TWI277443B - Continuous dissolution apparatus, process for continuous dissolution and apparatus for supplying water in which gas is dissolved - Google Patents

Description

1277443 玖、發明說明 (發明說明應敘明：發明所屬之技術領域、先前技術、內容、實施方式及圖式簡單說明） (一） 發明所屬之技術領域： 本發明係關於一種連續溶解裝置及連續溶解方法。詳言 之，本發明係關於一種即使主流液體之流量有所變動，亦 可獲得穩定、一定濃度之溶液，可不浪費的供給電子材料 所用、要求特別精密之淸淨表面，之洗淨水暨表面處理水 等之連續溶解裝置及連續溶解方法。此外，本發明亦係關 於一種具備有本發明連續溶解裝置之洗淨用氣體溶解水供 給裝置者。 (二） 先前技術： 電子材料之顯式洗淨過程中，係將微量的特定氣體暨特 定導液溶解於超純水中作調製，使之成爲經認可而具實用 性之所謂的洗淨用機能水，此種方式甚爲普及。溶解部或 脫氣部與溶解部，一般係使用內藏有具氣體透過性之膜的 模組裝置，依對主流液體施作之預備脫氣，倘供給之氣體 爲飽和濃度以內，則可全數溶解，乃成爲一種實用之溶解 裝置。 但是，倘爲一種用以溶解氫氣等之特定氣體或特定氣體 與藥液之裝置時，因僅係供給一定流量之主流液體，固可 獲得較高精度之機能水，惟如主流液體之供給量因各種外 在原因發生變動，如爲了節約用水等原因之變動時，其所 獲得機能水之氣體暨藥液之濃度即有變動，此點將產生實 用上的問題。 1277443 又，在不使用機能水之時間帶，係中止特定氣體之供給 ，只有少量的主流液作連續的流通。嗣後，在機能水進入 使用之時間帶時，即開始供給特定之氣體，惟在到達所定 値之濃度並成穩定則須一段時間，此乃成爲實用上之問題。 爲了使溶存氣體之濃度穩定化，一般係實行回援（fe e d bach)機構，其係接受溶解裝置下游側所設濃度計測部所輸 出之信號，而控制溶解用之氣體供給量。但是，將此種機 構應用作調製機能水時，實難以獲得所預期之結果。至少 ，回援之延遲時間期間，即會調製出非所希望濃度之機能 水，即使作所謂的P I D控制，亦無法避免濃度之追逐 (h u n t i n g )現象 ° (三）發明內容： * 本發明之目的，係提供一種連續溶解裝置及連續溶解方 法，即使主流液體之流量變動，仍可獲得穩定、一定濃度 之溶液，且可不浪費的供應電子材料要求有特別精密之淸 淨表面所須用之洗淨水及表面處理水者。 本發明之另一目的，係提供一種利用可獲得穩定、一定 濃度之連續溶解裝置的氣體溶解水供給裝置者。 本案發明人乃針對前述課題作深入硏究，結果發現：倘 設以流量計，用以計測主流液體之流量，並將計測之計測 値信號輸出；另設以流量控制機構，基於輸入之該信號而 控制氣體之供給量或氣體與他種液體之供給量，等時，則 主流液之流量有變動時，依然可製造而獲得氣體暨藥液之 濃度爲一定之機能水，且性能甚爲穩定，本發明即基於此 1277443 項硏究所得結果而完成者。 亦即，本發明係提供= (1 )在一種具有將氣體溶解於主流液體之溶解部的連續 溶解裝置中，係設有：流量計，用以計測主流液體之流量 ，並將計測之計測値的信號輸出之；具有流量控制機構之 脫氣裝置，該流量控制機構係基於輸入之該信號而控制氣 體之供給量，而該脫氣裝置則係設在溶解氣體之溶解部的 上游側，將主流液體脫氣；等爲特徵者。 (2 )第1項之連續溶解裝置中，所稱之水爲純水或超純水 者。 (3 )第2項之連續溶解裝置中，可再具有注入他種液體於 液體之注入裝置，仍係基於該信號控制該他種液體之注入 量者。 (4 )在一種可連續的把氣體或氣體與他種液體溶解於主 流液體之連續溶解方法中，係在溶解氣體前，先將主流液 體脫氣，並基於脫氣前或脫氣後主流液體之流量而控制氣 體之供給量或氣體與他種液體之供給量；爲特徵者。 (5 ) —種氣體溶解水供給裝置，係設置有氣體溶解水製造 部及氣體溶解水供給裝置，且依水槽的水位以控制水量調 整裝置者。 該氣體溶解水製造部係具備有： 氣體溶解裝置，其具有計測純水或超純水之流量且將計 測之信號予以輸出的流量計，和依據輸入的信號而控制溶 解於純水或超純水之氣體供給量之流量控制機構； 1277443 水量調整裝置，用以調節供給予氣體溶解裝置之純水或 超純水之供給量。 該氣體溶解水供給裝置係具備有： 水槽，接收在使用點未被使用之剩餘的氣體溶解水； 配管系統，係使氣體溶解水自水槽往使用點，而剩餘的 氣體溶解水返回水槽之配管系統； ’ 氣體溶解水供給管，用以將該氣體溶解水製造部所製得 之氣體溶解水，供給至該水槽。 (6 )第5項之氣體溶解水供給裝置中，該水槽爲密閉型， 具備有供給密封氣體之供給部，供給之密封氣體和溶解於 氣體溶解水之氣體爲同一種氣體者。 此外，依本發明之實施例，其係： (7) 第1項之連續溶解裝置中，氣體供給量之控制可爲比 例控制或爲P I D控制者。 (8) 第1項之連續溶解裝置中，溶解部係由內藏有氣體透 過性膜之模組（module)構成爲特徵者。 (9) 第1項之連續溶解裝置中，脫氣裝置係由內藏有氣體 透過性膜之模組構成爲特徵者。 (1 〇)第1項之連續溶解裝置中，係具有以大流量控制器 (m a s s f 1 〇 w c ο n t r ο 11 e r )構成之流量控制機構者。 (11 )第1項之連續溶解裝置中，該氣體係氫氣、氧氣、 氮氣、氦氣、氬氣、臭氧、氨氣或二氧化碳或該等氣體之 混合體者。 (1 2 )第3項之連續溶解裝置中，主流液體流通配管係具 1277443 有可注入他種液體之注入部，且該註入部係設於混合裝置 之前段者。 (1 3 )第3項之連續溶解裝置中，係具有流量控制機構， 其係由流量可變性之藥注幫浦構成者。 (1 4)第3項之連續溶解裝置中，該他種液體係含氨、氫 氧化鈉、氫氧化鉀、氫氧化四甲氨、鹽酸、硫酸、硝酸、 氟酸、磷酸、醋酸、草酸或過氧化氫等之溶液或該等之混 合液者。及 (1 5 )第4項之連續溶解方法中，氣體供給量之控制係以 比例控制或P I D控制者。 (四）實施方式： 本發明之連續溶解裝置，爲在具有用以將氣體溶解於主 流液體之溶解部的連續溶解裝置中，具備流量計，用以計 測主流液體之流量，並將計之計測値的信號輸出之；及流 量控制機構，係基於輸入之該信號而用以控制氣體之供給 量。而本發明之連續溶解方法，係在連續的把氣體或氣體 與他種液體溶解於主流液體之連續溶解方法中，基於主流 液體之流量而對氣體之供給量或氣體與他種液體之供給作 控制者。 依本發明之裝置及方法，所稱之主流液體爲純水或超純 水，係可溶解氣體或氣體與鹼或酸而可適用製成水溶液之 機能水者。