TWI274126B - Reflector, light source device and projection display apparatus - Google Patents

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1274126 九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明關於-種將光源射出之光線向所需方向反射的反 射益、具有上述反射ϋ之光源褒置、及具有包含上述反射 器之光源裝置的投射型顯示褒置。 【先前技術】 以往的投射型顯示裝置中，作為亮度高的光源，使用的 為金屬鹵化燈、高壓水銀燈等，此外，使用有將光源射出 之光線向所需方向反射的反射器。此反射器主要由凹面鏡 所形成，具有將光源射出的光線向所需方向反射的作用。 上述金屬鹵化燈及高壓水銀燈，由於發熱量大，如果放 置不管的話，使用時燈本身會達到高溫，因此，必須加以 強制冷卻。亦即，使用時燈本身達到高溫時，燈本身、及 將由燈射出之光線向所需方向反射的上述凹面鏡的溫度會 過度升兩，導致燈本身的壽命減損、凹面鏡之反射層發生 劣化等各種問題。因此，上述的高亮度光源裝置乃在包含 上述光源及反射器的光源裝置之週邊配置冷卻風扇，可強 制冷卻光源裝置整體的冷卻機構之附加已經不可或缺。 以往，使用此種高亮度光源裝置的投射型顯示裝置以固 定型的比較大型者為主流，惟最近要求易於攜帶的小型輕 量者。為此，作為光源裝置，小型的投射型顯示裝置用= 小型高亮度光源裝置的要求愈來愈高。 為了此種光源裝置的小型化，不僅要求燈本身的小刑 化，也要求反射器之主要構成元件之凹面鏡縮小。然而， 96996-950216.doc I274126 縮小凹面鏡時，由於凹面鏡（反射器）也起作用為光源的散 熱器’因此’產生了光源本身的散熱能力下降的問題。 針對上述問題的對策上，已提案的有：設置為了由發光 管侧吹入冷卻風的吹氣用冷卻風扇的機構；使吹入的冷卻 風在冷卻發光管及封裝管部後，通過發光管插入筒部而冷 卻另一方之封裝管的機構；及使熱排氣至投射型顯示裝置 外部的機構（例如，參照專利文獻丨）。 圖6所示的為以往之反射器、光源裝置、及投射型顯示 裝置之整體構造之構造圖。 在該圖中，以往之投射型顯示裝置中，作為主要的構成 凡件包含：含有反射器之光源裝置1〇〇、會旋轉的色轉輪 1〇1、自焦透鏡（Rod lens)102、聚光鏡 103、TIR棱鏡 104、 反射鏡105、光調變部1〇6、投影透鏡1〇7(放大投影用光學 系統）、及強制冷卻機構110。 光源裝置100包含：凹面鏡基材lc、可見光反射層4、光 源10、固接構件11、及透明的防爆玻璃12。 以下，首先說明以往的光源裝置的構造及作用。 圖5中’以在的光源裝置1〇〇的凹面鏡基材ie由銘等之基 材來構成。此凹面鏡基材lc的内側（光源側之面）上，形成 有由冷鏡層形成的可見光反射層4。此可見光反射層4具有 使光源10射出的紅外線通過且選擇性地反射可見光的作 用。此外’光源1 0由一氧化鈦及二氧化石夕交互蒸鍍之多重 干涉膜所構成，以固接構件11固接於凹面鏡基材1上。 接著，說明圖6所示之以往的投射型顯示裝置的作用。 96996-950216.doc 1274126 由光源ίο輸出之光線，以起作用為凹面反射鏡的可見光 反射層4反射’再藉由會旋轉的色轉輪1〇ι，時序性地依序 使R、G、B的光線通過。通過色轉輪1〇1的光線將以自焦 透鏡102擴散整形，經由聚光鏡1〇3、TIR棱鏡1〇4、及反射 鏡105，被投射至冷光調變部106。光調變部ι〇6將依被投 射的光線的顏色及圖像資訊進行光調變。