TWI797206B - 氣體溶解液製造裝置及氣體溶解液的製造方法 - Google Patents

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Abstract

氣體溶解液製造裝置1係具備：氣體供給部2、第一液體供給部3、氣體溶解液產生部4、第二液體產生部20、第二液體供給部21、流量量測部14、以及控制部23。控制部23係因應流量量測部14所量測之經循環的氣體溶解液的流量，來控制供給至氣體溶解液產生部4之第一液體的供給量。氣體溶解液產生部4係使由氣體供給部2所供給的氣體溶解至由第一液體供給部3所供給的第一液體、及由第二液體供給部21所供給的第二液體，以產生氣體溶解液。

Description

氣體溶解液製造裝置及氣體溶解液的製造方法
本發明係關於一種再利用經循環的氣體溶解液來製造氣體溶解液的氣體溶解液製造裝置。
近年來，半導體裝置及/或液晶等電子零件的製造工廠中的洗淨方法係隨著製造程序的複雜化及/或電路圖案的細微化而越來越先精細。一般而言，矽晶圓的洗淨中，採用於稱為機能水之液體(例如超純水)溶解高純度的氣體而成之特殊的洗淨液(氣體溶解水)，來去除附著於矽晶圓的微粒子、金屬汙染、有機汙染等。
用於洗淨的溶解液係利用氣體溶解水製造裝置來製造，且供給至洗淨裝置(使用點)。通常，經使用於洗淨的氣體溶解水會從洗淨裝置排出，但期望將此排出的氣體溶解水回收再利用。因此，提案有一種將從洗淨裝置所排出之氣體溶解水所含有的溶存氣體回收再利用的裝置(例如，參照專利文獻1)。
[現有技術文獻] [專利文獻]
專利文獻1：日本特開2007-275744號公報。
然而，習知的裝置中未詳加考慮在使用點氣體溶解水之使用量的變化。例如，習知的裝置中，即使在使用點之氣體溶解水的使用量減少，也未改變從氣體溶解水製造裝置供給之氣體溶解水的供給量。以往，過剩量的氣體溶解水會從排水口等被廢棄。
本發明係有鑑於上述之課題所研創者，目的在於提供一種可將經循環的氣體溶解液再利用，可消除將過剩量的氣體溶解水廢棄之情形的氣體溶解液製造裝置。
本發明的氣體溶解液製造裝置係具備：氣體供給部，係供給作為氣體溶解液之原料的氣體；第一液體供給部，係供給作為前述氣體溶解液之原料的第一液體；氣體溶解液產生部，係使由前述氣體供給部所供給的氣體溶解於由前述第一液體供給部所供給的第一液體，以產生氣體溶解液；第二液體產生部，係被供給經循環之由前述氣體溶解液產生部所產生的氣體溶解液，且由經循環之前述氣體溶解液產生作為前述氣體溶解液之原料的第二液體；第二液體供給部，係對前述氣體溶解液產生部供給前述第二液體產生部所產生的前述第二液體；流量量測部，係量測供給至前述第二液體產生部之前述經循環的氣體溶解液的流量；以及控制部，係控制前述第一液體供給部與前述第二液體供給部；前述控制部係因應前述流量量測部所量測之前述經循環的氣體溶解液的流量，來控制供給至前述氣體溶解液產生部之前述第一液體的供給量；前述氣體溶解液產生部係使由 前述氣體供給部所供給的氣體溶解至由前述第一液體供給部所供給的前述第一液體、及由前述第二液體供給部所供給的前述第二液體，以產生前述氣體溶解液。
