JP6821063B2 - 放射冷却装置 - Google Patents
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Description
尚、光反射層は、赤外放射層を透過した光に加えて、赤外放射層から光反射層の存在側に放射される赤外光を赤外放射層に向けて反射する作用も有することになるが、以下の説明においては、光反射層が、赤外放射層を透過した光(可視光、紫外光、赤外光)を反射するために設けられるものであるとして説明する。
ちなみに、特許文献2には、アルミニウムからなる金属層を基板として、赤外放射層を構成するSiO層とMgO層とを積層するように構成されている。
しかしながら、アルミニウムからなる金属層は、銀よりも光を吸収し易いものであるから、赤外放射層を透過した光が、アルミニウムからなる金属層に吸収されて、当該光の吸収により昇温する金属層が、冷却対象を加温すること等に起因して、冷却対象を適切に冷却できない虞があった。
前記光反射層が、銀あるいは銀合金からなる第1層とアルミニウムあるいはアルミニウム合金からなる第2層とを、前記第1層を前記赤外放射層に近い側に位置させる形態で積層した状態に構成され、
前記第1層の厚さが、3.3nmよりも大きく、かつ、100nm以下であり、
前記第2層の厚さが、25nm以上50nm以下である点にある。
これに対して、アルミニウムあるいはアルミニウム合金は、銀あるいは銀合金に較べて、可視光や赤外光を効率良く反射することができないものの、紫外光を効率良く反射することができる傾向となる。
しかも、アルミニウムあるいはアルミニウム合金は、銀あるいは銀合金に較べて、可視光や赤外光を吸収し易い傾向となる。
ちなみに、赤外放射層を基板として、第1層及び第2層を積層する際に、第1層及び第2層が薄い場合には、例えば、スパッタリング等により、第1層及び第2層を順次積層することになる。
〔放射冷却装置の構成〕
図1に示すように、放射冷却装置CPには、放射面Hから赤外光IRを放射する赤外放射層Aと、当該赤外放射層Aにおける放射面Hの存在側とは反対側に位置させる光反射層Bとが積層状態に設けられている。
第2層B2の厚さ(膜厚)が、10nm以上に構成されている。
尚、以下の記載においては、第1層B1を、銀を用いて構成するものとして説明する。
尚、以下の記載においては、第2層B2を、アルミを用いて構成するものとして説明する。
具体的には、基板としての赤外放射層Aと第1層B1との間に、密着層3が積層され、かつ、第2層B2における第1層B1の存在側とは反対側に、酸化防止層4が積層されている。
酸化防止層4が、二酸化ケイ素(SiO2)又は酸化アルミニウム(Al2O3)を、10〜数100nmに製膜する形態に構成されている。尚、以下の記載においては、二酸化ケイ素(SiO2)が製膜されているとして説明する。
ちなみに、無アルカリガラスとしては、例えば、OA10G(日本電気硝子製)を用いることができ、クラウンガラスとしては、例えば、B270(登録商標、以下同じ)を用いることができ、ホウケイ酸ガラスとしては、例えば、テンパックス(登録商標、以下同じ)用いることができる。
ちなみに、図5は「テンパックス」を代表として例示するが、白板ガラスの「OA10G」、「B270」なども同様である。
尚、以下の記載においては、赤外放射層Aが「テンパックス」にて形成されているとして説明する。
尚、本実施形態において光とは、その波長が10nmから20000nmの電磁波のことを言う。つまり、光Lには、紫外光、赤外光IRおよび可視光が含まれる。
図20に示すように、厚さ1mmのテンパックスにて赤外放射層Aを形成し、膜厚が50nmの銀の第1層B1と膜厚が50nmのアルミとによって光反射層Bを形成し、膜厚が5nmの酸化アルミニウム(Al2O3)にて密着層3を形成し、膜厚が30nmの二酸化ケイ素(SiO2)にて酸化防止層4を形成する形態で放射冷却装置CPを構成し、このように構成した放射冷却装置CPを実際に使用した使用結果を図21に示す。
2017年9月1日〜3日までの天候は晴れであり、太陽光エネルギーの強度が、各日の日中には大きくなり、夜間には小さくなる。
光反射層Bを第1層B1のみにて構成する場合(図2参照)と、光反射層Bを第1層B1及び第2層B2にて構成する場合(図3参照)とにおいて、第1層B1の銀の厚みを変化させながら、放射冷却装置CPの冷却能力を計算したところ、図4の表に示す結果となった。
すなわち、太陽光エネルギーを1000W/m2とし、外気温を30℃、大気の輻射エネルギーが387W/m2の8月下旬をモデルとして計算したものであって、放射冷却装置CPの温度(酸化防止層4における光反射層Bの存在側とは反対側の面の温度:以下、冷却面温度と記載する場合がある)が30℃であるとして計算したものである。
つまり、赤外放射層Aを、波長8μm以上14μm以下の赤外域で大きな熱輻射を示し、当該熱輻射が、赤外放射層A及び光反射層Bの夫々にて吸収されるAM1.5Gの太陽光及び大気の熱輻射よりも大きくなるようにすることにより、昼夜を問わず周囲の大気よりも温度が低下する放射冷却作用を発揮する放射冷却装置CPを構成することができる。
そして、そのようにするにあたり、赤外放射層Aをテンパックスにて構成する場合には、厚さを10μm以上で10cm以下にする必要があり、好ましくは、20μm以上で10cm以下、より好ましくは、100μm以上で1cm以下が良い。
以下、放射冷却装置CPの光反射層Bを第1層B1及び第2層B2にて構成するに至った本発明についての補足説明を行う。
