TWI278627B - A probe card manufacturing method including sensing probe and the probe card, probe card inspection system - Google Patents

A probe card manufacturing method including sensing probe and the probe card, probe card inspection system Download PDF

Info

Publication number
TWI278627B
TWI278627B TW094145766A TW94145766A TWI278627B TW I278627 B TWI278627 B TW I278627B TW 094145766 A TW094145766 A TW 094145766A TW 94145766 A TW94145766 A TW 94145766A TW I278627 B TWI278627 B TW I278627B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
probe
sensing
circuit board
detection
bump
Prior art date
Application number
TW094145766A
Other languages
English (en)
Other versions
TW200632322A (en
Inventor
Han-Moo Lee
Original Assignee
Phicom Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Phicom Corp filed Critical Phicom Corp
Publication of TW200632322A publication Critical patent/TW200632322A/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI278627B publication Critical patent/TWI278627B/zh

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R3/00Apparatus or processes specially adapted for the manufacture or maintenance of measuring instruments, e.g. of probe tips
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L22/00Testing or measuring during manufacture or treatment; Reliability measurements, i.e. testing of parts without further processing to modify the parts as such; Structural arrangements therefor
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R1/00Details of instruments or arrangements of the types included in groups G01R5/00 - G01R13/00 and G01R31/00
    • G01R1/02General constructional details
    • G01R1/06Measuring leads; Measuring probes
    • G01R1/067Measuring probes
    • G01R1/06711Probe needles; Cantilever beams; "Bump" contacts; Replaceable probe pins
    • G01R1/06716Elastic
    • G01R1/06727Cantilever beams
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R1/00Details of instruments or arrangements of the types included in groups G01R5/00 - G01R13/00 and G01R31/00
    • G01R1/02General constructional details
    • G01R1/06Measuring leads; Measuring probes
    • G01R1/067Measuring probes
    • G01R1/06711Probe needles; Cantilever beams; "Bump" contacts; Replaceable probe pins
    • G01R1/06733Geometry aspects
    • G01R1/06738Geometry aspects related to tip portion
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R1/00Details of instruments or arrangements of the types included in groups G01R5/00 - G01R13/00 and G01R31/00
    • G01R1/02General constructional details
    • G01R1/06Measuring leads; Measuring probes
    • G01R1/067Measuring probes
    • G01R1/073Multiple probes
    • G01R1/07307Multiple probes with individual probe elements, e.g. needles, cantilever beams or bump contacts, fixed in relation to each other, e.g. bed of nails fixture or probe card
    • G01R1/07342Multiple probes with individual probe elements, e.g. needles, cantilever beams or bump contacts, fixed in relation to each other, e.g. bed of nails fixture or probe card the body of the probe being at an angle other than perpendicular to test object, e.g. probe card
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T29/00Metal working
    • Y10T29/49Method of mechanical manufacture
    • Y10T29/49002Electrical device making
    • Y10T29/49117Conductor or circuit manufacturing
    • Y10T29/49124On flat or curved insulated base, e.g., printed circuit, etc.
    • Y10T29/49155Manufacturing circuit on or in base