根據此構成，使氣體溶解液產生部所產生之氣體溶解液循環，並供給至第二液體產生部，而從經循環的氣體溶解液產生作為氣體溶解液之原料的第二液體。由第二液體產生部所產生的第二液體係由第二液體供給部供給至氣體溶解液產生部，再利用於氣體溶解液的產生。此時，利用流量量測部量測經循環的氣體溶解液的流量，且因應所量測之氣體溶解液的流量，控制供給至氣體溶解液產生部之第一液體的供給量(流量)。亦即，考慮經循環的氣體溶解液的流量，來控制對於氣體溶解液產生部之第一液體的供給量。因此，例如，在使用點之氣體溶解液的使用量減少時，可減少對於氣體溶解液產生部之第一液體的供給量。藉此，可防止過度地製造氣體溶解液，消除將過剩量的氣體溶解液廢棄的情形，而且，可消除氣體溶解液的原料(第一液體)的浪費。
再者，本發明的氣體溶解液製造裝置亦可具備：氣體溶解液貯藏部，係貯藏經循環的前述氣體溶解液；以及液面量測部，係量測貯藏於前述氣體溶解液貯藏部之前述氣體溶解液的液面高度；前述控制部係根據前述液面量測部所量測之前述氣體溶解液的液面高度，控制前述第二液體供給部動作與否。
根據此構成，能夠因應液面量測部所量測之氣體溶解液的液面高度，來使第二液體供給部適當地動作。例如，若液面量測部所量測之氣體溶解液的液面高度為預定之基準高度以上，則第二液體充分地供給至 第二液體供給部，即使第二液體供給部動作也沒有問題。另一方面，當液面量測部所量測之氣體溶解液的液面高度未成為預定之基準高度時，即第二液體未充分地供給至第二液體供給部，而不適於使第二液體供給部動作。
再者，本發明的氣體溶解液製造裝置中，前述第二液體產生部亦可對前述經循環的氣體溶解液施予熱分解處理或光分解處理，以從前述氣體溶解液產生前述第二液體。
根據此構成，對經循環的氣體溶解液施予熱分解處理或光分解處理，藉此可容易地自氣體溶解液產生第二液體。
再者，本發明的氣體溶解液製造裝置中，前述第二液體產生部亦可對前述經循環的氣體溶解液施予脫氣處理，以從前述氣體溶解液產生前述第二液體。
根據此構成，對經循環的氣體溶解液施予脫氣處理，藉此可容易地自氣體溶解液產生第二液體。
再者，本發明的氣體溶解液製造裝置中，由前述氣體溶解液產生部所產生且已供給至裝置外部的前述氣體溶解液可循環於裝置外部再供給至前述第二液體產生部。
根據此構成，氣體溶解液產生部所產生的氣體溶解液係供給至裝置外部，且循環於裝置外部再供給至第二液體產生部。藉此，可由經循環於裝置外部之氣體溶解液產生作為氣體溶解液之原料的第二液體，能夠再利用於氣體溶解液的產生。
再者，本發明的氣體溶解液製造裝置中，由前述氣體溶解液產生部所產生且未供給至裝置外部的前述氣體溶解液可循環於裝置內部再 供給至前述第二液體產生部。
根據此構成，氣體溶解液產生部所產生的氣體溶解液不供給至裝置外部，在裝置內部循環而供給至第二液體產生部。藉此，可由經循環於裝置內部之氣體溶解液產生作為氣體溶解液之原料的第二液體，能夠再利用於氣體溶解液的產生。
本發明的氣體溶解液製造方法係由氣體溶解液製造裝置所執行之氣體溶解液的製造方法，其中，前述氣體溶解液製造裝置係具備：氣體供給部，係供給作為氣體溶解液之原料的氣體；第一液體供給部，係供給作為前述氣體溶解液之原料的第一液體；氣體溶解液產生部，係使由前述氣體供給部所供給的氣體溶解於由前述第一液體供給部所供給的第一液體，以產生氣體溶解液；第二液體產生部，係被供給經循環之由前述氣體溶解液產生部所產生的氣體溶解液，且由經循環之前述氣體溶解液產生作為前述氣體溶解液之原料的第二液體；第二液體供給部，係對前述氣體溶解液產生部供給前述第二液體產生部所產生的前述第二液體；流量量測部，係量測供