然後，藉由將被 光調變的光線經由放大投影用光學系統1 〇7投射於銀幕（未 圖示）上，便可進行全彩圖像的顯示。 作為強化此強制冷卻機構11 〇的機構，乃加大強制冷卻 機構本身，因此’會與原本為了系統小型化之目的發生矛 盾。此外，也會發生冷卻風扇所致的噪音問題。 為此，被揭示有藉由提升反射器本身之散熱功能來提升 冷卻功能的機構。亦即，作為由可見光反射機構（可見光 反射層4)吸收由燈射出之紅外線後，將此轉為熱而有效率 地傳導至上述凹面鏡基材丨（金屬或陶瓷構成的基材）的機 構，被提案的有在該可見光反射層4與該凹面鏡基材丨間， 以蒸鍵方式成膜出由包含石夕、鈦及鉻之族群中選出之元素 的黑色氧化物的薄μ，提升反射器本身的散熱功能的機構 (例如，參照專利文獻2)。 散熱功能強化型的反射器，一般而言，其包含：特定波 長區域反射機構（可見光反射層），其係反射特定波長區域 之光線；光熱轉換機構（含黑色氧化物等之光熱轉換層）， 其係吸收可通過上述反射機構之波長區域的光線而此s光線 轉換成熱；及散熱機構（含有鋁、銅、鐵等之金屬、矽碳 96996-950216.doc 1274126 化物等之陶瓷的散熱層），其係對以上述光熱轉換機構由 光線轉換成之熱進行散熱；將上述光熱轉換機構配置於散 熱機構與特疋波長區域反射機構之間，並且，使上述光熱 轉換機構及特定波長區域反射機構以直接相接的方式疊 層0 專利文獻1 ··特開平U — 39934號公報 專利文獻2 :特開昭64-90401號公報 【發明内容】 【發明所欲解決之課題】 然而’在上述先前技術中所述之以往的反射器、光源裝 置、及投射型顯示裝置中，例如在上述的散熱功能強化型 之反射器的情況中，光熱轉換機構產生的熱不僅會傳導至 散熱機構’也會傳導至特定波長區域反射機構，因此，存 在熱應力導致特定波長區域反射機構之特性劣化的問題。 此外，當光熱轉換機構及特定波長區域反射機構直接接 :時此接合邊界面上會發生膨脹係數差異導致的應力歪 斜V致特疋波長區域反射機構發生剝離及破損的問題。 此外，為了提升光熱轉換機構的光吸收效率，偏好以使 上述光熱轉換機構側表面上呈凹凸等<方法來使上述表面 ::、、’月面惟在此情況中，在上述光熱轉換機構上疊 2而形成之特定波長區域反射機構的表面也會變成不平 存在特疋波長區域反射機構的性能下降的問 題0 本I明為有鏗於上述以往之問題點所完成者，其目的在 96996-950216.doc 1274126 於提供一種反射器、光源裝置及投射型顯示裝置，其可將 光轉換成熱而有效率地排放的同時，能緩和起因於各部之 細脹係數之差之熱應力應變而抑制性能戈 1犯另化，並降低成 本，可小型、輕量化。 【用以解決課題之手段】 為了解決上述課題’本發明之反射器的特徵為包含：散 熱機構，其係㈣面鏡形狀的基材所構成；光 件，其係配置於上述散熱機構之光反射面側，吸收指定波 長區域之光而轉換成熱；特定波長區域反射構件，其係將 特定的波長區域的光反射至上述光熱轉換構件上，使上述 指定波長區域的光穿透；及緩衝構件，其係配置於上述光 熱轉換構件與上述特定波長區域反射構件之間，以上述光 熱轉換構件與特定波長區域反射構件不直接接觸之方式緩 衝，亚且使穿透上述特定波長區域反射構件之指定波長區 域的光穿透。 上述反射器的特徵係上述光熱轉換構件、上述緩衝構件 及特定波長區域反射構件’依此順序層疊在上述散熱機構 的反射面上，且各層以面做接合。 上述反射☆的特徵係在上述光熱轉換構件與上述散熱機 構的接合部之接合邊界面上設置凹凸。 上述反射H之特徵係在上述光熱轉換構件之上述緩衝構 件側的表面上設置凹凸。 上述反射器之特彳政係上述散熱機構以具有·〖以 上之熱傳導率之基材構成，兼具作為上述紅外線熱轉換構 96996-950216.doc 1274126 件之功能。 