JP3029608B1 - オゾン水生成装置およびオゾン水を生成する方法 - Google Patents

Abstract

【要約】 【課題】 所定濃度のオゾン水を安定かつ瞬時に供給
し、オゾンガス及び水の使用量を削減する。 【解決手段】 オゾン水生成装置であって、少なくと
も、オゾンガスを発生するオゾンガス発生器と、前記オ
ゾンガスを水中に溶解して飽和濃度のオゾン水を生成す
るオゾンガス溶解器と、前記飽和濃度のオゾン水と水と
を所望の濃度のオゾン水になるように混合するオゾン水
混合器を具備しているオゾン水生成装置。およびオゾン
水を生成する方法において、オゾンガスを水中に溶解し
て飽和濃度のオゾン水を生成し、前記飽和濃度のオゾン
水と水とを所望濃度のオゾン水となるように混合して所
望濃度のオゾン水を生成するオゾン水を生成する方法。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、例えば半導体デバ
イスや液晶ディスプレイパネル等を製造する工程におい
て、基板（シリコンウエーハ、ガラス基板等）を洗浄す
る際に、洗浄装置にオゾン水を供給するためのオゾン水
生成装置およびオゾン水生成方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】例えば半導体デバイスや液晶ディスプレ
イパネル等の基板の洗浄を行う際には、洗浄液として様
々な薬液が用いられる。特に、水中にオゾンを溶解させ
たオゾン水は、酸化性が強いため洗浄力が強く、殺菌性
にも優れているため、上記洗浄等の用途にはよく用いら
れる。

【０００３】一般に、オゾン水以外の薬液を実際に洗浄
に用いる際には、使用時の濃度よりも高い濃度の原液を
用意し、それらを洗浄装置内で超純水等により希釈して
所定濃度の洗浄液として使用するのが一般的な方法であ
る。一方、オゾン水の場合は、原料となる物質が液体で
はなくガスであるため、従来、洗浄液等としてオゾン水
を準備する際には、一般的に以下に示すような２つの方
法が用いられていた。

【０００４】一つの方法は、オゾンガスを水中にバブリ
ングさせて溶解する方法である。図２はこのような方式
のオゾン水生成装置の一例を示したものである。この方
式のオゾン水生成装置１１は、オゾンガスの溶解槽とな
るオゾンガス溶解器２を具備し、該オゾンガス溶解器２
にはオゾンガス発生器１と純水供給源８が接続されてい
る。そして、オゾンガス溶解器２中に純水供給源８から
の純水を満たし、この純水中にオゾンガス発生器１から
のオゾンガスを、気泡状にバブリングさせて溶解し、オ
ゾン水を生成するようにされている。なお、余剰のオゾ
ンガスは、オゾンガス分解触媒５に送られ、分解される
ようになっている。

【０００５】もう一つの方法は、外壁に微細な孔を有す
る中空糸の内側にオゾンガスを通し、前記中空糸の外側
に水を流して、オゾン水を生成する方法である。図３は
このような方式のオゾン水生成装置の一例を示したもの
である。この方式のオゾン水生成装置１２は、オゾンガ
スの溶解槽となるオゾンガス溶解器２内に、フッ素樹脂
等からなる外側に微細な孔を有する中空糸９の束が封入
されている。中空糸９はオゾンガス発生器１に接続さ
れ、オゾンガス溶解器２は純水供給源８と接続されてい
る。そして、中空糸９の内側にオゾンガスを流し、外側
に水を流すようにすれば、中空糸９の外壁孔からオゾン
ガスが純水中に拡散・溶解することにより、オゾン水を
生成するようになっている。なお、この場合も、余剰の
オゾンガスは、オゾンガス分解触媒５に送られ、分解さ
れるようになっている。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】従来は、オゾン水は上
記の装置及び方法によって生成されており、洗浄装置等
において使用されていたが、問題となる点がいくつかあ
った。まず、所定濃度のオゾン水を安定して供給できる
ようになるまでに時間がかかってしまうことである。従
来、上記２つのオゾン水生成方法のいずれも、オゾン水
中のオゾン濃度を変化させようとする場合には以下のよ
うな方法が用いられていた。

【０００７】一つは、オゾンガス溶解器２に供給する水
の量を増減する方法である。もう一つは、オゾンガス溶
解器２に供給するオゾンガスの供給量またはガス濃度を
増減する方法である。しかし、前者の水量を増減する方
法では、オゾン水の量自体も変動してしまうという欠点
がある。また後者のガス量等を増減する方法では、オゾ
ンガスの発生量を増減させると、その状態が安定するま
で時間がかかってしまうという欠点がある。