給至前述第二液體產生部之前述經循環的氣體溶解液的流量；以及控制部，係控制前述第一液體供給部與前述第二液體供給部；前述製造方法係含有下列步驟：前述控制部因應前述流量量測部所量測之前述經循環的氣體溶解液的流量，來控制供給至前述氣體溶解液產生部之前述第一液體的供給量之步驟；以及前述氣體溶解液產生部使由前述氣體供給部所供給的氣體溶解至由前述第一液體供給部所供給的前述第一液體、及由前述第二液體供給部所供給的前述第二液體，以產生前述氣體溶解液之步驟。
根據此製造方法，也與上述的裝置同樣地，使氣體溶解液產生部所產生之氣體溶解液循環，並供給至第二液體產生部，而從經循環的氣體溶解液產生作為氣體溶解液之原料的第二液體。由第二液體產生部所產生的第二液體係由第二液體供給部供給至氣體溶解液產生部，再利用於氣體溶解液的產生。此時，利用流量量測部量測經循環的氣體溶解液的流量，且因應所量測之氣體溶解液的流量，控制供給至氣體溶解液產生部之第一液體的供給量(流量)。亦即，考慮經循環的氣體溶解液的流量，來控制對於氣體溶解液產生部之第一液體的供給量。因此，例如，在使用點之氣體溶解液的使用量減少時，可減少對於氣體溶解液產生部之第一液體的供給量。藉此，可防止過度地製造氣體溶解液，消除將過剩量的氣體溶解液廢棄的情形，而且，可消除氣體溶解液的原料(第一液體)的浪費。
根據本發明，可將經循環的氣體溶解液再利用，且可消除將過剩量的氣體溶解液廢棄的情形。
1‧‧‧臭氧水製造裝置(氣體溶解液製造裝置)
2‧‧‧氣體供給部
3‧‧‧第一泵部(第一液體供給部)
4‧‧‧臭氧水產生部(氣體溶解液產生部)
5‧‧‧氣液分離槽部
6‧‧‧第一流量計
7‧‧‧第二流量計
8‧‧‧臭氧水使用裝置
9‧‧‧使用點
10‧‧‧濃度計
11‧‧‧第三流量計
12‧‧‧閥部群
13‧‧‧循環臭氧水槽部(氣體溶解貯藏部)
14‧‧‧第四流量計(流量量測部)
15‧‧‧液面感測器(液面量測部)
16‧‧‧供給管線
17‧‧‧第一閥部
18‧‧‧循環管線
19‧‧‧第二閥部
20‧‧‧臭氧水分解器(第二液體產生部)
21‧‧‧第二泵部(第二液體供給部)
22‧‧‧第五流量計
23‧‧‧控制部
24‧‧‧脫臭氧器(第二液體產生部)
第1圖係本發明實施形態之氣體溶解液製造裝置的說明圖。
第2圖係本發明實施形態之氣體溶解液製造裝置(裝置的啟動時)的說明圖。
第3圖係本發明實施形態之氣體溶解液製造裝置(在使用點之使用開始時)的說明圖。
第4圖係本發明實施形態之氣體溶解液製造裝置(在使用點之使用量變化時)的說明圖。
第5圖係本發明實施形態之氣體溶解液製造裝置(在使用點之維護時)的說明圖。
第6圖係另一實施形態之氣體溶解液製造裝置的說明圖。
以下，使用圖式說明本發明之實施形態的氣體溶解液製造裝置。本實施形態中係例示在半導體裝置及/或液晶等電子零件的製造工廠等所使用的氣體溶解液製造裝置的情形。另外，本實施形態中係說明使臭氧溶解於純水來製造臭氧水之臭氧水製造裝置的情形。
參照圖式說明本發明之實施形態的氣體溶解液製造裝置(臭氧水製造裝置)之構成。第1圖係本實施形態之臭氧水製造裝置的說明圖。如第1圖所示，臭氧水製造裝置1係具備：氣體供給部2、第一泵部3、臭氧水產生部4、及氣液分離槽部5。該氣體供給部2係供給作為臭氧水的原料的臭氧(氣體)，該第一泵部3係供給作為臭氧水的原料的純水(第一液體)，該臭氧水產生部4係使由氣體供給部2所供給的臭氧溶解至由第一泵部3所供給的純水而產生臭氧水，該氣液分離槽部5係儲存臭氧水產生部4所產生的臭氧水。此外，在第一泵部3的上游側係設有第一流量計6，且在臭氧水產生部4的上游側(第一泵部3與臭氧水產生部4之間)係設有第二流量計7。該第一流量計6係量測供給至第一泵部3之純水的流量，該第二流量計7係量測供給至臭氧水產生部4之純水的流量。