本發明中，純水之品質須爲已去除不純物、純 度相當高之純水，而超純水則爲已高效率的去除水中之懸 濁物質、溶解物質及不純物，其溶解物質爲1 μ g / L程度之 -10- 1277443 極高純度之水。將氣體、或氣體與鹼或酸溶解於純水或超 純水而作成水溶液之機能水，極適用作半導體用基板、液 晶用基板、光罩用基板、硬碟用基板等電子材料用之洗淨 水、表面處理水等。 本發明中，以比例控制或P I D控制之方式控制氣體之供 給量均佳。對於主流液體流量之變動，因係對氣體之供給 量作比例式之控制或作P I D式之控制，故可製造經常溶解 有一定氣體濃度之機能水。 依本發明，用以計測主流液體流量之流量計並無特別限 制，例如可爲流口（ 〇 r i f i c e )流量計、文氏（v e n 11· i)流量計等 ，節流方式之流量計，或阻抗體流量計、面積式流.量計、 層流流量計等之液體阻抗方式流量計，或渦捲流量計、流 體流量計等之液體振動方式流量計，或容積式流量計、葉 輪流量計、水擊方式之流量計，或電磁流量計、超音波流 量計等均可。其中，爲了避免水的污染，則最好使用無滑 動部之卡耳曼漩渦型流量計或超音波流量計。依本發明， 係藉所述之流量計計測主流液體之流量，並基於所計値之 信號而遂行控制氣體之供給量或氣體與他種液體之供給量。 本發明中，如係將氣體溶解於主流液體（純水或超純水） 之狀況，所供給之氣體以能完全溶解於純水或超純水爲宜。 爲了可使供給之氣體完全溶解於主流液體，故主流液體須預 先加以脫氣。理想上，主流液體（超純水或純水）之脫氣，係 可將業已溶解於主流液體（超純水或純水）中之各種氣體予 以除去，乃可使所希溶解之氣體溶解而增加氣體溶解之容量 -11- 1277443 。依此種狀態之主流液體（超純水或純水）中，倘其氣體溶解 容量爲所希氣體供給量以上時，則供給之氣體即可完全溶解 。反之，倘主流液體（超純水或純水）中仍殘存有既有之各種 氣體時，主流液體（超純水或純水）中所希氣體之溶解容量gp 有不足’而無法達成所希望之濃度’再者如主流液體（超純 水或純水）之流量倘非爲恆定而有變動時，則即有無法就溶

解於主流液體（超純水或純水）之氣體濃度作設定之虞，，持g[J 的是對溶解度小的氣體’例如將氫氣溶解於主流液體（超純 水或純水）之狀況爲然’故縱使主流液體（超純水或純水）之 流量變動’而爲了保有一定之濃度’故仍須預先把主流液體 (超純水或純水）脫氣。藉著把主流液體（超純水或純水）在未 溶解前即行脫氣，則用以計測主流液體（超純水或袖μ、+ 4純水）流量 之流量計，其計測値之信號係輸出至流纛控制機構， 、 此〜^流 量控制機構即基於該信號而迅速的控制供給氣體 扫 '坦< i、·給量 ，因之，氣體之供給量均能完成溶解於主流液濟+ 彳仪1k中，而達設 定之所希望濃度。即令主流液體（超純水或純水㈢， 」< llL識：變動 ，惟依該種機構之作用’仍可甚快的回復爲所希之_ _ 主流液體（超純水或純水）之脫氣方法並無特別限_ 將純水或超純水在由內藏有氣體透過性膜所德汁^ ^ 丨持W忑膜脫氣 裝置中作處理’爲」除去溶存之氣體而提高水之气 」、心取體溶解 能力，溶解部最好供給以飽和溶解度以下，m % ^ ^ 1乙m的氣體。氣 體之溶解部亦無特別限制’以內藏有氣髀透渦性^ ^ ^ t姻丨土之J]旲的模 組所構成之溶解部爲佳。