Description

1278627 18995pif.doc 九、發明說明·· 【發明所屬之技術領域】 本發明是關於一種製造包含感 法、探測卡以及用於檢測探^ 、’之探測卡的方 發明是關於製造包含與檢_==3特定言之,本 探針之過驅動(over drive,〇D)以 ·^便能夠感測 測探針之探測卡的方法、探測卡以 ^圓之平面度的感 統。 用衣板測探測卡之系 【先前技術】 半導體製造過程包含以下一系歹 (sihcon wafer )上配置多個晶片且上矽晶圓 成獨立晶片。為了將所得結構封裝並切並切割 須執行以下過程:將電訊號施加至個 曰片,必 有對應於形成於石夕晶圓上之晶片之接觸構具 檢=。接觸構件與秒晶圓上:= 在下文中被稱為探針。 接%構件 半導體檢義程包含以下操作:在晶_ c 1駕10上安置所要石夕晶圓,使探針尖端與石夕晶圓二 接,接觸,並藉由當用預定之實體力按難針 = 況唬施加至所要接墊來執行所要檢測。 守將弘 此特,必須施加足夠的過驅動(0D 所有探針尖端皆卿晶圓之所要接麵觸。亦 1278¾.oe 維持足夠的〇0以 即時感測〇D > A 防止對接墊之致命損害。此要求用於 廿曰 ㊁前狀態的部件。 亚且必須總保持容罢认i 面度以便使探針*、山置灰曰曰圓夾盤上之矽晶圓的恆定平 墊。因此,t =與相應接墊精密接觸並防止損壞接 部件。 汗發用於即時精確感測矽晶圓之平面度的 【發明内容】 【技術問題】 本發明提供一插制生 探測卡以及用於衣k包含感測探針之探測卡的方法、 檢測半導體裝叙測卡的系統,其中感測探針以用於 獨立形成於f路板的檢嶋針之MEMS方法而 合之半導體裝置之且經組態以感測施加至具有高度整 對於探剛卡之砂 口的探針之過驅動(〇D)並感測相 本發明面度。 法、探測卡以及用、種製造包含感測探針之探測卡的方 於由感測探針感測的3探測卡的系統,所述系統可將關 砍晶圓的平面度之次二之0D以及關於相對於探測卡之 於由感測探針感測的探 。^、、先,所述系統可將關 矽晶圓的平面度之f 以及關於相對於探測卡之 '叫存於諸如PC的終端中以使得下 7 127 聲 -插作員可使用所儲存之qd以及+面度資訊。 【技術解決方案】 本發明之實施例提供製造探測卡的方法 。在所述方法 中,在犧牲基板上形成用於建構電檢測探針之尖端部分以 , 及平面度感測探針之尖端部分的第一保護圖案 (passivation pattern),並執行使用第一保護圖案作為蝕 刻遮罩的侧製程以在犧牲基板中形成第一溝槽。移除第 —保缦圖案’亚形成具有暴露第〆溝槽之條型第-開D的 第二保護圖案。在第-開口中提供導電材料以形成分別連 接至檢測以及感測探針之尖端部分的橫桿部分,藉_ 檢測探針錢感_針。檢㈣及制探狀橫桿部分與 多層4路板接合。移除犧牲基板以暴露檢測探針以及 探針。 可形成第二保護圖案以使得第-開口之縱向邊緣與第 一溝槽之一側對準。 在某些貝施例中,在形成檢測以及感測探針之後,所 • 14方法可更包含·形成具有第二開口的第三保護圖案,第 二開口恭4形巧相探針之⑼部分上的所述感測 之橫桿部分;在第二開口中提供導電材料以在感測探針之 尖端部分上形成汛號突出部分;並移除第三保護圖案。 形成第二保護圖案之後,所述錢可更包含使用第二保= 圖案作為钱刻遮罩來飿刻犧牲基板,藉此形成第二溝槽: 在更多實施例中,可形成第二保護圖案以使得在^ 成檢測探針的區域中第—開口之縱向邊緣與第一溝槽之」 8 1278^7.. pi Γ. doc 開口之中心部分。在形成第==中第—溝槽安置於第— 更包含使用第二保護圖案作圖案之後,所述方法可 藉此形成$二賴。鱗綠刻犧牲基板, 在其它實施例中,所述方、本 感測探針之橫桿部分之第三/ V更包含:形成具有暴露 三開口中提供導電材料以形:::第三保護圖案;並在第 感測探針之橫桿部分。战谷於檢測探針之橫桿部分的 在其它實施例中,檢測樑料、 於多層電路板上之凸塊而與及感測探針可藉由形成 於檢剛探纟+2 4 3包路板接合,且可使對應 在其:==:;於_針之凸塊。 板,形成用於在多層電路板上建,包含.製備多層電路 案;在第三保護圖案中沉積導曾=個凸塊的第三保護圖 成用於選擇性地暴露凸塊的斗,成凸塊;順序形 弟四保護圖案中沉積導電材料:;:弗『保護圖案;並在 在本發明之某些實施凸塊之高度。 製備用於電檢測之檢測探針以及二=卡之方法包含: 針,每—檢測以及感測探針具有停刑面度之感測探 ,之-末端的尖端部分;且;連接至 分與多層電路板接合,其中檢測探針以=探針之 知由形成於多層電路板上的凸相及感測探針 ,檢測探針之凸塊形成為\;二^ i可使用雷射而將感測探針與多層電路板=振針之凸 9 I278®i;d〇c /本發明之更多實施辦,形成探 在犧牲基板均成用於鎌敎檢 ς卡之方法包含: 面度之感測探針,每—檢測以及感 ^及用以感測平 々以及附著至横桿部分的尖端部分;條型橫桿部 多層電路板上對應於制探針之尖層電路板;在 號突出部分;藉由多層電路板上之凸;= 勺位置處形成訊 振針的横桿部分,凸塊高於訊號突\測以及感測 板以暴露檢測探針以及感測探針。刀,亚移除犧牲基 在本發明之更多實施例中,探消]卡包八· 其具有接收外部電訊號之一或多個凸 =·多層電路板, 才木針,其具有條型橫桿部分,條型橫桿部八#支木型檢測 表面與多層電路板之凸塊接合,且尖二之:末端的上 分之另-末端的下表面並經組態以藉由壓力板桿部 片之接墊接觸;以及感測單元,其經組 導體晶 半導體晶片之接墊接觸時感測施加 =測採針與 (〇β)的程度。 杈冽彳木針之過驅動 在某些實施例中,感測單元包含:縣 針,其具有條型橫桿部分,條型橫桿部㈣測探 面與多層電路板之凸塊接合,在條型榉 ^的上表 的上表面上提供訊號突出部分,且尖端!^^另一末端 :之另-末㈣下表面並、独態簡域力而 體曰 丄==觸;以及訊號連接端子,其安置於多層電路j ^ 〇D超出狀程度時感測與訊號突出部分的接觸。 在更多實施例中,感測單元包含:懸臂支架型感測探 10 I278^i(,oc 針,其具有條型橫桿部分,條型橫桿部分 面與多層電路板之凸塊接合,且尖端部末端的上表 之中心部分的下表面並經組態以藉由壓力『了至4灵桿部分 之接墊接觸;以及訊號連接端子,其安置半導體晶片 以當0D超出預定程度時感測與條型=層電路板上 的接觸。 /、 °丨$之另一末端 在其它實施例中,感測單元包含:懸-針,其具有條型橫桿部分,條型橫桿部分 术型感測探 面與多層電路板之凸塊接合,且尖端末端的上表 之另-末端的下表面並經組態以藉由壓^『了至橫桿部分 之接墊接觸;以及訊號連接端子,其二二,半導體晶片 以當㈤超出預定程度喊顺條型橫桿部ί層電路板上 的接觸,其中懸臂支架型感測探針 刀之另一末端 針之橫桿部分。 只彳干邙分厚於檢測探 在其它實施例中,感測單元包含:縣辟 、 針,其具有條型橫桿部分,條型橫桿部感測探 面與多層電路板之凸塊接合,且尖 端的上表 之另-末端的下表面並經組態以藉由厣二『2】杈桿部分 之接墊接觸·’以及訊號連接端子,^置;;2導體晶片 以;“D超出預定程度時與條型橫桿部分: = : = ^其中與檢測探針接合之凸塊厚於與感測探針接合:凸 f其它實施例中’感測單元包含:懸 計,其具有條㈣桿部分,條型橫桿部分之—末端的= 1278紹 5pi「.d〇c 面與多層電路板之凸塊接合,且尖端部分附著至橫桿部分 之另一末端的下表面並經組態以藉由壓力而與半導體晶片 , 〜接塾接觸,訊號突出部分,其安置於多層電路板上對應 =感測探針之尖端部分的位置處;以及訊號連接端子,其 , 多層電路板上以當〇D超出預定程度時感測條型橫 才干邛刀之另一末端與訊號突出部分接觸,其中與感測探針 接合之凸塊厚於訊號突出部分。 φ : $在其它實施例中,感測單元安裝於檢測探針附近的多 路板之預定部分處,感測單元包含當0D超出預定二 度日可與半導體測試晶片接觸的接觸感測器(contact ,nsoi )壓力感測為(pressure sensor )或光學感測哭 (optical sensor)。 、 、在本發日狀更多實施例中,探測卡檢_統包含: 測卡’其包含:具有接收外部電訊號之 : 的多層電路板,安置於多層電路板之連接端子上 具^麵桿部分的懸臂支架型檢測探針,條·桿部八 之-末端的上表面與多層電路板之凸塊接合刀 附著至横桿部分之另—末端的下表 之接墊接觸,以及經組二 之鞀声盥箱―Μ 破,並將所感測的or 之权^預疋0D程度比較以控制: 在控制5之控制下控制檢測裝置的操作; 早 早兀,其根據控制器之控制訊號來顯示⑻錢。不 探測卡檢測系統可更包含警報單元(alarming unit), 其回應於控制器之控制訊號而產生警報訊號。 感測早元包括與檢測探針分離之感測探針。 感測探針可與半導體晶片之虛設接墊接觸。 感測單元可包含接觸感測器、壓力感測器或光學感測 器。 【有利影響】 根據製造包含感測探針之探測卡的方法,感測探針以 用於檢測半導體裝置之檢測接墊的檢測探針之MEMS方 法而獨立形成於電路板上,且經組態以感測施加至具有高 度整合之半導體裝置之矽晶圓的探針之過驅動(0D)並感 測相對於探測卡之石夕晶圓的平面度。因此,可有效執行檢 測過程。 並且,根據藉由上文之方法而製造的探測卡,可將關 於由感測探針感測的探針之0D以及關於相對於探測卡之 矽晶圓的平面度之資訊儲存於諸如PC的監控終端中以使 得下一操作員可使用所儲存之0D以及平面度資訊。因 此,可防止不必要之製造過程以減少製造過程的數目以及 時間。從而可提高製造效率。 【實施方式】 【最佳模式】 在下文關於本發明之實施例的詳細描述中,用於檢測 晶圓上之接墊之狀態的探針通常被稱為檢測探針,且用於 感測檢測接塾期間所產生之過驅動(〇1))或晶圓之平面度 1278627 I8995pif.doc 的探針通常被稱為感測探針。 圖1為根據本發明才旧 〇〇='之探測卡,方 5上。 她由矽材料製成的犧牲基板 層)I序牲基板5上(其上已形成《 侧製程以形成將在=二以及氧化 弟一保護圖案2。 衣私中用作飯刻遮罩的 刻製=二來順序執行物 形成一f應於探針之尖i的=程’藉此在犧牲基板5上 換a之,儘管圖式中 來形成溝槽包含執行刻第—保護圖案2 尖端之-末端部分的潘以形成-對_^^ 程以加深溝槽。 /曰以及執行非等向性乾式蝕刻製 可根據第一保譜同士 的各種形狀形成對二=而以諸如錐形以及錐體 非等向性乾柄财二^之末端部分的淺溝槽。 知之反應式離子_,為堵如被稱為B〇Sh過程的眾所周 深溝刻製程。⑽呢-etd_,咖)過程的 。參看圖丨(d)(C,)執二::式蝕刻製程以移除第-保護 執仃_過如在齡基板5上形成 2 I278627rd〇c 如)銅(Cu )在隨後之電鍍過程中起種子作用的種子層(seed layer) 1 0 〇 參看圖1⑹,將光阻塗覆於所得結構上,並執行暴露 • 以及顯影過程以形成包含具有ϋ案空間(pattern space)之 • $二保護随15,所述圖案空間具有檢測探針以及感測探 針之支撐橫桿的剖面形狀,藉此形成用於藉由隨後之金屬 沉積過程而形成支撐橫桿的圖案空間。 參看圖1 (f),藉由電鑛將導電材料沉積於經由第二保 護圖案15而暴露的圖案空間中,並執行包含化學機械研磨 (chemical mechanical polishing,CMP)過程、深腐飪過 程(etchback process)以及研磨過程(gdnding pr〇cess) 的平坦化過程以形成檢測抹針20以及感測探針22。因此, 檢測探針20包含橫桿部分20a以及形成於具有橫桿部分 20a之體中的尖端部分20b,且感測探針22包含橫桿部分 22a以及形成於具有橫桿部分22a之體中的尖端部分22匕。 或者,可使用化學氣相沉積(chemical v叩〇r • dep〇siU〇n,CVD)過程或物理氣相沉積(physicai vap〇r deposition,PVD)過程替代電鍍過程而形成檢測探針2〇 以及感測探針22。 參看圖1(g),第三保護圖案25形成於所得結構上以使 其具有圖案空間,所述圖案空間具有對應於尖端部分孤 之橫^部分22a的部分上表面上的訊號突出部分之剖面形 狀,藉此形成用於藉由隨後之金屬沉積過程而形成訊號突 出部分的空間部分。 15 1278627 18995pif.doc I看圖](h),藉由# _ 保護圖案25之間的空料沉積於形成於第三 30。 二9邛分中,藉此形成訊號突出部分 參看圖]⑴,執γ、、弓、、 ]5以及第三保護圖案式蝕刻製程以移除第二保護圖案 參看圖I⑴,檢、、、一 分20a以及22a的上則探針20以及22之横桿部 35上的凸塊55以及$知邛分分別與形成於多層電路板 麥看圖l(k),執行渴口 , 因此暴露檢測探針2〇、、'、4製程以移除犧牲基板5並 圖2為說明製造圖1及感,探針22,藉此完成探測卡。 