儲存於氣液分離槽部5的臭氧水係提供至臭氧水使用裝置8的使用點9(洗淨單元等)。在氣液分離槽部5的下游側係設有濃度計10、及第三流量計11。該濃度計10係量測供給至臭氧水使用裝置8之臭氧水的濃度，該第三流量計11係量測供給至臭氧水使用裝置8之臭氧水的流量。在臭氧水使用裝置8係設有閥部群12。該閥部群12係因應在使用點9之臭氧水的使用量來開閉。
臭氧水製造裝置1所製造的臭氧水係循環至裝置外部的臭氧水使用裝置8再返回至臭氧水製造裝置1。臭氧水製造裝置1係具備循環臭氧水槽部13。該循環臭氧水槽部13係儲存經循環至裝置外部之臭氧水使用裝置8的臭氧水。在循環臭氧水槽部13係設有第四流量計14。該第四流量計14係量測循環至裝置外部之臭氧水使用裝置8再返回至臭氧水製造裝置1之臭氧水的流量。而且，在循環臭氧水槽部13係設有液面感測器15。該液面感測器15係量測儲存於循環臭氧水槽部13之臭氧水的液面高度。
此外，臭氧水製造裝置1係構成為可使臭氧水循環在裝置內部。此情況下，臭氧水製造裝置1係具備第一閥部17、及第二閥部19。該第一閥部17係設置於供給管線16，該第二閥部19係設置於循環管線18。該供給管線16係用以對裝置外部之臭氧水使用裝置8供給儲存於氣液分離槽部5之臭氧水的管線，該循環管線18係用以使儲存於氣液分離槽部5之臭氧水在裝置內部循環的管線。並且，在將第一閥部17設為開狀態，將第二閥部19設為閉狀態時，可將臭氧水製造裝置1所製造的臭氧水供給至裝置外部的臭氧水使用裝置8。另一方面，在將第一閥部17設為閉狀態，將第二閥部19設 為開狀態時，可使臭氧水製造裝置1所製造的臭氧水在裝置內部循環。循環臭氧水槽部13亦可儲存經循環於裝置內部的臭氧水。
臭氧水製造裝置1係具備臭氧水分解器20。儲存於循環臭氧水槽部13的臭氧水係供給至該臭氧水分解器20。臭氧水分解器20係對於供給自循環臭氧水槽部13的臭氧水施予熱分解處理或光分解處理，以將臭氧水之中所含有的臭氧分解成氧氣，由臭氧水產生含氧水(第二液體)。就該熱分解處理或光分解處理的方法而言，可使用眾所周知的方法。另外，含氧水若主要含氧即可，亦可含有氧以外的其他氣體(例如，無法以檢測器檢測出濃度的臭氧等)及/或金屬的成分等。以下，將所含主成分為氧之水稱為含氧水。不言而喻，含氧水亦可為純含氧水。
臭氧水製造裝置1係具備第二泵部21、及第五流量計22。該第二泵部21係對臭氧水產生部4供給臭氧水分解器20所產生的含氧水，該第五流量計22係量測供給至第二泵部21之含氧水的流量。並且，臭氧水產生部4亦可使由氣體供給部2所供給的臭氧溶解至由第一泵部3所供給的純水與由第二泵部21所供給的含氧水，以產生臭氧水。此情況下，即使以純水混合含氧水的液體作為原料來產生臭氧水，亦不會對臭氧相對於液體之溶解度有太大的影響。而且，在使用點9中，亦不會因受臭氧水所含的氧濃度造成太大的影響。