上述反射器之特徵係上述光熱轉換構件為將鋁在鉻酸酐 水溶液中陽極氧化而形成者。 上述反射器之特徵係上述緩衝構件係在上述光熱轉換構 件的光吸收面側上，以高溫焙燒Si系樹脂或聚醯亞胺系樹 脂而成膜形成者。 此外’上述反射器的特徵係在上述凹面鏡形狀的基材的 外面，具有與該基材一體的散熱鰭形狀。 本發明之光源裝置的特徵係除了光源之外，尚包含上述 反射器。 本發明之投射型顯示裝置的特徵係包含上述光源裝置。 【發明效果】 依本發明，藉由上述光熱轉換機構，可吸收穿透上述特 定波長區域反射構件之波長區域的光而有效率地將其轉換 成熱，此外，藉由配置上述緩衝構件，可得到如下的效 果： (1) 阻止上述光熱轉換構件與上述特定波長區域反射構 件之接合邊界面上因為熱膨脹率差異產生的熱導致應力發 生進而造成上述散熱機構發生變形，藉此，防止源自光源 的投影光無法直線行進的現象； (2) 減輕上述光熱轉換構件上產生之凹凸的影響，使上 述特定波長區域反射構件之光源側之表面為平滑面，藉 此，防止源自光源的投影光無法直線行進的現象。 藉由在光熱轉換構件與散熱機構之接合部上之接合邊界 96996-950216.doc -11 - 1274126 面上設置凹凸，將可： (1) 提升上述光熱轉換構件表面上之紅外線吸收效率； (2) 使紅外線散射，防止反射之紅外線集中於特定的部 位。 此外，藉由在光熱轉換構件的緩衝構件側的表面上設置 凹凸’可實現能有如下效果的反射器： (1) 使未被吸收而反射的光再度射入光熱轉換構件； (2) 防止未被吸收而反射之光集中於特定的部分。 此外，由於使散熱機構以具有10 w/m· κ以上之熱傳 導率的基材所構成，使其兼具有作為紅外線熱轉換構件之 作用□ it匕作為政熱機構之基材，例如使用銘的情況 中’具有此反射器的光源裝置整體的散熱能力會提升，藉 此可實現光源之強制冷卻系統之簡化及小型化，進一步地 實現光源裝置之長壽命化。 此外，藉由在凹面鏡狀之基材 囬一體形成散熱葉 狀，可進一步提升對光源裝置周圍空氣中的散熱效率 此外’由於可省略為了強制冷卻反射器之散熱機構的発 制冷卻機構，因此，不僅可減少製造成本，並且，可提令 可達成小型、輕量化的投射型顯示裝置。 【實施方式】 、光源裝置、及投射 實施方式至第五實施 以下内容中’對於本發明之反射器 型顯示裝置之最佳實施方式，以第一 方式之順序’參照圖式加以詳細說明 [第一實施方式] 96996-950216.doc 1274126 圖1為顯不含有本發明之第一實施方式之反射器的光源 裝置之整體構造之構造圖。此外，與圖6所示之以往的反 射态相同的構造元件乃以相同的符號來表示。 同圖中’本發明之第一實施方式之光源裝置3〇a除了反 射器20a外’尚包含光源1〇、及透明的防爆玻璃12。反射 器2〇a包含·凹面鏡基材（散熱機構）1、疊層於凹面鏡基材1 之鏡面側（光源側之面）上而成的紅外線熱轉換層（光熱轉換 機構）2、光澤緩衝層（緩衝構件、及可見光反射層（特定 波長區域反射構件）4。 以下說明本實施方式之反射器及光源裝置的詳細構造及 作用。 圖1中，本實施方式之反射器20a係依序疊層凹面鏡基材 1、紅外線熱轉換層2、光澤緩衝層3、及可見光反射層4而 成。此外，各層相互以面來接合。 凹面鏡基材1由熱傳導率大的鋁等之基板所構成。紅外 線熱轉換層2乃藉由將上述鋁等之基材施以陽極氧化而在 凹面的鏡面側上成膜形成。光澤缓衝層3乃在紅外線熱轉 換層2之（光線的吸收面侧）上，以Si系樹脂或聚醯亞胺系樹 脂進行咼溫燒成而成膜形成。紅外線熱轉換層2會吸收通 過可見光反射層4之波長區域的光線而將吸收的光線有效 率地轉換成熱。 可見光反射層4由在光澤緩衝層3上形成之可使紅外線穿 透而選擇性地反射可見光的冷鏡層所形成。 