此方法中,在犧牲基^ $之抓針之另一方法的剖視圖。在 等向性乾式钱刻製‘二二十順序執行濕式钱刻製程以及非 以及感測探針22牲基板5中形成檢測探針2〇 之體中形成訊號突出部/亍。包鍍過程以在具有感測探針22 相同標號表示與圖]中=&在祂述圖2之實施例中,藉由 關於與圖1中相同之過件’且為簡明起見將省略 參看圖2⑻,執行:圖. 在已形成用於形成探針1⑷中相同的過程以 形成第一保護圖辛15 =大鳊4分之溝槽的犧牲基板5上 有:橫 製程,藉此在犧刻料來執行钱刻 針之板桿IX及尖端^日其中㈣成撿測探 及感測板針之橫桿以及尖端部 16 1278^27 pif.doc 分。 芩看圖2(b),在犧牲基板5上形成種子声 電鍍將導電材料沉藉於、单 ^ ’且藉由 測探針22知於溝槽中以形成檢測探針μ以及感 /看圖2(c)在已形成檢測探以 的犧牲基板上形成第— 以成1¼針22 述空間部分呈有^;:^又0木25 ’其具有空間部分,所 部分&之部探針22之尖端部分如的橫桿 參看圖2(d),^的_突出部分之剖面形狀。 保護圖案25之門鍛將導電材料沉積於形成於第: 30。 間的”部分中,藉此形成訊號突出^ 其後,執行盘圖 探針2 G以及感測探(=圖明中相同的過程以將檢測 55以及54接合,藉此完=二多層電路板35上之凸塊 圖3為測卡。 製造之探叫的系統^示^以及圖2中所說明之方法而 參看圖3 - 、思、I©]。 具有接收外部電剛系統包含··多層電路板35,1 凸塊55,其安置^接^多個連接端子4〇以及線A 探針,其每—者具有 4〇上;多個懸臂支架型檢測 尖端部分Μ與與半導體晶片之接塾接觸的 測施加至檢㈣探針2 2的橫桿部分;感測單元,其感 感冽單元包含: ^ ;以及探測卡檢蜊裝置60。 與多層電路极35連^ = 衣針22,其藉由獨立凸塊54而 運接以子4〇接合’·訊號突出部分π, 1278627 1 ^995pi (.doc 其形成於對應於感測探針22之尖 22:之部分上表面上;以及感測訊號連接端^ 於多層電路板35之表面上,其子5 ㈤超出預定程度時將外部電訊號輸出至;^刀3〇以画 預定成至此高度以使得其在㈤超出 僅况下與感測訊號連接端子5〇接觸,且反之亦 探測卡檢測裝置60包含·批生丨印 由感測單元感測之/雜㈣應於 0D程度與預定⑽程度“==且然後將所感測之 驅動單元62,JL在押制哭乂 I制正個糸、统;檢測裝置 置60曰首-二t 1之控制下驅動探測卡檢測裝 。,_不早7L 63 ’其_控制器、 〇D量;以及警報單^ 64,i 虎而顯不 產生警報訊號。 、、工制益61之控制訊號而 操作現將參看圖3詳細描述探測卡以及探測卡檢測系統的 麥看圖3(b),當藉由一外部實體力按 ^端部分胤以使其與檢測接藝]接觸並施加,卜 —力以使得GD存在於對應於預定間隔㈣第;;夕Μ =’將檢測探針2 0撓曲於預㈣隔d】之範_ =内 感測採針22相對於感測訊號連接端子5〇 匕, 離。因此,藉由由線45連接之感夠 接持―預定距 連接端子4〇而將—低位準電訊 50以及 6〇的控制器61。 木叫卡檢測裝置 I278^Z,,〇c 今有圖3(c) -範圍時,將檢測二 d2的第二範圍。因此,亦將4 弟—範圍之預定間隔 探針2 2並__^體力施加至感測 接觸。因此,藉由線45以及速測訊號連接端子如 訊號:八,卡檢測裝f60:=將-高位準電 前狀態。 ”肩不早兀63向刼作貝顯示當 „亚且’在控制器61之控制下’警報單元64輸出邀報 汛唬以使得其它操作員或管 :報 號可良t久白& 王人了感知i;刖狀悲。警報訊 破T執鳴聲、電子音訊訊號、語音導引訊息或其類似物。 此外,在探測卡之操作期間所產生之〇D感測資訊可 儲存於一儲存單元(未說明)中以便甚至在終止接墊檢測 過程之後仍可利用所述資訊。 【發明模式】 現將詳細描述本發明之其它實施例。 實施例1 在實施例]中,形成感測探針21之橫桿部分21a,使 其長於檢測探針20之横桿部分20a,且在橫桿部分2] a的 下表面上與橫桿部分2] a之末端間隔離開預定距離之一點 處形成尖端部分21b。可以與最佳模式實施例中相同之方 式來感測過驅動(〇D)。在描述實施例]中,藉由相同標 號表示與最佳模式實施例中相同之元件,且為簡明起見將 19 1278627 18995pif.doc 省略關於重疊過程的描述。 、”圖4為根據本發明之另一實施例說明製造包含〇1)感 測棟針之探測卡的方法之剖视圖。 η寥看圖4(a)至圖4(d),執行與圖](a)至圖1(d)中相同 j程以形成料軸闕Μ端料的_贴已形成 ::的犧牲基板5上形成種子層1〇。參看圖4(e),在犧牲 二pS:應於横桿部分施以及抑之圖案空 嫌圖安看圖4(f),藉由電鍍將導電材料沉積於藉由第一保 二】5而恭露的溝槽以及圖案空間中,藉此形成檢測探 尸部^及感測棟針21。因此,建構檢測探針20以包含橫 以及形成於具有撗桿部分20a之末端之體中的 及形成感測探針21以包含橫桿部分21a以 間隔的下表面上與橫桿部分21a之末端 =疋距叙—點處的尖端部分训。 為簡佳模式實施例中的相同,卿 針之之檢測探針以及感測探 製㈣及非等向性乾式 測探針以及制探針。l4Ai在娜基板5巾形成檢 例中::跡且為_=:=佳模式實施 分案空間(其具有橫桿部 及另1案空間(其具有橫桿部分 20 1278627 ⑻ 95pir.doc 21a之剖面形狀)的第一嗜 餘刻製程以及鱗向料H15之後,餐執行濕式 探針2 0以及感測探針^ U王以形成用於形成檢測 剛分21aV丁矣間,感測探針21具有形成於 ί距:Γ :面上與橫捍部分2】吻 顶疋距_之一點處的尖端部分21b。 圖^,藉由電鑛將導電材料沉積於所形成之圖 ;^ 1曰此形成檢測探針20以及感測探針2!。因此, 含横桿部分咖以及形成於具有橫桿 21以勺人;r/而之肢中的尖端部分鳥,並形成感測探針 及形成於橫桿部分21a的下表面 端部trb 端間隔離開預定距離之一點處的尖 納則單元之感測探針21具有橫桿部分2ia以及形 ==〜的下表面上與橫桿部分21a之末端間隔 mr 點處的尖端部分21上以外,藉由圖4以 :—所况明之方法而製造的探測卡實質上相同於最佳 S貫施例的探測卡。