並且，此臭氧水製造裝置1係具備控制部23。該控制部23係控制第一泵部3與第二泵部21。控制部23係具有下述功能：因應第四流量計14所量測之臭氧水(經循環至裝置外部的臭氧水)的流量，來控制由第一泵部3供給至臭氧水產生部4之純水的供給量(流量)。而且，控制部23係具有 下述功能：根據液面感測器15所量測之循環臭氧水槽部13的臭氧水的液面高度，控制第二泵部21之動作與否。
以下，就臭氧水製造裝置1之動作，參照圖式說明其動作。對此，以下述順序進行說明：臭氧水製造裝置1之啟動、在使用點9之臭氧水的使用開始(在使用點9之臭氧水的使用量20L/分)、在使用點9之臭氧水的使用量的變化(從20L/分變化成10L/分)、在使用點9之維護時。
(裝置的啟動)
第2圖係臭氧水製造裝置1之啟動時的說明圖。如第2圖所示，在臭氧水製造裝置1啟動時，使氣體供給部2動作以對臭氧水產生部4供給臭氧，並且使第一泵部3動作以對臭氧水產生部4供給純水。此時，控制部23係將第一泵部3控制成以大於預定之使用點9之臭氧水的使用量20L/分的流量25L/分對臭氧水產生部4供給純水。
在臭氧水產生部4中，使由氣體供給部2所供給的臭氧溶解至由第一泵部3所供給的純水以產生臭氧水。所產生的臭氧水係供給至氣液分離槽部5，進行氣液分離。
在臭氧水製造裝置1啟動時，將第一閥部17設為開狀態，將第二閥部19設為閉狀態。因此，儲存於氣液分離槽部5的臭氧水會供給至裝置外部的臭氧水使用裝置8。惟，至所製造之臭氧水的臭氧濃度達到穩定為止，需要某程度的時間，所以在裝置的啟動時，臭氧水的臭氧濃度尚未穩定。因此，在臭氧水製造裝置1的啟動時，將臭氧水使用裝置8的閥部群12全部設為閉狀態而不對使用點9供給臭氧水。
此情況下，供給至臭氧水使用裝置8的臭氧水，不會供給至使用點9，而是循環於臭氧水使用裝置8再返回至臭氧水製造裝置1。此時，返回至臭氧水製造裝置1之臭氧水的流量為25L/分。返回至臭氧水製造裝置1的臭氧水係儲存至循環臭氧水槽部13。儲存於循環臭氧水槽部13的臭氧水係供給至臭氧水分解器20，由臭氧水產生含氧水。
裝置啟動後經過一定時間，液面感測器15檢知到循環臭氧水槽部13之臭氧水的液面高度達到預定之基準高度以上時，控制部23係使第二泵部21動作開始，使臭氧水分解器20產生的含氧水從第二泵部21供給至臭氧水產生部4。另外，液面感測器15並不一定為必需者。若具有可檢測到循環臭氧水槽部13起至第二泵部21為止的下游側的管線中充滿液體的狀態之感測器，則不需要循環臭氧水槽部13的液面感測器15。
於是，隨著時間經過，緩緩地使由第二泵部21所供給之含氧水的供給量增加，並且使由第一泵部3所供給之純水的供給量減少。最後，使由第二泵部21所供給之含氧水的供給量增加至25L/分，且使由第一泵部3所供給之純水的供給量減少至0L/分，使第一泵部3停止。在臭氧水產生部4中，以由第二泵部21所供給的含氧水及/或由第一泵部3所供給的純水作為原料來產生臭氧水。並且，以濃度計10量測所產生之臭氧水的臭氧濃度，若臭氧水的臭氧濃度穩定，就完成裝置的啟動。
(在使用點的使用開始)
第3圖係在使用點9之臭氧水的使用開始的說明圖。如第3圖所示，在使用點9之臭氧水的使用開始時，將臭氧水使用裝置8的閥部群12設為開狀 態。例如，將閥部群12中之所有的閥部設為開狀態。此時，在使用點9之臭氧水的使用量為20L/分。
將臭氧水使用裝置8的閥部群12設為開狀態時，循環至臭氧水使用裝置8再返回至臭氧水製造裝置1的臭氧水的流量減少。例如，將臭氧水使用裝置8之閥部群12所有的閥部設為開狀態，並在使用點9以20L/分使用臭氧水的情形下，返回至臭氧水製造裝置1之臭氧水的流量會(從25L/分)減少至5L/分。