流入溶解部之主流液體與供給之 氣體，因在溶解部中具有一定時間之液相部、气拍1 m pP 滅相邰之滯 -12- 1277443 之延遲即發 濃度變動甚 可爲氫、氧 以氫、氧、 水，即可除 溶解於純水 料表面上之 或超純水之 是位在用以 或之後測定 注入他種液 .流液體之流 e r )之混合裝 菱體之貯槽。 i超純水等主 g制，可藉藥 〖解狀況相同 [輸入於含有 〖之注入量的 留，故該模組對氣體供給量之變動暨若干時間 揮有緩衝機能，因而可穩定的製造溶解後氣體 少之機能水。溶解之氣體並無特別限制，例如 、氮、氦、Μ、臭氧、氨、二氧化碳等氣體。 氦、氬等氣體溶解於純水或超純水所成之機能 去附著於電子材料表面之微粒子。而將臭氧等 或超純水之機能水，可用以除去附著於電子材 有機物及金屬成分。而將二氧化碳溶解於純水 機能水，則可防止靜電之產生。 依本發明，主流液體流量之測定位置，最好 溶解氣體之溶解部的前方。而在該脫氣部之前 主流液體之流量亦可。 本發明中，如爲純水或超純水中溶解氣體並 體之狀況時，則設注入部，以將他種液體注入主 通管中。注入部係設在線上混合器（in-line mix 置的前段。注入部係經藥注幫浦而連接於他種ί 因供給之他種液體多半爲水溶液，故可和純水或 流液體較容易的作均一之混合。而液體之流量ί 注幫浦之脈沖控制而遂行流量調整。與氣體之滔 的，係以流量計計測主流液體之流量，將測定偃 藥注幫浦之流量控制機構，施行液體對主流液體 控制。 本發明中，用以溶解之他種液體並無特別限制，例如氨、 氫氧化鈉、氫氧化鉀、氫氧化氨等之鹼性水溶液，鹽酸、硫 1277443 酸、硝酸、氟酸、磷酸、醋酸、草酸等酸性水溶液，過氧化 氫水等均可。又，氨與過氧化氫水之混合液、氨與氟酸之混 合液等亦可。 本發明中，可將氣體暨他種液體倂用溶解於主流液體。而 氣體暨他種液體供給於主流液體之供給量控制，係與單獨供 應氣體之控制相同狀況爲之。作爲溶解用之氣體暨他種液體 ，可利用前述單獨作溶解之氣體與他種液體作適當的組合而 成，例如，將氫與氨水溶解於超純水中，即可提高機能水除 去微粒子之效果。 本發明中，可隨著所要水量之變動而製造機能水，且爲自 動化實行，極爲實用。例如，須要5 L /分之水量的機能水 供應4台洗淨機時，依各洗淨機之狀態（機能水使用/不使 用），可在0L/分〜2 0L /分間作變化。而習用技術只是連續 供給定量之2 0 L /分機能水，多餘的機能水則由洗淨機側之 機能水製造裝置排除。惟本發明係依所須之水量製造一定濃 度之機能水，是以乃無多餘水之排出。 此外，於暫不需要機能水供應之時間帶上，爲了防止主流 液體在滯留中因細菌繁殖而使水質惡化，故主流液體仍持續 保持流動，因之，如停止供應氣體、藥液之供給時，純水或 超純水仍係保持少量的流通，此種少量流通水爲一般實用上 遂行之方式。而在少量水流通後如須再回復正常使用之際， 因水之流量增加，即再度開啓氣體、藥液之供給，此時，再 達所定濃度之時間，習用技術約須數分〜十數分間，此一期 間即無法進行洗淨。但依本發明，在上述之少量流通水中， 1277443 仍隨其流量而繼繪供應以適量之氣體、藥液等，是以再作洗 淨時，可立即的獲得所定濃度之機能水。 如上述，依本發明連續溶解裝置所製得之所定濃度的氣體 溶解水（機能水）’係作爲電子材料用之洗淨水、表面處理水 等之用，經配管而供給至使用點（use psint)w供使用。