【０００８】そして、いずれの方法においても、すでに
一定濃度のオゾン水がオゾンガス溶解器の槽中に残って
おり、またオゾン水自体が不安定で分解しやすいため、
瞬時に濃度の異なるオゾン水を安定してユースポイント
へ供給することが難しく、所定濃度のオゾン水を安定し
て供給できるようになるまでに時間がかかってしまって
いた。

【０００９】また実際に一枚一枚洗浄する枚葉式の基板
洗浄装置あるいはバッチ方式の基板洗浄装置等でオゾン
水を使用する場合は、必要な時にオゾン水を出して断続
的に使用することが一般的であるが、必要な時に所定濃
度のオゾン水を安定して供給することは上述のように難
しいため、所望のオゾン濃度で安定状態となった後に、
オゾン水を別途配設されたバイパス水路等から垂れ流し
にしておかなくてはならなかった。

【００１０】このため、オゾンガス及び水の使用量が必
要以上に増大し、高コストの原因となっていた。また、
環境に悪影響を及ぼすことがあるオゾン水を大量に排出
することは、環境への影響が大きいため、排出されるオ
ゾン水を分解・処理するための設備が必要であった。そ
のため、装置や施設が複雑なものとなる上に、一層コス
トを引き上げることになる。さらに、前述のようにオゾ
ン水自体が不安定であり分解しやすいため、所定濃度の
オゾン水として調整するために、オゾン水生成装置およ
び制御システムが複雑なものとなってしまっていた。

【００１１】そこで本発明は、このような問題点に鑑み
なされたもので、本発明が解決しようとする課題は、ま
ず所定濃度のオゾン水を安定、かつ瞬時に供給できるよ
うにする。そして、装置全体としてのオゾンガス、水の
使用量を減らし、環境に配慮する。さらに、オゾン水を
生成するための制御を簡便にし、オゾン水生成装置およ
び制御システムを簡便なものとすることができるオゾン
水生成装置およびオゾン水を生成する方法を提供するこ
とを目的とする。

【００１２】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
本発明の請求項１に記載した発明は、オゾン水生成装置
であって、少なくとも、オゾンガスを発生するオゾンガ
ス発生器と、前記オゾンガスを水中に溶解して飽和濃度
のオゾン水を生成するオゾンガス溶解器と、前記飽和濃
度のオゾン水と水とを所望の濃度のオゾン水になるよう
に混合するオゾン水混合器を具備していることを特徴と
するオゾン水生成装置である。

【００１３】このように本発明のオゾン水生成装置は、
少なくともオゾンガス発生器とオゾンガス溶解器とオゾ
ン水混合器を具備しており、まずオゾンガス発生器によ
りオゾンガスを発生し、このオゾンガスをオゾンガス溶
解器により水中に溶解して飽和濃度のオゾン水を生成す
る。そして、この飽和濃度のオゾン水と水とをオゾン水
混合器により混合して、所望の濃度のオゾン水を得るよ
うになっている。

【００１４】これは、飽和濃度のオゾン水を生成し、こ
の飽和濃度を安定して維持することは、飽和濃度より低
濃度のオゾン水を生成し、その濃度を維持することに比
べてはるかに容易だからである。そして、この飽和濃度
のオゾン水を使用時に水と混合して希釈することによ
り、所定濃度のオゾン水を安定、かつ瞬時に供給するこ
とができる。また、オゾン水を垂れ流しの状態にする必
要がないため、全体としてオゾンガスおよび水の使用量
を大幅に削減することができる。さらに、オゾン水生成
装置およびその制御システムを従来に比べてはるかに簡
便にすることができる。

【００１５】この場合、本発明の請求項２に記載したよ
うに、前記オゾンガス溶解器は、オゾンガスを水中にバ
ブリングさせて飽和濃度のオゾン水を生成するものとす
ることができる。このように本発明のオゾン水生成装置
は、オゾンガス溶解器がオゾンガスを水中にバブリング
させてオゾン水を生成するという従来型のものとするこ
とができるため、きわめて簡便に構成できるとともに従
来型の装置部品を利用して本発明のオゾン水生成装置を
構成することも可能である。