控制部23係在以第四流量計14檢知到返回至臭氧水製造裝置1之臭氧水的流量減少至5L/分(減少了在使用點9使用掉的20L/分)時，使第一泵部3動作，將減少的份量(20L/分)的純水供給至臭氧水產生部4。如此，臭氧水製造裝置1就可穩定製造預定之使用量之20L/分的臭氧水且供給至使用點9。
(在使用點之使用量變化)
第4圖係在使用點9之臭氧水的使用量變化時的說明圖。如第4圖所示，在使用點9之臭氧水的使用量減少時，將臭氧水使用裝置8之閥部群12的一部分設為閉狀態。例如，將閥部群12之半數的閥部設為閉狀態。此時，在使用點9之臭氧水的使用量為10L/分。
將臭氧水使用裝置8之閥部群12的一部分設為閉狀態時，會增加循環至臭氧水使用裝置8再返回至臭氧水製造裝置1之臭氧水的流量。例如，將臭氧水使用裝置8之閥部群12的半數的閥部設為閉狀態，使得在使用點9使用的臭氧水變化成10/L時，返回至臭氧水製造裝置1之臭氧水的流量會(從5L/分)增加成15L/分。
控制部23係在以第四流量計14檢知到返回至臭氧水製造裝置1之臭氧水的流量增加成15L/分(增加了要在使用點9使用掉之10L/分)時，控制第一泵部3，使供給至臭氧水產生部4之純水的供給量(從20L/分)減少至10L/分。如此，臭氧水製造裝置1係可因應在使用點9之臭氧水的使用量變化來製造臭氧水且供給至使用點9。
(在使用點之維護時)
第5圖係臭氧水使用裝置8之維護時的說明圖。如第5圖所示，在臭氧水使用裝置8的維護時，將第一閥部17設為閉狀態，將第二閥部19設為開狀態，以不對臭氧水使用裝置8供給臭氧水。
此時，臭氧水製造裝置1所製造的臭氧水不會供給至臭氧水使用裝置8，而在臭氧水製造裝置1之裝置內部循環並儲存至循環臭氧水槽部13。儲存於循環臭氧水槽部13的臭氧水係供給至臭氧水分解器20，由臭氧水產生含氧水。臭氧水分解器20所產生的含氧水係從第二泵部21供給至臭氧水產生部4。在臭氧水產生部4中，以由第二泵部21所供給的含氧水及/或由第一泵部3所供給的純水作為原料來產生臭氧水。
另外，藉由進行與臭氧水使用裝置8之維護時同樣的動作，亦能夠進行臭氧水製造裝置1的啟動。此時，無關於臭氧水使用裝置8，而僅以臭氧水製造裝置1(單獨)進行裝置的啟動。此外，由於在臭氧水使用裝置8的維護時亦可在臭氧水製造裝置1的裝置內部使臭氧水循環，所以能夠以臭氧水製造裝置1持續製造臭氧水。藉此，可縮短維護完成後之啟動時間。
根據如上述之本實施形態的臭氧水製造裝置1，使臭氧水產生部4所產生之臭氧水循環，供給至臭氧水分解器20，並由經循環之臭氧水 產生作為臭氧水之原料的含氧水(第二液體)。臭氧水分解器20所產生的含氧水係從第二泵部21供給至臭氧水產生部4，再利用於臭氧水的產生。
此時，利用第四流量計量測經循環之臭氧水的流量，且因應所量測之臭氧水的流量，控制供給至臭氧水產生部4之純水(第一液體)的供給量(流量)。亦即，考慮經循環之臭氧水的流量，來控制對於臭氧水產生部4之純水的供給量。因此，例如當使用點9之臭氧水的使用量減少時，可減少對於臭氧水產生部4之純水的供給量。藉此，防止過度地製造臭氧水，可消除將過剩量之臭氧水廢棄，而不會浪費臭氧水的原料(純水)。