而亦 可由溶解裝朦直接送給至使用點，而機能水係暫容存於水槽 內，則’可在水槽與使用點之間設以供給配管以作循環型之 供給。供給至使用點之機能，如不須要使用或用量較少時， 並無供過剩之未使用機能水的排水配管，而係將之經循環配 管返回水槽。溶解有氣體但未使用之機能水，因其氣體濃度 幾無變化而可供再利用，故水槽之水位如低於所定之水位時 ，僅須補給減夏分之機能水即可。水槽上設有計測水位之水 位計，新製造之機能水可隨水位之降低而補給予水槽內。依 本發明之連續溶解裝置所製造之機能水，因可將溶存氣體濃 度控制爲所希之濃度，故補給之機能水乃可配合水槽（循環 配管系）之未使用機能水的溶存濃度，而可使供給至使用點 之機能水濃度保持一定，以遂行穩定的電子材料洗淨作業。 第1圖爲本發明一實施例之流程系統圖。本實施例中’係 用以製造將氫與氨水溶解於超純水中，可除去微粒子之機能 水者。超純水係在膜脫氣裝置7中將溶解於其內之既存氣體 除去之，乃可擄大爲了使氫溶解之氣體溶解能力。脫氣後超 純水之流量以流量計8計測之，計測値之信號則送於具有大 流量控制器（mass cQntl.Qller) 9與流量控制機能之藥注幫浦 1 4。由氫氣產生器1 〇等之氫氣源往氣體溶解膜模組1 1之氫 1277443 氣供給量，係由大流量控制器9隨著超純水之流量作控制， 而將所定容量之氫氣供給予超純水，並溶入其內。溶解有氫 氣之超純水中，由氨水貯槽1 3、依超純水之流量、以藥注 幫浦1 4將所定量之氨水注入於注入部6。注入之氨水乃在 連線混合器1 5中作均一的混合，製造氫氣與氨溶解之機能 水。藥液之注入部6亦可設在氣體溶解膜模組1 1或膜脫氣 裝置7之上游側。此種狀況，該氣體溶解膜模組11或膜脫 氣裝置7係作爲連線混合器1 5之代用，而成爲一種混合用 裝置者。機能水之溶存氫氣濃度係以溶存氫氣濃度計1 6測 定，以pH計1 7測定pH値後即送至使用點。溶存氫氣濃度 1 6及pH計1 7係供確認是否爲所希値之用。 第2圖爲利用本發明之連續溶解裝置供給氣體溶解水（機 能水）供給裝置之一實施例。氣體溶解水供應裝置係由機能 水製造部A及機能水供給部B構成。機能水製造部A與第 1圖所示之溶解裝置係相同之構成，此外，並設有作調整用 之閥（valve)19，用以調超純水之供給量。依閥19之開度調 整，可調整由〇開始至所希之流量，亦可控制超純水供給流 量之供給或停止。使用幫浦、或使用幫浦連同閥等，亦可取 代僅用閥之水量調整功能。 超純水之機能水供給部B中，設有水槽2 1 ;由水槽2 1向 使用點之配管2 2 ;由使用點朝水槽之回水配管2 2 1等，藉該 等配管系統，即成爲循環配管系統。幫浦2 3多驅動源，係 使機能水在該循環配管系統中流動，又，幫浦2 3之下游側 設有過濾器2 4。水槽2 1覆蓋有密封設施3 0，俾和大氣阻隔 - 1 6 - 1277443 而成爲密閉型，密封氣體供給管2 6之開口係達水槽2 1之氣 相部中，尙設有圖中未示，用以保持水槽一定內壓之排氣部 。密封氣體可爲相同於溶解於氣體溶解水中之該種氣體。或 使用氮氣等之惰性氣體。前者中，如係將複數種氣體溶解於 純水或超純水時，由於使用混合氣體可和溶解之氣體的分壓 相等，因可抑制水槽內氣體溶解濃度之變化，故以使用混合 氣體爲宜。水槽2 1處尙連接有氣體溶解水供給配管2 8，俾 將機能水製造部A所製成之機能水饋入。