【００１６】また、本発明の請求項３に記載したよう
に、前記オゾンガス溶解器は、外壁に微細な孔を有する
中空糸の内側にオゾンガスを通し、前記中空糸の外側に
水を流して飽和濃度のオゾン水を生成するものとするこ
とができる。このように本発明のオゾン水生成装置は、
オゾンガス溶解器が外壁に微細孔を有する中空糸を用い
るという従来型のものとすることもできるため、簡便に
構成できるとともに、このような従来型の装置部品を利
用して、本発明のオゾン水生成装置を構成することも可
能である。

【００１７】また、本発明の請求項４に記載した発明
は、本発明の請求項１ないし請求項３のいずれか1項に
記載のオゾン水生成装置を具備していることを特徴とす
る基板洗浄装置である。このように、本発明の基板洗浄
装置は、所定の濃度のオゾン水を安定、かつ瞬時に用い
ることができるため、安定した洗浄効率を有し、また、
オゾンガスおよび水の使用量が少なく、環境への悪影響
も少ない洗浄装置となる。

【００１８】そして、本発明の請求項５に記載した発明
は、オゾン水を生成する方法において、オゾンガスを水
中に溶解して飽和濃度のオゾン水を生成し、前記飽和濃
度のオゾン水と水とを所望濃度のオゾン水となるように
混合して所望濃度のオゾン水を生成することを特徴とす
るオゾン水を生成する方法である。

【００１９】このように、本発明の方法では、まずオゾ
ンガスを水中に溶解して飽和濃度のオゾン水を生成す
る。オゾン濃度を飽和濃度に安定して制御することは、
飽和濃度より低濃度に制御することに比べてはるかに容
易である。そして、この飽和濃度のオゾン水と水とを所
望濃度のオゾン水となるように混合・希釈することによ
り、所望濃度のオゾン水を安定かつ瞬時に供給すること
が可能となる。また、この方法であれば、オゾン水を垂
れ流しにして安定状態を保つようなことは必要なく、全
体としてオゾンガス、水の使用量を大幅に削減すること
ができ、環境への悪影響を減少させることができる。

【００２０】この場合、請求項６に記載したように、オ
ゾンガスを水中にバブリングさせることにより、飽和濃
度のオゾン水を生成することができ、また請求項７に記
載したように、外壁に微細な孔を持つ中空糸の内側にオ
ゾンガスを通し、前記中空糸の外側に水を流すことによ
り、飽和濃度のオゾン水を生成することができる。この
ように、飽和濃度のオゾン水を生成することは、従来か
ら行われていた方法でも容易に行えるため、本発明のオ
ゾン水の生成方法は極めて容易に実施することができ
る。

【００２１】そして、本発明の請求項８に記載した発明
は、請求項５ないし請求項７のいずれか1項に記載の方
法でオゾン水を生成し、該オゾン水により基板を洗浄す
ることを特徴とする基板を洗浄する方法である。このよ
うに、本発明の方法でオゾン水を生成し、該オゾン水に
より基板を洗浄すれば、所定濃度のオゾン水を安定かつ
容易に得ることができ、洗浄中のオゾンガス、水の使用
量を大幅に削減することができるため、基板の洗浄を効
率良く、低コストで行うことができる。さらに、全体と
して洗浄に必要なオゾンガス、オゾン水の排出を著しく
抑制することができ、環境への悪影響をも低減すること
ができる。

【００２２】以下、本発明をさらに詳細に説明する。本
発明は、所定濃度のオゾン水を生成するにあたって、い
きなり所定濃度のオゾン水を生成するのではなく、まず
飽和濃度のオゾン水を生成してから、そのオゾン水の飽
和濃度を維持しておき、その後オゾン水を使用する際
に、その飽和濃度のオゾン水を水と混合し、所望濃度に
希釈することによって、所定濃度のオゾン水を生成する
ことを特徴とする。

【００２３】従来からオゾン水はその洗浄力、殺菌性の
高さから、半導体デバイス等の精密基板の洗浄等に用い
られていたが、所定濃度のオゾン水を安定して得ること
は極めて難しかった。これは、オゾン自体が極めて分解
し易く、その濃度を安定して維持あるいは変更すること
が難しかったからである。加えて、実際のオゾンガス溶
解器では、水の流量および温度、オゾンガスの流量、温
度および濃度等の数多くのパラメータにより、オゾン水
中に溶解するオゾンの量は容易に変化する。そのため、
所定濃度のオゾン水を得るためには、所定濃度に達した
オゾン水を垂れ流しにすることにより安定状態を保つと
いった無駄の多いことが行われてきた。