光源1 0由二氧化鈦及二氧化矽交互蒸鍍之多重干涉膜所 96996-950216.doc -13- 1274126 構成，以固接構件11固接於凹面基材1上。光源10舉以一 實施例來說，能以相當於200 W的高壓水銀燈來構成。 此外’光澤緩衝層3不僅用以防止紅外線熱轉換層2與可 見光反射層4直接接觸而在兩者間做緩衝，並且，具有使 穿透可見光反射層4之波長區域的光線（紅外線）穿透的作 用。此外，其具有可減緩紅外線熱轉換層2上發生之凹凸 的影響，使可見光反射層4的光源側的表面成為平滑面的 作用。 亦即’如果沒有此光澤緩衝層3，將會導致紅外線熱轉 換層2與可見光反射層4之接合邊界面上因為熱膨脹率差異 產生的熱造成應力發生，進而造成凹面鏡基材1發生變 形’使得源自光源10的投影光線無法直線行進。 以下詳細說明本實施方式之反射器2〇a的實施例。 凹面鏡基材1可使用具有1〇 W/m · K以上之大的熱傳導 率的基材（以下稱為「高熱傳導率反射器基材」）來構成。 藉此，其可兼具作為紅外線熱轉換機構的作用。一般，鋁 的熱傳導率約為200 W/m · K，相較於用於以往之光源的 硼矽酸玻璃及多晶化玻璃的約i w/m · κ會約為2〇〇倍。 再者，形成為了有效率地將紅外線轉換成熱之成膜（紅 外線熱轉換層2)的手法上，已知有產生耐酸鋁的手法，惟 本發明中，乃以藉由將鋁在鉻酸酐水溶液中加以陽極氧化 而得到的鉻酸耐酸鋁進行成膜。依此結果，得到了能承受 咼t Jc銀燈儿起時之3◦以上的高耐熱性、急劇的溫度 變化及反覆疲勞的防龜裂皮膜。 96996-950216.doc -14· 1274126 此外’在上述鉻酸耐酸鋁的情況中，如基材為純鋁時， 通常會呈不透明的灰白色至灰色，惟本次的發明中，乃將 基材與適於鑄模之材料（ADC12等）所含之Ni、Mg等的合金 進行反應，使其發色成黑色系。依此結果，得以將用來表 示將紅外線轉換成熱之程度的放射率確保在極近似於雾體 (放射率為1.0)的0.9以上（300°c時）。 再者，當由能使光源1 0射出之紅外線通過且選擇性地反 射可見光之冷鏡層形成的可見光反射層4以蒸鍍等來成膜 出時，如何有效地反射源自上述光源之可見光（即，減低 散射光）而使其聚光於指定的位置上會為重要的課題。因 此，凹面鏡基材1之凹面鏡表面會被要求為波長等級的光 澤面。 然而’如本發明般地作為紅外線熱轉換層2而選擇的為 鉻酸耐酸铭般的氧化皮膜時，有必要在與可見光反射層4 之間實施使光澤度提升至鏡面等級的成膜。在往例中，以 凹面鏡反射源自光源的光線時，散射光多而難以反射至指 定的位置上。 此外’依據以往被提案之光源，雖然在紅外線熱轉換層 2上直接將可見光反射層4以蒸鍍等方式加以成膜，惟在以 一氧化鈦及二氧化石夕交互蒸鍵的多重干涉膜的情況中，線 膨脹率為3至5\10'°(：，相對於鋁的25\1〇力。(3，會發生約 1個位數的差別。如果沒有此光澤緩衝層3，兩層直接接合 時，會因為接合邊界面之膨脹係數的差異所致的應力歪 斜，造成可見光反射層4發生龜裂、剝離、及破損。 96996-950216.doc 15- 1274126 本發明之反射器中，乃使用將Si系樹脂或聚醯亞胺系樹 月曰以南溫燒成而成膜的光澤緩衝層3作為紅外線熱轉換層2 /、可見光反射層4的緩衝材，抑制應力歪斜所致之性能下 降。 此外，藉由將光澤緩衝層3作為本發明之反射器之構造 元件，作為成膜可見光反射層4之底部處理的將光澤度提 升至鏡面等級的機構，能夠同時得到往例無法達成的〇·9 以上之超高放射率、及相對於先前方式高出約3〇%以上的 超回反射率。亦即，本次開發的Si系樹脂之線膨脹係數為 12x10 /c，成為介於鋁與可見光反射層之線膨脹率的中 間的數字。