因此’為簡明起見,將僅描述感測 感測單兀包含:感測探針21,其藉由凸塊54而盘多 層電路板35之連接端子4G接合,感測探針21包含橫桿部 分21a以及形成於橫桿部分2】_τ表面上與橫桿部分叫 之-個末端間隔離開預定距離之—點處的尖端部分2ib. 以及感測訊號連接端子5G,其安置於多層電路板%的表 面上相對於橫桿部分2] a之側端之凸塊54的位置處以便當 I278627rd〇c 〇D超出預定程度時將電訊號輸出至外界。 具有上文之感測單元的探測卡檢測裝置60相同於最 佳模式實施例之探測卡檢測裝置,且因此為簡明起見將省 略其詳細描述。 圖6為用於使用藉由圖4以及圖5中所說明之方法而 製造之檢測以及感測探針來檢測探測卡之系統的示意圖。 參看圖6,當藉由自外界施加之外部實體力而在檢測 探針20處產生OD時,橫桿部分21a之末端取決於OD之 產生範圍而選擇性地連接至感測訊號連接端子50。回應於 來自感測訊號連接端子50之電訊號,探測卡檢測裝置60 之控制器61以與最佳模式實施例中相同之方式控制檢測 裝置驅動單元62、顯示單元63以及警報單元64。 實施例2 在圖7以及圖8中所說明之實施例2中,形成與檢測 探針20接合之凸塊55,使其高於與感測探針80接合之凸 塊54,並形成感測探針80之橫桿部分80a,使其厚於先前 實施例之橫桿部分◦在描述實施例2中,藉由相同標號表 示與最佳模式實施例中相同之元件,且為簡明起見將省略 關於重疊過程的描述。 參看圖7(a),製備多層電路板35,且在多層電路板35 上形成具有多個凸塊剖面圖案的第一保護圖案65。 參看圖7(b) ’措由電鑛將導電材料沉積於猎由弟一保 護圖案65而暴露的凸塊剖面圖案中,藉此形成凸塊54以 及55。 22 I278627;d〇c 參看圖7(c),形成用於選擇性地暴露凸塊55的第二保 護圖案64。 參看圖7(d) ^藉由電鍛將導電材料沉積於藉由苐二保 • 護圖案64而暴露之空間中,藉此增大凸塊55之高度。 — 參看圖7(e)至圖7(g),以與圖]⑻至圖1(f)中相同之過 程而形成與凸塊54以及55接合之感測探針以及檢測探針。 如上文,藉由蝕刻製程在犧牲基板5中形成具有橫桿 部分20a以及形成於具有橫桿部分20a之一末端之體中的 ® 尖端部分20b的檢測探針20以及具有橫桿部分80a以及形 成於具有橫桿部分80a之一末端之體中的尖端部分80b的 感測探針80。 參看圖7(h),在橫桿部分80a上形成用於成長橫桿部 分80a的第三保護圖案85。 參看圖7(i)以及圖7G),藉由電鍍將導電材料沉積於藉 由第二保護圖案8 5而暴露之空間中’藉此僅成長感測探針 8〇之橫桿部分8 0 a ◦ φ 藉由濕式蝕刻製程而移除第一、第二以及第三保護圖 案65、64以及85。 參看圖7(k),將檢測以及感測探針20以及80之一個 末端部分與形成於多層電路板35上之凸塊55以及54接 合。 參看圖7(1),移除犧牲基板5以暴露檢測探針20以及 感測探針80。 同時,圖8之實施例不同於圖7之實施例在於檢測探 23 I278627d〇c 針20之橫桿部分2〇a以及感測探 成於犧牲基板5上。 之横椁部分80a形 換言之,以與圖]⑷至圖 有横桿部分2〇a以及形成於具有橫桿=之方法而製造具 體中的尖端部分2〇b的檢測探針2刀2〇a之一末端之 以及形成於具有橫桿部分8如之— 具有横桿部分8如 80b的感測探針80。 而之體中的尖端部分 麥看圖8(a),在犧牲基板5上 麟針之後,在犧牲基板5上形成成=探針20以及感 80a的保護圖案75。標號15表示用H僅成長横桿部分 及感測探針80的保護圖案。 ^成撿填彳探針20以 參看圖8(b),藉由電鍍將導電 案75而暴露之空間中 ^匕積於藉由保 分80a。 切顺針80之横桿;; ik後之過程與圖7中之過 將省略其描述。 、问,且因此為簡明起見 外,ίΐΐ?早元不同於最佳模式實施例的感測單元以 所:13以及圖8中所說明之方法而製造的探測卡實 “二=最佳模式實施例之探測卡。因此’為簡明起見 將僅彳曰述感測單元。 80,^矣/2、’如圖9中所說明,感測單元包含:感測探針 路柘、γ、夕、_長之橫桿部分80a並藉由凸塊54而與多層電 其安置於夕接端子40接合;以及感測訊號連接端子50, _八夕t電路板35的表面上相對於橫择部分8〇a之側 24 1278说7— 端之凸塊54的位置處以便各 輸出至外界。"&出預疋程度時將電訊號 具有上文之感測單元的探測卡檢測裝置 佳模式實施例之探測卡檢 4同、取 略其詳細描述。卡“】衣置且因此為簡明起見將省 換言之,當藉由自外界施加之外部實 針20處產生⑻時,橫桿部分_之末端 ,而選擇性地連接至感測訊號連接端子;。:回 自感測訊錢接料5Q之電_,_切潜*置^ 61以與最佳模式實施例中相同的方式控制檢測裝 置驅動黽开6?、骷一口口-, w工巾μ双/只J衣 功早兀W顯不早兀63以及警報單元64。 接人所1實施例3中’形成與檢測探針2〇 塊^的高产。以使其具有不同於與感測探針22接合之凸 之第在多層電路板35上形成用於㈤ J看圖10(b),藉由電鍍將導電材料沉積於藉由第一保 °又® : 65而暴露之空間中,藉此形成凸塊54以及55。 路;^ς看圖】〇⑷’在其上已形成凸塊55以及54之多層電 64。反5上形成用於選擇性地成長凸塊55的第二保護圖案 ^看圖_’藉由電賴導電材料沉積於藉由第二保 叹㈣杀64而暴露之空間中,藉此僅形成凸塊55。 25 "Spil'.doc: A2786 18' 探針:以與圖1⑷至圖1侧目同之過程而形成撿测 將具㈣桿部分2m形成 I 末端之體中的尖端部分2〇b之檢測探針川 與形成於多層電路板3 5上的凸 柷釗^ 4 2 〇 式餘刻製程而移除犧牲基板5。 口’且然後猎由濕 2二:有:=:==部分 22 35 Ϊ 勺凸鬼54接&。以與用於檢測探針 形成感測探針22。 之以_的方法 ㈣探針2G之橫桿部分咖具有與感測 55 2 瓜相同的厚度。如圖U中所說明,凸塊 54具有不同南度以便使感測探針22之橫桿乂 22a的末端當檢測探針2〇在預定〇D範 D刀 測訊號連接端子50接觸,而當檢測探針2〇 :二感 出預定00範圍時與感測訊號連接端子5〇接觸木。