【００２４】このような従来の方法の欠点は、オゾンガ
スを水に溶解させる際に直接、所望濃度にしようとして
いた点にあった。そこで本発明の発明者は、まず飽和濃
度のオゾン水を生成しておき、このオゾン水の濃度を絶
えず飽和溶解濃度に保つことにした。これは、オゾン濃
度を飽和溶解濃度に調整し、これを保持するのは、ある
程度以上のガス濃度のオゾンガスを単に水中に拡散・溶
解させておき、その時の温度、気圧から求められる飽和
溶解濃度に達しているかどうかを監視しているだけで良
く、それより低濃度のオゾン水を濃度調整して生成・維
持することに比べてはるかに容易だからである。

【００２５】この場合、飽和溶解濃度に達するまでには
ある程度の準備時間が必要であるが、到達後は飽和濃度
を維持できるように、少量のオゾンガスを供給し続ける
だけで良い。この飽和濃度オゾン水は、溜め水の形式で
維持しても、循環させる形式で維持しても良く、いずれ
にしてもオゾン水を垂れ流しの状態にするような必要は
ない。そのため、環境への影響も最小限に抑えられる。

【００２６】そして、実際にオゾン水を使用する時に、
この飽和濃度のオゾン水をオゾン水混合器に送り込み、
水と混合・希釈することにより所望濃度のオゾン水を得
るようにすれば、所定濃度のオゾン水を安定して瞬時に
得ることができる。本発明は、以上の思想に基づき完成
に至ったものである。

【００２７】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て、添付した図面に基づき説明するが、本発明はこれら
に限定されるものではない。ここで、図１は本発明に係
るオゾン水生成装置の一例を示す概要図である。

【００２８】図１に示すように、本発明に係るオゾン水
生成装置１０は、オゾンガスを発生させ所定流量・濃度
のオゾンガスを供給するオゾンガス発生器１と、発生さ
せたオゾンガスを水中に溶解して飽和濃度のオゾン水を
生成するオゾンガス溶解器２と、飽和濃度のオゾン水と
水とを所望の濃度のオゾン水になるように混合するオゾ
ン水混合器７とから成っている。

【００２９】オゾンガス発生器１はオゾンガス溶解器２
に接続され、また純水供給源８も純水供給バルブ３を介
してオゾンガス溶解器２に接続されており、両者はそれ
ぞれオゾンガスと純水をオゾンガス溶解器２に供給する
ようにされている。また、オゾンガス溶解器２で生成さ
れた飽和濃度のオゾン水は、オゾン水圧送ポンプ６によ
りオゾン水混合器７に送られ、純水供給源１３からの純
水と混合されて所望の濃度のオゾン水になるようにされ
ている。

【００３０】ここでオゾンガス生成器１について留意す
べき点は、オゾンガス中のパーティクルレベルと金属汚
染レベルであるが、本発明においては、一般的に半導体
産業で使用されているものであれば特に制約はなく、従
来のオゾン水生成装置において使用されていたものを適
用することができる。

【００３１】オゾンガス溶解器２は、例えば高純度石英
等の耐オゾン性のある材料で作製された溶解槽からな
り、この溶解槽内に供給された純水へオゾンガスをバブ
リングさせることによりオゾンガスを飽和濃度まで溶解
させるようなものを使用することができる。このオゾン
水溶解器２には、溶解槽内のオゾン水の水位を検出する
液面検出センサー４が配設されており、純水供給バルブ
３と連動して溶解槽内の水位を制御するようにされてい
る。また、オゾン水溶解器２はオゾンガス分解触媒５に
接続されており、余剰のオゾンガスはこのオゾンガス分
解触媒５に送られ、分解処理されるようにされている。

【００３２】本発明に係るオゾン水生成装置のオゾンガ
ス溶解器２は、その溶解方法自体は従来のものと同様で
あるが、従来の装置と異なる点は、このオゾンガス溶解
器２で得られるオゾン水中のオゾン濃度を、絶えず飽和
溶解濃度とすることである。オゾンガス溶解器におい
て、直接にユースポイントで求められるオゾン濃度に調
整するためには、純水、オゾンガスの流量、温度、圧力
等のパラメータが多く、それらを制御して所望濃度のオ
ゾン水を得ることは容易なことではない。