同樣地，以聚醯亞胺系樹脂也得到了相同的效 果，惟依光澤緩衝層3的機械性的伸縮度，線膨脹率並沒 有必要一定要在中間。在本次的其他的實驗結果中，即使 為具有40χ1〇 V c的線膨脹率的聚醯亞胺樹脂，如為拉伸 度80%之延伸性優良者的話，也得到同樣具有作為緩衝層 之作用的結果。此外，圖2為顯示含有本實施方式之反射 裔的光源裝置、及含有以往之反射器之光源裝置的投入電 力反射器内面溫度之關係的圖表。 [弟一實施方式] 圖3為顯示本發明之第二實施方式之反射器之構造的構 造圖。 第一實施方式之反射器20a中，凹面鏡基材i、紅外線熱 轉換層2、光澤緩衝層3、及可見光反射層4的各層互以面 來接合，惟如圖3所示，本實施方式之反射器2〇b中，上述 96996-950216.doc -16- 1274126 各層的接合面設有凹凸。 更具體而言，首先，在凹面鏡基材lb與紅外線熱轉換層 2b之間的凹面鏡基材lb的表面上設置凹凸。 此外’在上述紅外線熱轉換層2b與光澤緩衝層3b之間的 上述紅外線熱轉換層2b的表面上設置凹凸。 藉由如上述般地在凹面鏡lb的光源侧之表面、及紅外線 熱轉換層2b的光源側上設置凹凸，可得到如下的效果： (1) 提升紅外線熱轉換層2表面上之紅外線吸收效率； (2) 藉由此凹凸，紅外線會散射，防止反射之紅外線集 中於特定的部位。 此外，在此情況中，同樣地，光澤緩衝層3b不僅可防止 紅外線熱轉換層2b與可見光反射層4直接接觸而在兩者間 做緩衝，並且，可減緩紅外線熱轉換層21)上設置之凹凸的 影響，使可見光反射層4的光源側的表面成為平滑面。 [第三實施方式] 本發明之第三實施方式之反射器的構造同於本發明之第 ' 或弟一實施方式之反射為的構造，僅在紅外線熱轉換層 2及光澤缓衝層3之構造元件的形成方法、及一部分的構造 上有差異，以下就該相異點進行說明。 紅外線熱轉換層2係藉由對由鋁形成之凹面鏡基材1施以 陶瓷塗佈後，將此等加以燒成所形成。亦即，藉由此燒 成，藉由凹面鏡基材1與陶瓷塗佈層的邊界面的變質會產 生金屬氧化層。此金屬氧化層具有將紅外線轉換成熱的作 用0 96996-950216.doc 17 1274126 光澤緩衝層3由陶瓷塗佈層形成。 以下，說明紅外線熱轉換層2以上述方法形成的根據。 一般，鋁基材上塗佈有陶瓷塗佈層者進行燒成時，會有 如下所示之反應： (1) 通過玻璃料（陶瓷塗佈用晶粒）晶界，環境中之氧會到 達界面而使銘基材面氧化； (2) 雖然，玻璃料會熔解而浸濡鋁的氧化層而加以密 封，防止進一步的氧化，然而，另一方面，鋁基材吸收的 氫會擴散至界面而在氧化銘層内發生氫還原，產生當政的 銘晶粒， (3) 熔融塗佈層熔解氧化鋁層，另一方存在於塗佈層中 之氧化鈷及氧化鎳被細微的鋁所還原，使得界面上析出 Al-Co及Al-Ni的樹枝狀結晶（Dendrite)。藉此，界面上析出 之Co及Νι、與基材的鋁形成局部電池，鋁面被腐蝕而界面 粗糙的情況會擴大，鋁與玻璃層會充分地附著； (4) 基材界面上塗佈層與基材進行反應的同時，表面會 藉由燒成而進行平滑化。 藉由以上的反應而成膜的紅外線熱轉換層2與光澤緩衝 層3之效果與第一實施方式相同，放射率及反射率的具體 數值也得到同樣的結果。 [第四實施方式] 圖4為顯不包含本發明之第四實施方式之反射器的光源 裝置之整體構造之構造圖。此光源裝置3〇c之反射器2〇c在 結構上幾乎同於第一實施方式所示之反射器2〇&，惟在凹 96996-950216.doc -18- 1274126 面鏡基材lc之外面一體設有散熱葉5〇上有異。依此構造， 由熱轉換層2傳導至凹面鏡基材1(；之内面的熱會依凹面鏡 基材lc之熱傳導率而傳導至散熱葉5〇的前端。