又者，水槽2 1亦 設有水位計2 5，水位計之信號係傳送於機能水製造部A之 閥1 9，以遂行閥之開閉、開度之調整等。爲了抑制所貯存 氣體溶解之濃度變化，水槽2 1之氣相部容積越小越佳。爲 此，水位計2 5僅對接近密封設施3 0下面之氣體溶解水的水 面作檢知較佳，由於使氣相部之容積作成甚小，則因在水相 溶解之氣體的分壓和氣相部的分壓在短時間內即成平衡，故 可使濃度之變化減至最小。 如第2圖所示之氣體溶解水供給裝置，水槽2 1之機能水 係以幫浦2 3由配管2 2送至使用點，使用點使用後之殘餘機 能水，則經配管22’返回水槽2 1，而在循環配管系統中作循 環。又，在循環時，倘幫浦2 3之轉動部分產生有微粒子， 爲防止含九機能水中，乃用過濾器24加以濾除。過濾器24 爲精密型過濾器、膜式過濾器等。機能水送於使用點使用時 ，水槽2 1之水位將低下，水位達下限時，水位計之信號乃 傳送至閥1 9，即開始往機能水製造部A之超純水的供給， 同時，以戕之開度控制調整供給流量。機能水製造部A係 1277443 如第1圖之說明’以流量計8計測供給之超純水的流量，溶 解於超純水之氣體（例如氫氣）供給量，則依該計測値作控制 ’而供給於氣體溶解膜模組中，用以製造相同於水槽之機能 水氣體溶解濃度的同濃度機能水。且同樣的，依超純水之流 量而加一定量之藥液（例如氨水）於機能水中。所製造之機能 水係送於水槽’而與未使用之剩餘機能水一倂貯留於水槽內 ’藉循環配管系統供給予使用點作使用。而新製成之機能水 補給予水槽達水槽水位上限時，由水位計1 9發信使閥1 9 關閉’停止超純水之供給，機能水製造部A中之溶解機能 即暫時休止。或是亦可爲’以水位計2 5作水位之檢出，惟 爲了保持機能水製造部A之淸淨度，故仍繼續流通少量之 氣體溶解水。此種狀況中，爲了使貯存之氣體溶解水不超過 水槽2 1之容量，可在水槽2 i上設以圖中未示之溢流 (overflow)機構，將滿溢之氣體溶解水自水槽2 !排出。所製 造機能水之溶存氣體濃度，在超純水流量變動時，其係亦可 調整爲所希之濃度’故無論係急速或緩慢回復至水槽水位上 限狀況’其濃度均與水槽之未使用機能水的濃度相同，故可 將一定濃度之機能水送於使用點。如是，倘使用本發明之氣 體溶解水供給裝置’於使用點使用而有剩餘之機能水係回收 於水槽’而可和補給之機能水倂同使用。習用技術中，補給 水量變動時即難以得到一定濃度之機能水，因爲甚難和剩餘 之機能水的濃度相一致，放剩餘之機能水係排出於外，於本 發明，倘對比於習用者將剩餘水再作脫氣處理而回收作爲超 純水之方式’本發明實具極高之回收效率。 1 1277443 又，水槽中之水位，雖使用量爲變動，但均保持在一定之 較高準位，藉此，乃可使氣相與水相之氣體成分比穩定，從 而抑制水中之氣體濃度的變化。又，水槽上部之氣相係以密 封氣體密封，故可維持一定之氣相氣體成分。 此外，在循環配管系統之適當位置，例如在幫浦2 3及過 濾器2 4之間，可設以熱交換器，因可藉幫浦之熱抑制水溫 上升，故可使機能水之溫度條件爲一定。 實施例1 ; 用第1圖所示之機能性洗淨水製造裝置製造氫氣水。使 用後之超純水爲含有10〜18ppm氮氣、0.01〜2ppm氧氣之 溶存氣體。將此一超純水通經膜脫氣裝置進行脫氣，則溶 存之氮氣降至1 . 5 p p m以下，溶存之氧氣降至0 . 