乾超 除了感測單元不同於最佳模式實施例之^測單元以 二=由圖1()中所說明之方法而製造的探測卡實質上 St式實施例的探測卡。因此,為簡明起見將僅描述 感洌單元包含:感測探針22,其藉由 針2〇之凸塊55之高度的凸塊54而與多層電路板35 = 接端子40接合;以及感測訊號連接蠕子5〇,其安置於夕 26 I278^7P1,〇c 層電路板35的表面上相對於橫桿部分22a之側端之凸塊 5 4的位置處以當〇d超出預定程度時將電訊號輸出至外 界0 具有上文之感測單元的探測卡檢測裝置60相同於最 佳模式實施例之探測卡檢測裝置,且因此為簡明起見將省 略其詳細描述。 換言之,當藉由自外界施加之外部實體力而在檢測探 針20處產生OD時,横桿部分22a之末端取決於OD之產 生範圍而選擇性地連接至感測訊號連接端子50。回應於來 自感測訊號連接端子5〇之電訊號,探測卡檢測裝置6〇之 控制器61以與最佳模式實施例中相同的方式控制檢測裝 置驅動單元62、顯示單元63以及警報單元料。 實施例4 、圖]2中所說明的實施例4中,在多層電路板%上形 成訊號突出部分95以便感測探針之〇d。 參看圖]2⑻,製備多層電路板^ 板35上對應於感測探針之尖端部分 在夕曰1 出部? 95,並形成用於形成凸塊的第—保護 芩看圖12(b)’藉由電鍍將導 二、又备木 護圖案65而暴露之空間中,葬 :、'/儿積於藉由第一保 及凸塊54以及55。 域形成訊號突出部分95以 其後,如圖12(c)中所說明地形成 部分95之凸塊插入多層電路板 、1守问衣汛唬犬出 針之橫桿部分之間的第二保護圖測探針以及感測探 1278627 I 8995pii.doc 參看圖I2€d),p t 護圖案64而是%错由電鍍將導電材料沉積於藉由第二保 54。 a路之空間中,藉此形成成長之凸塊55以及 參看圖1 護圖案65以及料错由濕式蝕刻製程移除第一以及第二保 其後,以與函 探針2 0以及感^菜。圖]⑴中相同之過程而形成檢蜊 參看圖12ΓΠ u 桿部分20a之—太,具有橫桿部分2〇a以及形成於具有横 以及具有橫桿部八^體中的尖端部分的檢測探針20 ^干口^刀22a以及形成於具有橫桿部分22a 端部分22b的感測探針22同時與形树 曰甩路板35上之凸塊55以及54接合。 曰參看圖12(g),藉由濕式蝕刻製程移除犧牲基板5 ,萨 此暴露檢測探針20以及感測探針22。 曰 ^除了在多層電路板35上形成用於感測探針之〇D的訊 ^出部分以外’藉由圖12中所朗之方法而製造的探測 卡> 賢上相同於最佳模式實施例中之探測卡。 明起見將僅描述感測單元。 芩看圖13,感測單元包含:感測探針22,| Μ而與多層電路板35之連接端子4〇接合;^接 端子%,其安置衫層料板35上職於❹^= 大令而部分22b的位置處;以及訊號突出部分%, 感測訊號連接端子50 i,使其低於凸& 55以及=成表 具有上文之感測單元的探測卡檢測裝置的相同於最 28 1278氣 4模式實施例之探測卡檢測裝置,且因此為簡明起見將省 略其詳細描述。 換言之,當藉由自外界施加之外部實體力而在檢測探 計20處產生〇[)時,橫桿部分22a之末端取決於〇d之產 生範圍而選擇性地連接至與感測訊號連接端子5〇連接的 訊號突出部分95。回應於來自感測訊號連接端子5〇之電 訊號’探測卡檢測裝置60之控制器61以與最佳模式實施 例中相同的方式控制檢測裝置驅動單元62、顯示單元63 以及警報單元64。 上文之實施例的感測探針之每一者經組態以與半導體 晶片之虛設接墊接觸,並可由接觸感測器、壓力感測器或 光學感測器替代感測單元。 圖14說明-實施例,其中將由上文之實施例而製造的 感測探針施加至探測卡。在此實施例巾,將_探針安置 於各種位置處以便感測探針之〇D以及相對於探測卡之 晶圓的平面度。 圓凡㈣頻休对接觸的虛設接墊。參看圖15(1) 以及圖】=將與檢測探針之尖端接觸的檢 = 於晶圓之區域①中,且將與感測文罝 ㈣於晶圓之區域③中,‘;=== 針以及感測探針之探測卡相四配。1按上一/、有榀測才木 換言之,如圖15中所說明,仏 勢1的上部接觸,且感測探針之^針之尖端與檢測接 接觸,因此可感測㈤晶圓之平設接墊2的上部 +面度並將其傳輸至探測卡 29 1278^ 5pif.doc 1278^ 5pif.doc 檢測裝置。 【工業貫用性 ^據本^之㈣卡製造方法、探測卡以及探測卡檢 測乐統可用以檢測半導體裝置。 限定發:月已Γ較佳實?例揭露如上,然其並非用以 .π ^ 壬何热習此技蝥者,在不脫離本發明精 當可作些許之更動與潤飾,因此本發明之保崔 祀圍當視_之”翻範_界定者㈣。 伟。又 【圖式簡單說明】 COD) 製狀探測卡_統之示意圖。中所。兄明之方法而 圖4為根據本發明之另―實 測麟之探測卡的方法之剖視圖。 f包各〇D感 圖5為說明製造圖4之探針 圖6為用於檢測藉由圖心5=視圖。 製造之探測卡㈣統之示意^ 所㈣之方法而 圖7為根據本發明之又—麻 測探,之探測卡的方法的剖視^。…发造包含⑻感 圖8為說明製造圖7 圖9為用於檢測藉由圖7以及圖剖視圖。 製造之探測卡的系統之示意圖。u中所%明之方法而 30 1278%7_c 測探明製造包含。- 圖丨〗為用於檢測藉由圖10中所說明 探測卡㈣統^意圖。 仏料而製造之 測探例說明製造包含⑻感 圖13為用於檢測藉由圖12中所說明^ $ 採測卡的系統之示意圖。 之方法而製造之 圖。圖]4為根據本發明之另一實施顺明如“探針的 口丨5為說明以與探測卡相匹配之 上之接墊以及虛設接墊的圖。 ^而形成於晶圓 【主要元件符號說明】 1 ·檢測接塾 2 :第一保護圖案/虛設接墊 5·犧牲基板 10 ·種子層 15 j第一保護圖案/第二保護圖案 2〇 :檢測探針 =、2]a、22a、_··橫桿部分 b、2】b、22b、8〇b:尖端部分 22、80 ·感測探針 25、85 ·第三保護圖案 30、95 :訊號突出部分 3 1 I278^.r.d〇c 35 :多層電路板 40 :連接端子 45 ··線 5〇:感測訊號連接端子 54、55 :凸塊 60 :探測卡檢測裝置 61 :控制器 62 :檢測裝置驅動單元
63 :顯示單元 64 :警報單元/第二保護圖案 65 :第一保護圖案 75 :保護圖案 dl、d2 :預定間隔 ①、③.晶圓之區域
32