由凹面鏡外 面的散熱量在例如以自然對流散熱的情況中，能以下式算 出： t 散熱量Q =熱傳達率h[w/m2K]x凹面鏡外表面積s^2]x溫 度差ΔΤ[Κ] Λ h= 2.51xCx(AT/L)0.25 在此’ Q為散熱量[w]，c為取決於凹面鏡之形狀的係 數’ ΔΤ為凹面鏡外面與周心氣的溫度差[κ]，[為取決於 凹面鏡之形狀的係數。 以實施方式計算散熱量時： * : 2.51χ〇.52χ((250- 25)/〇.〇5)〇.25χ〇.〇〇9χ (250-25)= 21.6[W] •有散熱葉：2.51XG.45X((23G-25)/G.G5)G.25X〇.〇27x (230-25)= 50.〇[w] 藉此T知藉由設置散熱葉5〇可使散熱效率成為2倍以 上。 ，外’本實施方式之反射器之構造除凹面鏡基材以外同 於第’施方式，惟也可為第二' 三實施方式的構造。 [第五實施方式] 圖5為顯示本發明之第五實施方式之投射型顯示裝置之 ι體構造之構造圖。此外，對於與以往之光源裝置相同的 構造7G件以相同的符號表示。 96996-950216.doc -19- 1274126 同圖中’本發明之第五實施方式之投射型顯示裝置包含 作為主要構造元件的有：包含反射器20之光源裝置3〇、可 旋轉之色轉輪1(Π、自焦透鏡1〇2、聚光鏡1〇3、TIR棱鏡 1〇4、反射鏡105、光調變部1〇6、及擴大投影用光學系統 107。 在此’光源裝置30為具有上述本發明之第一至第四中任 一實施方式之反射器20者。 接著’說明圖5所示之本實施方式之投射型顯示裝置的 作用。 由光源裝置10輸出的光線以凹面反射鏡反射，再藉由色 轉輪101，時序性地使r、G、B之光線依序通過。通過色 轉輪101的光線藉由自焦透鏡102擴散整形，經由聚光鏡 103、TIR棱鏡1〇4、及反射鏡1〇5，投射於光調變部1〇6。 光調變部106會依投射之光線的顏色及圖像資訊進行光調 變。並且，使被光調變的光線經由投影透鏡1〇7(放大投影 用光學系統）而投射於銀幕（未圖示），可進行全彩圖像之顯 示0 此外，圖5所示之本實施方式之投射型顯示裝置為色時 序變換方式之投射型顯示裝置，光源裝置30之散熱能力 大，凹面反射鏡之光線的反射效率南’因此，相較使用圖 6所示之以往之光源裝置1〇〇的投射型顯示裝置，具有如丁 新的效果： (1) 可簡化甚至省略圖5所示之強制冷卻機構110 ; (2) 由於由光源裝置與可見光一起輸出之紅外線少，因 96996-950216.doc -20- 1274126 此，可縮小光源裝置與其他構造元件的間隔； (3)以相同的投入電力也可提升亮度約3成。 此外，上述第一至第四實施方式中，乃以反射器基材 (凹面鏡基材1)使用銘，光源職用高麼水銀燈，紅外線熱 轉換層2使用鉻酸耐酸鋁及陶瓷塗佈層形成之金屬氧化 物光澤緩衝層3使用Sl系樹脂或聚醯亞胺系樹脂、及陶 瓷的情況來說明。 。而，本發明之反射器一般也能使用如下材料來構成·· (1) 對於凹面鏡基材1，只要傳導率為1〇 w/m· K以上， 可使用銅、鐵等之金屬、石墨系 '矽系之陶瓷等； (2) 對於光源10,可使用金屬鹵化燈、齒燈、水銀燈、 氙燈等； (3)對於紅外線熱轉換層2，可使用其他耐酸銘及金屬氧 化層等之紅外線區域之放射率高的材料； ⑷對於光澤緩衝層3,可使用能使紅外線通過且使红外 線熱變換層之凹凸平滑化的Ni蝴，尖晶石系顏料、 氣素類塗佈層、鐵氣龍（登錄商標）塗佈層、PFA(聚四敦乙 烯）系塗佈層、及石英塗佈層等。 澤

