的支 撐比例’該支撐比例則是在表面結構中，波峰部位與波谷 部位相對應的比例。 2_如申請專利範圍第1項之裝置， 其特徵在於，至少有一個滑動表面（14、15、16)會 承文一硬化加工程序，該滑動表面係被安置於氣缸的内部 壁面側邊上和位於個別不同的活塞表面上，並且當構件彼 此相互面對且平行於旋轉軸而移動時，該氣缸與活塞表面 則會相互接觸。 3·如申請專利範圍第1項之裝置， 其特徵在於’至少有一個與内孔相連結的管線係被提 供有一個直接位於閥門之上游處或下游處的限制器。 4 ·如申請專利範圍第1項之裝置， 其特徵在於： •該閥門之切換能夠啟動位於液壓活塞下側表面下方 之空間的加壓作用，並且藉由流體之協助而經由輸送管線 和内孔來作動該容器， 22 1295344 •於是’該液壓活塞會從”容器開啟，，之啟始位置處移 至”容器關閉”之位置處’使得該容器被關閉， •该閥門被切換至在該容考肉 # 裔内之加工程序的末端處， 使得位於該下側活塞末端下方 ^ Γ 4之空間内和在加工室内的流 體能夠被減壓， •閥門的更進-步被切換可以確保在該導引氣缸内之 上側氣缸室能夠藉由流體經過輸送管線和内孔而被加壓， 使得該液壓活塞能夠回復到其，，容器開啟，，之啟始位置處。

5·如申請專利範圍第4項之裝置， 其特徵在於，該設定和控制單元包含至少一個間門。 6 ·如申請專利範圍第4項之裝置， 其特徵在於，該設定和控制單元包含至少一個靜態流 體限制器或是動態流體限制器。 7 ·如申請專利範圍第4項之裳置， 其特徵在於，當該容器和氣缸室同時被流體加壓時， 流到該容器和氣缸室内的進給氣流會被限制住和/或延遲

〇 8 ·如申請專利範圍第4項之裝置， 其特徵在於，該容器和下側氣缸室會同時被減壓，從 位：該液壓活塞下側表面下方之氣缸室内所流出的流體排 放氣流係被限制住和/或延遲。 9.如申請專利範圍第7項之裝置， 其特徵在於，該容器和下側氣缸室會同時被減壓，從 位於該液壓活塞下側表面下方之氣缸室内所流出的流體排 23 1295344 放氣流係被限制住和/或延遲。 1〇·如申請專利範圍第1項、第8項和第9項中任何— 項之裝置， 〜其特徵在於，該超臨界流體係為例如是二氧化碳、壓 縮空氣、氮氣或惰性氣體或是其混合物。 U·如申請專利範圍第1項、第8項和第9項中任何_ 項之裝置， 其特徵在於，該高度揮發性流體係來自乙醇、甲醇、 〃丙醇#類似物貝或其混合物所共同組成的群體，或是， 高，揮發性流體，亦可以是一種主要係由二氧化碳、氧= 氮軋貝重氣體或其混合物所組成的氣體。 1 2.如申請專利範圍第1項之装置， 其特徵在於，在該液麼活塞之上側表面上所能夠 的正常工作壓力係大於160巴。 1 3.如申請專利範圍第1項之裝置， 其特徵在於，在該容器内的正常工作壓力係大於⑽ 巴。 14· 一種如中請專利範圍第1項到第13項中任何一項 之裝置的施行方式， 、 其特被在於，該裝置係被使用於 晶圓製造羋中斛γ ^ 守股工業和/或在 關的加工方^^之應用方式、生產方式或加工程序有 之裝1 置5.的 24 1295344 其特徵在於，該裴置係被使用於在 之應用方式、生產方戈十1 十士 業中所採用 生屋方式或加工程序有關的加工方法。 16.-種如申請專利範圍第i項到第中 之裝置的施行方式， 、平任何一項 其特徵在於，該裝置係被使用於在製藥 銥吝口 丁酱士 菜或醫療/醫 市產⑽業中所採用之應用方式、生產方式或加工程序 關的加工方法。 £

拾壹、圈式： 如次頁

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