Claims (1)

1278627 ,89^p,T.d〇c 十、申清專利範圍: h一種探測卡製造方法,所述方法包括: 在犧牲基板上形成用於建構電檢測探針之尖踹部分以 及平面^感測探針之尖端部分㈣—保護圖案,鱗行使 用所迹第-賴圖案作為飯刻遮罩_ 以在所述犧 牲基板中形成第一溝槽; 、王 移除所述第-保護圖案,並形成具有暴露所述第一溝 才曰之條型第一開口的第二保護圖案; σ 在所述第-開口中提供導電材料以形成分別連接至所 =測以及感測探針之所述尖端部分的横桿部分,藉此形 成所述檢測探針以及所述感測探針; 將所述檢測以及感測探針之所述橫桿斑多層電路 板接合;以及 〃 移除所述犧牲基板以暴露所述檢測探針以及所述感測 2.如申凊專利範圍第]項所述之探測卡製造方法,其 中形成所述第一保護圖案以使得所述第缘 與所述第一溝槽之一側對準。 &忒 3·如申请專利範圍第2項所述之探測卡製造方法,在 形成所述檢測以及感測探針之後,所述方法更包括: 形成具有第二開口的第三保護圖案,第二開口暴霖形 成於所述感測探針之所述尖端部分上的所述感測探針^所 述橫桿部分; 在所述第二開口中提供導電材料以在所述感測探針之 33 1278627 I8995pif.doc 所述尖端部分上形成訊號突出部分;以及 移除所述第三保護圖案。 4·如申請專利範圍第3項所述之探測卡製造万法,在 形成所述第二保護圖案之後,所述方法更包^使用戶斤述第 一保瞍圖案作為敍刻遮罩而I虫刻所述犧牲基板,藉此形成 第二溝槽。 、 5·如申請專利範圍第1項所述之探測卡製造方法,其 中形成所述第一保護圖案以使得所述第_開口之縱甸邊緣 與待形成所述檢測探針之區域中的所述第_溝槽之/側對 準,且將待形成所述感測探針之區域中的所溝槽安 置於所述第一開口的中心部分。 6·如申請專利範圍第5項所述之探測卡製造方法,在 形成所述第二保護m案之後,所述方法更包括使用所述第 二保護圖案作—刻遮罩而_所述犧牲基板,藉此形成 第二溝槽。 7·如申請專利範圍第】項所述之探測卡製造万法,其 更包括: 形成具有暴露所述感測探針之所 第三開 口的第三保護圖案;以及 ”杆丨 r在所述第三開口中提供導電材料以 斤述檢測 採針之所:橫桿部分的所述感測探針之所述橫桿部分。 8丄如中、請專利範圍第7項所述之探測卡製造方法,其 以U 5於:述多層電路板上的凸塊而將所述檢测探針 W測揼針與多層電路板接合,並使對應於所述檢 34 1278^,〇c 測探針_述凸塊形成為厚於對應於所述感測探針的所述 凸塊。 9.如申請專利範園第1項所述之探測卡製造方法,其 更包括: 製備所述多層電路板; 在所述^眉兒路板上形成用於建構多個凸塊三保 護圖案;
在所述第三保護圖案中沉積導電材料以形成所述Λ 塊; 順序形成用於選擇性地暴露所述凸塊的一或多個第奴 保護圖案;以及 在所述第四保護圖案中沉積導電材料以獨立調整所述 凸塊之高度。 所述方法包括: 10♦ —種探測卡製造方法 製備用於4檢測之檢測探針以及用於感測平面度之感 測探針,所述檢測以及感測探針之每一者具有條型橫桿部 分以及連接至所述橫桿部分之一個末端的尖端部分;以及 將所述檢測以及感測探針之所述橫桿部分與多層電路 板接合, 其中藉由形成於所述多層電路板上的凸塊而將所述檢 測探針以及所述感測探針與所述多層電路板接合,並使對 應於所述檢測探針的所述凸塊形成為厚於對應於所述感測 探針的所述凸塊。 " 11·如申請專利範圍第10項所述之探測卡製造方法, 35 1278627 pif.doc l ^995pi 其中使用雷射而將所述感測探針與所述多層電路板接合。 12·—種探測卡製造方法,所述方法包括·、 、在犧牲基板上形成用於電檢測之檢剛探針以及用於感 測平面度之感測探針,所述檢測以及感測探針之每〆者具 有條型橫桿部分以及附著至所述橫桿部分 八· 製備多層電路板; 次W刀’ 在所述多層電路板上對應於所述感測探針述尖端 部分的位置處形成訊號突出部分; =由所述多層電路板上的凸塊而接合所述檢測以及感 :削朱相所述橫桿部分,使所述凸塊高於所逮訊號突出部 刀,以及 探針移除所述難基板以暴露所—探如及所述感測 ]3·—種探測卡,其包括: 多層電路板,其具有接收外部電訊號的 懸臂支架型檢測探針,其具有條 5夕 型橫桿部分之—個末端的上表面與4=:= 凸:接合’且尖端部分附著至所述橫桿部 下表面並經组態以藉由壓力而與半導 $一末女而的 以及 月且日曰片之接墊接觸; 其經組態以當所述檢測探針 曰日片之所述接墊接觸時感測施加至 /、斤月且 的程度。 、仏剩探針之過驅動 14·如申請專利範圍第13項所述 <如測卡,其中所述 36 I278^97pi(,oc 感測單元包括: 末端的下表面並經組態以夢2至所述W于部分之另-所述接墊接觸;以及tι力而與所述半導體晶片之 訊號連接端子,其安晉 過驅動超出預定程度時盘所^ 電路板上以當所述 斤述讯唬突出部分接觸。 15.如申料鄉_ 13項所述 感測單元包括: 卞其中所述 懸臂支架型感測探針,其具有條 型橫桿部分之—個末 ^才干邓刀,所述條 凸塊接合,且表細"衫層魏板之所述 邛刀附著至所述橫桿部分之中心部分的 墊接觸;以及 干十版日日片之所述接 訊號連接端子,其安置於所述多層雷 超出預定程度時與所述條型橫桿部分之另 r、=·如申請專利範圍第13項所述之探測卡,其中所述 感測車元包括: 替ϊΓί架型感測探針,其具有條型橫桿部分,所述條 ”邛刀之個末端的上表面與所述多層電路板之所述 凸塊接合,且尖端部分附著至所述橫桿部分之另—末端的 37 1278627 I ^995pif.d〇c :=並=態以藉由壓力而與所述半導體晶片之所述接 :: 見連接端子’其安置於所述多層電路板上以當所述 力超出預定程度時與所述條型横桿部分之另—末端接 述檢測測探針之所述橫桿部分厚於所 感測觸第13娜彻卡,其中所述 懸臂支架型感測探針,其具有條型橫 Ξ分之了個末端的上表面與所述多層電路板= 下表面並經組態以藉由虔力末: 墊接觸;以及 千十版日日片之所述接 訊號連接端子,其安置於所述多層電路 ;;驅動超出預定程度時與所述條型横桿部分之另 探針接合之对接合之所述凸塊厚於與所_測 感測=:f專利範圍第13項所述之、 針,其具有條 型横桿部分之-個末端的上表面與所述多、==,所述條 凸塊接合,⑼部分_至所賴 二路板之所述 刀又另一末端的下 38 I2786s?9 5piT.doc ^並經組態以藉由壓力而與所述半導體晶片之所述接墊 =虎突出部分’其安置於所述多層電路板上 述感測探針之所述尖端部分的位置處;以& 一 雜 接端子’其安置於所述多層電路板上以當所述 與所述訊號突出部分接觸, 为禾而
出部^與所述感測探針接合之所述凸塊厚於所述訊號突 二二申請糊襲第n項所述之探附,其中所述 元安&於所述檢測探針附近的所述多層電路板之預 士 /二處所述感測單元包括當所述過驅動超出預定程度 =半導體測試晶片接觸的接觸感測器、壓力感測 学感測器。 20·—種探測卡檢測系統,其包括:
才采測卡,其包含: 多層電路板,其具有接收外部電訊號的一或多個 連接端子; 凸塊,其安置於所述多層電路板之所述連接端子 、、懸臂支架型感測探針,其具有條型橫桿部分,所 述么 1~、型檢桿部分之一個末端的上表面與所述多層電路 板之所述凸塊接合,且尖端部分附著至所述橫桿部分 之另一末端的下表面並經組態以藉由壓力而與半導體 39 pif.doc 1278627 晶片之接墊接觸;以及 感測單元,其經組態以感測施加至 之過驅動的程度; 至所述檢測探針 控制器’其接收對應於由所顧測單 過驅動的所述程度的電訊號,並將所 =:了斤述 統; 冰度比較以控制所述探測卡檢測系 檢測裝置驅動單元,1 測裝置的操作;以及 制益之控制下控制檢 顯示單元,其根據所述控制器 過驅動程度。 制汛唬而頒示所述 21.如申請專利範圍第2〇項所述之 其更包括回應於所述控制器之所述控制:系統’ 號的警報單元。 匕制。札唬而產生警報訊 22=申請專财_ 2Q項所叙 其中所述感測單元包括與所述檢_針=錢, 23.如5申請ί利範圍第22項所述之探測卡: 2,如申請專利W20項所述之 :所述感測單元包括接觸感測器、壓力感測器以感 40
TW094145766A 2004-12-24 2005-12-22 A probe card manufacturing method including sensing probe and the probe card, probe card inspection system TWI278627B (en)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020040111691A KR100626570B1 (ko) 2004-12-24 2004-12-24 감지용 프로브를 포함하는 프로브 카드 제작 방법 및 그프로브 카드, 프로브카드 검사 시스템