而且，在本實施形態中，可因應液面感測器15所量測之循環臭氧水槽部13之臭氧水的液面高度，來使第二泵部21適當地動作。例如，若液面感測器15所量測之臭氧水的液面高度為預定之基準高度以上，則含氧水可充分地供給至第二泵部21，即使第二泵部21動作也沒有問題。另一方面，當液面感測器15所量測之臭氧水的液面高度未成為預定之基準高度時，即含氧水未充分地供給至第二泵部21，而不適於使第二泵部21動作。
而且，在本實施形態中，使用臭氧水分解器20，來對經循環之臭氧水施予熱分解處理或光分解處理，藉此可容易地自臭氧水產生含氧水。
而且，在本實施形態中，臭氧水產生部4所產生的臭氧水係供給至裝置外部，且循環至裝置外部再供給至臭氧水分解器20。藉此，可由經循環至裝置外部之臭氧水產生作為臭氧水之原料的含氧水，而能夠再利用於臭氧水的產生。
而且，在本實施形態中，臭氧水產生部4所產生的臭氧水可不供給至裝置外部，而在裝置內部循環再供給至臭氧水分解器20。藉此，可由經循環於裝置內部之臭氧水產生作為臭氧水之原料的含氧水，而能夠再利用於臭氧水的產生。
以上，藉由例示說明了本發明的實施形態，惟本發明的範圍不限於該等實施形態，且在申請專利範圍所記載的範圍內可因應目的而變更、變形。
例如，在以上的說明中，係針對採用對經循環的臭氧水施予熱分解處理或光分解處理，而從臭氧水產生含氧水之臭氧水分解器20為例進行說明，惟本發明的範圍不限於此。例如，如第6圖所示，亦可採用對經循環的臭氧水施予脫氣處理而從臭氧水產生純水(第二液體)的脫臭氧器24。此情況下，使用脫臭氧器24對經循環的臭氧水施予脫器處理，藉此可容易地從臭氧水產生純水。另外，藉由脫臭氧器24從臭氧水所產生的純水亦可含有其他氣體(氧氣、氮氣等)及/或金屬的成分。而且，若為極低濃度(例如，檢測器無法檢出的濃度)亦可含有臭氧。
在以上的說明中，係以使臭氧溶解於純水來製造臭氧水的裝置加以說明，惟本發明的範圍不限於此。例如，亦可同樣地實施在使二氧化碳溶解於純水來製造碳酸水的裝置、使氫溶解於純水來製造含氫水的裝置等使其他氣體溶解於其他液體來製造氣體溶解液的裝置。
[產業可利用性]
如上所述，本發明的氣體溶解液製造裝置具有：可將經循環的氣體溶解液再利用，可消除將過剩量的氣體溶解液廢棄之情形的效果，使用在半導體裝置、液晶等電子零件的製造工廠等，致為有用。
1‧‧‧臭氧水製造裝置(氣體溶解液製造裝置)
2‧‧‧氣體供給部
3‧‧‧第一泵部(第一液體供給部)
4‧‧‧臭氧水產生部(氣體溶解液產生部)
5‧‧‧氣液分離槽部
6‧‧‧第一流量計
7‧‧‧第二流量計
8‧‧‧臭氧水使用裝置
9‧‧‧使用點
10‧‧‧濃度計
11‧‧‧第三流量計
12‧‧‧閥部群
13‧‧‧循環臭氧水槽部(氣體溶解貯藏部)
14‧‧‧第四流量計(流量量測部)
15‧‧‧液面感測器(液面量測部)
16‧‧‧供給管線
17‧‧‧第一閥部
18‧‧‧循環管線
19‧‧‧第二閥部
20‧‧‧臭氧水分解器(第二液體產生部)
21‧‧‧第二泵部(第二液體供給部)
22‧‧‧第五流量計
23‧‧‧控制部

Claims (6)