【００３３】しかし、オゾン濃度を飽和溶解濃度に調整
する場合においては、ある程度以上のガス濃度のオゾン
ガスを単に純水中にバブリングさせておき、その時の温
度、気圧から求められる飽和溶解濃度に達したかどうか
を絶えず監視しているだけでよく、その制御は極めて簡
便なもので良い。この場合、飽和溶解濃度に達するまで
は、ある程度の準備時間が必要となるが、飽和濃度に到
達した後は単に少量のオゾンガスのバブリングを継続さ
せておけば良い。余剰のオゾンガスは、オゾンガス分解
触媒５に送られ分解されるが、オゾン水が飽和濃度に達
した後はオゾンガスの流量を減らすことができるため、
オゾンガスの使用量と外部環境への排出量は最小限に抑
えることができる。

【００３４】なお、オゾンガス溶解器２としては、必ず
しもこのようなオゾンガスを水中にバブリングさせ、飽
和濃度のオゾン水を溜め水の形で維持する形式のものに
限られるものではなく、例えば、フッ素樹脂等から成る
外壁に微細な孔を有する中空糸の内側にオゾンガスを通
し、外側に水を流して、水中にオゾンガスを拡散溶解さ
せて飽和濃度のオゾン水を生成し、飽和濃度のオゾン水
を循環させる形で維持する形式のものであっても良い。
また、飽和濃度のオゾン水を得ることができる方式であ
れば、他の方式を適用することもでき、特に限定される
ものではない。

【００３５】オゾン水混合器７は、オゾンガス溶解器２
で生成された飽和濃度オゾン水を、純水供給源１３から
一定流量で供給される純水に、所定の濃度になるような
流量で直接注入することにより容易に所望の濃度のオゾ
ン水を得ることができるようになっている。

【００３６】以上のようなオゾン水生成装置を使用した
オゾン水の生成方法について以下に説明する。まず、純
水供給源８からオゾンガス溶解器２に純水が供給され、
液面検出センサー４と連動した純水供給バルブ３の働き
により、オゾンガス溶解器２内は所定水位の純水で満た
される。次に、所定濃度及び流量のオゾンガスが、オゾ
ンガス発生器１からオゾンガス溶解器２に供給され、オ
ゾンガス溶解器２の純水中にバブリングされることによ
り、オゾンガスが純水中に溶解する。

【００３７】オゾンガス溶解器２内のオゾン水が飽和濃
度に到達すると、オゾンガス発生器１からのオゾンガス
の濃度あるいは流量は、オゾン水の飽和濃度を維持でき
る程度に減らされる。余剰のオゾンガスは、オゾンガス
分解触媒５に送られ分解処理される。

【００３８】そして、オゾン水がユースポイントで使用
される際には、オゾンガス溶解器２内に維持されている
飽和濃度オゾン水は、オゾン水圧送ポンプ６によりオゾ
ン水混合器７に送られる。この場合、飽和濃度オゾン水
供給に伴うオゾンガス溶解器２内の水位の低下は液面検
出センサー４により検出され、この液面検出センサー４
の検出値に基づき純水供給バルブ３を開閉することによ
り、オゾンガス溶解器２内の飽和オゾン水は所定水位に
維持される。

【００３９】オゾン水混合器７に供給された飽和濃度オ
ゾン水は、純水供給源１３からの純水と、所定オゾン濃
度のオゾン水となるように注入量を調整されて混合され
る。そして、この所定濃度のオゾン水はユースポイント
に送られて使用される。オゾン水のオゾン濃度を変更し
たい場合は、飽和濃度オゾン水の注入量あるいは供給さ
れる純水の量を増減するだけで、瞬時に所望濃度のオゾ
ン水を得ることができる。

【００４０】本発明のオゾン水生成装置は、オゾン水を
垂れ流しにしておく必要はないため、使用される水の量
も最小限に減らすことができ、その排出量も極めて少な
い。また、この装置の構造は極めて簡単な構造となって
おり、その構成部分の大部分を従来の装置部品でまかな
うことができるため、その製造も容易なものとなってい
る。

【００４１】尚、本発明は、上記実施形態および実施例
に限定されるものではない。上記実施形態等は、例示で
あり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術思想と
実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するも
のは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包
含される。

【００４２】例えば、上記実施形態では、オゾンガスを
水に溶解する方法について、オゾンガスを水中にバブリ
ングさせる方法と、外壁に微細孔を有する中空糸を用い
る方法の２つの方法について主に説明したが、本発明は
これに限定されるものではなく、他の方法でオゾンガス
を溶解するものであっても、一度飽和濃度のオゾン水を
生成し、これを水と混合・希釈して所望濃度のオゾン水
を得るものであれば、本発明の範囲に包含される。