5 p p m以下 。將脫氣後之超純水送於溶解部，同時，自卡耳曼漩渦式 流量計輸出超純水之流量信號，大流量控制器乃基於該信 號作控制，而供給和超純水流量成比量之氫氣量。由內藏 有氣體透過性之膜所構成之模組中，乃把氫氣溶解於超純 水中，製造成氫氣水。 在超純水之流量爲2 0 L /分，氫氣供給量爲2 6 0 m L /分 之條件下，開始製造氫氣水。令超純水之流量作；開始製 造3 0分鐘後爲1 0 L /分；開始製造6 0分鐘後爲1 5 L /分 ;開始製造8 0分鐘後爲2 0 L /分；開始製造1 1 0分後爲2 5 L /分；開始製造1 2 0分後爲2 0 L /分；開始製造1 5 0分後 爲2L /分；開始製造180分後爲20L / min;等之變更， 氫氣水之製造施行時間合計1 2 0分。 -1 9- 1277443 第1表爲實測超純水流量、氫氣供給量及氫氣水之溶存 氫氣濃度等數値。 第1表 時間 (min) 超純水流量 (L/min) 氫氣供給量 (mL/min) 溶存氫氣濃度 (mg/L) 備考 1 1 9.45 251 0. 08 5 1 9. 73 256 0. 80 10 1 9. 24 257 1. 0 1 14 1 9. 64 257 1.1 1 17 1 9_ 5 9 257 1. 1 2 2 0 1 9. 75 256 1· 1 5 2 5 1 9. 53 256 1. 12 3 0 1 0. 87 135 1. 1 1 超純水流量變更 3 5 1 0· 64 132 1. 12 4 0 10· 9 7 136 1. 1 1 5 0 10.78 138 1. 12 6 0 1 5· 18 192 1. 12 超純水流量變更 6 5 15.27 200 1· 1 0 7 0 15-35 20 1 1· 1 5 8 0 1 9· 6 5 258 1· 15 超純水流量變更. 9 0 1 9. 8 8 256 1. 1 0 10 0 1 9. 66 256 1. 1 5 110 24.21 323 1. 14 超純水流量變更 113 24. 08 325 1. 1 5 117 24· 35 327 1. 1 5 12 0 1 9. 98 260 1· 14 超純水流量變更 13 0 1 9. 72 257 1· 1 3 14 0 1 9.83 258 1· 1 2 15 0 2.05 26 1· 14 超純水流量變更 16 0 2.04 26 1· 1 5 17 0 2. 10 26 1· 1 3 18 0 1 9. 94 259 1· 1 1 超純水流量變更 18 2 2 0. 09 258 1. 1 1 18 5 2 0. 1 0 26 0 1. 1 3 19 0 2 0.00 2 5 9 1. 1 4 2 0 0 1 9. 9 7 257 1. 1 3 由第1表可知，氫氣水之製造係在‘超純水流量約20L /分之條件下開始。1 〇分鐘後，溶存氫氣濃度超過1 . 〇 〇 m g / L，1 4分鐘後，達1 . 