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TW200632322A TW200632322A (en) 2006-09-16
TWI278627B true TWI278627B (en) 2007-04-11

Family

ID=36601949

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW094145766A TWI278627B (en) 2004-12-24 2005-12-22 A probe card manufacturing method including sensing probe and the probe card, probe card inspection system

Country Status (7)

Country Link
US (1) US7602204B2 (zh)
JP (1) JP2008525793A (zh)
KR (1) KR100626570B1 (zh)
CN (2) CN101762723A (zh)
SG (1) SG144939A1 (zh)
TW (1) TWI278627B (zh)
WO (1) WO2006068388A1 (zh)

Families Citing this family (29)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100736678B1 (ko) * 2006-08-04 2007-07-06 주식회사 유니테스트 프로브 구조물 제조 방법
KR100761706B1 (ko) * 2006-09-06 2007-09-28 삼성전기주식회사 인쇄회로기판 제조방법
JP4916893B2 (ja) * 2007-01-05 2012-04-18 株式会社日本マイクロニクス プローブの製造方法
KR100796202B1 (ko) * 2007-02-12 2008-01-24 주식회사 유니테스트 프로브 카드의 프로브 구조물 제조 방법
KR100839798B1 (ko) * 2007-03-05 2008-06-19 주식회사 파이컴 전기 검사 장치와 그 제조 방법
KR100767012B1 (ko) * 2007-04-11 2007-10-17 주식회사 아이엠 프로브 카드와 프로브 카드의 니들 및 니들의 제조방법
KR101329811B1 (ko) * 2007-05-22 2013-11-15 주식회사 코리아 인스트루먼트 프로브 카드용 전기접촉소자 제조 방법
KR101322264B1 (ko) * 2007-05-22 2013-10-25 주식회사 코리아 인스트루먼트 프로브 카드용 전기접촉소자 제조 방법
KR100877076B1 (ko) * 2007-05-30 2009-01-09 전자부품연구원 유리잉크 코팅법을 이용한 프로브카드용 탐침의 절연방법
KR100929247B1 (ko) * 2007-06-12 2009-12-01 주식회사 코리아 인스트루먼트 프로브 카드 제조 방법
KR100915326B1 (ko) * 2007-10-22 2009-09-03 주식회사 파이컴 전기 검사 장치의 제조 방법
KR100946144B1 (ko) 2007-12-06 2010-03-10 삼성전기주식회사 세라믹 프로브 기판 제조 방법
KR101010667B1 (ko) * 2008-12-11 2011-01-24 윌테크놀러지(주) 프로브 본딩용 유닛, 프로브 본딩용 유닛의 제조 방법 및 프로브 본딩용 유닛을 이용한 프로브 본딩 방법
US8441272B2 (en) * 2008-12-30 2013-05-14 Stmicroelectronics S.R.L. MEMS probe for probe cards for integrated circuits
TWM359791U (en) * 2008-12-31 2009-06-21 Princeton Technology Corp Semiconductor device test system
JP2010175507A (ja) * 2009-02-02 2010-08-12 Micronics Japan Co Ltd 電気的接続装置
KR100946373B1 (ko) * 2009-07-09 2010-03-08 주식회사 코디에스 구동ic부착형 프로브조립체 제조방법
KR20140134287A (ko) * 2012-03-07 2014-11-21 주식회사 아도반테스토 전자 프로브 어셈블리의 공간 변환기로의 트랜스퍼
JP2013224876A (ja) * 2012-04-23 2013-10-31 Fujitsu Semiconductor Ltd 半導体試験装置、プローブカード及び半導体試験方法
JP5748709B2 (ja) * 2012-06-05 2015-07-15 三菱電機株式会社 プローブカード
KR101410991B1 (ko) * 2012-11-20 2014-06-23 리노정밀(주) 지그 장치
TWI498565B (zh) * 2013-12-11 2015-09-01 Mpi Corp 探針點測系統、探針高度調整方法與探針位置監測方法
CN103855049B (zh) * 2014-03-27 2016-08-17 上海华力微电子有限公司 一种智能探针卡针压控制系统及控制方法
WO2017082510A1 (ko) * 2015-11-12 2017-05-18 주식회사 오킨스전자 도전 실리콘 고무 안에 도전 와이어를 포함하는 테스트 소켓, 및 그 제조 방법
US10782342B2 (en) * 2016-11-21 2020-09-22 Si-Ware Systems Integrated optical probe card and system for batch testing of optical MEMS structures with in-plane optical axis using micro-optical bench components
KR101962702B1 (ko) * 2017-06-28 2019-03-27 주식회사 아이에스시 포고핀용 탐침부재, 이의 제조 방법 및 이를 포함하는 포고핀
JP2020096038A (ja) * 2018-12-11 2020-06-18 東京エレクトロン株式会社 解析装置及び画像生成方法
CN110047772A (zh) * 2019-04-23 2019-07-23 云谷(固安)科技有限公司 一种探针卡、制备方法和芯片测试方法
JP7421990B2 (ja) * 2020-04-08 2024-01-25 株式会社日本マイクロニクス 電気的接続装置および検査方法

Family Cites Families (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0921841A (ja) * 1995-07-07 1997-01-21 Toyota Motor Corp 半田付け検査方法
JPH10142293A (ja) * 1996-11-12 1998-05-29 Advantest Corp Ic試験装置
US6255126B1 (en) * 1998-12-02 2001-07-03 Formfactor, Inc. Lithographic contact elements
JP2001284416A (ja) * 2000-03-30 2001-10-12 Nagase & Co Ltd 低温試験装置
JP2002228683A (ja) * 2001-01-29 2002-08-14 Ando Electric Co Ltd プローブの接合装置および接合方法
JP2002228686A (ja) * 2001-01-31 2002-08-14 Mitsubishi Materials Corp 破損防止機能を有するコンタクトプローブ及びプローブ装置
JP3651405B2 (ja) * 2001-03-28 2005-05-25 ヤマハ株式会社 プローブおよびその製造方法
JP2002340932A (ja) * 2001-05-14 2002-11-27 Micronics Japan Co Ltd 電気的接続装置
JP3910406B2 (ja) * 2001-10-31 2007-04-25 シャープ株式会社 半導体装置の検査方法
JP2003215161A (ja) * 2002-01-22 2003-07-30 Tokyo Electron Ltd プローブ、プローブの製造方法、プローブの取付方法、プローブの取付装置及びプローブカード
JP2003227849A (ja) * 2002-02-04 2003-08-15 Micronics Japan Co Ltd プローブ要素及びその製造方法
AU2002353582A1 (en) * 2002-02-05 2003-09-02 Oug-Ki Lee Method for manufacturing electric contact element for testing electro device and electric contact element thereby
KR100475468B1 (ko) * 2002-11-06 2005-03-11 주식회사 파이컴 전자소자 검사용 전기적 접촉체
US6917102B2 (en) * 2002-10-10 2005-07-12 Advantest Corp. Contact structure and production method thereof and probe contact assembly using same
JP2005072143A (ja) * 2003-08-21 2005-03-17 Tokyo Seimitsu Co Ltd プローブ装置
JP4592292B2 (ja) * 2004-01-16 2010-12-01 株式会社日本マイクロニクス 電気的接続装置

Also Published As

Publication number Publication date
CN101762723A (zh) 2010-06-30
JP2008525793A (ja) 2008-07-17
WO2006068388A1 (en) 2006-06-29
TW200632322A (en) 2006-09-16
KR100626570B1 (ko) 2006-09-25
CN101069277B (zh) 2010-05-12
US20080186041A1 (en) 2008-08-07
SG144939A1 (en) 2008-08-28
CN101069277A (zh) 2007-11-07
KR20060072916A (ko) 2006-06-28
US7602204B2 (en) 2009-10-13

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI278627B (en) A probe card manufacturing method including sensing probe and the probe card, probe card inspection system
US7928751B2 (en) MEMS interconnection pins fabrication on a reusable substrate for probe card application
US8089294B2 (en) MEMS probe fabrication on a reusable substrate for probe card application
CN111137840B (zh) 利用激光的半导体检查用微机电探针制备方法
US20050146047A1 (en) Method for fabricating a semiconductor interconnect having conductive spring contacts
US20040119485A1 (en) Probe finger structure and method for making a probe finger structure
TWI326360B (en) Method of fabricating cantilever type probe and method of fabricating probe card using the same
CN101128741A (zh) 探针及其制造方法
US7819668B2 (en) Electrical connecting apparatus and method for manufacturing the same
CN101308165A (zh) 探针阵列及其制造方法
CN101211807A (zh) 半导体集成电路装置和用于其的薄膜探针片材的制造方法
KR20040083726A (ko) 전자소자 검사용 마이크로 프로브 및 그 제조 방법
KR100703043B1 (ko) 검사용 프로브 기판 및 그 제조 방법
TW200419159A (en) Probe for testing flat panel display and manufacturing method thereof
KR101273970B1 (ko) 프로브의 탐침 및 프로브의 제조방법
KR100796207B1 (ko) 프로브 카드의 프로브 구조물 제조 방법
TW200307814A (en) Probe unit and its manufacture
US7240428B2 (en) Method for making probes for atomic force microscopy
KR100743978B1 (ko) 프로브 카드용 접촉 소자 및 그 제조 방법
TW201142302A (en) Probe for electrical test and method for manufacturing the same, and electrical connecting apparatus and method for manufacturing the same
KR100823312B1 (ko) 프로브 카드 제조 방법 및 그에 의한 프로브 카드
EP1544865B1 (en) A method for making probes for atomic force microscopy
JP2008216206A (ja) コンタクタ、プローブカード及びプローブカードの製造方法
US20080061806A1 (en) Probe substrate for test and manufacturing method thereof
TW562930B (en) Method for making 3-D macro elastic probe devices by MEMS technique

Legal Events

Date Code Title Description
MM4A Annulment or lapse of patent due to non-payment of fees