其他’凹面鏡基材1、光源i 〇 緩衝層3則採用符合各自之目 述各實施方式所列舉的材料。 、紅外線熱轉換層2、及光 的作用者即可，並不限於 ㈣及:二 方式中，雖將反射器基材(凹面鏡 ΠΓ 轉換層2分別作為個別的構造元件來 惟本發明中，-般也可將反射器基材（凹面鏡基材1: 96996-950216.doc -21 - 1274126 及紅外線熱轉換層2以相同材質之材料來一體形成。 【圖式簡單說明】 圖1為顯示含有本發明之第一實施方式之反射器的光源 裝置之整體構造之構造圖。 圖2為顯示含有本發明之反射器的光源裝置、及含有以 往之反射器的光源裝置的投入電力反射器内溫度的關係之 圖表。 圖3為顯示本發明之第二實施方式之反射器的構造之構 造圖。 圖4為顯示含有本發明之第四實施方式之反射器的光源 裝置之整體構造之構造圖。 圖5為顯示本發明之第五實施方式的投射型顯示裝置之 整體構造之構造圖。 圖6為顯示以往之反射器、光源裝置、及投射型顯示裝 置之整體構造之構造圖。 【主要元件符號說明】 1 凹面鏡基材（散熱機構） 2 紅外線熱轉換層（光熱轉換機構） 3 光澤緩衝層（緩衝構件） 4 可見光反射層（特定波長區域反射構件） 10 光源 20 反射器 30 光源裝置 11 固接構件 96996-950216.doc -22- 1274126 12 防爆玻璃 101 色轉輪 102 自焦透鏡 103 聚光鏡 104 TIR棱鏡 105 反射鏡 106 光調變部 107 投影透鏡

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Claims (1)

1274126 十、申請專利範圍： 1 · 一種反射器，其特徵為包含： 散熱機構，其係以凹面鏡形狀的基材所構成； 光熱轉換構件，其係配置於上述散熱機構之光反射面 側’吸收指定波長區域之光而轉換成熱； 特定波長區域反射構件，其係將特定波長區域的光反 射至上述光熱轉換構件上，使上述指定波長區域的光穿 透；及 緩衝構件，其係配置於上述光熱轉換構件與上述特定 波長區域反射構件之間，以上述光熱轉換構件與特定波 長區域反射構件不直接接觸之方式緩衝，並且使穿透上 述特定波長區域反射構件之指定波長區域的光穿透。 2·如請求項1之反射器，其中上述光熱轉換構件、上述緩 衝構件及特定波長區域反射構件，依此順序層疊在上述 散熱機構的反射面上，且各層以面接合。 3·如請求項2之反射器，其中在上述光熱轉換構件與上述 散熱機構的接合部之接合邊界面上設置凹凸。 4·如請求項2之反射器，其中在上述光熱轉換構件之上述 緩衝構件側的表面上設置凹凸。 5. 如請求項1至4中任一項之反射器，其中上述散熱機構以 具有10 W/m· K以上之熱傳導率之基材構成，並兼具作 為上述紅外線熱轉換構件之功能。 6. 如請求項2至4中任一項之反射器’其中上述光熱轉換構 件為將铭在鉻酸酐水溶液中陽極氧化而形成者。 96996-950216.doc 1274126 7. 8. 9. 10. 如請求項2至4中任一項之反射器，其中上述緩衝構件係 在上述光熱轉換構件的光吸收面側上，將Si系樹脂或聚 酷亞胺系樹脂以高溫焙燒而成膜形成者。 如請求項1至4中任一項之反射器，其中在上述凹面鏡形 狀的基材的外面’具有與該基材一體的散熱鰭形狀。 一種光源裝置’其特徵為除 至8中任-項之反射器。了先源外+包含請求们 一種投射型顯示裝置 置。 其特徵為包含請求項9之光溽裝 96996-950216.doc • 2 - 1274126 七、指定代表圖·· (一) 本案指定代表圖為：第（1 )圖。 (二) 本代表圖之元件符號簡單說明： 1 凹面鏡基材（散熱機構） 2 紅外線熱轉換層（光熱轉換機構） 3 光澤緩衝層（緩衝構件） 4 可見光反射層（特定波長區域反射構件） 10 光源 11 固接構件 12 防爆玻璃 20a 反射器 30a 光源裝置 八、本案若有化學式時，請揭示最能顯示發明特徵的化學式： (無） 96996-950216.doc