1 4 m g / L，即成可用以作爲電子元 -20- 1277443 件 洗 淨 用 機 能 水 狀 態 〇 發 明 之 效 果 如 依 本 發 明 之 連 續 溶 解 裝 置 及 連 續 溶 解 方 法 ) 主 流 液 體 之 流 量 變 動 時 亦 可 獲 得 穩 定 > 一 定 氣 體 濃 度 之 溶 液 可 不 浪 費 的 供 給 電 子 材 料 所 用 > 要 求 特 別 精 密 之 淸 淨 表 面 的 洗 淨 水 暨 表 面 處 理 水 ， 作 爲 電 子 材 料 遂 行 再 現 性 洗 淨 及 表 面 理 〇 又 1 爲 了 節 水 白 流 量 關 閉 之 狀 態 變 更 至 通 常 使 用 之 狀 況 時 ? 均 能 經 常 使 機 能 水 之 溶 存 氣 體 濃 度 保 持 — 定 毋 須 等 待 m 定 化 之 時 間 J 全 不 致 造 成 水 量 之 Μ j \\\ 三田 δ冃 浪 費 〇 再 者 倘 依 本 發 明 之 氣 體 溶 解 水 供 給 裝 置 剩 餘 之 未 使 用 機 能 水 係 可 回 收 再 利 用 者 〇 (五）1 圖 式 簡 單 說 明 第 1 圖 爲 本 發 明 裝 置 — 實 施 例 流 程 圖 〇 第 2 圖 爲 本 發 明 氣 體 溶 解 水 供 應 裝 置 之 另 — 實 施 例 流 程 圖 〇 主 要 部 分 之 代 表 符 號 說 明 6 注 入 部 7 膜 脫 氣 裝 置 8 流 量 計 9 大 流 量 控 制 器 10 氫 氣 產 生 器 11 氣 體 溶 解 膜 模 組 13 氨 水 貯 槽 1 4 藥 注 幫 浦 -2 1- 1277443 15 連續混合器 16 溶存氫氣濃度計 17 Ρ Η 計 -22

Claims (1)

1277443 拾、申請專利範圍 1 . 一種連續溶解裝置，具有將氣體溶解於主流液體之溶解 部，該連續溶解裝置之特徵具備有： 流量計，用以計測主流液體之流量，並可輸出計測値 之信號； 流量控制機構，係基於輸入之該信號而控制氣體之供 給量；及 脫氣裝置，係設於將氣體溶解之溶解部的上游部分， 可將主流液體脫氣；等構成者。 2 .如申請專利範圍第1項之連續溶解裝置，其中該主流液 體爲純水或超純水者。 3 .如申請專利範圍第2項之連續溶解裝置，其中該連續溶 解裝置具有注入他種液體於主流液體之裝置，並係基於 該信號而控制該他種液體之注入量者。 4 . 一種連續溶解方法，將氣體或氣體暨他種液體連續的溶 解於主流液體，該連續溶解方法之特徵爲，於溶解氣體 之前，將該主流液體脫氣，而基於脫氣前或脫氣後之主 流液體流量，用以控制氣體之供給量或氣體暨他種液體 之供給量者。 5 . —種氣體溶解水供給裝置，係設置有氣體溶解水製造部 及氣體溶解水供給裝置，且依水槽的水位以控制水量調 整裝置者，其中，該氣體溶解水製造部係具備有： 氣體溶解裝置，其具有計測純水或超純水之流量且將 計測値之信號予以輸出的流量計，和依據輸入的信號而 -23- 1277443 控制溶解於純水或超純水之氣體供給量之流量控制機構； 水量調整裝置，用以調節供給予氣體溶解裝置之純水或 超純水之供給量，及其中 該氣體溶解水供給裝置係具備有： 水槽，接收在使用點未被使用之剩餘的氣體溶解水； 配管系統，係使氣體溶解水自水槽往使用點，而剩的氣 體溶解水返回水槽之配管系統； 氣體溶解水供給管，用以將該氣體溶解水製造部所製得 之氣體溶解水，供給至該水槽。 6 .如申請專利範圍第5項之氣體溶解水供給裝置，其中該 水槽爲密閉型，並具備有供給密封氣體之供給部，而所 供給之密封氣體係與溶解於氣體溶解水之氣體爲同一氣 體者。 -24-