図7に示すように、放射冷却装置CPの光反射層Bを、厚さが50nmの銀からなる第1層B1のみにて構成した場合においては、図8に示すように、短波長側の光が、第1層B1を構成する50nmの銀を透過することになり、透過した光が冷却対象Dに照射されることになる。
つまり、冷却対象Dは、被冷却物の熱を効率的に逃がすために、光吸収層や熱交換器として構成されるが、第1層B1を構成する銀の膜厚(厚さ)を薄くすると透過した光が冷却対象Dを温めるので放射冷却能力(放射冷却性能)が弱まることになる。
第1層B1を構成する銀の膜厚(厚さ)を300nmの膜厚(厚さ)にする従来の放射冷却装置CPの放射冷却能力は、日本の夏、標高0m、外気温度が30℃の南中時、湿度や空気の澄み具合にもよるが、概ね70W/m2程度である。
さらに、第1層B1を構成する銀の膜厚(厚さ)が50nmになると、透過する太陽光のエネルギーが70W/m2程度となり、この透過光が冷却対象Dを加熱することにより、放射冷却装置CPの放射冷却能力が大きく低下する。
つまり、光反射層Bを第1層B1のみにて構成する場合においては、第1層B1を構成する銀の膜厚(厚さ)を十分に薄くすることができないものとなる。
しかしながら、図12に示すように、アルミは太陽光の吸収率が高い傾向にあり、しかも、図14に示すように、アルミ(膜厚50nm)は、銀(膜厚300nm)よりも太陽光を多く吸収するものである。
尚、図15に示すように、光反射層Bを第1層B1のみにて構成し、かつ、第1層B1を構成する銀の膜厚(厚さ)を300nmにする場合においては、外気温が30℃の南中時における放射冷却能力は、70W/m2程度となる。
つまり、光反射層Bを第2層B2のみにて構成する場合には、放射冷却装置CPの放射冷却能力を十分な能力にすることができないことが分かる。
また、図18に示すように、第1層B1を構成する銀の反射率は、長波長側では大きく、短波長側ほど小さくなり、かつ、膜厚(厚さ)を薄くなるほど小さくなる。
さらに、第2層B2のアルミは、上述の如く、25nm以上の膜厚(厚さ)があれば、太陽光の透過を的確に遮蔽できる程度の大きな反射率を備えるものであり、しかも、銀の反射率が小さくなる短波長側においても大きな反射率を備えるが、銀の反射率が高い長波長側では、銀の反射率よりも小さくなる傾向となる。
ちなみに、図9に示すように、交差波長である450nm以下の波長の光は、銀を透過し易くなるので、当該透過した光は、第2層B2のアルミに照射されることになる。
また、450nmよりも長波長側の光Lbは、主として第1層B1にて反射されることになる。
ちなみに、耐腐食性を向上させることを考えると、第2層B2を構成するアルミの膜厚(厚さ)は、50nm以上に厚くするのが望ましい。つまり、アルミは酸化して不働態を形成するが、不働態を形成できる層が分厚いほど耐久性が向上するからである。
その結果、光反射層Bを第1層B1と第2層B2にて構成する放射冷却装置CPにおいては、第1層B1の膜厚(厚さ)を100nm以下でかつ50nm以上にすれば、太陽光の反射率を十分に向上させることができる。
このため、光反射層Bを第1層B1のみにて構成する場合には、銀の膜厚(厚さ)を300nmにして太陽光の透過を完全に遮断する場合と比較して、銀の膜厚(厚さ)を80nmにすると、放射冷却能力(放射冷却性能)が約一割程度下がる。
そして、銀の膜厚(厚さ)を40nm未満にすると、冷却能力(放射冷却能力)が大きく低下し、30nm以下では、冷却対象Dが加熱されることになる。
しかも、第1層B1を形成する銀の厚みが50nm〜100nmのときには、放射冷却装置CPの放射冷却能力(放射冷却性能)が、光反射層Bを第1層B1のみにて構成する場合(図2参照)において銀の厚みを300nmとするときと、同等の能力となる。
以下、別実施形態を列記する。
(1)上記実施形態では、赤外放射層Aを基板として、第1層B1と第2層とを積層する場合を例示したが、赤外放射層Aとは異なる他の基板に対して、第2層B2及び第1層B1を積層する形態で光反射層Bを形成して、赤外放射層Aと光反射層Bとを重ね合わせる形態で積層してもよい。この場合、赤外放射層Aと光反射層Bとの間に、伝熱可能であれば多少の隙間が存在してもよい。
4 酸化防止層
A 赤外放射層
B 光反射層
B1 第1層
B2 第2層
Claims (6)
- 放射面から赤外光を放射する赤外放射層と、当該赤外放射層における前記放射面の存在側とは反対側に位置させる光反射層とが積層状態で設けられた放射冷却装置であって、
前記光反射層が、銀あるいは銀合金からなる第1層とアルミニウムあるいはアルミニウム合金からなる第2層とを、前記第1層を前記赤外放射層に近い側に位置させる形態で積層した状態に構成され、
前記第1層の厚さが、3.3nmよりも大きく、かつ、100nm以下であり、
前記第2層の厚さが、25nm以上50nm以下である放射冷却装置。 - 前記第1層の厚さが、50nm以上100nm以下である請求項1に記載の放射冷却装置。
- 前記赤外放射層が、無アルカリガラス、クラウンガラス、ホウケイ酸ガラスのうちのいずれかのガラスにて構成されている請求項1又は2に記載の放射冷却装置。
- 前記赤外放射層を基板として、前記第1層及び前記第2層が積層されている請求項1〜3のいずれか1項に記載の放射冷却装置。
- 前記赤外放射層と前記第1層との間に、密着層が積層されている請求項4に記載の放射冷却装置。
- 前記第2層における前記第1層の存在側とは反対側に、酸化防止層が積層されている請求項4又は5に記載の放射冷却装置。
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