【００４３】また、本発明のオゾン水生成装置は、洗浄
以外の目的への使用も適用可能であることは言うまでも
ないし、また洗浄に用いる場合にあっても、基板の洗浄
以外にも用いることができる。さらに、洗浄される基板
も半導体ウエーハ、ガラス基板に限られるものではな
く、その他磁性材料等、種々の精密基板の洗浄に適用す
ることができる。

【００４４】

【発明の効果】以上説明したように、本発明のオゾン水
生成装置およびオゾン水を生成する方法は、所定濃度の
オゾン水を安定かつ瞬時に供給することができ、オゾン
ガス等の環境に悪影響を与えることがある物質の排出量
は少なく、装置全体としてのオゾンガス及び水の使用量
は最小限に抑えることができる。さらに、オゾン水を生
成するための制御は簡便なもので済み、オゾン水生成装
置の構成は、従来装置の機器から構成できるものであっ
て、簡易なものである。そのため、基板洗浄及びその他
の分野における利用性はすこぶる高い。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係るオゾン水生成装置の一例を示す概
要図である。

【図２】従来のオゾンガスを水中にバブリングさせて溶
解させる方式のオゾン水生成装置を示す概要図である。

【図３】従来の外壁に微細な孔を有する中空糸の内側に
オゾンガスを通し、中空糸の外側に水を通して、オゾン
ガスを溶解させる方式のオゾン水生成装置を示す概要図
である。

【符号の説明】

１…オゾンガス発生器、２…オゾンガス溶解器、３…純
水供給バルブ、４…液面検出センサー、５…オゾンガス
分解触媒、６…オゾン水圧送ポンプ、７…オゾン水混合
器、８…純水供給源、９…中空糸、１０、１１、 １２
…オゾン水生成装置、１３…純水供給源。

フロントページの続き (56)参考文献 特開 平10−230285（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−310726（ＪＰ，Ａ) 特開 平９−213666（ＪＰ，Ａ) 特許2700777（ＪＰ，Ｂ２) 特公 昭60−20058（ＪＰ，Ｂ２) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) B01F 1/00 - 3/22

Claims (8)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 オゾン水生成装置であって、少なくと
   も、オゾンガスを発生するオゾンガス発生器と、前記オ
   ゾンガスを水中に溶解して飽和濃度のオゾン水を生成す
   るオゾンガス溶解器と、前記飽和濃度のオゾン水と水と
   を所望の濃度のオゾン水になるように混合するオゾン水
   混合器を具備していることを特徴とするオゾン水生成装
   置。
2. 【請求項２】 前記オゾンガス溶解器は、オゾンガスを
   水中にバブリングさせて飽和濃度のオゾン水を生成する
   ものであることを特徴とする請求項１に記載のオゾン水
   生成装置。
3. 【請求項３】 前記オゾンガス溶解器は、外壁に微細な
   孔を有する中空糸の内側にオゾンガスを通し、前記中空
   糸の外側に水を流して飽和濃度のオゾン水を生成するも
   のであることを特徴とする請求項１に記載のオゾン水生
   成装置。
4. 【請求項４】 請求項１ないし請求項３のいずれか1項
   に記載のオゾン水生成装置を具備していることを特徴と
   する基板洗浄装置。
5. 【請求項５】 オゾン水を生成する方法において、オゾ
   ンガスを水中に溶解して飽和濃度のオゾン水を生成し、
   前記飽和濃度のオゾン水と水とを所望濃度のオゾン水と
   なるように混合して所望濃度のオゾン水を生成すること
   を特徴とするオゾン水を生成する方法。
6. 【請求項６】 請求項５に記載のオゾン水を生成する方
   法において、オゾンガスを水中にバブリングさせること
   により、飽和濃度のオゾン水を生成することを特徴とす
   るオゾン水を生成する方法。
7. 【請求項７】 請求項５に記載のオゾン水を生成する方
   法において、外壁に微細な孔を持つ中空糸の内側にオゾ
   ンガスを通し、前記中空糸の外側に水を流すことによ
   り、飽和濃度のオゾン水を生成することを特徴とするオ
   ゾン水を生成する方法。
8. 【請求項８】 請求項５ないし請求項７のいずれか1項
   に記載の方法でオゾン水を生成し、該オゾン水により基
   板を洗浄することを特徴とする基板を洗浄する方法。