  1. 一種氣體溶解液製造裝置，係具備：氣體供給部，係供給作為氣體溶解液之原料的氣體；第一液體供給部，係供給作為前述氣體溶解液之原料的第一液體；氣體溶解液產生部，係使由前述氣體供給部所供給的氣體溶解於由前述第一液體供給部所供給的第一液體，以產生氣體溶解液；第二液體產生部，係被供給經循環之由前述氣體溶解液產生部所產生的氣體溶解液，且由經循環之前述氣體溶解液產生作為前述氣體溶解液之原料的第二液體；第二液體供給部，係對前述氣體溶解液產生部供給前述第二液體產生部所產生的前述第二液體；流量量測部，係量測供給至前述第二液體產生部之前述經循環的氣體溶解液的流量；控制部，係控制前述第一液體供給部與前述第二液體供給部；氣體溶解液貯藏部，係貯藏經循環的前述氣體溶解液；以及液面量測部，係量測貯藏於前述氣體溶解液貯藏部之前述氣體溶解液的液面高度；前述控制部係因應前述流量量測部所量測之前述經循環的氣體溶解液的流量，來控制供給至前述氣體溶解液產生部之前述第一液體的供給量；前述氣體溶解液產生部係使由前述氣體供給部所供給的氣體溶解至由前述第一液體供給部所供給的前述第一液體、及由前述第二液體供給部所供給的前述第二液體，以產生前述氣體溶解液； 前述控制部係根據前述液面量測部所量測之前述氣體溶解液的液面高度，控制前述第二液體供給部動作與否。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之氣體溶解液製造裝置，其中，前述第二液體產生部係對前述經循環的氣體溶解液施予熱分解處理或光分解處理，以從前述氣體溶解液產生前述第二液體。
  3. 如申請專利範圍第1項所述之氣體溶解液製造裝置，其中，前述第二液體產生部係對前述經循環的氣體溶解液施予脫氣處理，以從前述氣體溶解液產生前述第二液體。
  4. 如申請專利範圍第1項所述之氣體溶解液製造裝置，其中，由前述氣體溶解液產生部所產生且已供給至裝置外部的前述氣體溶解液係循環於裝置外部再供給至前述第二液體產生部。
  5. 如申請專利範圍第1項所述之氣體溶解液製造裝置，其中，由前述氣體溶解液產生部所產生且未供給至裝置外部的前述氣體溶解液係循環於裝置內部再供給至前述第二液體產生部。
  6. 一種氣體溶解液的製造方法，係由氣體溶解液製造裝置所執行，前述氣體溶解液製造裝置係具備：氣體供給部，係供給作為氣體溶解液之原料的氣體；第一液體供給部，係供給作為前述氣體溶解液之原料的第一液體；氣體溶解液產生部，係使由前述氣體供給部所供給的氣體溶解於由前述液體供給部所供給的第一液體，以產生氣體溶解液； 第二液體產生部，係被供給經循環之由前述氣體溶解液產生部所產生的氣體溶解液，且由經循環之前述氣體溶解液產生作為前述氣體溶解液之原料的第二液體；第二液體供給部，係對前述氣體溶解液產生部供給前述第二液體產生部所產生的前述第二液體；流量量測部，係量測供給至前述第二液體產生部之前述經循環的氣體溶解液的流量；控制部，係控制前述第一液體供給部與前述第二液體供給部；氣體溶解液貯藏部，係貯藏經循環的前述氣體溶解液；以及液面量測部，係量測貯藏於前述氣體溶解液貯藏部之前述氣體溶解液的液面高度；前述製造方法係含有下列步驟：前述控制部因應前述流量量測部所量測之前述經循環的氣體溶解液的流量，來控制要供給至前述氣體溶解液產生部之前述第一液體的供給量的步驟；前述氣體溶解液產生部使由前述氣體供給部所供給的氣體溶解至由前述第一液體供給部所供給的前述第一液體、及由前述第二液體供給部所供給的前述第二液體，以產生前述氣體溶解液之步驟；以及前述控制部根據前述液面量測部所量測之前述氣體溶解液的液面高度，控制前述第二液體供給部動作與否的步驟。
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